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JP4620566B2 - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description

本発明は、半導体装置およびその製造方法に関し、特に、リードが重心調整機能を有する半導体装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a semiconductor device in which a lead has a function of adjusting a center of gravity and a manufacturing method thereof.

半導体装置では、内部に樹脂封止された半導体素子から電気信号を外部に取り出すために、引き出し電極が設けられている。半導体装置の信頼性や電気的特性等を考慮して、種々の引き出し電極構造が提案されている。例えば、大電流を流す電力用の半導体装置では、引き出し電極として、半導体素子の表面に板状のリードを接合する構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2000−114445号公報
In a semiconductor device, an extraction electrode is provided in order to extract an electric signal from a semiconductor element sealed inside with a resin. Various lead electrode structures have been proposed in consideration of the reliability and electrical characteristics of semiconductor devices. For example, in a power semiconductor device through which a large current flows, a structure has been proposed in which a plate-like lead is joined to the surface of a semiconductor element as an extraction electrode (see, for example, Patent Document 1).
JP 2000-114445 A

しかしながら、かかる半導体装置では、半導体素子の表面にリードを固定するとともにリードの端部に電極端子を固定する必要があり、半導体素子に固定されたリードと、電極端子となる外部のリードフレームとの位置関係が限定されていた。また、複雑な回路構成を有する半導体装置を作製するためには、半導体素子の表面にリードを固定する場合に、リードを所定の位置に保持する必要があり、製造工程が複雑となっていた。   However, in such a semiconductor device, it is necessary to fix the lead to the surface of the semiconductor element and to fix the electrode terminal to the end portion of the lead, and the lead fixed to the semiconductor element and an external lead frame that becomes the electrode terminal The positional relationship was limited. Further, in order to manufacture a semiconductor device having a complicated circuit configuration, when the lead is fixed to the surface of the semiconductor element, it is necessary to hold the lead in a predetermined position, and the manufacturing process is complicated.

そこで、本発明は、重心調整機能を備えたリードを用いることにより、製造工程を簡略化した電力用の半導体装置およびその製造方法の提供を目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a power semiconductor device and a method for manufacturing the power semiconductor device in which the manufacturing process is simplified by using a lead having a function of adjusting the center of gravity.

本発明は、互いに対向する表面と裏面とを備えたブロック状の放熱板と、放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、リードに重心調整部材が固着され、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、リードと重心調整部材との重心が、半導体素子上にあることを特徴とする半導体装置である。

The present invention relates to a block-shaped heat sink having a surface and a back surface facing each other, a semiconductor element having a surface and a back surface facing each other fixed to the surface of the heat sink, and a junction region of the surface of the semiconductor element The lead is fixed to the lead by the bonding material and the electrode terminal attached to the lead. When the gravity center adjustment member is fixed to the lead and the direction of gravity is in the normal direction of the heat sink, the lead The center of gravity of the center of gravity adjustment member is on the semiconductor element.

また、本発明は、互いに対向する表面と裏面とを備えた放熱板を準備する工程と、放熱板の表面に互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子を固定する工程と、半導体素子の表面の接合領域に、リードを固定する固定工程と、リードに電極端子を取り付ける工程と含み、固定工程が、接合領域に半田材を配置し、半田材にリードが接するようにリードを自立させた状態で半田材を溶かし、接合領域にリードを固定する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法でもある。   The present invention also includes a step of preparing a heat sink having a surface and a back surface facing each other, a step of fixing a semiconductor element having a surface and a back surface facing each other on the surface of the heat sink, The fixing process includes fixing the lead to the bonding area on the surface and attaching the electrode terminal to the lead. The fixing process arranges the solder material in the bonding area and makes the lead stand up so that the lead contacts the solder material. It is also a method for manufacturing a semiconductor device, which is a step of melting a solder material in a state and fixing a lead to a joining region.

本発明によれば、半導体素子の表面にリード自立させた状態で固定できるため、半導体装置の生産性や歩留まりが向上するとともに、半導体装置の設計の自由度が向上し、複雑な回路を容易に得ることが可能となる。   According to the present invention, since the lead can be fixed on the surface of the semiconductor element in a self-supporting state, the productivity and yield of the semiconductor device are improved, the degree of freedom in designing the semiconductor device is improved, and a complicated circuit is easily formed. Can be obtained.

実施の形態1.
図1は、全体が100で表される、本発明の実施の形態1にかかる電力用の半導体装置の断面図であり、図2は、半導体装置100のIGBT2近傍の斜視図(樹脂筐体8を除く)である。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a power semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, the whole being represented by 100, and FIG. 2 is a perspective view of the vicinity of the IGBT 2 of the semiconductor device 100 (resin casing 8). Is excluded).

電力用の半導体装置100は、例えば縦50mm、横30mm、厚さ3mmのCuブロック1を含む。Cuブロック1表面には、例えば、厚さ0.4mm、縦、横15mmのIGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)2が、例えば、厚さ0.15mmのSn−Ag−Cu系のはんだ3により接合されている。Cuブロック1は、IGBT2の放熱効果を高めるとともに、裏面配線の役割も兼ねる。   The power semiconductor device 100 includes, for example, a Cu block 1 having a length of 50 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 3 mm. An IGBT (insulated gate bipolar transistor) 2 having a thickness of 0.4 mm, a length and a width of 15 mm, for example, is joined to the surface of the Cu block 1 by a Sn-Ag-Cu solder 3 having a thickness of 0.15 mm, for example. ing. The Cu block 1 enhances the heat dissipation effect of the IGBT 2 and also serves as a back surface wiring.

IGBT2の表面の接合領域には、例えば、IGBT2との接合部が縦13mm×横10mmの矩形形状で、厚さが0.2mmのCuリード4が、例えば厚さ0.2mmのSn−Ag−Cu系のはんだ5により接合されている。Cuリード4とCuブロック1との間は、十分な絶縁距離を設ける必要があるため、Cuリード4は屈曲部4B(図3参照)でIGBT2の表面に対して垂直方向に曲げられて、IGBT2の表面から約1.5mmの間隔を有するようになっている。   In the junction region on the surface of the IGBT 2, for example, a joint portion with the IGBT 2 is a rectangular shape having a length of 13 mm × width of 10 mm, and a Cu lead 4 having a thickness of 0.2 mm is Sn-Ag— with a thickness of 0.2 mm, for example. Bonded by a Cu-based solder 5. Since it is necessary to provide a sufficient insulation distance between the Cu lead 4 and the Cu block 1, the Cu lead 4 is bent in a direction perpendicular to the surface of the IGBT 2 at the bent portion 4B (see FIG. 3), and thus the IGBT 2 And a distance of about 1.5 mm from the surface.

なお、接合に用いるCuリード4は、厚みを薄くした方が、温度サイクルが加わった場合にははんだ5のクラックなどが発生しにくく、信頼性が向上する。   In addition, when the Cu lead 4 used for joining is made thinner, cracks of the solder 5 are less likely to occur when a temperature cycle is applied, and the reliability is improved.

Cuリード4には、Cuリード4がIGBT2の接合領域上に自立する(固定しなくても傾かずに静止する)ように、IGBT2上に位置する端部に重心調整部4Aが設けられている。図3に示すように、重心調整部4Aは、例えば、リード成形時の曲げ加工においてCuリード4の端部を折り曲げて形成される。   The Cu lead 4 is provided with a center-of-gravity adjustment portion 4A at the end located on the IGBT 2 so that the Cu lead 4 is self-supporting on the junction region of the IGBT 2 (it does not tilt but remains stationary). . As shown in FIG. 3, the center-of-gravity adjusting portion 4A is formed, for example, by bending an end portion of the Cu lead 4 in a bending process during lead molding.

重心調整部4Aは、図3に示す4Bを支点として、Cuリード4が、自重による回転モーメントで倒ないように作製される。換言すれば、Cuリード4の重心を通る直線が、接合領域と垂直に交わるようになっている。なお、屈曲部4Bは、Cuリード4とIGBT2との接合部の、引き出し方向の端部である。   The center-of-gravity adjusting portion 4A is manufactured so that the Cu lead 4 does not fall by the rotational moment due to its own weight with 4B shown in FIG. 3 as a fulcrum. In other words, a straight line passing through the center of gravity of the Cu lead 4 intersects the bonding area perpendicularly. The bent portion 4B is an end portion in the pulling direction of the joint portion between the Cu lead 4 and the IGBT 2.

Cuブロック1、Cuリード4には、それぞれ電極端子6A、6BがAgペースト等で固着され、半導体装置外部との電流の入出力を行う。IGBT2のゲート電極(図示せず)には、Alワイヤ7を用いて、電極端子6Cが接続される。
電極端子6BとCuリード4との接合部においては、Cuリード4が電極端子6Bより放熱板1側になるように、Cuリード4と電極端子6Bとが重ねられて接合される。
Electrode terminals 6A and 6B are fixed to the Cu block 1 and the Cu lead 4 with Ag paste or the like, respectively, and current is input / output from / to the outside of the semiconductor device. An electrode terminal 6C is connected to the gate electrode (not shown) of the IGBT 2 using an Al wire 7.
At the joint portion between the electrode terminal 6B and the Cu lead 4, the Cu lead 4 and the electrode terminal 6B are overlapped and joined so that the Cu lead 4 is closer to the heat sink 1 than the electrode terminal 6B.

Cuブロック1等は、フィラーが混入されたエポキシ樹脂等からなる樹脂筐体8に封止される。
なお、Cuリード1の裏面には、樹脂筐体8よりもフィラーの添加量の多い、熱伝導率の高い絶縁シート9が固着されている。
The Cu block 1 or the like is sealed in a resin casing 8 made of an epoxy resin or the like mixed with a filler.
Note that an insulating sheet 9 having a higher amount of filler added than the resin casing 8 and having a high thermal conductivity is fixed to the back surface of the Cu lead 1.

次に、半導体装置の製造方法について簡単に説明する。
まず、Cuブロック1を準備する。約280℃に加熱されたCuブロック1上にIGBT2の面積とほぼ同サイズにプリフォームされた板状はんだを載置する。以下のはんだ工程は、還元雰囲気炉中を通過するトンネル炉によって行われる。
Next, a method for manufacturing a semiconductor device will be briefly described.
First, the Cu block 1 is prepared. On the Cu block 1 heated to about 280 ° C., a plate-shaped solder preformed to have approximately the same size as the area of the IGBT 2 is placed. The following soldering process is performed by a tunnel furnace passing through a reducing atmosphere furnace.

次に、溶融したはんだの上に、第二の主電極にあたるコレクタ電極(図示せず)がCuブロック1上に接続するように、IGBT2を載置する。   Next, the IGBT 2 is placed on the melted solder so that a collector electrode (not shown) corresponding to the second main electrode is connected to the Cu block 1.

次に、IGBT2の第一の主電極にあたるエミッタ電極(接合領域:図示せず)上に、プリフォームされた板状はんだを載置して溶融させ、更に、溶融したはんだの上からCuリード4を載置する。
なお、IGBT2の第一の主電極(接合領域)上には、予め、はんだとの濡れ性を良くするために、例えば無電解メッキ法等により厚さ5μm程度のNi膜を形成しておくことが好ましい。
Next, the preformed plate-like solder is placed on the emitter electrode (joining region: not shown) corresponding to the first main electrode of the IGBT 2 and melted. Further, the Cu lead 4 is formed on the melted solder. Is placed.
In addition, on the first main electrode (joining region) of the IGBT 2, a Ni film having a thickness of about 5 μm is formed in advance by, for example, an electroless plating method in order to improve wettability with solder. Is preferred.

ここで、図3のCuリード4の断面図に示すように、Cuリード4には、Cuリード4がIGBT2上に自立する(固定しなくても傾かずに静止する)ように、IGBT2上に位置する端部に重心調整部4Aが設けられている。図3に示すように、重心調整部4Aは、例えば、リード成形時の曲げ加工においてCuリード4の端部を折り曲げて形成される。   Here, as shown in the cross-sectional view of the Cu lead 4 in FIG. 3, the Cu lead 4 is placed on the IGBT 2 so that the Cu lead 4 is self-supporting on the IGBT 2 (it does not tilt even if it is not fixed). The center of gravity adjustment portion 4A is provided at the end portion located. As shown in FIG. 3, the center-of-gravity adjusting portion 4A is formed, for example, by bending an end portion of the Cu lead 4 in a bending process during lead molding.

重心調整部4Aは、図3に示す屈曲部4Bを支点として、Cuリード4が、自重による回転モーメントで倒ないように作製される。なお、4Bは、Cuリード4とIGBT2とが接合される部分の、引き出し方向の端部である。   The center-of-gravity adjusting portion 4A is manufactured so that the Cu lead 4 does not fall by a rotating moment due to its own weight, with the bent portion 4B shown in FIG. 3 as a fulcrum. Reference numeral 4B denotes an end portion in the pulling direction of a portion where the Cu lead 4 and the IGBT 2 are joined.

図4は、全体が120で表される、半導体装置100のIGBT2近傍の斜視図(樹脂筐体8を除く)である。図4の構造では、重心調整部4Aは、2つの折り曲げ部から形成される。必要な重心の位置や重さに応じて、図2、4に示す重心調整部4Aの構造が使い分けられる。   FIG. 4 is a perspective view (excluding the resin casing 8) in the vicinity of the IGBT 2 of the semiconductor device 100, represented as a whole by 120. In the structure of FIG. 4, the center-of-gravity adjustment portion 4A is formed from two bent portions. Depending on the position and weight of the required center of gravity, the structure of the center of gravity adjusting unit 4A shown in FIGS.

なお、後述するように、IGBT2の制御配線にはAlワイヤ配線が設けられるため、重心調整部4Aは、制御電極に重ならないように形成される。   As will be described later, since the Al 2 wiring is provided in the control wiring of the IGBT 2, the center of gravity adjusting portion 4A is formed so as not to overlap the control electrode.

かかる工程の後、全体を冷却してはんだ付を完了する。IGBT2に対するCuリード4の位置合わせは、プリフォームされたはんだが溶融してCuリード4にぬれ力が働くことにより、セルフアライメントにより十分な位置合わせが行われる。   After this process, the whole is cooled to complete the soldering. The positioning of the Cu lead 4 with respect to the IGBT 2 is sufficiently performed by self-alignment by melting the preformed solder and applying a wetting force to the Cu lead 4.

IGBT2に対するCuリード4のはんだ付が完了した後、内部電極や外部電極を構成するリードフレーム(図示せず)を上から重ねて、Cuブロック1やCuリード4とリードフレームとの接合を行う。接合には、はんだの融点以下で接合できるAgペースト等の導電性接着剤が用いられる。   After the soldering of the Cu lead 4 to the IGBT 2 is completed, a lead frame (not shown) constituting the internal electrode and the external electrode is stacked from above, and the Cu block 1 and the Cu lead 4 are joined to the lead frame. For the bonding, a conductive adhesive such as an Ag paste that can be bonded at a temperature lower than the melting point of the solder is used.

最後に、Cuブロック1等をトランスファーモールド法により封止し、樹脂筐体8を形成する。更に、リードフレームをプレス金型等により切断し、曲げることにより電極端子6A、6B、6Cを形成する。この結果、Cuブロック1、Cuリード4には、それぞれ電極端子6A、6Bが固着され、半導体装置外部との電流の入出力を行うようになる。IGBT2のゲート電極(図示せず)には、例えばAlワイヤ7を用いて、電極端子6Cが接続される。   Finally, the Cu block 1 or the like is sealed by a transfer molding method to form the resin casing 8. Further, the lead frame is cut by a press die or the like and bent to form electrode terminals 6A, 6B, 6C. As a result, the electrode terminals 6A and 6B are fixed to the Cu block 1 and the Cu lead 4, respectively, and current is input / output from / to the outside of the semiconductor device. An electrode terminal 6C is connected to the gate electrode (not shown) of the IGBT 2 using, for example, an Al wire 7.

なお、Cuブロック1の筐体外部に接する部分には、樹脂筐体8よりもフィラーの添加量を増やした、熱伝導率の高い絶縁シート9が固着されている。   Note that an insulating sheet 9 having a higher thermal conductivity and having a larger amount of filler added than the resin casing 8 is fixed to a portion of the Cu block 1 that contacts the outside of the casing.

以上の工程で、本実施の形態にかかる電力用の半導体装置100が完成する。   Through the above steps, the power semiconductor device 100 according to the present embodiment is completed.

本実施の形態1では、半導体素子としてIGBTを例に述べたが、代わりに、パワートランジスタであるMOSFETなどを使用しても構わない。   In the first embodiment, the IGBT is described as an example of the semiconductor element. However, a MOSFET that is a power transistor may be used instead.

また、はんだ材として、Sn−Ag系のはんだを例示したが、Au−Si系、Sn−Pb系など、通常、電気的接合部に用いられる他のはんだ材料やAg入りエポキシ樹脂などの導電性接着剤を用いても構わない。特に、導電性接着剤を用いた場合は、Cuリード4に対して、はんだの濡れ力ほどの保持力を有しないため、本実施の形態のように、Cuリード4が自立する構成としないと、Cuリード4をIGBT2の上に固定する工程が困難となる。   In addition, Sn—Ag solder is exemplified as the solder material, but other conductive materials such as Au—Si, Sn—Pb, etc., which are usually used for electrical joints, and Ag-containing epoxy resin, etc. An adhesive may be used. In particular, when a conductive adhesive is used, since the Cu lead 4 does not have a holding power as high as the solder wettability, the Cu lead 4 must be configured to be self-supporting as in the present embodiment. The process of fixing the Cu lead 4 on the IGBT 2 becomes difficult.

また、はんだの濡れ性の良い金属膜として、メッキ法により形成したNi膜を例示したが、スパッタリング法により形成したNi/Auの積層膜等も使用できる。このように、表面がNi、Ag、Au、Pd、Cu等、はんだがぬれを生じる金属であれば、金属膜として使用可能である。   Further, the Ni film formed by the plating method is exemplified as the metal film having good solder wettability, but a Ni / Au laminated film formed by the sputtering method can also be used. Thus, if the surface is a metal that causes solder to wet, such as Ni, Ag, Au, Pd, or Cu, it can be used as a metal film.

本実施の形態にかかる電力用の半導体装置100では、Cuリード4が重心調整部4Aを有し、IGBT(半導体素子)2上に自立する(固定しなくても傾かずに静止する)ため、IGBT(半導体素子)2上へのCuリード4の接合工程で、スペーサやおもりでCuリード4を傾かないように固定する必要がない。   In the power semiconductor device 100 according to the present embodiment, the Cu lead 4 has the center-of-gravity adjustment portion 4A and is self-supporting on the IGBT (semiconductor element) 2 (it does not tilt and remains stationary without being fixed). In the joining process of the Cu lead 4 on the IGBT (semiconductor element) 2, it is not necessary to fix the Cu lead 4 so as not to be inclined with a spacer or a weight.

特に、Cuリード4を支持するためにスペーサを用いた場合、はんだ付をするための昇温、降温工程ではスペーサも含めて加熱、冷却されるため、温度上昇、温度降下に時間を要していた。これに対して、本実施の形態ではスペーサを使用しないため、スペーサの取り付け時間も含め、約30%の時間短縮が可能となった。   In particular, when a spacer is used to support the Cu lead 4, it takes time to increase and decrease the temperature because the spacer is also heated and cooled in the heating and cooling processes for soldering. It was. On the other hand, since no spacer is used in the present embodiment, the time can be reduced by about 30% including the time for attaching the spacer.

また、放熱板であるCuブロック1とCuリード4との間隙は、スペーサの高さで固定されるため、はんだ量が少ない場合などは、Cuリード4が浮いた状態で搭載され、はんだ付面積が減少したり、はんだ付できずにオープンになったりすることがあった。これに対して、本実施の形態では、スペーサを使用しないため、良好なはんだ付けが可能となる。   In addition, since the gap between the Cu block 1 and the Cu lead 4 which is a heat sink is fixed at the height of the spacer, when the amount of solder is small, the Cu lead 4 is mounted in a floating state, and the soldering area May decrease or may become open without soldering. On the other hand, in this embodiment, since no spacer is used, good soldering is possible.

更に、Cuリード4を支持するスペーサを用いる必要が無いため、はんだ付けにおける生産性が向上し、従来の約1.5倍の量の生産が可能となる。
また、Cuリード4の曲げ精度が、接合部に律則した0.05mmではなく、半導体素子(IGBT2)や放熱板(Cuブロック1)との絶縁距離に律則するため、0.2mmとすることが可能となり、Cuリード4のコストを約20%削減することが可能となった。
Further, since it is not necessary to use a spacer for supporting the Cu lead 4, the productivity in soldering is improved, and the amount of production about 1.5 times that of the conventional method can be achieved.
In addition, the bending accuracy of the Cu lead 4 is not 0.05 mm, which is regulated at the joint, but is 0.2 mm because it is governed by the insulation distance from the semiconductor element (IGBT2) and the heat sink (Cu block 1). As a result, the cost of the Cu lead 4 can be reduced by about 20%.

また、半導体装置100内の回路構成は、放熱板(Cuブロック1)、半導体素子(IGBT2)、リードだけであり、はんだ付けされた要素を組み合わせてリードフレームを選択するだけで、大電流装置やインバータ回路に用いられる2素子並列の2IN1モジュール、6素子並列の6IN1モジュールを形成することができる。   In addition, the circuit configuration in the semiconductor device 100 is only a heat sink (Cu block 1), a semiconductor element (IGBT2), and a lead. By simply selecting a lead frame by combining soldered elements, Two-element parallel 2IN1 modules and six-element parallel 6IN1 modules used in the inverter circuit can be formed.

また、本実施の形態で示された構造、接合プロセスを用いることによって、リードフレームを放熱板やリードの上から重ねて接合するだけで、複雑な回路を容易に形成することが可能である。   Further, by using the structure and bonding process shown in the present embodiment, it is possible to easily form a complicated circuit simply by stacking and bonding the lead frame on the heat sink and the leads.

更に、本実施の形態にかかる半導体装置100では、短時間に大きな発熱がある場合や、Cuリード4自体の発熱に対して、樹脂筐体8への放熱を促進し、温度変化の少ない信頼性の高い半導体装置を得ることができる。   Further, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, when there is a large amount of heat in a short time or when the Cu lead 4 itself generates heat, heat dissipation to the resin housing 8 is promoted, and reliability with little temperature change is achieved. A semiconductor device with a high level can be obtained.

実施の形態2.
図5は、全体が200で表される、本発明の実施の形態2にかかる電力用の半導体装置の断面図である。図5中、図1と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 5 is a cross-sectional view of the power semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, indicated as a whole by 200. In FIG. 5, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.

本実施の形態2にかかる半導体装置200では、Cuリード4の端部が、Cuブロック1の表面から約5mm突出した端部(図5では、右方向に突出)を有する。   In the semiconductor device 200 according to the second embodiment, the end portion of the Cu lead 4 has an end portion protruding from the surface of the Cu block 1 by about 5 mm (projecting rightward in FIG. 5).

Cuリード4に電極端子6A−6Cを接続する工程では、リードフレームをCuリード4の上から搭載し、例えば上下から接合部に50MPa程度の圧力を加えて超音波を印加し、超音波接合によって接続する。
本実施の形態にかかる半導体装置200では、Cuリード4の端部が、Cuブロック1の表面端部から約5mm突出しているため、Cuリード4と電極端子6Bとの接合部に容易に圧力を加えることができる。
In the process of connecting the electrode terminals 6A-6C to the Cu lead 4, the lead frame is mounted from above the Cu lead 4, and for example, an ultrasonic wave is applied by applying a pressure of about 50 MPa to the joint portion from above and below. Connecting.
In the semiconductor device 200 according to the present embodiment, since the end of the Cu lead 4 protrudes from the end of the surface of the Cu block 1 by about 5 mm, pressure is easily applied to the joint between the Cu lead 4 and the electrode terminal 6B. Can be added.

従って、リードの高さやフレームの高さのばらつきが大きい場合でも、フレームを十分変形させることができ、また治具などによってCuリードを支持できるため、接合部オープン等の接合不良を低減することが可能となる。
また、数MPaの加圧力を必要とする抵抗溶接、抵抗ロウ付け、超音波接合など複数の接合方法から適した方法を選択することが可能となる。このため、例えば、100A以下の使用電流の小さい半導体装置においてはスポット溶接を、300Aを超えるような使用電流の大きい半導体においては、接続面積を拡大させることが可能な抵抗ロウ付けなどを、適宜使用することができる。
Therefore, even when there is a large variation in the height of the lead or the height of the frame, the frame can be sufficiently deformed, and the Cu lead can be supported by a jig or the like. It becomes possible.
In addition, a suitable method can be selected from a plurality of joining methods such as resistance welding, resistance brazing, and ultrasonic joining that require a pressure of several MPa. For this reason, for example, spot welding is used as appropriate for a semiconductor device with a small operating current of 100 A or less, and resistance brazing that can increase the connection area is used as appropriate for a semiconductor with a large operating current exceeding 300 A. can do.

このように、本実施の形態にかかる半導体装置200では、接合部形状、接合方式の選択肢が広がるため、フレーム設計の自由度が向上し、多数の半導体素子を組み合わせた半導体装置を形成する場合には、回路の作製が容易となる。   As described above, in the semiconductor device 200 according to the present embodiment, since the options of the joint shape and the joining method are widened, the degree of freedom in frame design is improved, and a semiconductor device in which a large number of semiconductor elements are combined is formed. This makes it easy to produce a circuit.

実施の形態3.
図6は、全体が300で表される、本発明の実施の形態3にかかる電力用の半導体装置の断面図である。図7は、電力用の半導体装置300のIGBT2近傍の斜視図である。図6、7中、図1、2と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
Embodiment 3 FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the power semiconductor device according to the third embodiment of the present invention, the whole being represented by 300. FIG. 7 is a perspective view of the vicinity of the IGBT 2 of the power semiconductor device 300. 6 and 7, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2 indicate the same or corresponding portions.

半導体装置300では、Cuリード4の、IGBT2上のエミッタ電極(図示せず)と接合される面と対向する面に、例えば、縦1mm、横4mm、高さ8mmのタングステンの重心調整部材10が、例えばAgロウ付けなどによって予め固着されている。かかる重心調整部材10を有することにより、Cuリード4が自立するようになっている。   In the semiconductor device 300, for example, a tungsten center of gravity adjusting member 10 having a length of 1 mm, a width of 4 mm, and a height of 8 mm is formed on the surface of the Cu lead 4 facing the surface to be bonded to the emitter electrode (not shown) on the IGBT 2. For example, it is fixed in advance by Ag brazing or the like. By having such a center-of-gravity adjusting member 10, the Cu lead 4 is self-supporting.

ここで、重心調整部材10は、Cuリード4上の接合面全面に固着されていても良いが、タングステンなどは高価な材料であるため、リードが自立する必要最低限の重量のタングステンを使用することが、製造コスト削減の観点から好ましい。   Here, the center-of-gravity adjusting member 10 may be fixed to the entire joint surface on the Cu lead 4, but tungsten or the like is an expensive material, and therefore, tungsten having a minimum necessary weight for the lead to stand on its own is used. It is preferable from the viewpoint of manufacturing cost reduction.

なお、より小さい部品によってリードの自立を実現するためには、例えばモリブデンや上述のタングステンのような、比重がCuと同等以上の物質を用いるのが好ましい。また、重心調整部材10は導電材料に限らず、絶縁体であっても構わない。   In order to realize the self-supporting of the lead with smaller parts, it is preferable to use a material having a specific gravity equal to or higher than that of Cu, such as molybdenum or the above-described tungsten. The center-of-gravity adjusting member 10 is not limited to a conductive material, and may be an insulator.

以上の実施の形態1〜3では、リード材料としてCuを例として挙げて説明したが、比重の小さなAlを用いることで、重心調整部材10の小型、薄型化が可能となる。   In the above first to third embodiments, description has been made by taking Cu as an example of the lead material. However, by using Al having a small specific gravity, the center-of-gravity adjusting member 10 can be reduced in size and thickness.

例えば、図8は、発熱の大きいIGBT2からのCuリード4の配線を2方向に分割することによって、IGBT2の電流密度、発熱を分散する構造である。このようなリード構造の場合には、リードの重心位置を調整するような部分を、リードの曲げ成形によって形成することは、リード全体の高さが曲げ高さの3倍以上になるため極めて困難であるが、重心調整部材10を取り付ける場合は、取り付け位置の選択が比較的に自由に行える。例えば、図8に示すように、接合部と対向する領域に重心調整部材10を設置しても構わないし、図9に示すように、配線部に設置しても構わない。   For example, FIG. 8 shows a structure in which the current density and heat generation of the IGBT 2 are dispersed by dividing the wiring of the Cu lead 4 from the IGBT 2 that generates a large amount of heat into two directions. In the case of such a lead structure, it is extremely difficult to form a portion that adjusts the center of gravity of the lead by bending the lead because the height of the entire lead is more than three times the bending height. However, when the gravity center adjusting member 10 is attached, the attachment position can be selected relatively freely. For example, as shown in FIG. 8, the center-of-gravity adjusting member 10 may be installed in a region facing the joint portion, or may be installed in the wiring portion as shown in FIG.

このように、本実施の形態3にかかる半導体装置300では、Cuリードの変形のみではCuリードの重心位置を調整できないような、薄型パッケージの半導体装置を作製することが可能となる。   As described above, in the semiconductor device 300 according to the third embodiment, it is possible to manufacture a thin package semiconductor device in which the center of gravity position of the Cu lead cannot be adjusted only by deformation of the Cu lead.

実施の形態4.
図10は、本実施の形態4にかかる電力用半導体装置のIGBT2近傍の斜視図である。図10中、図1と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
Embodiment 4 FIG.
FIG. 10 is a perspective view of the vicinity of the IGBT 2 of the power semiconductor device according to the fourth embodiment. 10, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same or corresponding parts.

始めに、Cuブロック1、IGBT2、およびIGBT2の接合領域上に自立するように両端が展開された(両端が延びた)Cuリード4を、各接合領域の形状に合わせてプリフォームされたはんだシート(図示せず)を介して積層する。はんだ付けの方法としては、実施の形態1に示したような、トンネル炉を用いた積層はんだ付を用いる。   First, a solder sheet in which Cu leads 4 having both ends developed (both ends extended) so as to be self-supporting on the joining region of the Cu block 1, IGBT 2 and IGBT 2 are preformed in accordance with the shape of each joining region. (Not shown). As a soldering method, the laminated soldering using a tunnel furnace as shown in the first embodiment is used.

この際、IGBT2の制御電極上を覆うCuリード4の側面には、長さ2mm、幅2mmの切欠き4Cが設けられている。   At this time, a notch 4C having a length of 2 mm and a width of 2 mm is provided on the side surface of the Cu lead 4 covering the control electrode of the IGBT 2.

はんだ付けが完了した後、図11に示すように、Cuリード4の制御電極を覆っているCuリード4の端部を、反対側の端部に向かって折り曲げ、重なったCuリード4同士を、例えば超音波接合によって固着する。   After the soldering is completed, as shown in FIG. 11, the end of the Cu lead 4 covering the control electrode of the Cu lead 4 is bent toward the opposite end, and the overlapping Cu leads 4 are For example, it is fixed by ultrasonic bonding.

その後、内部電極および外部電極を構成するリードフレーム(図示せず)を上から重ねて、はんだ融点以下で接続できるAgペーストのような導電性接着剤等により、リードフレームとCuリード4とを電気的に接続する。   Thereafter, the lead frame (not shown) constituting the internal electrode and the external electrode is overlapped from above, and the lead frame and the Cu lead 4 are electrically connected with a conductive adhesive such as an Ag paste that can be connected at a solder melting point or lower. Connect.

このような製造方法により作製される電力用の半導体装置では、展開された状態で自立するCuリード4を用いることにより、スペーサや重りを必要としないことは前述の実施の形態1などで示したものと同様である。ここでは、更に、Cuリード4を重ねて接合するため、IGBT2などからの電流経路の断面積を略2倍にすることができる。   In the power semiconductor device manufactured by such a manufacturing method, it has been shown in the first embodiment that the spacers and weights are not required by using the Cu leads 4 that are self-supported in the unfolded state. It is the same as that. Here, since the Cu lead 4 is further overlapped and joined, the cross-sectional area of the current path from the IGBT 2 or the like can be approximately doubled.

IGBT2上での温度サイクル信頼性を向上させるためにCuリード4を薄くした場合、配線部の電気抵抗が増大する。これに対して、本実施の形態にかかる半導体装置では信頼性を向上させ、かつ配線抵抗の低い半導体装置を作製することが可能となる。   When the Cu lead 4 is thinned to improve the temperature cycle reliability on the IGBT 2, the electric resistance of the wiring portion increases. In contrast, the semiconductor device according to the present embodiment can improve the reliability and produce a semiconductor device with low wiring resistance.

本発明の実施の形態1にかかる電力用半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1にかかる電力用半導体装置の部分斜視図である。1 is a partial perspective view of a power semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態1にかかる電力用半導体装置に用いるCuリードの断面図である。It is sectional drawing of Cu lead used for the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1にかかる他の電力用半導体装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the other power semiconductor device concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2にかかる電力用半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかる電力用半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかる電力用半導体装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかる他の電力用半導体装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the other power semiconductor device concerning Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかる他の電力用半導体装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the other power semiconductor device concerning Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4にかかる電力用半導体装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態4にかかる電力用半導体装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the semiconductor device for electric power concerning Embodiment 4 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 Cuブロック、2 IGBT、3 はんだ、4 Cuリード、4A 重心調整部、4B 支点、4C 切欠、5 はんだ、6A、6B、6C 電極端子、7 Alワイヤ、8 樹脂筐体、9 樹脂シート、10 重心調整部材、100 半導体装置。   1 Cu block, 2 IGBT, 3 solder, 4 Cu lead, 4A center of gravity adjustment part, 4B fulcrum, 4C notch, 5 solder, 6A, 6B, 6C electrode terminal, 7 Al wire, 8 resin housing, 9 resin sheet, 10 Center of gravity adjustment member, 100 semiconductor device.

Claims (6)

互いに対向する表面と裏面とを備えたブロック状の放熱板と、
該放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、
該半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、
該リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、
該リードに重心調整部材が固着され、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、該リードと該重心調整部材との重心が、半導体素子上にあることを特徴とする半導体装置。
A block-shaped heat sink having a front surface and a back surface facing each other;
A semiconductor element having a front surface and a back surface that are opposed to each other and fixed to the surface of the heat sink;
A lead fixed with a bonding material to a bonding region on the surface of the semiconductor element;
A semiconductor device including an electrode terminal attached to the lead,
A semiconductor device, wherein a center of gravity of the lead and the center of gravity adjusting member is on a semiconductor element when the center of gravity adjusting member is fixed to the lead and the direction of gravity is in the normal direction of the back surface of the heat sink.
互いに対向する表面と裏面とを備えたブロック状の放熱板と、
該放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、
該半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、
該リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、
該リードは、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、該リードの重心が半導体素子上になるように逆方向に延びたリードの一方を、他方に接続するように折り曲げてなることを特徴とする半導体装置。
A block-shaped heat sink having a front surface and a back surface facing each other;
A semiconductor element having a front surface and a back surface that are opposed to each other and fixed to the surface of the heat sink;
A lead fixed with a bonding material to a bonding region on the surface of the semiconductor element;
A semiconductor device including an electrode terminal attached to the lead,
The lead should be bent so that one of the leads extending in the opposite direction is connected to the other so that the center of gravity of the lead is on the semiconductor element when the direction of gravity is in the normal direction of the back surface of the heat sink. A semiconductor device characterized by the above.
上記電極端子と上記リードとの接合部において、該リードが該電極端子より上記放熱板側になるように、該リードと該電極端子とが重ねられたことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。   3. The lead and the electrode terminal according to claim 1 or 2, wherein the lead and the electrode terminal are overlapped so that the lead is closer to the heat sink than the electrode terminal at a joint portion between the electrode terminal and the lead. The semiconductor device described. 上記リードは、上記放熱板の表面と略平行に延び、該放熱板の端部を超えて外方に延びた外方端部を有し、該外方端部に上記電極端子が取り付けられたことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。   The lead extends substantially parallel to the surface of the heat sink, has an outer end extending outward beyond the end of the heat sink, and the electrode terminal is attached to the outer end. The semiconductor device according to claim 1, wherein: 互いに対向する表面と裏面とを備えた放熱板を準備する工程と、
該放熱板の表面に互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子を固定する工程と、
該半導体素子の表面の接合領域に、リードを固定する固定工程と、
該リードに電極端子を取り付ける工程と含み、
該固定工程が、該接合領域に半田材を配置し、該半田材に該リードが接するように該リードを自立させた状態で該半田材を溶かし、該接合領域に該リードを固定する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Preparing a heat sink with front and back surfaces facing each other;
Fixing a semiconductor element having a front surface and a back surface facing each other on the surface of the heat sink;
A fixing step of fixing the lead to the bonding region on the surface of the semiconductor element;
Attaching the electrode terminal to the lead,
The fixing step is a step of disposing the solder material in the joining region, melting the solder material in a state where the lead is self-supported so that the lead is in contact with the solder material, and fixing the lead to the joining region. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
上記固定工程後に、上記接合領域を挟んで違いに逆方向に延びた上記リードの一方を他方に接続するように折り曲げる工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。   6. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 5, further comprising a step of bending so that one of the leads extending in opposite directions across the joining region is connected to the other after the fixing step.
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