Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP4616631B2 - Sample analyzer - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP4616631B2 - Sample analyzer - Google Patents

Sample analyzer Download PDF

Info

Publication number
JP4616631B2
JP4616631B2 JP2004362884A JP2004362884A JP4616631B2 JP 4616631 B2 JP4616631 B2 JP 4616631B2 JP 2004362884 A JP2004362884 A JP 2004362884A JP 2004362884 A JP2004362884 A JP 2004362884A JP 4616631 B2 JP4616631 B2 JP 4616631B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
image
analysis
analyzer
information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004362884A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006170770A (en
Inventor
豊彦 田澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2004362884A priority Critical patent/JP4616631B2/en
Publication of JP2006170770A publication Critical patent/JP2006170770A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4616631B2 publication Critical patent/JP4616631B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

本発明は微小領域の観察を目的とした試料分析装置に関するものである。   The present invention relates to a sample analyzer for the purpose of observing a minute region.

試料の組成や化学状態等を分析する装置として光電子分光装置がある。このような光電子分光装置は、試料表面に細く絞った電子を照射し、照射により試料極薄層から発生した光電子を入射レンズにより集束して円筒鏡型アナライザや静電半球型アナライザに導き、ここでエネルギー分光する。そして、分光された光電子を検出器で検出し、検出された光電子のエネルギースペクトルを得、スペクトルを解析して試料の微小領域(ナノオーダレベル)の組成や化学状態等を分析している。すなわち、エネルギースペクトルに現れるピークの位置から所定元素の量を演算することにより、試料表面の所定元素の量が分かり、電子線の照射位置を順次ずらして測定を行い各位置での元素量を色に対応させてマッピング表示することによりと光電子像を得ることができる。   There is a photoelectron spectrometer as an apparatus for analyzing the composition and chemical state of a sample. Such a photoelectron spectrometer irradiates finely focused electrons on the sample surface, and the photoelectrons generated from the sample ultrathin layer by the irradiation are focused by an incident lens and led to a cylindrical mirror analyzer or electrostatic hemispherical analyzer. To do energy spectroscopy. Then, the dispersed photoelectrons are detected by a detector, an energy spectrum of the detected photoelectrons is obtained, and the spectrum is analyzed to analyze the composition, chemical state, and the like of a micro region (nano-order level) of the sample. In other words, by calculating the amount of the predetermined element from the position of the peak appearing in the energy spectrum, the amount of the predetermined element on the sample surface can be determined, and measurement is performed by sequentially shifting the irradiation position of the electron beam, and the amount of element at each position is colored A photoelectron image can be obtained by mapping display corresponding to the above.

従来、X線または紫外光源を励起源とする光電子分光装置において、微小分析を行う際に、分析位置を特定する手段として位置読み取り機能付き光学顕微鏡を使用していた。つまり、広範囲の観察が可能な位置読み取り顕微鏡で目的位置を探索し、この部位の試料面上における位置(座標)を光電子分光装置に装着された試料ステージの座標系に変換する。試料を光電子分光装置に導入し、変換された試料ステージ座標に移動して目的位置の分析を行う。そして、必要な場合には目的部位周辺の光電子像の収集を行う。光電子像で特異な部位が発見された場合は、この部位の分析を行い、光電子分光装置座標系の位置にマーキングを行う。   Conventionally, in a photoelectron spectrometer using an X-ray or ultraviolet light source as an excitation source, an optical microscope with a position reading function has been used as means for specifying an analysis position when performing microanalysis. That is, the target position is searched with a position reading microscope capable of observing a wide range, and the position (coordinates) on the sample surface of this part is converted into the coordinate system of the sample stage mounted on the photoelectron spectrometer. The sample is introduced into the photoelectron spectrometer, and moved to the converted sample stage coordinates to analyze the target position. If necessary, photoelectron images around the target site are collected. If a peculiar part is found in the photoelectron image, this part is analyzed, and marking is performed at the position of the coordinate system of the photoelectron spectrometer.

しかしながら、予め位置読み取り機能付き光学顕微鏡で座標を読み取った部位と異なる位置の分析を光電子分光装置で行った場合、この分析位置が光学顕微鏡上でどこに位置するかを示すことが困難であった。微小領域を観察するので、像のユガミや各装置の機械的なガタ等により基準点からの装置移動量が異なるためである。   However, when the photoelectron spectrometer is used to analyze a position different from the part whose coordinates have been read with an optical microscope with a position reading function in advance, it is difficult to indicate where the analysis position is located on the optical microscope. This is because the amount of movement of the device from the reference point varies depending on the distortion of the image, the mechanical play of each device, and the like because a minute region is observed.

なお、従来技術としては、試料像と図形等を多重露光し、拡大または縮小分析する電子顕微鏡がある(例えば、特許文献1)。   In addition, as a prior art, there exists an electron microscope which carries out multiple exposure of the sample image, a figure, etc., and carries out expansion or reduction analysis (for example, patent document 1).

特開平5−258706JP-A-5-258706

本発明が解決しようとする問題点は、光電子分析装置で分析した位置が、位置読み取り機能付き光学顕微鏡で得た像のどこに位置するかを示すことが困難であったという点である。   The problem to be solved by the present invention is that it is difficult to indicate where the position analyzed by the photoelectron analyzer is located in the image obtained by the optical microscope with position reading function.

請求項1の発明は、試料を置載し、試料座標の基準点を有する試料ホルダと、前記試料ホルダを保持するXYテーブルを備え、前記試料の第1の像を読み取り、その座標を設定する位置読み取り光学顕微鏡と、前記試料ホルダを保持する試料ステージと、1次ビーム源と、前記1次ビーム源より照射された1次ビームにより前記試料から発生した2次ビームを分光するエネルギーアナライザとを有し、アナライザの出力に基づく前記試料の第2の像を読み取り、その座標を設定する試料表面分析装置と、前記位置読み取り光学顕微鏡と前記試料表面分析装置とに接続し、前記第1の像及び前記第2の像を記憶して表示すると共に、前記第1の像に基づいて指定された分析目標位置の情報を前記第1の像のデータに付随させて記憶し、記憶された分析目標位置の情報に基づいて前記試料ホルダを保持した試料ステージを制御することにより前記分析目標位置が前記試料表面分析装置の分析位置に配置され前記試料の第2の像が得られるように前記試料ステージを制御する情報処理手段と、を備えた試料分析装置において、前記情報処理手段は、更に、前記試料について前記分析目標位置と異なる位置を追加分析位置とした場合、試料表面分析装置から得られる前記追加分析位置の情報を前記位置読み取り光学顕微鏡の位置情報に座標変換し、座標変換された前記追加分析位置の情報を前記第1の像のデータに付随させて記憶することを特徴とする試料分析装置である。   The invention of claim 1 includes a sample holder on which a sample is placed and having a reference point of sample coordinates, and an XY table that holds the sample holder, reads the first image of the sample, and sets its coordinates. A position reading optical microscope, a sample stage for holding the sample holder, a primary beam source, and an energy analyzer for dispersing a secondary beam generated from the sample by the primary beam irradiated from the primary beam source. The first image is connected to a sample surface analyzer that reads the second image of the sample based on the output of the analyzer and sets coordinates thereof, the position reading optical microscope, and the sample surface analyzer. And storing and displaying the second image, and storing and storing information on the analysis target position designated based on the first image in association with the data of the first image. By controlling the sample stage holding the sample holder based on the information of the analysis target position, the analysis target position is arranged at the analysis position of the sample surface analyzer, and the second image of the sample is obtained. An information processing means for controlling the sample stage, wherein the information processing means is obtained from the sample surface analysis apparatus when a position different from the analysis target position for the sample is set as the additional analysis position. The additional analysis position information is coordinate-converted into position information of the position reading optical microscope, and the coordinate-converted information of the additional analysis position is stored in association with the data of the first image. It is a sample analyzer.

請求項2の発明は、前記情報処理手段は、座標変換された前記追加分析位置の情報に基づき、前記第1の像に追加分析位置を表示することを特徴とする請求項1に記載した試料分析装置である。   The invention according to claim 2 is characterized in that the information processing means displays the additional analysis position on the first image based on the coordinate-transformed information of the additional analysis position. It is an analysis device.

請求項3の発明は、前記1次ビームが電子線であり、前記2次ビームがオージェ電子線であることを特徴とした請求項1又は2に記載した試料分析装置である。   The invention according to claim 3 is the sample analyzer according to claim 1 or 2, wherein the primary beam is an electron beam and the secondary beam is an Auger electron beam.

請求項4の発明は、前記1次ビームがX線であり、前記2次ビームが光電子線であることを特徴とした請求項1又は2に記載した試料分析装置である。
The invention according to claim 4 is the sample analyzer according to claim 1 or 2, wherein the primary beam is an X-ray and the secondary beam is a photoelectron beam.

本発明により、光学顕微鏡で得た像に、新たに追加された光電子分光装置による分析位置を記録することが可能になる。これにより、光学顕微鏡の像から分析された部位の形状的特徴と光電子分光装置による分析結果との相関付けが可能になる。ここで形状的特徴とは、異物、突起、変色などを含む。   According to the present invention, it is possible to record an analysis position by a newly added photoelectron spectrometer in an image obtained by an optical microscope. Thereby, it is possible to correlate the shape characteristic of the part analyzed from the image of the optical microscope and the analysis result by the photoelectron spectrometer. Here, the shape features include foreign matters, protrusions, discoloration, and the like.

本発明の構成を図1を用いて説明する。図1において、分析室1は気密が保持されており、図示しない真空ポンプにより内部が真空となっている。分析室1には複数の真空継ぎ手が設置されており、機器が気密に取り付けられる。分析室1には試料ステージ3が取り付けられている。試料ステージ3は外部の試料ステージ位置調整機構4によりXYZ方向に調整自在である。試料ステージ3には試料ホルダ22に載せられた試料2が置載されている。   The configuration of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the analysis chamber 1 is kept airtight, and the inside is evacuated by a vacuum pump (not shown). The analysis chamber 1 is provided with a plurality of vacuum joints, and the devices are attached in an airtight manner. A sample stage 3 is attached to the analysis chamber 1. The sample stage 3 can be adjusted in the XYZ directions by an external sample stage position adjusting mechanism 4. A sample 2 placed on a sample holder 22 is placed on the sample stage 3.

1次ビーム照射手段であるX線管9は、試料2表面に対して傾斜して分析室1に取り付けられている。   An X-ray tube 9 serving as a primary beam irradiation means is attached to the analysis chamber 1 so as to be inclined with respect to the surface of the sample 2.

分析室1の上面中央には、入射レンズユニット10が取り付けられている。入射レンズユニット10はX線管9より試料2に照射されたX線により励起されて発生した光電子を集光する。入射レンズユニット10はその光軸が試料2表面に対して垂直である。入射レンズユニット10は試料2からの光電子を集光して、減速させる静電レンズから構成される。入射レンズユニット10の先には集光された光電子をエネルギー選別して、ある特定のエネルギーを有する光電子を取り出すエネルギーアナライザ11、エネルギーアナライザ11で抽出された光電子を検出する検出器12等が設置されている。   An incident lens unit 10 is attached to the center of the upper surface of the analysis chamber 1. The incident lens unit 10 condenses photoelectrons generated by being excited by the X-rays irradiated to the sample 2 from the X-ray tube 9. The incident lens unit 10 has an optical axis perpendicular to the surface of the sample 2. The incident lens unit 10 is composed of an electrostatic lens that collects and decelerates photoelectrons from the sample 2. At the end of the incident lens unit 10, an energy analyzer 11 that picks up the collected photoelectrons and extracts the photoelectrons having a specific energy, a detector 12 that detects the photoelectrons extracted by the energy analyzer 11, and the like are installed. ing.

分析室1にはズーム式CCDカメラ付光学顕微鏡6が設置されている。分析室1には照明装置8が取り付けられており、光学顕微鏡6の観察位置を照明する。   An optical microscope 6 with a zoom CCD camera is installed in the analysis chamber 1. An illumination device 8 is attached to the analysis chamber 1 and illuminates the observation position of the optical microscope 6.

また、エネルギーアナライザ制御ユニット14は、エネルギーアナライザ駆動電源ユニット13を介してエネルギーアナライザ11の分光エネルギーを制御し、入射レンズのレンズ条件を制御し、検出器12の出力を受けてエネルギーアナライザ11で抽出された光電子をエネルギー別に計数する。   The energy analyzer control unit 14 controls the spectral energy of the energy analyzer 11 via the energy analyzer drive power supply unit 13, controls the lens conditions of the incident lens, receives the output of the detector 12, and extracts it with the energy analyzer 11. The counted photoelectrons are counted by energy.

モニタユニット15は、試料2の光学像が結像される光学顕微鏡6のCCDカメラの出力を受けると共に、光学顕微鏡6のレンズ条件を制御するものである。試料ステージ制御装置5は試料ステージ位置調整機構4を制御するものである。   The monitor unit 15 receives the output of the CCD camera of the optical microscope 6 on which the optical image of the sample 2 is formed and controls the lens conditions of the optical microscope 6. The sample stage control device 5 controls the sample stage position adjusting mechanism 4.

さらに、位置読み取り機構付き光学顕微鏡18は、CCDカメラ17を有する光学顕微鏡19とXYテーブル20から構成されており、置載されている試料ホルダ22の直上(法線方向)からCCDカメラ17を備えた光学顕微鏡19により測定を行う。   Further, the optical microscope 18 with a position reading mechanism is composed of an optical microscope 19 having a CCD camera 17 and an XY table 20, and includes the CCD camera 17 from directly above (in the normal direction) the placed sample holder 22. Measurement is performed with the optical microscope 19.

試料ステージ制御装置5、エネルギーアナライザ制御ユニット14、位置読み取り機構付き光学顕微鏡18は、インターフェースを介してモニタを有するコンピュータ16に接続されており、コンピュータ制御されている。   The sample stage control device 5, the energy analyzer control unit 14, and the optical microscope 18 with a position reading mechanism are connected to a computer 16 having a monitor via an interface and are controlled by the computer.

図3は試料ホルダ22に置載された試料2の図であり、位置読み取り機構付き光学顕微鏡18で観察したものである。図4は光電子分光装置で観察したものである。試料2の観察点は基準点21(X、Y)からのオフセット(X、Y)(X、Y)(X、Y)で示される。 FIG. 3 is a view of the sample 2 placed on the sample holder 22 and is observed with an optical microscope 18 with a position reading mechanism. FIG. 4 is observed with a photoelectron spectrometer. The observation point of the sample 2 is indicated by an offset (X 1 , Y 1 ) (X 2 , Y 2 ) (X 3 , Y 3 ) from the reference point 21 (X 0 , Y 0 ).

以上、図1における各部の構成について説明したが、次に動作について説明する。   The configuration of each unit in FIG. 1 has been described above. Next, the operation will be described.

まず、広域像を観察する第1の測定手段である位置読み取り機構付き光学顕微鏡18で試料ホルダ22に置載された試料2を観察し、代表的な分析目標位置を2点以上決定する。決定した分析目標位置の試料2上における座標値を読み取り、分析目標位置を含む図5左のような光学顕微鏡像を電子的に記録する。図3において分析目標位置の座標値23(X、Y)、24(X、Y)、25(X、Y)は試料ホルダ22の基準点21(X、Y)からのオフセット値となる。もちろん、基準点は試料の一部にとってもよい。 First, the sample 2 placed on the sample holder 22 is observed with the optical microscope 18 with a position reading mechanism, which is a first measuring means for observing a wide area image, and two or more representative analysis target positions are determined. The coordinate value on the sample 2 of the determined analysis target position is read, and an optical microscope image as shown in the left of FIG. 5 including the analysis target position is electronically recorded. In FIG. 3, the coordinate values 23 (X 1 , Y 1 ), 24 (X 2 , Y 2 ), 25 (X 3 , Y 3 ) of the analysis target position are reference points 21 (X 0 , Y 0 ) of the sample holder 22. Offset value from. Of course, the reference point may be a part of the sample.

次に、試料2を試料ホルダ22ごと、狭域像を観察する第2の測定手段である、光電子分析装置に導入し、図3における試料ステージ3に装着する。位置読み取り機構付き光学顕微鏡18で読み取った位置座標はコンピュータ16を用いて試料ステージ3の座標系にアフィン変換(並行移動、回転等の座標変換)する。変換された試料ステージ3用の座標位置を元に試料ステージ制御装置により試料ステージ3を駆動し、光電子分析を行う。この時、目的部位周辺でも光電子像を測定する。   Next, the sample 2 together with the sample holder 22 is introduced into a photoelectron analyzer which is a second measuring means for observing a narrow area image, and is mounted on the sample stage 3 in FIG. The position coordinates read by the optical microscope 18 with a position reading mechanism are affine transformed (coordinate transformation such as parallel movement and rotation) into the coordinate system of the sample stage 3 using the computer 16. The sample stage 3 is driven by the sample stage control device based on the converted coordinate position for the sample stage 3 to perform photoelectron analysis. At this time, a photoelectron image is also measured around the target site.

つまり、X線管より試料2表面に細く絞ったX線を照射し、照射により試料極薄層から発生した光電子を入射レンズユニット10により集束して静電半球型エネルギーアナライザ11に導き、ここでエネルギー分光する。そして、分光された光電子を検出器12で検出し、コンピュータ16により検出された光電子のエネルギースペクトルを得、スペクトルを解析して試料2の微小領域の組成や化学状態等を分析する。すなわち、エネルギースペクトルに現れるピークの位置から所定元素の量を演算することにより、試料2表面の所定元素の量が分かり、X線の照射位置を順次ずらして測定を行い、各位置での元素量を色に対応させてマッピング表示することにより図5右のような光電子像を得ることができる。   In other words, X-rays narrowly focused on the surface of the sample 2 are irradiated from the X-ray tube, and the photoelectrons generated from the sample ultrathin layer by the irradiation are focused by the incident lens unit 10 and led to the electrostatic hemispherical energy analyzer 11. Spectral energy. Then, the dispersed photoelectrons are detected by the detector 12, the energy spectrum of the photoelectrons detected by the computer 16 is obtained, and the spectrum is analyzed to analyze the composition, chemical state, etc. of the micro region of the sample 2. That is, by calculating the amount of the predetermined element from the position of the peak appearing in the energy spectrum, the amount of the predetermined element on the surface of the sample 2 can be determined, and the measurement is performed by sequentially shifting the X-ray irradiation position. Is displayed in correspondence with the color, a photoelectron image as shown in the right of FIG. 5 can be obtained.

得られた光電子像から、予め設定された分析位置と異なる部位に分析を要する部位が発見された場合は、この部位のスペクトルを取得して分析測定を行う。新たに追加された図4における追加分析位置26の試料ステージ3上での座標位置(X、Y)をコンピュータ16のメモリに記録する。 When a part requiring analysis is found in a part different from a preset analysis position from the obtained photoelectron image, a spectrum of this part is acquired and analysis measurement is performed. The coordinate position (X 4 , Y 4 ) on the sample stage 3 of the additional analysis position 26 in FIG. 4 newly added is recorded in the memory of the computer 16.

コンピュータ16により記録された追加分析位置26の座標位置を位置読み取り機構付き光学顕微鏡18の座標系にアフィン変換する。光学顕微鏡像の座標においてアフィン変換された追加分析位置26の座標を、記録されている予め設定された分析目標位置23’(X、Y)に対する、ベクトル値27に変換する。算出されたベクトル値27に基づいて、コンピュータ16のメモリに記録された光学顕微鏡像に付随する分析位置データファイルに追加分析位置26を書き込む。追加された分析位置は、図2左図のようにモニタ上に表示される。 The coordinate position of the additional analysis position 26 recorded by the computer 16 is affine transformed into the coordinate system of the optical microscope 18 with a position reading mechanism. The coordinates of the additional analysis position 26 affine-transformed in the coordinates of the optical microscope image are converted into a vector value 27 for the recorded analysis target position 23 ′ (X 1 , Y 1 ). Based on the calculated vector value 27, the additional analysis position 26 is written in the analysis position data file associated with the optical microscope image recorded in the memory of the computer 16. The added analysis position is displayed on the monitor as shown in the left diagram of FIG.

以上、動作について説明したが、本発明により、位置読み取り機構付き光学顕微鏡で得た像に、新たに追加された光電子分析装置による分析位置を記録することが可能になる。これにより、光学顕微鏡の像から分析された部位の形状的特徴と光電子分光装置による分析結果との相関付けが可能になる。ここで形状的特徴とは、異物、突起、変色などを含む。   Although the operation has been described above, according to the present invention, the analysis position by the newly added photoelectron analyzer can be recorded in the image obtained by the optical microscope with a position reading mechanism. Thereby, it is possible to correlate the shape characteristic of the part analyzed from the image of the optical microscope and the analysis result by the photoelectron spectrometer. Here, the shape features include foreign matters, protrusions, discoloration, and the like.

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、X線源の替わりに電子銃としてオージェマイクロプローブでもよい。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible. For example, an Auger microprobe may be used as an electron gun instead of the X-ray source.

本発明による装置概要である。1 is an overview of an apparatus according to the present invention. 本発明による光電子像から光学像に観察位置を追加するイメージ図である。It is an image figure which adds an observation position to an optical image from the photoelectron image by this invention. 光学顕微鏡で観察した試料の座標図である。It is the coordinate diagram of the sample observed with the optical microscope. 光分光装置で観察した試料の座標図である。It is the coordinate diagram of the sample observed with the optical spectrometer. 従来技術における測定結果である。It is a measurement result in a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 分析室
2 試料
3 試料ステージ
4 試料ステージ位置調整機構
5 試料ステージ制御装置
6 光学顕微鏡
8 照明装置
9 X線管
10 入射レンズユニット
11 エネルギーアナライザ
12 検出器
13 エネルギーアナライザ駆動電源ユニット
14 エネルギーアナライザ制御ユニット
15 モニタ
16 コンピュータ
17 CCDカメラ
18 位置読み取り機構付き光学顕微鏡
19 光学顕微鏡
20 XYテーブル
21 基準点
22 試料ホルダ
23 分析目標位置
24 分析目標位置
25 分析目標位置
26 追加分析位置
27 ベクトル値
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Analysis chamber 2 Sample 3 Sample stage 4 Sample stage position adjustment mechanism 5 Sample stage control apparatus 6 Optical microscope 8 Illumination apparatus 9 X-ray tube 10 Incident lens unit 11 Energy analyzer 12 Detector 13 Energy analyzer drive power supply unit 14 Energy analyzer control unit DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Monitor 16 Computer 17 CCD camera 18 Optical microscope with position reading mechanism 19 Optical microscope 20 XY table 21 Reference point 22 Sample holder 23 Analysis target position 24 Analysis target position 25 Analysis target position 26 Additional analysis position 27 Vector value

Claims (4)

試料を置載し、試料座標の基準点を有する試料ホルダと、
前記試料ホルダを保持するXYテーブルを備え、前記試料の第1の像を読み取り、その座標を設定する位置読み取り光学顕微鏡と、
前記試料ホルダを保持する試料ステージと、1次ビーム源と、前記1次ビーム源より照射された1次ビームにより前記試料から発生した2次ビームを分光するエネルギーアナライザとを有し、アナライザの出力に基づく前記試料の第2の像を読み取り、その座標を設定する試料表面分析装置と、
前記位置読み取り光学顕微鏡と前記試料表面分析装置とに接続し、前記第1の像及び前記第2の像を記憶して表示すると共に、前記第1の像に基づいて指定された分析目標位置の情報を前記第1の像のデータに付随させて記憶し、記憶された分析目標位置の情報に基づいて前記試料ホルダを保持した試料ステージを制御することにより前記分析目標位置が前記試料表面分析装置の分析位置に配置され前記試料の第2の像が得られるように前記試料ステージを制御する情報処理手段と、
を備えた試料分析装置において、
前記情報処理手段は、更に、前記試料について前記分析目標位置と異なる位置を追加分析位置とした場合、試料表面分析装置から得られる前記追加分析位置の情報を前記位置読み取り光学顕微鏡の位置情報に座標変換し、座標変換された前記追加分析位置の情報を前記第1の像のデータに付随させて記憶することを特徴とする試料分析装置。
A sample holder on which a sample is placed and has a reference point of sample coordinates;
An XY table for holding the sample holder, a position reading optical microscope for reading the first image of the sample and setting its coordinates;
A sample stage for holding the sample holder, a primary beam source, and an energy analyzer for dispersing the secondary beam generated from the sample by the primary beam irradiated from the primary beam source, and the output of the analyzer A sample surface analysis device for reading a second image of the sample based on and setting coordinates thereof;
The position reading optical microscope and the sample surface analyzer are connected to store and display the first image and the second image, and the analysis target position designated based on the first image is displayed. Information is stored in association with the data of the first image, and the analysis target position is controlled by controlling the sample stage holding the sample holder based on the stored analysis target position information. An information processing means for controlling the sample stage so as to obtain a second image of the sample disposed at the analysis position;
In a sample analyzer equipped with
The information processing means further coordinates the information of the additional analysis position obtained from the sample surface analysis device into the position information of the position reading optical microscope when a position different from the analysis target position is set as the additional analysis position for the sample. The sample analysis apparatus characterized in that the converted and coordinate-converted information on the additional analysis position is stored in association with the data of the first image .
前記情報処理手段は、座標変換された前記追加分析位置の情報に基づき、前記第1の像に追加分析位置を表示することを特徴とする請求項1に記載した試料分析装置。 2. The sample analyzer according to claim 1, wherein the information processing unit displays the additional analysis position on the first image based on the coordinate-transformed information on the additional analysis position . 前記1次ビームが電子線であり、前記2次ビームがオージェ電子線であることを特徴とした請求項1又は2に記載した試料分析装置。 The sample analyzer according to claim 1 or 2 , wherein the primary beam is an electron beam, and the secondary beam is an Auger electron beam. 前記1次ビームがX線であり、前記2次ビームが光電子線であることを特徴とした請求項1又は2に記載した試料分析装置。 3. The sample analyzer according to claim 1 , wherein the primary beam is an X-ray and the secondary beam is a photoelectron beam.
JP2004362884A 2004-12-15 2004-12-15 Sample analyzer Expired - Fee Related JP4616631B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004362884A JP4616631B2 (en) 2004-12-15 2004-12-15 Sample analyzer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004362884A JP4616631B2 (en) 2004-12-15 2004-12-15 Sample analyzer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006170770A JP2006170770A (en) 2006-06-29
JP4616631B2 true JP4616631B2 (en) 2011-01-19

Family

ID=36671692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004362884A Expired - Fee Related JP4616631B2 (en) 2004-12-15 2004-12-15 Sample analyzer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4616631B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5067269B2 (en) * 2008-06-12 2012-11-07 株式会社島津製作所 Mapping analyzer
DE102009020663A1 (en) 2009-05-11 2010-11-25 Carl Zeiss Ag Microscopy of an object with a sequence of optical microscopy and particle beam microscopy
JP2012103232A (en) * 2010-11-15 2012-05-31 Riken Keiki Co Ltd Analysis system

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05107207A (en) * 1991-10-15 1993-04-27 Sumitomo Electric Ind Ltd Checking method of analytical point of analyzing apparatus of minute part, and analyzing apparatus of minute part
JP2001349854A (en) * 2000-06-06 2001-12-21 Jeol Ltd Analysis position setting method in electron spectrometer
JP2002310954A (en) * 2001-04-18 2002-10-23 Shimadzu Corp Sample analyzer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006170770A (en) 2006-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7612337B2 (en) Focused ion beam system and a method of sample preparation and observation
EP2896061B1 (en) Integrated optical and charged particle inspection apparatus
US9074992B2 (en) X-ray diffraction apparatus and X-ray diffraction measurement method
JP6549313B2 (en) Charged particle beam apparatus and sample holder
JP2008210731A (en) Transmission electron microscope with electron spectrometer
CN101395676B (en) Method for operating a measurement system containing a scanning probe microscope, and measurement system
JP2010080144A (en) Compound microscope device and method of observing sample
JP7287957B2 (en) Radiation detection device, computer program and positioning method
WO2000058690A1 (en) Coordinate transforming method in position setting means of observation device and observation device equipped with coordinate transforming means
CN101308103B (en) A micro-beam micro-area X-ray probe analyzer
JP2002310954A (en) Sample analyzer
JPH1027833A (en) Foreign matter analysis method
JP4616631B2 (en) Sample analyzer
JP5075393B2 (en) Scanning electron microscope
JP4650330B2 (en) Combined device of optical microscope and X-ray analyzer
JP2002286663A (en) Sample analysis and sample observation device
JP4456962B2 (en) SAMPLE DISPLAY DEVICE, SAMPLE DISPLAY DEVICE OPERATION METHOD, SAMPLE DISPLAY DEVICE OPERATION PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM OR RECORDED DEVICE
JP4596881B2 (en) Transmission electron microscope equipment
JP2602523B2 (en) Cathodoluminescence measuring device
JP2913807B2 (en) Electron beam irradiation analyzer
JP5248759B2 (en) Particle beam analyzer
JP7753765B2 (en) Image display method, analysis system, and program
JP2001330563A (en) Inspection equipment
KR102777155B1 (en) A resolution dual-mode conversion apparatus of 3D X-ray microscope
JP2005235782A (en) Electron beam analysis method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071010

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100629

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100827

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101019

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101022

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4616631

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131029

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131029

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees