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JP4599265B2 - Interposer - Google Patents
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JP4599265B2 - Interposer - Google Patents

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Description

本発明は、例えば互いに対向配置された半導体素子と電子基板とを電気的に接続するインターポーザに係わり、特に簡単且つ少ない部品点数で構成できるようにしたインターポーザに関する。   The present invention relates to an interposer that electrically connects, for example, a semiconductor element and an electronic substrate that are arranged to face each other, and more particularly to an interposer that can be configured simply and with a small number of components.

本発明のインターポーザに関連する先行技術としては、例えば特許文献1に記載された電子コネクタなどが存在する。   As a prior art related to the interposer of the present invention, for example, there is an electronic connector described in Patent Document 1.

特許文献1に示す電子コネクタ1では、基板2に複数のスルーホール3が形成されており、各スルーホール3の両縁部にそれぞれ一対のスパイラル接触子7,7が信号系の端子として設けられている。   In the electronic connector 1 shown in Patent Document 1, a plurality of through holes 3 are formed in a substrate 2, and a pair of spiral contacts 7 and 7 are provided as signal system terminals on both edges of each through hole 3. ing.

基板10と基板11との対向面内に、前記電子コネクタ1を位置決め配置すると、スパイラル接触子7,7の一方の先端が基板10の信号ラインの接続部13a1に接続され、他方の先端が基板11の信号ラインの接続部13a1に接続される。   When the electronic connector 1 is positioned and disposed in the opposing surface of the substrate 10 and the substrate 11, one end of the spiral contacts 7 and 7 is connected to the signal line connecting portion 13a1 of the substrate 10, and the other end is connected to the substrate. 11 signal line connection portion 13a1.

よって、一方の基板10の前記接続部13a1と他方の基板11の接続部13a1とを前記スパイラル接触子7,7により導通接続させることができるようになっている。
特開2004−241304号公報(図7)
Therefore, the connection part 13a1 of one substrate 10 and the connection part 13a1 of the other substrate 11 can be electrically connected by the spiral contacts 7 and 7.
Japanese Patent Laying-Open No. 2004-241304 (FIG. 7)

しかし、上記特許文献1に記載された電子コネクタ1では、一方の面に設けられたスパイラル接触子7と他方の面に設けられたスパイラル接触子7とを接続するための導電部5を、前記スルーホール3の内壁に形成する必要がある。このため、電子コネクタの製造工程が複雑化しやすいという問題がある。   However, in the electronic connector 1 described in Patent Document 1, the conductive portion 5 for connecting the spiral contact 7 provided on one surface and the spiral contact 7 provided on the other surface is provided with the conductive portion 5 described above. It is necessary to form on the inner wall of the through hole 3. For this reason, there exists a problem that the manufacturing process of an electronic connector tends to become complicated.

また上記電子コネクタ1は、前記スルーホール3の両端にそれぞれ一対のスパイラル接触子7,7を配置しなければならない構成である。このため、両基板10,11が有する端子の数が増えると、スパイラル接触子7,7の数はその2倍必要となり、その構造上部品点数を低減することができないという問題もある。   The electronic connector 1 has a configuration in which a pair of spiral contacts 7 and 7 must be disposed at both ends of the through-hole 3. For this reason, when the number of terminals of both the boards 10 and 11 is increased, the number of spiral contacts 7 and 7 is required to be twice that number, and there is a problem that the number of parts cannot be reduced due to the structure.

本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、簡単且つ少ない部品点数で構成することができるインターポーザを提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide an interposer that can be configured simply and with a small number of parts.

本発明のインターポーザは、貫通孔が形成された基材と、前記基材に取り付けられた弾性接触子とを有し、
前記弾性接触子が、前記基材上に固定されるベース部と、前記基材のいずれか一方の面から離れる方向に延びる弾性変形可能な弾性腕と、前記弾性腕から前記貫通孔に向かう方向に突出して前記貫通孔に対向する凸部とをしており、
前記弾性腕が前記一方の面に接近する向きに弾性変形したときに、前記凸部が前記貫通孔の内部を経て前記基材の他方の面から突出して、前記弾性腕の一部分と前記凸部の先部とが前記基材を挟んで両側に位置し、前記一部分と前記先部のそれぞれが電極との接触部となることを特徴とするものである。
The interposer of the present invention has a base material in which a through-hole is formed, and an elastic contact attached to the base material,
The resilient contact comprises a base portion fixed on the substrate, and extending buildings elastically deformable elastic arms in a direction away from the one side one of said substrate, toward the through-hole from said resilient arm and possess a convex portion facing the through hole to protrude in a direction,
When the elastic arm is elastically deformed in a direction approaching the one surface, the convex portion protrudes from the other surface of the base material through the inside of the through hole, and a part of the elastic arm and the convex portion The tip part is located on both sides of the base material, and each of the part and the tip part is a contact part with the electrode .

本発明では、貫通孔(スルーホール)の内壁に導電部を形成する必要がない。よって、インターポーザの構成を簡単にすることができる。しかも、弾性接触子を基材シートの一方の面に設ければよく、前記貫通孔の両面にそれぞれ設ける必要がないため、従来に比較して部品点数を低減することができ、製造コストを低く抑えることができる。   In the present invention, it is not necessary to form a conductive portion on the inner wall of the through hole (through hole). Therefore, the configuration of the interposer can be simplified. In addition, it is only necessary to provide elastic contacts on one surface of the base sheet, and it is not necessary to provide them on both surfaces of the through-holes. Therefore, the number of parts can be reduced compared to the conventional case, and the manufacturing cost can be reduced. Can be suppressed.

上記において、前記凸部が、前記弾性腕上にメッキを立体的に成長させたバンプで形成されていることが好ましい。   In the above, it is preferable that the convex portion is formed by a bump in which plating is three-dimensionally grown on the elastic arm.

上記手段では、弾性腕と凸部とを一体的に形することができ、凸部の強度を高めることができる。
前記凸部が、前記弾性腕上に複数形成されていることが好ましい。
In the above means, the elastic arm and the convex portion can be integrally formed, and the strength of the convex portion can be increased.
It is preferable that a plurality of the convex portions are formed on the elastic arm.

上記手段では、電極間の導通を確保することができるため、インターポーザとしての信頼性を高めることができる。   In the above means, electrical conduction between the electrodes can be ensured, so that reliability as an interposer can be improved.

前記凸部が、板ばねからなる弾性腕の一部を折り曲げることにより形成されていることが好ましい。   It is preferable that the convex portion is formed by bending a part of an elastic arm made of a leaf spring.

上記手段では、インターポーザの構成を簡単にすることができる。
また前記貫通孔が前記基材シート上に多数形成されており、前記弾性接触子は個々の貫通孔に対応して設けられていることが好ましい。
With the above means, the configuration of the interposer can be simplified.
Moreover, it is preferable that many said through-holes are formed on the said base material sheet, and the said elastic contactor is provided corresponding to each through-hole.

上記手段では、多数ピンを有する半導体素子の各電極と、これに対応して配置された多数の電極との間の導通を確保することができる。
前記弾性接触子が、スパイラル接触子であることが好ましい。
With the above means, it is possible to ensure electrical continuity between each electrode of a semiconductor element having a large number of pins and a large number of electrodes arranged corresponding to the electrodes.
It is preferable that the elastic contact is a spiral contact.

スパイラル接触子は1ヶ当たりの接触圧が極めて小さい。このため、上記手段では半導体素子と基板間に大きな加圧力を作用させる必要がなくなり、小さな加圧力で多数ピンを有する半導体素子の各電極と基板側の各電極との間の導通を確保することが可能となる。   Spiral contacts have extremely low contact pressure per piece. Therefore, in the above means, it is not necessary to apply a large pressure between the semiconductor element and the substrate, and the conduction between each electrode of the semiconductor element having many pins and each electrode on the substrate side is ensured with a small pressure. Is possible.

本発明では、貫通孔(スルーホール)の内壁に導電部を形成する必要がないため、インターポーザの構成を簡単にすることができる。   In the present invention, since it is not necessary to form a conductive portion on the inner wall of the through hole (through hole), the configuration of the interposer can be simplified.

しかも、弾性接触子を基材シートの一方の面に設ければよく、前記貫通孔の両面にそれぞれ設ける必要がないため、従来に比較して部品点数を低減することができ、製造コストを低く抑えることができる。   In addition, it is only necessary to provide elastic contacts on one surface of the base sheet, and it is not necessary to provide them on both surfaces of the through-holes. Therefore, the number of parts can be reduced compared to the conventional case, and the manufacturing cost can be reduced. Can be suppressed.

図1Aは本発明の第1の実施の形態としてのインターポーザを示す断面図、図1Bは第1の実施の形態に示すインターポーザの使用状態を示す断面図、図2は弾性接触子の一例としてのスパイラル接触子を示す平面図である。   FIG. 1A is a cross-sectional view showing an interposer as a first embodiment of the present invention, FIG. 1B is a cross-sectional view showing a use state of the interposer shown in the first embodiment, and FIG. 2 is an example of an elastic contactor It is a top view which shows a spiral contactor.

図1Aに示すように、本発明のインターポーザ10Aは、例えばポリイミドなど絶縁性を有する基材シート11上に形成されている。前記基材シート11には、複数の貫通孔(スルーホール)11aが例えばマトリックス状に穿設されており、各貫通孔11aには弾性接触子20がそれぞれ設けられている。   As shown in FIG. 1A, the interposer 10A of the present invention is formed on a base material sheet 11 having insulating properties such as polyimide. A plurality of through holes (through holes) 11a are formed in the base sheet 11 in a matrix shape, for example, and elastic contacts 20 are provided in the respective through holes 11a.

前記弾性接触子20としては、例えば図2に示すような1ヶ当たりの接触圧の小さいスパイラル接触子20Aが用いられている。前記スパイラル接触子20Aは、外周側に設けられたベース部21と、このベース部21から連続的に延びる弾性腕22を有している。前記弾性腕22の一端(ベース部21の端部)は、前記ベース部21との境を形成する基端22aであり、他端は先端22bを形成している。前記弾性腕22は、基端22aがベース部21の外周側に設けられ、前記先端22bが前記基端22aから内周側の中心に向かって半径が徐々に短くなる螺旋状に形成されている。さらにスパイラル接触子20Aは、前記基端22aよりも先端22bが図示Z1方向(第1の方向)に山型(凸型ともいう)に突出する立体形状に成形されている(図1A参照)。前記先端22bの下面には、図示Z2方向(第2の方向)に突出する凸部24aが形成されている。前記凸部24aは、貫通孔11aに対し、進入可能な状態で対向している。そして、各スパイラル接触子20Aの前記先端22bに対して垂直(Z方向)方向の力を加えると、弾性腕22が図示Z方向に弾性変形可能とされている。   As the elastic contact 20, for example, a spiral contact 20 </ b> A having a small contact pressure per piece as shown in FIG. 2 is used. The spiral contact 20 </ b> A includes a base portion 21 provided on the outer peripheral side and an elastic arm 22 that continuously extends from the base portion 21. One end (end portion of the base portion 21) of the elastic arm 22 is a base end 22a that forms a boundary with the base portion 21, and the other end forms a tip end 22b. The elastic arm 22 has a base end 22 a provided on the outer peripheral side of the base portion 21, and the tip 22 b is formed in a spiral shape whose radius gradually decreases from the base end 22 a toward the center on the inner peripheral side. . Further, the spiral contact 20A is formed in a three-dimensional shape in which the tip 22b protrudes in a mountain shape (also referred to as a convex shape) in the Z1 direction (first direction) shown in the figure (see FIG. 1A) rather than the base end 22a. A convex portion 24a is formed on the lower surface of the tip 22b so as to project in the Z2 direction (second direction). The convex portion 24a faces the through hole 11a in a state where it can enter. When a force in the vertical (Z direction) direction is applied to the tip 22b of each spiral contact 20A, the elastic arm 22 is elastically deformable in the Z direction shown in the figure.

図1Bに示すように、インターポーザ10はA、例えば基板30と半導体素子40との間に配置される。このとき、前記基板30の表面に形成された複数の電極31と、前記半導体素子40の下面に形成された複数の電極41とを対向させるとともに、これらの間に複数のスパイラル接触子20Aが対向配置される。   As shown in FIG. 1B, the interposer 10 is disposed between A, for example, the substrate 30 and the semiconductor element 40. At this time, the plurality of electrodes 31 formed on the surface of the substrate 30 and the plurality of electrodes 41 formed on the lower surface of the semiconductor element 40 are opposed to each other, and the plurality of spiral contacts 20A are opposed to each other. Be placed.

前記半導体素子40を、前記インターポーザ10の表面に押し付けると、前記半導体素子40の各電極41が各スパイラル接触子20Aに当接する。さらに前記基板30と前記半導体素子40との間の対向距離を短縮し、前記インターポーザ10Aを図示Z2方向に弾圧すると、前記スパイラル接触子20Aを構成する各弾性腕22が収縮する方向(前記基端22aと先端22bとの距離が自然長から縮まる方向)に弾性変形させられる。このとき、前記凸部24aが、螺旋状に形成された弾性腕22の内部と、前記基材シート11に形成された貫通孔11a内に進入し、さらにこれらを図示Z2方向に通り抜けて前記基板30の電極31の表面に当接する。 When the semiconductor element 40 is pressed against the surface of the interposer 10, each electrode 41 of the semiconductor element 40 comes into contact with each spiral contact 20A . Further, when the facing distance between the substrate 30 and the semiconductor element 40 is shortened and the interposer 10A is pressed in the Z2 direction in the drawing, the elastic arms 22 constituting the spiral contact 20A contract (directions of the base ends) The distance between the tip 22b and the tip 22b is elastically deformed in a direction in which the distance from the natural length is reduced. At this time, the convex portion 24a enters the inside of the elastic arm 22 formed in a spiral shape and the through hole 11a formed in the base sheet 11, and further passes through these in the Z2 direction in the drawing to form the substrate. It abuts on the surface of 30 electrodes 31.

よって、前記基板30の各電極31と前記半導体素子40の各電極41とを、前記各弾性腕22に設けられた先端22bと凸部24aを介して電気的に導通接続することができる。 Therefore, each electrode 31 of the substrate 30 and each electrode 41 of the semiconductor element 40 can be electrically connected to each other via the tip 22b provided on each elastic arm 22 and the convex portion 24a .

図3Aは本発明の第2の実施の形態としてのインターポーザを示す拡大断面図、図3Bは第2の実施の形態に示すインターポーザの使用状態を示す断面図である。   FIG. 3A is an enlarged cross-sectional view showing an interposer as a second embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing a use state of the interposer shown in the second embodiment.

第2の実施に示すインターポーザ10Bは、スパイラル型の弾性接触子を用いた上記第1の実施に示すインターポーザ10Aとほぼ同様の構成である。   The interposer 10B shown in the second embodiment has substantially the same configuration as the interposer 10A shown in the first embodiment using a spiral elastic contactor.

ただし、図3Aに示すように、第2の実施に示すインターポーザ10Bでは、凸部24bが先端22bの下面に設けられている構成ではなく、弾性腕22の基端22aと先端22bとの途中に形成されている点で異なっている。前記凸部24bは前記弾性腕22の下面から図示Z2方向に突出して形成されている。図3A,Bには、凸部24bの数が1ヶの場合を示しているが、前記凸部24bの数は少なくとも1ヶ以上であればよく、好ましくは複数有する構成である。このように、1つの弾性腕22に複数の凸部24bを形成しておくと、たとえそのうちの一つに不具合があったとしても、他の凸部24bを介して両電極間の導通を確保することができ、インターポーザ10Bの信頼性を高めることができる。なお、このような凸部24bも前記貫通孔11aに対向して配置されている。   However, as shown in FIG. 3A, in the interposer 10B shown in the second embodiment, the convex portion 24b is not provided on the lower surface of the distal end 22b, but in the middle between the proximal end 22a and the distal end 22b of the elastic arm 22. It differs in that it is formed. The convex portion 24b is formed so as to protrude in the Z2 direction from the lower surface of the elastic arm 22. 3A and 3B show the case where the number of the convex portions 24b is one, the number of the convex portions 24b may be at least one, and preferably has a plurality. In this way, if a plurality of convex portions 24b are formed on one elastic arm 22, even if one of them has a problem, conduction between both electrodes is ensured through the other convex portion 24b. It is possible to increase the reliability of the interposer 10B. In addition, such a convex part 24b is also arrange | positioned facing the said through-hole 11a.

図3Bに示すように、上記同様にインターポーザ10Bを前記基板30と半導体素子40との間に配置し、その間の対向距離を接近させて半導体素子40の電極41でスパイラル接触子20Bの先端22bを弾圧すると、前記弾性腕22が収縮する方向に弾性変形させられる。このとき、前記凸部24bが前記貫通孔11a内をZ2方向に通り抜けて前記基板30に設けられた電極31に接触するため、上記同様に前記半導体素子40の各電極41と前記基板30に各電極31とをインターポーザ10Bを用いて導通接続することができる。   As shown in FIG. 3B, similarly to the above, the interposer 10B is disposed between the substrate 30 and the semiconductor element 40, and the opposing distance between them is made close so that the tip 22b of the spiral contact 20B is connected to the electrode 41 of the semiconductor element 40. When elastically pressed, the elastic arm 22 is elastically deformed in a contracting direction. At this time, since the convex portion 24b passes through the through hole 11a in the Z2 direction and contacts the electrode 31 provided on the substrate 30, each of the electrodes 41 and the substrate 30 of the semiconductor element 40 are in contact with each other. The electrode 31 can be conductively connected using the interposer 10B.

この第2の実施の形態では、前記半導体素子40の各電極41と前記基板30に各電極31との間を、スパイラル接触子20Bを形成する先端22b、弾性腕22および凸部24bを介して接続することができる。   In the second embodiment, between each electrode 41 of the semiconductor element 40 and each electrode 31 on the substrate 30 via a tip 22b, an elastic arm 22 and a convex portion 24b forming a spiral contact 20B. Can be connected.

なお、上記第1及び第2の実施の形態では、1ヶ当たりの接触圧が小さなスパイラル接触子20A,20Bを用いているため、前記半導体素子40と前記基板30との間の加圧力を小さくすることが可能である。   In the first and second embodiments, since the spiral contacts 20A and 20B having a small contact pressure per unit are used, the applied pressure between the semiconductor element 40 and the substrate 30 is reduced. Is possible.

また上記第1及び第2の実施の形態に示す前記スパイラル接触子20A,20Bは、例えばレジストとメッキ処理の技術を組み合わせることにより形成することができる。この際、前記凸部24a,24bは前記先端22bや弾性腕22の下面に施したメッキを立体的に成長させてバンプとすることにより、前記スパイラル接触子20A,20Bとともに一体的に形成することができる。よって、凸部24a,24bの強度を高めることができる。   The spiral contacts 20A and 20B shown in the first and second embodiments can be formed by combining, for example, a resist and a plating technique. At this time, the protrusions 24a and 24b are integrally formed with the spiral contacts 20A and 20B by three-dimensionally growing plating applied to the lower surface of the tip 22b and the elastic arm 22 to form bumps. Can do. Therefore, the strength of the convex portions 24a and 24b can be increased.

次に、本発明の第3の実施の形態を説明する。
図4Aは本発明の第3の実施の形態としてのインターポーザを示す拡大断面図、図4Bは第3の実施の形態に示すインターポーザの使用状態を示す断面図である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
4A is an enlarged cross-sectional view showing an interposer as a third embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing a use state of the interposer shown in the third embodiment.

第3の実施の形態に示すインターポーザ10Cは、スパイラル接触子の代わりに板ばねからなる弾性接触子20Cを用いた点で上記第1及び第2の実施の形態と相違している。   The interposer 10C shown in the third embodiment is different from the first and second embodiments in that an elastic contact 20C made of a leaf spring is used instead of the spiral contact.

図4Aに示すように、第3に実施の形態に示すインターポーザ10Cでは、略V字形状をした弾性接触子20Cが、基材シート11の各貫通孔11aの近傍に設けられている。   As shown in FIG. 4A, in the interposer 10 </ b> C shown in the third embodiment, a substantially V-shaped elastic contact 20 </ b> C is provided in the vicinity of each through hole 11 a of the base sheet 11.

前記弾性接触子20Cは、ベース部21cと弾性腕(弾性変形部)22cと有する板ばねで形成されている。前記弾性接触子20Cは、前記ベース部21cを前記基材シート11の前記貫通孔11aの近傍に接着することにより固定されている。弾性腕22cは、前記ベース部21cに近接する部分が図示Z1方向(第1の方向)に谷折りに折り曲げられ、さらにその先端が図示Z2方向(第2の方向)に山折りに折り曲げられることにより、略V字形状に形成されている。前記山折りに折り曲げられた部分が頂点23であり、その先の最先端部が凸部24cに相当している。すなわち、前記頂点23と凸部24bとを備えた略V字形状の弾性腕22が、前記ベース部21cにおいて前記基材シート11に対し片持ち状態で支持されている。   The elastic contact 20C is formed of a leaf spring having a base portion 21c and an elastic arm (elastic deformation portion) 22c. The elastic contact 20C is fixed by adhering the base portion 21c to the vicinity of the through hole 11a of the base sheet 11. The elastic arm 22c has a portion close to the base portion 21c bent in a valley fold in the Z1 direction (first direction) shown in the figure, and a tip thereof bent in a mountain fold in the Z2 direction (second direction) shown in the figure. Therefore, it is formed in a substantially V shape. The portion bent into the mountain fold is the apex 23, and the tipmost portion ahead is equivalent to the convex portion 24c. That is, the substantially V-shaped elastic arm 22 having the vertex 23 and the convex portion 24b is supported in a cantilevered state on the base sheet 11 at the base portion 21c.

図4Aに示すように、前記凸部24cは前記貫通孔11aに進入した状態で配置されている。あるいは、少なくとも前記凸部24cが前記貫通孔11aに対して進入可能な状態で配置されている。   As shown in FIG. 4A, the convex portion 24c is arranged in a state of entering the through hole 11a. Alternatively, at least the convex portion 24c is arranged in a state where it can enter the through hole 11a.

図4Bに示すように、上記同様にインターポーザ10Cを前記基板30と半導体素子40との間に配置し、インターポーザ10を前記基板30に接近させると、前記半導体素子40の電極41を弾性接触子20Cの頂点23に接触させることができる。   As shown in FIG. 4B, when the interposer 10C is disposed between the substrate 30 and the semiconductor element 40 in the same manner as described above and the interposer 10 is brought close to the substrate 30, the electrode 41 of the semiconductor element 40 is connected to the elastic contact 20C. Can be brought into contact.

さらに、インターポーザ10Cを前記基板30に接近させて頂点23への弾圧を強めると、前記弾性腕22cが弾性変形させられる。このとき、前記凸部24cが前記貫通孔11a内をZ2方向に通り抜けてインターポーザ10Cの下部側に設けられた前記基板30上の電極31の表面に接触するため、上記同様に前記半導体素子40の各電極41と前記基板30に各電極31とがインターポーザ10Cを用いて導通接続される。   Further, when the interposer 10C is brought close to the substrate 30 to increase the pressure on the apex 23, the elastic arm 22c is elastically deformed. At this time, the convex portion 24c passes through the through hole 11a in the Z2 direction and comes into contact with the surface of the electrode 31 on the substrate 30 provided on the lower side of the interposer 10C. Each electrode 41 and each electrode 31 are electrically connected to the substrate 30 using an interposer 10C.

この第3の実施の形態では、前記半導体素子40の各電極41と前記基板30に各電極31との間を、弾性接触子20Cを形成する頂点23と凸部24cを介して接続することが可能である。   In the third embodiment, each electrode 41 of the semiconductor element 40 and each electrode 31 are connected to the substrate 30 via the apex 23 forming the elastic contact 20C and the convex portion 24c. Is possible.

以上のように、上記第1、第2、第3の実施の形態に示すインターポーザ10A,10B,10Cのいずれにおいても、基材シート11に形成された貫通孔(スルーホール)11aの内壁に導電部を形成する必要がない。よって、インターポーザ10の構成を簡単にすることができる。   As described above, in any of the interposers 10A, 10B, and 10C shown in the first, second, and third embodiments, the inner wall of the through hole (through hole) 11a formed in the base sheet 11 is electrically conductive. There is no need to form a part. Therefore, the configuration of the interposer 10 can be simplified.

しかも、弾性接触子20は基材シート11の一方の面に設ければよく、前記貫通孔11aの上下両面にそれぞれ設ける必要がないため、従来に比較して部品点数を低減することができ、製造コストを低く抑えることが可能となる。   In addition, the elastic contactor 20 only needs to be provided on one surface of the base sheet 11, and it is not necessary to provide the elastic contactor 20 on both the upper and lower surfaces of the through hole 11a. Manufacturing costs can be kept low.

上記いずれの実施の形態でも、弾性接触子20が基材シート11のZ1側の一方(半導体素子側)に設けられた構成を用いて説明したが、本発明はこれに限られるものではなく、弾性接触子20は基材シート11のZ2側の一方(基板側側)に設けられる構成であってもよい。なお、この場合には各凸部24は前記貫通孔11aを図示Z1方向に通り抜け、半導体素子40の電極41の表面(下面)に当接することになる。   In any of the above embodiments, the elastic contact 20 has been described using the configuration provided on one side of the base sheet 11 on the Z1 side (semiconductor element side), but the present invention is not limited to this, The elastic contact 20 may be configured to be provided on one side (substrate side) of the base sheet 11 on the Z2 side. In this case, each convex portion 24 passes through the through hole 11a in the Z1 direction in the figure, and comes into contact with the surface (lower surface) of the electrode 41 of the semiconductor element 40.

本発明の第1の実施の形態としてのインターポーザを示す断面図、Sectional drawing which shows the interposer as the 1st Embodiment of this invention, 第1の実施の形態に示すインターポーザの使用状態を示す断面図、Sectional drawing which shows the use condition of the interposer shown in 1st Embodiment, 弾性接触子の一例としてのスパイラル接触子を示す平面図、A plan view showing a spiral contact as an example of an elastic contact; 本発明の第2の実施の形態としてのインターポーザを示す拡大断面図、The expanded sectional view which shows the interposer as the 2nd Embodiment of this invention, 第2の実施の形態に示すインターポーザの使用状態を示す断面図、Sectional drawing which shows the use condition of the interposer shown in 2nd Embodiment, 本発明の第3の実施の形態としてのインターポーザを示す拡大断面図、The expanded sectional view which shows the interposer as the 3rd Embodiment of this invention, 第3の実施の形態に示すインターポーザの使用状態を示す断面図、Sectional drawing which shows the use condition of the interposer shown in 3rd Embodiment,

符号の説明Explanation of symbols

10A,10B,10C インターポーザ
11 基材シート
11a 貫通孔(スルーホール)
20,20C 弾性接触子
20A,20B スパイラル接触子
21,21c ベース部
22 弾性腕
22a 基端
22b 先端
23 頂点
24a,24b,24c 凸部
30 基板
31 電極
40 半導体素子
41 電極
10A, 10B, 10C Interposer 11 Base material sheet 11a Through hole (through hole)
20, 20C Elastic contactor 20A, 20B Spiral contactor 21, 21c Base part 22 Elastic arm 22a Base end 22b Tip 23 Vertex 24a, 24b, 24c Convex part 30 Substrate 31 Electrode 40 Semiconductor element 41 Electrode

Claims (6)

貫通孔が形成された基材と、前記基材に取り付けられた弾性接触子とを有し、
前記弾性接触子が、前記基材上に固定されるベース部と、前記基材のいずれか一方の面から離れる方向に延びる弾性変形可能な弾性腕と、前記弾性腕から前記貫通孔に向かう方向に突出して前記貫通孔に対向する凸部とをしており、
前記弾性腕が前記一方の面に接近する向きに弾性変形したときに、前記凸部が前記貫通孔の内部を経て前記基材の他方の面から突出して、前記弾性腕の一部分と前記凸部の先部とが前記基材を挟んで両側に位置し、前記一部分と前記先部のそれぞれが電極との接触部となることを特徴とするインターポーザ。
It has a base material in which a through hole is formed, and an elastic contact attached to the base material,
The resilient contact comprises a base portion fixed on the substrate, and extending buildings elastically deformable elastic arms in a direction away from the one side one of said substrate, toward the through-hole from said resilient arm and possess a convex portion facing the through hole to protrude in a direction,
When the elastic arm is elastically deformed in a direction approaching the one surface, the convex portion protrudes from the other surface of the base material through the inside of the through hole, and a part of the elastic arm and the convex portion The interposer is characterized in that the tip portion is located on both sides of the base material, and each of the portion and the tip portion is a contact portion with the electrode .
前記凸部が、前記弾性腕の前記ベース部から離れた先端の1箇所に設けられている請求項1記載のインターポーザ。 The interposer according to claim 1, wherein the convex portion is provided at one point of the tip of the elastic arm away from the base portion . 前記凸部が、前記弾性腕の複数箇所に設けられている請求項記載のインターポーザ。 The convex portion is, the elastic arm of the interposer according to claim 1, wherein are provided at a plurality of positions. 前記弾性腕が、スパイラル形状である請求項1ないし3のいずれかに記載のインターポーザ。 The interposer according to any one of claims 1 to 3 , wherein the elastic arm has a spiral shape . 前記凸部が、前記弾性腕上にメッキを立体的に成長させたバンプで形成されている請求項1ないし4のいずれかに記載のインターポーザ。 The interposer according to any one of claims 1 to 4, wherein the convex portion is formed of a bump in which plating is three-dimensionally grown on the elastic arm. 前記弾性腕が板ばねでであり、前記板ばねの一部が折り曲げられて前記凸部が形成されている請求項1記載のインターポーザ。 The elastic arm is at a leaf spring, the interposer according to claim 1, wherein the convex portion partially bent of the plate spring is formed.
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