JP4620566B2 - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、半導体装置およびその製造方法に関し、特に、リードが重心調整機能を有する半導体装置およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a semiconductor device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a semiconductor device in which a lead has a function of adjusting a center of gravity and a manufacturing method thereof.
半導体装置では、内部に樹脂封止された半導体素子から電気信号を外部に取り出すために、引き出し電極が設けられている。半導体装置の信頼性や電気的特性等を考慮して、種々の引き出し電極構造が提案されている。例えば、大電流を流す電力用の半導体装置では、引き出し電極として、半導体素子の表面に板状のリードを接合する構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、かかる半導体装置では、半導体素子の表面にリードを固定するとともにリードの端部に電極端子を固定する必要があり、半導体素子に固定されたリードと、電極端子となる外部のリードフレームとの位置関係が限定されていた。また、複雑な回路構成を有する半導体装置を作製するためには、半導体素子の表面にリードを固定する場合に、リードを所定の位置に保持する必要があり、製造工程が複雑となっていた。 However, in such a semiconductor device, it is necessary to fix the lead to the surface of the semiconductor element and to fix the electrode terminal to the end portion of the lead, and the lead fixed to the semiconductor element and an external lead frame that becomes the electrode terminal The positional relationship was limited. Further, in order to manufacture a semiconductor device having a complicated circuit configuration, when the lead is fixed to the surface of the semiconductor element, it is necessary to hold the lead in a predetermined position, and the manufacturing process is complicated.
そこで、本発明は、重心調整機能を備えたリードを用いることにより、製造工程を簡略化した電力用の半導体装置およびその製造方法の提供を目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a power semiconductor device and a method for manufacturing the power semiconductor device in which the manufacturing process is simplified by using a lead having a function of adjusting the center of gravity.
本発明は、互いに対向する表面と裏面とを備えたブロック状の放熱板と、放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、リードに重心調整部材が固着され、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、リードと重心調整部材との重心が、半導体素子上にあることを特徴とする半導体装置である。
The present invention relates to a block-shaped heat sink having a surface and a back surface facing each other, a semiconductor element having a surface and a back surface facing each other fixed to the surface of the heat sink, and a junction region of the surface of the semiconductor element The lead is fixed to the lead by the bonding material and the electrode terminal attached to the lead. When the gravity center adjustment member is fixed to the lead and the direction of gravity is in the normal direction of the heat sink, the lead The center of gravity of the center of gravity adjustment member is on the semiconductor element.
また、本発明は、互いに対向する表面と裏面とを備えた放熱板を準備する工程と、放熱板の表面に互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子を固定する工程と、半導体素子の表面の接合領域に、リードを固定する固定工程と、リードに電極端子を取り付ける工程と含み、固定工程が、接合領域に半田材を配置し、半田材にリードが接するようにリードを自立させた状態で半田材を溶かし、接合領域にリードを固定する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法でもある。 The present invention also includes a step of preparing a heat sink having a surface and a back surface facing each other, a step of fixing a semiconductor element having a surface and a back surface facing each other on the surface of the heat sink, The fixing process includes fixing the lead to the bonding area on the surface and attaching the electrode terminal to the lead. The fixing process arranges the solder material in the bonding area and makes the lead stand up so that the lead contacts the solder material. It is also a method for manufacturing a semiconductor device, which is a step of melting a solder material in a state and fixing a lead to a joining region.
本発明によれば、半導体素子の表面にリード自立させた状態で固定できるため、半導体装置の生産性や歩留まりが向上するとともに、半導体装置の設計の自由度が向上し、複雑な回路を容易に得ることが可能となる。 According to the present invention, since the lead can be fixed on the surface of the semiconductor element in a self-supporting state, the productivity and yield of the semiconductor device are improved, the degree of freedom in designing the semiconductor device is improved, and a complicated circuit is easily formed. Can be obtained.
実施の形態1.
図1は、全体が100で表される、本発明の実施の形態1にかかる電力用の半導体装置の断面図であり、図2は、半導体装置100のIGBT2近傍の斜視図(樹脂筐体8を除く)である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a power semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, the whole being represented by 100, and FIG. 2 is a perspective view of the vicinity of the
電力用の半導体装置100は、例えば縦50mm、横30mm、厚さ3mmのCuブロック1を含む。Cuブロック1表面には、例えば、厚さ0.4mm、縦、横15mmのIGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)2が、例えば、厚さ0.15mmのSn−Ag−Cu系のはんだ3により接合されている。Cuブロック1は、IGBT2の放熱効果を高めるとともに、裏面配線の役割も兼ねる。
The
IGBT2の表面の接合領域には、例えば、IGBT2との接合部が縦13mm×横10mmの矩形形状で、厚さが0.2mmのCuリード4が、例えば厚さ0.2mmのSn−Ag−Cu系のはんだ5により接合されている。Cuリード4とCuブロック1との間は、十分な絶縁距離を設ける必要があるため、Cuリード4は屈曲部4B(図3参照)でIGBT2の表面に対して垂直方向に曲げられて、IGBT2の表面から約1.5mmの間隔を有するようになっている。
In the junction region on the surface of the
なお、接合に用いるCuリード4は、厚みを薄くした方が、温度サイクルが加わった場合にははんだ5のクラックなどが発生しにくく、信頼性が向上する。
In addition, when the
Cuリード4には、Cuリード4がIGBT2の接合領域上に自立する(固定しなくても傾かずに静止する)ように、IGBT2上に位置する端部に重心調整部4Aが設けられている。図3に示すように、重心調整部4Aは、例えば、リード成形時の曲げ加工においてCuリード4の端部を折り曲げて形成される。
The
重心調整部4Aは、図3に示す4Bを支点として、Cuリード4が、自重による回転モーメントで倒ないように作製される。換言すれば、Cuリード4の重心を通る直線が、接合領域と垂直に交わるようになっている。なお、屈曲部4Bは、Cuリード4とIGBT2との接合部の、引き出し方向の端部である。
The center-of-gravity adjusting
Cuブロック1、Cuリード4には、それぞれ電極端子6A、6BがAgペースト等で固着され、半導体装置外部との電流の入出力を行う。IGBT2のゲート電極(図示せず)には、Alワイヤ7を用いて、電極端子6Cが接続される。
電極端子6BとCuリード4との接合部においては、Cuリード4が電極端子6Bより放熱板1側になるように、Cuリード4と電極端子6Bとが重ねられて接合される。
At the joint portion between the
Cuブロック1等は、フィラーが混入されたエポキシ樹脂等からなる樹脂筐体8に封止される。
なお、Cuリード1の裏面には、樹脂筐体8よりもフィラーの添加量の多い、熱伝導率の高い絶縁シート9が固着されている。
The
Note that an
次に、半導体装置の製造方法について簡単に説明する。
まず、Cuブロック1を準備する。約280℃に加熱されたCuブロック1上にIGBT2の面積とほぼ同サイズにプリフォームされた板状はんだを載置する。以下のはんだ工程は、還元雰囲気炉中を通過するトンネル炉によって行われる。
Next, a method for manufacturing a semiconductor device will be briefly described.
First, the
次に、溶融したはんだの上に、第二の主電極にあたるコレクタ電極(図示せず)がCuブロック1上に接続するように、IGBT2を載置する。
Next, the
次に、IGBT2の第一の主電極にあたるエミッタ電極(接合領域:図示せず)上に、プリフォームされた板状はんだを載置して溶融させ、更に、溶融したはんだの上からCuリード4を載置する。
なお、IGBT2の第一の主電極(接合領域)上には、予め、はんだとの濡れ性を良くするために、例えば無電解メッキ法等により厚さ5μm程度のNi膜を形成しておくことが好ましい。
Next, the preformed plate-like solder is placed on the emitter electrode (joining region: not shown) corresponding to the first main electrode of the
In addition, on the first main electrode (joining region) of the
ここで、図3のCuリード4の断面図に示すように、Cuリード4には、Cuリード4がIGBT2上に自立する(固定しなくても傾かずに静止する)ように、IGBT2上に位置する端部に重心調整部4Aが設けられている。図3に示すように、重心調整部4Aは、例えば、リード成形時の曲げ加工においてCuリード4の端部を折り曲げて形成される。
Here, as shown in the cross-sectional view of the
重心調整部4Aは、図3に示す屈曲部4Bを支点として、Cuリード4が、自重による回転モーメントで倒ないように作製される。なお、4Bは、Cuリード4とIGBT2とが接合される部分の、引き出し方向の端部である。
The center-of-gravity adjusting
図4は、全体が120で表される、半導体装置100のIGBT2近傍の斜視図(樹脂筐体8を除く)である。図4の構造では、重心調整部4Aは、2つの折り曲げ部から形成される。必要な重心の位置や重さに応じて、図2、4に示す重心調整部4Aの構造が使い分けられる。
FIG. 4 is a perspective view (excluding the resin casing 8) in the vicinity of the
なお、後述するように、IGBT2の制御配線にはAlワイヤ配線が設けられるため、重心調整部4Aは、制御電極に重ならないように形成される。
As will be described later, since the
かかる工程の後、全体を冷却してはんだ付を完了する。IGBT2に対するCuリード4の位置合わせは、プリフォームされたはんだが溶融してCuリード4にぬれ力が働くことにより、セルフアライメントにより十分な位置合わせが行われる。
After this process, the whole is cooled to complete the soldering. The positioning of the
IGBT2に対するCuリード4のはんだ付が完了した後、内部電極や外部電極を構成するリードフレーム(図示せず)を上から重ねて、Cuブロック1やCuリード4とリードフレームとの接合を行う。接合には、はんだの融点以下で接合できるAgペースト等の導電性接着剤が用いられる。
After the soldering of the
最後に、Cuブロック1等をトランスファーモールド法により封止し、樹脂筐体8を形成する。更に、リードフレームをプレス金型等により切断し、曲げることにより電極端子6A、6B、6Cを形成する。この結果、Cuブロック1、Cuリード4には、それぞれ電極端子6A、6Bが固着され、半導体装置外部との電流の入出力を行うようになる。IGBT2のゲート電極(図示せず)には、例えばAlワイヤ7を用いて、電極端子6Cが接続される。
Finally, the
なお、Cuブロック1の筐体外部に接する部分には、樹脂筐体8よりもフィラーの添加量を増やした、熱伝導率の高い絶縁シート9が固着されている。
Note that an
以上の工程で、本実施の形態にかかる電力用の半導体装置100が完成する。
Through the above steps, the
本実施の形態1では、半導体素子としてIGBTを例に述べたが、代わりに、パワートランジスタであるMOSFETなどを使用しても構わない。 In the first embodiment, the IGBT is described as an example of the semiconductor element. However, a MOSFET that is a power transistor may be used instead.
また、はんだ材として、Sn−Ag系のはんだを例示したが、Au−Si系、Sn−Pb系など、通常、電気的接合部に用いられる他のはんだ材料やAg入りエポキシ樹脂などの導電性接着剤を用いても構わない。特に、導電性接着剤を用いた場合は、Cuリード4に対して、はんだの濡れ力ほどの保持力を有しないため、本実施の形態のように、Cuリード4が自立する構成としないと、Cuリード4をIGBT2の上に固定する工程が困難となる。
In addition, Sn—Ag solder is exemplified as the solder material, but other conductive materials such as Au—Si, Sn—Pb, etc., which are usually used for electrical joints, and Ag-containing epoxy resin, etc. An adhesive may be used. In particular, when a conductive adhesive is used, since the
また、はんだの濡れ性の良い金属膜として、メッキ法により形成したNi膜を例示したが、スパッタリング法により形成したNi/Auの積層膜等も使用できる。このように、表面がNi、Ag、Au、Pd、Cu等、はんだがぬれを生じる金属であれば、金属膜として使用可能である。 Further, the Ni film formed by the plating method is exemplified as the metal film having good solder wettability, but a Ni / Au laminated film formed by the sputtering method can also be used. Thus, if the surface is a metal that causes solder to wet, such as Ni, Ag, Au, Pd, or Cu, it can be used as a metal film.
本実施の形態にかかる電力用の半導体装置100では、Cuリード4が重心調整部4Aを有し、IGBT(半導体素子)2上に自立する(固定しなくても傾かずに静止する)ため、IGBT(半導体素子)2上へのCuリード4の接合工程で、スペーサやおもりでCuリード4を傾かないように固定する必要がない。
In the
特に、Cuリード4を支持するためにスペーサを用いた場合、はんだ付をするための昇温、降温工程ではスペーサも含めて加熱、冷却されるため、温度上昇、温度降下に時間を要していた。これに対して、本実施の形態ではスペーサを使用しないため、スペーサの取り付け時間も含め、約30%の時間短縮が可能となった。
In particular, when a spacer is used to support the
また、放熱板であるCuブロック1とCuリード4との間隙は、スペーサの高さで固定されるため、はんだ量が少ない場合などは、Cuリード4が浮いた状態で搭載され、はんだ付面積が減少したり、はんだ付できずにオープンになったりすることがあった。これに対して、本実施の形態では、スペーサを使用しないため、良好なはんだ付けが可能となる。
In addition, since the gap between the
更に、Cuリード4を支持するスペーサを用いる必要が無いため、はんだ付けにおける生産性が向上し、従来の約1.5倍の量の生産が可能となる。
また、Cuリード4の曲げ精度が、接合部に律則した0.05mmではなく、半導体素子(IGBT2)や放熱板(Cuブロック1)との絶縁距離に律則するため、0.2mmとすることが可能となり、Cuリード4のコストを約20%削減することが可能となった。
Further, since it is not necessary to use a spacer for supporting the
In addition, the bending accuracy of the
また、半導体装置100内の回路構成は、放熱板(Cuブロック1)、半導体素子(IGBT2)、リードだけであり、はんだ付けされた要素を組み合わせてリードフレームを選択するだけで、大電流装置やインバータ回路に用いられる2素子並列の2IN1モジュール、6素子並列の6IN1モジュールを形成することができる。
In addition, the circuit configuration in the
また、本実施の形態で示された構造、接合プロセスを用いることによって、リードフレームを放熱板やリードの上から重ねて接合するだけで、複雑な回路を容易に形成することが可能である。 Further, by using the structure and bonding process shown in the present embodiment, it is possible to easily form a complicated circuit simply by stacking and bonding the lead frame on the heat sink and the leads.
更に、本実施の形態にかかる半導体装置100では、短時間に大きな発熱がある場合や、Cuリード4自体の発熱に対して、樹脂筐体8への放熱を促進し、温度変化の少ない信頼性の高い半導体装置を得ることができる。
Further, in the
実施の形態2.
図5は、全体が200で表される、本発明の実施の形態2にかかる電力用の半導体装置の断面図である。図5中、図1と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
FIG. 5 is a cross-sectional view of the power semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, indicated as a whole by 200. In FIG. 5, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.
本実施の形態2にかかる半導体装置200では、Cuリード4の端部が、Cuブロック1の表面から約5mm突出した端部(図5では、右方向に突出)を有する。
In the
Cuリード4に電極端子6A−6Cを接続する工程では、リードフレームをCuリード4の上から搭載し、例えば上下から接合部に50MPa程度の圧力を加えて超音波を印加し、超音波接合によって接続する。
本実施の形態にかかる半導体装置200では、Cuリード4の端部が、Cuブロック1の表面端部から約5mm突出しているため、Cuリード4と電極端子6Bとの接合部に容易に圧力を加えることができる。
In the process of connecting the
In the
従って、リードの高さやフレームの高さのばらつきが大きい場合でも、フレームを十分変形させることができ、また治具などによってCuリードを支持できるため、接合部オープン等の接合不良を低減することが可能となる。
また、数MPaの加圧力を必要とする抵抗溶接、抵抗ロウ付け、超音波接合など複数の接合方法から適した方法を選択することが可能となる。このため、例えば、100A以下の使用電流の小さい半導体装置においてはスポット溶接を、300Aを超えるような使用電流の大きい半導体においては、接続面積を拡大させることが可能な抵抗ロウ付けなどを、適宜使用することができる。
Therefore, even when there is a large variation in the height of the lead or the height of the frame, the frame can be sufficiently deformed, and the Cu lead can be supported by a jig or the like. It becomes possible.
In addition, a suitable method can be selected from a plurality of joining methods such as resistance welding, resistance brazing, and ultrasonic joining that require a pressure of several MPa. For this reason, for example, spot welding is used as appropriate for a semiconductor device with a small operating current of 100 A or less, and resistance brazing that can increase the connection area is used as appropriate for a semiconductor with a large operating current exceeding 300 A. can do.
このように、本実施の形態にかかる半導体装置200では、接合部形状、接合方式の選択肢が広がるため、フレーム設計の自由度が向上し、多数の半導体素子を組み合わせた半導体装置を形成する場合には、回路の作製が容易となる。
As described above, in the
実施の形態3.
図6は、全体が300で表される、本発明の実施の形態3にかかる電力用の半導体装置の断面図である。図7は、電力用の半導体装置300のIGBT2近傍の斜視図である。図6、7中、図1、2と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the power semiconductor device according to the third embodiment of the present invention, the whole being represented by 300. FIG. 7 is a perspective view of the vicinity of the
半導体装置300では、Cuリード4の、IGBT2上のエミッタ電極(図示せず)と接合される面と対向する面に、例えば、縦1mm、横4mm、高さ8mmのタングステンの重心調整部材10が、例えばAgロウ付けなどによって予め固着されている。かかる重心調整部材10を有することにより、Cuリード4が自立するようになっている。
In the
ここで、重心調整部材10は、Cuリード4上の接合面全面に固着されていても良いが、タングステンなどは高価な材料であるため、リードが自立する必要最低限の重量のタングステンを使用することが、製造コスト削減の観点から好ましい。
Here, the center-of-
なお、より小さい部品によってリードの自立を実現するためには、例えばモリブデンや上述のタングステンのような、比重がCuと同等以上の物質を用いるのが好ましい。また、重心調整部材10は導電材料に限らず、絶縁体であっても構わない。
In order to realize the self-supporting of the lead with smaller parts, it is preferable to use a material having a specific gravity equal to or higher than that of Cu, such as molybdenum or the above-described tungsten. The center-of-
以上の実施の形態1〜3では、リード材料としてCuを例として挙げて説明したが、比重の小さなAlを用いることで、重心調整部材10の小型、薄型化が可能となる。
In the above first to third embodiments, description has been made by taking Cu as an example of the lead material. However, by using Al having a small specific gravity, the center-of-
例えば、図8は、発熱の大きいIGBT2からのCuリード4の配線を2方向に分割することによって、IGBT2の電流密度、発熱を分散する構造である。このようなリード構造の場合には、リードの重心位置を調整するような部分を、リードの曲げ成形によって形成することは、リード全体の高さが曲げ高さの3倍以上になるため極めて困難であるが、重心調整部材10を取り付ける場合は、取り付け位置の選択が比較的に自由に行える。例えば、図8に示すように、接合部と対向する領域に重心調整部材10を設置しても構わないし、図9に示すように、配線部に設置しても構わない。
For example, FIG. 8 shows a structure in which the current density and heat generation of the
このように、本実施の形態3にかかる半導体装置300では、Cuリードの変形のみではCuリードの重心位置を調整できないような、薄型パッケージの半導体装置を作製することが可能となる。
As described above, in the
実施の形態4.
図10は、本実施の形態4にかかる電力用半導体装置のIGBT2近傍の斜視図である。図10中、図1と同一符合は、同一又は相当箇所を示す。
FIG. 10 is a perspective view of the vicinity of the
始めに、Cuブロック1、IGBT2、およびIGBT2の接合領域上に自立するように両端が展開された(両端が延びた)Cuリード4を、各接合領域の形状に合わせてプリフォームされたはんだシート(図示せず)を介して積層する。はんだ付けの方法としては、実施の形態1に示したような、トンネル炉を用いた積層はんだ付を用いる。
First, a solder sheet in which Cu leads 4 having both ends developed (both ends extended) so as to be self-supporting on the joining region of the
この際、IGBT2の制御電極上を覆うCuリード4の側面には、長さ2mm、幅2mmの切欠き4Cが設けられている。
At this time, a
はんだ付けが完了した後、図11に示すように、Cuリード4の制御電極を覆っているCuリード4の端部を、反対側の端部に向かって折り曲げ、重なったCuリード4同士を、例えば超音波接合によって固着する。
After the soldering is completed, as shown in FIG. 11, the end of the
その後、内部電極および外部電極を構成するリードフレーム(図示せず)を上から重ねて、はんだ融点以下で接続できるAgペーストのような導電性接着剤等により、リードフレームとCuリード4とを電気的に接続する。
Thereafter, the lead frame (not shown) constituting the internal electrode and the external electrode is overlapped from above, and the lead frame and the
このような製造方法により作製される電力用の半導体装置では、展開された状態で自立するCuリード4を用いることにより、スペーサや重りを必要としないことは前述の実施の形態1などで示したものと同様である。ここでは、更に、Cuリード4を重ねて接合するため、IGBT2などからの電流経路の断面積を略2倍にすることができる。
In the power semiconductor device manufactured by such a manufacturing method, it has been shown in the first embodiment that the spacers and weights are not required by using the Cu leads 4 that are self-supported in the unfolded state. It is the same as that. Here, since the
IGBT2上での温度サイクル信頼性を向上させるためにCuリード4を薄くした場合、配線部の電気抵抗が増大する。これに対して、本実施の形態にかかる半導体装置では信頼性を向上させ、かつ配線抵抗の低い半導体装置を作製することが可能となる。
When the
1 Cuブロック、2 IGBT、3 はんだ、4 Cuリード、4A 重心調整部、4B 支点、4C 切欠、5 はんだ、6A、6B、6C 電極端子、7 Alワイヤ、8 樹脂筐体、9 樹脂シート、10 重心調整部材、100 半導体装置。 1 Cu block, 2 IGBT, 3 solder, 4 Cu lead, 4A center of gravity adjustment part, 4B fulcrum, 4C notch, 5 solder, 6A, 6B, 6C electrode terminal, 7 Al wire, 8 resin housing, 9 resin sheet, 10 Center of gravity adjustment member, 100 semiconductor device.
Claims (6)
該放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、
該半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、
該リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、
該リードに重心調整部材が固着され、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、該リードと該重心調整部材との重心が、半導体素子上にあることを特徴とする半導体装置。 A block-shaped heat sink having a front surface and a back surface facing each other;
A semiconductor element having a front surface and a back surface that are opposed to each other and fixed to the surface of the heat sink;
A lead fixed with a bonding material to a bonding region on the surface of the semiconductor element;
A semiconductor device including an electrode terminal attached to the lead,
A semiconductor device, wherein a center of gravity of the lead and the center of gravity adjusting member is on a semiconductor element when the center of gravity adjusting member is fixed to the lead and the direction of gravity is in the normal direction of the back surface of the heat sink.
該放熱板の表面に固定された互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子と、
該半導体素子の表面の接合領域に接合材で固定されたリードと、
該リードに取り付けられた電極端子とを含む半導体装置であって、
該リードは、重力方向が放熱板裏面法線方向にある場合に、該リードの重心が半導体素子上になるように逆方向に延びたリードの一方を、他方に接続するように折り曲げてなることを特徴とする半導体装置。 A block-shaped heat sink having a front surface and a back surface facing each other;
A semiconductor element having a front surface and a back surface that are opposed to each other and fixed to the surface of the heat sink;
A lead fixed with a bonding material to a bonding region on the surface of the semiconductor element;
A semiconductor device including an electrode terminal attached to the lead,
The lead should be bent so that one of the leads extending in the opposite direction is connected to the other so that the center of gravity of the lead is on the semiconductor element when the direction of gravity is in the normal direction of the back surface of the heat sink. A semiconductor device characterized by the above.
該放熱板の表面に互いに対向する表面と裏面とを備えた半導体素子を固定する工程と、
該半導体素子の表面の接合領域に、リードを固定する固定工程と、
該リードに電極端子を取り付ける工程と含み、
該固定工程が、該接合領域に半田材を配置し、該半田材に該リードが接するように該リードを自立させた状態で該半田材を溶かし、該接合領域に該リードを固定する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 Preparing a heat sink with front and back surfaces facing each other;
Fixing a semiconductor element having a front surface and a back surface facing each other on the surface of the heat sink;
A fixing step of fixing the lead to the bonding region on the surface of the semiconductor element;
Attaching the electrode terminal to the lead,
The fixing step is a step of disposing the solder material in the joining region, melting the solder material in a state where the lead is self-supported so that the lead is in contact with the solder material, and fixing the lead to the joining region. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
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| JP2005294245A JP4620566B2 (en) | 2005-10-07 | 2005-10-07 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
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