JP4623449B2 - Colorant and resin composition for semiconductor encapsulant - Google Patents
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Description
本発明は、半導体封止材用の黒色顔料からなる着色剤、及び、該着色剤を含む半導体封止材用樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a colorant composed of a black pigment for a semiconductor encapsulant and a resin composition for a semiconductor encapsulant containing the colorant.
半導体デバイスは、多機能化、高集積化、高速化の市場要求と設計技術、製造技術の進歩により、年々微細化が進んでいる。そして、複雑なデバイスを空気中の塵や湿気あるいは外力から保護するための封止材にも多機能化が求められている。 Semiconductor devices are becoming more and more miniaturized year by year due to market demands for multi-functionality, high integration, and high speed, and advances in design technology and manufacturing technology. Further, multifunctional functions are also required for a sealing material for protecting a complicated device from dust, moisture or external force in the air.
一般に、チップを接着し、ワイヤーボンディングしたフレームを金型にセットし、熱硬化性樹脂を注入して硬化成形して封止することにより半導体チップを保護しているが、この樹脂封止材にはエポキシ樹脂が用いられ、他に硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤及び着色剤などを必須成分とする樹脂組成物が用いられている。 Generally, semiconductor chips are protected by bonding chips, setting a wire-bonded frame in a mold, injecting thermosetting resin, curing molding, and sealing. An epoxy resin is used, and in addition, a resin composition containing a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, a colorant and the like as essential components is used.
そして、半導体樹脂封止材は半導体チップに光が当たって発生する光励起電流による電気的不具合を防止するために黒色に着色されており、黒色着色剤には黒色度が高く、遮光性に優れているカーボンブラックが有用されている。 The semiconductor resin encapsulant is colored black in order to prevent electrical failure due to photoexcitation current generated when light hits the semiconductor chip. The black colorant has high blackness and excellent light shielding properties. Carbon black is useful.
例えば、特許文献1にはエポキシ樹脂、フェノール樹脂硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤およびカーボンブラックを必須成分とする樹脂組成物において、該カーボンブラックの平均粒子径が10〜100nm、BET法による比表面積が50〜500m2/g、pH値が6.5〜8.5であり、該カーボンブラックを全樹脂組成物中に0.05〜1.0重量%含む半導体封止用樹脂組成物が提案されている。 For example, in Patent Document 1, an epoxy resin, a phenol resin curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, and a carbon black as essential components, the carbon black has an average particle diameter of 10 to 100 nm, according to the BET method. A resin composition for semiconductor encapsulation having a specific surface area of 50 to 500 m 2 / g, a pH value of 6.5 to 8.5, and 0.05 to 1.0 wt% of the carbon black in the total resin composition. Has been proposed.
また、特許文献2には、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)無機充填材、(D)硬化促進剤、(E)45μm以上が500ppm以下で、かつその最大粒径が500μm以下であるカーボンブラックを必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、全エポキシ樹脂組成物中に該カーボンブラックを0.1〜1.0重量%含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物が開示されている。 Patent Document 2 discloses that (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin, (C) an inorganic filler, (D) a curing accelerator, (E) 45 μm or more is 500 ppm or less, and its maximum particle size is An epoxy resin composition containing carbon black of 500 μm or less as an essential component, wherein the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation contains 0.1 to 1.0% by weight of the carbon black in the total epoxy resin composition. It is disclosed.
更に、特許文献3には、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)無機質充填剤、(D)カーボンブラックを必須成分とするエポキシ樹脂組成物において、(D)成分のカーボンブラックとして 粒子径45μm以上の粒子含有率が30ppm以下であるカーボンブラックを用いる半導体封止用エポキシ樹脂組成物が開示されている。
カーボンブラックは導電性が高いために静電防止のためには有効であるが、近年の高集積化と微細化によりインナーリード間(リードフレーム)やパッド(ICの台座)とフレーム間あるいはワイヤー間(金線でのボンディング)などを電気的に接続するための配線間が狭小化してきているので、配線間にカーボンブラックが介在すると配線間が電気的に導通するため、配線間にリークやショートが発生して半導体デバイスの誤作動を起こす問題点がある。 Carbon black is effective for preventing static electricity due to its high conductivity, but due to the recent high integration and miniaturization, the space between the inner leads (lead frame) and pads (IC pedestal) and the frame or between the wires (Bonding with gold wire) etc. is becoming narrower, so if carbon black intervenes between the wires, the wires are electrically connected, so there is a leak or short between the wires. Occurs, causing malfunction of the semiconductor device.
そこで、本発明者はこの問題点を解消するためにカーボンブラックに代わる黒色顔料について鋭意研究を行った結果、セラックを不活性雰囲気中で熱処理し、高分子化して得られた黒色顔料により上記問題を解消でき、更に該黒色顔料はエポキシ樹脂に高分散することを見出した。 In order to solve this problem, the present inventor conducted intensive research on black pigments instead of carbon black, and as a result, heat treatment was performed in an inert atmosphere of shellac to obtain the above-mentioned problem with the black pigment obtained by polymerizing. And the black pigment was found to be highly dispersed in the epoxy resin.
すなわち、本発明はこの知見に基づいて完成したもので、その目的はインナーリード間(リードフレーム)やパッド(ICの台座)とフレーム間あるいはワイヤー間(金線でのボンディング)などの電気的導通により発生する電気的不良を抑止し、更に成形性、信頼性、レーザ−マーキング性などに優れた半導体封止材用着色剤、及び、半導体封止材用樹脂組成物を提供することにある。 That is, the present invention has been completed based on this knowledge, and its purpose is electrical continuity between inner leads (lead frame), between pads (IC pedestal) and frame, or between wires (bonding with gold wire). It is intended to provide a semiconductor encapsulant coloring agent and a semiconductor encapsulant resin composition that are excellent in moldability, reliability, laser-marking property, and the like.
上記目的を達成するための本発明による半導体封止材用着色剤は、セラックを不活性雰囲気中、200〜600℃の温度で熱処理して高分子化し、粉砕した黒色顔料からなることを構成上の特徴とする。 The colorant for semiconductor encapsulant according to the present invention for achieving the above object is composed of a black pigment obtained by polymerizing and pulverizing shellac at a temperature of 200 to 600 ° C. in an inert atmosphere. It is characterized by.
また、本発明による半導体封止材用樹脂組成物は、セラックを不活性雰囲気中、200〜600℃の温度で熱処理して高分子化し、粉砕して得られた黒色顔料、及び、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤を必須成分とすることを構成上の特徴とする。 Further, the resin composition for a semiconductor sealing material according to the present invention is a black pigment obtained by heat-treating shellac at a temperature of 200 to 600 ° C. in an inert atmosphere at a temperature of 200 to 600 ° C., and an epoxy resin. A structural feature is that a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler are essential components.
セラックを不活性雰囲気中、200〜600℃の温度で熱処理して高分子化し、粉砕した黒色顔料からなる本発明の半導体封止材用着色剤は黒色度が高く、導電性が小さく、またエポキシ樹脂などへの樹脂分散性にも優れ、この着色剤を必須成分とする半導体封止材用樹脂組成物によれば、遮光性に優れ、更に、インナーリード間、パッドとフレーム間、ワイヤー間などの電気的導通による電気的不良の発生を抑止することが可能となる。 The colorant for semiconductor encapsulating material of the present invention comprising a black pigment obtained by heat-treating shellac in an inert atmosphere at a temperature of 200 to 600 ° C. to be polymerized and pulverized has high blackness, low conductivity, and epoxy. Excellent resin dispersibility in resin, etc. According to the resin composition for a semiconductor encapsulant containing this colorant as an essential component, it has excellent light shielding properties, and further, between inner leads, between pads and frames, between wires, etc. It is possible to suppress the occurrence of electrical failure due to electrical conduction.
セラックは、Laccifer Lacca Kerr と言われる体長0.6〜0.7mmのラックカイガラ虫の体を覆っている樹脂状の分泌物質を精製したものであり、天然樹脂の中で唯一の熱硬化性を有する樹脂である。このラックカイガラ虫の成育条件は亜熱帯の一部に限られ、インド、タイが二大産地となっている。日本では、日本シェラック工業(株)と(株)岐阜セラック製作所において製造されている。なお、セラックの推定構造式は化1によって表されると言われている。 Shellac is a refined resin-like secreted material covering the body of the silkworm, Laccifer Lacca Kerr, whose body length is 0.6 to 0.7 mm. It has the only thermosetting property among natural resins. It is resin which has. The growth condition of the larvae is limited to a part of the subtropics, and India and Thailand are the two major production areas. In Japan, it is manufactured by Nippon Shellac Industrial Co., Ltd. and Gifu Shellac Manufacturing Co., Ltd. The estimated structural formula of shellac is said to be expressed by the chemical formula (1).
セラックの主成分はアレウリ酸2モルとセロン酸2モルとセラック樹脂酸4モルとの混合ラクチッドであり、淡黄褐色ないし褐色のりん片状細片で、堅くて脆く、つやがあり、匂いはないか又は僅かに特異な匂いがある。水、エーテル、ヘキサン、イソオクタンには不溶であるが、エタノール、プロピレングリコールには可溶であり、溶解性は、例えばプロピレングリコールには25℃において100mg/ml、37℃において500mg/mlである。 The main component of shellac is a mixed lactide of 2 moles of allelic acid, 2 moles of seronic acid, and 4 moles of shellac resin acid. It is a light tan or brown flake-like strip that is hard, brittle, shiny and has an odor. There is no or slightly unique odor. Although it is insoluble in water, ether, hexane, and isooctane, it is soluble in ethanol and propylene glycol. For example, propylene glycol has a solubility of 100 mg / ml at 25 ° C. and 500 mg / ml at 37 ° C.
本発明は、このセラックを不活性雰囲気中200〜600℃の温度で熱処理して高分子化し、粉砕した黒色顔料を半導体封止材用着色剤とするものである。熱処理温度が低く、200℃未満では、半導体を封止する際の温度域においてセラック中に含まれる成分が溶出する場合があり、一方、熱処理温度が高く、600℃を越えると電気抵抗が低くなるために、インナーリード間、パッドとフレーム間、ワイヤー間などに電気的導通を生じ易くなるためである。 In the present invention, the shellac is polymerized by heat-treating this shellac at a temperature of 200 to 600 ° C. in an inert atmosphere, and the pulverized black pigment is used as a colorant for a semiconductor sealing material. When the heat treatment temperature is low and less than 200 ° C., components contained in shellac may be eluted in the temperature range when the semiconductor is sealed. On the other hand, when the heat treatment temperature is high and the temperature exceeds 600 ° C., the electric resistance is low. Therefore, electrical continuity is likely to occur between the inner leads, between the pad and the frame, between the wires, and the like.
なお、熱処理したセラックは、ジェットミル、カッターミキサー、ボールミルなどの粉砕機で粉砕し、更に必要に応じ分級して黒色顔料とする。 The heat-treated shellac is pulverized by a pulverizer such as a jet mill, a cutter mixer, or a ball mill, and further classified as necessary to obtain a black pigment.
本発明の半導体封止材用樹脂組成物は、このセラックを不活性雰囲気中で熱処理し、粉砕した黒色顔料と、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤を必須成分として、混合して樹脂組成物としたものである。 The resin composition for a semiconductor sealing material of the present invention is obtained by mixing this shellac with heat treatment in an inert atmosphere and pulverizing the black pigment, an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components. Thus, a resin composition is obtained.
エポキシ樹脂としては特に制限はなく、封止用として一般に用いられているエポキシ樹脂を使用することができる。例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール類とアルデヒド類から合成されるノボラック樹脂をエポキシ化したエポキシ樹脂、アルキル置換又は非置換のビフェノール型エポキシ樹脂、アルキル置換又は非置換のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、イソシアヌル酸などのポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール類及び/又はナフトール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸などの過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂などが挙げられ、これらは単独で用いても2種類以上を組み合わせてもよい。なお、これらの樹脂はデバイスの信頼性を確保するため、樹脂中に含まれる塩素が1500ppm以下であることが望ましい。 There is no restriction | limiting in particular as an epoxy resin, The epoxy resin generally used for sealing can be used. For example, an epoxy resin obtained by epoxidizing a novolac resin synthesized from phenols and aldehydes such as a phenol novolac type epoxy resin, an orthocresol novolak type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, and an alkyl-substituted or unsubstituted biphenol type Epoxy resin, alkyl-substituted or unsubstituted glycidyl ether-type epoxy resin, glycidylamine-type epoxy resin obtained by reaction of polyamine such as isocyanuric acid and epichlorohydrin, biphenyl-type epoxy resin, dicyclopentadiene and phenols and / or naphthols Epoxy products of co-condensation resins, epoxy resins having a naphthalene ring, phenol / aralkyl resins, aralkyl-type phenol resins such as naphthol / aralkyl resins Products, trimethylolpropane type epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins obtained by oxidizing olefinic bonds with peracids such as peracetic acid, alicyclic epoxy resins, and the like. The above may be combined. In addition, in order to ensure the reliability of a device for these resins, the chlorine contained in the resin is desirably 1500 ppm or less.
硬化剤も特に制限はなく、一般に使用される、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールFなどのフェノール類及び/又はα−ナフトール、βナフトール、ジシドロキシナフタレンなどのナフトール類とホルムアルデヒドなどのアルデヒド類とをとを酸性触媒下で縮合または共縮合させて得られる樹脂、フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂などが例示でき、単独あるいは2種類以上を組み合わせて用いることもできる。 The curing agent is not particularly limited, and generally used phenols such as phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, and bisphenol F and / or naphthols such as α-naphthol, β naphthol, and disidroxynaphthalene and formaldehyde Examples include resins obtained by condensation or cocondensation of aldehydes and the like with an acidic catalyst, aralkyl-type phenol resins such as phenol / aralkyl resins, naphthol / aralkyl resins, etc., alone or in combination of two or more. It can also be used.
硬化促進剤としては、エポキシ樹脂と硬化剤との反応を促進させる触媒機能をもつ化合物であれば特に制限はなく使用することができる。例えば、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0) ウンデセン-7、1,5-ジアザビシクロ(4,4,0) ノネン、5,6-ジブチルアミノ-1,8- ジアザビシクロ(5,4,0) ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの3級アミン類およびこれらの誘導体、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4- メチルイミダゾールなどのイミダゾール類およびこれらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類およびこれらのホスフィン類に無水マレイン酸、ベンゾキノン、ジアゾフェニルメタンなどのπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物、テトラフェニルホスホニウム、テトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2-エチル-4- メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N-メチルテトラフェニルホスホニウム- テトラフェニルボレート、トリフェニルホスホニウム- トリフェニルボランなどが挙げられ、これらは単独で用いても2種類以上を組み合わせてもよい。 The curing accelerator is not particularly limited as long as it is a compound having a catalytic function for promoting the reaction between the epoxy resin and the curing agent. For example, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, 1,5-diazabicyclo (4,4,0) nonene, 5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo (5,4,0 ) Tertiary amines such as benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol and their derivatives, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, etc. Imidazoles and their derivatives, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine, and these phosphines have π bonds such as maleic anhydride, benzoquinone and diazophenylmethane Phosphorus compounds having intramolecular polarization formed by adding compounds, Laphenylphosphonium, tetraphenylborate, triphenylphosphine tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, N-methyltetraphenylphosphonium-tetraphenylborate, triphenylphosphonium-triphenylborane, etc. These may be used alone or in combination of two or more.
吸湿性低減および強度向上の観点から用いる無機充填剤としては、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニアなどの粉体またはこれらを球形化したビーズ、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナなどの単結晶繊維、ガラス繊維などがあり、これらを1種類以上配合することができる。更に、難燃効果のある無機充填剤として水酸化アルミニウム、硼酸亜鉛などを用いることができる。 Inorganic fillers used to reduce hygroscopicity and improve strength include fused silica, crystalline silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, boron nitride, beryllia, zirconia, etc. There are single crystal fibers such as beads, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, and alumina, glass fibers, etc., and one or more of these can be blended. Furthermore, aluminum hydroxide, zinc borate, or the like can be used as an inorganic filler having a flame retardant effect.
なお、本発明の半導体封止材用樹脂組成物は、上記の必須成分に加えて必要に応じてシリコーンゴムなどの可撓化剤、各種カップリング剤、カルナバワックスやポリエチレンワックスなどの離型剤、表面処理剤、難燃剤、難燃助剤などの添加剤を適宜配合することもできる。 In addition to the above essential components, the resin composition for a semiconductor encapsulant of the present invention includes a flexible agent such as silicone rubber, various coupling agents, and a release agent such as carnauba wax and polyethylene wax as necessary. In addition, additives such as a surface treatment agent, a flame retardant, and a flame retardant aid may be appropriately blended.
本発明の半導体封止材用樹脂組成物は、セラックを不活性雰囲気中、200〜600℃の温度で熱処理して高分子化し、粉砕した黒色顔料と、上記のエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤などとともに所定の割合で、擂潰機、3本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサーなどを用いて十分に混合した後、熱ロールやニーダーなどによる溶融混合処理し、次いで冷却固化した後、適当な大きさに粉砕して作製される。 The resin composition for a semiconductor encapsulant of the present invention is a black pigment obtained by polymerizing and pulverizing shellac in an inert atmosphere at a temperature of 200 to 600 ° C., the above epoxy resin, a curing agent, and curing acceleration. After mixing thoroughly with a pulverizer, three rolls, ball mill, planetary mixer, etc. at a predetermined ratio together with the agent, inorganic filler, etc., it was melt-mixed with a hot roll or kneader, and then cooled and solidified. Thereafter, it is pulverized to an appropriate size.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこの実施例に制限されるものではない。 Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not restrict | limited to this Example.
実施例1
セラック(岐阜セラック製作所社製、セラックGSN)1000gを窒素雰囲気中、400℃で1時間熱処理を行って高分子化し、得られた黒色リン片状物をシングルトラック・ジェットミル(セイシン企業社製、STJ−200)で粉砕して、着色剤1を製造した。
Example 1
1000 g of shellac (manufactured by Gifu Shellac Manufacturing Co., Ltd., shellac GSN) was polymerized by heat treatment at 400 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere, and the resulting black phosphorus flakes were converted into a single-track jet mill (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd., Colorant 1 was produced by grinding with STJ-200).
比較例1
熱処理温度を180℃に変えた他は、実施例1と同じ方法で着色剤2を製造した。
Comparative Example 1
Colorant 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was changed to 180 ° C.
比較例2
熱処理温度を600℃に変えた他は、実施例1と同じ方法で着色剤3を製造した。
Comparative Example 2
Colorant 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was changed to 600 ° C.
比較例3
チタン粉末(Ti)と酸化チタン(TiO2)とを混合し、真空中で1600℃の温度で黒色度が一定になるまで熱処理して酸化チタンの黒色粉体を着色剤4として製造した。なお、X線解析の結果より、着色剤4は主にTiOとTi2O3からなるものであることを確認した。
Comparative Example 3
Titanium powder (Ti) and titanium oxide (TiO 2 ) were mixed and heat-treated in a vacuum at a temperature of 1600 ° C. until the blackness became constant, whereby a titanium oxide black powder was produced as the colorant 4. From the results of X-ray analysis, it was confirmed that the colorant 4 was mainly composed of TiO and Ti 2 O 3 .
比較例4
フタロシアニン系染料(山本化成社製、YKR−3080)をそのまま着色剤5として用いた。
Comparative Example 4
A phthalocyanine dye (YKR-3080, manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.) was used as colorant 5 as it was.
これらの着色剤1〜5を、表1に示す割合(重量部)で混合し、二軸ロール(ロール表面温度80℃)で10分間混合した後、冷却、粉砕して半導体封止材用の樹脂組成物を作製した。 These colorants 1 to 5 are mixed in the proportions (parts by weight) shown in Table 1, mixed for 10 minutes with a biaxial roll (roll surface temperature 80 ° C.), then cooled and pulverized for use in a semiconductor encapsulant. A resin composition was prepared.
これらの樹脂組成物を用いてトランスファー成形機で金型温度180℃、成形圧力70kgf/cm2、硬化時間90秒の条件で成形し、後硬化(ポストキュア)を175℃で6時間行い、封止材を作製した。得られた封止材について、下記の方法により測定試験を行った。 Using these resin compositions, molding was performed with a transfer molding machine under conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 70 kgf / cm 2 , and a curing time of 90 seconds, followed by post-curing at 175 ° C. for 6 hours, and sealing. A stop material was produced. About the obtained sealing material, the measurement test was done by the following method.
スパイラルフロー;
EMM11−66に準じた金型をトランスファー成形機にセットし、上記の条件で樹脂組成物を成形し、流動距離(cm)を求めた。
Spiral flow;
A mold according to EMM11-66 was set in a transfer molding machine, the resin composition was molded under the above conditions, and the flow distance (cm) was determined.
体積抵抗率;
円形金型をトランスファー成形機にセットして、樹脂組成物を上記の条件で直径100mm、厚さ3mmの円板に成形し、後硬化した後、体積抵抗計を用いて電圧500V、温度150℃で抵抗を測定して絶縁性を確認した。
Volume resistivity;
A circular mold was set in a transfer molding machine, and the resin composition was molded into a disc having a diameter of 100 mm and a thickness of 3 mm under the above conditions, and after curing, a voltage of 500 V and a temperature of 150 ° C. were used using a volume resistance meter. Insulation was confirmed by measuring the resistance.
耐湿性;
樹脂封止型半導体装置(外形寸法、18×8.4×2.6mm)としてSOP(SmallOutlinePackage)−28ピンを使用し、リードフレームに42アロイ材(加工ディンプル)で9.6×5.1mmのTEGチップを用い、上記の条件でトランスファー成形および後硬化した。次に、85℃/85RH%の条件で72時間吸湿した後、240℃/10秒の前処理後、PCT(121℃/2気圧)に放置して、チップ上配線の断線の有無を判定した。
Moisture resistance;
SOP (Small Outline Package) -28 pin is used as a resin-encapsulated semiconductor device (external dimension, 18 × 8.4 × 2.6 mm), and 9.6 × 5.1 mm with 42 alloy material (processed dimple) on the lead frame. Transfer molding and post-curing under the above conditions. Next, after absorbing moisture at 85 ° C./85 RH% for 72 hours, after pre-treatment at 240 ° C./10 seconds, it was left in PCT (121 ° C./2 atm) to determine whether the wiring on the chip was disconnected. .
半田耐熱性;
樹脂封止型半導体装置(外形寸法、20×14×2.0mm)としてQFP−80ピンを使用し、リードフレームに42アロイ材(加工なし)でチップサイズ8×10mmのチップを用い、上記条件でトランスファー成形および後硬化した。次に、85℃/85RH%の条件で所定の時間吸湿した後、240℃/10秒の処理を行った時のクラックの発生を観察し、外観クラック発生率を測定した。
Solder heat resistance;
QFP-80 pins are used as a resin-encapsulated semiconductor device (external dimensions, 20 × 14 × 2.0 mm), and a chip with a chip size of 8 × 10 mm made of 42 alloy material (no processing) is used for the lead frame. And post-cured. Next, after absorbing moisture for a predetermined time under the condition of 85 ° C./85 RH%, the occurrence of cracks was observed when the treatment at 240 ° C./10 seconds was performed, and the appearance crack occurrence rate was measured.
レーザーマーク性;
QFP−54ピンの樹脂封止型半導体装置を用いて、パッケージ表面をYAGレーザーマーキング装置で印字し、目視でマーク性を評価した。なお、YAGレーザーのマーキング条件は下記のとおりである。
YAGレーザーの波長;1064nm
レーザーパワー ;5J
パルス幅 ;50μsec
Laser mark property;
The surface of the package was printed with a YAG laser marking device using a QFP-54 pin resin-encapsulated semiconductor device, and the mark property was visually evaluated. The marking conditions for the YAG laser are as follows.
YAG laser wavelength; 1064 nm
Laser power: 5J
Pulse width: 50 μsec
電気特性;
LQFP(Lowprofile Quad Flat Package)176ピンの樹脂封止型半導体装置を用いてリーク電流の有無で評価した。
Electrical properties;
LQFP (Lowprofile Quad Flat Package) A 176-pin resin-encapsulated semiconductor device was used to evaluate the presence or absence of leakage current.
黒色度;
円板金型をトランスファー成形機にセットして、樹脂組成物を上記条件で直径100mm、厚さ2mmの円板に成形し、後硬化した後、色差計にて測定した。この値が小さいほど黒色度が高いことを示す。
Blackness;
The disc mold was set on a transfer molding machine, and the resin composition was molded into a disc having a diameter of 100 mm and a thickness of 2 mm under the above conditions, and after post-curing, it was measured with a color difference meter. It shows that blackness is so high that this value is small.
得られた結果を表2に示した。 The obtained results are shown in Table 2.
実施例と比較例とを対比すれば、実施例ではスパイラルフローが長く成形性に優れ、また体積抵抗率が高く、電気特性も優れており、レーザーマーク性および黒色度も優れていることが分かる。 Comparing the example with the comparative example, it can be seen that the example has a long spiral flow and excellent moldability, high volume resistivity, excellent electrical characteristics, laser markability and blackness. .
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