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JP4595346B2 - Light emitting device material and light emitting device including the same - Google Patents
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JP4595346B2 - Light emitting device material and light emitting device including the same - Google Patents

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JP4595346B2 JP2004047733A JP2004047733A JP4595346B2 JP 4595346 B2 JP4595346 B2 JP 4595346B2 JP 2004047733 A JP2004047733 A JP 2004047733A JP 2004047733 A JP2004047733 A JP 2004047733A JP 4595346 B2 JP4595346 B2 JP 4595346B2
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、電気エネルギーを光に変換できる素子であって、表示素子、フラットパネルディスプレイ、バックライト、照明、インテリア、標識、看板、電子写真機、光信号発生器などの分野に利用可能な発光素子および発光素子用材料に関する。   The present invention is an element that can convert electrical energy into light, and can be used in the fields of display elements, flat panel displays, backlights, lighting, interiors, signs, signboards, electrophotographic machines, optical signal generators, and the like. The present invention relates to an element and a material for a light emitting element.

陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔が両極に挟まれた有機蛍光体内で再結合する際に発光するという有機積層薄膜発光素子の研究が近年活発に行われている。この素子は、薄型、低駆動電圧下での高輝度発光、蛍光材料を選ぶことによる多色発光が特徴であり注目を集めている。この研究は、コダック社のC.W.Tangらが有機積層薄膜素子が高輝度に発光することを示して以来、多くの研究機関が検討を行っている。   In recent years, research on an organic laminated thin film light emitting device in which light is emitted when electrons injected from a cathode and holes injected from an anode are recombined in an organic phosphor sandwiched between both electrodes has been actively conducted. This element is attracting attention because it is thin, has high luminance emission under a low driving voltage, and multicolor emission by selecting a fluorescent material. This study was conducted by C.D. W. Since Tang et al. Have shown that organic multilayer thin-film elements emit light with high brightness, many research institutions have studied.

フルカラーディスプレイの実現を目指して、発光材料は三原色(RGB)揃うことが求められ、これまでは緑色発光材料の研究が最も進んでおり、次いで青色発光材料が、そして最近では赤色発光材料において最も特性向上が望まれ、鋭意研究がなされている。発光材料には蛍光材料だけでなく、燐光材料なども検討されている。また、電荷輸送材料として、これまでは正孔輸送材料の研究が盛んであったが、最近では電子輸送材料も熱心に検討されている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照。)。
特開2000−119644号公報(17頁) 国際公開第00/03565号パンフレット(特許請求の範囲)
With the aim of realizing a full-color display, light emitting materials are required to have three primary colors (RGB), so far green light emitting materials have been studied most, followed by blue light emitting materials, and most recently red light emitting materials. Improvement is desired and earnest research has been done. As a light emitting material, not only a fluorescent material but also a phosphorescent material has been studied. In addition, as a charge transport material, research on a hole transport material has been active so far, but recently, an electron transport material has been eagerly studied (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).
JP 2000-119644 A (page 17) International Publication No. 00/03565 Pamphlet (Claims)

しかし、従来用いられている発光材料、正孔輸送材料、電子輸送材料は耐久性に劣るものが多い。これは、長時間の通電による素子からの発熱により結晶化し、素子寿命が短くなってしまうものである。一方、この結晶化を抑制するためにアモルファス性を付与した材料は、昇華性が低いため真空蒸着時に分解や重合などの変性が起こってしまうものが多い。   However, many of the light emitting materials, hole transport materials, and electron transport materials that are conventionally used have poor durability. This is because crystallization occurs due to heat generated from the element due to energization for a long time, and the element life is shortened. On the other hand, materials imparted with amorphous properties to suppress this crystallization often have degradation such as decomposition and polymerization during vacuum deposition because of their low sublimation properties.

また、これまでの材料を適用した発光素子は駆動電圧が高いものが多く、所望の輝度を得るために高い電圧を印加しなければならないため発光素子にかかる負荷が大きいことが実用化に対する障害となっていた。   In addition, many light-emitting elements using conventional materials have a high driving voltage, and a high voltage must be applied to obtain a desired luminance. It was.

本発明は、かかる従来技術の問題を解決し、駆動電圧が低く耐久性に優れた発光素子を提供することを目的とするものである。   An object of the present invention is to solve such problems of the prior art and to provide a light emitting device having a low driving voltage and excellent durability.

すなわち本発明は、陽極と陰極の間に少なくとも発光層および電子輸送層が順に積層され、電気エネルギーにより発光する素子であって、電子輸送層が一般式(1)で表される発光素子用材料を含む発光素子である。   That is, the present invention is an element in which at least a light emitting layer and an electron transport layer are sequentially laminated between an anode and a cathode and emits light by electric energy, and the electron transport layer is represented by the general formula (1). It is a light emitting element containing.

Figure 0004595346
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(ここでAは1,10−フェナントロリン骨格を有する置換基である。Bはベンゼン環、ターフェニル骨格、ナフタレン環の中から選ばれる少なくとも1種で表される。但し、Bがベンゼン環であるとき、全てのAは上記骨格にアルキル基および/またはアリール基を含む。nは2である。また、全ての1,10−フェナントロリン骨格は2位の位置でBと結合する。ただし、以下の式(2)で表される化合物を除く。(Here, A is a substituent having a 1,10-phenanthroline skeleton. B is represented by at least one selected from a benzene ring, a terphenyl skeleton, and a naphthalene ring, provided that B is a benzene ring. When all A include an alkyl group and / or an aryl group in the skeleton, n is 2. Also, all 1,10-phenanthroline skeletons are bonded to B at the 2-position, provided that Excluding the compound represented by formula (2).

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(式中、L(Where L 1 、Y, Y 2323 〜Y~ Y 2929 およびYAnd Y 3333 〜Y~ Y 3939 の組み合わせは以下の[1]〜[48]のいずれかである。)The combination is any one of [1] to [48] below. )

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本発明は、駆動電圧が低く、しかも耐久性に優れた発光素子を提供できるものである。   The present invention can provide a light-emitting element with low driving voltage and excellent durability.

本発明は、陽極と陰極の間に少なくとも発光層および電子輸送層が順に積層され、電気エネルギーにより発光する素子であって、電子輸送層が下記一般式(1)で表される発光素子用材料を含む。   The present invention is an element in which at least a light emitting layer and an electron transport layer are sequentially laminated between an anode and a cathode and emits light by electric energy, and the electron transport layer is represented by the following general formula (1). including.

Figure 0004595346
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ここでAは1,10−フェナントロリン骨格を有する置換基である。Bはベンゼン環、ターフェニル骨格、ナフタレン環の中から選ばれる少なくとも1種で表される。但し、Bがベンゼン環であるとき、全てのAは上記骨格にアルキル基および/またはアリール基を含む。nは2である。また、全ての1,10−フェナントロリン骨格は2位の位置でBと結合する。ただし、以下の式(2)で表される化合物を除く。 Here, A is a substituent having a 1,10-phenanthroline skeleton. B is represented by at least one selected from a benzene ring, a terphenyl skeleton, and a naphthalene ring. However, when B is a benzene ring, all A include an alkyl group and / or an aryl group in the skeleton. n is 2. All 1,10-phenanthroline skeletons are bonded to B at the 2-position. However, the compound represented by the following formula (2) is excluded.

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(式中、L(Where L 1 、Y, Y 2323 〜Y~ Y 2929 およびYAnd Y 3333 〜Y~ Y 3939 の組み合わせは以下の[1]〜[48]のいずれかである。)The combination is any one of [1] to [48] below. )

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ここで、ターフェニル骨格とはベンゼン環が3個連結した基であり、これらのベンゼン環同士はどの位置で連結していても良い。また、アルキル基とは例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの飽和脂肪族炭化水素基を示し、アリール基とは例えばフェニル基、トリル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基などの芳香族炭化水素基を示す。また、Aは同一であっても異なっていても良い。Bがベンゼン環であるとき、このBに結合する複数のAは全てアルキル基および/またはアリール基を含む。   Here, the terphenyl skeleton is a group in which three benzene rings are connected, and these benzene rings may be connected at any position. The alkyl group represents a saturated aliphatic hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and the aryl group represents, for example, a phenyl group, a tolyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, an anthryl group. An aromatic hydrocarbon group such as a group is shown. A may be the same or different. When B is a benzene ring, the plurality of A bonded to B all contain an alkyl group and / or an aryl group.

発光素子の駆動電圧を低く抑えるためには、材料のキャリア移動度が高い方が望ましい。このため一般式(1)のAとして1,10−フェナントロリン骨格を有する置換基がより好適に用いられる。また、材料の分子量が大きすぎると昇華性が低下して真空蒸着時に熱分解する確率が大きくなり、一方、材料の分子量が小さすぎると薄膜形成能に劣ることが多い。このため、一般式(1)のnは2である。   In order to keep the driving voltage of the light emitting element low, it is desirable that the material has high carrier mobility. Therefore, a substituent having a 1,10-phenanthroline skeleton is more preferably used as A in the general formula (1). In addition, if the molecular weight of the material is too large, the sublimation property is lowered, and the probability of thermal decomposition during vacuum deposition increases. On the other hand, if the molecular weight of the material is too small, the thin film forming ability is often poor. Therefore, n in the general formula (1) is 2.

一般式(1)のBがベンゼン環である場合、このBは合成の容易さから1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基が好ましく、この場合、全てのAは耐熱性の観点からアリール基を有していることが好ましい。このアリール基としては、合成の容易さ、及び昇華性の観点からフェニル基、p−トリル基、m−トリル基、3,5−ジメチルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基などの無置換または置換フェニル基や、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチル−1−ナフチル基などの無置換または置換ナフチル基がより好ましい。   When B in the general formula (1) is a benzene ring, this B is preferably a 1,4-phenylene group or a 1,3-phenylene group for ease of synthesis. In this case, all A are from the viewpoint of heat resistance. It preferably has an aryl group. As the aryl group, unsubstituted or substituted phenyl group, p-tolyl group, m-tolyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 4-t-butylphenyl group, etc. from the viewpoint of ease of synthesis and sublimation An unsubstituted or substituted naphthyl group such as a substituted phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a 2-methyl-1-naphthyl group is more preferable.

また、一般式(1)のBがナフタレン環である場合、このBは合成の容易さから1,6−ナフチレン基、1,7−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基、2,7−ナフチレン基がより好ましい。また、一般式(1)のBがターフェニル骨格を有する置換基である場合、このBは昇華性の観点から少なくとも1つのベンゼン環がオルト位で連結しているターフェニル基であることがより好ましい。   Further, when B in the general formula (1) is a naphthalene ring, this B is a 1,6-naphthylene group, 1,7-naphthylene group, 2,6-naphthylene group, 2,7-naphthylene for ease of synthesis. Groups are more preferred. Further, when B in the general formula (1) is a substituent having a terphenyl skeleton, this B is more preferably a terphenyl group in which at least one benzene ring is connected at the ortho position from the viewpoint of sublimation. preferable.

一般式(1)で表される発光素子用材料は以下の方法で合成することができるが特に限定されるものではない。   The light emitting device material represented by the general formula (1) can be synthesized by the following method, but is not particularly limited.

一般式(1)で表される発光素子用材料を得る方法としては、一般式(1)のBに該当する化合物に反応性置換基を導入し、その後一般式(1)のAに変換する方法が好ましい。反応性置換基としては、アセチル基、ヨード基、ブロモ基などがあげられるが特に限定されるものではない。   As a method for obtaining a light emitting device material represented by the general formula (1), a reactive substituent is introduced into a compound corresponding to B in the general formula (1), and then converted to A in the general formula (1). The method is preferred. Examples of the reactive substituent include, but are not particularly limited to, an acetyl group, an iodo group, and a bromo group.

アセチル基の導入法としては、フリーデル・クラフツのアシル化があげられる。参考文献としては、特開平7−278537号公報の第27頁「実施例A.出発化合物(f)2,2’−ジアセチル−9,9’−スピロビフルオレン」やHelvetica Chimica Acta,vol.52(1969)第1210頁「Experimenteller Tell 2,2’−diacetyl−9,9’−spirobifluorene(IV)」などがあげられる。具体的には、一般式(1)のBに該当する化合物を1,2−ジクロロエタン中で50℃で塩化アセチルと塩化アルミニウムと反応させ、常法で処理し、アセチル基を導入することができる。塩化アセチルと塩化アルミニウムの当量を変えて、1〜4置換体を得ることができる。   An example of the method for introducing an acetyl group is acylation of Friedel-Crafts. Examples of references include “Example A. Starting compound (f) 2,2′-diacetyl-9,9′-spirobifluorene” on page 27 of JP-A-7-278537, Helvetica Chimica Acta, vol. 52 (1969), page 1210, "Experimenteller Tell 2,2'-diacetyl-9, 9'-spirobifluorene (IV)". Specifically, a compound corresponding to B in the general formula (1) can be reacted with acetyl chloride and aluminum chloride in 1,2-dichloroethane at 50 ° C. and treated in a conventional manner to introduce an acetyl group. . By changing the equivalent of acetyl chloride and aluminum chloride, 1 to 4 substituents can be obtained.

また、別法として、トリフルオロメタンスルフォニルオキシ基をパラジウム触媒によりアセチル基へ変換する方法も用いることができる。参考文献としては、J.Org.Chem.vol.57(1992)の第1481頁などがあげられる。具体的には、トリフルオロメタンスルフォニルオキシ基を有する一般式(1)のBに該当する化合物を、ジメチルホルムアミドとトリエチルアミン中、パラジウム触媒下、50〜120℃でブチルビニルエーテルと反応させ、常法で処理し、アセチル基を導入することができる。この方法においては、トリフルオロメタンスルフォニルオキシ基の代わりにブロモ基、ヨード基を用いてもアセチル基を導入することができる。   As another method, a method of converting a trifluoromethanesulfonyloxy group into an acetyl group with a palladium catalyst can be used. References include J.A. Org. Chem. vol. 57 (1992), page 1481. Specifically, a compound corresponding to B of the general formula (1) having a trifluoromethanesulfonyloxy group is reacted with butyl vinyl ether at 50 to 120 ° C. in a dimethylformamide and triethylamine under a palladium catalyst at a conventional method. Then, an acetyl group can be introduced. In this method, an acetyl group can also be introduced by using a bromo group or an iodo group in place of the trifluoromethanesulfonyloxy group.

ヨード基の導入については、参考文献として、Tetrahedron Letters,vol.38(1997)の第1487頁などがあげられる。具体的には、一般式(1)のBに該当する化合物を四塩化炭素中で50℃乃至60℃でヨウ素とビス(トリフルオロアセトキシ)ヨードベンゼンと反応させ、常法で処理し、ヨード基を導入することができる。   For introduction of an iodo group, Tetrahedron Letters, vol. 38 (1997), page 1487, and the like. Specifically, a compound corresponding to B in the general formula (1) is reacted with iodine and bis (trifluoroacetoxy) iodobenzene at 50 ° C. to 60 ° C. in carbon tetrachloride, treated in a conventional manner, and an iodo group Can be introduced.

ブロモ基の導入については、参考文献として、Angew.Chem.Int.Ed.Engl.25(1986)No.12の第1098頁などがあげられる。具体的には、一般式(1)のBに該当する化合物を室温で臭素と反応させ、常法で処理し、ブロモ基を導入することができる。臭素の当量を変えて、1〜4置換体を得ることができる。   For the introduction of bromo group, see Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 25 (1986) No. 25. 12 page 1098 and the like. Specifically, a compound corresponding to B in the general formula (1) can be reacted with bromine at room temperature and treated in a conventional manner to introduce a bromo group. By changing the equivalent of bromine, 1 to 4 substituents can be obtained.

上記反応性置換基を一般式(1)のAに変換する方法については、参考文献として、Tetrahedron Letters,vol.40(1999).第7312頁スキームやJ.Org.Chem.1996,61.第3020頁「2−Phenyl−1,10−phenanntoroline」、Tetrahedron Letters,vol.23(1982).第5291頁〜第5294頁などがあげられる。具体的には、一般式(1)のBに該当する化合物のアセチル体を水酸化カリウムの存在下、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコールまたはジオキサン中で50℃〜還流温度で8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒドまたは1−アミノ−2−ナフタレンカルボアルデヒドと反応させ、常法で処理する方法や、一般式(1)のBに該当する化合物のヨード体またはブロモ体をトルエン、THF等の溶媒中で−100℃〜50℃で金属リチウムやt−ブチルリチウム、n−ブチルリチウム等のアルキルリチウムでリチオ化し、次いで−20〜60℃でフェナントロリン類またはベンゾ[h]キノリン類と反応させ、常法で処理した後、得られた化合物を二酸化マンガン、ニトロベンゼン、クロラニル、DDQ、空気、酸素、水などで処理する方法などで、1,10−フェナントロリン骨格やベンゾ[h]キノリン骨格を導入することができる。   For a method for converting the reactive substituent to A in the general formula (1), Tetrahedron Letters, vol. 40 (1999). Page 7312 scheme and J.P. Org. Chem. 1996, 61. Page 3020 “2-Phenyl-1,10-phenanthroline”, Tetrahedron Letters, vol. 23 (1982). Page 5291 to page 5294. Specifically, the acetyl form of the compound corresponding to B in the general formula (1) is 8-amino-7 at 50 ° C. to reflux temperature in a lower alcohol such as ethanol or isopropyl alcohol or dioxane in the presence of potassium hydroxide. A method of reacting with quinoline carbaldehyde or 1-amino-2-naphthalene carbaldehyde and treating in a conventional manner, or an iodo or bromo form of a compound corresponding to B in the general formula (1) in a solvent such as toluene or THF Lithiation with metal lithium, alkyllithium such as t-butyllithium and n-butyllithium at −100 ° C. to 50 ° C., followed by reaction with phenanthrolines or benzo [h] quinolines at −20 to 60 ° C. After treatment by the method, the resulting compound is converted to manganese dioxide, nitrobenzene, chloranil, DDQ, air, oxygen, water In a method of treatment with etc., it can be introduced 1,10-phenanthroline skeleton or benzo [h] quinoline skeleton.

一般式(1)のAの骨格にアルキル基および/またはアリール基を含む場合は、一般式(1)のAの骨格を有する化合物をトルエン、THF等の溶媒中で−20〜60℃で、ここで導入されるアルキル基またはアリール基のリチオ化物であるアルキルリチウムあるいはアリールリチウムや、グリニア試薬であるハロゲン化アルキルマグネシウムあるいはハロゲン化アリールマグネシウムと反応させ、常法で処理した後、得られた化合物を二酸化マンガン、ニトロベンゼン、クロラニル,DDQ、空気、酸素、水などで処理することにより、Aの骨格にアルキル基あるいはアリール基を導入することができる。上記のアルキルリチウム、アリールリチウムは対応するハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリールに金属リチウムあるいはn−ブチルリチウム等のアルキルリチウムを反応させることにより得ることができ、ハロゲン化アルキルマグネシウム、ハロゲン化アリールマグネシウムは対応するハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリールに金属マグネシウムを反応させることにより得ることができる。   When the skeleton of A in the general formula (1) contains an alkyl group and / or an aryl group, the compound having the skeleton of the general formula (1) is -20 to 60 ° C in a solvent such as toluene or THF, The compound obtained after reacting with alkyllithium or aryllithium which is a lithiated product of alkyl group or aryl group introduced here, or alkylmagnesium halide or arylmagnesium halide which is a Grineer reagent and treating in a conventional manner Is treated with manganese dioxide, nitrobenzene, chloranil, DDQ, air, oxygen, water or the like, whereby an alkyl group or an aryl group can be introduced into the skeleton of A. The above alkyl lithium and aryl lithium can be obtained by reacting alkyl lithium such as metal lithium or n-butyl lithium with the corresponding alkyl halide or aryl halide. Alkyl magnesium halide or aryl magnesium halide can be obtained. It can be obtained by reacting magnesium metal with alkyl halide or aryl halide.

一般式(1)の化合物は、カラムクロマトグラフィー、再結晶、昇華等の精製法単独あるいは組み合わせにより精製することができる。カラムクロマトグラフィーでは、充填剤としてシリカゲル、アルミナ、フロリジルなどを用いて精製することができる。再結晶では、トルエン、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、エタノール、メタノール、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、n−ブチロラクトン、ニトロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、1−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ピリジン、トリエチルアミンなど、通常使用される溶剤を単独あるいは混合して使用することにより精製することができる。   The compound of the general formula (1) can be purified by purification methods such as column chromatography, recrystallization, sublimation alone or in combination. In column chromatography, it can be purified using silica gel, alumina, florisil or the like as a filler. In recrystallization, toluene, hexane, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethanol, methanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, n-butyrolactone, nitrobenzene, dichloromethane, chloroform, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, 1-methyl-2-pyrrolidone, It can be purified by using commonly used solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine, triethylamine, alone or in combination.

上記の発光素子用材料として、具体的には下記のような構造があげられるが特に限定されるものではない。   Specific examples of the light emitting device material include the following structures, but are not particularly limited.

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また、本発明は上記一般式(1)で表される発光素子用材料を含む発光素子である。   Moreover, this invention is a light emitting element containing the material for light emitting elements represented by the said General formula (1).

本発明の発光素子において陽極は、光を取り出すために透明であれば酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)などの導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロムなどの金属、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマーなど特に限定されるものでないが、ITOガラスやネサガラスを用いることが特に望ましい。透明電極の抵抗は素子の発光に十分な電流が供給できればよいので限定されないが、素子の消費電力の観点からは低抵抗であることが望ましい。例えば300Ω/□以下のITO基板であれば素子電極として機能するが、現在では10Ω/□程度の基板の供給も可能になっていることから、低抵抗品を使用することが特に望ましい。ITOの厚みは抵抗値に合わせて任意に選ぶ事ができるが、通常100〜300nmの間で用いられることが多い。また、ガラス基板はソーダライムガラス、無アルカリガラスなどが用いられ、また厚みも機械的強度を保つのに十分な厚みがあればよいので、0.5mm以上あれば十分である。ガラスの材質については、ガラスからの溶出イオンが少ない方がよいので無アルカリガラスの方が好ましいが、SiOなどのバリアコートを施したソーダライムガラスも市販されているのでこれを使用できる。ITO膜形成方法は、電子線ビーム法、スパッタリング法、化学反応法など特に制限を受けるものではない。 In the light emitting device of the present invention, if the anode is transparent for extracting light, a conductive metal oxide such as tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), or a metal such as gold, silver, or chromium, or iodide Inorganic conductive materials such as copper and copper sulfide, and conductive polymers such as polythiophene, polypyrrole, and polyaniline are not particularly limited, but it is particularly desirable to use ITO glass or Nesa glass. The resistance of the transparent electrode is not limited as long as a current sufficient for light emission of the element can be supplied. For example, an ITO substrate of 300 Ω / □ or less functions as an element electrode. However, since it is now possible to supply a substrate of about 10 Ω / □, it is particularly desirable to use a low resistance product. The thickness of ITO can be arbitrarily selected according to the resistance value, but is usually used in a range of 100 to 300 nm. Further, soda lime glass, non-alkali glass or the like is used for the glass substrate, and the thickness of the glass substrate only needs to be sufficient to maintain the mechanical strength, so 0.5 mm or more is sufficient. Regarding the material of the glass, non-alkali glass is preferred because it is better that ions eluted from the glass are less. However, soda lime glass having a barrier coat such as SiO 2 is also commercially available and can be used. The ITO film forming method is not particularly limited, such as an electron beam method, a sputtering method, or a chemical reaction method.

本発明の発光素子において陰極は、電子を本有機物層に効率良く注入できる物質であれば特に限定されないが、一般に白金、金、銀、銅、鉄、錫、亜鉛、アルミニウム、インジウム、クロム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどがあげられるが、電子注入効率をあげて素子特性を向上させるためにはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムまたはこれら低仕事関数金属を含む合金が有効である。しかし、これらの低仕事関数金属は、一般に大気中で不安定であることが多く、例えば、有機層に微量のリチウムやセシウム、マグネシウム(真空蒸着の膜厚計表示で1nm以下)をドーピングして安定性の高い電極を使用する方法が好ましい例として挙げることができるが、フッ化リチウムのような無機塩の使用も可能であることから特にこれらに限定されるものではない。更に電極保護のために白金、金、銀、銅、鉄、錫、アルミニウム、インジウムなどの金属、またはこれら金属を用いた合金、そしてシリカ、チタニア、窒化ケイ素などの無機物、ポリビニルアルコール、塩化ビニル、炭化水素系高分子などを積層することが好ましい例として挙げられる。これらの電極の作製法も抵抗加熱、電子線ビーム、スパッタリング、イオンプレーティング、コーティングなど導通を取ることができれば特に制限されない。   In the light emitting device of the present invention, the cathode is not particularly limited as long as it can efficiently inject electrons into the organic layer, but generally platinum, gold, silver, copper, iron, tin, zinc, aluminum, indium, chromium, lithium , Sodium, potassium, calcium, magnesium, etc., but lithium, sodium, potassium, calcium, magnesium, or alloys containing these low work function metals are effective for increasing the electron injection efficiency and improving device characteristics. . However, these low work function metals are generally unstable in the atmosphere. For example, the organic layer is doped with a small amount of lithium, cesium, or magnesium (1 nm or less in the thickness gauge display of vacuum deposition). A method using a highly stable electrode can be mentioned as a preferable example, but an inorganic salt such as lithium fluoride can also be used, and the method is not particularly limited thereto. Furthermore, for electrode protection, metals such as platinum, gold, silver, copper, iron, tin, aluminum, indium, or alloys using these metals, and inorganic substances such as silica, titania, silicon nitride, polyvinyl alcohol, vinyl chloride, Preferred examples include laminating hydrocarbon polymers. The method for producing these electrodes is not particularly limited as long as conduction can be achieved such as resistance heating, electron beam, sputtering, ion plating, and coating.

本発明の発光素子において発光物質とは、1)正孔輸送層/発光層、2)正孔輸送層/発光層/電子輸送層、3)発光層/電子輸送層、そして、4)以上の組合わせ物質を一層に混合した形態のいずれであってもよい。即ち、素子構成としては、上記1)〜3)の多層積層構造の他に4)のように発光材料単独または発光材料と正孔輸送材料や電子輸送材料を含む層を一層設けるだけでもよい。さらに、本発明の発光素子における発光物質は自ら発光するもの、その発光を助けるもののいずれにも該当し、発光に関与している化合物、層などを指すものである。   In the light emitting device of the present invention, the light emitting substance is 1) hole transport layer / light emitting layer, 2) hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer, 3) light emitting layer / electron transport layer, and 4) Any of the mixed substances may be mixed. That is, as the element structure, in addition to the multilayer laminated structure of the above 1) to 3), only the light emitting material alone or a layer containing the light emitting material and the hole transport material or electron transport material may be provided as in 4). Furthermore, the light-emitting substance in the light-emitting element of the present invention corresponds to both a substance that emits light by itself and a substance that assists the light emission, and refers to a compound, a layer, and the like that are involved in light emission.

本発明の発光素子において正孔輸送性材料は、電界を与えられた電極間において陽極からの正孔を効率良く輸送することが必要で、正孔注入効率が高く、注入された正孔を効率良く輸送することが望ましい。そのためにはイオン化ポテンシャルが小さく、しかも正孔移動度が大きく、さらに安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時および使用時に発生しにくい物質であることが要求される。   In the light emitting device of the present invention, the hole transporting material is required to efficiently transport holes from the anode between electrodes to which an electric field is applied, and the hole injection efficiency is high. It is desirable to transport well. For this purpose, it is required that the ionization potential is low, the hole mobility is high, the stability is high, and the trapping impurities are difficult to be generated during production and use.

このような条件を満たす物質として、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−メチルフェニル)−4,4’−ジフェニル−1,1’−ジアミンや、N,N’−ジナフチル−N,N’−ジフェニル−4,4’−ジフェニル−1,1’−ジアミンなどのトリフェニルアミン類、ビス(N−アリルカルバゾール)や、ビス(N−アルキルカルバゾール)類などのカルバゾール類、インドール誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン系化合物、ヒドラゾン系化合物、オキサジアゾール誘導体やフタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体に代表される複素環化合物、ポリマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカーボネートやスチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリシランなどがあげられる。   N, N′-diphenyl-N, N′-di (3-methylphenyl) -4,4′-diphenyl-1,1′-diamine, N, N′-dinaphthyl, and the like satisfying such conditions -Triphenylamines such as -N, N'-diphenyl-4,4'-diphenyl-1,1'-diamine, carbazoles such as bis (N-allylcarbazole) and bis (N-alkylcarbazole), Indole derivatives, pyrazoline derivatives, stilbene compounds, hydrazone compounds, oxadiazole derivatives, phthalocyanine derivatives, heterocyclic compounds typified by porphyrin derivatives, in the case of polymers, polycarbonates or styrene derivatives having the above-mentioned side chains, polyvinyl Examples thereof include carbazole and polysilane.

本発明における発光材料はホスト材料のみでも、ホスト材料とドーパント材料の組み合わせでも、いずれであってもよい。また、ドーパント材料はホスト材料の全体に含まれていても、部分的に含まれていても、いずれであってもよい。ドーパント材料は積層されていても、分散されていても、いずれであってもよい。   The light emitting material in the present invention may be either a host material alone or a combination of a host material and a dopant material. Further, the dopant material may be included in the entire host material, or may be included partially. The dopant material may be either laminated or dispersed.

本発明の発光素子に用いられる発光材料は、正孔輸送層あるいは直接陽極から受けとった正孔と、電子輸送層あるいは直接陰極から受け取った電子を効率よく再結合させることが必要である。   The light-emitting material used in the light-emitting element of the present invention needs to efficiently recombine holes received from the hole transport layer or the direct anode and electrons received from the electron transport layer or the direct cathode.

このような条件を満たす物質として、本発明の発光素子用材料が好ましいが、その他に発光体として知られているアントラセン、フェナンスレン、ピレン、ペリレン、クリセンなどの縮合環誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウムを始めとするキノリノール誘導体の金属錯体、ベンズオキサゾール誘導体、スチルベン誘導体、ベンズチアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、チオフェン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体やジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、キノリノール誘導体と異なる配位子を組み合わせた金属錯体、オキサジアゾール誘導体金属錯体、ベンズアゾール誘導体金属錯体、クマリン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ピロロピロール誘導体、シロール誘導体、ペリノン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、そして、ポリチオフェン誘導体などがあげられる。   The material for the light-emitting element of the present invention is preferable as a substance satisfying such conditions, but other condensed ring derivatives such as anthracene, phenanthrene, pyrene, perylene, chrysene, etc., which are known as light emitters, tris (8-quinolinolato) Metal complexes of quinolinol derivatives such as aluminum, benzoxazole derivatives, stilbene derivatives, benzthiazole derivatives, thiadiazole derivatives, thiophene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, cyclopentadiene derivatives, oxadiazole derivatives, bisstyrylanthracene derivatives and distyrylbenzene Bisstyryl derivatives such as derivatives, metal complexes combining quinolinol derivatives with different ligands, oxadiazole derivative metal complexes, benzazole derivative metal complexes, coumarin derivatives, Ropirijin derivatives, pyrrolopyrrole derivatives, silole derivatives, perinone derivatives, thiadiazolopyridine derivatives, the polymer system, polyphenylene vinylene derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polythiophene derivatives.

またドーパント材料を含む場合、発光材料に添加するドーパント材料は、ホスト材料からの再結合エネルギーを効率よく受け取ることが必要で、量子収率が高く、しかも濃度消光を起こしにくいことが望ましい。さらに安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時および使用時に発生しにくい物質であることが要求される。   When a dopant material is included, the dopant material added to the light-emitting material needs to efficiently receive recombination energy from the host material, and it is desirable that the quantum yield is high and concentration quenching is difficult to occur. Furthermore, it is required to be a substance that is excellent in stability and is unlikely to generate trapping impurities during manufacturing and use.

このような条件を満たす物質として、本発明の発光素子用材料が好ましいが、その他に、フェナンスレン、アントラセン、ピレン、テトラセン、ペンタセン、ペリレン、ナフトピレン、ジベンゾピレン、ルブレンなどの縮合環誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズトリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン誘導体、チオフェン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体やジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、ジアザインダセン誘導体、フラン誘導体、ベンゾフラン誘導体、フェニルイソベンゾフラン、ジメシチルイソベンゾフラン、ジ(2−メチルフェニル)イソベンゾフラン、ジ(2−トリフルオロメチルフェニル)イソベンゾフラン、フェニルイソベンゾフランなどのイソベンゾフラン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、7−ジアルキルアミノクマリン誘導体、7−ピペリジノクマリン誘導体、7−ヒドロキシクマリン誘導体、7−メトキシクマリン誘導体、7−アセトキシクマリン誘導体、3−ベンズチアゾリルクマリン誘導体、3−ベンズイミダゾリルクマリン誘導体、3−ベンズオキサゾリルクマリン誘導体などのクマリン誘導体、ジシアノメチレンピラン誘導体、ジシアノメチレンチオピラン誘導体、ポリメチン誘導体、シアニン誘導体、オキソベンズアンスラセン誘導体、キサンテン誘導体、ローダミン誘導体、フルオレセイン誘導体、ピリリウム誘導体、カルボスチリル誘導体、アクリジン誘導体、オキサジン誘導体、フェニレンオキサイド誘導体、キナクリドン誘導体、キナゾリン誘導体、ピロロピリジン誘導体、フロピリジン誘導体、1,2,5−チアジアゾロピレン誘導体、ピロメテン誘導体、ペリノン誘導体、ピロロピロール誘導体、スクアリリウム誘導体、ビオラントロン誘導体、フェナジン誘導体、アクリドン誘導体、ジアザフラビン誘導体などがあげられる。   The material for the light emitting device of the present invention is preferable as a substance satisfying such conditions, but in addition, condensed ring derivatives such as phenanthrene, anthracene, pyrene, tetracene, pentacene, perylene, naphthopylene, dibenzopyrene, rubrene, and benzoxazole derivatives , Benzthiazole derivatives, benzimidazole derivatives, benztriazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, imidazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, pyrazoline derivatives, stilbene derivatives, thiophene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, cyclopentadiene derivatives , Bisstyryl derivatives such as bisstyryl anthracene derivatives and distyrylbenzene derivatives, diazaindacene derivatives, furan derivatives Benzofuran derivatives, phenylisobenzofuran, dimesitylisobenzofuran, di (2-methylphenyl) isobenzofuran, di (2-trifluoromethylphenyl) isobenzofuran, isobenzofuran derivatives such as phenylisobenzofuran, dibenzofuran derivatives, 7-dialkyl Aminocoumarin derivatives, 7-piperidinocoumarin derivatives, 7-hydroxycoumarin derivatives, 7-methoxycoumarin derivatives, 7-acetoxycoumarin derivatives, 3-benzthiazolylcoumarin derivatives, 3-benzimidazolylcoumarin derivatives, 3-benzoxa Coumarin derivatives such as zolyl coumarin derivatives, dicyanomethylenepyran derivatives, dicyanomethylenethiopyran derivatives, polymethine derivatives, cyanine derivatives, oxobenzanthracene derivatives, Nthene derivatives, rhodamine derivatives, fluorescein derivatives, pyrylium derivatives, carbostyril derivatives, acridine derivatives, oxazine derivatives, phenylene oxide derivatives, quinacridone derivatives, quinazoline derivatives, pyrrolopyridine derivatives, furopyridine derivatives, 1,2,5-thiadiazolopyrene derivatives, Examples include pyromethene derivatives, perinone derivatives, pyrrolopyrrole derivatives, squarylium derivatives, violanthrone derivatives, phenazine derivatives, acridone derivatives, diazaflavin derivatives, and the like.

また、ドーパント材料として上記蛍光性(一重項発光)材料だけでなく、燐光性(三重項発光)材料も好ましく用いられる。具体的には、ポルフィリン白金錯体やトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム錯体、トリス{2−(2−チオフェニル)ピリジル}イリジウム錯体、トリス{2−(2−ベンゾチオフェニル)ピリジル}イリジウム錯体、トリス(2−フェニルベンゾチアゾール)イリジウム錯体、トリス(2−フェニルベンゾオキサゾール)イリジウム錯体、トリスベンゾキノリンイリジウム錯体、ビス(2−フェニルピリジル)(アセチルアセトナート)イリジウム錯体、ビス{2−(2−チオフェニル)ピリジル}イリジウム錯体、ビス{2−(2−ベンゾチオフェニル)ピリジル}(アセチルアセトナート)イリジウム錯体、ビス(2−フェニルベンゾチアゾール)(アセチルアセトナート)イリジウム錯体、ビス(2−フェニルベンゾオキサゾール)(アセチルアセトナート)イリジウム錯体、ビスベンゾキノリン(アセチルアセトナート)イリジウム錯体などがあげられる。   As the dopant material, not only the fluorescent (singlet light emission) material but also a phosphorescent (triplet light emission) material is preferably used. Specifically, porphyrin platinum complex, tris (2-phenylpyridyl) iridium complex, tris {2- (2-thiophenyl) pyridyl} iridium complex, tris {2- (2-benzothiophenyl) pyridyl} iridium complex, tris (2-phenylbenzothiazole) iridium complex, tris (2-phenylbenzoxazole) iridium complex, trisbenzoquinoline iridium complex, bis (2-phenylpyridyl) (acetylacetonato) iridium complex, bis {2- (2-thiophenyl) ) Pyridyl} iridium complex, bis {2- (2-benzothiophenyl) pyridyl} (acetylacetonato) iridium complex, bis (2-phenylbenzothiazole) (acetylacetonato) iridium complex, bis (2-phenylbenzooxa) Z Le) (acetylacetonato) iridium complex, bis benzoquinoline (acetylacetonate) iridium, etc. complex.

本発明の発光素子で用いられる電子輸送性材料は、電界を与えられた電極間において陰極からの電子を効率良く輸送することが必要で、電子注入効率が高く、注入された電子を効率良く輸送することが望ましい。そのためには電子親和力が大きく、しかも電子移動度が大きく、さらに安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時および使用時に発生しにくい物質であることが要求される。一方、正孔と電子の再結合バランスを考えた場合、電子輸送能力がそれ程高くなくても、陽極からの正孔が再結合せずに陰極側へ流れるのを効率よく阻止できる能力が高い材料であってもよく、このような材料であっても発光効率を向上させる効果は電子輸送能力が高い材料と同等に有する。したがって、本発明における電子輸送層は、正孔の移動を効率よく阻止できる正孔阻止層と同義であってもよい。   The electron transporting material used in the light-emitting device of the present invention needs to efficiently transport electrons from the cathode between electrodes to which an electric field is applied, has high electron injection efficiency, and transports injected electrons efficiently. It is desirable to do. For this purpose, it is required that the material has a high electron affinity, a high electron mobility, excellent stability, and a substance that does not easily generate trapping impurities during manufacturing and use. On the other hand, considering the recombination balance between holes and electrons, a material with a high ability to efficiently prevent holes from the anode from flowing to the cathode side without recombination even if the electron transport ability is not so high. Even if such a material is used, the effect of improving the light emission efficiency is equivalent to that of a material having a high electron transport capability. Therefore, the electron transport layer in the present invention may be synonymous with a hole blocking layer that can efficiently block the movement of holes.

このような条件を満たす物質として、本発明の発光素子用材料がより好ましいが、8−ヒドロキシキノリンアルミニウムに代表されるキノリノール誘導体金属錯体、トロポロン金属錯体、フラボノール金属錯体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、ナフタレン導体、クマリン誘導体、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、ベンゾキノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、チオフェン誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ジフェニルリンオキサイド誘導体、シロール誘導体、トリフェニルシラン誘導体、アルダジン誘導体、ビススチリル誘導体、ピラジン誘導体などがあげられる。   As a material satisfying such conditions, the material for a light-emitting element of the present invention is more preferable. However, quinolinol derivative metal complexes represented by 8-hydroxyquinoline aluminum, tropolone metal complexes, flavonol metal complexes, perylene derivatives, perinone derivatives, naphthalene. Conductor, coumarin derivative, pyridine derivative, quinoline derivative, quinoxaline derivative, benzoquinoline derivative, phenanthroline derivative, thiophene derivative, oxazole derivative, thiazole derivative, oxadiazole derivative, triazole derivative, benzothiazole derivative, benzoxazole derivative, benzimidazole derivative, Diphenylphosphorus oxide derivatives, silole derivatives, triphenylsilane derivatives, aldazine derivatives, bisstyryl derivatives, pyrazine derivatives, etc. That.

本発明における発光素子用材料は、電子輸送能と正孔阻止能が高いため、電子輸送性材料として用いる。   The material for a light-emitting element in the present invention is used as an electron-transporting material because of its high electron transporting ability and hole blocking ability.

以上の正孔輸送層、発光層、電子輸送層に用いられる材料は単独または二種類以上の物質を積層、混合して各層を形成することができるが、高分子結着剤としてポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリサルフォン、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂などの溶剤可溶性樹脂や、フェノール樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などの硬化性樹脂などに分散させて用いることも可能である。上記高分子結着剤は熱的に安定な薄膜を形成するために用いるものであり、通常はコーティング法やインクジェット法で形成される。   The materials used for the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer can be formed by laminating and mixing two or more kinds of substances, and each layer can be formed by using polyvinyl chloride as a polymer binder, Polycarbonate, polystyrene, poly (N-vinylcarbazole), polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polysulfone, polyamide, ethyl cellulose, vinyl acetate, ABS Used by dispersing in solvent-soluble resins such as resins and polyurethane resins, and curable resins such as phenol resins, xylene resins, petroleum resins, urea resins, melamine resins, unsaturated polyester resins, alkyd resins, epoxy resins, and silicone resins. Rukoto is also possible. The polymer binder is used to form a thermally stable thin film, and is usually formed by a coating method or an ink jet method.

本発明の発光素子における発光物質の形成方法は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタリング、分子積層法、コーティング法など特に限定されるものではないが、通常は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着が特性面で好ましい。層の厚みは、発光物質の抵抗値にもよるので限定することはできないが、1〜1000nmの間から選ばれる。   The method of forming the luminescent material in the light emitting device of the present invention is not particularly limited, such as resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, sputtering, molecular lamination method, coating method, etc. It is preferable in terms of characteristics. The thickness of the layer depends on the resistance value of the luminescent material and cannot be limited, but is selected from 1 to 1000 nm.

本発明において電気エネルギーとは主に直流電流を指すが、パルス電流や交流電流を用いることも可能である。電流値および電圧値は特に制限はないが、素子の消費電力、寿命を考慮するとできるだけ低いエネルギーで最大の輝度が得られるようにするべきである。   In the present invention, electrical energy mainly refers to a direct current, but a pulse current or an alternating current can also be used. The current value and the voltage value are not particularly limited, but the maximum luminance should be obtained with the lowest possible energy in consideration of the power consumption and lifetime of the element.

本発明の発光素子はマトリクスタイプとして用いるのに適している。本発明においてマトリクスとは、表示のための画素が格子状に配置されたものをいい、画素の集合で文字や画像を表示する。画素の形状、サイズは用途によって決まる。例えばパソコン、モニター、テレビの画像および文字表示には、通常一辺が300μm以下の四角形の画素が用いられるし、表示パネルのような大型ディスプレイの場合は、一辺がmmオーダーの画素を用いることになる。モノクロ表示の場合は、同じ色の画素を配列すればよいが、カラー表示の場合には、赤、緑、青の画素を並べて表示させる。この場合、典型的にはデルタタイプとストライプタイプがある。そして、このマトリクスの駆動方法としては、線順次駆動方法やアクティブマトリックスのどちらでもよい。線順次駆動の方が構造が簡単であるという利点があるが、動作特性を考慮した場合、アクティブマトリックスの方が優れる場合があるので、これも用途によって使い分けることが必要である。   The light emitting device of the present invention is suitable for use as a matrix type. In the present invention, the matrix refers to a matrix in which pixels for display are arranged in a lattice pattern, and a character or an image is displayed by a set of pixels. The shape and size of the pixel are determined by the application. For example, a square pixel with a side of 300 μm or less is usually used for displaying images and characters on a personal computer, monitor, television, and a pixel with a side of mm order is used for a large display such as a display panel. . In monochrome display, pixels of the same color may be arranged, but in color display, red, green, and blue pixels are displayed side by side. In this case, there are typically a delta type and a stripe type. The matrix driving method may be either a line sequential driving method or an active matrix. The line-sequential driving has an advantage that the structure is simple. However, the active matrix may be superior in consideration of the operation characteristics, so that it is necessary to properly use it depending on the application.

本発明における発光素子はセグメントタイプとして用いるのに適している。本発明においてセグメントタイプとは、予め決められた情報を表示するようにパターンを形成し、決められた領域を発光させることになる。例えば、デジタル時計や温度計における時刻や温度表示、オーディオ機器や電磁調理器などの動作状態表示、自動車のパネル表示などがあげられる。そして、前記マトリクス表示とセグメント表示は同じパネルの中に共存していてもよい。   The light emitting device in the present invention is suitable for use as a segment type. In the present invention, the segment type means that a pattern is formed so as to display predetermined information, and a predetermined region is caused to emit light. For example, the time and temperature display in a digital clock or a thermometer, the operation status display of an audio device or an electromagnetic cooker, the panel display of an automobile, etc. The matrix display and the segment display may coexist in the same panel.

本発明における発光素子はバックライトとして用いるのに適している。本発明においてバックライトとは、主に自発光しない表示装置の視認性を向上させる目的に使用され、液晶表示装置、時計、オーディオ機器、自動車パネル、表示板、標識などに使用される。特に液晶表示装置、中でも薄型化が課題となっているパソコン用途のバックライトとしては、従来方式のものが蛍光灯や導光板からなっているため薄型化が困難であることを考えると本発明におけるバックライトは、薄型、軽量が特徴になる。   The light emitting element in the present invention is suitable for use as a backlight. In the present invention, the backlight is used mainly for the purpose of improving the visibility of a display device that does not emit light, and is used for a liquid crystal display device, a clock, an audio device, an automobile panel, a display board, a sign, and the like. In particular, as a backlight for a liquid crystal display device, in particular, a personal computer application for which thinning is an issue, it is difficult to reduce the thickness of the conventional method because it is made of a fluorescent lamp or a light guide plate. The backlight is thin and lightweight.

以下、実施例および比較例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated, this invention is not limited to these examples.

実施例1(ETM−1の合成)
8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒド 101gを1,3−ジアセチルベンゼン(東京化成工業(株)製) 45g、85%水酸化カリウム 100gとエタノール1800ml中で還流下10時間反応させ、常法で処理し、1,3−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 100gを得た。この1,3−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 40.8gをトルエン750ml中でフェニルリチウム(0.94M シクロヘキサン/エーテル溶液)00mlと氷冷化で2.5時間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をニトロベンゼン 118gと110℃で3時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−1を22.8g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.75(s,1H)、8.72(d・d,2H)、8.57−8.17(m,12H)、7.90−7.82(m,5H)、7.61−7.48(m,6H)。
Example 1 (Synthesis of ETM-1)
101 g of 8-amino-7-quinolinecarbaldehyde was reacted in 45 g of 1,3-diacetylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 100 g of 85% potassium hydroxide and 1800 ml of ethanol for 10 hours under reflux, and treated in the usual manner As a result, 100 g of 1,3-di (1,10-phenanthrolin-2-yl) benzene was obtained. 40.8 g of this 1,3-di (1,10-phenanthrolin-2-yl) benzene was reacted with 00 ml of phenyllithium (0.94M cyclohexane / ether solution) in 750 ml of toluene for 2.5 hours with ice cooling, Processed in the usual way. The obtained product was reacted with 118 g of nitrobenzene at 110 ° C. for 3 hours and treated in a conventional manner to obtain 22.8 g of ETM-1 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.75 (s, 1H), 8.72 (d · d, 2H), 8.57-8.17 (m, 12H), 7.90-7. 82 (m, 5H), 7.61-7.48 (m, 6H).

ETM−1の別途合成:1,10−フェナントロリン 9.64gをトルエン250ml中でフェニルリチウム(1.07M シクロヘキサン/エーテル溶液)100mlと0℃で1.5時間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン300ml中で、二酸化マンガン 93.0gと室温で56時間反応させ、常法で処理し、2−フェニル−1,10−フェナントロリンを9.44g得た。1,3−ジブロモベンゼン 0.34mlのTHF溶液(25ml)に−78℃でt−ブチルリチウム(1.53M ペンタン溶液)7.35mlを加え、1時間攪拌後、0℃に昇温した。この溶液を上記得られた2−フェニル−1,10−フェナントロリン 1.44gのTHF溶液(85ml)に加え、室温で20時間攪拌後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン85ml中で二酸化マンガン 8.50gと室温で23時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−1を1.08g得た。   Separate synthesis of ETM-1: 9.64 g of 1,10-phenanthroline was reacted with 100 ml of phenyllithium (1.07 M cyclohexane / ether solution) in 250 ml of toluene at 0 ° C. for 1.5 hours and treated in a conventional manner. The obtained product was reacted with 93.0 g of manganese dioxide at room temperature for 56 hours in 300 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 9.44 g of 2-phenyl-1,10-phenanthroline. To 0.34 ml of THF solution (25 ml) of 1,3-dibromobenzene, 7.35 ml of t-butyllithium (1.53 M pentane solution) was added at −78 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour and then heated to 0 ° C. This solution was added to the above-obtained 2-phenyl-1,10-phenanthroline (1.44 g) in THF (85 ml), stirred at room temperature for 20 hours, and then treated in the usual manner. The obtained product was reacted with 8.50 g of manganese dioxide in 85 ml of dichloromethane at room temperature for 23 hours and treated in a conventional manner to obtain 1.08 g of ETM-1 represented by the following formula.

尚、このETM−1は、油拡散ポンプを用いて1.0×10−3Paの圧力下、約320℃で昇華精製を行ってから発光素子に使用した。 This ETM-1 was used for a light emitting device after sublimation purification at about 320 ° C. under a pressure of 1.0 × 10 −3 Pa using an oil diffusion pump.

Figure 0004595346
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実施例2(ETM−2の合成)
1−ブロモナフタレン(東京化成工業(株)製) 11.9gとリチウム 1.6gをジエチルエーテル58ml中で室温で3時間反応させ、生成した濃紫色溶液を、1,4−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 5.0gのトルエン懸濁液(100ml)に室温で滴下した。室温で3日間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400ml中で、二酸化マンガン 100gと室温で3時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−2を1.14g得た。H−NMR(CDCl,ppm):8.55−7.16(m,30H)。
Example 2 (Synthesis of ETM-2)
1-bromonaphthalene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 11.9 g and 1.6 g of lithium were reacted in 58 ml of diethyl ether at room temperature for 3 hours, and the resulting deep purple solution was subjected to 1,4-di (1,10 -Phenanthrolin-2-yl) benzene To a suspension of 5.0 g of toluene (100 ml), dropwise at room temperature. After reacting at room temperature for 3 days, it was treated in a conventional manner. The obtained product was reacted with 100 g of manganese dioxide at room temperature for 3 hours in 400 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 1.14 g of ETM-2 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 8.55-7.16 (m, 30H).

尚、このETM−2は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-2 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例3(ETM−3の合成)
2,7−ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業(株)製) 54.0gをジクロロメタン680mlピリジン136mlに溶解させ、0℃でトリフルオロメタンスルホン酸無水物(東京化成工業(株)製)228gを滴下した。5℃で2時間、次いで室温で1日間反応させた後、常法で処理し、2,7−ビス(トリフルオロメタンスルフォニルオキシ)ナフタレン 143gを得た。この2,7−ビス(トリフルオロメタンスルフォニルオキシ)ナフタレン 143gをn−ブチルビニルエーテル(東京化成工業(株)製)216ml、トリエチルアミン 113ml、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(東京化成工業(株)製)2.78g、酢酸パラジウム(和光純薬工業(株)製)0.76g、ジメチルホルムアミド 680mlと混合し、70〜85℃で2日間反応させた。常法で処理し、2,7−ジアセチルナフタレン 40gを得た。この2,7−ジアセチルナフタレン 4.62gをエタノール220ml中60℃で8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒド 7.87g、水酸化カリウム 7.9gと反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−3を4.44g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.29(d・d,2H)、8.97(s,2H)、8.64(d・d,2H)、8.41−8.27(m,6H)、8.09(d,2H)、7.89−7.79(m,4H)、7.67(d・d,2H)。
Example 3 (Synthesis of ETM-3)
54.0 g of 2,7-dihydroxynaphthalene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 136 ml of 680 ml of dichloromethane and 228 g of trifluoromethanesulfonic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise at 0 ° C. The mixture was reacted at 5 ° C. for 2 hours and then at room temperature for 1 day, and then treated in a conventional manner to obtain 143 g of 2,7-bis (trifluoromethanesulfonyloxy) naphthalene. 143 g of 2,7-bis (trifluoromethanesulfonyloxy) naphthalene is 216 ml of n-butyl vinyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 113 ml of triethylamine, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) )) 2.78 g, palladium acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.76 g and 680 ml of dimethylformamide were mixed and reacted at 70 to 85 ° C. for 2 days. It processed by the conventional method and obtained 40 g of 2,7- diacetylnaphthalene. 4.62 g of this 2,7-diacetylnaphthalene was reacted with 7.87 g of 8-amino-7-quinolinecarbaldehyde and 7.9 g of potassium hydroxide in 220 ml of ethanol at 60 ° C., treated in a conventional manner, and represented by the following formula 4.44 g of ETM-3 was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.29 (d · d, 2H), 8.97 (s, 2H), 8.64 (d · d, 2H), 8.41-8.27 ( m, 6H), 8.09 (d, 2H), 7.89-7.79 (m, 4H), 7.67 (d · d, 2H).

尚、このETM−3は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-3 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
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実施例4(ETM−4の合成)
実施例3の方法で合成したETM−3 5.48gをトルエン200ml中でフェニルリチウム(2.0M シクロヘキサン/エーテル溶液)22.6mlと室温で2日間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400ml中で、二酸化マンガン 100gと室温で2.5時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−4を0.93g得た。H−NMR(CDCl,ppm):8.96(s,2H)、8.86(d・d,2H)、8.61−8.51(m,4H)、8.42−8.34(m,6H)、8.18(d・d,4H)、7.84(m,4H)、7.65−7.48(m,6H)。
Example 4 (Synthesis of ETM-4)
5.48 g of ETM-3 synthesized by the method of Example 3 was reacted with 22.6 ml of phenyllithium (2.0 M cyclohexane / ether solution) in 200 ml of toluene at room temperature for 2 days and treated in a conventional manner. The obtained product was reacted with 100 g of manganese dioxide at room temperature for 2.5 hours in 400 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 0.93 g of ETM-4 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 8.96 (s, 2H), 8.86 (d · d, 2H), 8.61-8.51 (m, 4H), 8.42-8. 34 (m, 6H), 8.18 (d, d, 4H), 7.84 (m, 4H), 7.65-7.48 (m, 6H).

尚、このETM−4は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-4 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例5(ETM−5の合成)
2,7−ジヒドロキシナフタレンの替わりに1,5−ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業(株)製)を用いた他は実施例3と同様にして下記式に示すETM−5を4.60g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.22(d・d,2H)、8.39(d,2H)、8.29(d・d,2H)、8.16(d,2H)、7.98−7.85(m,8H)、7.67−7.54(m,4H)。
Example 5 (Synthesis of ETM-5)
4.60 g of ETM-5 represented by the following formula was obtained in the same manner as in Example 3, except that 1,5-dihydroxynaphthalene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 2,7-dihydroxynaphthalene. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.22 (d · d, 2H), 8.39 (d, 2H), 8.29 (d · d, 2H), 8.16 (d, 2H) 7.98-7.85 (m, 8H), 7.67-7.54 (m, 4H).

尚、このETM−5は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   In addition, this ETM-5 was used for the light emitting element after performing sublimation purification in the same manner as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例6(ETM−6の合成)
1,2−ジブロモベンゼン(東京化成工業(株)製)4.03g、4−アセチルフェニルボロン酸(アルドリッチ社製)7.0g、炭酸カリウム 11.8g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(東京化成工業(株)製)0.987g、水 35ml、1,4−ジオキサン 85mlを混合し、100℃で1日間反応させた。常法で処理し、1,2−ジ(4−アセチルフェニル)ベンゼン 3.8gを得た。この1,2−ジ(4−アセチルフェニル)ベンゼン 3.7gをエタノール120ml中60℃で8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒド 4.26g、水酸化カリウム 3.89gと反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−6を6.52g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.21(d・d,2H)、8.27−8.21(m,8H)、8.06(d,2H)7.80−7.72(m,4H)、7.61(d・d,2H)、7.56−7.51(m,4H)、7.41(d,4H)。
Example 6 (Synthesis of ETM-6)
1,3-dibromobenzene (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.03 g, 4-acetylphenylboronic acid (Aldrich) 7.0 g, potassium carbonate 11.8 g, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (Tokyo Kasei) 0.987 g (manufactured by Kogyo Co., Ltd.), 35 ml of water, and 85 ml of 1,4-dioxane were mixed and reacted at 100 ° C. for 1 day. It processed by the conventional method and obtained 3.8g of 1, 2- di (4-acetylphenyl) benzene. 3.7 g of 1,2-di (4-acetylphenyl) benzene was reacted with 4.26 g of 8-amino-7-quinolinecarbaldehyde and 3.89 g of potassium hydroxide in 120 ml of ethanol at 60 ° C. and treated in a conventional manner. As a result, 6.52 g of ETM-6 represented by the following formula was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.21 (d · d, 2H), 8.27-8.21 (m, 8H), 8.06 (d, 2H) 7.80-7.72 (M, 4H), 7.61 (d · d, 2H), 7.56-7.51 (m, 4H), 7.41 (d, 4H).

尚、このETM−6は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-6 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例7(ETM−7の合成)
1,2−ジブロモベンゼンの替わりに1,3−ジブロモベンゼン(東京化成工業(株)製)を用いた他は実施例6と同様にして下記式に示すETM−7を8.4g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.26(d・d,2H)、8.48(d,4H)、8.35−8.16(m,6H)、8.01(s,1H)、7.90−7.63(m,13H)。
Example 7 (Synthesis of ETM-7)
8.4 g of ETM-7 represented by the following formula was obtained in the same manner as in Example 6 except that 1,3-dibromobenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 1,2-dibromobenzene. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.26 (d · d, 2H), 8.48 (d, 4H), 8.35-8.16 (m, 6H), 8.01 (s, 1H), 7.90-7.63 (m, 13H).

尚、このETM−7は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-7 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例8(ETM−8の合成)
4−アセチルフェニルボロン酸の替わりに3−アセチルフェニルボロン酸(アルドリッチ社製)を用いた他は実施例7と同様にして下記式に示すETM−8を4.94g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.20(d・d,2H)、8.53(t,2H)、8.39(d,2H)、8.33−8.16(m,6H)、8.07(s,1H)、7.83−7.59(m,13H)。
Example 8 (Synthesis of ETM-8)
In the same manner as in Example 7 except that 3-acetylphenylboronic acid (manufactured by Aldrich) was used instead of 4-acetylphenylboronic acid, 4.94 g of ETM-8 represented by the following formula was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.20 (d · d, 2H), 8.53 (t, 2H), 8.39 (d, 2H), 8.33-8.16 (m, 6H), 8.07 (s, 1H), 7.83-7.59 (m, 13H).

尚、このETM−8は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-8 was used for a light emitting device after sublimation purification in the same manner as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

参考例1(ETM−9の合成)
8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒドの替わりに1−アミノ−2−ナフタレンカルボアルデヒド用いた他は実施例3と同様にして下記式に示すETM−9を5.12g得た。H−NMR(CDCl,ppm):8.40(d,2H)、8.10(m,2H)、7.82−7.32(m,18H)。
Reference Example 1 (Synthesis of ETM-9)
5.12 g of ETM-9 represented by the following formula was obtained in the same manner as in Example 3 except that 1-amino-2-naphthalenecarbaldehyde was used instead of 8-amino-7-quinolinecarbaldehyde. 1 H-NMR (CDCl 3, ppm): 8.40 (d, 2H), 8.10 (m, 2H), 7.82-7.32 (m, 18H).

尚、このETM−9は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-9 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例9(ETM−10の合成)
1−ブロモ−4−t−ブチルベンゼン(東京化成工業(株)製) 5.88gとリチウム 0.76gをジエチルエーテル50ml中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、1,3−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 4.0gのトルエン懸濁液(150ml)に氷冷下で滴下した。氷冷下で1時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン150ml中で、二酸化マンガン 66gと室温で30分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−10を3.65g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.81(s,1H)、8.71(d・d,2H)、8.51−8.38(m,8H)、8.31(d,2H)、8.14(d,2H)、7.88−7.81(m,5H)、7.58(d,4H)、1.43(s,18H)。
Example 9 (Synthesis of ETM-10)
1-Bromo-4-t-butylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 5.88 g and 0.76 g of lithium were reacted in 50 ml of diethyl ether under reflux for 5 hours. Di (1,10-phenanthrolin-2-yl) benzene was added dropwise to 4.0 g of toluene suspension (150 ml) under ice cooling. The reaction was carried out for 1 hour under ice-cooling and then treated in the usual manner. The obtained product was reacted with 66 g of manganese dioxide at room temperature for 30 minutes in 150 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 3.65 g of ETM-10 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.81 (s, 1H), 8.71 (d · d, 2H), 8.51-8.38 (m, 8H), 8.31 (d, 2H), 8.14 (d, 2H), 7.88-7.81 (m, 5H), 7.58 (d, 4H), 1.43 (s, 18H).

尚、このETM−10は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   In addition, this ETM-10 was used for the light emitting element after performing sublimation purification in the same manner as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例10(ETM−11の合成)
5−ブロモ−m−キシレン(東京化成工業(株)製) 6.18gとリチウム 0.92gをジエチルエーテル50ml中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、1,3−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 3.63gのトルエン懸濁液(100ml)に氷冷下で滴下した。室温で2時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン200ml中で、二酸化マンガン 63gと室温で2時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−11を1.4g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.53(s,1H)、8.72(d・d,2H)、8.46−8.14(m,12H)、7.85−7.79(m,5H)、7.13(s,2H)、2.47(s,12H)。
Example 10 (Synthesis of ETM-11)
5-Bromo-m-xylene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 6.18 g and 0.92 g of lithium were reacted in 50 ml of diethyl ether under reflux for 5 hours, and the resulting gray solution was subjected to 1,3-di (1 , 10-phenanthrolin-2-yl) benzene The solution was added dropwise to 3.63 g of a toluene suspension (100 ml) under ice cooling. The mixture was reacted at room temperature for 2 hours and then treated in a conventional manner. The obtained product was reacted with 63 g of manganese dioxide at room temperature for 2 hours in 200 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 1.4 g of ETM-11 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.53 (s, 1H), 8.72 (d · d, 2H), 8.46-8.14 (m, 12H), 7.85-7. 79 (m, 5H), 7.13 (s, 2H), 2.47 (s, 12H).

尚、このETM−11は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-11 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例11(ETM−12の合成)
4−ブロモトルエン(東京化成工業(株)製) 6.84gとリチウム 1.1gをジエチルエーテル60ml中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、1,3−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 4.34gのトルエン懸濁液(100ml)に氷冷下で滴下した。氷冷下で2時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン200ml中で、二酸化マンガン 75gと室温で2時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−12を2.1g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.72(s,1H)、8.72(d・d,2H)、8.53−7.36(m,19H)、2.48(s,6H)。
Example 11 (Synthesis of ETM-12)
4-Bromotoluene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 6.84 g and 1.1 g of lithium were reacted in 60 ml of diethyl ether under reflux for 5 hours, and the resulting gray solution was converted into 1,3-di (1,10- Phenanthrolin-2-yl) benzene was added dropwise to 4.34 g of a toluene suspension (100 ml) under ice cooling. The reaction was allowed to proceed for 2 hours under ice-cooling, followed by a conventional process. The obtained product was reacted with 75 g of manganese dioxide at room temperature for 2 hours in 200 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 2.1 g of ETM-12 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.72 (s, 1H), 8.72 (d · d, 2H), 8.53-7.36 (m, 19H), 2.48 (s, 6H).

尚、このETM−12は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-12 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例12(ETM−13の合成)
1−ブロモナフタレン(東京化成工業(株)製) 3.57gとリチウム 0.48gをジエチルエーテル50ml中で室温で3時間反応させ、生成した濃紫色溶液を、1,3−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 2.5gのトルエン懸濁液(100ml)に氷冷下で滴下した。室温で2時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン500ml中で、二酸化マンガン 50gと室温で15分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−13を0.4g得た。H−NMR(CDCl,ppm):9.43(s,1H)、9.02(d,2H)、8.53(d,2H)、8.40(d,2H)、8.29−7.43(m,23H)。
Example 12 (Synthesis of ETM-13)
1-bromonaphthalene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.57 g and 0.48 g of lithium were reacted in 50 ml of diethyl ether at room temperature for 3 hours, and the resulting deep purple solution was treated with 1,3-di (1,10 -Phenanthrolin-2-yl) benzene To toluene suspension (100 ml) of 2.5 g was added dropwise under ice cooling. The mixture was reacted at room temperature for 2 hours and then treated in a conventional manner. The obtained product was reacted with 50 g of manganese dioxide at room temperature for 15 minutes in 500 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 0.4 g of ETM-13 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 9.43 (s, 1H), 9.02 (d, 2H), 8.53 (d, 2H), 8.40 (d, 2H), 8.29 -7.43 (m, 23H).

尚、このETM−13は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   In addition, this ETM-13 was used for the light emitting element after performing sublimation purification in the same manner as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

参考例2(ETM−14の合成)
1,4−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 2.5gをトルエン100ml中でフェニルリチウム(2.0M シクロヘキサン/エーテル溶液)11.5mlと氷冷下で1時間、次いで室温で4時間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400ml中で、二酸化マンガン 50gと室温で5分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−14を0.80g得た。H−NMR(CDCl,ppm):8.75(s,4H)、8.53(d,4H)、8.39−8.18(m,8H)、7.84(s,4H)、7.65−7.50(m,6H)。
Reference Example 2 (Synthesis of ETM-14)
2.5 g of 1,4-di (1,10-phenanthrolin-2-yl) benzene and 11.5 ml of phenyllithium (2.0 M cyclohexane / ether solution) in 100 ml of toluene for 1 hour under ice-cooling and then at room temperature The mixture was reacted for 4 hours and treated in a conventional manner. The obtained product was reacted with 50 g of manganese dioxide at room temperature for 5 minutes in 400 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 0.80 g of ETM-14 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 8.75 (s, 4H), 8.53 (d, 4H), 8.39-8.18 (m, 8H), 7.84 (s, 4H) 7.65-7.50 (m, 6H).

尚、このETM−14は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-14 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例13(ETM−15の合成)
1−ブロモ−4−t−ブチルベンゼン(東京化成工業(株)製) 3.68gとリチウム 0.48gをジエチルエーテル50ml中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、1,4−ジ(1,10−フェナントロリン−2−イル)ベンゼン 2.5gのトルエン懸濁液(150ml)に氷冷下で滴下した。氷冷下で3時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400ml中で、二酸化マンガン 55gと室温で15分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すETM−15を1.66g得た。H−NMR(CDCl,ppm):8.73(s,4H)、8.45−8.15(m,12H)、7.82(s,4H)、7.62−7.12(m,4H)、1.40(s,18H)。
Example 13 (Synthesis of ETM-15)
1-Bromo-4-t-butylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.68 g and 0.48 g of lithium were reacted in 50 ml of diethyl ether under reflux for 5 hours. Di (1,10-phenanthrolin-2-yl) benzene was added dropwise to 2.5 g of a toluene suspension (150 ml) under ice cooling. The reaction was allowed to proceed for 3 hours under ice-cooling and then treated in the usual manner. The obtained product was reacted with 55 g of manganese dioxide at room temperature for 15 minutes in 400 ml of dichloromethane and treated in a conventional manner to obtain 1.66 g of ETM-15 represented by the following formula. 1 H-NMR (CDCl 3 , ppm): 8.73 (s, 4H), 8.45-8.15 (m, 12H), 7.82 (s, 4H), 7.62-7.12 ( m, 4H), 1.40 (s, 18H).

尚、このETM−15は実施例1と同様に昇華精製を行ってから発光素子に使用した。   This ETM-15 was used for a light emitting device after sublimation purification as in Example 1.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例14
ITO透明導電膜を150nm堆積させたガラス基板(旭硝子(株)製、15Ω/□、電子ビーム蒸着品)を30×40mmに切断、エッチングを行った。得られた基板をアセトン、”セミコクリン56”(フルウチ化学(株)製)で各々15分間超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。続いてイソプロピルアルコールで15分間超音波洗浄してから熱メタノールに15分間浸漬させて乾燥させた。この基板を素子を作製する直前に1時間UV−オゾン処理し、真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が5×10−5Pa以下になるまで排気した。抵抗加熱法によって、まず正孔注入材料として、銅フタロシアニンを20nm、正孔輸送材料として、4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニルを100nm蒸着した。次に発光材料として、トリスキノリノールアルミニウム錯体(Alq3)を50nmの厚さに積層した。次に電子輸送材料として、前述のETM−1を100nmの厚さに積層した。次にリチウムを0.5nm有機層にドーピングした後、アルミニウムを200nm蒸着して陰極とし、5×5mm角の素子を作製した。ここで言う膜厚は水晶発振式膜厚モニター表示値である。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度200カンデラ/平方メートルの緑色発光が得られた。尚、輝度は輝度計(トプコン社製、BM−8)を視野角0.2度、レスポンス1msの条件で用いて測定した。このときの駆動電圧は5.5Vであった。この発光素子の耐久性は非常に優れたものであり、1mAの定電流駆動条件下において1000時間で85%の輝度を保持した。
Example 14
A glass substrate on which an ITO transparent conductive film was deposited to a thickness of 150 nm (Asahi Glass Co., Ltd., 15Ω / □, electron beam evaporated product) was cut into 30 × 40 mm and etched. The obtained substrate was ultrasonically washed with acetone and “Semicocrine 56” (manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd.) for 15 minutes, respectively, and then washed with ultrapure water. Subsequently, it was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol for 15 minutes and then immersed in hot methanol for 15 minutes to dry. This substrate was subjected to UV-ozone treatment for 1 hour immediately before producing the device, placed in a vacuum deposition apparatus, and evacuated until the degree of vacuum in the apparatus became 5 × 10 −5 Pa or less. By the resistance heating method, first, copper phthalocyanine was deposited to 20 nm as a hole injecting material, and 4,4′-bis (N- (1-naphthyl) -N-phenylamino) biphenyl was deposited to 100 nm as a hole transporting material. Next, a triskinolinol aluminum complex (Alq3) was laminated to a thickness of 50 nm as a light emitting material. Next, the above-mentioned ETM-1 was laminated to a thickness of 100 nm as an electron transport material. Next, after doping the organic layer with 0.5 nm of lithium, aluminum was vapor-deposited with a thickness of 200 nm to form a 5 × 5 mm square device. The film thickness mentioned here is a display value of a crystal oscillation type film thickness monitor. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, green light emission with a luminance of 200 candela / square meter was obtained. The luminance was measured using a luminance meter (Topcon, BM-8) under the conditions of a viewing angle of 0.2 degrees and a response of 1 ms. The driving voltage at this time was 5.5V. The durability of the light-emitting element was extremely excellent, and the luminance of 85% was maintained in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

また、この発光素子を真空セル内で1mAパルス駆動(Duty比1/60、パルス時の電流値60mA)させたところ、良好な発光が確認された。   Further, when this light emitting element was driven in a vacuum cell by 1 mA pulse (Duty ratio 1/60, current value at pulse 60 mA), good light emission was confirmed.

実施例1526
電子輸送材料として表1に記載した材料を用いた他は実施例14と全く同様にして発光素子を作製した。得られた発光素子の評価結果を表1に示す。
Examples 15-26
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 14 except that the materials listed in Table 1 were used as the electron transporting material. Table 1 shows the evaluation results of the obtained light-emitting element.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

比較例1
電子輸送材料として下記式に示すETM−16を用いた他は実施例14と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度200カンデラ/平方メートルの緑色発光が得られた。このときの駆動電圧は7.0Vであった。この発光素子は1mAの定電流駆動条件下において900時間で輝度が半減した。
Comparative Example 1
A light emitting device was produced in the same manner as in Example 14 except that ETM-16 represented by the following formula was used as the electron transport material. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, green light emission with a luminance of 200 candela / square meter was obtained. The drive voltage at this time was 7.0V. The luminance of this light emitting element was halved in 900 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

比較例2
電子輸送材料として下記式に示すETM−17を用いた他は実施例14と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度190カンデラ/平方メートルの緑色発光が得られた。このときの駆動電圧は6.8Vであった。この発光素子は1mAの定電流駆動条件下において1000時間で輝度が半減した。
Comparative Example 2
A light emitting device was produced in the same manner as in Example 14 except that ETM-17 represented by the following formula was used as the electron transporting material. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, green light emission with a luminance of 190 candela / square meter was obtained. The drive voltage at this time was 6.8V. The luminance of this light emitting element was halved in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

実施例27
発光材料として、ホスト材料としてトリスキノリノールアルミニウム錯体(Alq3)を、ゲスト材料として4−(ジシアノメチレン)−2−tブチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)−4H−ピラン(DCJTB)をドープ濃度が2%になるように用いた他は実施例14と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度200カンデラ/平方メートルの赤橙色発光が得られた。このときの駆動電圧は5.5Vであった。この発光素子の耐久性は非常に優れたものであり、1mAの定電流駆動条件下において1000時間で80%の輝度を保持した。
Example 27
Trisquinolinol aluminum complex (Alq3) as the host material and 4- (dicyanomethylene) -2-tbutyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9- as the guest material A light emitting device was produced in the same manner as in Example 14 except that enyl) -4H-pyran (DCJTB) was used so that the doping concentration was 2%. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, red-orange light emission with a luminance of 200 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 5.5V. The durability of the light-emitting element was extremely excellent, and the luminance of 80% was maintained in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

実施例2839
電子輸送材料として表2に記載した材料を用いた他は実施例27と全く同様にして発光素子を作製した。得られた発光素子の評価結果を表2に示す。
Examples 28-39
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 27 except that the materials listed in Table 2 were used as the electron transporting material. Table 2 shows the evaluation results of the obtained light-emitting element.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

比較例3
電子輸送材料として前述のETM−16を用いた他は実施例27と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度180カンデラ/平方メートルの赤橙色発光が得られた。このときの駆動電圧は7.5Vであった。この発光素子は1mAの定電流駆動条件下において1000時間で輝度が半減した。
Comparative Example 3
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 27 except that the above ETM-16 was used as the electron transport material. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, red-orange light emission with a luminance of 180 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 7.5V. The luminance of this light emitting element was halved in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

比較例4
電子輸送材料として前述のETM−17を用いた他は実施例27と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度180カンデラ/平方メートルの赤橙色発光が得られた。このときの駆動電圧は7.3Vであった。この発光素子は1mAの定電流駆動条件下において1000時間で輝度が半減した。
Comparative Example 4
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 27 except that ETM-17 was used as the electron transport material. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, red-orange light emission with a luminance of 180 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 7.3V. The luminance of this light emitting element was halved in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

実施例40
発光材料として、ホスト材料として4,4’−ビス(ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を、ゲスト材料としてビス(カルバゾリルビニル)ビフェニル(BCZVBi)をドープ濃度が5%になるように用いた他は実施例27と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度190カンデラ/平方メートルの青色発光が得られた。このときの駆動電圧は4.8Vであった。この発光素子はホスト材料が経時で結晶化するのに伴い、1mAの定電流駆動条件下において100時間で輝度が半減した。
Example 40
Other than using 4,4'-bis (diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) as the host material and bis (carbazolylvinyl) biphenyl (BCZVBi) as the guest material so that the doping concentration is 5% A light emitting device was fabricated in the same manner as in Example 27 . When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, blue light emission with a luminance of 190 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 4.8V. As the host material crystallized over time, the luminance of this light emitting element was reduced by half in 100 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

比較例5
電子輸送材料として前述のETM−17を用いた他は実施例40と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度150カンデラ/平方メートルの青色発光が得られた。このときの駆動電圧は6.5Vであった。この発光素子は1mAの定電流駆動条件下において10時間で輝度が半減した。
Comparative Example 5
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 40 , except that ETM-17 was used as the electron transport material. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting device, blue light emission with a luminance of 150 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 6.5V. The luminance of this light emitting element was halved in 10 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

実施例41
ホスト材料として、1,4−ジケト−2,5−ビス(3,5−ジメチルベンジル)−3,6−ビス(4−メチルフェニル)ピロロ[3,4−c]ピロールを、ゲスト材料として4,4−ジフルオロ−1,3,5,7−テトラフェニル−4−ボラ−3a,4a−ジアザ−インダセンをドープ濃度が1%になるように用いた他は実施例27と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度210カンデラ/平方メートルの赤色発光が得られた。このときの駆動電圧は5.2Vであった。この発光素子の耐久性は非常に優れたものであり、1mAの定電流駆動条件下において1000時間で80%の輝度を保持した。
Example 41
1,4-diketo-2,5-bis (3,5-dimethylbenzyl) -3,6-bis (4-methylphenyl) pyrrolo [3,4-c] pyrrole as the host material and 4 as the guest material , 4-difluoro-1,3,5,7-tetraphenyl-4-bora-3a, 4a-diaza-indacene was used in exactly the same manner as in Example 27 except that the doping concentration was 1%. An element was produced. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting element, red light emission with a luminance of 210 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 5.2V. The durability of the light-emitting element was extremely excellent, and the luminance of 80% was maintained in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

実施例4253
電子輸送材料として表3に記載した材料を用いた他は実施例41と全く同様にして発光素子を作製した。得られた発光素子の評価結果を表3に示す。
Examples 42-53
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 41 except that the materials listed in Table 3 were used as the electron transporting material. Table 3 shows the evaluation results of the obtained light-emitting element.

Figure 0004595346
Figure 0004595346

比較例6
電子輸送材料として前述のETM−16を用いた他は実施例41と全く同様にして発光素子を作製した。この発光素子に1mAの直流電流を流したところ、輝度200カンデラ/平方メートルの赤色発光が得られた。このときの駆動電圧は6.5Vであった。この発光素子は1mAの定電流駆動条件下において1000時間で輝度が半減した。
Comparative Example 6
A light emitting device was fabricated in exactly the same manner as in Example 41 except that the above ETM-16 was used as the electron transport material. When a direct current of 1 mA was passed through the light emitting device, red light emission with a luminance of 200 candela / square meter was obtained. The driving voltage at this time was 6.5V. The luminance of this light emitting element was halved in 1000 hours under a constant current driving condition of 1 mA.

実施例54
ITO透明導電膜を150nm堆積させたガラス基板(旭硝子(株)製、15Ω/□、電子ビーム蒸着品)を30×40mmに切断、フォトリソグラフィ法によって300μmピッチ(残り幅270μm)×32本のストライプ状にパターン加工した。ITOストライプの長辺方向片側は外部との電気的接続を容易にするために1.27mmピッチ(開口部幅800μm)まで広げてある。得られた基板をアセトン、”セミコクリン56”で各々15分間超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。続いてイソプロピルアルコールで15分間超音波洗浄してから熱メタノールに15分間浸漬させて乾燥させた。この基板を素子を作製する直前に1時間UV−オゾン処理し、真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が5×10−4Pa以下になるまで排気した。抵抗加熱法によって、まず正孔輸送材料として4,4’−ビス(N−(m−トリル)−N−フェニルアミノ)ビフェニルを150nm蒸着し、発光材料としてトリスキノリノールアルミニウム錯体を50nmの厚さに蒸着した。次に電子輸送材料として、前述のETM−1を100nmの厚さに積層した。ここで言う膜厚は水晶発振式膜厚モニター表示値である。次に厚さ50μmのコバール板にウエットエッチングによって16本の250μmの開口部(残り幅50μm、300μmピッチに相当)を設けたマスクを、真空中でITOストライプに直交するようにマスク交換し、マスクとITO基板が密着するように裏面から磁石で固定した。そしてリチウムを0.5nm有機層にドーピングした後、アルミニウムを200nm蒸着して32×16ドットマトリクス素子を作製した。本素子をマトリクス駆動させたところ、クロストークなく文字表示できた。
Example 54
A glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., 15Ω / □, electron beam evaporation product) on which ITO transparent conductive film is deposited to 150 nm is cut into 30 × 40 mm, and 300 μm pitch (remaining width 270 μm) × 32 stripes by photolithography. Patterned into a shape. One side of the ITO stripe in the long side direction is expanded to a 1.27 mm pitch (opening width 800 μm) in order to facilitate electrical connection with the outside. The obtained substrate was ultrasonically washed with acetone and “Semicocrine 56” for 15 minutes, respectively, and then washed with ultrapure water. Subsequently, it was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol for 15 minutes and then immersed in hot methanol for 15 minutes to dry. This substrate was subjected to UV-ozone treatment for 1 hour immediately before producing the device, placed in a vacuum deposition apparatus, and evacuated until the degree of vacuum in the apparatus became 5 × 10 −4 Pa or less. First, 4,4′-bis (N- (m-tolyl) -N-phenylamino) biphenyl is deposited as a hole transport material by 150 nm by resistance heating, and a triskinolinol aluminum complex is formed as a light emitting material to a thickness of 50 nm. Vapor deposited. Next, the above-mentioned ETM-1 was laminated to a thickness of 100 nm as an electron transport material. The film thickness mentioned here is a display value of a crystal oscillation type film thickness monitor. Next, the mask having 16 250 μm openings (corresponding to the remaining width of 50 μm and 300 μm pitch) formed by wet etching on a 50 μm thick Kovar plate was replaced in a vacuum so as to be orthogonal to the ITO stripe. And it fixed with the magnet from the back so that an ITO board | substrate might closely_contact | adhere. And after doping lithium with a 0.5 nm organic layer, aluminum was vapor-deposited 200 nm, and the 32x16 dot matrix element was produced. When this element was driven in matrix, characters could be displayed without crosstalk.

Claims (2)

陽極と陰極の間に少なくとも発光層および電子輸送層が順に積層され、電気エネルギーにより発光する素子であって、電子輸送層が一般式(1)で表される発光素子材料を含む発光素子。
Figure 0004595346
(ここでAは1,10−フェナントロリン骨格を有する置換基である。Bはベンゼン環、ターフェニル骨格、ナフタレン環の中から選ばれる少なくとも1種で表される。但し、Bがベンゼン環であるとき、全てのAは上記骨格にアルキル基および/またはアリール基を含む。nは2である。また、全ての1,10−フェナントロリン骨格は2位の位置でBと結合する。ただし、以下の式(2)で表される化合物を除く。
Figure 0004595346
(式中、L 、Y 23 〜Y 29 およびY 33 〜Y 39 の組み合わせは以下の[1]〜[48]のいずれかである。)
Figure 0004595346
Figure 0004595346
Figure 0004595346
A light-emitting element in which at least a light-emitting layer and an electron transport layer are sequentially stacked between an anode and a cathode and emits light by electric energy, and the electron transport layer includes a light-emitting element material represented by the general formula (1).
Figure 0004595346
(Here, A is a substituent having a 1,10-phenanthroline skeleton. B is represented by at least one selected from a benzene ring, a terphenyl skeleton, and a naphthalene ring, provided that B is a benzene ring. When all A include an alkyl group and / or an aryl group in the skeleton, n is 2. Also, all 1,10-phenanthroline skeletons are bonded to B at the 2-position, provided that Excluding the compound represented by formula (2).
Figure 0004595346
(Wherein, the combination of L 1, Y 23 to Y 29 and Y 33 to Y 39 is either of the following [1] to [48].)
Figure 0004595346
Figure 0004595346
Figure 0004595346
上記一般式(1)のBが1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,6−ナフチレン基、1,7−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基、2,7−ナフチレン基、少なくとも1つのベンゼン環がオルト位で連結しているターフェニル基の中から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の発光素子。 B in the general formula (1) is 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,6-naphthylene group, 1,7-naphthylene group, 2,6-naphthylene group, 2,7-naphthylene group. 2. The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device is at least one selected from terphenyl groups in which at least one benzene ring is linked at the ortho position.
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