JP4601208B2 - Press heater - Google Patents
Press heater Download PDFInfo
- Publication number
- JP4601208B2 JP4601208B2 JP2001161500A JP2001161500A JP4601208B2 JP 4601208 B2 JP4601208 B2 JP 4601208B2 JP 2001161500 A JP2001161500 A JP 2001161500A JP 2001161500 A JP2001161500 A JP 2001161500A JP 4601208 B2 JP4601208 B2 JP 4601208B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- heater
- ceramic
- ceramic heater
- thermocouple
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップを基板上に実装する際に用いるダイボンディングヒーター等、被加熱物を押圧加熱する押圧加熱ヒーターに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体ベアチップを基板上に実装する方法として、異方性導電膜(ACF)等の樹脂系の接着材を使用したACF接続方法、またはマルチチップモジュールに用いるようなAu−Si、Au−Sn等の低融点ロウ材を使用したフリップチップ接続法が行われている。
【0003】
例えば、フリップチップ接続法は、多層パッケージ基板上に半導体チップを載置して、その上面からセラミックヒーターを備えた押圧加熱ヒーターで加熱しながら押圧することによって、接合を行っており、この時、両者に備えたハンダバンプ等の接着剤によって接合するとともに、ワイヤリングを行うことができる。
【0004】
かかる押圧加熱ヒーターは、まず使用する接着材を軟化もしくは溶融するために必要十分な熱を半導体チップを介してハンダバンプ等の接着剤まで効率よく伝えること、半導体産業において重要なファクターである生産効率の観点から、所要温度までの昇温時間が短く、しかもボンディング終了後の接着材が固化するまでの温度降下時間が短いこと、さらに、昇降温速度を速くすることが要求され、図3に示すように半導体チップ等の被加熱物を押圧するためのセラミックツール11と、高熱伝導率のセラミック体に発熱体を埋設してなり、前記セラミックツール11を加熱するためのセラミックヒーター12と、これら部材を支持するホルダー15とからなり、セラミックヒーター12の側面には、セラミックヒーター12の温度を制御するための制御用熱電対16を配置するための取付け穴17が設けられ、接着剤を介して制御用熱電対16の一部が固定されている。
また、前記制御用熱電対16は、図4に示すように異種金属からなる一対の素線が接合されてなる測温点18を有し、この測温点18を有する接合部は各素線の先端を交差させ重なった部分をバーナー溶接によって接合してなり、この球状の接合部をセラミックヒーター12の測温位置近傍に設けられた取付け穴17内に固定することによって測温し、セラミックヒーター12に供給する電力を制御する仕組みである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の押圧加熱ヒーターに備えられた制御用熱電対16は一対の素線の先端をバーナー溶接によって接合することから、測温点18を含む接合部の径が大きな球状となるため、熱容量が大きく制御用熱電対16の検知感度が低下するという欠点を有していた。
【0006】
また、接合部が径の大きな球状となると、測温点18とセラミックヒーター12の測温位置との距離が大きくなり、正確な温度を検知できず、検知温度が実際のセラミックヒーター12の温度より低い場合には、セラミックヒーター12に過大な電力が供給され、セラミックヒーター12の破損、断線が生じ、長期間の使用に供することができないという欠点を有していた。さらに、制御用熱電対16はセラミックヒーター12の側面に開口した取付け穴17から挿通されていたため、外部より荷重がかかった際に位置ズレが生じたり、外れたりしやすいことから、セラミックヒーター12の温度変化に追従する検知感度が低下し、正確な温度を測定できないという欠点を有していた。
【0007】
本発明は、上述の欠点に鑑み案出されたものであり、その目的は、検知感度が高く、短時間でセラミックヒーターの温度を測定できる高精度な押圧加熱ヒーターを提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の押圧加熱ヒーターは、下面に電極を備えた半導体チップを上面側から押圧加熱し、配線層を有する基板上にダイレクトボンドするための押圧加熱ヒーターであって、セラミック体中に発熱体を埋設してなるセラミックヒーターと、このセラミックヒーターに備えた取付け穴に配置され、異種組成からなる一対の素線を接合してなる測温点を有する制御用熱電対とを備え、該制御用熱電対の接合部の径が前記各素線の線径の和より小さく、前記測温点が前記発熱体と0.5〜1mmの距離で配置されているとともに、前記各素線の線径が0.2mm以下かつ前記取付け穴の径が前記各素線の線径の3倍以内であり、前記制御用熱電対が複数の屈曲部を有するように配置されていることを特徴とするものである。
【0011】
また、本発明の押圧加熱ヒーターは、前記制御用熱電対を2つ以上設けたことを特徴とするものである。
【0012】
本発明の押圧加熱ヒーターによれば、各素線を接合した制御用熱電対の接合部の径が、各素線の線径の和より小さいことから、接合部の体積が小さく、熱容量も小さくなるため、制御用熱電対の検知感度が向上し、正確な温度を短時間で測定でき高精度な押圧加熱ヒーターを得ることができる。
【0013】
また、本発明の押圧加熱ヒーターによれば、前記制御用熱電対の測温点が、前記セラミックヒーターの発熱体と0.5〜1mmの距離で配置されていることから、制御用熱電対の測温点とセラミックヒーターの測温位置との距離が小さく、正確な温度をより短時間で検知することができる。
【0014】
さらに、本発明の押圧加熱ヒーターによれば、前記制御用熱電対が複数の屈曲部を有するように配置されていることから、外部より荷重がかかった際にも制御用熱電対の測温点は、位置ずれが生じたり、外れたりすることはなく、セラミックヒーターの測温位置との距離を一定に保持し、検知感度の高い測温を行うことができる。
【0015】
さらにまた、前記制御用熱電対を2つ以上設けたことから、1つは制御用熱電対として、もう1つは過昇温用に温度モニターとして使用することができ、制御用熱電対が不慮の外力等によって位置ずれや異常が生じた場合にも、過電力が供給されることはなく、より信頼性の高い押圧加熱ヒーターを得ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
本発明の押圧加熱ヒーターは、図1(a)の一実施形態を示す斜視図及び同図(b)に示す分解斜視図のように、半導体チップ等の被加熱物を押圧するためのセラミックツール1と、セラミック体3に発熱体4を埋設してなり、前記セラミックツール1を加熱するためのセラミックヒーター2と、これら部材を統合し他部材に結合するためのホルダー5とからなり、セラミックヒーター2の側面には、取付け穴7が設けられ制御用熱電対6の測温点が配置されている。
【0017】
前記セラミックツール1は、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、窒化珪素質焼結体等からなり、その上面に半導体チップ等の被加熱物を真空吸着するための真空引き穴1aが形成され、その下面に形成されるセラミックヒーター2、ホルダー5にも同様な真空引き穴が形成されており、これら真空引き穴は全て貫通しているため、これらを介して真空引きすることによってセラミックツール1の上面の半導体チップを真空吸着する仕組みである。
【0018】
また、前記セラミックツール1は、例えば主成分である窒化アルミニウム粉末に、焼結助剤であるアルミナ、イットリア等を所望の組成になるように添加し、メタノール、イソプロピルアルコール(IPA)等の非水系溶媒とアルミナ等のメディアとともにボールミル、振動ミルで混合し、得られた窒化アルミニウムスラリーを防爆式の乾燥機によって約120℃、24時間乾燥した後、スプレードライ法、乾式造粒法、湿式造粒法等によって得られた粉末に所望の有機バインダーを混合した後、プレス成形、CIP成形によって成形して成形体を得た後、500〜700℃程度の温度で脱脂工程を経て有機バインダーを飛散させ、窒素雰囲気中にて1800〜2000℃程度の温度で焼成するか、もしくはカーボン型中でホットプレスすることによって作製される。
【0019】
なお、前記セラミックツール1は、熱伝導率100W/m・K以上の高熱伝導率を有するセラミックスであることが好ましく、セラミックツール1の周囲の温度低下を防止するとともに、セラミックヒーター2の熱をセラミックツール1側に効率よく伝え、その上面に載置された半導体チップの温度分布を一定に保持することができる。
【0020】
さらに、前記セラミックツールの下面にはセラミックヒーター2が形成され、セラミックツール1の上面に載置された半導体チップ等の被加熱物を加熱する作用をなす。
【0021】
前記セラミックヒーター2は、窒化珪素質焼結体、炭化珪素質焼結体等のセラミック体3中に、導電性セラミックスあるいは金属からなる発熱体4を埋設してなり、例えば主成分として90〜92モル%の窒化珪素に焼結助剤として希土類元素酸化物を2〜10モル%、アルミナ、酸化珪素を窒化珪素と希土類元素酸化物の総量に対して各々0.2〜2.0重量%、1〜5重量%添加混合して原料粉末を調整した後、プレス成形法等によって所定形状の成形体を得、該成形体にタングステンやモリブデン、レニウム等、或いはこれらの炭化物、窒化物等に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して発熱体ペーストを作り、これを発熱体4の形状にスクリーン印刷法等によりプリントし、その上面に上述の成形体を重ねて密着させ、約1650〜1800℃の温度でホットプレス焼成するか、もしくは10気圧以上の窒素雰囲気中にて約1700〜1850℃で焼成する。しかる後、得られた焼結体を所定の寸法に研削加工した後、X線、超音波等によって発熱体4の位置、距離を確認し、取付け穴7を超音波加工等によって発熱体4の近傍に設けた後、発熱体4の両端の一部をセラミック体3より露出させ、主成分である銀にチタンを含有したペーストを塗布し、真空中にて焼成してメタライズを形成し、このメタライズ上にニッケルメッキを施した後、銀−銅等のロウ材を用いて真空中又は非酸化性雰囲気中にてリード線を取着することによって製作され、前記リード線を介して通電することによって発熱体4を加熱させる仕組みである。
【0022】
また、前記セラミック体3は、窒化珪素質焼結体で形成することが好ましく、セラミック体3に発熱体4を埋設させることによって動作時に発熱体4の付近まで空気中の酸素が拡散し、発熱体4が酸化して断線するのを有効に防止するとともに、高温強度を極めて高いものとし電気的な絶縁性、耐久性を保持する。
【0023】
さらに、前記セラミック体3は、その熱伝導率を常温で50W/m・K以上としておくと、発熱体4の熱をセラミック体5全体に短時間で伝達し、温度むらを防止することができ、その厚みを1〜2mmの範囲としておくと、セラミックヒーター2の機械的強度を高いものに維持しつつ熱容量を小さくし、昇温速度を速くすることができるため、半導体ベアチップを押圧加熱して配線基板に実装する際、セラミックヒーター2に割れ等の破損を発生させることなく短時間に実装可能となる。
【0024】
また、前記セラミックヒーター2には、取付け穴7に無機接着剤等を介して制御用熱電対6が固定され、セラミックヒーター2の温度を検知してセラミックヒーター2中の発熱体4に供給する電流値を調整し所望の温度に調整する作用をなす。
【0025】
前記制御用熱電対6は、図2(a)に示すように異種組成の金属からなる第1素線6a、第2素線6bの各先端を結線した接合部Aを有し、該接合部Aの境界部は測温点8となる。前記第1素線6a及び第2素線6bは、ニッケル、クロムを主とした合金(クロメル)と、ニッケルを主としアルミニウム、珪素、マンガンを混合した合金(アルメル)、銅とコンスタンタン、白金と白金ロジウム等のような組み合わせがあり、セラミックヒーター2の発熱温度、条件に適した組み合わせのものを用いる。そして第1素線6a、第2素線6bの先端を交差させ、スポット溶接にて接合し、その周囲をガラスファイバーチューブ等からなる絶縁層で被覆してなり、接合部Aの径が第1素線6a、第2素線6bの各線径の和より小さくすることが重要である。
【0026】
ここで、前記接合部Aの径を、第1素線6a及び第2素線6bの線径の和より小さくすることで、測温点8を含む接合部Aの熱容量を小さくして制御用熱電対6の検知感度を向上させ、セラミックヒーター2の温度変化を正確に、かつ短時間で測定することができる。なお、前記第1素線6a及び第2素線6bの先端をスポット溶接により接合することによって、接合部Aの径を各素線の径の和より小さくすることができる。また、前記第1素線6a及び第2素線6bの線径はそれぞれ0.2mm以下としておくことが好ましく、これによって熱引きが小さく、より高精度な温度測定が可能となり、セラミックヒーター2の温度制御の精度を向上させることができる。
【0027】
さらに、前記制御用熱電対6の測温点8は、図2(b)に示す断面図のようにセラミックヒーター2の発熱体4と0.5〜1.0mmの距離Kで配置されていることが好ましく、このように配置することで、セラミックヒーター2の温度を正確に、かつ短時間で検知することができる。前記発熱体4と測温点8との距離が0.5mm未満となると、発熱体4との絶縁距離が確保されずに絶縁破壊を起こすおそれがあり、一方、1mmを超えると、制御用熱電対6の測定温度とセラミックヒーター2の実際の温度との差が大きくなり、セラミックヒーター2に過電力を供給し、セラミックヒーター2の破損を招くおそれがある。なお、セラミックヒーター2に埋設された発熱体4と制御用熱電対6の測温点8との距離Kを0.5〜1.0mmにするには、制御用熱電対6の接合部Aの径を小さく加工すること、先端を切削して調整すること等によって調整でき、前記距離Kは透過X線にて確認することができる。
【0028】
またさらに、前記制御用熱電対6は、図1(b)に示すように複数の屈曲部6cを有するように配置されていることが好ましく、ホルダー5の側面に沿って保持され、ホルダー5の側面に開口された孔5Aもしくは溝より屈曲部6cを有し、ホルダー5の中心に向かって形成された孔5Bに屈曲部6cを有して挿通され、セラミックヒーター2に設けられた取付け穴7に制御用熱電対6の測温点8が発熱体4近傍に位置するように配置されており、外部より荷重がかかった際にも2ヶ所の屈曲部6cを有するため、測温点8の位置がずれることはなく、セラミックヒーター2の温度変化に高精度に追従する測温を行うことができる。
【0029】
なお、前記取付け穴7の径は、制御用熱電対6の第1素線6a及び第2素線6bの線径の3倍以内としておくと、制御用熱電対6の接合部Aを取付け穴7内に固定する低熱伝導の無機接着剤の充填量を減少できるため、より短時間で正確な温度を測定することができる。
【0030】
上述のように制御用熱電対6を配置するには、予め、超音波加工等によって、前記ホルダー5に孔5A、5BもしくはT字型の溝を形成するとともに、前記セラミックヒーター2に取付け穴7を形成した後、ホルダー5の側面から制御用熱電対6を前記孔5A、5Bもしくは溝の中に挿入し、さらに取付け穴7中に接合部Aを挿入するとともに無機接着材を充填し、室温で24時間乾燥後、250℃にて3時間乾燥することによって固定される。
【0031】
また、前記制御用熱電対6は、2つ以上配置することが好ましく、前記制御用熱電対6の他にセラミックヒーター2の発熱体4近傍に温度モニター用熱電対を配置しておくと、制御用熱電対6に万が一の異常が発生した場合、もしくは不慮の外力等による位置ズレが生じセラミックヒーター2に過電力が供給された場合、前記温度モニター用熱電対で過昇温を検知し、セラミックヒーター2への電力供給を中断させるものであり、より信頼性の高い押圧加熱ヒーターを得ることができる。さらに、制御用熱電対6及び温度モニター用熱電対は、セラミックヒーター2の発熱体4の中心に対し、対称な位置に配置しておくことが好ましく、セラミックヒーター2の温度を均一に測定し、制御用熱電対6と温度モニター用熱電対との検知温度の差を極めて少なくすることが可能となる。
前記セラミックツール1、セラミックヒーター2の下面には、断熱材と支持体とからなるホルダー5が形成されており、このうち断熱材は5〜30%程度の気孔率を有するムライトやムライト−コージェライト等のセラミックスからなり、セラミックヒーター2で発生した熱をセラミックツール1側に有効に伝熱させる作用をなす。
【0032】
また、支持体は、断熱材の下面にセラミックヒーター2等の各部品を統合し他部材に結合するためのものであり、低熱伝導性を有する窒化珪素、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属からなる。
【0033】
この押圧加熱ヒーターを使用する場合は、セラミックヒーター2の発熱体4の電気抵抗により電力が印加される際、ジュール発熱を起こし、セラミックヒーター2の上面に高熱伝導率のセラミックツール1を真空吸着させ、その上面に真空吸着された半導体チップを加熱しながら押圧することによって、低融点ロウ材を介して配線基板上に実装する際、前記低融点ロウ材を溶融させるために必要な温度を、制御用熱電対6にて温度を検知しながら制御する仕組みである。
【0034】
なお、本発明の押圧加熱ヒーターは、上述の実施形態に限定されるものではなく本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。
【0035】
【実施例】
以下本発明の実施例を説明する。
【0036】
(実施例1)
本発明の実施例として、図1に示すような押圧加熱ヒーターを作製し、その特性を測定した。
【0037】
先ず、窒化アルミニウム質焼結体からなるセラミックツールを用い、セラミックヒーターを、主成分として90〜92モル%の窒化珪素に焼結助剤として希土類元素酸化物を2〜10モル%、アルミナ、酸化珪素を窒化珪素と希土類元素酸化物の総量に対して各々0.2〜2.0重量%と1〜5重量%添加混合して原料粉末を調整した後、原料粉末をプレス成形法により成形体を得、該成形体の上面にタングステンに適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して発熱体ペーストを作り、スクリーン印刷法によりプリントし、その上面に上述の成形体を重ねて密着させ、カーボン型中でホットプレスにて(10気圧の窒素雰囲気中にて)約1700〜1850℃で焼成し、35mm×45mmに研削加工し、X線にて発熱体の位置を確認しながら、発熱体から1mmの距離に超音波加工によって制御用熱電対の取付け穴を形成し、発熱体の一部を露出させ電極取出し部を形成しリード線を接続し、熱伝導率が5W/m・K以下のフッ素金雲母系セラミックスからなるホルダーに結合する。
【0038】
前記取付け穴には、線径が0.2mmのアルメル−クロメル素線をスポット溶接にて接合し、接合部の径が0.2mm、0.3mmの制御用熱電対を配置した。
【0039】
また、比較例として線径が0.2mmのアルメル−クロメル素線をバーナー溶接によって接合し、接合部の径が0.5mmの球状となる制御用熱電対を配置した試料を準備する。
【0040】
各制御用熱電対を配置した押圧加熱ヒーター試料を50〜450℃まで2.5秒で昇温させ、所望の温度変化と、各試料の温度変化の様子を図5に示す。
【0041】
図5から明らかなように、接合部の径が0.2mm、0.3mmと各素線の径の和より小さい本発明の制御用熱電対を用いた試料は、温度変化においてオーバーシュートも9℃以下と小さく、3秒以下で測温点が450℃に安定しており、温度変化の様子も所望の温度変化と非常に近似していることが判った。
【0042】
これに対し、接合部の径が0.5mmの制御用熱電対を配置した試料は、温度変化において、490℃と40℃もオーバーシュートしており、測温点が450℃に安定するまでに9秒程度と長時間要することが判った。
【0043】
(実施例2)
上述と同様に図1に示すような押圧加熱ヒーター試料を作製し、線径が0.2mmのアルメル−クロメル素線からなり、測温点を含む接合部の径が0.3mmの制御用熱電対を、測温点とセラミックヒーターの発熱体からの距離をX線にて確認しながら表2に示す如く距離になるよう配置した試料を各3個ずつ用意し、各試料のセラミックヒーターの温度を制御用熱電対によって測定し、制御用熱電対が500℃を検知したときの、セラミックヒーター表面温度をサーモビュアにて測温し、比較した。
【0044】
なお、サーモビュアによるセラミックヒーターの表面温度は、セラミックヒーターの中心に10mm角の正方形をとりその4個所の角部の温度を測定し、平均を算出して求めた。
【0045】
結果を表1に示す。
【0046】
【表1】
【0047】
表1から明らかなように、制御用熱電対の測温点とセラミックヒーターの発熱体との距離が0.5、1mmの試料(No.4〜9)は、制御用熱電対が500℃を検知した際のサーモビュアとの測温値との差は、3℃以下と小さく、制御用熱電対の感度が非常に高いことが判った。
【0048】
これに対し、制御用熱電対の測温点とセラミックヒーターの発熱体との距離が1.3mmの試料(No.7〜9)は、制御用熱電対とサーモビュアの測温値との差が9℃以上と大きく感度が低いことが判った。また、制御用熱電対の測温点とセラミックヒーターの発熱体との距離が0.3mmの試料(No.1〜3)は、3個中2個が絶縁破壊することが判った。
【0049】
【発明の効果】
本発明の押圧加熱ヒーターによれば、各素線を接合した制御用熱電対の接合部の径が、各素線の線径の和より小さいことから、接合部の体積が小さく、熱容量も小さくなるため、制御用熱電対の検知感度が向上し、正確な温度を短時間で測定でき高精度な押圧加熱ヒーターを得ることができる。
【0050】
また、本発明の押圧加熱ヒーターによれば、前記制御用熱電対の測温点が、前記セラミックヒーターの発熱体と0.5〜1mmの距離で配置されていることから、制御用熱電対の測温点とセラミックヒーターの測温位置との距離が小さく、正確な温度をより短時間で検知することができる。
【0051】
さらに、本発明の押圧加熱ヒーターによれば、前記制御用熱電対が複数の屈曲部を有するように配置されていることから、外部より荷重がかかった際にも制御用熱電対の測温点は、位置ずれが生じたり、外れたりすることはなく、セラミックヒーターの測温位置との距離を一定に保持し、検知感度の高い測温を行うことができる。
【0052】
さらにまた、前記制御用熱電対を2つ以上設けたことから、1つは制御用熱電対として、もう1つは過昇温用に温度モニターとして使用することができ、制御用熱電対が不慮の外力等によって位置ずれや異常が生じた場合にも、過電力が供給されることはなく、より信頼性の高い押厚加熱ヒーターを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の押圧加熱ヒーターの一実施形態を示す斜視図であり、(b)は同図(a)の分解斜視図である。
【図2】(a)は本発明の押圧加熱ヒーターに用いられる制御用熱電対を示す断面図であり、同図(b)は本発明の押圧加熱ヒーターにおけるセラミックヒーター及び制御用熱電対を示す部分断面図である。
【図3】従来の押圧加熱ヒーターを示す斜視図である。
【図4】従来の押圧加熱ヒーターに用いる制御用熱電対の断面図である。
【図5】本発明実施例及び比較例の温度変化を示すグラフである。
【符号の説明】
1:セラミックツール
2:セラミックヒーター
3:セラミック体
4:発熱体
5:ホルダー
6:制御用熱電対
7:取付け穴
8:測温点[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a pressure heater that presses and heats an object to be heated, such as a die bonding heater used when a semiconductor chip is mounted on a substrate.
[0002]
[Prior art]
As a method for mounting a semiconductor bare chip on a substrate, an ACF connection method using a resin adhesive such as an anisotropic conductive film (ACF), or Au-Si, Au-Sn, etc. used for a multi-chip module, etc. A flip chip connecting method using a low melting point brazing material has been performed.
[0003]
For example, in the flip chip connection method, a semiconductor chip is placed on a multilayer package substrate, and bonding is performed by pressing while heating with a pressure heater equipped with a ceramic heater from the upper surface. Wiring can be performed while bonding with an adhesive such as solder bumps provided for both.
[0004]
Such a pressure heater first efficiently transfers heat necessary for softening or melting an adhesive used to a solder bump or other adhesive via a semiconductor chip, which is an important factor in the semiconductor industry. From the viewpoint, it is required that the temperature rise time to the required temperature is short, the temperature drop time until the adhesive is solidified after bonding is short, and further, the temperature raising / lowering speed is increased, as shown in FIG. A
Further, as shown in FIG. 4, the control thermocouple 16 has a
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the control thermocouple 16 provided in the conventional pressure heating heater joins the ends of a pair of strands by burner welding, the joint portion including the
[0006]
If the joint has a spherical shape with a large diameter, the distance between the
[0007]
The present invention has been devised in view of the above-described drawbacks, and an object of the present invention is to provide a highly accurate pressure heater that has high detection sensitivity and can measure the temperature of a ceramic heater in a short time.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The pressing heater of the present invention is a pressing heater for pressing and heating a semiconductor chip having an electrode on the lower surface from the upper surface side, and directly bonding the substrate to a substrate having a wiring layer, wherein the heating element is disposed in the ceramic body. An embedded ceramic heater, and a control thermocouple having a temperature measuring point disposed in a mounting hole provided in the ceramic heater and having a pair of strands of different compositions joined to each other. rather smaller than the sum of the wire diameter of the diameter of the joint each wire pair, together with the temperature measuring point is located at a distance of the heating element and 0.5 to 1 mm, the diameter of the wires Is 0.2 mm or less, the diameter of the mounting hole is within three times the wire diameter of each element wire, and the control thermocouple is arranged to have a plurality of bent portions. It is.
[0011]
Also, pressing the heater of the present invention is characterized in that the control thermocouple is provided two or more.
[0012]
According to the press heater of the present invention, since the diameter of the joint portion of the control thermocouple to which the strands are joined is smaller than the sum of the wire diameters of the strands, the volume of the joint portion is small and the heat capacity is also small. Therefore, the detection sensitivity of the control thermocouple is improved, and the accurate temperature can be measured in a short time, and a highly accurate pressure heater can be obtained.
[0013]
Further, according to the press heater of the present invention, the temperature measuring point of the control thermocouple is disposed at a distance of 0.5 to 1 mm from the heating element of the ceramic heater. The distance between the temperature measuring point and the temperature measuring position of the ceramic heater is small, and an accurate temperature can be detected in a shorter time.
[0014]
Further, according to the press heater of the present invention, since the control thermocouple is arranged to have a plurality of bent portions, the temperature measuring point of the control thermocouple is also applied when a load is applied from the outside. In this case, the positional deviation from the temperature measurement position of the ceramic heater is kept constant, and the temperature measurement with high detection sensitivity can be performed without causing any positional deviation.
[0015]
Furthermore, since two or more control thermocouples are provided, one can be used as a control thermocouple, and the other can be used as a temperature monitor for overheating. even if the positional deviation or abnormality by an external force or the like occurs in not that excessive power is supplied, it is possible to obtain a more reliable the pressing heater.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
Pressing heater of the present invention, as the exploded perspective view shown in a perspective view and FIG shows an embodiment of FIG. 1 (a) (b), a ceramic tool for pressing the object to be heated such as a
[0017]
The
[0018]
In addition, the
[0019]
The
[0020]
Further, a
[0021]
The
[0022]
The ceramic body 3 is preferably formed of a silicon nitride sintered body. When the
[0023]
Furthermore, if the thermal conductivity of the ceramic body 3 is set to 50 W / m · K or more at room temperature, the heat of the
[0024]
Further, the in the
[0025]
As shown in FIG. 2 (a), the
[0026]
Here, the diameter of the joint A is made smaller than the sum of the wire diameters of the first strand 6a and the second strand 6b, thereby reducing the heat capacity of the junction A including the temperature measuring point 8 for control. The detection sensitivity of the
[0027]
Furthermore, the temperature measuring point 8 of the
[0028]
Furthermore, the
[0029]
If the diameter of the mounting
[0030]
In order to arrange the
[0031]
Further, it is preferable that two or
A
[0032]
Further, the support is for integrating the parts such as the
[0033]
When this pressure heater is used, Joule heat is generated when electric power is applied by the electric resistance of the
[0034]
In addition, the press heater of this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, A various change is possible if it is a range which does not deviate from the summary of this invention.
[0035]
【Example】
Examples of the present invention will be described below.
[0036]
Example 1
As an example of the present invention, a pressure heater as shown in FIG. 1 was prepared and its characteristics were measured.
[0037]
First, using a ceramic tool made of an aluminum nitride sintered body, 90 to 92 mol% of silicon nitride as a main component, 2 to 10 mol% of rare earth element oxide as a sintering aid, alumina, oxidation After adjusting the raw material powder by adding and mixing silicon in an amount of 0.2 to 2.0% by weight and 1 to 5% by weight with respect to the total amount of silicon nitride and rare earth element oxide, the raw material powder is formed into a compact by a press molding method. A heating element paste is prepared by adding and mixing an appropriate organic solvent and solvent with tungsten on the upper surface of the molded body, printed by screen printing, and the above-mentioned molded body is stacked and adhered on the upper surface to obtain a carbon mold. hot (in a nitrogen atmosphere at 10 atm) by a press and fired at about 1700-1,850 ° C. in a medium, and grinding to 35 mm × 45 mm, while confirming the position of the heating element at X-ray, originating By ultrasonic machining the body at a distance of 1mm to form a mounting hole of the control thermocouple, to expose part of the heating element to form an electrode take-out portions connecting the lead wire, the thermal conductivity of 5W / m · K Bonded to the holder made of the following fluorophlogopite ceramics.
[0038]
In the mounting hole, an alumel-chromel strand having a wire diameter of 0.2 mm was joined by spot welding, and a control thermocouple having a joint diameter of 0.2 mm and 0.3 mm was arranged.
[0039]
Further, as a comparative example, a sample is prepared in which an alumel-chromel wire having a wire diameter of 0.2 mm is joined by burner welding, and a control thermocouple having a spherical shape with a joint diameter of 0.5 mm is arranged.
[0040]
FIG. 5 shows a desired temperature change and a state of the temperature change of each sample by raising the temperature of the pressure heater sample in which each control thermocouple is arranged to 50 to 450 ° C. in 2.5 seconds.
[0041]
As can be seen from FIG. 5, the sample using the control thermocouple of the present invention, whose joint diameters are 0.2 mm and 0.3 mm, which is smaller than the sum of the diameters of the individual wires, has an overshoot of 9 when the temperature changes. It was found that the temperature measurement point was stable at 450 ° C. within 3 seconds or less, and the temperature change was very close to the desired temperature change.
[0042]
On the other hand, the sample in which the thermocouple for control with a joint diameter of 0.5 mm is arranged has overshoots at 490 ° C and 40 ° C in the temperature change, and the temperature measurement point becomes stable at 450 ° C. It was found that it takes about 9 seconds.
[0043]
(Example 2)
A pressure heater sample as shown in FIG. 1 is prepared in the same manner as described above, and is composed of an alumel-chromel strand having a wire diameter of 0.2 mm, and a thermoelectric for control having a joint diameter including a temperature measuring point of 0.3 mm. pair, measuring the distance from the hot point and the heating element of the ceramic heater samples were placed so that the distance as shown in Table 2 while checking by X-ray prepared one not a three each, for each sample of the ceramic heater The temperature was measured with a control thermocouple, and the surface temperature of the ceramic heater when the control thermocouple detected 500 ° C. was measured with a thermoviewer and compared.
[0044]
The surface temperature of the ceramic heater by the thermoviewer was obtained by taking a 10 mm square at the center of the ceramic heater, measuring the temperature at the four corners, and calculating the average.
[0045]
The results are shown in Table 1.
[0046]
[Table 1]
[0047]
As is clear from Table 1, the samples (Nos. 4 to 9) whose distance between the temperature measuring point of the control thermocouple and the heating element of the ceramic heater is 0.5 mm and 1 mm (No. 4 to 9) have a temperature of 500 ° C. for the control thermocouple. The difference from the temperature measurement value with the thermoviewer at the time of detection was as small as 3 ° C. or less, and it was found that the sensitivity of the control thermocouple was very high.
[0048]
On the other hand, in the sample (No. 7 to 9) in which the distance between the temperature measuring point of the control thermocouple and the heating element of the ceramic heater is 1.3 mm, the difference between the temperature measured value of the control thermocouple and the thermoviewer is It was found that the sensitivity was large at 9 ° C or higher and the sensitivity was low. Further, it was found that two of the three samples (Nos. 1 to 3) in which the distance between the temperature measuring point of the control thermocouple and the heating element of the ceramic heater was 0.3 dielectric breakdown.
[0049]
【The invention's effect】
According to the press heater of the present invention, since the diameter of the joint portion of the control thermocouple to which the strands are joined is smaller than the sum of the wire diameters of the strands, the volume of the joint portion is small and the heat capacity is also small. Therefore, the detection sensitivity of the control thermocouple is improved, and the accurate temperature can be measured in a short time, and a highly accurate pressure heater can be obtained.
[0050]
Further, according to the press heater of the present invention, the temperature measuring point of the control thermocouple is disposed at a distance of 0.5 to 1 mm from the heating element of the ceramic heater. The distance between the temperature measuring point and the temperature measuring position of the ceramic heater is small, and an accurate temperature can be detected in a shorter time.
[0051]
Further, according to the press heater of the present invention, since the control thermocouple is arranged to have a plurality of bent portions, the temperature measuring point of the control thermocouple is also applied when a load is applied from the outside. In this case, the positional deviation from the temperature measurement position of the ceramic heater is kept constant, and the temperature measurement with high detection sensitivity can be performed without causing any positional deviation.
[0052]
Furthermore, since two or more control thermocouples are provided, one can be used as a control thermocouple, and the other can be used as a temperature monitor for overheating. Even when a positional deviation or abnormality occurs due to the external force or the like, overpower is not supplied, and a thicker heater with higher reliability can be obtained.
[Brief description of the drawings]
1A is a perspective view showing an embodiment of a pressure heater according to the present invention, and FIG. 1B is an exploded perspective view of FIG.
FIG. 2A is a cross-sectional view showing a control thermocouple used in the press heater of the present invention, and FIG. 2B shows a ceramic heater and a control thermocouple in the press heater of the present invention. It is a fragmentary sectional view.
FIG. 3 is a perspective view showing a conventional pressure heater.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a control thermocouple used in a conventional pressure heater.
FIG. 5 is a graph showing a temperature change of an example of the present invention and a comparative example.
[Explanation of symbols]
1: Ceramic tool 2: Ceramic heater 3: Ceramic body 4: Heating element 5: Holder 6: Thermocouple for control 7: Mounting hole 8: Temperature measuring point
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001161500A JP4601208B2 (en) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | Press heater |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001161500A JP4601208B2 (en) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | Press heater |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002353254A JP2002353254A (en) | 2002-12-06 |
| JP4601208B2 true JP4601208B2 (en) | 2010-12-22 |
Family
ID=19004765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001161500A Expired - Fee Related JP4601208B2 (en) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | Press heater |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4601208B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4397546B2 (en) * | 2001-06-07 | 2010-01-13 | 光洋サーモシステム株式会社 | Continuous heat treatment furnace and workpiece heat treatment temperature control method in continuous heat treatment furnace |
| JP5855402B2 (en) * | 2010-09-24 | 2016-02-09 | 日本碍子株式会社 | Susceptor and its manufacturing method |
| JP2022111042A (en) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 日東電工株式会社 | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6370576U (en) * | 1986-10-27 | 1988-05-12 | ||
| JP3872229B2 (en) * | 1999-04-28 | 2007-01-24 | 京セラ株式会社 | Press heating type ceramic heater |
| JP2001085143A (en) * | 1999-07-09 | 2001-03-30 | Ibiden Co Ltd | Ceramic heater |
-
2001
- 2001-05-29 JP JP2001161500A patent/JP4601208B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002353254A (en) | 2002-12-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1229571B1 (en) | Hot plate | |
| JPWO2003015157A1 (en) | Ceramic joint | |
| JP3618640B2 (en) | Hot plate for semiconductor manufacturing and inspection equipment | |
| JP2004200619A (en) | Wafer support member | |
| JP4081396B2 (en) | Thermocouple mounting structure of ceramic heater | |
| JP4601208B2 (en) | Press heater | |
| JP2003059789A (en) | Connection structure and semiconductor manufacturing and inspecting apparatus | |
| JP3694607B2 (en) | Contact heating heater and contact heating apparatus using the same | |
| US12288714B2 (en) | Sample holder | |
| JPH10275833A (en) | Manufacturing method of pulse heater and semiconductor chip mounting board | |
| JP4605932B2 (en) | Contact heating device | |
| JP3977965B2 (en) | Heater device | |
| JP4683782B2 (en) | Contact heating device | |
| JP3628305B2 (en) | Contact heating device | |
| JP4243216B2 (en) | Wafer support member | |
| JP2002305073A (en) | Ceramic heater | |
| JP3847240B2 (en) | Press heater and manufacturing method thereof | |
| JP3563726B2 (en) | Wafer support member | |
| JP2001319758A (en) | Hot plate unit | |
| JP3872229B2 (en) | Press heating type ceramic heater | |
| JP4711527B2 (en) | Heater for contact heating | |
| JP2002334820A (en) | Ceramic heater for heating semiconductor wafer or liquid crystal substrate | |
| JP2006222100A (en) | Press heater | |
| JP2003146770A (en) | Ceramic joined body | |
| JP2003347287A (en) | Wafer support member |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080118 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091016 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091026 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091224 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100831 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100928 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131008 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4601208 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |