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JP4612973B2 - Method for manufacturing electroluminescent device - Google Patents
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光層が印刷法によりパターン形成されたエレクトロルミネッセント(以下ELと略称する場合がある。)素子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
EL素子は、対向する電極から注入された正孔および電子が発光層内で結合し、そのエネルギーで発光層中の蛍光物質を励起し、蛍光物質に応じた色の発光を行うものであり、自発光の面状表示素子として注目されている。その中でも、有機物質を発光材料として用いた有機薄膜ELディスプレイは、印加電圧が10V弱であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高く、単純な素子構造で発光が可能で、特定のパターンを発光表示させる広告その他低価格の簡易表示ディスプレイへの応用が期待されている。
【0003】
このようなEL素子を用いたディスプレイの製造にあっては、電極層や有機EL層のパターニングが通常なされている。このEL素子のパターニング方法としては、発光材料をシャドウマスクを介して蒸着する方法、インクジェットによる塗りわけ方法等がある。しかしながら、これらの方法では、製造工程の簡便さ、材料の利用効率の低さ、最適膜厚への薄層化に問題が残る。
【0004】
前者の蒸着法は、シャドウマスクのパターンを微細にすればするほどシャドウマスクの薄層化が要求されシャドウマスクの微細加工が困難であった。さらにシャドウマスクの伸び縮みや歪み、蒸着の回り込みなどによって正確な蒸着成膜が困難であるため高精度な真空装置が必須でありコスト面でも問題がある。
【0005】
さらに後者のインクジェット法は、パターニングを補助する構造物や塗工液を塗布する基材上に、前処理を施す必要があるなど、製造工程の簡便さに問題がある。
【0006】
特に、これらの問題点は、EL素子をフルカラー化する場合、すなわち複数色の発光層を形成しなければならない場合に、大きな問題となっていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、複数の発光層を有するEL素子を製造する際に、薄膜でかつ均一な膜厚の発光層を形成することができ、さらに製造工程を簡略化することが可能なEL素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、請求項1に記載するようにEL素子を構成する発光層を印刷方式で成膜し、上記発光層を形成するための発光層形成用塗工液の粘度が、0.5cP以上500cP以下であることを特徴とするEL素子の製造方法を提供する。発光層を印刷方式で成膜することにより、製造工程が簡便化され、製造効率が向上する。さらに発光層形成用塗工液の粘度を上記の範囲のものとすることにより、塗工液が基材上で濡れ広がり易くなり、発光層の膜厚の薄層化が可能となる。
【0009】
上記請求項1に記載された発明においては、請求項2に記載するように、上記印刷方式は凹版印刷であることが好ましい。凹版印刷では、版の深さが膜厚を制御する一要因となり、版の深さを調節することで発光層の膜厚の薄層化を容易とすることができるからである。
【0010】
上記請求項2に記載された発明においては、請求項3に記載するように、上記凹版の溝またはセルの深さが、500オングストローム〜1mmの範囲内であることが好ましい。凹版印刷では塗工液の粘度と凹版の溝またはセルの深さ等が膜厚を制御する要因である。従って上記粘度範囲の塗工液とあわせて、溝またはセルの深さを上記範囲とすることで膜厚の均一化、薄層化を可能とすることができるからである。
【0011】
上記請求項2または請求項3に記載された発明においては、請求項4に記載するように、前記凹版の発光層形成領域が複数のセルに分割されて形成されていることが好ましい。
【0012】
上記請求項2から請求項4までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項5に記載するように印刷版上の溝またはセルの集団の全面積が、基材上に形成される発光層の面積より小さく形成されていることが好ましい。このように溝またはセルの集団の全面積を基材上に形成される発光層の面積より小さく形成することにより、印刷後基材上で濡れ広がることにより、所定の膜厚、膜質を有する発光層を形成することが可能となるからである。
【0013】
上記請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項6に記載するように、上記印刷方式が、印刷版から基材に発光層形成用塗工液を直接印刷する方式、もしくは印刷版から転写体に発光層形成用塗工液を転写させ、転写体上の発光層形成用塗工液を基材上に印刷する方式のいずれかの印刷方式が用いられる。本発明においては、このように転写体を用いた方式であっても適用可能である。
【0014】
上記請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項7に記載するように、上記印刷方式で用いる印刷版、転写体、基材および圧胴の少なくとも1つが、弾性体であることが好ましい。これは印刷版から基材に印刷する際、例えば基材上に凹凸が形成されている場合であっても、印刷版か基材のいずれか一方が弾性体であるので、基材上への印刷を可能とすることができるからであり、この点は転写体を用いた場合も同様であるからである。
【0015】
上記請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項8に記載するように、2色以上の発光層形成用塗工液の塗り分けが可能である。これによりフルカラーのEL素子の製造も可能とすることができる。
【0016】
上記請求項8に記載された発明においては、請求項9に記載するように、2色以上の上記発光層を印刷方式で形成する際、先に印刷された全ての発光層形成用塗工液が固化した後、塗布部を保護材で覆い、次いで後の発光層形成用塗工液を印刷するようにしてもよい。この方法を用いると、後の塗工液が塗布される際、先に塗布された塗布部が保護層で覆われていることから、この塗布部を印刷版などで傷つけることなく2色以上の発光層を不具合無くパターニングすることが可能となるからである。
【0017】
上記請求項8に記載された発明においては、請求項10に記載するように、2色以上の上記発光層を印刷方式で形成する際、先に印刷された全ての発光層形成用塗工液が固化する前に後の発光層形成用塗工液を印刷するようにしてもよい。この方法を用いると、後の塗工液が塗布される際、先に塗布された全ての塗工液が完全に固化していないため、先に塗布された塗工液を印刷版などで傷つけることなく2色以上の発光層をパターニングすることが可能となるからである。
【0018】
【発明の実施の形態】
本発明のEL素子の製造方法は、EL素子を構成する発光層を印刷方式で成膜し、上記発光層を形成するための発光層形成用塗工液の粘度が、0.5cP以上500cP以下であることを特徴とするものであり、発光層を印刷方式で成膜する点、およびその際の発光層形成用塗工液の粘度が上述したように極めて低い粘度とした点、さらにはこのような低い粘度の塗工液が濡れ広がることにより均一な薄膜状の発光層が形成できる点に大きな特徴を有するものである。以下、このような本発明のEL素子の製造方法について具体的に説明する。
(印刷方式)
まず、本発明に用いられる印刷方式について説明する。一般に、印刷方式は用いる印刷版の形態によって、凸版、凹版、平版、孔版といった種類を挙げることができるが、本発明においては、上述したような粘度範囲の発光層形成用塗工液を用いることができる印刷方式であれば、いかなる印刷方式を用いてもよい。しかしながら、得られる発光層の膜厚の制御が容易である点から、凹版を用いた凹版印刷方式を用いることが好ましい。そして、凹版印刷方式の中でも、得られる発光層の精度の面を考慮すると、グラビア印刷を用いることが特に好ましい。
【0019】
このように凹版印刷方式を用いた場合、本発明においては、その凹版の溝またはセルの深さが500オングストローム〜1mmの範囲内、特に500オングストローム〜500μmの範囲内であることが好ましい。凹版の溝またはセルの深さをこの範囲内とすることにより、得られる発光層の膜厚の最適化が図れるからである。
【0020】
本発明において上述したように凹版を用いて印刷する場合の凹版の形状としては、印刷版によりライン状のパターンを得ることを目的とする場合と、エリア状のパターンを得ることを目的とする場合とで大きく異なる。
【0021】
例えば、ライン状のパターンを得ることを目的とする場合の凹版の溝またはセルの幅は、1μm〜1mmの範囲内、特に1μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。凹版の溝またはセルの幅をこの範囲にすることにより、得られる発光層のパターンの線幅を要求される線幅に調節することが可能となり、各パターンを緻密に形成することができからである。
【0022】
一方、エリア状のパターンを得ることを目的とする場合は、凹版の溝またはセルの幅が、1μm〜1mmの範囲内、特に1μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。溝またはセルの幅を上記範囲内とすることにより、基材上に印刷された発光層形成用塗工液が濡れ広がって連なることにより、エリア状のパターンを欠損無く形成することができるからである。
【0023】
また、ライン状のパターンを得るための凹版における溝またはセル間の間隔としては、1μm以上であることが好ましい。これは凹版の溝またはセル間の間隔をこの範囲内にすることにより、パターン状に形成された発光層の混色等の不具合を回避できるからである。
【0024】
一方、エリア状のパターンを形成することを目的とする場合は、凹版の溝またはセル間の間隔が、1μm〜10mmの範囲内、特に1μm〜1mmの範囲内とすることが好ましい。溝またはセル間の間隔を上記範囲内とすることにより、印刷された発光層形成用塗工液が濡れ広がり連なることが可能であり、欠損の無いエリア状のパターンを得ることができるからである。
【0025】
本発明においては、図1に示すように、基材上に形成される発光層に対応する凹版の発光層形成領域が複数のセルに分割されて形成されていることが好ましい。すなわち、図1Aに示すような印刷版上のパターンを用いて、図1Bに示すような基材上の発光層を形成することが好ましいのである。
【0026】
また、本発明においては、上記印刷版上の溝またはセルの集団の全面積が、基材上に形成される発光層の面積より小さく形成されていることが好ましい。このように溝またはセルの集団の全面積を基材上に形成される発光層の面積より小さく形成することにより、印刷後基材上で濡れ広がることにより、所定の膜厚、膜質を有する発光層を形成することが可能となるからである。
【0027】
この際、基材上に形成される発光層の面積を100とした場合の、印刷版上の溝またはセルの集団の全面積は、10〜98の範囲内、特に30〜98の範囲内とすることが好ましい。
【0028】
本発明に用いられる印刷版におけるセルの形状は、特に限定されるものではなく、四角形形状、三角形形状、五角形形状、六角形形状、円形状、半円形状、
斜線版等を用いることが可能である。
【0029】
印刷版の製版方式は、コンベンショナルグラビア、網グラビア、電子彫刻グラビア、ミルのいずれの方式であってもよい。
【0030】
本発明における印刷方式においては、基材上に発光層形成用塗工液を印刷版から直接印刷する方式であってもよく、また印刷版から転写体に発光層形成用塗工液を転写させ、転写体上の発光層形成用塗工液を基材上に印刷する方式であってもよい。この際用いられる転写体は、板状のものでも円筒状のものであってもよい。
【0031】
さらに、本発明に用いられる印刷方式においては、印刷版もしくは被印刷体である基材、転写体、および圧胴のうち少なくとも1つは弾性体であることが好ましい。発光層を印刷法で成膜する場合、基材上に電極層や絶縁層といった層が形成された状態で発光層を印刷する場合が多い。このような状態で印刷する際、印刷版および基材のいずれも弾性を有さない場合は、基材上の凹凸に対応することができず、精度の良好な印刷を行うことができないからである。
【0032】
なお、上述したように、本発明においては、印刷版から直接基材に印刷する方式のみならず、印刷版から転写体を経て基材に印刷を行う方式を含むものであるが、この場合は、印刷版もしくは被印刷体である基材、転写体、および圧胴のうち少なくとも1つは、弾性体であることが好ましい。
【0033】
ここで、本発明でいう弾性体とは、JIS規格(JIS A)で10°〜90°の硬度を示すものである。
【0034】
印刷版、圧胴もしくは転写体が弾性体である場合は、上述したような弾性を有する材質、例えば合成ゴム(アクリロニトリルブタジエンゴム等)に充填剤、可塑剤を加えたもの等からなる印刷版、圧胴もしくは転写体が用いられる。
【0035】
一方、基材が弾性体である場合としては、基材が樹脂製の基材である場合を挙げることができる。この際、用いることができる樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)等を挙げることができる。
【0036】
なお、本発明においては、印刷版、転写体、および圧胴は、上述した粘度範囲の発光層形成用塗工液を用いた印刷方式が行えれば、ロール状、板状のいずれであってもかまわない。さらに基材に関しては、ロール状の支持体にシート状の基材を巻きつけたものを用いて印刷を行ってもよい。
【0037】
なお、図2は本発明において用いることができる印刷機の仕組みの一例を図示したものである。まず、塗工液の供給部であるインキパン1に、ロール状の版胴2をその一部が浸される位置に配置する。
【0038】
この版胴2は、上述したようにロール状のものであっても板状のものであってもよい。具体的には、金属ロール、ゴムロール等を挙げることができ、形成する材料としては、合成ゴム(アクリロニトリルブタジエンゴム等)、セラミックス、エボナイト、導電性材料等を挙げることができる。
【0039】
版の溝またはセル以外の部分が撥水性を有していてもよい。これによりドクターによる塗工液の除去が円滑になる。
【0040】
この版胴2には、余分な塗工液を除去するためのドクター3が配置されている。このドクター3の材質としては、ステンレス、合成ゴム(アクリロニトリルブタジエンゴム等)、セラミックス、エボナイト、導電性材料等を挙げることができる。
【0041】
上記版胴2に付着した塗工液は、図1に示すように転写体4に転写される。ここで転写体4とは、版胴2上の塗工液を基材に印刷させるロール状または板状のものをいい、金属ロール、ゴムロール、アニロックスロール(彫刻ロール)等を挙げることができる。
【0042】
そして、転写体4に転写された塗工液は、被印刷体である基材5に印刷される。この際、基材5は、転写体4と圧胴6との間を通過するように配置されている。
【0043】
ここで圧胴6とは、版胴または転写体に基材を押圧するロールまたは板状のものをいい、金属ロール、ゴムロール等を挙げることができる。材料としては、合成ゴム(例えばアクリロニトリルブタジエンゴム)等を挙げることができる。
【0044】
(発光層形成用塗工液)
次に、本発明に用いられる発光層形成用塗工液について説明する。本発明においては、発光層の均一化、薄層化が要求される。そのため塗工液は薄く濡れ広がり易い特性を有する必要がある。従ってこの要求を満たすためには塗工液の粘度は低くなければならない。
【0045】
このような観点から、本発明においては、上述したような印刷方式で複数の発光層を形成する際、各発光層形成用塗工液の粘度範囲が、0.5cP〜500cPの範囲内、特に0.5cP〜200cPの範囲内であることが好ましい。発光層形成用塗工液の粘度が、上記範囲より低い場合は、後述する発光材料の濃度が低くなり、均一な膜厚の発光層を得ることができなくなるからである。また、粘度が上記範囲より高い場合は、塗布された領域内で十分に濡れ広がらず均一な膜厚を確保することができない可能性があり、また発光層の薄層化が困難になる場合があるからである。
【0046】
また塗布された領域内で十分に広がり均一な膜を得るために塗工液に使用されている溶媒の沸点が60℃〜400℃、好ましくは90℃〜300℃の範囲内のものを少なくとも1つ含む。これにより塗工液が均一にレべリングされる。100℃以下の低沸点溶媒においても、その溶媒雰囲気下にすることで塗工液が均一にレべリングされる。基材に塗工液が転移した後、十分にレべリングしてから乾燥工程を行う。
【0047】
また、本発明に用いられる発光層形成用塗工液の表面張力は、10〜70mN/mの範囲内とすることが好ましい。この範囲とすることにより、後述する基材との接触角を所定の範囲とすることができるからである。
【0048】
このような本発明に用いられる発光層形成用塗工液は、通常、発光材料、溶媒、およびドーピング剤等の添加剤により構成されるものであり、また、複数色の発光層が形成されるものであるので、複数種類の発光層形成用塗工液が用いられる。以下、これら発光層形成用塗工液を構成する各材料について説明する。
【0049】
A.発光材料
本発明に用いられる発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。
【0050】
1.色素系材料
色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【0051】
2.金属錯体系材料
金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Al、Zn、Be等または、Tb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【0052】
3.高分子系材料
高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したもの等を挙げることができる。
【0053】
本発明においては、上記粘度範囲の発光層形成用塗工液で印刷方式により発光層の薄層化が可能であるという利点を活かすという観点から、発光材料として上記高分子系材料を用いたものがより好ましい。
【0054】
B.溶媒
上述した発光材料を溶解もしくは分散させ、発光層形成用塗工液とする溶媒としては、上述した発光材料を溶解もしくは分散し、かつ所定の粘度、表面張力、接触角、および乾燥性とすることができる溶媒であれば特に限定されるものではない。
【0055】
具体的には、水、DMF、DMSO、アルコール、ベンゼン、トルエン、キシレンの各異性体、トリメチルベンゼンの各異性体、テトラメチルベンゼン、テトラリン、p−シメン、クメン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼンの各異性体、ブチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンの各異性体、アニソール、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、2−ブタノン、1,4−ジオキサシ、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、ジペンジルエーテル、ジグライム等をはじめとするエーテル系溶媒、ジクロロメタン、1,1−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1−クロロナフタレン等のクロル系溶媒、シクロヘキサノン等が挙げられるが、この他でも条件を満たす溶媒であれば使用可能であり、2種類以上の混合溶媒であっても良い。
【0056】
本発明においては、発光層形成用塗工液を基材(もしくは透明電極層)上に印刷した場合の発光層形成用塗工液の接触角も、好適な印刷を得るためには重要な要素となる。この場合の接触角としては、例えば印刷法によりライン状の発光層を形成する場合は、5°〜170°、好ましくは5°〜140°の範囲内であり、エリア状の発光層を形成する場合の接触角は、30°以下、特に20°以下とすることが好ましい。
【0057】
このような接触角は基材の材料と発光層形成用塗工液を構成する溶媒との関係により決定されるものである。この点を考慮すると、本発明における発光層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、ライン状の発光層を形成するための発光層形成用塗工液の場合は、トルエンを挙げることが可能であり、一方、エリア状の発光層を形成する場合は、キシレンを挙げることができる。
【0058】
C.添加剤
本発明に用いられる発光層形成用塗工液には、上述したような発光材料および溶媒に加えて種々の添加剤を添加することが可能である。例えば、発光層中の発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピング材料が添加される場合がある。このドーピング材料としては例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィレン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等を挙げることができる。
【0059】
また、必要に応じて発光層形成用塗工液の粘度、表面張力、接触角または乾燥性を調製できる添加剤等を添加してもよい。
【0060】
(発光層)
本発明においては、上述した発光層形成用塗工液を用いて、印刷法により発光層が形成される。本発明における発光層は、1種類の発光層であってもよく、また複数色の発光層が形成されてもよい。
【0061】
本発明においては、上記発光層の膜厚が、100オングストローム〜10000オングストロームの範囲内、好ましくは100オングストローム〜2000オングストロームの範囲内となるように形成される。
【0062】
また、上記発光層は、上述したようにライン状に形成される場合と、エリア状に形成される場合とがある。本発明においては、ライン状に形成されるとは、線幅が300μm以下の場合をいう。一方、本発明においてエリア状に形成されるとは、線幅が300μmを超える場合をいう。
【0063】
(EL素子)
本発明のEL素子の製造方法は、上述したような印刷方式により上述した発光層形成用塗工液を用いて発光層を形成するところに特徴を有するものであるが、本発明のEL素子の製造方法により得られるEL素子は、このような発光層以外にも種々の有機EL層、電極等により構成されるものである。以下、これらについて説明する。
【0064】
1.基材
本発明のEL素子の製造方法により得られるEL素子は、上述したような発光層等が基材上に形成されてなるものである。このような基材としては、透明性が高いものであれば特に限定されるものではなく、ガラス等の無機材料や、透明樹脂等を用いることができる。
【0065】
上記透明樹脂としては、フィルム状に成形が可能であれば特に限定されるものではないが、透明性が高く、耐溶媒性、耐熱性の比較的高い高分子材料が好ましい。また必要に応じて水蒸気、酸素等のガスを遮断するガスバリアー性を有する基材を用いても良い。具体的には、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリミクロイキシレンジメチレンテレフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられるが、この他でも条件を満たす高分子材料であれば使用可能であり、2種類以上の共重合体であっても良い。
【0066】
本発明においては、印刷版もしくは転写体を用いて印刷を行う場合に、上述したように基材に弾性が求められる場合がある。この際、用いることができる樹脂としては、印刷方式の項で説明した樹脂を挙げることができる
2.電極層
本発明で得られるEL素子は、基材上に形成される第1電極層、および上述した発光層等の有機EL層上に形成される第2電極層を有するものである。このような電極層は、陽極および陰極からなり、陽極および陰極のどちらか一方が、透明または、半透明であり、陽極としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましい。また、複数の材料を混合させてもよい。いずれの電極層も、抵抗はできるだけ小さいものが好ましく、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。
【0067】
好ましい陽極材料としては、例えば、ITO、酸化インジウム、金が挙げられる。好ましい陰極材料としては、例えばマグネシウム合金(MgAg他)、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、AlMg他)、金属カルシウムおよび仕事関数の小さい金属が挙げられる。
【0068】
3.発光層以外の有機EL層
本発明で得られるEL素子は、上述した発光層の他、有機EL層として、バッファー層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等が組み合わされていてもよい。
【0069】
4.絶縁層
本発明により得られるEL素子には、基材上に形成されている第一電極層のパターニングしたエッジ部分および素子の非発光部分を覆い、発光に不要な部分での短絡を防ぐために、絶縁層を発光部分が開口となるように予め設けておいてもよい。このようにすることにより、素子の短絡等による欠陥を低減し、長寿命で安定発光する素子が得られる。
【0070】
このような絶縁層は、通常知られている通り、例えば、UV硬化性の樹脂材料等を用いてパターン形成することができる。
【0071】
(EL素子の製造方法)
最後に、本発明のEL素子の製造方法における一般的な工程の流れについて説明する。
【0072】
まず、予め第1電極層が所定の形状にパターニングされた基材上に、必要であれば、第1電極層のエッジ部分を覆うように絶縁層を形成する。次いで、必要に応じてバッファー層等の有機EL層を形成した後、印刷方式を用いて複数色の発光層形成用塗工液を各色ごとに印刷する。
【0073】
この際の印刷方式については、上述したように特に限定させるものではないが、凹版を用いた印刷方法が好適に用いられる。このように凹版を用いた場合は、版の凹部に上述した粘度の発光層形成用塗工液をディッピング等により付着させ、その後余分な塗工液はドクターブレード等を用いてかき取った後に、基材上に印刷される。
【0074】
本発明においては、2色以上の発光層を形成する発光層形成用塗工液を基材上に印刷することにより、2色以上の発光層形成用塗工液の塗り分けを行なうことができる。これにより、最終的にはフルカラーのEL素子を製造することが可能となる。
【0075】
このように、2色以上発光層を形成する発光層形成用塗工液を連続して印刷する場合は、先に印刷された発光層を傷つけることなく次の印刷を行う必要がある。この際、以下に示すような二つの方法を用いることが好ましい。
【0076】
第1の方法は、2色以上の上記発光層を印刷方式で形成する際、先に印刷された全ての発光層形成用塗工液が固化した後、塗布部を保護材で覆い、次いで後の発光層形成用塗工液を印刷する方法である。ここで用いられる保護材は、後の発光層形成用塗工液が塗布される領域に形成されないようにパターニングすることができれば、いかなる材料もしくは形成方法で形成されたものであってもよい。
【0077】
本発明においては、先に塗布し、固化後の塗布部に、例えばフィルム状の保護材を付着させ、後の発光層形成用塗工液を塗布した後に剥離する方法等を挙げることができる。
【0078】
このような保護材に用いることができる材料としては、フィルム上に成型が可能であれば特に限定されるものではないが、伸び縮みや歪みがない、または比較的小さい高分子材料が好ましい。具体的には、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリミクロイキシレンジメチレンテレフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられるが、この他でも条件を満たす高分子材料であれば使用可能であり、2種類以上の共重合体であっても良い。
【0079】
このような方法を用いると、後の塗工液が塗布される際、先に塗布された塗布部が保護材で覆われていることから、この塗布部を印刷版などで傷つけることなく2色以上の発光層を不具合無くパターニングすることが可能となる。
【0080】
一方、第2の方法は、先に印刷された全ての塗工液が固化する前に、後の塗工液を印刷するようにする方法である。先に印刷された塗工液が完全に固化した後に、次の印刷を開始すると、印刷版が接触した部分が剥がれ落ちる等の不具合が生じる可能性があるからである。
【0081】
なお、本発明において、「発光層形成用塗工液が固化する前」とは、乾燥工程前で、塗工液がレベリングすることが可能な状態を示すものである。一方、「発光層形成用塗工液が固化した後」とは、乾燥工程を行なった後の状態をいう。全ての乾燥工程は、塗工液が十分にレべリングしてから行う。
【0082】
このようにして発光層を形成した後、表示領域を覆うように第2電極層を形成し、最後に防湿のための封止を行い、EL素子が完成する。
【0083】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0084】
【実施例】
以下に実施例を示し、本発明をさらに説明する。
【0085】
[実施例1]
<発光層形成用塗工液の調製>
高分子蛍光体1をキシレンに溶解させ、粘度が0.5cPとなるように調整して発光層形成用塗工液1を調製した。さらに高分子蛍光体1と異なる発光色を示す高分子蛍光体2をキシレンに溶解させ、粘度が0.5cPとなるように調整して発光層形成用塗工液2を調製した。ここで高分子蛍光体1とは、ポリビニルカルバゾール+クマリン誘導体からなる発光材料を示し、高分子蛍光体2とは、ポリビニルカルバゾール+ペリレン誘導体からなる発光材料を示す。
【0086】
<素子の作製>
150mm角、厚さ400μm、表面抵抗率40Ω(ジオマテック(株)製)のITO成膜ポリカーボネート基材に、スピンコーターを用いて正孔注入層としてポリスチレンスルフォネイト/ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン(PSS/PEDOT)を100nm膜厚で成膜した。さらにこの成膜されたフィルムを減圧下100℃で1時間乾燥した。
【0087】
乾燥後、まず発光材料の発光層形成用塗工液1を、簡易グラビア印刷機(GP−10、クラボウ社製)で、版溝幅1mm、土手幅10mm、版深1mmの印刷版を用い、グラビア印刷法によって、30mm×60mm、膜厚100nmで成膜した。
【0088】
その後、連続して上記発光層形成用塗工液1と異なる発光材料を用いた発光層形成用塗工液2を一回目に塗布された部分以外の領域に成膜した。この際、発光層形成用塗工液1が完全に固化する前に発光層形成用塗工液2の印刷(塗布)を行った。
【0089】
その結果、同150mm角ITO成膜ポリカーボネート上に異なる発光色を示す層を各30mm×60mm、膜厚100nmで塗り分け成膜した。
【0090】
さらに、この発光層塗り分けフィルムを減圧下80℃で1時間乾燥した後、第2電極層としてカルシウムを5nm成膜し、その上に銀を250nm真空蒸着してEL素子を作製した。
【0091】
[実施例2]
<発光層形成用塗工液の調製>
上記高分子蛍光体1をキシレンに溶解させ、粘度が250cPとなるように調整して発光層形成用塗工液3を調製した。さらに上記高分子蛍光体2をキシレンに溶解させ、粘度が250cPとなるように調整して発光層形成用塗工液4を得た。
【0092】
<素子の作製>
150mm角、厚さ400μm、表面抵抗率40Ω(ジオマテック(株)製)のITO成膜ポリカーボネート基材に、スピンコーターを用いて正孔注入層としてポリスチレンスルフォネイト/ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン(PSS/PEDOT)を100nm成膜した。さらにこの成膜されたフィルムを減圧下100℃で1時間乾燥した。
【0093】
乾燥後、まず発光材料の発光層形成用塗工液3を、簡易グラビア印刷機(GP−10、クラボウ社製)で、版溝幅8μm、土手幅4μm、版深2μmの印刷版を用いてグラビア印刷により、30mm×60mm、膜厚100nm、で成膜した。次いで、上記発光層形成用塗工液4を一回目に塗布された部分以外へ成膜した。この際、発光層形成用塗工液4は、発光層形成用塗工液3が完全に固化する前に印刷された。
【0094】
その結果、同150mm角ITO成膜ポリカーボネート上に異なる発光色を示す層を各30mm×60mm、膜厚100nmで塗り分けされた。
【0095】
さらにこの発光層塗り分けフィルムを減圧下80℃で1時間乾燥した後、第2電極層としてカルシウムを5nm成膜し、その上に銀を250nm真空蒸着してEL素子を作製した。
【0096】
[実施例3]
<発光層形成用塗工液の調製>
上記高分子蛍光体1をキシレンに溶解させ、粘度が500cPとなるように調整し、発光層形成用塗工液5を得た。さらに高分子蛍光体1と異なる発光色を示す高分子蛍光体2をキシレンに溶解させ、粘度が500cPとなるように調整し、発光層形成用塗工液6を得た。
【0097】
<素子の作製>
150mm角、厚さ400μm、表面抵抗率40Ω(ジオマテック(株)製)のITO成膜ポリカーボネート基材に、スピンコーターを用いて正孔注入層としてポリスチレンスルフォネイト/ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン(PSS/PEDOT)を100nm成膜した。さらにこの成膜されたフィルムを減圧下100℃で1時間乾燥した。乾燥後、まず発光層形成用塗工液51を、簡易グラビア印刷機(GP−10、クラボウ社製)で、版溝幅5μm、土手幅1μm、版深500オングストロームの印刷用版を用いてグラビア印刷により、30mm×60mm、膜厚100nmで成膜後、連続して上記の発光層形成用塗工液5の発光色と異なる発光材料の発光層形成用塗工液6を一回目に塗布された部分以外の領域に成膜した。その結果、同150mm角ITO成膜ポリカーボネート上に異なる発光色を示す層を各30mm×60mm、膜厚100nmで塗り分け成膜された。
【0098】
さらに、この発光層塗り分けフィルムを減圧下80℃で1時間乾燥した後、第2電極層としてカルシウムを5nm成膜し、その上に銀を250nm真空蒸着してEL素子を作製した。
【0099】
[比較例1]
<発光層形成用塗工液の調整>
上記高分子蛍光体1をキシレンに溶解させ、粘度が0.4cPとなるように調整して、発光層形成用塗工液7を得た。
【0100】
<素子の作製>
150mm角、厚さ400μm、表面抵抗率40Ω(ジオマテック(株)製)のITO成膜ポリカーボネート基材に、スピンコーターを用いて正孔注入層としてポリスチレンスルフォネイト/ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン(PSS/PEDOT)を100nm成膜した。さらにこの成膜されたフィルムを減圧下100℃で1時間乾燥した。乾燥後、まず発光層形成用塗工液7を、簡易グラビア印刷機(GP−10、クラボウ社製)で、版溝幅1mm、土手幅5mm、版深2mmの印刷版を用い、グラビア印刷により成膜した。発光層形成用塗工液7中の高分子蛍光体量が少ないため均一な発光層の膜が得られなかった。
【0101】
[比較例2]
<発光層形成用塗工液の調製>
上記高分子蛍光体1をキシレンに溶解させ、粘度が550cPとなるように調整して発光層形成用塗工液8を得た。
【0102】
<素子の作製>
150mm角、厚さ400μm、表面抵抗率40Ω(ジオマテック(株)製)のITO成膜ポリカーボネート基材に、スピンコーターを用いて正孔注入層としてポリスチレンスルフォネイト/ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン(PSS/PEDOT)を100nm成膜した。さらにこの成膜されたフィルムを減圧下100℃で1時間乾燥した。乾燥後、まず上記発光層形成用塗工液8を、簡易グラビア印刷機(GP−10、クラボウ社製)で、版溝幅8μm、土手幅1μm、版深300オングストロームを用いてグラビア印刷によって成膜した。発光層形成用塗工液8中の粘度が高いため、均一な発光層の膜が得られなかった。
【0103】
【発明の効果】
本発明によれば、発光層を印刷方式で成膜することにより、製造工程が簡便化され、製造効率が向上する。さらに発光層形成用塗工液の粘度を上記の範囲のものとすることにより、塗工液が基材上で濡れ広がり易くなり、発光層の膜厚の薄層化が可能であるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いられる凹版のパターンを説明するための概略平面図である。
【図2】本発明に用いられる印刷装置の一例を示す概略側面図である。
【符号の説明】
1 … インキパン
2 … 版胴
3 … ドクター
4 … 転写体
5 … 基材
6 … 圧胴
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing an electroluminescent (hereinafter sometimes abbreviated as EL) element in which a light emitting layer is patterned by a printing method.
[0002]
[Prior art]
In the EL element, holes and electrons injected from opposing electrodes are combined in the light emitting layer, and the fluorescent material in the light emitting layer is excited with the energy to emit light of a color corresponding to the fluorescent material. It attracts attention as a self-luminous planar display element. Among them, organic thin-film EL displays using organic substances as light-emitting materials have high light-emission efficiency such as high-luminance light emission even when the applied voltage is less than 10 V, and can emit light with a simple element structure. It is expected to be applied to advertisements that display these patterns in light emission and other simple display displays at low cost.
[0003]
In manufacturing a display using such an EL element, patterning of an electrode layer or an organic EL layer is usually performed. As a patterning method of this EL element, there are a method of evaporating a luminescent material through a shadow mask, a method of coating by ink jet, and the like. However, these methods still have problems in the simplicity of the manufacturing process, the low utilization efficiency of materials, and the thinning to the optimum film thickness.
[0004]
In the former vapor deposition method, the thinner the shadow mask pattern is, the thinner the shadow mask is required, and the fine processing of the shadow mask is difficult. Furthermore, since accurate vapor deposition film formation is difficult due to the expansion / contraction and distortion of the shadow mask and the wraparound of the vapor deposition, a highly accurate vacuum apparatus is essential and there is a problem in terms of cost.
[0005]
Furthermore, the latter inkjet method has a problem in the simplicity of the manufacturing process, for example, it is necessary to perform a pretreatment on a structure for assisting patterning or a substrate on which a coating solution is applied.
[0006]
In particular, these problems have been a major problem when full-coloring EL elements, that is, when a plurality of color light-emitting layers must be formed.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above problems, and when manufacturing an EL device having a plurality of light emitting layers, a light emitting layer having a thin film and a uniform thickness can be formed. The main object is to provide a method of manufacturing an EL element capable of simplifying the above.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides a light emitting layer forming coating solution for forming the light emitting layer by forming a light emitting layer constituting an EL element by a printing method as described in claim 1. The manufacturing method of the EL element characterized by having a viscosity of 0.5 cP or more and 500 cP or less is provided. By forming the light emitting layer by a printing method, the manufacturing process is simplified and the manufacturing efficiency is improved. Furthermore, by setting the viscosity of the coating liquid for forming the light emitting layer within the above range, the coating liquid can easily spread on the substrate and the thickness of the light emitting layer can be reduced.
[0009]
In the invention described in claim 1, as described in claim 2, the printing method is preferably intaglio printing. This is because in intaglio printing, the depth of the plate is a factor for controlling the film thickness, and the thickness of the light emitting layer can be easily reduced by adjusting the depth of the plate.
[0010]
In the invention described in the second aspect, as described in the third aspect, it is preferable that the depth of the groove or the cell of the intaglio is in the range of 500 angstrom to 1 mm. In intaglio printing, the viscosity of the coating liquid and the depth of grooves or cells in the intaglio are the factors controlling the film thickness. Therefore, it is possible to make the film thickness uniform and thin by setting the groove or cell depth within the above range together with the coating liquid in the above viscosity range.
[0011]
In the invention described in the second or third aspect, as described in the fourth aspect, the light emitting layer forming region of the intaglio is preferably formed by being divided into a plurality of cells.
[0012]
In the invention according to any one of claims 2 to 4, the entire area of the groove or the group of cells on the printing plate is formed on the substrate as described in claim 5. It is preferable that the light emitting layer be formed smaller than the area of the light emitting layer. In this way, by forming the entire area of the group of grooves or cells smaller than the area of the light emitting layer formed on the substrate, light emission having a predetermined film thickness and film quality is achieved by spreading on the substrate after printing. This is because a layer can be formed.
[0013]
In the invention according to any one of claims 1 to 5, as described in claim 6, the printing method comprises applying a light emitting layer forming coating liquid from a printing plate to a substrate. Either the direct printing method or the printing method of transferring the light emitting layer forming coating solution from the printing plate to the transfer material and printing the light emitting layer forming coating solution on the transfer material on the substrate is used. It is done. In the present invention, even a method using a transfer member as described above is applicable.
[0014]
In the invention according to any one of claims 1 to 6, as described in claim 7, at least one of a printing plate, a transfer body, a base material and an impression cylinder used in the printing method is used. One is preferably an elastic body. This is because when printing from a printing plate to a base material, for example, when unevenness is formed on the base material, either the printing plate or the base material is an elastic body. This is because printing can be performed, and this is the same when a transfer member is used.
[0015]
In the invention according to any one of the first to seventh aspects, as described in the eighth aspect, it is possible to separately coat the light emitting layer forming coating liquids of two or more colors. As a result, a full-color EL element can be manufactured.
[0016]
In the invention described in claim 8, as described in claim 9, when the light emitting layer of two or more colors is formed by a printing method, all of the light emitting layer forming coating liquids previously printed are formed. After solidifying, the coated portion may be covered with a protective material, and then the subsequent light emitting layer forming coating solution may be printed. When this method is used, when a subsequent coating liquid is applied, the previously applied application part is covered with a protective layer, so that the application part is not damaged by a printing plate or the like. This is because the light emitting layer can be patterned without any defects.
[0017]
In the invention described in claim 8, as described in claim 10, when the light emitting layer of two or more colors is formed by a printing method, all of the light emitting layer forming coating solutions previously printed are formed. You may make it print the subsequent coating liquid for light emitting layer formation before solidifying. When this method is used, when the subsequent coating liquid is applied, all of the previously applied coating liquids are not completely solidified, so that the previously applied coating liquid is damaged by a printing plate or the like. This is because it is possible to pattern the light emitting layer of two or more colors without any problem.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the method for producing an EL element of the present invention, the light emitting layer constituting the EL element is formed by a printing method, and the viscosity of the light emitting layer forming coating solution for forming the light emitting layer is 0.5 cP or more and 500 cP or less. The point that the light emitting layer is formed by a printing method, the point that the viscosity of the light emitting layer forming coating liquid is extremely low as described above, and further Such a low-viscosity coating liquid has a great feature in that a uniform thin-film-like light emitting layer can be formed by wetting and spreading. Hereinafter, a method for producing such an EL element of the present invention will be specifically described.
(Printing method)
First, the printing method used in the present invention will be described. In general, depending on the form of the printing plate used, the printing method can include types such as letterpress, intaglio, lithographic and stencil. In the present invention, a coating solution for forming a light emitting layer having a viscosity range as described above is used. Any printing method can be used as long as the printing method can be used. However, it is preferable to use an intaglio printing method using an intaglio because it is easy to control the film thickness of the resulting light emitting layer. Among the intaglio printing methods, it is particularly preferable to use gravure printing in consideration of the accuracy of the light emitting layer to be obtained.
[0019]
Thus, when the intaglio printing method is used, in the present invention, the depth of the groove or cell of the intaglio is preferably in the range of 500 angstroms to 1 mm, particularly in the range of 500 angstroms to 500 μm. This is because the thickness of the light emitting layer to be obtained can be optimized by setting the depth of the intaglio grooves or cells within this range.
[0020]
In the present invention, as described above, when printing using an intaglio plate, the shape of the intaglio plate is intended to obtain a line-shaped pattern from the printing plate, and to obtain an area-shaped pattern. And very different.
[0021]
For example, the width of the intaglio groove or cell for the purpose of obtaining a line-shaped pattern is preferably in the range of 1 μm to 1 mm, particularly in the range of 1 μm to 300 μm. By making the width of the intaglio trench or cell within this range, it becomes possible to adjust the line width of the pattern of the light emitting layer obtained to the required line width, and each pattern can be densely formed. is there.
[0022]
On the other hand, when the purpose is to obtain an area-like pattern, the width of the intaglio groove or cell is preferably in the range of 1 μm to 1 mm, particularly in the range of 1 μm to 300 μm. By making the width of the groove or cell within the above range, the light emitting layer forming coating solution printed on the base material is spread and spreads continuously, so that an area-like pattern can be formed without defects. is there.
[0023]
In addition, the interval between the grooves or cells in the intaglio for obtaining a line pattern is preferably 1 μm or more. This is because by setting the distance between the intaglio grooves or cells within this range, problems such as color mixing of the light emitting layer formed in a pattern can be avoided.
[0024]
On the other hand, when it is intended to form an area-like pattern, it is preferable that the intaglio groove or cell spacing is in the range of 1 μm to 10 mm, particularly in the range of 1 μm to 1 mm. This is because by setting the interval between the grooves or cells within the above range, the printed light-emitting layer forming coating solution can be spread and connected continuously, and an area-like pattern without defects can be obtained. .
[0025]
In the present invention, as shown in FIG. 1, it is preferable that a light emitting layer forming region of an intaglio corresponding to a light emitting layer formed on a substrate is formed by being divided into a plurality of cells. That is, it is preferable to form a light emitting layer on a substrate as shown in FIG. 1B using a pattern on a printing plate as shown in FIG. 1A.
[0026]
Moreover, in this invention, it is preferable that the whole area of the groove | channel or the group of a cell on the said printing plate is formed smaller than the area of the light emitting layer formed on a base material. In this way, by forming the entire area of the group of grooves or cells smaller than the area of the light emitting layer formed on the substrate, light emission having a predetermined film thickness and film quality is achieved by spreading on the substrate after printing. This is because a layer can be formed.
[0027]
Under the present circumstances, the total area of the group of the groove | channel or cell on a printing plate when the area of the light emitting layer formed on a base material is 100 is in the range of 10-98, especially in the range of 30-98. It is preferable to do.
[0028]
The shape of the cell in the printing plate used in the present invention is not particularly limited, and is a quadrangular shape, a triangular shape, a pentagonal shape, a hexagonal shape, a circular shape, a semicircular shape,
A hatched version or the like can be used.
[0029]
The printing plate making method may be any of conventional gravure, mesh gravure, electronic engraving gravure, and mill.
[0030]
The printing method in the present invention may be a method in which the light emitting layer forming coating solution is directly printed on the substrate from the printing plate, or the light emitting layer forming coating solution is transferred from the printing plate to the transfer body. A method of printing a light emitting layer forming coating solution on a transfer body on a substrate may be used. The transfer body used at this time may be plate-shaped or cylindrical.
[0031]
Furthermore, in the printing method used in the present invention, it is preferable that at least one of the base plate, the transfer body, and the impression cylinder that is the printing plate or the printing body is an elastic body. When a light emitting layer is formed by a printing method, the light emitting layer is often printed in a state where a layer such as an electrode layer or an insulating layer is formed on a substrate. When printing in such a state, if neither the printing plate nor the substrate has elasticity, it is not possible to cope with the unevenness on the substrate, and printing with good accuracy cannot be performed. is there.
[0032]
As described above, the present invention includes not only a method of printing directly on the base material from the printing plate but also a method of printing on the base material from the printing plate through the transfer body. It is preferable that at least one of the base material, the transfer body, and the impression cylinder that is a plate or a printing body is an elastic body.
[0033]
Here, the elastic body referred to in the present invention indicates a hardness of 10 ° to 90 ° according to JIS standard (JIS A).
[0034]
When the printing plate, impression cylinder or transfer body is an elastic body, a printing plate made of a material having elasticity as described above, for example, a synthetic rubber (acrylonitrile butadiene rubber, etc.) and a filler, a plasticizer, etc., An impression cylinder or a transfer body is used.
[0035]
On the other hand, as a case where the base material is an elastic body, a case where the base material is a resin base material can be exemplified. In this case, examples of the resin that can be used include polyethylene terephthalate (PET).
[0036]
In the present invention, the printing plate, the transfer body, and the impression cylinder may be either a roll shape or a plate shape as long as the printing method using the light emitting layer forming coating liquid in the viscosity range described above can be performed. It doesn't matter. Furthermore, regarding the base material, printing may be performed using a roll-like support in which a sheet-like base material is wound.
[0037]
FIG. 2 shows an example of the mechanism of a printing machine that can be used in the present invention. First, a roll-shaped plate cylinder 2 is placed at a position where a part of the roll is placed in an ink pan 1 that is a coating liquid supply unit.
[0038]
As described above, the plate cylinder 2 may be a roll or a plate. Specifically, a metal roll, a rubber roll, etc. can be mentioned, As a material to form, a synthetic rubber (acrylonitrile butadiene rubber etc.), ceramics, an ebonite, an electroconductive material etc. can be mentioned.
[0039]
Portions other than the grooves or cells of the plate may have water repellency. Thereby, removal of the coating liquid by a doctor becomes smooth.
[0040]
The plate cylinder 2 is provided with a doctor 3 for removing excess coating liquid. Examples of the material of the doctor 3 include stainless steel, synthetic rubber (such as acrylonitrile butadiene rubber), ceramics, ebonite, and conductive material.
[0041]
The coating liquid adhering to the plate cylinder 2 is transferred to the transfer body 4 as shown in FIG. Here, the transfer body 4 refers to a roll-like or plate-like one on which a coating liquid on the plate cylinder 2 is printed on a substrate, and examples thereof include a metal roll, a rubber roll, an anilox roll (engraving roll) and the like.
[0042]
And the coating liquid transcribe | transferred by the transfer body 4 is printed on the base material 5 which is a to-be-printed body. At this time, the base material 5 is disposed so as to pass between the transfer body 4 and the impression cylinder 6.
[0043]
Here, the impression cylinder 6 refers to a roll or a plate-like member that presses a substrate against a plate cylinder or a transfer body, and examples thereof include a metal roll and a rubber roll. Examples of the material include synthetic rubber (for example, acrylonitrile butadiene rubber).
[0044]
(Light emitting layer forming coating solution)
Next, the light emitting layer forming coating solution used in the present invention will be described. In the present invention, the light emitting layer is required to be uniform and thin. Therefore, the coating liquid needs to have a characteristic that it is thin and easily spreads. Therefore, in order to satisfy this requirement, the viscosity of the coating solution must be low.
[0045]
From this point of view, in the present invention, when forming a plurality of light emitting layers by the printing method as described above, the viscosity range of each light emitting layer forming coating solution is in the range of 0.5 cP to 500 cP, particularly It is preferably within the range of 0.5 cP to 200 cP. This is because when the viscosity of the coating solution for forming the light emitting layer is lower than the above range, the concentration of the light emitting material, which will be described later, becomes low, and a light emitting layer having a uniform film thickness cannot be obtained. In addition, when the viscosity is higher than the above range, there is a possibility that a uniform film thickness may not be ensured without sufficient wetting and spreading in the applied region, and it may be difficult to reduce the thickness of the light emitting layer. Because there is.
[0046]
Further, in order to obtain a uniform film that spreads sufficiently in the coated region, the solvent used in the coating solution has a boiling point of 60 ° C to 400 ° C, preferably 90 ° C to 300 ° C. Including Thereby, a coating liquid is leveled uniformly. Even in a low boiling point solvent of 100 ° C. or lower, the coating liquid is uniformly leveled by using the solvent atmosphere. After the coating liquid is transferred to the substrate, the drying process is performed after sufficient leveling.
[0047]
In addition, the surface tension of the light emitting layer forming coating solution used in the present invention is preferably in the range of 10 to 70 mN / m. It is because the contact angle with the base material mentioned later can be made into a predetermined range by setting it as this range.
[0048]
Such a light emitting layer forming coating solution used in the present invention is usually composed of a light emitting material, a solvent, and additives such as a dopant, and a light emitting layer of a plurality of colors is formed. Therefore, a plurality of types of light emitting layer forming coating solutions are used. Hereinafter, each material which comprises these light emitting layer forming coating liquids is demonstrated.
[0049]
A. Luminescent material
Examples of the light emitting material used in the present invention include a dye material, a metal complex material, and a polymer material.
[0050]
1. Dye-based material
Examples of dye-based materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazol derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine rings Examples thereof include compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, and the like.
[0051]
2. Metal complex materials
As metal complex materials, aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethylzinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc., the central metal, Al, Zn, Be etc. Examples thereof include a metal complex having a rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy and having a oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, or the like as a ligand.
[0052]
3. Polymer materials
Polymer materials include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, the above dye bodies, and metal complex light emitting materials. Can be mentioned.
[0053]
In the present invention, from the viewpoint of utilizing the advantage that the light emitting layer can be thinned by a printing method with the light emitting layer forming coating liquid in the above viscosity range, the above polymer material is used as the light emitting material. Is more preferable.
[0054]
B. solvent
As a solvent that dissolves or disperses the above-described light emitting material to form a light emitting layer forming coating solution, the above light emitting material is dissolved or dispersed and has a predetermined viscosity, surface tension, contact angle, and drying property. The solvent is not particularly limited as long as it can be used.
[0055]
Specifically, water, DMF, DMSO, alcohol, benzene, toluene, xylene isomers, trimethylbenzene isomers, tetramethylbenzene, tetralin, p-cymene, cumene, ethylbenzene, diethylbenzene isomers, Including butylbenzene, chlorobenzene, dichlorobenzene isomers, anisole, phenetole, butylphenyl ether, tetrahydrofuran, 2-butanone, 1,4-dioxashi, diethyl ether, diisopropyl ether, diphenyl ether, dipentyl ether, diglyme, etc. Chloric solvents such as ether solvents, dichloromethane, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chloroform, carbon tetrachloride, 1-chloronaphthalene Medium, but cyclohexanone, may be used as long as conditions are satisfied solvent even this addition, it may be a mixed solvent of two or more.
[0056]
In the present invention, the contact angle of the light emitting layer forming coating liquid when the light emitting layer forming coating liquid is printed on the substrate (or transparent electrode layer) is also an important factor for obtaining suitable printing. It becomes. The contact angle in this case is, for example, within a range of 5 ° to 170 °, preferably 5 ° to 140 ° when a line-shaped light emitting layer is formed by a printing method, and an area-shaped light emitting layer is formed. In this case, the contact angle is preferably 30 ° or less, particularly preferably 20 ° or less.
[0057]
Such a contact angle is determined by the relationship between the material of the base material and the solvent constituting the light emitting layer forming coating solution. Considering this point, the solvent used in the light emitting layer forming coating solution in the present invention may be toluene in the case of the light emitting layer forming coating solution for forming a line-shaped light emitting layer. On the other hand, when an area-like light emitting layer is formed, xylene can be used.
[0058]
C. Additive
In addition to the light emitting material and solvent as described above, various additives can be added to the light emitting layer forming coating solution used in the present invention. For example, a doping material may be added for the purpose of improving the light emission efficiency in the light emitting layer or changing the light emission wavelength. Examples of the doping material include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrene derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like.
[0059]
Moreover, you may add the additive etc. which can adjust the viscosity, surface tension, contact angle, or drying property of the light emitting layer forming coating liquid as needed.
[0060]
(Light emitting layer)
In the present invention, the light emitting layer is formed by the printing method using the above-described light emitting layer forming coating solution. The light emitting layer in the present invention may be one kind of light emitting layer, or a plurality of light emitting layers may be formed.
[0061]
In the present invention, the light emitting layer is formed so that the film thickness thereof is in the range of 100 angstroms to 10000 angstroms, preferably in the range of 100 angstroms to 2000 angstroms.
[0062]
The light emitting layer may be formed in a line shape as described above or may be formed in an area shape. In the present invention, being formed in a line means that the line width is 300 μm or less. On the other hand, in the present invention, forming in an area means that the line width exceeds 300 μm.
[0063]
(EL element)
The EL device manufacturing method of the present invention is characterized in that the light emitting layer is formed by using the above-described light emitting layer forming coating solution by the printing method as described above. The EL element obtained by the manufacturing method is composed of various organic EL layers, electrodes and the like in addition to such a light emitting layer. Hereinafter, these will be described.
[0064]
1. Base material
The EL device obtained by the EL device manufacturing method of the present invention is such that the above-described light emitting layer or the like is formed on a substrate. Such a substrate is not particularly limited as long as it has high transparency, and an inorganic material such as glass, a transparent resin, or the like can be used.
[0065]
The transparent resin is not particularly limited as long as it can be formed into a film, but a polymer material having high transparency, relatively high solvent resistance and heat resistance is preferable. Moreover, you may use the base material which has gas barrier property which interrupts | blocks gas, such as water vapor | steam and oxygen, as needed. Specifically, fluorine resin, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinyl fluoride, polystyrene, ABS resin, polyamide, polyacetal, polyester, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polysulfone, polyarylate, polyetherimide, polyether mon Phon, Polyamideimide, Polyimide, Polyphenylene sulfide, Liquid crystalline polyester, Polyethylene terephthalate, Polybutylene terephthalate, Polyethylene naphthalate, Polymicroxylene dimethylene terephthalate, Polyoxymethylene, Polyethersulfone, Polyetheretherketone, Polyacrylate, Acrylonitrile -Styrene resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, Epoxy resins, polyurethane, silicone resin, amorphous polyolefins, and the like, may be used as long as satisfying the polymeric material also in this other, may be a copolymer of two or more kinds.
[0066]
In the present invention, when printing is performed using a printing plate or a transfer body, elasticity may be required for the substrate as described above. In this case, examples of the resin that can be used include the resins described in the section of the printing method.
2. Electrode layer
The EL element obtained by the present invention has a first electrode layer formed on a substrate and a second electrode layer formed on an organic EL layer such as the light emitting layer described above. Such an electrode layer is composed of an anode and a cathode, and either the anode or the cathode is transparent or translucent, and the anode is made of a conductive material having a large work function so that holes can be easily injected. preferable. A plurality of materials may be mixed. Each of the electrode layers preferably has a resistance as small as possible. Generally, a metal material is used, but an organic material or an inorganic compound may be used.
[0067]
Preferable anode materials include, for example, ITO, indium oxide, and gold. Preferred cathode materials include, for example, magnesium alloys (MgAg, etc.), aluminum alloys (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), metallic calcium, and metals with a low work function.
[0068]
3. Organic EL layers other than light-emitting layers
In the EL device obtained in the present invention, a buffer layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like may be combined as an organic EL layer in addition to the light emitting layer described above.
[0069]
4). Insulation layer
The EL device obtained by the present invention includes an insulating layer for covering the patterned edge portion of the first electrode layer formed on the substrate and the non-light emitting portion of the device, and preventing a short circuit at a portion unnecessary for light emission. May be provided in advance such that the light emitting portion is an opening. By doing in this way, the element by which the defect by the short circuit etc. of an element is reduced and the light emission is stable with a long lifetime is obtained.
[0070]
Such an insulating layer can be patterned using, for example, a UV curable resin material or the like, as is generally known.
[0071]
(Manufacturing method of EL element)
Finally, a general process flow in the method for manufacturing an EL element of the present invention will be described.
[0072]
First, if necessary, an insulating layer is formed on a substrate on which the first electrode layer has been patterned in advance so as to cover the edge portion of the first electrode layer. Next, after forming an organic EL layer such as a buffer layer as necessary, a plurality of light-emitting layer forming coating liquids are printed for each color using a printing method.
[0073]
The printing method at this time is not particularly limited as described above, but a printing method using an intaglio is preferably used. When using the intaglio as described above, the coating liquid for forming the light emitting layer having the above-described viscosity is attached to the concave portion of the plate by dipping or the like, and then the excess coating liquid is scraped off using a doctor blade or the like. Printed on the substrate.
[0074]
In the present invention, the light emitting layer forming coating solution for forming light emitting layers of two or more colors can be separately printed on the substrate by printing the light emitting layer forming coating solution on the substrate. . As a result, a full-color EL element can be finally produced.
[0075]
As described above, when the light emitting layer forming coating liquid for forming two or more colors of light emitting layers is continuously printed, it is necessary to perform the next printing without damaging the previously printed light emitting layer. At this time, it is preferable to use the following two methods.
[0076]
In the first method, when the light emitting layer of two or more colors is formed by a printing method, after all of the light emitting layer forming coating liquid printed in advance is solidified, the coated portion is covered with a protective material, and then The light emitting layer forming coating solution is printed. The protective material used here may be formed of any material or forming method as long as it can be patterned so as not to be formed in a region where a subsequent light emitting layer forming coating solution is applied.
[0077]
In the present invention, for example, there may be mentioned a method in which a film-like protective material is applied to the coated portion after coating and solidified, and then peeled after coating a light emitting layer forming coating solution.
[0078]
The material that can be used for such a protective material is not particularly limited as long as it can be molded on a film, but a polymer material that does not stretch or distort or has a relatively small size is preferable. Specifically, fluorine resin, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinyl fluoride, polystyrene, ABS resin, polyamide, polyacetal, polyester, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polysulfone, polyarylate, polyetherimide, polyether mon Phon, Polyamideimide, Polyimide, Polyphenylene sulfide, Liquid crystalline polyester, Polyethylene terephthalate, Polybutylene terephthalate, Polyethylene naphthalate, Polymicroxylene dimethylene terephthalate, Polyoxymethylene, Polyethersulfone, Polyetheretherketone, Polyacrylate, Acrylonitrile -Styrene resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, Epoxy resins, polyurethane, silicone resin, amorphous polyolefins, and the like, may be used as long as satisfying the polymeric material also in this other, may be a copolymer of two or more kinds.
[0079]
When such a method is used, when the subsequent coating liquid is applied, the previously applied application portion is covered with a protective material, so that the two colors without damaging the application portion with a printing plate or the like. It becomes possible to pattern the above light emitting layer without a defect.
[0080]
On the other hand, the second method is a method in which the subsequent coating liquid is printed before all of the previously printed coating liquid is solidified. This is because, when the next printing is started after the previously printed coating liquid has completely solidified, there is a possibility that a problem such as peeling off of the part that comes into contact with the printing plate may occur.
[0081]
In the present invention, “before the light emitting layer forming coating solution is solidified” indicates a state in which the coating solution can be leveled before the drying step. On the other hand, “after the light emitting layer forming coating solution is solidified” refers to a state after the drying step. All drying steps are performed after the coating solution is sufficiently leveled.
[0082]
After forming the light emitting layer in this manner, a second electrode layer is formed so as to cover the display region, and finally, sealing for moisture prevention is performed to complete the EL element.
[0083]
In addition, this invention is not limited to the said embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration substantially the same as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibits the same function and effect. Are included in the technical scope.
[0084]
【Example】
The following examples further illustrate the invention.
[0085]
[Example 1]
<Preparation of light emitting layer forming coating solution>
The polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene and adjusted to have a viscosity of 0.5 cP to prepare a light emitting layer forming coating solution 1. Furthermore, the polymeric fluorescent substance 2 which shows the luminescent color different from the polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene, and adjusted so that a viscosity might be set to 0.5 cP, and the light emitting layer forming coating liquid 2 was prepared. Here, the polymeric fluorescent substance 1 indicates a light emitting material made of polyvinylcarbazole + coumarin derivative, and the polymeric fluorescent substance 2 shows a light emitting material made of polyvinylcarbazole + perylene derivative.
[0086]
<Production of element>
150mm sq., 400μm thickness, 40Ω surface resistivity (made by Geomat Co., Ltd.) ITO film-formed polycarbonate base material, using a spin coater as a hole injection layer polystyrene sulfonate / poly (3,4) ethylenedi Oxythiophene (PSS / PEDOT) was deposited to a thickness of 100 nm. Further, this formed film was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 1 hour.
[0087]
After drying, first, the light emitting layer forming coating solution 1 of the light emitting material is used with a simple gravure printing machine (GP-10, manufactured by Kurabo Industries) using a printing plate having a plate groove width of 1 mm, a bank width of 10 mm, and a plate depth of 1 mm. A gravure printing method was used to form a film with a thickness of 30 mm × 60 mm and a film thickness of 100 nm.
[0088]
Then, the light emitting layer forming coating solution 2 using a light emitting material different from the light emitting layer forming coating solution 1 was continuously formed in a region other than the portion applied for the first time. At this time, the light emitting layer forming coating solution 2 was printed (applied) before the light emitting layer forming coating solution 1 was completely solidified.
[0089]
As a result, on the same 150 mm square ITO film-formed polycarbonate, layers having different emission colors were separately formed with a thickness of 30 mm × 60 mm and a film thickness of 100 nm.
[0090]
Further, this light emitting layer coating film was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then 5 nm of calcium was formed as the second electrode layer, and silver was vacuum-deposited thereon by 250 nm to produce an EL device.
[0091]
[Example 2]
<Preparation of light emitting layer forming coating solution>
The polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene and adjusted to have a viscosity of 250 cP to prepare a light emitting layer forming coating solution 3. Furthermore, the polymeric fluorescent substance 2 was dissolved in xylene and adjusted to have a viscosity of 250 cP to obtain a light emitting layer forming coating solution 4.
[0092]
<Production of element>
150mm sq., 400μm thickness, 40Ω surface resistivity (made by Geomat Co., Ltd.) ITO film-formed polycarbonate base material, using a spin coater as a hole injection layer polystyrene sulfonate / poly (3,4) ethylenedi Oxythiophene (PSS / PEDOT) was deposited to a thickness of 100 nm. Further, this formed film was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 1 hour.
[0093]
After drying, first, the light emitting layer forming coating solution 3 is formed using a printing plate having a plate groove width of 8 μm, a bank width of 4 μm and a plate depth of 2 μm using a simple gravure printing machine (GP-10, manufactured by Kurabo Industries). A film was formed by gravure printing at 30 mm × 60 mm and a film thickness of 100 nm. Subsequently, the said light emitting layer forming coating liquid 4 was formed into a film except the part apply | coated 1st time. At this time, the light emitting layer forming coating solution 4 was printed before the light emitting layer forming coating solution 3 was completely solidified.
[0094]
As a result, on the same 150 mm square ITO film-formed polycarbonate, layers having different emission colors were separately applied with a thickness of 30 mm × 60 mm and a film thickness of 100 nm.
[0095]
Further, this light-emitting layer coating film was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then 5 nm of calcium was formed as the second electrode layer, and silver was vacuum-deposited thereon to 250 nm to produce an EL device.
[0096]
[Example 3]
<Preparation of light emitting layer forming coating solution>
The polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene and adjusted so as to have a viscosity of 500 cP, whereby a light emitting layer forming coating solution 5 was obtained. Furthermore, the polymeric fluorescent substance 2 which shows a luminescent color different from that of the polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene and adjusted so as to have a viscosity of 500 cP to obtain a light emitting layer forming coating solution 6.
[0097]
<Production of element>
150mm sq., 400μm thickness, 40Ω surface resistivity (manufactured by Geomat Co., Ltd.) ITO film-formed polycarbonate base material, using a spin coater as a hole injection layer polystyrene sulfonate / poly (3,4) ethylenedi Oxythiophene (PSS / PEDOT) was deposited to a thickness of 100 nm. Further, this formed film was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 1 hour. After drying, first, the light emitting layer forming coating solution 51 is gravure-printed using a printing plate having a plate groove width of 5 μm, a bank width of 1 μm, and a plate depth of 500 Å using a simple gravure printing machine (GP-10, manufactured by Kurabo Industries). After the film formation by printing with a thickness of 30 mm × 60 mm and a film thickness of 100 nm, the light emitting layer forming coating solution 6 of a light emitting material different from the light emitting color of the light emitting layer forming coating solution 5 is continuously applied for the first time. The film was formed in a region other than the part where the film was formed. As a result, on the same 150 mm square ITO film-formed polycarbonate, layers having different emission colors were separately formed with a thickness of 30 mm × 60 mm and a film thickness of 100 nm.
[0098]
Further, this light emitting layer coating film was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then 5 nm of calcium was formed as the second electrode layer, and silver was vacuum-deposited thereon by 250 nm to produce an EL device.
[0099]
[Comparative Example 1]
<Adjustment of light emitting layer forming coating solution>
The polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene and adjusted to have a viscosity of 0.4 cP to obtain a light emitting layer forming coating solution 7.
[0100]
<Production of element>
150mm sq., 400μm thickness, 40Ω surface resistivity (manufactured by Geomat Co., Ltd.) ITO film-formed polycarbonate base material, using a spin coater as a hole injection layer polystyrene sulfonate / poly (3,4) ethylenedi Oxythiophene (PSS / PEDOT) was deposited to a thickness of 100 nm. Further, this formed film was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 1 hour. After drying, first, the light emitting layer forming coating solution 7 is obtained by gravure printing using a printing plate having a plate groove width of 1 mm, a bank width of 5 mm, and a plate depth of 2 mm with a simple gravure printing machine (GP-10, manufactured by Kurabo Industries). A film was formed. Since the amount of the polymeric fluorescent substance in the light emitting layer forming coating solution 7 was small, a uniform light emitting layer film could not be obtained.
[0101]
[Comparative Example 2]
<Preparation of light emitting layer forming coating solution>
The polymeric fluorescent substance 1 was dissolved in xylene and adjusted to have a viscosity of 550 cP to obtain a light emitting layer forming coating solution 8.
[0102]
<Production of element>
150mm sq., 400μm thickness, 40Ω surface resistivity (manufactured by Geomat Co., Ltd.) ITO film-formed polycarbonate base material, using a spin coater as a hole injection layer polystyrene sulfonate / poly (3,4) ethylenedi Oxythiophene (PSS / PEDOT) was deposited to a thickness of 100 nm. Further, this formed film was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 1 hour. After drying, first, the light emitting layer forming coating solution 8 is formed by gravure printing using a simple gravure printing machine (GP-10, Kurabo Industries Co., Ltd.) using a plate groove width of 8 μm, a bank width of 1 μm, and a plate depth of 300 Å. Filmed. Since the viscosity in the light emitting layer forming coating solution 8 was high, a uniform light emitting layer film could not be obtained.
[0103]
【The invention's effect】
According to the present invention, by forming the light emitting layer by a printing method, the manufacturing process is simplified and the manufacturing efficiency is improved. Furthermore, by making the viscosity of the coating liquid for forming the light emitting layer within the above range, the coating liquid can easily spread on the substrate, and the thickness of the light emitting layer can be reduced. Play.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic plan view for explaining an intaglio pattern used in the present invention.
FIG. 2 is a schematic side view showing an example of a printing apparatus used in the present invention.
[Explanation of symbols]
1 ... Ink pan
2 ... Plate cylinder
3 ... Doctor
4 ... Transcript
5 ... Base material
6 ... impression cylinder

Claims (8)

エレクトロルミネッセント素子を構成する発光層を印刷方式で成膜するエレクトロルミネッセント素子の製造方法であって、
前記発光層を形成するための発光層形成用塗工液の粘度が、0.5cP以上500cP以下であり、
前記印刷方式が、凹版を用いた印刷方式であり、
前記凹版の発光層形成領域が複数のセルに分割されて形成されていることを特徴とするエレクトロルミネッセント素子の製造方法
A method for producing an electroluminescent element in which a light emitting layer constituting an electroluminescent element is formed by a printing method ,
The viscosity of the light-emitting layer forming coating solution for forming the light emitting layer state, and are more 500cP less 0.5 cP,
The printing method is a printing method using an intaglio,
The method for manufacturing an electroluminescent element, wherein the light emitting layer forming region of the intaglio is formed by being divided into a plurality of cells .
前記凹版の溝またはセルの深さが、500オングストローム〜1mmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。2. The method of manufacturing an electroluminescent device according to claim 1 , wherein a depth of the intaglio groove or cell is in a range of 500 Å to 1 mm. 印刷版上の溝またはセルの集団の全面積が、基材上に形成される発光層の面積より小さく形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。3. The electroluminescent device according to claim 1 , wherein the total area of the groove or the group of cells on the printing plate is smaller than the area of the light emitting layer formed on the substrate. Device manufacturing method. 前記印刷方式が、印刷版から基材に発光層形成用塗工液を直接印刷する方式、もしくは印刷版から転写体に発光層形成用塗工液を転写させ、転写体上の発光層形成用塗工液を基材上に印刷する方式のいずれかの印刷方式であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。The printing method is a method of directly printing a light emitting layer forming coating solution on a substrate from a printing plate, or a method of transferring a light emitting layer forming coating solution from a printing plate to a transfer body to form a light emitting layer on the transfer body. The method for manufacturing an electroluminescent element according to any one of claims 1 to 3, wherein the printing method is any one of a method of printing a coating liquid on a substrate. 前記印刷方式で用いる印刷版、転写体、基材および圧胴の少なくとも1つが、弾性体であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。The electroluminescence according to any one of claims 1 to 4 , wherein at least one of the printing plate, the transfer body, the substrate, and the impression cylinder used in the printing method is an elastic body. A manufacturing method of a cent element. 2色以上の発光層形成用塗工液の塗り分けが可能であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。The method for producing an electroluminescent element according to any one of claims 1 to 5 , wherein a coating solution for forming a light emitting layer for two or more colors can be separately applied. 2色以上の前記発光層を印刷方式で形成する際、先に印刷された全ての発光層形成用塗工液が固化した後、塗布部を保護材で覆い、次いで後の発光層形成用塗工液を印刷することを特徴とする請求項6に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。When the light emitting layer of two or more colors is formed by a printing method, after all the light emitting layer forming coating liquids that have been printed are solidified, the coated portion is covered with a protective material, and then the light emitting layer forming coating is subsequently formed. The manufacturing method of the electroluminescent element according to claim 6 , wherein the working liquid is printed. 2色以上の前記発光層を印刷方式で形成する際、先に印刷された全ての発光層形成用塗工液が固化する前に後の発光層形成用塗工液を印刷することを特徴とする請求項6に記載のエレクトロルミネッセント素子の製造方法。When forming the light emitting layer of two or more colors by a printing method, the subsequent light emitting layer forming coating liquid is printed before all the light emitting layer forming coating liquids previously printed are solidified. The manufacturing method of the electroluminescent element of Claim 6 .
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