JP4599232B2 - 加熱調理器 - Google Patents

Description

本発明は、一般家庭において使用される加熱調理器に関する。

従来、加熱庫に調理物を載置し、加熱庫外に設けた蒸気発生手段で発生させた１００度
Ｃ以下の低温スチームによって加熱庫内の調理物を低温加熱し、蒸し調理などをする調理
器が発明されている（例えば、特許文献１参照）。

また他の加熱調理器では、誘導加熱で加熱される加熱庫に、加熱庫と加熱庫外を連通し
ている蒸気排出手段を有するものが提供されている。

この加熱調理器においては、加熱庫内に調理物を水に浸した状態で収納して、加熱庫内
の水が１００度Ｃ以下（例えば、８０度Ｃから８５度Ｃ）になるように制御して加熱を行
っている。

その際、蒸気排出手段は常時開放されていることによって加熱庫内で発生した低温スチ
ームは加熱庫外に排出されている（例えば、特許文献２参照）。
特許第３０３５４９４号公報（第３頁、図１参照） 特開２００４−３２９４９２号公報（第８頁、図１参照）

しかしながら、特許文献１の加熱調理器は蒸気発生手段が加熱庫外に設けられているた
め、構造が複雑で低温スチームの温度を制御しにくいという問題があった。

また、特許文献２に示す従来の加熱調理器では、加熱調理中に蒸気排出手段は加熱庫内
と加熱庫外を連通して開放しているため、加熱庫外の酸素が加熱庫内に流入し、調理物が
酸化してしまうという問題があった。さらに、常時低温スチームが蒸気排出手段から加熱
庫外に排出されるため加熱庫内の水が減少し、加熱庫内に水を補給しなくてはならないと
いう問題があった。

本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、簡単な構成で低温スチームの
温度が制御でき、かつ加熱庫内をほぼ無酸素状態にして低温スチーム加熱を行うことがで
き、調理物の酸化を防ぐことが可能な加熱調理器を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明に係わる加熱調理器は、調理物と水を収容する加熱
庫と、前記加熱庫を加熱する第１の加熱手段と、前記加熱庫の内外間を開放及び遮断する
ことにより前記加熱庫を非密閉及び密閉した状態にすることが可能な蒸気排出手段と、前
記加熱庫内の温度を測定する第１の温度検知手段と、前記加熱庫内に蒸気が充満したこと
を検知する蒸気充満検知手段と、前記第１の加熱手段と前記蒸気排出手段を制御する制御
手段とを備え、前記制御手段は、前記蒸気排出手段が開放されていて前記加熱庫が非密閉
の状態にあるとき、前記第１の加熱手段で前記水を加熱して前記加熱庫内に蒸気を発生さ
せ、前記蒸気充満検知手段が、前記加熱庫内に前記蒸気が充満したと判断すると、前記蒸
気排出手段を遮断することにより前記加熱庫を密閉の状態とし、その後、密閉の状態を維
持しつつ、前記加熱庫内の温度が１００度Ｃ以下の所定温度となるよう前記第１の加熱手
段を制御して前記調理物を加熱調理することを主たる特徴とする。

本発明の加熱調理器によれば、密閉、非密閉状態が作り出せる加熱庫で蒸気を発生させ
るため、簡単な構成で低温スチームの温度を制御でき、かつ加熱庫内の酸素を除去した状
態で低温スチーム加熱を行うことにより、調理物の酸化を防止し、かつ調理物の加水分解
を促進することができる。

（実施例１）
本発明の加熱調理器の第１の実施形態を示す図１乃至図５を参照して説明する。

図１は、加熱調理器１は全体の概略構成を示す縦断面図である。図２は、加熱調理器１
の蒸気排出蓋２０が開放されている状態の拡大断面図である。図３は、加熱調理器１の電
気的構成を示す図である。図４は、「低温スチーム調理」の制御動作を時系列的に示す図
、図５は、調理物に対する低温スチームの加熱最適温度を示す図である。

図１に示すように、加熱調理器１の外郭は内部に収納部２ｃを有する本体２と本体２の
上部を覆う蓋体１０で構成されている。
そして、前記収納部２ｃには内鍋４が収納されており、この内鍋４は、収納部２ｃの上
面開口を前記蓋体１０で覆うことによって閉塞された状態となり、加熱庫３を形成する。

上記本体２は、非磁性体材料で椀状に形成された外部容器２ａと内部容器２ｂが重なっ
た２重構造をなして構成されている。
この外部容器２ａと内部容器２ｂの間には空間が設けられており、内部容器２ｂの底裏
面には誘導加熱をおこなう螺旋状の第１のコイル５（第１の加熱手段）が設置されている
。一方、内部容器２ｂの底面には、内鍋４に当接され温度検出をおこなう第２の温度検知
手段である第２のサーミスタ６が設けられている。
さらに、この内部容器２ｂの内部は金属製の内鍋４が収納できるように形成されており
、収納された内鍋４は取り外し可能となっている。

この内鍋４内には、調理物Ｃを載置できる載置台７が設けられており、この載置台７は
その載置面に小さな孔７ｂが複数形成されている円形のプレート７ａと、これを支える脚
７ｃにより構成をしている。
そして、プレート７ａの裏面と内鍋４内の底面は脚７ｃを介して隙間を有する態様をし
ている。なお、この載置台７は内鍋４から取り外し可能なものである。

また本体２の上部には、蓋ヒンジ１０ａにより蓋体１０が回動可能に設けられており、
収納部２ｃを開閉することができるようになっている。
上記蓋体１０は、外側から順に、非磁性体材料で形成される蓋外郭１１、非磁性体材料
で形成される蓋支え１２、及び磁性体材料である蓋内郭１３を備え、その構成としては本
体２と蓋ヒンジ１０ａで結合している蓋外郭１１の内側に下方に突状に形成された蓋支え
１２が設けられ、その蓋支え１２を下方から覆うように蓋内郭１３が設けられている。
前記蓋体１０上部には操作パネル１４が設けられ、この操作パネル１４は、「低温スチ
ーム調理」等の調理コースの選択、調理設定時間、加熱庫内温度（低温スチーム温度）な
どを入力する操作部１４ａと、ＬＣＤ等により操作部１４ａで設定された情報、調理の進
行状況などを使用者に報知する表示部１４ｂで構成されている（図３参照）。

そして蓋外郭１１と蓋支え１２の間には空間が形成されており、その空間の底部（蓋支
え１２の上面）には蓋内郭１３を誘導加熱する螺旋状の第２のコイル１５（第２の加熱手
段）が設けられている。
これら蓋外郭１１と蓋支え１２の中央部には、それぞれ孔が設けられており、蓋外郭１
１には外気につながる蒸気排出口１７が形成され、この蒸気排出口１７は蓋支え１２と連
通して蒸気排出路１６を形成している。
そして、上記蒸気排出路１６の下方側は蓋内郭１３の中央に形成される複数の蒸気孔１
８につながっており、この蒸気孔１８を介して収納部２ｃに連通される構成をしている。

また、この蒸気排出路１６と蓋内郭１３は、パッキン１９によって蓋内郭１３と蒸気排出
路１６の気密が保たれるようになっている。
一方、蒸気排出路１６の上方側には、蒸気排出蓋２０が設けられており、蓋外郭１１に
ヒンジ軸２０ａを介して蒸気排出路１６の出口である蒸気排出口１７を開閉できるように
回動可能に構成されている。

この蒸気排出蓋２０は、電磁石２１のプランジャー２１ａを介して開閉自在に制御され
る構成をしており、常態時はヒンジ軸２０ａを支点としてスプリング（図示せず）などで
開放方向に付勢されている（図２参照）。
一方、蒸気排出蓋２０の遮断時には電磁石２１が動作し、蒸気排出蓋２０の自由端側に
連結されたプランジャー２１ａが下方に吸引移動することで該蒸気排出蓋２０を遮断しそ
の状態に保持することで、環状のパッキン２０ｂを介して蒸気排出路１６と蒸気排出蓋２
０の密閉が確保される。しかして、蒸気排出路１６及びこれを開閉する蒸気排出蓋２０は
、加熱庫３に対する蒸気排出手段を構成している。

そして蓋内郭１３は、前述したように下方に突出した突状部１３ａが設けられており、
この突状部１３ａの蒸気孔１８付近には第１の温度検知手段である第１のサーミスタ２２
が設けられ、蓋内郭１３の温度を測定可能としている。
また上記突状部１３ａは、中央の蒸気孔１８部位から外周方向に向かって下降傾斜した
形態をしており、突状部１３ａの底面についた水滴Ｗを蓋内郭１３の外周方向に導く機能
を有している。
そして、突状部１３ａの外周端がプレート７ａの外周端より外側に位置しているため、
蒸気が突状部１３ａで凝縮して水滴Ｗとなった場合にも、この水滴Ｗは蓋内郭１３の外周
方向にむかって移動し、突状部１３ａの外周端辺りで水滴Ｗは内鍋４の底に落下する。そ
のため載置台７に載置した調理物Ｃに水滴Ｗが落下することがなく、調理物Ｃに余計な水
分が供給されることがない。

そして、蓋内郭１３の突状部１３ａ外側にはパッキン１３ｂが設けられており、このパ
ッキン１３ｂが、蓋体１０の閉塞時に内鍋４と密着することにより、内鍋４と蓋内郭１３
で内鍋４内を密閉閉塞し、前述した加熱庫３として加熱調理可能な空間を形成するように
なっている。

またさらに、蓋内郭１３から加熱庫３内には調理物内温度検知手段であるプローブ２３
が延出されて設けられており、このプローブ２３は、自在に湾曲可能に形成され、先端に
サーミスタが設けられて、調理物Ｃにその先端を挿入することによって調理物内の温度を
測定可能に構成されている。

次に、このような構造の加熱調理器１の電気的構成について、図３を参照して述べる。

図３に示すように制御手段である制御回路３０には、前述した操作パネル１４の操作部
１４ａによる信号と、第１のサーミスタ２２、第２のサーミスタ６、プローブ２３で検知
された温度情報が入力される構成をしている。

なお制御回路３０には、第１のサーミスタ２２から入力された蓋内郭１３の温度が、制
御回路３０に予め記憶されている蓋内郭１３の温度と加熱庫３内の温度の相関関係データ
に基づいて、所定の計算式で加熱庫３内の温度が計算できるようにプログラムが組み込ま
れている。
したがって制御回路３０は、第１のサーミスタ２２の温度検知により、蓋内郭１３の温
度と、加熱庫３内の温度の双方を測定することが可能となっている。

またこの制御回路３０からの信号により、電磁石２１、第１のトランジスタ３２、及び
第２のトランジスタ３３が制御される。そして、第１のトランジスタ３２及び第２のトラ
ンジスタ３３にそれぞれ接続されている第１のコイル５及び第２のコイル１５は、操作部
１４ａからの操作により使用者の設定に基づいたトランジスタの制御によって高周波が独
立して入力されるような構成となっている。

また商用電源３１からの入力は、入力検知手段３４により電流情報として検知され、制
御回路３０に入力される。

さらに「低温スチーム調理」等の調理コースの選択、調理設定時間、低温スチームの設
定温度などの必要な情報は操作手段である操作部１４ａにより制御回路３０に入力される
。
このようにして設定された情報、調理の進行状況などについてはＬＣＤ等を使用した表
示部１４ｂにより表示することで使用者にフィードバックする構成としている。

次に、上記説明した加熱調理器１の構成及び電気回路に基づき、「低温スチーム調理」
の動作について図４を参照して説明する。
なお図４（ａ）には、時間の経過による第２のサーミスタ６で測定した内鍋温度Ｋと、
第１のサーミスタ２２で測定して制御回路３０で計算された加熱庫内温度Ｈ、プローブ２
３で測定した調理物内温度Ｓと、水Ｌの温度ＬＴの温度変化を示し、そして同図（ｂ）に
は加熱庫３内の相対湿度を示し、さらに同図（ｃ）には第１のコイル５への入力電圧の推
移を示している。また、説明のため図中には時間の経過に従い時間Ａ〜Ｄのポイントを付
して示している。

まず、蓋体１０を開放し、内鍋４のプレート７ａに調理物Ｃを載置する。そして内鍋４
の底に適量（水量はプレート７ａの高さ以下まで）の水Ｌを注ぐ。そして調理物Ｃにプロ
ーブ２３を挿入して蓋体１０を閉めて加熱庫３を密閉する。
このとき、蒸気排出手段を構成する蒸気排出蓋２０は開放されており、加熱庫３と加熱
調理器１の外部とは蒸気排出路１６を介して連通されている。
この状態において、操作部１４ａで「低温スチーム調理」を動作させるべく、スチーム
設定温度Ｔを例えば調理する調理物Ｃの凝固点以下である７０度Ｃとし、調理設定時間Ｅ
を入力設定し、スタートキーで加熱調理を開始する（時間Ａ）。

操作部１４ａで入力した信号は、制御回路３０に入力され、第１のコイル５に信号を出
力することにより、商用電源３１から整流された高周波が第１のコイル５に通電され、第
１のコイル５から高周波磁界が発生する。
これに伴い、第１のコイル５に対向する内鍋４の底部に渦電流が発生し、内鍋４の抵抗
損によって内鍋４が誘導加熱される。
そして、図４（ａ）に示すように内鍋４の温度Ｋ（第２のサーミスタ６により測定）は
徐々に上昇し、内鍋４の温度を追いかける形で、水温ＬＴと加熱庫内温度Ｈが上昇してい
く（時間Ａ〜時間Ｂ）。
そして、水温が１００度Ｃ付近に達すると、貯水した水Ｌから大量の水蒸気が発生し、
加熱庫３内では相対湿度は１００％に至る。

さらに加熱され加熱庫内温度Ｈも１００度Ｃに達すると、加熱庫３内の空気は蒸気孔１
８、蒸気発生路１６を通って、蒸気発生口１７から押し出され、この結果加熱庫３内には
水蒸気が充満し、加熱庫３内はほぼ無酸素の状態となる。
そして制御回路３０が、計算して算出した加熱庫内温度Ｈが１００度Ｃに達したことを
検知すると、制御回路３０は前記加熱庫内に蒸気が充満したと判断し（蒸気充満検知手段
）、蒸気排出蓋２０を電磁石２１によって遮断保持する。このように蒸気排出蓋２０を遮
断することにより加熱庫３内は密閉された状態となり、加熱庫３内にはほぼ無酸素の水蒸
気のみが存在する状態とする（時間Ｂ）。
これと同時に制御回路３０は、第１のコイル５への高周波電流の入力をオフし、内鍋４
への加熱を停止する。これにより、加熱庫３内の温度は低下し、加熱庫３内の圧力も減少
する。
したがって、密閉状態の加熱庫３内は水蒸気及び水Ｌのみが存在しているため、その温
度に応じた飽和水蒸気が水Ｌと平衡関係を保持し、もって絶対湿度は常にほぼ１００％を
維持する。

その後、加熱庫内温度Ｈが操作部１４ａで設定したスチーム設定温度Ｔ（７０度Ｃ）に
到達すると（時間Ｃ）、制御回路３０はその設定温度７０度Ｃを保持するように、第１の
コイル５に入力する電流をオンオフ制御して内鍋４を加熱する。

この低温スチームの設定温度７０度Ｃを保持し、低温のスチームを加熱庫３内に充満さ
せ、かつ維持させた状態で、調理物内温度Ｓ（プローブ２３で測定したもの）が、操作部
１４ａで設定した低温スチームの設定温度Ｔ（７０度Ｃ）に到達したことを検知すると、
制御回路３０は調理物内温度Ｓを７０度Ｃに維持して設定した調理設定時間Ｅになるまで
調理する。

以上のように本実施例によれば、蒸気を加熱庫３内という所定の限られたスペースに充
満させることができるため、容易に低温スチーム加熱で調理することができる。
また、蒸気は密閉された限られたスペースに充満されているため蒸気の温度を調整する
ための制御がしやすく、より調理物Ｃに適切な温度の低温スチームで調理物Ｃを加熱する
ことができる。
さらには、蒸気が加熱庫３外に排出されないため加熱庫３内の水Ｌが実質的に減少する
ことがなく、加熱庫３内に水Ｌを補給する必要がない。

そして酸素を、加熱庫３（蒸気排出路１６も含む）の外部、すなわち蒸気排出口１７か
ら外気側へ排出して、加熱庫３内に低温スチームが充満しているため、ほぼ無酸素の状態
で載置台７の調理物Ｃを低温スチーム加熱することができ、もって調理物Ｃの酸化を防止
することができる。
特に、低温（１００度Ｃ以下）で水Ｌを加熱させて発生した低温スチームにより加熱し
ている場合には、加熱庫３内の圧力は水Ｌを沸騰させて発生した蒸気の圧力に比して高く
なく、加熱庫３が密閉されていないと加熱庫３外の酸素が加熱庫３内に流入するおそれが
あるが、本実施例では酸素を排出した後に加熱庫３を密閉することにより、加熱庫３内が
外圧に比べ低い圧力であっても酸素の流入を防ぐことができる。

また、使用者の設定によって調理物Ｃの凝固点以下の低温スチームも実現できるため油
脂の酸化・ビタミンの破壊などが抑制され、調理物Ｃの栄養価を保持することができ、ま
た調理物Ｃの保存期間が向上する。この「低温スチーム調理」で加熱することにより、調
理物Ｃを水Ｌに浸した状態で調理したり、炒める、また焼く加熱調理に比して栄養素の残
存量を５％から２００％も増加させることが可能である。しかも調理物Ｃは酸化しないこ
とによって色鮮やかに調理でき、退色を防止することもできる。

そして加熱庫３を密閉することにより加熱庫３内の絶対湿度は常にほぼ１００％である
ため、調理物Ｃに供給可能な最大の水分を常に供給することが可能となり、調理物Ｃの加
水分解の反応速度が上昇し、調理物Ｃの軟化を促進することが可能である。

また蒸気充満検知手段として、制御回路３０が、第１のサーミスタ２２の検知温度に基
づいて計算された加熱庫３内の温度を使用し、この加熱庫３内の温度が略１００度Ｃ（例
えば、好ましくは９８度Ｃから１０２度Ｃの間）に達したことにより前記加熱庫３内に蒸
気が充満したと判断する構成とした。そのため加熱調理器１に湿度計測機器等を設ける必
要がなく、簡単な構成で蒸気が充満したことを検知することができる。また加熱庫３内を
密閉状態にする前に、蒸気の温度を１００度Ｃまで上昇させているため、加熱庫３内の酸
素を確実に加熱庫３外に排出できる。

さらには、加熱庫３内に載置台７を設けることにより、調理物Ｃを水Ｌに浸すことはな
く、必要以上の水分が調理物Ｃに供給されない。
なお、蓋内郭１３の突状部１３ａは中央の蒸気孔１８部分から外周方向に下降傾斜した
形態をしているため、低温スチームが凝結して突状部１３ａに水滴Ｗがついた場合にも、
水滴Ｗは蓋内郭１３の外周方向に導かれることによって、水滴Ｗが載置台７の周りに落下
し、調理物Ｃに余計な水分を供給することがない。

また、第１の温度検知手段である第１のサーミスタ２２を蓋内郭１３の加熱庫３と反対
側の位置に設けたため、加熱庫３内に余計な突部がなく加熱庫３の内面側を清掃しやすい
。

また、以上の「低温スチーム調理」の制御は、調理物Ｃに対する最適温度を予め制御回
路のプログラムに記憶させ、その最適温度に基づく低温スチームを発生させて加熱調理す
るとなおよい。
例えば、図５に示すように各種の調理物Ｃを最適に調理できる温度帯はそれぞれ決まっ
ており、これら最適温度は調理物Ｃが有する酵素を活性化し、甘み成分等を引き出すこと
ができる温度である。
そのため、それぞれの調理物Ｃに応じた低温スチーム温度を予めプログラムし、加熱調
理させる。そしてプローブ２３が、調理物内の温度が調理物Ｃの最適温度に到達したこと
を検知すると、制御回路３０はその最適温度を維持するように第１のコイル５の駆動を制
御し、所定の時間まで低温スチームで加熱を行う。そうすると、その間に調理物内のペプ
チド結合の切断、糖鎖の切断、呈味成分の増加を促進させ、より最適な加熱調理ができる
。
またその際、低温スチームの温度を調理物内に細菌が生存することが可能な温度（細菌
生存域温度１０度Ｃ〜５５度Ｃ）より高い温度で加熱制御することによって、調理物Ｃに
は細菌が発生せず、より最適な加熱が可能となる。

（実施例２）
図６は、本発明の第２の実施形態を示す図４相当図である。
このものは、上記第１の実施形態における「低温スチーム調理」の加熱方法とは別の「
低温スチーム調理」加熱方法にあって、以下に詳細説明する。
なお、上記第１の実施形態と同一部分については同一の符号を付して説明を省略し、以
下異なるところについて説明する。

また図６において、その同図（ａ）には時間の経過による第２のサーミスタ６で測定し
た内鍋温度Ｋと、第１のサーミスタ２２で測定した蓋内郭温度Ｘと、その蓋内郭温度Ｘに
基づいて制御回路３０で所定の計算式により算出した加熱庫内温度Ｈとの関係を示し、ま
た同図（ｂ）には加熱庫３内の相対湿度を示し、そして同図（ｃ）には第１のコイル５お
よび第２のコイル１５への入力電圧の推移を示している。

まず、操作部１４ａで入力設定された低温スチーム設定温度Ｔ（例えば豚肉調理に最適
である温度６７度Ｃ（図５参照））に基づいて、蒸気排出蓋２０が開放された状態（加熱
庫３が非密閉状態）で第１のコイル５に電圧を入力し、内鍋４を誘導加熱する。また同時
に第２のコイル１５には第１のコイル５に入力した入力電圧に比べ、高い電圧を入力して
蓋内郭１３を誘導加熱する。

すると、加熱庫３内の水が加熱され蒸気（低温スチーム）が発生する。この蒸気は、加
熱庫３内を上昇し加熱庫３内の酸素とともに蒸気排出路１６を通って、蒸気排出口１７か
ら加熱調理器１の外に排出される。
そして、徐々に加熱庫内温度Ｈがスチーム設定温度Ｔまで近づくように第１のコイル５
への入力電圧を下げて加熱制御する（時間Ａ〜時間Ｍ）。この間、加熱庫３内には徐々に
蒸気が充満していき、逆に加熱庫３内の酸素は発生した低温スチームにより加熱庫３外に
押しだされる。
なおこの際、第２のコイル１５には第１のコイル５より高い電圧を入力して、蓋内郭温
度Ｘを内鍋温度Ｋ以上になるよう設定しているため、加熱庫３内の上下に温度差が生じ低
温スチームは加熱庫３内を対流し、調理物Ｃを万遍なく加熱する。

また低温スチームは、凝縮することによって水滴となり蓋内郭１３の加熱庫３内表面に
付着する場合があるが、蓋内郭１３の温度は、加熱庫３内の温度（低温スチームの温度）
より高い状態となるため、この低温スチームは蓋内郭１３の加熱庫３内表面で凝縮されに
くく水滴も少なくなる。また、蓋内郭１３の突状部１３ａ表面に付着した細かな水滴は、
突状部１３ａの傾斜に沿って周方向に流れ、突状部１３ａの周端で集まり大きな水滴に集
合される。そして集合した水滴は下方に滴下し、プレート７ａの外側に落下する。そのた
めプレート７ａに載置した調理物Ｃに水滴が直接滴下することはない。

そして制御回路３０は、加熱庫内温度Ｈが、設定温度Ｔに到達してその設定温度Ｔが一
定時間（例えば５分）維持され、平衡状態になると、設定温度Ｔに到達した低温スチーム
が加熱庫３内に充満したと判断し（蒸気充満検出手段）、蒸気排出蓋２０を遮断し、加熱
庫３を密閉状態にする（時間Ｎ）。
その後、加熱庫３の密閉状態を維持しながら、制御回路３０はスチーム設定温度Ｔを保
持して、調理物Ｃの温度Ｓ（プローブ２３により測定）がスチームの設定温度に到達した
ことを検知すると（時間Ｎ）、使用者による設定に基づいて調理設定時間Ｅになるまで調
理する。

以上のように第２の実施形態によれば、次のような効果を有する。
「低温スチーム調理」の際、低温スチーム設定温度Ｔに到達するまで徐々に加熱庫内温
度Ｈを上昇させていき、加熱庫３を密閉状態にする前に加熱庫内温度Ｈを低温スチーム設
定温度Ｔ以上に上昇させないことにより、加熱調理に最適な温度（低温スチーム設定温度
Ｔ）以上の加熱がされることによる調理物Ｃの凝固を防ぐことができ、調理物Ｃをより最
適に加熱調理できる。
また内鍋４が保温性の高いものであった場合には、第１の実施形態のように低温スチー
ムの温度を１００度Ｃからスチーム設定温度Ｔ（例えば７０度Ｃ）までさげることは時間
がかかるが、この第２の実施形態によれば内鍋４の保温性を気にすることなく酸素を加熱
庫３外に排出し無酸素状態を作り出した後低温スチーム加熱ができる。

そして、蓋体１０に設けられた第２のコイル１５を駆動させ、蓋内郭温度Ｘを内鍋温度
Ｋ以上に設定することにより、加熱庫３内の上下に温度差が生じ低温スチームが加熱庫３
内を対流するため、調理物Ｃを万遍なく加熱することができる。
さらには、蓋内郭１３の温度を内鍋４の温度以上にすることにより、発生した低温スチ
ームが蓋内郭１３の加熱庫３側表面に当たった際に、低温スチームが凝縮しにくくなるた
め、凝縮したものが水滴Ｗとなって、調理物Ｃの上に落下し、調理物に余分な水分が供給
されることを防ぐことができる。

また蒸気充満検出手段として、加熱庫内温度Ｈが低温スチーム設定温度Ｔに到達して平
衡状態になることを制御回路３０が検知することで、加熱庫３内に充満したと判断するこ
とにより、余計な装置を使用せずに簡単な構成で加熱庫３内の蒸気の充満を検知すること
ができる。
なおこの際の平衡状態とは、加熱庫内温度Ｈの温度上昇率が所定の範囲内に収束するこ
とも含む。

この加熱調理器１では加熱庫３内の温度を第１のサーミスタ２２により測定した温度に
基づいて所定の計算式により算出したが、別のサーミスタを加熱庫３内に設けて直接加熱
庫３内の温度を測定してもよい。
また蒸気充満検知手段として加熱庫３内の温度を基に加熱庫内の蒸気の充満を検知した
が、湿度センサーを加熱庫３内に設け、湿度センサーが所定の絶対湿度に到達したことで
、加熱庫３内に蒸気が充満したと判断してもよい。
なおこの加熱調理器１は、載置台７を内鍋４から取り外すことにより、通常の炊飯をす
ることも可能である。
その他、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、実施に際して本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々変更して実施できるものである。

本発明の第１の実施形態に係る加熱調理器の概略構成を示す縦断面図。 蒸気排出蓋の開放した状態を示す拡大断面図。 電気的構成図。 「低温スチーム調理」の制御動作（ａ），（ｂ），（ｃ）を示す図。 調理物の加熱調理最適温度を示す図。 本発明の第２の実施形態を示す図４相当図。

符号の説明

図中、１は加熱調理器、２は本体、２ａは外部容器、２ｂは内部容器、２ｃは収納部、３
は加熱庫、４は内鍋、５は第１のコイル、６は第２のサーミスタ、７は載置台、７ａはプ
レート、７ｂは孔、７ｃは脚、１０は蓋体、１０ａは蓋ヒンジ、１１は蓋外郭、１２は蓋
支え、１３は蓋内郭、１３ａは突状部、１３ｂはパッキン、１４は操作パネル、１４ａは
操作部、１４ｂは表示部、１５は第２のコイル、１６は蒸気排出路、１７は蒸気排出口、
１８は蒸気孔、１９はパッキン、２０は蒸気排出蓋、２０ａはヒンジ軸、２０ｂはパッキ
ン、２１は電磁石、２１ａはプランジャー、２２は第１のサーミスタ、２３はプローブ、
３０は制御回路、３１は商用電源、３２は第１のトランジスタ、３３は第２のトランジス
タ、及び３４は入力検知手段を示す。

Claims (10)

1. 調理物と水を収容する加熱庫と、
   前記加熱庫を加熱する第１の加熱手段と、
   前記加熱庫の内外間を開放及び遮断することにより前記加熱庫を非密閉及び密閉した状
   態にすることが可能な蒸気排出手段と、
   前記加熱庫内の温度を測定する第１の温度検知手段と、
   前記加熱庫内に蒸気が充満したことを検知する蒸気充満検知手段と、
   前記第１の加熱手段と前記蒸気排出手段を制御する制御手段とを備え、
   前記制御手段は、
   前記蒸気排出手段が開放されていて前記加熱庫が非密閉の状態にあるとき、前記第１の
   加熱手段で前記水を加熱して前記加熱庫内に蒸気を発生させ、
   前記蒸気充満検知手段が、前記加熱庫内に前記蒸気が充満したと判断すると、前記蒸気
   排出手段を遮断することにより前記加熱庫を密閉の状態とし、
   その後、密閉の状態を維持しつつ、前記加熱庫内の温度が１００度Ｃ以下の所定温度と
   なるよう前記第１の加熱手段を制御して前記調理物を加熱調理することを特徴とする加熱
   調理器。
2. 制御手段は、蒸気排出手段を遮断する前に、第１の温度検知手段による加熱庫内の温度
   が略１００度Ｃに到達するまで、第１の加熱手段を制御して蒸気を発生させることを特徴
   とする請求項１記載の加熱調理器。
3. 蒸気充満検知手段は、加熱庫内の温度が略１００度Ｃに到達したことを第１の温度検知
   手段が検知することにより、前記加熱庫内に蒸気が充満したと判断することを特徴とする
   請求項２記載の加熱調理器。
4. 制御手段は、蒸気排出手段を遮断する前に、第１の温度検知手段による加熱庫内の温度
   を１００度Ｃ以下の所定温度以下となるように第１の加熱手段を制御することを特徴とす
   る請求項１記載の加熱調理器。
5. 蒸気充満検知手段は、加熱庫内の温度が所定温度に到達し平衡状態になったことを第１
   の温度検知手段が検知することにより、前記加熱庫内に蒸気が充満したと判断することを
   特徴とする請求項４記載の加熱調理器。
6. 加熱庫を、収納部を有する本体に収納された内鍋で形成し、
   前記内鍋の開口を開閉する蓋体に蒸気排出手段を設け、
   前記内鍋に前記内鍋の底との間に隙間を形成するとともに、調理物を載置できる載置台
   を設け、
   前記隙間に水を収容可能とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の加熱調理器。
7. 第１の加熱手段を、本体の内鍋を加熱する位置に設け、
   第１の温度検知手段を、蓋体に設け、
   さらに第２の加熱手段を、蓋体に設け、
   第２の温度検知手段を、前記内鍋の温度を測定する位置に設け、
   制御手段は、前記第１の温度検知手段による前記蓋体の温度が、前記第２の温度検知手
   段による前記内鍋の温度に比して高くなるように、前記第２の加熱手段を制御することを
   特徴とする請求項６記載の加熱調理器。
8. 前記蓋体の加熱庫側の面は、中央から外側に向かって下降傾斜し、その外周端は、載置
   台より外側に位置していることを特徴とする請求項６または請求項７記載の加熱調理器。
9. 第１の温度検知手段を、蓋体の加熱庫の外側の位置に設けることを特徴とする請求項６
   乃至請求項８記載いずれかに記載の加熱調理器。
10. 加熱庫に調理物の内部の温度を検知することが可能な調理物内温度検知手段を設けるこ
    とを特徴とする請求項１乃至請求項８いずれかに記載の加熱調理器。

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