JP4584773B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Description
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に、複数の通常メモリブロックと通常メモリブロックの不良を救済するための冗長メモリブロックとを有する半導体記憶装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a plurality of normal memory blocks and a redundant memory block for relieving defects in the normal memory blocks.
一般に、SRAM(Static Random Access Memory)等の半導体記憶装置は、歩留りを向上させてチップコストを低減するために、製造工程で発生した通常メモリブロックの不良を救済するための冗長メモリブロックを有している。このような半導体記憶装置では、不良の通常メモリブロックを記憶させるための記憶回路(ヒューズ回路等)が設けられており、その記憶回路により記憶されている通常メモリブロックが無効になるとともに、冗長メモリブロックが有効になる。従って、製造工程でのテストにおいて、通常メモリブロックのいずれかで不良が検出されたときに記憶回路に不良の通常メモリブロックを記憶させることで、製造工程で発生した通常メモリブロックの不良が救済される。 In general, a semiconductor memory device such as an SRAM (Static Random Access Memory) has a redundant memory block for relieving a defect of a normal memory block generated in a manufacturing process in order to improve a yield and reduce a chip cost. ing. In such a semiconductor memory device, a memory circuit (fuse circuit or the like) for storing a defective normal memory block is provided, and the normal memory block stored by the memory circuit becomes invalid, and a redundant memory The block becomes valid. Therefore, when a defect is detected in one of the normal memory blocks during a test in the manufacturing process, the defective normal memory block generated in the manufacturing process is relieved by storing the defective normal memory block in the memory circuit. The
また、近年の半導体分野の発展に伴い、システムLSI等に搭載されるメモリ回路(半導体記憶装置)の容量は著しく増加している。このため、メモリセルのトランジスタの相対的なばらつきが大きくなり、製造工程でのテストでは不良が検出されなくても、ユーザシステム上でメモリセルの特性が徐々に低下して不良が発生する確率が増している。この問題を解決するための技術としては、外部信号により指定された通常メモリブロックを無効にするとともに冗長メモリブロックを有効にする機能をメモリ回路に設けておき、ユーザシステムに組み込まれた状態でのBIST(Built-In Self Test)回路等によるセルフテストで不良が検出されたときに不良の通常メモリブロックを示す外部信号をメモリ回路に入力することで、ユーザシステム上で発生した通常メモリブロックの不良を救済する技術が知られている。 With the recent development of the semiconductor field, the capacity of memory circuits (semiconductor memory devices) mounted on system LSIs and the like has increased remarkably. For this reason, the relative variation of the transistors of the memory cell becomes large, and even if a failure is not detected in the test in the manufacturing process, the probability of the failure occurring due to the gradual deterioration of the characteristics of the memory cell on the user system. It is increasing. As a technique for solving this problem, a function for disabling a normal memory block specified by an external signal and enabling a redundant memory block is provided in a memory circuit, and the state is incorporated in a user system. When a defect is detected by a self-test using a BIST (Built-In Self Test) circuit or the like, an external signal indicating a defective normal memory block is input to the memory circuit, thereby causing a defect in the normal memory block generated on the user system. Techniques for relieving are known.
一方、特許文献1には、複数のロウ領域の不良状態をそれぞれ示し、選択トランジスタを介して共通ノードに並列接続される複数のヒューズ素子を備えたラッチ回路を有する半導体記憶装置のコラム冗長制御回路が開示されている。このようなコラム冗長制御回路では、複数のロウ領域に対して1個のラッチ回路を設ければよいため、回路構成を簡素化できる。従って、半導体記憶装置における素子数の減少およびチップサイズの縮小を図ることができる。
半導体記憶装置には、前述のような記憶回路に基づく冗長機能と外部信号に基づく冗長機能との双方を有することが望まれるが、それぞれの機能を具現する専用回路を個別に設けると、チップサイズが増大してしまう。
本発明の目的は、半導体記憶装置のチップサイズを増大させることなく、記憶回路に基づく冗長機能および外部信号に基づく冗長機能の双方を実現することにある。
A semiconductor memory device is desired to have both a redundant function based on the memory circuit as described above and a redundant function based on an external signal. However, if a dedicated circuit that embodies each function is provided individually, the chip size can be reduced. Will increase.
An object of the present invention is to realize both a redundancy function based on a memory circuit and a redundancy function based on an external signal without increasing the chip size of the semiconductor memory device.
本発明の一態様では、半導体記憶装置は、冗長メモリブロックを含む複数のメモリブロックと、メモリブロックのうち2つのメモリブロックにそれぞれ接続され、接続される2つのメモリブロックのいずれか一方のデータ線を外部データ線に接続する複数のスイッチ回路と、予め不良のメモリブロックを不揮発的に記憶する第1機能および外部信号に基づいて不良のメモリブロックを記憶する第2機能を備えた複数のラッチ回路を有し、ラッチ回路の出力信号に基づいてスイッチ回路への切換信号を生成する冗長制御回路とを備える。冗長制御回路は、ラッチ回路において第1機能が使用されているときに第2機能の外部信号の入力を禁止する禁止回路を備える。
本発明に関連する半導体記憶装置では、複数のメモリブロックは、冗長メモリブロックを含む。複数のスイッチ回路は、複数のメモリブロックのうち2つのメモリブロックにそれぞれ接続される。各スイッチ回路は、接続される2つのメモリブロックのいずれか一方のデータ線を外部データ線に接続する。冗長制御回路は、予め不良のメモリブロックを不揮発的に記憶する機能および外部信号に基づいて不良のメモリブロックを記憶する機能を備えた複数のラッチ回路を有する。冗長制御回路は、複数のラッチ回路の出力信号に基づいて複数のスイッチ回路への切換信号を生成する。本発明に関連する半導体記憶装置の好ましい例では、冗長制御回路は、複数のラッチ回路の出力信号をデコードして複数のスイッチ回路への切換信号を生成するデコーダを有する。各スイッチ回路は、互いに隣接する2つのメモリブロック毎に設けられる。
In one embodiment of the present invention, a semiconductor memory device includes a plurality of memory blocks including a redundant memory block and two data blocks connected to two memory blocks of the memory blocks. A plurality of switch circuits for connecting a memory block to an external data line, a plurality of latch circuits having a first function for storing a defective memory block in advance in a nonvolatile manner and a second function for storing a defective memory block based on an external signal And a redundant control circuit that generates a switching signal to the switch circuit based on the output signal of the latch circuit. The redundancy control circuit includes a prohibition circuit that prohibits input of an external signal of the second function when the first function is used in the latch circuit.
In the semiconductor memory equipment associated with the present invention, a plurality of memory blocks includes a redundant memory block. The plurality of switch circuits are respectively connected to two memory blocks among the plurality of memory blocks. Each switch circuit connects one data line of two memory blocks to be connected to an external data line. The redundancy control circuit has a plurality of latch circuits having a function of storing a defective memory block in advance in a nonvolatile manner and a function of storing a defective memory block based on an external signal. The redundancy control circuit generates switching signals to the plurality of switch circuits based on the output signals of the plurality of latch circuits. The good preferable example of the semiconductor memory device related to the present invention, the redundancy control circuit has a decoder for generating a switching signal by decoding an output signal of a plurality of latch circuits to a plurality of switch circuits. Each switch circuit is provided for every two adjacent memory blocks.
このような構成の半導体記憶装置では、例えば、製造工程でのテストにおいて、メモリブロックのいずれかで不良が検出されたとき、ラッチ回路に不良のメモリブロックを不揮発的に記憶させることで、スイッチ回路により、不良のメモリブロックを除くメモリブロック(冗長メモリブロックを含む)のデータ線が外部データ線に接続される。換言すれば、製造工程でのテストで検出された不良を含むメモリブロックが無効になるとともに冗長メモリブロックが有効になる。すなわち、記憶回路に基づく冗長機能を実現できる。 In the semiconductor memory device having such a configuration, for example, when a defect is detected in any of the memory blocks in a test in the manufacturing process, the defective memory block is stored in the latch circuit in a non-volatile manner. As a result, the data lines of the memory blocks (including the redundant memory block) excluding the defective memory block are connected to the external data lines. In other words, the memory block including the defect detected by the test in the manufacturing process becomes invalid and the redundant memory block becomes valid. That is, a redundant function based on the memory circuit can be realized.
一方、例えば、製造工程でのテストではメモリブロックのいずれでも不良が検出されず、ユーザシステム上でのセルフテストにより不良が検出されたとき、外部信号によりラッチ回路に不良のメモリブロックを記憶させることで、スイッチ回路により、不良のメモリブロックを除くメモリブロック(冗長メモリブロックを含む)のデータ線が外部データ線に接続される。換言すれば、ユーザシステム上でのセルフテストで検出された不良を含むメモリブロックが無効になるとともに冗長メモリブロックが有効になる。すなわち、外部信号に基づく冗長機能を実現できる。 On the other hand, for example, when a defect is not detected in any of the memory blocks in a test in the manufacturing process, and a defect is detected by a self test on the user system, the defective memory block is stored in the latch circuit by an external signal. Thus, the data line of the memory block (including the redundant memory block) excluding the defective memory block is connected to the external data line by the switch circuit. In other words, the memory block including the defect detected by the self test on the user system becomes invalid and the redundant memory block becomes valid. That is, a redundant function based on an external signal can be realized.
記憶回路に基づく冗長機能のためのラッチ回路と外部信号に基づく冗長機能のためのラッチ回路とが共通化されているため、それぞれの機能を具現する専用回路を個別に設ける場合に比べて、冗長制御回路の回路構成を簡素化できる。この結果、半導体記憶装置のチップサイズを増大させることなく、記憶回路に基づく冗長機能と外部信号に基づく冗長機能との双方を実現できる。 Since the latch circuit for the redundant function based on the memory circuit and the latch circuit for the redundant function based on the external signal are shared, it is more redundant than the case where a dedicated circuit that embodies each function is provided individually. The circuit configuration of the control circuit can be simplified. As a result, both the redundant function based on the memory circuit and the redundant function based on the external signal can be realized without increasing the chip size of the semiconductor memory device.
本発明に関連する別の半導体記憶装置では、冗長制御回路は、複数の通常メモリブロックのいずれかに不良が存在するとき、アクセスするメモリブロックを選択するための複数ビットの冗長制御信号を、不良の通常メモリブロックを示す論理レベルに設定する。切換回路は、冗長制御回路からの冗長制御信号が不良の通常メモリブロックを示すとき、その通常メモリブロックを無効にするとともに冗長メモリブロックを有効にする。冗長制御回路における複数のラッチ回路は、冗長制御信号のビット毎にそれぞれ設けられる。各ラッチ回路は、入力ノードで受ける信号の論理レベルを保持し、冗長制御信号の対応するビットを、保持している論理レベルに設定する。冗長制御回路における複数の不揮発性記憶回路は、ラッチ回路にそれぞれ対応して設けられる。各不揮発性記憶回路は、不良の通常メモリブロックを示す論理レベルを予め記憶し、記憶している論理レベルの第1ラッチ設定信号を、対応するラッチ回路の入力ノードに出力する。冗長制御回路における複数の入力回路は、ラッチ回路にそれぞれ対応して設けられる。各入力回路は、対応するラッチ回路が保持する論理レベルを変更するための第2ラッチ設定信号を受けて、対応するラッチ回路の入力ノードに出力する。 In another semiconductor memory equipment associated with the present invention, the redundancy control circuit, when there is a defect in any one of a plurality of normal memory blocks, the redundancy control signals of a plurality of bits for selecting a memory block to be accessed , Set to a logic level indicating a defective normal memory block. When the redundancy control signal from the redundancy control circuit indicates a defective normal memory block, the switching circuit invalidates the normal memory block and validates the redundant memory block. The plurality of latch circuits in the redundancy control circuit are provided for each bit of the redundancy control signal. Each latch circuit holds the logic level of the signal received at the input node, and sets the corresponding bit of the redundancy control signal to the held logic level. The plurality of nonvolatile memory circuits in the redundancy control circuit are provided corresponding to the latch circuits, respectively. Each nonvolatile memory circuit stores in advance a logic level indicating a defective normal memory block, and outputs a first latch setting signal of the stored logic level to an input node of the corresponding latch circuit. The plurality of input circuits in the redundancy control circuit are provided corresponding to the latch circuits, respectively. Each input circuit receives a second latch setting signal for changing the logic level held by the corresponding latch circuit, and outputs the second latch setting signal to the input node of the corresponding latch circuit.
このような構成の半導体記憶装置では、例えば、製造工程でのテストにおいて、通常メモリブロックのいずれかで不良が検出されたとき、不揮発性記憶回路に不良の通常メモリブロックを示す論理レベルをそれぞれ記憶させることで、不揮発性記憶回路からラッチ回路の入力ノードに第1ラッチ設定信号が一時的に出力されると、冗長制御回路(ラッチ回路)から切換回路への冗長制御信号は不良の通常メモリブロックを示す論理レベルに設定される。従って、切換回路により、製造工程でのテストで検出された不良を含む通常メモリブロックが無効になるとともに冗長メモリブロックが有効になる。すなわち、記憶回路に基づく冗長機能を実現できる。 In the semiconductor memory device having such a configuration, for example, when a defect is detected in any of the normal memory blocks in a test in the manufacturing process, each of the logic levels indicating the defective normal memory block is stored in the nonvolatile memory circuit. Thus, when the first latch setting signal is temporarily output from the nonvolatile memory circuit to the input node of the latch circuit, the redundancy control signal from the redundancy control circuit (latch circuit) to the switching circuit is a defective normal memory block. Is set to a logical level indicating Therefore, the switching circuit invalidates the normal memory block including the defect detected by the test in the manufacturing process and enables the redundant memory block. That is, a redundant function based on the memory circuit can be realized.
一方、例えば、製造工程でのテストでは通常メモリブロックのいずれでも不良が検出されず、ユーザシステム上でのセルフテストにより不良が検出されたとき、第2ラッチ設定信号を不良の通常メモリブロックを示す論理レベルに設定することで、入力回路からラッチ回路の入力ノードに第2ラッチ設定信号が一時的に出力されると、冗長制御回路(ラッチ回路)から切換回路への冗長制御信号は不良の通常メモリブロックを示す論理レベルに設定される。従って、切換回路により、ユーザシステム上でのセルフテストで検出された不良を含む通常メモリブロックが無効になるとともに冗長メモリブロックが有効になる。すなわち、外部信号に基づく冗長機能を実現できる。 On the other hand, for example, when a defect is not detected in any of the normal memory blocks in the test in the manufacturing process, and the defect is detected by the self-test on the user system, the second latch setting signal indicates the defective normal memory block. By setting the logic level, if the second latch setting signal is temporarily output from the input circuit to the input node of the latch circuit, the redundancy control signal from the redundancy control circuit (latch circuit) to the switching circuit is defective. Set to a logic level indicating a memory block. Therefore, the switching circuit invalidates the normal memory block including the defect detected by the self-test on the user system and validates the redundant memory block. That is, a redundant function based on an external signal can be realized.
ラッチ回路の入力ノードは、第1および第2ラッチ設定信号の双方を入力ノードで共通して受ける。すなわち、記憶回路に基づく冗長機能のためのラッチ回路と外部信号に基づく冗長機能のためのラッチ回路とが共通化されている。このため、それぞれの機能を具現する専用回路を個別に設ける場合に比べて、冗長制御回路の回路構成を簡素化できる。この結果、半導体記憶装置のチップサイズを増大させることなく、記憶回路に基づく冗長機能と外部信号に基づく冗長機能との双方を実現できる。 The input node of the latch circuit receives both the first and second latch setting signals in common at the input node. That is, a latch circuit for a redundant function based on a memory circuit and a latch circuit for a redundant function based on an external signal are shared. For this reason, the circuit configuration of the redundant control circuit can be simplified as compared with the case where dedicated circuits that implement the respective functions are provided individually. As a result, both the redundant function based on the memory circuit and the redundant function based on the external signal can be realized without increasing the chip size of the semiconductor memory device.
本発明に関連する別の半導体記憶装置の好ましい例では、冗長制御回路の不良信号生成回路は、冗長制御信号が通常メモリブロックのいずれかを示すときに不良信号を活性化させる。冗長制御回路の禁止回路は、不良信号の活性化中、入力回路による第2ラッチ設定信号の出力動作を禁止する。これにより、不揮発性記憶回路が製造工程でのテストで検出された不良を含む通常メモリブロックを示す論理レベルをそれぞれ記憶している場合、ラッチ回路が保持する論理レベルは、第1ラッチ設定信号に基づいて保持している論理レベルから変化することはない。すなわち、記憶回路に基づく冗長機能により冗長メモリブロックが既に有効になっている場合、外部信号に基づく冗長機能は無効になる。このため、外部信号に基づく冗長機能によりラッチ回路が保持する論理レベルが変更され、製造工程でのテストで検出された不良を含む通常メモリブロックが誤って有効になることを回避できる。 The good preferable example of another semiconductor memory device related to the present invention, the defective signal generation circuit of the redundancy control circuit, the redundancy control signal activates a defect signal when indicating one of the normal memory block. The prohibition circuit of the redundancy control circuit prohibits the output operation of the second latch setting signal by the input circuit during the activation of the failure signal. As a result, when the nonvolatile memory circuit stores the logic level indicating the normal memory block including the defect detected by the test in the manufacturing process, the logic level held by the latch circuit is set to the first latch setting signal. There is no change from the logic level held on the basis. That is, when the redundant memory block is already enabled by the redundant function based on the memory circuit, the redundant function based on the external signal is disabled. For this reason, it is possible to avoid that the normal memory block including the defect detected by the test in the manufacturing process is erroneously enabled by changing the logic level held by the latch circuit by the redundancy function based on the external signal.
本発明の半導体記憶装置では、チップサイズを増大させることなく、記憶回路に基づく冗長機能と外部信号に基づく冗長機能との双方を実現できる。 In the semiconductor memory device of the present invention, both the redundancy function based on the memory circuit and the redundancy function based on the external signal can be realized without increasing the chip size.
以下、図面を用いて本発明の実施形態を説明する。図1は、本発明の第1実施形態を示している。RAM10は、メイン制御回路MC、メモリブロックBLK1〜BLK16、冗長制御回路RC、スイッチ回路SW1〜SW15(切換回路)およびOR回路OR2〜OR15を有している。メイン制御回路MCは、クロック信号CKに同期して複数ビットのアドレス信号AD、チップイネーブル信号/CEおよびライトイネーブル信号/WEを順次取り込み、取り込んだ信号に基づいて、メモリブロックBLK1〜BLK16に共通して接続される複数のワード線WLのいずれかを活性化させるとともに、メモリブロックBLK1〜BLK16への制御信号CTL(コラム選択信号、センスアンプイネーブル信号、ライトアンプイネーブル信号、インプットイネーブル信号やアウトプットイネーブル信号等)を生成する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. The
アドレス信号ADは、RAM10へのアクセス(ライトアクセスおよびリードアクセス)時に、アクセスするメモリセルを示す論理レベルに設定される。チップイネーブル信号/CEは、RAM10へのアクセス時に”論理0”に活性化される。ライトイネーブル信号/WEは、RAM10へのライトアクセス時に”論理0”に活性化され、RAM10へのリードアクセス時に”論理1”に非活性化される。
The address signal AD is set to a logic level indicating a memory cell to be accessed when accessing the RAM 10 (write access and read access). The chip enable signal / CE is activated to “
メモリブロックBLK1〜BLK15は、通常メモリブロックとしてそれぞれ設けられている。メモリブロックBLK16は、メモリブロックBLK1〜BLK15の不良を救済するための冗長メモリブロックとして設けられている。メモリブロックBLK1〜BLK16は、互いに同一の回路構成である。図示を省略するが、メモリブロックBLKi(i=1〜16)は、複数のワード線WLと複数のビット線との交差位置にマトリクス状に配置される複数のメモリセルを有している。また、メモリブロックBLKiは、例えば、アクセスするメモリセルに対応するビット線を選択してメモリブロック内の共通データ線に接続するコラムスイッチ回路と、共通データ線に伝達されるデータを増幅してメモリブロック内のリード専用データ線に出力するセンスアンプと、メモリブロック内のライト専用データ線に伝達されるデータを増幅して共通データ線に出力するライトアンプと、リード専用データ線およびライト専用データ線とブロックデータ線BDiとの間でデータを授受するデータ入出力回路とを有している。メモリブロックBLKiは、メイン制御回路MCからの制御信号CTLに応じてこれらの回路を動作させることで、アクセスするメモリセルとブロックデータ線BDiとの間でのデータ読み出し動作およびデータ書き込み動作を実施する。 The memory blocks BLK1 to BLK15 are provided as normal memory blocks, respectively. The memory block BLK16 is provided as a redundant memory block for relieving defects in the memory blocks BLK1 to BLK15. The memory blocks BLK1 to BLK16 have the same circuit configuration. Although not shown, the memory block BLKi (i = 1 to 16) has a plurality of memory cells arranged in a matrix at intersections of the plurality of word lines WL and the plurality of bit lines. In addition, the memory block BLKi includes, for example, a column switch circuit that selects a bit line corresponding to a memory cell to be accessed and connects to a common data line in the memory block, and amplifies data transmitted to the common data line. Sense amplifier that outputs to the read-only data line in the block, write amplifier that amplifies the data transmitted to the write-only data line in the memory block and outputs to the common data line, read-only data line and write-only data line And a data input / output circuit for transferring data between the block data line BDi. The memory block BLKi operates these circuits in response to a control signal CTL from the main control circuit MC, thereby performing a data read operation and a data write operation between the memory cell to be accessed and the block data line BDi. .
冗長制御回路RCは、バッファBF0、遅延回路DLY、NAND回路NA0、スリーステート回路TS0〜TS3(入力回路)、NAND回路NA1(禁止回路)、ヒューズラッチ部FLPおよびデコーダDECを有している。バッファBF0は、パワーオンリセット信号PORを受けてNAND回路NA0および遅延回路DLYに出力する。例えば、パワーオンリセット信号PORは、RAM10の電源投入直後の所定期間だけ”論理1”に活性化される。遅延回路DLYは、バッファBF0の出力信号を遅らせてNAND回路NA0に出力する。NAND回路NA0は、バッファBF0の出力信号と遅延回路DLYの出力信号との否定論理積結果をリセット信号/RSTとして出力する。従って、リセット信号/RSTは、パワーオンリセット信号POR(実際には、バッファBF0の出力信号)の活性化から遅延回路DLYによる遅延時間の経過後に”論理0”に活性化し、パワーオンリセット信号PORの非活性化の直後に”論理1”に非活性化する。
The redundancy control circuit RC includes a buffer BF0, a delay circuit DLY, a NAND circuit NA0, a three-state circuit TS0 to TS3 (input circuit), a NAND circuit NA1 (forbidden circuit), a fuse latch unit FLP, and a decoder DEC. The buffer BF0 receives the power-on reset signal POR and outputs it to the NAND circuit NA0 and the delay circuit DLY. For example, the power-on reset signal POR is activated to “
スリーステート回路TS0〜TS3は、NAND回路NA1からの入力制御信号/ICが”論理0”を示すとき、外部ラッチ設定信号LS0〜LS3(外部信号、第2ラッチ設定信号)を信号線LI0〜LI3にそれぞれ出力する。信号線LI0〜LI3は、図2で説明するヒューズラッチ部FLP内の共通ノードNC0〜NC3にそれぞれ接続されている。スリーステート回路TS0〜TS3は、入力制御信号/ICが”論理1”を示すとき、外部ラッチ設定信号LS0〜LS3の出力動作を停止する。
The three-state circuits TS0 to TS3 receive external latch setting signals LS0 to LS3 (external signals, second latch setting signals) as signal lines LI0 to LI3 when the input control signal / IC from the NAND circuit NA1 indicates “
NAND回路NA1は、ヒューズラッチ部FLPからのヒューズ状態信号/FS(不良信号)と外部冗長許可信号EREとの否定論理積結果を入力制御信号/ICとして出力する。すなわち、NAND回路NA1は、ヒューズ状態信号/FSが”論理1”を示すとき、外部冗長許可信号EREを反転させて入力制御信号/ICとして出力する。NAND回路NA1は、ヒューズ状態信号/FSが”論理0”を示すとき、外部冗長許可信号EREに拘わらず、入力制御信号/ICを”論理1”に設定する。従って、ヒューズ状態信号/FSが”論理0”を示すとき、スリーステート回路TS0〜TS3による外部ラッチ設定信号LS0〜LS3の出力動作は禁止される。
NAND circuit NA1 outputs a negative logical product result of fuse status signal / FS (defective signal) from fuse latch unit FLP and external redundancy enable signal ERE as input control signal / IC. That is, when the fuse state signal / FS indicates “
ヒューズラッチ部FLPは、NAND回路NA0からのリセット信号/RSTとスリーステート回路TS0〜TS3からの外部ラッチ設定信号LS0〜LS3とに基づいて設定されるラッチ出力信号LO0〜LO3(冗長制御信号)およびヒューズ状態信号/FSを出力する。ヒューズラッチ部FLPの詳細については、図2で説明する。デコーダDECは、ヒューズラッチ部FLPからのラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”m”(m=1〜15)を示すとき、セレクト信号Smを”論理1”に活性化させる。デコーダDECは、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”0”を示すとき、セレクト信号S1〜S15のいずれも活性化させない。
Fuse latch unit FLP includes latch output signals LO0 to LO3 (redundancy control signals) set based on reset signal / RST from NAND circuit NA0 and external latch setting signals LS0 to LS3 from three-state circuits TS0 to TS3. A fuse status signal / FS is output. Details of the fuse latch portion FLP will be described with reference to FIG. The decoder DEC activates the select signal Sm to “
OR回路OR2は、冗長制御回路RC(デコーダDEC)からのセレクト信号S1またはセレクト信号S2のいずれかが”論理1”を示すとき、スイッチ回路SW2への出力信号を”論理1”に活性化させる。OR回路OR3(OR4〜OR15)は、OR回路OR2(OR3〜OR14)の出力信号または冗長制御回路RCからのセレクト信号S3(S4〜S15)のいずれかが”論理1”を示すとき、スイッチ回路SW3(SW4〜SW15)への出力信号を”論理1”に活性化させる。
The OR circuit OR2 activates the output signal to the switch circuit SW2 to “
スイッチ回路SW1は、冗長制御回路RCからのセレクト信号S1(切換信号)が”論理0”を示すとき、メモリブロックBLK1のブロックデータ線BD1と外部データ線D1とを接続する。スイッチ回路SW1は、セレクト信号S1が”論理1”を示すとき、メモリブロックBLK2のブロックデータ線BD2と外部データ線D1とを接続する。スイッチ回路SW2(SW3〜SW15)は、OR回路OR2(OR3〜OR15)の出力信号(切換信号)が”論理0”を示すとき、メモリブロックBLK2(BLK3〜BLK15)のブロックデータ線BD2(BD3〜BD15)と外部データ線D2(D3〜D15)とを接続する。スイッチ回路SW2(SW3〜SW15)は、OR回路OR2(OR3〜OR15)の出力信号が”論理1”を示すとき、メモリブロックBLK3(BLK4〜BLK16)のブロックデータ線BD3(BD4〜BD16)と外部データ線D2(D3〜D15)とを接続する。
The switch circuit SW1 connects the block data line BD1 and the external data line D1 of the memory block BLK1 when the select signal S1 (switching signal) from the redundancy control circuit RC indicates “
ヒューズラッチ部FLPからのラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”0”を示すとき、デコーダDECからのセレクト信号S1〜S15のいずれも”論理1”に活性化されることはないため、OR回路OR2〜OR15の出力信号は”論理0”に非活性化されたままである。従って、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”0”を示すとき、スイッチ回路SW1〜SW15は、ブロックデータ線BD1〜BD15を外部データ線D1〜D15にそれぞれ接続する。
When the latch output signal LO [3: 0] from the fuse latch unit FLP indicates the decimal number “0”, none of the select signals S1 to S15 from the decoder DEC is activated to “
一方、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”1”を示すとき、セレクト信号S1が”論理1”に活性化されるため、OR回路OR2〜OR15の出力信号が”論理1”に活性化される。従って、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”1”を示すとき、スイッチ回路SW1〜SW15は、ブロックデータ線BD2〜BD16を外部データ線D1〜D15にそれぞれ接続する。これにより、メモリブロックBLK1が無効になるとともに、メモリブロックBLK16が有効になる。
On the other hand, when the latch output signal LO [3: 0] indicates the decimal number “1”, the select signal S1 is activated to “
同様に、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”n”(n=2〜15)を示すとき、セレクト信号Snが”論理1”に活性化されるため、OR回路ORn〜OR15の出力信号が”論理1”に活性化される。従って、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”n”を示すとき、スイッチ回路SW1〜SWn−1は、ブロックデータ線BD1〜BDn−1を外部データ線D1〜Dn−1に接続し、スイッチ回路SWn〜SW15は、ブロックデータ線BDn+1〜BD16を外部データ線Dn〜D15に接続する。これにより、メモリブロックBLKnが無効になるとともに、メモリブロックBLK16が有効になる。
Similarly, when the latch output signal LO [3: 0] indicates the decimal number “n” (n = 2 to 15), the select signal Sn is activated to “
図2は、図1のヒューズラッチ部FLPの詳細を示している。ヒューズラッチ部FLPは、ヒューズ回路FC0〜FC3(不揮発性記憶回路)、ラッチ回路LC0〜LC3およびNOR回路NR(不良信号生成回路)を有している。ヒューズ回路FC0〜FC3は、互いに同一の回路構成であり、2段のインバータ列で構成されるバッファBF1、インバータI0、I1、pMOSトランジスタQ0、nMOSトランジスタQ1、Q2およびヒューズFをそれぞれ有している。 FIG. 2 shows details of the fuse latch portion FLP of FIG. The fuse latch unit FLP includes fuse circuits FC0 to FC3 (nonvolatile memory circuits), latch circuits LC0 to LC3, and a NOR circuit NR (defective signal generation circuit). The fuse circuits FC0 to FC3 have the same circuit configuration, and each includes a buffer BF1, an inverter I0, I1, a pMOS transistor Q0, an nMOS transistor Q1, Q2, and a fuse F each formed of a two-stage inverter array. .
ヒューズ回路FCj(j=0〜3)において、pMOSトランジスタQ0およびnMOSトランジスタQ1、Q2は、電源線VDDと接地線VSSとの間に直列接続されている。バッファBF1は、NAND回路NA0(図1)からのリセット信号/RSTを受けてpMOSトランジスタQ0のゲートおよびインバータI0に出力する。インバータI0は、バッファBF1の出力信号を反転させてnMOSトランジスタQ1のゲートおよびインバータI1に出力する。インバータI1は、インバータI0の出力信号を反転させてnMOSトランジスタQ2のゲートに出力する。ヒューズFは、nMOSトランジスタQ1、Q2の接続ノードと接地線VSSとの間に接続されている。pMOSトランジスタQ0およびnMOSトランジスタQ1の接続ノードN0(以下、ヒューズ回路FCjの出力ノードN0と記述)は、信号線LIjと接続される共通ノードNCjに接続されている。 In the fuse circuit FCj (j = 0 to 3), the pMOS transistor Q0 and the nMOS transistors Q1 and Q2 are connected in series between the power supply line VDD and the ground line VSS. Buffer BF1 receives reset signal / RST from NAND circuit NA0 (FIG. 1), and outputs it to the gate of pMOS transistor Q0 and inverter I0. Inverter I0 inverts the output signal of buffer BF1 and outputs the inverted signal to the gate of nMOS transistor Q1 and inverter I1. Inverter I1 inverts the output signal of inverter I0 and outputs it to the gate of nMOS transistor Q2. The fuse F is connected between the connection node of the nMOS transistors Q1 and Q2 and the ground line VSS. A connection node N0 (hereinafter referred to as an output node N0 of the fuse circuit FCj) of the pMOS transistor Q0 and the nMOS transistor Q1 is connected to a common node NCj connected to the signal line LIj.
このようなヒューズ回路FCjでは、リセット信号/RSTの活性化中、pMOSトランジスタQ0およびnMOSトランジスタQ1が共にオンし、nMOSトランジスタQ2がオフする。このとき、ヒューズFが溶断されていない場合、pMOSトランジスタQ0、nMOSトランジスタQ1およびヒューズFを介して電源線VDDから接地線VSSへ電流が流れるため、ヒューズ回路FCjの出力ノードN0に”論理0”を示す信号が生成される。一方、ヒューズFが溶断されている場合、pMOSトランジスタQ0、nMOSトランジスタQ1およびヒューズFを介して電源線VDDから接地線VSSへ電流が流れることはないため、ヒューズ回路FCjの出力ノードN0に”論理1”を示す信号が生成される。
In such a fuse circuit FCj, both the pMOS transistor Q0 and the nMOS transistor Q1 are turned on and the nMOS transistor Q2 is turned off while the reset signal / RST is activated. At this time, if the fuse F is not blown, a current flows from the power supply line VDD to the ground line VSS via the pMOS transistor Q0, the nMOS transistor Q1, and the fuse F, so that “
また、リセット信号/RSTの非活性化中、pMOSトランジスタQ0およびnMOSトランジスタQ1が共にオフし、nMOSトランジスタQ2がオンする。このため、リセット信号/RSTの非活性化中、前述のような出力ノードN0に対する信号生成動作は実施されない。従って、ヒューズ回路FCjは、リセット信号/RSTが”論理0”を示すときにのみ、ヒューズFの溶断の有無に対応する論理レベルの信号(第1ラッチ設定信号)を共通ノードNCjに出力する。
Further, during the inactivation of the reset signal / RST, both the pMOS transistor Q0 and the nMOS transistor Q1 are turned off, and the nMOS transistor Q2 is turned on. Therefore, the signal generation operation for output node N0 as described above is not performed while reset signal / RST is inactive. Accordingly, the fuse circuit FCj outputs a logic level signal (first latch setting signal) corresponding to whether or not the fuse F is blown to the common node NCj only when the reset signal / RST indicates “
ラッチ回路LC0〜LC3は、互いに同一の回路構成であり、インバータI2〜I4それぞれを有している。ラッチ回路LCj(j=0〜3)において、インバータI2、I3は、一方の出力が他方の入力に接続されている。インバータI4は、インバータI2の出力およびインバータI3の入力の接続ノードに生成される信号を反転させてラッチ出力信号LOjとして出力する。インバータI2の入力およびインバータI3の出力の接続ノードN1(以下、ラッチ回路LCjの入力ノードN1と記述)は、共通ノードNCjに接続されている。すなわち、ラッチ回路LCjは、リセット信号/RSTの活性化中にヒューズ回路FCjから出力される信号と、入力制御信号/ICの活性化中にスリーステート回路TSjから出力される外部ラッチ設定信号LSjとの双方を入力ノードN1で受け、入力ノードN1で受けた信号を保持するとともにラッチ出力信号LOjとして出力する。従って、ラッチ出力信号LOjは、RAM10の電源投入直後におけるリセット信号/RSTの一時的な活性化に伴って、ヒューズ回路FCjのヒューズFが溶断されていない場合に”論理0”に初期化され、ヒューズ回路FCjのヒューズFが溶断されている場合に”論理1”に初期化される。NOR回路NRは、ラッチ出力信号LO0〜LO3の少なくともいずれかが”論理1”を示すとき、ヒューズ状態信号/FSを”論理0”に活性化させる。
The latch circuits LC0 to LC3 have the same circuit configuration and have inverters I2 to I4, respectively. In the latch circuit LCj (j = 0 to 3), one output of the inverters I2 and I3 is connected to the other input. Inverter I4 inverts the signal generated at the connection node between the output of inverter I2 and the input of inverter I3, and outputs the inverted signal as latch output signal LOj. A connection node N1 (hereinafter referred to as an input node N1 of the latch circuit LCj) of the input of the inverter I2 and the output of the inverter I3 is connected to the common node NCj. That is, the latch circuit LCj includes a signal output from the fuse circuit FCj during the activation of the reset signal / RST, and an external latch setting signal LSj output from the three-state circuit TSj during the activation of the input control signal / IC. Are received at the input node N1, and the signal received at the input node N1 is held and output as a latch output signal LOj. Therefore, the latch output signal LOj is initialized to “
以上のような構成のRAM10では、図1で説明したように、ラッチ出力信号LO[3:0]が10進数”m”(m=1〜15)を示すとき、メモリブロックBLKmが無効になるとともに、メモリブロックBLK16が有効になる。従って、製造工程でのテストにおいて、例えば、メモリブロックBLK2で不良が検出された場合、RAM10の電源投入直後にラッチ出力信号LO[3:0]が”0010”(10進数”2”に対応)に初期化されるようにヒューズ回路FC1のヒューズFを溶断することで、製造工程で発生したメモリブロックBLK2の不良を救済できる。
In the
また、製造工程でのテストにおいてメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれでも不良が検出されず、ヒューズ回路FC0〜FC3のいずれのヒューズFも溶断されていない場合、ラッチ出力信号LO[3:0]はRAM10の電源投入直後に”0000”に初期化される。従って、RAM10の電源投入直後に、ヒューズ状態信号/FSは”論理1”に初期化され、外部冗長許可信号EREがスリーステート回路TS0〜TS3への入力制御信号/ICとして出力される。従って、ヒューズ回路FC0〜FC3のいずれのヒューズFも溶断されていないRAM10では、例えば、RAM10を搭載したシステムLSIがユーザシステムに組み込まれた状態でのセルフテストにおいてメモリブロックBLK2の不良が検出された場合、ラッチ出力信号LO[3:0]が”0000”から”0010”に変更されるように外部ラッチ設定信号LS[3:0]を”0010”に設定した状態で外部冗長許可信号EREを活性化させることで、ユーザシステム上で発生したメモリブロックBLK2の不良を救済できる。このように、RAM10は、ヒューズ回路FC0〜FC3に基づく冗長機能(ヒューズ冗長機能)と外部ラッチ設定信号LS0〜LS3に基づく冗長機能(外部冗長機能)との双方を有している。
Further, when no defect is detected in any of the memory blocks BLK1 to BLK15 in the test in the manufacturing process and any fuse F of the fuse circuits FC0 to FC3 is not blown, the latch output signal LO [3: 0] is stored in the
一方、製造工程でのテストにおいてメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれかで不良が検出され、ヒューズ回路FC0〜FC3の少なくともいずれかのヒューズFが溶断されている場合、ラッチ出力信号LO[3:0]はRAM10の電源投入直後に”0000”以外に初期化される。従って、RAM10の電源投入直後に、ヒューズ状態信号/FSは”論理0”に初期化され、入力制御信号/ICは”論理1”に固定される。これにより、スリーステート回路TS0〜TS3による外部ラッチ設定信号LS0〜LS3の出力動作は禁止される。このため、ヒューズ回路FC0〜FC3の少なくともいずれかのヒューズFが溶断されているRAM10では、外部ラッチ設定信号LS[3:0]によりラッチ出力信号LO[3:0]の論理レベルが変更されることはない。従って、製造工程でのテストにおけるヒューズFの溶断により無効にされたメモリブロックが、誤って有効になることはない。
On the other hand, when a defect is detected in any of the memory blocks BLK1 to BLK15 in the test in the manufacturing process and at least one fuse F of the fuse circuits FC0 to FC3 is blown, the latch output signal LO [3: 0] Is initialized to other than “0000” immediately after the
図3は、第1実施形態における冗長制御回路RCの動作例(ヒューズ回路FC0〜FC3のいずれのヒューズFも溶断されていない場合)を示している。RAM10を搭載したシステムLSIの電源が投入されると、パワーオンリセット信号PORが”論理1”に活性化される(図3(a))。パワーオンリセット信号PORの活性化から遅延回路DLYによる遅延時間の経過後に、NAND回路NA0からヒューズラッチ部FLPへのリセット信号/RSTが”論理0”に活性化される(図3(b))。ヒューズ回路FC0〜FC3のいずれのヒューズFも溶断されていないため、リセット信号/RSTの活性化に応答して、ヒューズ回路FC0〜FC3からラッチ回路LC0〜LC3の入力ノードN1に”0000”を示す信号が出力される。このため、ラッチ回路LC0〜LC3の入力ノードN1(共通ノードNC0〜NC3)にそれぞれ接続される信号線LI[3:0]が”0000”に初期化される(図3(c))。従って、冗長制御回路RCからのラッチ出力信号LO[3:0]が”0000”に初期化される(図3(d))。これにより、ヒューズラッチ部FLPからNAND回路NA1へのヒューズ状態信号/FSが”論理1”に初期化される(図3(e))。そして、システムLSIの電源投入から所定時間が経過すると、パワーオンリセット信号PORが”論理0”に非活性化される(図3(f))。パワーオンリセット信号PORの非活性化の直後に、リセット信号/RSTが”論理1”に非活性化される(図3(g))。
FIG. 3 shows an operation example of the redundancy control circuit RC in the first embodiment (when any fuse F of the fuse circuits FC0 to FC3 is not blown). When the power supply of the system LSI on which the
この後、例えば、システムLSIがユーザシステムに組み込まれた状態でのセルフテストでメモリブロックBLK2の不良が検出されると、システムLSIにRAM10と共に搭載されたテスト制御回路等により、外部ラッチ設定信号LS[3:0]が”0010”に設定される(図3(h))。そして、テスト制御回路により、外部冗長許可信号EREが”論理1”に活性化される(図3(i))。ヒューズ状態信号/FSは”論理1”に非活性化されているため、外部冗長許可信号EREの活性化に伴い、NAND回路NA1からスリーステート回路TS0〜TS3への入力制御信号/ICが”論理0”に活性化される(図3(j))。これにより、”0010”を示す外部ラッチ設定信号LS[3:0]がスリーステート回路TS0〜TS3からラッチ回路LC0〜LC3の入力ノードN1に出力される。このため、信号線LI[3:0]が”0010”に設定され、ラッチ出力信号LO[3:0]も”0010”に設定される(図3(k)、(l))。これにより、デコーダDECからのセレクト信号S2が”論理1”に活性化され、メモリブロックBLK2が無効になるとともにメモリブロックBLK16が有効になる。すなわち、ユーザシステム上で発生したメモリブロックBLK2の不良が救済される。
Thereafter, for example, when a defect in the memory block BLK2 is detected by a self test in a state where the system LSI is incorporated in the user system, the external latch setting signal LS is detected by a test control circuit or the like mounted on the system LSI together with the
図4は、第1実施形態における冗長制御回路RCの別の動作例(ヒューズ回路FC0のヒューズFが溶断されている場合)を示している。RAM10を搭載したシステムLSIの電源が投入されると、パワーオンリセット信号PORが”論理1”に活性化される(図4(a))。パワーオンリセット信号PORの活性化から遅延回路DLYによる遅延時間の経過後に、NAND回路NA0からヒューズラッチ部FLPへのリセット信号/RSTが”論理0”に活性化される(図4(b))。ヒューズ回路FC0のヒューズFが溶断されているため、リセット信号/RSTの活性化に応答して、ヒューズ回路FC0〜FC3からラッチ回路LC0〜LC3の入力ノードN1に”0001”を示す信号が出力される。このため、ラッチ回路LC0〜LC3の入力ノードN1(共通ノードNC0〜NC3)にそれぞれ接続される信号線LI[3:0]が”0001”に初期化される(図4(c))。従って、冗長制御回路RCからのラッチ出力信号LO[3:0]が”0001”に初期化される(図4(d))。これにより、ヒューズラッチ部FLPからNAND回路NA1へのヒューズ状態信号/FSが”論理0”に初期化される(図4(e))。そして、システムLSIの電源投入から所定時間が経過すると、パワーオンリセット信号PORが”論理0”に非活性化される(図4(f))。パワーオンリセット信号PORの非活性化の直後に、リセット信号/RSTが”論理1”に非活性化される(図4(g))。
FIG. 4 shows another operation example of the redundancy control circuit RC in the first embodiment (when the fuse F of the fuse circuit FC0 is blown). When the power supply of the system LSI having the
ここで、仮に、外部ラッチ設定信号LS[3:0]が”0010”に設定された後に、外部冗長許可信号EREが”論理1”に活性化されたとする(図4(h)、(i))。ヒューズ状態信号/FSは”論理0”に活性化されているため、外部冗長許可信号EREが活性化されても、NAND回路NA1からスリーステート回路TS0〜TS3への入力制御信号/ICが”論理0”に活性化されることはない(図4(j))。従って、”0010”を示す外部ラッチ設定信号LS[3:0]がスリーステート回路TS0〜TS3からラッチ回路LC0〜LC3の入力ノードN1に出力されることはない。このため、信号線LI[3:0]は”0001”に設定されたままであり、ラッチ出力信号LO[3:0]も”0001”に設定されたままである(図4(k)、(l))。従って、製造工程でのテストにおけるヒューズ回路FC0のヒューズFの溶断により無効にされたメモリブロックBLK1が、誤って有効になることはない。
Here, it is assumed that the external redundancy enable signal ERE is activated to “
図5は、図1のRAM10を搭載したシステムLSIの一例を示している。システムLSI100は、図1のRAM10の他に、ユーザ回路12、BIST回路14およびテスト制御回路16を有している。ユーザ回路12は、CPU、クロック生成回路やリセット生成回路(図示せず)等を備えて構成されている。ユーザ回路12は、CPUによるRAM10へのアクセス時に、複数ビットのユーザ用アドレス信号ADUを所望のメモリセルを示す論理レベルに設定するとともに、ユーザ用チップイネーブル信号およびユーザ用ライトイネーブル信号(図示せず)を所望のタイミングで活性化および非活性化させる。ユーザ回路12は、CPUによるRAM10へのライトアクセス時に所望のライトデータをデータバスDBに出力し、CPUによるRAM10へのリードアクセス時にRAM10から外部データ線D1〜D15を介してデータバスDBに出力されたリードデータを取得する。また、ユーザ回路12は、クロック生成回路により生成されたクロック信号CKおよびリセット生成回路により生成されたパワーオンリセット信号PORをRAM10に出力する。
FIG. 5 shows an example of a system LSI on which the
BIST回路14は、制御部14a、セレクタ14bおよび比較器14cを有している。制御部14aは、制御回路、アドレス生成器やデータ生成器等を備えて構成されている。制御部14aの制御回路は、テスト制御回路16からのテストイネーブル信号TEの活性化中、RAM10に対してアクセス先を変更しながらライトアクセスおよびリードアクセスを順次実施することでRAM10内のメモリセルを順次テストするために、複数ビットのテスト用アドレス信号ADTをアドレス発生器により順次生成されるアドレスに順次設定するとともに、テスト用チップイネーブル信号およびテスト用ライトイネーブル信号(図示せず)を所望のタイミングで活性化および非活性化させる。制御部14aの制御回路は、データ発生器により順次生成されるテスト用ライトデータD1T〜D15Tを、RAM10に対するライトアクセスに合わせてデータバスDBに順次出力する。
The
また、制御部14aの制御回路は、セレクタ14bに対して、テストイネーブル信号TEの非活性化中にユーザ用アドレス信号ADU(ユーザ用チップイネーブル信号およびユーザ用ライトイネーブル信号)の選択を指示し、テストイネーブル信号TEの活性化中にテスト用アドレス信号ADT(テスト用チップイネーブル信号およびテスト用ライトイネーブル信号)の選択を指示する。
The control circuit of the
セレクタ14bは、制御部14aからの指示に応じてユーザ回路12からのユーザ用アドレス信号ADU(ユーザ用チップイネーブル信号およびユーザ用ライトイネーブル信号)または制御部14aからのテスト用アドレス信号ADT(テスト用チップイネーブル信号およびテスト用ライトイネーブル信号)のいずれかを選択して、RAM10へのアドレス信号AD(チップイネーブル信号およびライトイネーブル信号)として出力する。
The selector 14b receives a user address signal ADU (user chip enable signal and user write enable signal) from the
比較器14cは、RAM10から外部データ線D1〜D15を介してデータバスDBに出力されたリードデータD1〜D15と、制御部14aからデータバスDBに出力されたテスト用ライトデータD1T〜D15Tとを比較する。例えば、比較器14cは、双方が一致しない場合、テスト制御回路16へのフェイル信号FAILを活性化させるとともに、4ビットのフェイルビット信号FBITを、不一致のビットを示す論理レベルに設定する。
The
テスト制御回路16は、システムLSI100がユーザシステムに組み込まれた状態でRAM10をテストするためにBIST回路14へのテストイネーブル信号TEを定期的に活性化させる。テスト制御回路16は、BIST回路14からのフェイル信号FAILの活性化に応答して、BIST回路14からのフェイルビット信号FBITが示す不一致のビットを記憶する。テスト回路制御回路16は、BIST14によるRAM10のテストの完了を認識すると、不一致のビットを記憶している場合、RAM10への外部ラッチ設定信号LS[3:0]を、そのビットに対応するメモリブロックを示す論理レベルに設定した後、RAM10への外部冗長許可信号EREを活性化させる。これにより、ユーザシステム上で発生したメモリブロックBLK1〜BLK15の不良が救済される。
The
図6は、図5のシステムLSI100に対する製造工程でのテストフローを示している。
(ステップS11)組み立て作業の前に、テスタ装置によるRAM10の一次テスト(プローブテスト)が実施される。この後、テストフローはステップS12に移行する。
(ステップS12)一次テストによりメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれかで不良が検出されたか否かが判定される。一次テストにより不良が検出された場合、テストフローはステップS13に移行する。一次テストにより不良が検出されなかった場合、テストフローはステップS14に移行する。
(ステップS13)一次テストにより不良が検出されたメモリブロックに応じて、ヒューズ回路FC0〜FC3のヒューズFが溶断される(ヒューズ冗長)。例えば、一次テストによりメモリブロックBLK2で不良が検出された場合、ヒューズ回路FC1のヒューズFが溶断される。これにより、製造工程で発生したメモリブロックBLK2の不良が救済される。この後、テストフローはステップS14に移行する。
(ステップS14)組み立て作業の後に、テスタ装置によるRAM10の二次テストが実施され、システムLSI100に対する製造工程でのテストフローは完了する。二次テストによりメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれかで不良が検出された場合、そのサンプルは不良品として扱われ、不良が検出されなかった場合、そのサンプルは良品として出荷される。
FIG. 6 shows a test flow in a manufacturing process for the
(Step S11) Before the assembly work, a primary test (probe test) of the
(Step S12) It is determined whether a defect is detected in any of the memory blocks BLK1 to BLK15 by the primary test. When a defect is detected by the primary test, the test flow moves to step S13. If no defect is detected by the primary test, the test flow proceeds to step S14.
(Step S13) The fuses F of the fuse circuits FC0 to FC3 are blown according to the memory block in which the failure is detected by the primary test (fuse redundancy). For example, when a defect is detected in the memory block BLK2 by the primary test, the fuse F of the fuse circuit FC1 is blown. Thereby, the defect of the memory block BLK2 generated in the manufacturing process is relieved. Thereafter, the test flow proceeds to step S14.
(Step S14) After the assembly work, a secondary test of the
図7は、図5のシステムLSI100に対するユーザシステム上でのテストフローを示している。
(ステップS21)テスト制御回路16は、RAM10をテストするためにBIST回路14へのテストイネーブル信号TEを活性化させる。これにより、BIST回路14によるセルフテストが実施される。この後、テストフローはステップS22に移行する。
(ステップS22)テスト制御回路16は、セルフテストで検出された不一致のビットを記憶しているか否かを判定する。すなわち、セルフテストによりメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれかで不良が検出されたか否かが判定される。テスト制御回路16が不一致のビットを記憶している場合、テストフローはステップS23に移行する。テスト制御回路16が不一致のビットを記憶していない場合、システムLSI100に対するユーザシステム上でのテストフローは完了する。
(ステップS23)テスト制御回路16は、RAM10への外部ラッチ設定信号LS[3:0]を、記憶している不一致のビットに対応するメモリブロックを示す論理レベルに設定した後、RAM10への外部冗長許可信号EREを活性化させる。これにより、ユーザシステム上で発生したメモリブロックの不良が救済され、システムLSI100に対するユーザシステム上でのテストフローは完了する。このような、ステップS21〜S23で構成されるテストフローは、ユーザシステム上で定期的に実施される。
FIG. 7 shows a test flow on the user system for the
(Step S21) The
(Step S22) The
(Step S23) The
図8は、ヒューズ冗長機能のみを有するRAMの一例を示している。図1および図2で説明した要素と同一の要素については、同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。RAM10aは、冗長制御回路RCに代えて冗長制御回路RCaを有することを除いて、図1のRAM10と同一である。冗長制御回路RCaは、スリーステート回路TS0〜TS3およびNAND回路NA1を省略していること、およびヒューズラッチ部FLPに代えてヒューズラッチ部FLPaを有することを除いて、図1の冗長制御回路RCと同一である。ヒューズラッチ部FLPaは、NAND回路NA0からのリセット信号/RSTに基づいて設定されるラッチ出力信号LO0〜LO3を出力する。
FIG. 8 shows an example of a RAM having only a fuse redundancy function. The same elements as those described in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. The
図9は、図8のヒューズラッチ部FLPaの詳細を示している。ヒューズラッチ部FLPaは、信号線LI0〜LI3およびNOR回路NRを省略していることを除いて、図2のヒューズラッチ部FLPと同一である。従って、RAM10aは、ヒューズ回路FC0〜FC3に基づく冗長機能のみを有している。
図10は、外部冗長機能のみを有するRAMの一例を示している。図1および図2で説明した要素と同一の要素については、同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。RAM10bは、冗長制御回路RCに代えて冗長制御回路RCbを有することを除いて、図1のRAM10と同一である。冗長制御回路RCbは、NAND回路NA1およびヒューズラッチ部FLPに代えてインバータIV0およびラッチ部LPを有することを除いて、図1の冗長制御回路RCと同一である。インバータIV0は、外部冗長許可信号EREを反転させて入力制御信号/ICとしてスリーステート回路TS0〜TS3に出力する。ラッチ部LPは、NAND回路NA0からのリセット信号/RSTとスリーステート回路TS0〜TS3からの外部ラッチ設定信号LS0〜LS3とに基づいて設定されるラッチ出力信号LO0〜LO3を出力する。
FIG. 9 shows details of the fuse latch portion FLPa of FIG. The fuse latch portion FLPa is the same as the fuse latch portion FLP in FIG. 2 except that the signal lines LI0 to LI3 and the NOR circuit NR are omitted. Therefore, the
FIG. 10 shows an example of a RAM having only an external redundancy function. The same elements as those described in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. The
図11は、図10のラッチ部LPの詳細を示している。ラッチ部LPは、インバータIV1およびラッチ回路LC0a〜LC3aを有している。インバータIV1は、NAND回路NA0(図10)からのリセット信号/RSTを反転させて出力する。ラッチ回路LC0a〜LC3aは、互いに同一の回路構成である。ラッチ回路LCja(j=0〜3)は、図2のラッチ回路LCjにnMOSトランジスタQ4を加えて構成されている。ラッチ回路LCjaにおいて、nMOSトランジスタQ4は、インバータI2の入力およびインバータI3の出力の接続ノードN1と接地線VSSとの間に接続されている。nMOSトランジスタQ4のゲートは、インバータIV1の出力信号(リセット信号/RSTを反転させた信号)を受けている。 FIG. 11 shows details of the latch portion LP of FIG. The latch unit LP includes an inverter IV1 and latch circuits LC0a to LC3a. Inverter IV1 inverts and outputs reset signal / RST from NAND circuit NA0 (FIG. 10). The latch circuits LC0a to LC3a have the same circuit configuration. The latch circuit LCja (j = 0 to 3) is configured by adding an nMOS transistor Q4 to the latch circuit LCj of FIG. In the latch circuit LCja, the nMOS transistor Q4 is connected between the connection node N1 of the input of the inverter I2 and the output of the inverter I3 and the ground line VSS. The gate of nMOS transistor Q4 receives the output signal of inverter IV1 (a signal obtained by inverting reset signal / RST).
このような構成のラッチ回路LCjaは、リセット信号/RSTの活性化中にnMOSトランジスタQ4のオンにより生成される信号(”論理0”を示す信号)と、入力制御信号/ICの活性化中にスリーステート回路TSjから出力される外部ラッチ設定信号LSjとの双方をノードN1で受け、ノードN1で受けた信号を保持するとともにラッチ出力信号LOjとして出力する。従って、RAM10bは、外部ラッチ設定信号LS0〜LS3に基づく冗長機能のみを有している。例えば、このようなRAM10bを図5のシステムLSI100にRAM10に代えて搭載することで、RAM10と同様に、ユーザシステム上で発生したメモリブロックBLK1〜BLK15の不良を救済できる。RAMにおいて、前述のような冗長制御回路RCa(図8)、RCb(図10)を並置すれば、ヒューズ冗長機能および外部冗長機能の双方を実現できるが、RAMの回路規模が増大してしまう。従って、RAMが搭載されるシステムLSIのチップサイズが増大してしまう。
The latch circuit LCja having such a configuration is configured such that a signal (a signal indicating “
これに対して、前述のRAM10(図1)では、ラッチ回路LCjは、リセット信号/RSTの活性化中にヒューズ回路FCjから出力される信号と、入力制御信号/ICの活性化中にスリーステート回路TSjから出力される外部ラッチ設定信号LSjとの双方を入力ノードN1で受け、入力ノードN1で受けた信号を保持するとともにラッチ出力信号LOjとして出力する。すなわち、ヒューズ冗長機能のためのラッチ回路と外部冗長機能のためのラッチ回路とが共通化されている。このため、冗長制御回路RCの回路構成(すなわち、RAM10の回路構成)を簡素化できる。この結果、RAM10が搭載されるシステムLSI100のチップサイズを増大させることなく、ヒューズ冗長機能と外部冗長機能との双方を実現できる。
On the other hand, in the above-described RAM 10 (FIG. 1), the latch circuit LCj includes a signal output from the fuse circuit FCj during the activation of the reset signal / RST and a three-state during the activation of the input control signal / IC. Both the external latch setting signal LSj output from the circuit TSj is received at the input node N1, and the signal received at the input node N1 is held and output as the latch output signal LOj. That is, the latch circuit for the fuse redundancy function and the latch circuit for the external redundancy function are shared. For this reason, the circuit configuration of the redundancy control circuit RC (that is, the circuit configuration of the RAM 10) can be simplified. As a result, both the fuse redundancy function and the external redundancy function can be realized without increasing the chip size of the
図12は、本発明の第2実施形態を示している。第2実施形態を説明するにあたって、第1実施形態で説明した要素と同一の要素については、同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。RAM20は、メイン制御回路MCに代えてメイン制御回路MC2を有することを除いて、第1実施形態(図1)のRAM10と同一である。従って、RAM20は、メイン制御回路MC2および冗長制御回路RCの他に、図示を省略したメモリブロックBLK1〜BLK16、スイッチ回路SW1〜SW15およびOR回路OR2〜OR15も有している。
FIG. 12 shows a second embodiment of the present invention. In describing the second embodiment, the same elements as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. The
メイン制御回路MC2は、8ビットのアドレスレジスタAR、プリデコーダPD、メモリブロック制御回路MBCを有している。アドレスレジスタARは、スキャンモード信号SMDが”論理0”を示すとき、クロック信号CKに同期して、8ビットのアドレス信号AD0〜AD7の取り込み動作を実施する。アドレスレジスタARは、スキャンモード信号SMDが”論理1”を示すとき、スキャンクロック信号SCKに同期してスキャン入力信号SIの取り込み動作を実施する。アドレスレジスタARは、取り込んだ信号に応じて出力信号RO0〜RO7を出力する。アドレスレジスタARの出力信号RO0〜RO3は、第1実施形態の外部ラッチ設定信号LS0〜LS3の代わりに、冗長制御回路RC内のスリーステート回路TS0〜TS3にそれぞれ入力される。
The main control circuit MC2 has an 8-bit address register AR, a predecoder PD, and a memory block control circuit MBC. When the scan mode signal SMD indicates “
プリデコーダPDは、アドレスレジスタARの出力信号RO0〜RO7をデコードし、デコード結果をメモリブロック制御回路MBCに出力する。メモリブロック制御回路MBCは、プリデコーダPDによるアドレスデコード結果と、クロック信号CKに同期して取り込んだチップイネーブル信号/CEおよびライトイネーブル信号/WEとに基づいて、メモリブロックBLK1〜BLK16に共通して接続される複数のワード線WLのいずれかを活性化させるとともに、メモリブロックBLK1〜BLK16への制御信号CTLを生成する。 The predecoder PD decodes the output signals RO0 to RO7 of the address register AR and outputs the decoding result to the memory block control circuit MBC. The memory block control circuit MBC is common to the memory blocks BLK1 to BLK16 based on the address decoding result by the predecoder PD and the chip enable signal / CE and the write enable signal / WE fetched in synchronization with the clock signal CK. One of the plurality of word lines WL to be connected is activated and a control signal CTL for the memory blocks BLK1 to BLK16 is generated.
図13は、図12のアドレスレジスタARの詳細を示している。アドレスレジスタARは、アドレス信号AD0〜AD7にそれぞれ対応するスキャン用フリップフロップFF0〜FF7(レジスタ回路)を有している。フリップフロップFF0〜FF7は、互いに同一の回路構成であり、モード端子MD、クロック端子C、スキャンクロック端子SC、データ入力端子D、スキャンデータ入力端子SDおよびデータ出力端子Qを有している。 FIG. 13 shows details of the address register AR of FIG. The address register AR has scan flip-flops FF0 to FF7 (register circuits) corresponding to the address signals AD0 to AD7, respectively. The flip-flops FF0 to FF7 have the same circuit configuration and have a mode terminal MD, a clock terminal C, a scan clock terminal SC, a data input terminal D, a scan data input terminal SD, and a data output terminal Q.
フリップフロップFFk(k=0〜7)は、モード端子MDで受ける信号が”論理0”を示すとき、クロック端子Cで受ける信号の立ち上がりエッジに同期して、データ入力端子Dで受ける信号を順次取り込んでデータ出力端子Qから出力する。フリップフロップFFkは、モード端子MDで受ける信号が”論理1”を示すとき、スキャンクロック端子SCで受ける信号の立ち上がりエッジに同期して、スキャンデータ入力端子SDで受ける信号を順次取り込んでデータ出力端子Qから出力する。すなわち、フリップフロップFFkは、モード端子MDで受ける信号が”論理0”を示すときの通常モードと、モード端子MDで受ける信号が”論理1”を示すときのスキャンモードとを有している。
The flip-flop FFk (k = 0 to 7) sequentially receives the signal received at the data input terminal D in synchronization with the rising edge of the signal received at the clock terminal C when the signal received at the mode terminal MD indicates “
従って、フリップフロップFF0は、スキャンモード信号SMDが”論理0”を示すとき、クロック信号CKの立ち上がりエッジに同期して、アドレス信号AD0を順次取り込んで出力信号RO0として出力する。フリップフロップFF0は、スキャンモード信号SMDが”論理1”を示すとき、スキャンクロック信号SCKの立ち上がりエッジに同期して、スキャン入力信号SIを順次取り込んで出力信号RO0として出力する。
Accordingly, when the scan mode signal SMD indicates “
フリップフロップFF1〜FF7は、スキャンモード信号SMDが”論理0”を示すとき、クロック信号CKの立ち上がりエッジに同期して、それぞれアドレス信号AD1〜AD7を順次取り込んで出力信号RO1〜RO7として出力する。フリップフロップFF1〜FF7は、スキャンモード信号SMDが”論理1”を示すとき、スキャンクロック信号SCKの立ち上がりエッジに同期して、それぞれ前段のフリップフロップFF0〜FF6の出力信号RO0〜RO6を順次取り込んで出力信号RO1〜RO7として出力する。すなわち、フリップフロップFF0〜FF7は、スキャンチェーンを構成している。
When the scan mode signal SMD indicates “
以上のような構成のRAM20では、図12で説明したように、アドレスレジスタARの出力信号AR0〜AR3が冗長制御回路RC内のスリーステート回路TS0〜TS3にそれぞれ入力される。そこで、製造工程でのテストではメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれでも不良が検出されず、ユーザシステム上でのセルフテストによりメモリブロックBLK1〜BLK15のいずれかで不良が検出されたとする。このような場合、例えば、システムLSIにRAM20と共に搭載されたテスト制御回路により、スキャンモード信号SMDを”論理1”に設定した状態で、アドレスレジスタARの出力信号RO0〜RO3が不良のメモリブロックを示すようにスキャン入力信号SIの論理レベルをスキャンクロック信号SCKに同期させて順次設定した後に、外部冗長許可信号EREを活性化させることで、第1実施形態のRAM10と同様に、ユーザシステム上で発生したメモリブロックBLK1〜BLK15の不良を救済できる。以上のような第2実施形態でも、第1実施形態と同様の効果が得られる。
In the
なお、第1および第2実施形態では、RAMを搭載したシステムLSIのチップに本発明を適用した例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、RAMの単体チップに本発明を適用してもよい。
以上、本発明について詳細に説明してきたが、前述の実施形態およびその変形例は発明の一例に過ぎず、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明を逸脱しない範囲で変形可能であることは明らかである。
In the first and second embodiments, an example in which the present invention is applied to a system LSI chip on which a RAM is mounted has been described. However, the present invention is not limited to such an embodiment. For example, the present invention may be applied to a single RAM chip.
As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail, the above-mentioned embodiment and its modification are only examples of this invention, and this invention is not limited to these. Obviously, modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
BF0、BF1 バッファ
BLK1〜BLK16 メモリブロック
DLY 遅延回路
F ヒューズ
FC0〜FC3 ヒューズ回路
FLP ヒューズラッチ部
I0〜I4 インバータ
LC0〜LC3 ラッチ回路
MBC メモリブロック制御回路
MC、MC2 メイン制御回路
NA0、NA1 NAND回路
NR NOR回路
OR2〜OR15 OR回路
PD プリデコーダ
Q0 pMOSトランジスタ
Q1、Q2 nMOSトランジスタ
RC 冗長制御回路
SW1〜SW15 スイッチ回路
TS0〜TS3 スリーステート回路
10、20 RAM
12 ユーザ回路
14 BIST回路
14a 制御部
14b セレクタ
14c 比較器
16 テスト制御回路
100 システムLSI
BF0, BF1 Buffers BLK1-BLK16 Memory block DLY Delay circuit F Fuse FC0-FC3 Fuse circuit FLP Fuse latch unit I0-I4 Inverter LC0-LC3 Latch circuit MBC Memory block control circuit MC, MC2 Main control circuit NA0, NA1 NAND circuit NR NOR Circuit OR2-OR15 OR circuit PD predecoder Q0 pMOS transistor Q1, Q2 nMOS transistor RC redundancy control circuit SW1-SW15 switch circuit TS0-TS3 three-
12
Claims (4)
前記メモリブロックのうち2つのメモリブロックにそれぞれ接続され、接続される2つのメモリブロックのいずれか一方のデータ線を外部データ線に接続する複数のスイッチ回路と、
予め不良のメモリブロックを不揮発的に記憶する第1機能および外部信号に基づいて不良のメモリブロックを記憶する第2機能を備えた複数のラッチ回路を有し、前記ラッチ回路の出力信号に基づいて前記スイッチ回路への切換信号を生成する冗長制御回路とを備え、
前記冗長制御回路は、前記ラッチ回路において前記第1機能が使用されているときに前記第2機能の前記外部信号の入力を禁止する禁止回路を備えていることを特徴とする半導体記憶装置。 A plurality of memory blocks including redundant memory blocks;
A plurality of switch circuits connected to two of the memory blocks, respectively, and connecting one data line of the two connected memory blocks to an external data line;
A plurality of latch circuits having a first function for storing a defective memory block in advance in a nonvolatile manner and a second function for storing a defective memory block based on an external signal, and based on an output signal of the latch circuit A redundant control circuit for generating a switching signal to the switch circuit ,
The semiconductor memory device , wherein the redundancy control circuit includes a prohibition circuit that prohibits the input of the external signal of the second function when the first function is used in the latch circuit .
前記冗長制御回路は、前記ラッチ回路の出力信号をデコードして前記切換信号を生成するデコーダを備えていることを特徴とする半導体記憶装置。 The semiconductor memory device according to claim 1.
The semiconductor memory device, wherein the redundancy control circuit includes a decoder that decodes an output signal of the latch circuit to generate the switching signal.
前記各スイッチ回路は、互いに隣接する2つのメモリブロック毎に設けられることを特徴とする半導体記憶装置。 The semiconductor memory device according to claim 1.
Each of the switch circuits is provided for every two memory blocks adjacent to each other.
冗長メモリブロックと、
前記通常メモリブロックのいずれかに不良が存在するとき、アクセスするメモリブロックを選択するための複数ビットの冗長制御信号を、不良の通常メモリブロックを示す論理レベルに設定する冗長制御回路と、
前記冗長制御信号が不良の通常メモリブロックを示すとき、その通常メモリブロックを無効にするとともに前記冗長メモリブロックを有効にする切換回路とを備え、
前記冗長制御回路は、
前記冗長制御信号のビット毎にそれぞれ設けられ、入力ノードで受ける信号の論理レベルを保持し、前記冗長制御信号の対応するビットを、保持している論理レベルに設定する複数のラッチ回路と、
前記ラッチ回路にそれぞれ対応して設けられ、不良の通常メモリブロックを示す論理レベルを予め記憶し、記憶している論理レベルの第1ラッチ設定信号を、対応するラッチ回路の入力ノードに出力する複数の不揮発性記憶回路と、
前記ラッチ回路にそれぞれ対応して設けられ、対応するラッチ回路が保持する論理レベルを変更するための第2ラッチ設定信号を受けて、対応するラッチ回路の入力ノードに出力する複数の入力回路と、
前記不揮発性記憶回路に記憶された前記第1ラッチ設定信号の論理レベルが不良の通常メモリブロックを示すときに不良信号を活性化させる不良信号生成回路と、
前記不良信号の活性化中、前記入力回路による前記第2ラッチ設定信号の出力動作を禁止する禁止回路とを備えていることを特徴とする半導体記憶装置。 Multiple normal memory blocks;
A redundant memory block;
A redundancy control circuit for setting a multi-bit redundancy control signal for selecting a memory block to be accessed to a logic level indicating the defective normal memory block when a defect exists in any of the normal memory blocks;
A switching circuit for invalidating the normal memory block and validating the redundant memory block when the redundant control signal indicates a defective normal memory block;
The redundant control circuit includes:
A plurality of latch circuits each provided for each bit of the redundancy control signal, holding a logic level of a signal received at an input node, and setting a corresponding bit of the redundancy control signal to a holding logic level;
A plurality of latch circuits provided in correspondence with the latch circuits, each of which stores in advance a logic level indicating a defective normal memory block, and outputs a first latch setting signal of the stored logic level to an input node of the corresponding latch circuit. A nonvolatile memory circuit of
A plurality of input circuits provided corresponding to the latch circuits, respectively, for receiving a second latch setting signal for changing a logic level held by the corresponding latch circuit and outputting the second latch setting signal to an input node of the corresponding latch circuit ;
A defect signal generation circuit that activates a defect signal when the logical level of the first latch setting signal stored in the nonvolatile memory circuit indicates a defective normal memory block;
A semiconductor memory device comprising: a prohibition circuit for prohibiting the output operation of the second latch setting signal by the input circuit during the activation of the defective signal .
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