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JP4631334B2 - Liquid crystal devices and electronic devices - Google Patents
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JP4631334B2 - Liquid crystal devices and electronic devices - Google Patents

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Description

本発明は、液晶装置、並びに電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus.

液晶プロジェクタ等の投射型表示装置に搭載される光変調手段や、携帯電話等に搭載される直視型表示装置として用いられる液晶装置においては、液晶層を挟持する基板の液晶層側最表面に、電圧無印加時における液晶分子の配列を制御するための配向膜が形成されており、電圧無印加時、電圧印加時における液晶分子の配列変化に基づいて表示が行われる構成となっている。   In a light modulation means mounted on a projection display device such as a liquid crystal projector or a liquid crystal device used as a direct view display device mounted on a mobile phone or the like, on the liquid crystal layer side outermost surface of the substrate sandwiching the liquid crystal layer, An alignment film for controlling the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is formed, and display is performed based on a change in the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied.

従来、上記のような配向膜としては、ポリイミド等からなる有機膜の表面を、布等により所定の方向にラビングしたものが、液晶配向能力(液晶配向制御機能)に優れることから広く用いられている。しかしながら、例えば光束密度が2〜10(lm/mm)程度の光強度の高い光が照射される投射型表示装置等に搭載する場合には、配向膜が光や熱により次第に分解され、長期使用後に、電圧無印加時の液晶分子を所望のプレチルト角に配列することができないなど、液晶配向制御機能が低下し、表示品質が低下することがあった。 Conventionally, as the alignment film as described above, the surface of an organic film made of polyimide or the like rubbed in a predetermined direction with a cloth or the like is widely used because of its excellent liquid crystal alignment ability (liquid crystal alignment control function). Yes. However, for example, in the case of mounting on a projection display device or the like that is irradiated with light having a high light intensity of about 2 to 10 (lm / mm 2 ), the alignment film is gradually decomposed by light or heat, and the long-term After use, the liquid crystal alignment control function is lowered such that the liquid crystal molecules when no voltage is applied cannot be arranged at a desired pretilt angle, and the display quality may be lowered.

そこで、このような問題を解決するために、配向膜として酸化珪素などの無機材料からなる無機配向膜を用い、この無機配向膜の表面形状効果により液晶分子を配向させる液晶装置が提案されている。この無機配向膜は、基板をある角度で固定して一方向から無機材料を蒸着させ、基板に対して所定の角度で配列した柱状構造物を成長させる斜方蒸着法により形成される。このようにして形成した無機配向膜は、ポリイミド等の有機膜から構成したものに比して耐光性や耐熱性に優れており、液晶装置の耐久性を向上させることが可能である。   In order to solve such problems, there has been proposed a liquid crystal device that uses an inorganic alignment film made of an inorganic material such as silicon oxide as the alignment film and aligns liquid crystal molecules by the surface shape effect of the inorganic alignment film. . This inorganic alignment film is formed by an oblique vapor deposition method in which a substrate is fixed at a certain angle, an inorganic material is vapor-deposited from one direction, and columnar structures arranged at a predetermined angle with respect to the substrate are grown. The inorganic alignment film thus formed is superior in light resistance and heat resistance as compared with an organic film made of polyimide or the like, and can improve the durability of the liquid crystal device.

また液晶装置に用いられる配向膜としては、上記ポリイミド配向膜や酸化珪素配向膜に限られず、例えば特許文献1では、アルミニウム膜の表面を陽極酸化処理して酸化アルミニウム多孔質膜を形成し、さらに係る多孔質膜の表面にラビング処理を施した配向膜が開示されている。
特許第2764997号公報
In addition, the alignment film used in the liquid crystal device is not limited to the polyimide alignment film or the silicon oxide alignment film. For example, in Patent Document 1, an aluminum oxide porous film is formed by anodizing the surface of an aluminum film. An alignment film in which the surface of such a porous film is rubbed is disclosed.
Japanese Patent No. 2764997

しかしながら、酸化珪素などの材料からなる配向膜は吸湿性があるため、水分が液晶装置内に浸入し、液晶配向能力の劣化を引き起こす惧れがある。そして、特に多孔質膜にて配向膜を構成した場合には表面積が大きくなるため、吸湿性の影響は顕著となり得る。また、このような無機配向膜はポリイミド膜に比して耐光性、耐熱性に優れるものの、配向能力自体はポリイミド膜よりも劣るものである。さらに、当該配向膜の表面では、該配向膜と液晶との間で反応が生じてしまう惧れもある。このような不具合は、配向膜としての信頼性低下(配向不良発生等)に繋がる一因となり得るものであって、例えば液晶装置を表示装置として用いた場合、表示不良等を生じさせる原因となる場合がある。   However, since the alignment film made of a material such as silicon oxide has a hygroscopic property, moisture may enter the liquid crystal device and cause deterioration of the liquid crystal alignment ability. In particular, when the alignment film is formed of a porous film, the surface area becomes large, so that the influence of hygroscopicity can be significant. Such an inorganic alignment film is superior in light resistance and heat resistance to the polyimide film, but the alignment ability itself is inferior to that of the polyimide film. Furthermore, a reaction may occur between the alignment film and the liquid crystal on the surface of the alignment film. Such a defect can contribute to a decrease in the reliability of the alignment film (occurrence of alignment failure, etc.). For example, when a liquid crystal device is used as a display device, it causes display failure or the like. There is a case.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、液晶分子に対する配向性能が高く、好ましくは耐久性及び信頼性にも優れる液晶装置、及びこれを備えた電子機器を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device having high alignment performance with respect to liquid crystal molecules, preferably excellent in durability and reliability, and an electronic apparatus including the same. It is said.

上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、互いに対向して配置された一対の基板間に液晶層が挟持された液晶装置であって、少なくとも一方の基板の前記液晶層側に、液晶分子を配向可能な配向層が設けられており、前記配向層は、多孔性の表面を有し、その表面の少なくとも一部に前記液晶分子を配向可能で且つ疎水性を有してなる疎水層を具備してなり、前記疎水層は、前記本体部の空孔の内部に沿って形成されてなることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention is a liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates arranged to face each other, on the liquid crystal layer side of at least one substrate, An alignment layer capable of aligning liquid crystal molecules is provided, and the alignment layer has a porous surface, and is capable of aligning the liquid crystal molecules on at least a part of the surface and is hydrophobic. Ri Na comprises a layer, the hydrophobic layer is characterized by comprising formed along the interior cavity of the body portion.

このような液晶装置によると、配向層の表面に形成された孔の形状に沿って液晶分子を配向規制することができるとともに、その表面の少なくとも一部に形成された疎水層の有する配向性能によっても液晶分子を配向規制することができる。そして、疎水層が、当該配向層内部への水分の浸入を防止ないし抑制し、当該配向層内部を構成する材料の種類に拘らず安定な配向規制を実現でき、しかも液晶分子と当該配向層内部との間で反応が生じてしまう等の不具合も生じ難いものとなる。また、本発明に係る配向層は、耐光性に劣るポリイミド等の材料を用いなくとも形成することができ、無機配向膜のように均一に形成するのが困難な斜方蒸着法を用いる必要もないため、耐光性に優れるとともに、面内で均一な膜厚に形成することが可能である。したがって、上記構成により、液晶分子に対する配向性能が高い配向層を備え、しかも耐久性及び信頼性に優れた液晶装置を提供することが可能となるのである。   According to such a liquid crystal device, the alignment of liquid crystal molecules can be regulated along the shape of the holes formed on the surface of the alignment layer, and the alignment performance of the hydrophobic layer formed on at least a part of the surface can be controlled. Can also regulate the alignment of liquid crystal molecules. The hydrophobic layer prevents or suppresses the intrusion of moisture into the alignment layer, and can realize stable alignment regulation regardless of the type of material constituting the alignment layer. Inconveniences such as a reaction between the two and the like hardly occur. In addition, the alignment layer according to the present invention can be formed without using a material such as polyimide that is inferior in light resistance, and it is also necessary to use an oblique deposition method that is difficult to form uniformly, such as an inorganic alignment film. Therefore, it is excellent in light resistance and can be formed in a uniform film thickness within the surface. Therefore, according to the above configuration, it is possible to provide a liquid crystal device including an alignment layer having high alignment performance with respect to liquid crystal molecules and having excellent durability and reliability.

また、上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、互いに対向して配置された一対の基板間に液晶層が挟持された液晶装置であって、少なくとも一方の基板の前記液晶層側に、液晶分子を配向可能な配向層が設けられており、前記配向層は、複数の空孔を有する本体部と、その本体部の表面の少なくとも一部に前記液晶分子を配向可能で且つ疎水性を有してなる疎水層とを具備してなることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, the liquid crystal device of the present invention is a liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates arranged to face each other, and the liquid crystal layer side of at least one substrate is In addition, an alignment layer capable of aligning liquid crystal molecules is provided. The alignment layer includes a main body having a plurality of pores, and can align the liquid crystal molecules on at least a part of the surface of the main body and is hydrophobic. And a hydrophobic layer having properties.

このような液晶装置によると、本体部の空孔の形状に沿って液晶分子を配向規制することができるとともに、その本体部の表面に形成された疎水層の有する配向性能によっても液晶分子を配向規制することができる。そして、本体部の表面の疎水層が、当該配向層への水分の浸入を防止ないし抑制し、本体部の材料に拘らず安定な配向規制を実現でき、しかも液晶分子と本体部との間で反応が生じてしまう等の不具合も生じ難いものとなる。また、本発明に係る配向層は、耐光性に劣るポリイミド等の材料を用いなくとも形成することができ、無機配向膜のように均一に形成するのが困難な斜方蒸着法を用いる必要もないため、耐光性に優れるとともに、面内で均一に形成することが可能である。したがって、上記本発明の構成により、液晶分子に対する配向性能が高い配向層を備え、しかも耐久性及び信頼性に優れた液晶装置を提供することが可能となるのである。   According to such a liquid crystal device, the alignment of liquid crystal molecules can be regulated along the shape of the pores of the main body, and the liquid crystal molecules are also aligned by the alignment performance of the hydrophobic layer formed on the surface of the main body. Can be regulated. The hydrophobic layer on the surface of the main body prevents or suppresses the intrusion of moisture into the alignment layer, can realize stable alignment regulation regardless of the material of the main body, and between the liquid crystal molecules and the main body. Problems such as reaction are unlikely to occur. In addition, the alignment layer according to the present invention can be formed without using a material such as polyimide that is inferior in light resistance, and it is also necessary to use an oblique deposition method that is difficult to form uniformly, such as an inorganic alignment film. Therefore, it is excellent in light resistance and can be formed uniformly in the surface. Therefore, according to the configuration of the present invention, it is possible to provide a liquid crystal device including an alignment layer having high alignment performance with respect to liquid crystal molecules and having excellent durability and reliability.

前記疎水層は、前記液晶分子を当該疎水層の層表面に対して垂直方向に配向可能に構成されているものとすることができる。このような疎水層は垂直配向膜として機能するものであって、自身の層表面に対して液晶分子を垂直方向に配向規制でき、前記本体部の最表面、及び/又は本体部の空孔底面に当該疎水層を配設することで、空孔の形状に沿った液晶分子の配向規制力を一層高めることができるようになる。   The hydrophobic layer may be configured to align the liquid crystal molecules in a direction perpendicular to the surface of the hydrophobic layer. Such a hydrophobic layer functions as a vertical alignment film, and can control the alignment of liquid crystal molecules in the vertical direction with respect to the surface of the layer, and the outermost surface of the main body and / or the bottom surface of the pores of the main body. By disposing the hydrophobic layer on the liquid crystal, it becomes possible to further enhance the alignment regulating force of the liquid crystal molecules along the shape of the pores.

また、前記疎水層は、前記本体部の空孔の内部に沿って形成されているものとすることができる。この場合、本体部の保護効果、つまり水分の浸入を防止する効果或いは液晶と本体部が反応することを防止する効果が一層高まることとなる。なお、前記疎水層としては、少なくとも前記本体部よりも疎水性が高い材料にて構成することが好ましい。   The hydrophobic layer may be formed along the inside of the hole of the main body. In this case, the effect of protecting the main body, that is, the effect of preventing the ingress of moisture or the effect of preventing the liquid crystal and the main body from reacting is further enhanced. The hydrophobic layer is preferably made of a material that is at least more hydrophobic than the main body.

一方、前記本体部の空孔は、前記基板面の法線方向に沿って該基板上に概ね直立してなるものとすることができる。この場合、空孔の直立方向に沿って、つまり基板に対して垂直方向に液晶分子を配向規制することができ、したがって当該配向層を備える液晶装置としては誘電異方性が負の液晶を用いたものが好適となる。   On the other hand, the holes in the main body can be substantially upright on the substrate along the normal direction of the substrate surface. In this case, the alignment of the liquid crystal molecules can be regulated along the upright direction of the holes, that is, in the direction perpendicular to the substrate. Is suitable.

また、前記本体部の空孔の内部形状が、略円柱状とされているものとすることができる。この場合、該円柱形状に沿って優れた配向性が得られ、且つ上記形状とすることで比較的容易に空孔を形成できるという製造工程上のメリットも得られる。さらに、前記本体部の空孔が、前記基板に対して傾斜して形成されているものとすることもでき、この場合、液晶分子を基板に対して傾斜した状態で配向させることができ、これにより、電圧印加時の液晶分子の傾倒方向を制御することができる。従って、これらの構成によれば、表示のムラが生じにくい、表示品質に優れる液晶装置を提供することができる。   Moreover, the internal shape of the void | hole of the said main-body part shall be substantially cylindrical shape. In this case, excellent orientation can be obtained along the cylindrical shape, and a merit in the manufacturing process that pores can be formed relatively easily by using the above shape is also obtained. Further, the holes of the main body may be formed to be inclined with respect to the substrate. In this case, the liquid crystal molecules can be aligned in an inclined state with respect to the substrate. This makes it possible to control the tilt direction of the liquid crystal molecules when a voltage is applied. Therefore, according to these configurations, it is possible to provide a liquid crystal device that is less likely to cause display unevenness and has excellent display quality.

なお、本発明の液晶装置において、前記空孔の開口径を5nm以上100nm以下とすることができる。開口径が5nm未満では、空孔を形成するのが困難になり、生産性の低下を招く場合がある。一方、100nmを超える開口径では、液晶分子の配向性が低下する場合がある。   In the liquid crystal device of the present invention, the opening diameter of the holes can be 5 nm or more and 100 nm or less. If the opening diameter is less than 5 nm, it becomes difficult to form pores, which may lead to a decrease in productivity. On the other hand, when the opening diameter exceeds 100 nm, the orientation of the liquid crystal molecules may be lowered.

また、本発明の液晶装置において、前記空孔のピッチを5nm以上250nm以下とすることができる。ピッチが5nm未満では、空孔を形成するのが困難になり、生産性の低下を招く場合がある。一方、250nmを超えるピッチでは、空孔間の距離が大きすぎて液晶分子の配向性が低下する場合がある。   In the liquid crystal device of the present invention, the pitch of the holes can be 5 nm or more and 250 nm or less. If the pitch is less than 5 nm, it becomes difficult to form pores, which may lead to a decrease in productivity. On the other hand, when the pitch exceeds 250 nm, the distance between the holes is too large, and the orientation of the liquid crystal molecules may be lowered.

また、本発明の液晶装置において、前記空孔の深さを5nm以上200nm以下とすることができる。深さが5nm未満では、配向規制力が低下して液晶分子の配向性が悪くなる場合がある。また200nmを超える深さとすると、液晶層と電極層との平均距離が大きくなるために、駆動電圧が高くなる場合がある。   In the liquid crystal device of the present invention, the depth of the holes can be 5 nm or more and 200 nm or less. If the depth is less than 5 nm, the alignment regulating force may be reduced and the alignment of the liquid crystal molecules may be deteriorated. On the other hand, if the depth exceeds 200 nm, the average distance between the liquid crystal layer and the electrode layer becomes large, which may increase the driving voltage.

また、本発明の液晶装置において、前記空孔の密集度(ピッチ/開口径)を1以上2.5以下とすることができる。空孔の密集度が1未満の場合、空孔同士が重なり合って実質的な空孔の開口径が大きくなるため、配向性が低下する惧れがある。また、密集度が2.5を超えると、空孔間の距離が大きくなって配向性が低下する場合がある。   In the liquid crystal device of the present invention, the pore density (pitch / aperture diameter) can be 1 or more and 2.5 or less. When the density of the holes is less than 1, the holes overlap each other and the substantial opening diameter of the holes becomes large, so that the orientation may be lowered. On the other hand, when the density exceeds 2.5, the distance between the holes becomes large and the orientation may be lowered.

また、本発明の液晶装置は、前記空孔のアスペクト比(深さ/開口径)を1以上40以下とすることができる。空孔のアスペクト比が1未満の場合、液晶の配向性が低下する場合がある。また40を超えるアスペクト比の空孔を形成すると電極層と液晶層との平均距離が大きく、駆動電圧が高くなる場合がある。   In the liquid crystal device of the present invention, the aspect ratio (depth / opening diameter) of the holes can be 1 or more and 40 or less. When the aspect ratio of the holes is less than 1, the liquid crystal orientation may be lowered. If holes having an aspect ratio exceeding 40 are formed, the average distance between the electrode layer and the liquid crystal layer may be large, and the drive voltage may be high.

さらに、本発明の液晶装置は、前記液晶層を構成する液晶分子のうち、少なくとも前記基板に隣接して配置された液晶分子が、当該基板に対して略垂直に配向されている構成とすることが好ましい。また、前記液晶層が、負の誘電異方性を有する液晶からなる構成とすることが好ましい。本発明に係る配向層は、特に垂直配向モードの液晶装置に好適なものである。   Furthermore, the liquid crystal device of the present invention has a configuration in which at least liquid crystal molecules arranged adjacent to the substrate among the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer are aligned substantially perpendicularly to the substrate. Is preferred. The liquid crystal layer is preferably composed of a liquid crystal having negative dielectric anisotropy. The alignment layer according to the present invention is particularly suitable for a vertical alignment mode liquid crystal device.

また、本発明の液晶装置は、前記空孔に液晶が満たされている構成とすることが好ましい。このような構成とすることで、上記空孔による配向規制力が効果的に液晶分子に対して作用するようになる。また電極層と液晶層との距離が小さくなるので、電圧の印加による液晶層の駆動がより円滑に行えるようになる。   Moreover, it is preferable that the liquid crystal device of the present invention has a configuration in which the pores are filled with liquid crystal. With such a configuration, the alignment regulating force due to the holes effectively acts on the liquid crystal molecules. Further, since the distance between the electrode layer and the liquid crystal layer is reduced, the liquid crystal layer can be driven more smoothly by applying a voltage.

次に、本発明の電子機器は、先の本発明の液晶装置を備えたことを特徴としている。係る構成によれば、液晶分子の配向規制を確実に行うことができ、また水分等の混入による表示不良が生じにくく、且つ駆動電圧も低く抑えることができる信頼性、及び消費電力に優れた液晶装置を、光変調手段ないし画像表示手段として備えた電子機器を提供することができる。   Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device according to the present invention. According to such a configuration, liquid crystal molecules that can reliably regulate the alignment of liquid crystal molecules, are less prone to display defects due to the mixing of moisture and the like, and can have a low driving voltage and have excellent reliability and power consumption. An electronic apparatus provided with the apparatus as a light modulation unit or an image display unit can be provided.

このような電子機器としては、上記液晶装置を光変調手段として備え、該光変調手段により変調された光を投射する投射手段として備えた投射型表示装置、或いは上記液晶装置を直視型の表示部として備えた機器等を例示できる。
つまり「電子機器」には限定は無いが、例えば、テレビ受像機、カーナビゲーション装置、POS,パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、リア型またはフロント型のプロジェクタ、表示機能付きファックス装置、電子案内板、輸送車両等のインフォメーションパネル、ゲーム装置、工作機械の操作盤、電子ブック、およびデジタルカメラや携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、携帯電話、ビデオカメラ等の携帯機器等なども含まれることは言うまでもない。
As such an electronic apparatus, the liquid crystal device is provided as light modulation means, and a projection display device provided as projection means for projecting the light modulated by the light modulation means, or the liquid crystal device is a direct-view type display unit. Examples of such devices can be given.
In other words, “electronic devices” are not limited, but for example, television receivers, car navigation devices, POS, personal computers, head-mounted displays, rear-type or front-type projectors, fax machines with display functions, electronic guide boards, transportation Information panels for vehicles, game devices, machine tool operation panels, electronic books, digital cameras, portable TVs, DSP devices, PDAs, electronic notebooks, mobile phones, mobile devices such as video cameras, etc. Needless to say.

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing used for the following description, the scale of each member is appropriately changed to make each member a recognizable size.

(液晶装置)
以下に示す本実施形態の液晶装置は、スイッチング素子としてTFT(薄膜トランジスタ)素子を用い、誘電異方性が負の液晶を用いたアクティブマトリクス型の垂直配向モードの透過型液晶装置である。また、本実施形態の液晶装置は、液晶層と接して設けられた配向膜(配向層)の構成が特徴的となっている。
(Liquid crystal device)
The liquid crystal device of the present embodiment described below is an active matrix vertical alignment mode transmission type liquid crystal device using a TFT (thin film transistor) element as a switching element and using a liquid crystal having negative dielectric anisotropy. The liquid crystal device of this embodiment is characterized by the configuration of an alignment film (alignment layer) provided in contact with the liquid crystal layer.

図1は本実施形態の透過型液晶装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図2はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたTFTアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す平面図である。図3は本実施形態の透過型液晶装置の構造を示す断面図であって、図2のA−A’線断面図である。図4は本実施形態の透過型液晶装置に備えられた配向膜を拡大して示す平面図及び断面図である。なお、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。   FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of switching elements, signal lines, and the like in a plurality of pixels arranged in a matrix that constitutes an image display region of the transmissive liquid crystal device of this embodiment. FIG. 2 is a plan view showing the structure of a plurality of pixel groups adjacent to each other on a TFT array substrate on which data lines, scanning lines, pixel electrodes and the like are formed. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the transmissive liquid crystal device of this embodiment, and is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. 2. FIG. 4 is an enlarged plan view and cross-sectional view showing an alignment film provided in the transmissive liquid crystal device of this embodiment. In addition, in each figure, in order to make each layer and each member the size which can be recognized on drawing, the scale is varied for every layer and each member.

本実施形態の透過型液晶装置において、図1に示すように、画像表示領域を構成するマトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極9と当該画素電極9への通電制御を行うためのスイッチング素子であるTFT素子30がそれぞれ形成されており、画像信号を供給するためのデータ線6aが当該TFT素子30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給されるか、或いは相隣接する複数のデータ線6aに対してグループ毎に供給される。   In the transmissive liquid crystal device according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, a plurality of pixels arranged in a matrix that constitutes an image display region are subjected to energization control for the pixel electrode 9 and the pixel electrode 9. TFT elements 30 as switching elements are formed, and a data line 6 a for supplying an image signal is electrically connected to the source of the TFT element 30. Image signals S1, S2,..., Sn to be written to the data line 6a are supplied line-sequentially in this order, or are supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a.

また、走査線3aがTFT素子30のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線3aに対して走査信号G1、G2、…、Gmが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極9はTFT素子30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT素子30を一定期間だけオンすることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。   In addition, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT element 30, and scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the plurality of scanning lines 3a in a pulse-sequential manner at predetermined timing. The Further, the pixel electrode 9 is electrically connected to the drain of the TFT element 30, and the image signal S1, S2,... Supplied from the data line 6a is turned on by turning on the TFT element 30 as a switching element for a certain period. , Sn is written at a predetermined timing.

画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、後述する共通電極21(図3参照)との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化し、該変化に基づいて当該液晶層を透過する光を変調して階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークするのを防止するために、画素電極9と共通電極21(図3参照)との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70が付加されている。   Image signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal via the pixel electrode 9 are held for a certain period with the common electrode 21 (see FIG. 3) described later. The liquid crystal changes the orientation and order of the molecular assembly depending on the applied voltage level, and modulates the light transmitted through the liquid crystal layer based on the change to enable gradation display. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 and the common electrode 21 (see FIG. 3). .

次に、図2に基づいて、本実施形態の透過型液晶装置の画素構造について説明する。図2に示すように、TFTアレイ基板10(図3参照)上に、インジウム錫酸化物(ITO)等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極9(点線部9aにより輪郭を示す)がマトリクス状に配列形成されており、画素電極9の縦横の境界に各々沿ってデータ線6a、走査線3a及び容量線3bが設けられている。本実施形態において、各画素電極9及び各画素電極9を囲むように配設されたデータ線6a、走査線3a、容量線3b等が形成された領域が画素であり、マトリクス状に配置された各画素毎に表示を行うことが可能な構造になっている。   Next, the pixel structure of the transmissive liquid crystal device of this embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, on the TFT array substrate 10 (see FIG. 3), a rectangular pixel electrode 9 (outlined by a dotted line portion 9a) made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) is formed. The data lines 6 a, the scanning lines 3 a, and the capacitor lines 3 b are provided along the vertical and horizontal boundaries of the pixel electrodes 9. In the present embodiment, each pixel electrode 9 and the area where the data line 6a, the scanning line 3a, the capacitor line 3b, etc. are arranged so as to surround each pixel electrode 9 are pixels, and are arranged in a matrix. The display can be displayed for each pixel.

データ線6aは、TFT素子30を構成する例えばポリシリコン膜からなる半導体層1aのうち、後述のソース領域にコンタクトホール5を介して電気的に接続されており、画素電極9は、半導体層1aのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール8を介して電気的に接続されている。また、半導体層1aのうち、後述のチャネル領域(図中左上がりの斜線の領域)に対向するように走査線3aが配置されており、走査線3aはチャネル領域に対向する部分でゲート電極として機能する。   The data line 6a is electrically connected to a source region (described later) through a contact hole 5 in the semiconductor layer 1a made of, for example, a polysilicon film constituting the TFT element 30, and the pixel electrode 9 is connected to the semiconductor layer 1a. Among these, it is electrically connected to a drain region described later via a contact hole 8. In addition, the scanning line 3a is disposed so as to face a channel region (a region with a diagonal line rising to the left in the figure), which will be described later, of the semiconductor layer 1a. The scanning line 3a serves as a gate electrode at a portion facing the channel region. Function.

容量線3bは、走査線3aに沿って略直線状に伸びる本線部(すなわち、平面的に見て、走査線3aに沿って形成された第1領域)と、データ線6aと交差する箇所からデータ線6aに沿って前段側(図中上向き)に突出した突出部(すなわち、平面的に見て、データ線6aに沿って延設された第2領域)とを有する。そして、図2中、右上がりの斜線で示した領域には、複数の第1遮光膜11aが設けられている。   The capacitor line 3b is formed from a main line portion extending in a substantially straight line along the scanning line 3a (that is, a first region formed along the scanning line 3a in a plan view) and a portion intersecting the data line 6a. And a protruding portion (that is, a second region extending along the data line 6 a when viewed in a plan view) protruding toward the previous stage (upward in the drawing) along the data line 6 a. In FIG. 2, a plurality of first light shielding films 11 a are provided in a region indicated by a diagonal line rising to the right.

次に、図3に基づいて、本実施形態の透過型液晶装置の断面構造について説明する。図3に示すように、本実施形態の透過型液晶装置においては、TFTアレイ基板10と、これに対向配置される対向基板20との間に誘電異方性が負の液晶からなる垂直配向モードの液晶層50が挟持されている。TFTアレイ基板10は、石英等の透光性材料からなる基板本体10Aと、その液晶層50側表面に形成されたTFT素子30と、画素電極9及び配向膜40とを主体として構成されており、対向基板20はガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体20Aと、その液晶層50側表面に形成された共通電極21と、配向膜60とを主体として構成されている。   Next, a cross-sectional structure of the transmissive liquid crystal device of the present embodiment will be described based on FIG. As shown in FIG. 3, in the transmissive liquid crystal device according to the present embodiment, a vertical alignment mode comprising a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy between the TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 disposed opposite thereto. The liquid crystal layer 50 is sandwiched. The TFT array substrate 10 is mainly composed of a substrate body 10A made of a translucent material such as quartz, a TFT element 30 formed on the surface of the liquid crystal layer 50, a pixel electrode 9 and an alignment film 40. The counter substrate 20 is mainly composed of a substrate body 20A made of a light-transmitting material such as glass or quartz, a common electrode 21 formed on the surface of the liquid crystal layer 50, and an alignment film 60.

TFTアレイ基板10において、基板本体10Aの液晶層50側表面には画素電極9が設けられ、各画素電極9に隣接する位置に、各画素電極9をスイッチング制御する画素スイッチング用TFT素子30が設けられている。画素スイッチング用TFT素子30は、LDD(Lightly Doped Drain)構造を有しており、走査線3a、当該走査線3aからの電界によりチャネルが形成される半導体層1aのチャネル領域1a’、走査線3aと半導体層1aとを絶縁するゲート絶縁膜2、データ線6a、半導体層1aの低濃度ソース領域1b及び低濃度ドレイン領域1c、半導体層1aの高濃度ソース領域1d及び高濃度ドレイン領域1eを備えている。   In the TFT array substrate 10, pixel electrodes 9 are provided on the surface of the substrate body 10 </ b> A on the liquid crystal layer 50 side, and pixel switching TFT elements 30 that perform switching control of the pixel electrodes 9 are provided at positions adjacent to the pixel electrodes 9. It has been. The pixel switching TFT element 30 has an LDD (Lightly Doped Drain) structure, and includes a scanning line 3a, a channel region 1a ′ of the semiconductor layer 1a in which a channel is formed by an electric field from the scanning line 3a, and the scanning line 3a. A gate insulating film 2 that insulates the semiconductor layer 1a, a data line 6a, a low concentration source region 1b and a low concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a, and a high concentration source region 1d and a high concentration drain region 1e of the semiconductor layer 1a. ing.

また、上記走査線3a上、ゲート絶縁膜2上を含む基板本体10A上には、高濃度ソース領域1dへ通じるコンタクトホール5、及び高濃度ドレイン領域1eへ通じるコンタクトホール8が開孔した第2層間絶縁膜4が形成されている。つまり、データ線6aは、第2層間絶縁膜4を貫通するコンタクトホール5を介して高濃度ソース領域1dに電気的に接続されている。さらに、データ線6a上及び第2層間絶縁膜4上には、高濃度ドレイン領域1eへ通じるコンタクトホール8が開孔した第3層間絶縁膜7が形成されている。つまり、高濃度ドレイン領域1eは、第2層間絶縁膜4及び第3層間絶縁膜7を貫通するコンタクトホール8を介して画素電極9に電気的に接続されている。   Further, a second contact hole 5 leading to the high concentration source region 1d and a contact hole 8 leading to the high concentration drain region 1e are formed on the substrate main body 10A including the scanning line 3a and the gate insulating film 2. An interlayer insulating film 4 is formed. That is, the data line 6 a is electrically connected to the high concentration source region 1 d through the contact hole 5 that penetrates the second interlayer insulating film 4. Further, on the data line 6a and the second interlayer insulating film 4, a third interlayer insulating film 7 having a contact hole 8 leading to the high concentration drain region 1e is formed. That is, the high concentration drain region 1 e is electrically connected to the pixel electrode 9 through the contact hole 8 that penetrates the second interlayer insulating film 4 and the third interlayer insulating film 7.

また、本実施形態では、ゲート絶縁膜2を走査線3aに対向する位置から延設して誘電体膜として用い、半導体膜1aを延設して第1蓄積容量電極1fとし、更にこれらに対向する容量線3bの一部を第2蓄積容量電極とすることにより、蓄積容量70が構成されている。   In the present embodiment, the gate insulating film 2 is extended from a position facing the scanning line 3a and used as a dielectric film, the semiconductor film 1a is extended to form the first storage capacitor electrode 1f, and further opposed thereto. The storage capacitor 70 is configured by using a part of the capacitor line 3b to be a second storage capacitor electrode.

また、TFTアレイ基板10の基板本体10Aの液晶層50側表面において、各画素スイッチング用TFT素子30が形成された領域には、TFTアレイ基板10を透過し、TFTアレイ基板10の図示下面(TFTアレイ基板10と空気との界面)で反射されて、液晶層50側への戻り光が、少なくとも半導体層1aのチャネル領域1a’及び低濃度ソース、ドレイン領域1b、1cに入射することを防止するための第1遮光膜11aが設けられている。また、第1遮光膜11aと画素スイッチング用TFT素子30との間には、画素スイッチング用TFT素子30を構成する半導体層1aを第1遮光膜11aから電気的に絶縁するための第1層間絶縁膜12が形成されている。さらに、図2に示したように、TFTアレイ基板10に第1遮光膜11aを設けるのに加えて、コンタクトホール13を介して第1遮光膜11aが、前段或いは後段の容量線3bに電気的に接続するように構成されている。   Further, on the surface of the TFT array substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side of the substrate main body 10A, the region where the pixel switching TFT elements 30 are formed is transmitted through the TFT array substrate 10, and the lower surface (TFT) of the TFT array substrate 10 is illustrated. The light that is reflected at the interface between the array substrate 10 and air) and returned to the liquid crystal layer 50 side is prevented from entering at least the channel region 1a ′ and the low concentration source / drain regions 1b and 1c of the semiconductor layer 1a. For this purpose, a first light shielding film 11a is provided. Further, a first interlayer insulation for electrically insulating the semiconductor layer 1a constituting the pixel switching TFT element 30 from the first light shielding film 11a is provided between the first light shielding film 11a and the pixel switching TFT element 30. A film 12 is formed. Further, as shown in FIG. 2, in addition to providing the first light-shielding film 11a on the TFT array substrate 10, the first light-shielding film 11a is electrically connected to the capacitor line 3b at the preceding stage or the subsequent stage through the contact hole 13. Configured to connect to.

また、TFTアレイ基板10の液晶層50側最表面、すなわち、画素電極9及び第3層間絶縁膜7上には、電圧無印加時における液晶層50内の液晶分子の配向を制御する配向膜(配向層)40が形成されている。この配向膜40は、液晶分子を当該膜面に対して垂直方向に配向させる機能を有している。   Further, on the liquid crystal layer 50 side outermost surface of the TFT array substrate 10, that is, on the pixel electrode 9 and the third interlayer insulating film 7, an alignment film (which controls the alignment of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 50 when no voltage is applied). Alignment layer) 40 is formed. The alignment film 40 has a function of aligning liquid crystal molecules in a direction perpendicular to the film surface.

他方、対向基板20には、基板本体20Aの液晶層50側表面であって、データ線6a、走査線3a、画素スイッチング用TFT素子30の形成領域に対向する領域、すなわち各画素部の開口領域以外の領域に、入射光が画素スイッチング用TFT素子30の半導体層1aのチャネル領域1a’や低濃度ソース領域1b、低濃度ドレイン領域1cに侵入するのを防止するための第2遮光膜23が設けられている。さらに、第2遮光膜23が形成された基板本体20Aの液晶層50側には、その略全面に亙って、ITO等からなる共通電極21が形成され、その液晶層50側には、電圧無印加時における液晶層50内の液晶分子の配向を制御する配向膜(配向層)60が形成されている。   On the other hand, the counter substrate 20 has a surface on the liquid crystal layer 50 side of the substrate body 20A, which is a region facing the formation region of the data line 6a, the scanning line 3a, and the pixel switching TFT element 30, that is, an opening region of each pixel unit. A second light-shielding film 23 for preventing incident light from entering the channel region 1a ′, the low-concentration source region 1b, and the low-concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a of the pixel switching TFT element 30 in a region other than Is provided. Further, a common electrode 21 made of ITO or the like is formed over the substantially entire surface of the substrate body 20A on which the second light shielding film 23 is formed, and a voltage is applied to the liquid crystal layer 50 side. An alignment film (alignment layer) 60 for controlling the alignment of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 50 when no voltage is applied is formed.

上述したように、本実施形態においては、配向膜(配向層)40、60の構造が特徴的なものとなっている。以下、図4及び図5に基づいて、配向膜40の構造及びその作用について説明する。図4(a)は、配向膜40を拡大して示す部分平面図であり、図4(b)は、図4(a)に示すB−B’線に沿う部分断面図である。図5は、配向膜40による液晶分子の配向制御作用を説明するための部分断面模式図である。なお、本実施形態では、TFTアレイ基板10側の配向膜40と対向基板20側の配向膜60とは同一の構造を有するものであるため、以下、配向膜40について主に説明する。   As described above, in this embodiment, the structures of the alignment films (alignment layers) 40 and 60 are characteristic. Hereinafter, the structure of the alignment film 40 and its operation will be described with reference to FIGS. 4 and 5. 4A is an enlarged partial plan view showing the alignment film 40, and FIG. 4B is a partial cross-sectional view taken along line B-B ′ shown in FIG. FIG. 5 is a partial cross-sectional schematic diagram for explaining the alignment control action of the liquid crystal molecules by the alignment film 40. In the present embodiment, since the alignment film 40 on the TFT array substrate 10 side and the alignment film 60 on the counter substrate 20 side have the same structure, the alignment film 40 will be mainly described below.

図4(a)に示すように、本実施形態に係る配向膜40は、平面視円形状の空孔40aが所定のピッチpで格子状に配列された構成を備えており、この空孔40aは、図4(b)に示すように、配向膜40を略垂直に貫通して形成されている。従って、空孔40aが設けられた領域において、画素電極9は液晶層50に対して露出されており、液晶層50の液晶は空孔40a内に充たされている。   As shown in FIG. 4A, the alignment film 40 according to the present embodiment has a configuration in which holes 40a having a circular shape in plan view are arranged in a lattice pattern at a predetermined pitch p. As shown in FIG. 4B, it is formed so as to penetrate the alignment film 40 substantially vertically. Therefore, the pixel electrode 9 is exposed to the liquid crystal layer 50 in the region where the hole 40a is provided, and the liquid crystal of the liquid crystal layer 50 is filled in the hole 40a.

本実施形態の場合、配向膜40は、図5に示したように、SiO、Al(特に陽極酸化アルミナ)等の絶縁材料から構成されるとともに複数の空孔を有するポーラス構造体44と、該ポーラス構造体44の表面を覆い且つポーラス構造体44よりも疎水性の高い材料(水との接触角の大きい材料)からなる疎水層43とを含んで構成されている。疎水層43は、例えば長鎖アルキル基(例えば炭素数5〜20程度、本実施形態ではn−デシル基)を含む化合物にて構成されている。また、疎水層43は、液晶分子を配向規制する機能を有しており、具体的には長鎖アルキル基に沿って液晶分子を垂直配向させる機能を有している。なお、ポーラス構造体44及び疎水層43は、ともに光透過性の高い材料により形成されており、空孔40aの底部にも、画素電極9の表層を覆うように疎水層43が形成されている。 In the case of this embodiment, as shown in FIG. 5, the alignment film 40 is made of an insulating material such as SiO 2 , Al 2 O 3 (particularly anodized alumina) and has a porous structure having a plurality of holes. 44 and a hydrophobic layer 43 that covers the surface of the porous structure 44 and is made of a material having a higher hydrophobicity than the porous structure 44 (a material having a large contact angle with water). The hydrophobic layer 43 is composed of, for example, a compound containing a long-chain alkyl group (for example, about 5 to 20 carbon atoms, n-decyl group in this embodiment). The hydrophobic layer 43 has a function of regulating the alignment of liquid crystal molecules. Specifically, the hydrophobic layer 43 has a function of vertically aligning liquid crystal molecules along a long-chain alkyl group. Note that the porous structure 44 and the hydrophobic layer 43 are both made of a material having high light transmittance, and the hydrophobic layer 43 is formed at the bottom of the hole 40a so as to cover the surface layer of the pixel electrode 9. .

配向膜40が有する空孔40aは略円柱形状を有しており、その長さ方向が電極9の表面に対して概ね直立してなるように配設されている。本実施形態において、図4に示す空孔40a及びその配列の各寸法は、配向膜40表面における開口径φが約50nm、ピッチpが約60nm、深さdが約120nmとされている。従って、配向膜40表面における空孔40aの密集度(ピッチp/開口径φ)は、約1.2、空孔40aの配向膜40厚さ方向におけるアスペクト比(深さd/開口径φ)は、約2.4である。   The holes 40 a of the alignment film 40 have a substantially cylindrical shape, and are arranged so that the length direction thereof is substantially upright with respect to the surface of the electrode 9. In the present embodiment, the dimensions of the holes 40a and the arrangement thereof shown in FIG. 4 are such that the opening diameter φ on the surface of the alignment film 40 is about 50 nm, the pitch p is about 60 nm, and the depth d is about 120 nm. Therefore, the density of the holes 40a on the surface of the alignment film 40 (pitch p / opening diameter φ) is about 1.2, and the aspect ratio of the holes 40a in the thickness direction of the alignment film 40 (depth d / opening diameter φ). Is about 2.4.

そして、図5に示すように、このような微細な空孔40aが配向膜40を貫通して複数設けられていることで、配向膜40と接する液晶層50の液晶分子51が空孔40aの長さ方向(配向膜40の厚さ方向)に沿って配向され、その結果、液晶層50全体として液晶分子51がTFTアレイ基板10及び対向基板20に対して略垂直(詳しくは基板面法線に対して0°〜5°(例えば約2.5°)傾いている)に配向されている。   Then, as shown in FIG. 5, since a plurality of such fine holes 40a are provided through the alignment film 40, the liquid crystal molecules 51 of the liquid crystal layer 50 in contact with the alignment film 40 are formed in the holes 40a. As a result, the liquid crystal molecules 51 in the entire liquid crystal layer 50 are substantially perpendicular to the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 (specifically, normal to the substrate surface). Or 0 ° to 5 ° (for example, about 2.5 °).

このように、本実施形態の液晶装置では、画素電極9上に、複数の空孔40aを有する配向膜40が形成されていることで、当該空孔40aの形状に沿って良好な液晶分子の配向規制が可能となる。また、空孔40aを形成すべく設けられたポーラス構造体44を保護する疎水層43が形成されているため、ポーラス構造体44の材料選択の幅が広がり、例えば本実施形態のように若干吸水性の高い材料にてポーラス構造体44を構成した場合にも、当該構造体44への水分の吸着を防止ないし抑制することが可能となる。その結果、本実施形態の液晶装置の信頼性が高まることとなる。また、ポーラス構造体44が反応性の高い材料にて構成されている場合にも、該構造体44と液晶分子との間で反応が生じることを疎水層43により防止ないし抑制することが可能となる。さらに、本実施形態では、画素電極9上に疎水層43が形成されているため、画素電極9と液晶分子が反応することも防止ないし抑制されることとなる。   As described above, in the liquid crystal device according to the present embodiment, the alignment film 40 having the plurality of holes 40a is formed on the pixel electrode 9, so that the liquid crystal molecules having good liquid crystal molecules can be formed along the shape of the holes 40a. Orientation regulation is possible. In addition, since the hydrophobic layer 43 that protects the porous structure 44 provided to form the pores 40a is formed, the material selection range of the porous structure 44 is widened. Even when the porous structure 44 is made of a material having high properties, the adsorption of moisture to the structure 44 can be prevented or suppressed. As a result, the reliability of the liquid crystal device of this embodiment is increased. Further, even when the porous structure 44 is composed of a highly reactive material, the hydrophobic layer 43 can prevent or suppress the reaction between the structure 44 and the liquid crystal molecules. Become. Furthermore, in this embodiment, since the hydrophobic layer 43 is formed on the pixel electrode 9, the reaction between the pixel electrode 9 and the liquid crystal molecules is prevented or suppressed.

上記ポーラス構造体44は、例えばフォトリソグラフィ技術を用いたパターニングにより形成することができる。フォトリソグラフィ技術を用いる場合、構造体44の空孔部分を選択除去する方法として、エッチング法、或いは電子ビーム照射を用いることができる。また、疎水層43はシランカップリング処理により形成することができ、具体的にはn−デシルトリエトキシシランを構造体44に対してカップリング処理することで形成している。   The porous structure 44 can be formed, for example, by patterning using a photolithography technique. In the case of using a photolithography technique, an etching method or electron beam irradiation can be used as a method for selectively removing the hole portion of the structure 44. The hydrophobic layer 43 can be formed by a silane coupling process, specifically, n-decyltriethoxysilane is formed by coupling the structure 44 with the structure 44.

なお、本実施形態では、略同一寸法の多数の空孔40aが、平面視格子状に同一ピッチで配列形成された配向膜40について説明したが、複数の空孔40aはそれぞれ必ずしも同一寸法に形成しなくてもよい。また、空孔40aの平面的な配列も格子状に限定されない。すなわち、配向膜40には、互いに寸法が異なる複数の空孔40aが形成されていてもよく、配向膜40表面において、空孔40aが略ランダムに配置されていても、ピッチをずらして配置されていても構わない。その一方で、空孔40が極端に微細な場合や、大きすぎる場合には、生産性の低下を生じたり、十分な配向規制力が得られないといった惧れがある。そこで、空孔40aの各寸法の好ましい範囲を以下に示す。   In the present embodiment, the alignment film 40 in which a large number of holes 40a having substantially the same dimensions are arranged at the same pitch in a plan view lattice shape has been described. However, the plurality of holes 40a are not necessarily formed to have the same dimensions. You don't have to. Further, the planar arrangement of the holes 40a is not limited to a lattice shape. That is, the alignment film 40 may be formed with a plurality of holes 40a having different dimensions, and even if the holes 40a are arranged almost randomly on the surface of the alignment film 40, the holes are arranged with a shifted pitch. It does not matter. On the other hand, when the pores 40 are extremely fine or too large, there is a concern that the productivity is lowered or a sufficient alignment regulating force cannot be obtained. Therefore, a preferable range of each dimension of the hole 40a is shown below.

空孔40aの配向膜40表面における開口径φは、5nm〜100nmとすることが好ましい。開口径φが5nm未満では、空孔40aを形成するのが困難になり、生産性の低下を招く場合がある。また開口径φが100nmを超える場合は、液晶分子の配向性が低下する場合がある。空孔40a形成時の生産性と、配向性とを考慮すると、より好ましい開口径φとしては、50nm±5nmである。   The opening diameter φ of the holes 40a on the surface of the alignment film 40 is preferably 5 nm to 100 nm. When the opening diameter φ is less than 5 nm, it is difficult to form the air holes 40a, and the productivity may be reduced. When the opening diameter φ exceeds 100 nm, the orientation of the liquid crystal molecules may be lowered. Considering the productivity at the time of forming the holes 40a and the orientation, a more preferable opening diameter φ is 50 nm ± 5 nm.

次に、空孔40aのピッチpは、5nm〜250nmとすることが好ましい。ピッチpが5nm未満では、空孔40aを形成するのが困難になり、生産性の低下を招く場合がある。また250nmを超えるピッチでは、空孔40a間の距離が大きすぎて液晶分子の配向性が低下する場合がある。空孔40a形成時の生産性と、配向性とを考慮すると、より好ましいピッチpとしては、60nm±6nmである。   Next, the pitch p of the holes 40a is preferably 5 nm to 250 nm. If the pitch p is less than 5 nm, it is difficult to form the holes 40a, and the productivity may be reduced. On the other hand, when the pitch exceeds 250 nm, the distance between the holes 40a is too large, and the orientation of the liquid crystal molecules may be lowered. Considering the productivity at the time of forming the holes 40a and the orientation, a more preferable pitch p is 60 nm ± 6 nm.

次に、空孔40aの深さdは、5nm〜200nmとすることが好ましい。深さdが5nm未満では、配向規制力が低下して液晶分子の配向性が悪くなる場合がある。また200nmを超える深さとすると、液晶層50と画素電極9との平均距離が大きく、駆動電圧が高くなる場合がある。空孔40aによる配向性と、駆動電圧の上昇とを考慮すると、より好ましい深さdとしては、120nm±12nmである。   Next, the depth d of the holes 40a is preferably 5 nm to 200 nm. When the depth d is less than 5 nm, the alignment regulating force is reduced, and the alignment of the liquid crystal molecules may be deteriorated. On the other hand, if the depth exceeds 200 nm, the average distance between the liquid crystal layer 50 and the pixel electrode 9 may be large, and the drive voltage may be high. Considering the orientation due to the holes 40a and the increase in driving voltage, the more preferable depth d is 120 nm ± 12 nm.

また、上記空孔40aの各部の寸法に加え、空孔40aのアスペクト比(深さd/開口径φ)は、1〜40とすることが好ましく、空孔40aの平面的な密集度(ピッチp/開口径φ)は、1〜2.5とすることが好ましい。空孔40aのアスペクト比が1未満の場合、液晶の配向性が低下する場合がある。また40を超えるアスペクト比の空孔40aを形成すると画素電極9と液晶層50との平均距離が大きく、駆動電圧が高くなる場合がある。アスペクト比のより好ましい範囲としては、上記開口径φ及び深さdの範囲から、2.4±0.24 程度である。また、空孔40aの密集度が1未満の場合、空孔40a同士が重なり合って実質的な空孔40aの開口径が大きくなるため、配向性が低下する惧れがある。また、密集度が2.5を超えると、空孔40a間の距離が大きくなって配向性が低下する場合がある。この密集度のより好ましい範囲としては、上記開口径φ及びピッチpの範囲から、1.2±0.12程度である。   In addition to the dimensions of each part of the hole 40a, the aspect ratio (depth d / opening diameter φ) of the hole 40a is preferably 1 to 40, and the planar density (pitch) of the hole 40a is preferably 1-40. p / opening diameter φ) is preferably 1 to 2.5. When the aspect ratio of the holes 40a is less than 1, the liquid crystal orientation may be lowered. Further, when the hole 40a having an aspect ratio exceeding 40 is formed, the average distance between the pixel electrode 9 and the liquid crystal layer 50 is large, and the drive voltage may be increased. A more preferable range of the aspect ratio is about 2.4 ± 0.24 from the range of the opening diameter φ and the depth d. In addition, when the density of the holes 40a is less than 1, the holes 40a overlap each other and the substantial opening diameter of the holes 40a increases, so that the orientation may be lowered. On the other hand, when the density exceeds 2.5, the distance between the holes 40a may increase and the orientation may deteriorate. A more preferable range of the density is about 1.2 ± 0.12 from the range of the opening diameter φ and the pitch p.

なお、本実施形態では、配向膜40のポーラス構造体44を絶縁材料にて構成するものとしているが、例えばITO等の透光性の導電材料にて構成することもできる。この場合は、疎水層43が対向側の電極との間のショートを防止することとなる。   In the present embodiment, the porous structure 44 of the alignment film 40 is made of an insulating material, but it can also be made of a light-transmitting conductive material such as ITO. In this case, the hydrophobic layer 43 prevents a short circuit with the opposite electrode.

次に、上記実施形態の液晶装置に具備される配向膜40の変形例について図6〜図8を参照して説明する。
まず、図6は、第1変形例の配向膜(配向層)の部分断面構成を示す図であって、上記実施形態の図4(b)に対応する図である。図6に示すように、第1変形例では、配向膜40を貫通して形成された空孔40aが、配向膜40の層厚方向(図示上下方向)に対して傾斜して形成されている。つまり、配向膜40の空孔40aが基板10,20の面に対して傾斜して形成されている。なお、このような傾斜構成は、例えば画素電極9上にベタ状に形成したSiO膜に対して斜めエッチング(或いはスパッタ)を施すことで得ることができる。
Next, modified examples of the alignment film 40 provided in the liquid crystal device of the above embodiment will be described with reference to FIGS.
First, FIG. 6 is a diagram showing a partial cross-sectional configuration of the alignment film (alignment layer) of the first modification, and corresponds to FIG. 4B of the above embodiment. As shown in FIG. 6, in the first modification, the holes 40 a formed through the alignment film 40 are formed to be inclined with respect to the layer thickness direction (the vertical direction in the drawing) of the alignment film 40. . That is, the holes 40 a of the alignment film 40 are formed to be inclined with respect to the surfaces of the substrates 10 and 20. Such an inclined configuration can be obtained, for example, by performing oblique etching (or sputtering) on a solid SiO 2 film formed on the pixel electrode 9.

このような配向膜においては、図示右方向に傾いて空孔40aが形成されているので、液晶層50の液晶分子51も、空孔40aの長さ方向に沿って傾斜して配向される。従って、係る構成によれば、液晶分子51にプレチルトを付与したのと同様の状態を実現することができ、電圧印加時に空孔40aの傾斜方向側へ液晶分子51は倒れるようになる。これにより、ドット領域内で傾倒方向の異なる領域(ドメイン)が複数形成されるのを防止することができ、これらの領域境界のディスクリネーションに起因する表示むら等を効果的に防止することができる。   In such an alignment film, the vacancies 40a are formed inclining in the right direction in the figure, so that the liquid crystal molecules 51 of the liquid crystal layer 50 are also incliningly aligned along the length direction of the vacancies 40a. Therefore, according to such a configuration, it is possible to realize a state similar to that in which a pretilt is applied to the liquid crystal molecules 51, and the liquid crystal molecules 51 are tilted toward the tilt direction side of the holes 40a when a voltage is applied. Thereby, it is possible to prevent a plurality of regions (domains) having different tilt directions from being formed in the dot region, and to effectively prevent display unevenness caused by disclination of these region boundaries. it can.

次に、図7は、第2変形例の配向膜(配向層)の部分断面構成を示す図であって、上記実施形態の図5に対応する図である。図5に示した例では、ポーラス構造体44の全表面に疎水層43が形成されているが、本第2変形例では、図7に示すようにポーラス構造体44の最表面のみ、つまり空孔40aの外部のみに疎水層43が形成されている。この場合、ポーラス構造体44への水分浸入防止効果及び液晶分子との接触防止効果は低減するが、空孔40aの壁面からの配向規制力低下が抑えられるため、当該配向膜40の垂直配向能が高まることとなる。   Next, FIG. 7 is a diagram showing a partial cross-sectional configuration of the alignment film (alignment layer) of the second modified example, and corresponds to FIG. 5 of the above embodiment. In the example shown in FIG. 5, the hydrophobic layer 43 is formed on the entire surface of the porous structure 44. However, in the second modification, only the outermost surface of the porous structure 44, that is, the empty structure, as shown in FIG. 7. A hydrophobic layer 43 is formed only outside the hole 40a. In this case, the effect of preventing moisture from entering the porous structure 44 and the effect of preventing contact with the liquid crystal molecules are reduced, but a decrease in the alignment regulating force from the wall surface of the pores 40a can be suppressed. Will increase.

次に、図8は、第3変形例の配向膜(配向層)の部分断面構成を示す図であって、上記実施形態の図5に対応する図である。図5に示した例では、ポーラス構造体44の全表面に疎水層43が形成されているが、本第3変形例では、図8に示すようにポーラス構造体44の最表面と、空孔40aの孔底部とに疎水層43が形成され、空孔40aの壁面には疎水層43が形成されていない。この場合、第2変形例と比較して、空孔40aの孔底部からも液晶分子の垂直配向規制力が及ぶため、該第2変形例よりも当該配向膜40の垂直配向能が高まることとなる。   Next, FIG. 8 is a diagram showing a partial cross-sectional configuration of the alignment film (alignment layer) of the third modification, and corresponds to FIG. 5 of the above embodiment. In the example shown in FIG. 5, the hydrophobic layer 43 is formed on the entire surface of the porous structure 44. However, in the third modification, the outermost surface of the porous structure 44 and the pores are formed as shown in FIG. The hydrophobic layer 43 is formed on the bottom of the hole 40a, and the hydrophobic layer 43 is not formed on the wall surface of the hole 40a. In this case, compared with the second modified example, the vertical alignment regulating force of the liquid crystal molecules extends from the hole bottom of the hole 40a, so that the vertical alignment ability of the alignment film 40 is higher than that of the second modified example. Become.

(電子機器)
次に、本発明の電子機器の一実施形態として、上記実施形態の液晶装置を光変調手段として備えた投射型表示装置の構成について、図面を参照して説明する。図9は、上記実施形態の液晶装置を光変調装置として用いた投射型表示装置の要部を示す概略構成図である。この図において、510は光源、513、514はダイクロイックミラー、515、516、517は反射ミラー、518は入射レンズ、519はリレーレンズ、520は出射レンズ、522、523、524は液晶光変調装置、525はクロスダイクロイックプリズム、526は投射レンズを示す。
(Electronics)
Next, as an embodiment of the electronic apparatus of the present invention, a configuration of a projection display device including the liquid crystal device of the above embodiment as a light modulation unit will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing a main part of a projection display device using the liquid crystal device of the above embodiment as a light modulation device. In this figure, 510 is a light source, 513 and 514 are dichroic mirrors, 515, 516 and 517 are reflection mirrors, 518 is an entrance lens, 519 is a relay lens, 520 is an exit lens, 522, 523 and 524 are liquid crystal light modulators, Reference numeral 525 denotes a cross dichroic prism, and 526 denotes a projection lens.

光源510はメタルハライド等のランプ511とランプの光を反射するリフレクタ512とからなる。青色光、緑色光反射のダイクロイックミラー513は、光源510からの光束のうちの赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー517で反射されて、上記実施形態の液晶装置を備えた赤色光用液晶光変調装置522に入射される。一方、ダイクロイックミラー513で反射された色光のうち緑色光は緑色光反射のダイクロイックミラー514によって反射され、上記実施形態の液晶装置を備えた緑色光用液晶光変調装置523に入射される。なお、青色光は第2のダイクロイックミラー514も透過する。青色光に対しては、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するために、入射レンズ518、リレーレンズ519、出射レンズ520を含むリレーレンズ系からなる導光手段521が設けられ、これを介して青色光が上記実施形態の液晶装置を備えた青色光用液晶光変調装置524に入射される。赤色光用液晶光変調装置522、緑色光用液晶光変調装置523、青色光用液晶光変調装置524の前後にはそれぞれ入射側偏光板522a、523a、524aと出射側偏光板522b、523b、524bが設置されている。入射側偏光板で直線偏光となった光は液晶光変調装置により変調された後、出射側偏光板を通過するが、この時決められた振動方向の光しか透過できないため調光が可能となる。   The light source 510 includes a lamp 511 such as a metal halide and a reflector 512 that reflects the light of the lamp. The blue light and green light reflecting dichroic mirror 513 transmits red light of the light flux from the light source 510 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 517 and is incident on the liquid crystal light modulation device 522 for red light including the liquid crystal device of the above embodiment. On the other hand, green light out of the color light reflected by the dichroic mirror 513 is reflected by the dichroic mirror 514 that reflects green light and enters the liquid crystal light modulation device 523 for green light including the liquid crystal device of the above embodiment. Note that the blue light also passes through the second dichroic mirror 514. For blue light, in order to compensate for the difference in optical path length from green light and red light, a light guide means 521 comprising a relay lens system including an incident lens 518, a relay lens 519, and an exit lens 520 is provided. Through this, the blue light is incident on the blue light liquid crystal light modulation device 524 including the liquid crystal device of the above embodiment. Before and after the liquid crystal light modulator for red light 522, the liquid crystal light modulator for green light 523, and the liquid crystal light modulator for blue light 524, incident side polarizing plates 522a, 523a and 524a and outgoing side polarizing plates 522b, 523b and 524b, respectively. Is installed. The light that has been linearly polarized by the incident-side polarizing plate is modulated by the liquid crystal light modulator and then passes through the outgoing-side polarizing plate. However, since only light in the determined vibration direction can be transmitted at this time, dimming is possible. .

各光変調装置と2枚の偏光板により調光された3つの色光はクロスダイクロイックプリズム525に入射する。このプリズムは4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投写光学系である投写レンズ526によってスクリーン527上に投写され、画像が拡大されて表示される。   The three color lights modulated by the respective light modulators and the two polarizing plates are incident on the cross dichroic prism 525. In this prism, four right-angle prisms are bonded together, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in a cross shape on the inner surface. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 527 by the projection lens 526 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

上記構造を有する投射型表示装置は、上記実施形態の液晶装置を備えたものであるので、量産性に優れ、液晶層を構成する液晶分子に対する配向規制力が高く、さらに光や熱に対する耐久性に優れた、高信頼性の表示装置である。   Since the projection display device having the above-described structure includes the liquid crystal device of the above-described embodiment, the projection display device is excellent in mass productivity, has high alignment regulating power for the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer, and is durable against light and heat. It is an excellent and highly reliable display device.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記実施の形態では透過型の液晶装置について示しているが、本発明の構成を反射型、又は半透過反射型の液晶装置にも適用することができる。また、この場合、電子機器としては直視型表示部を備えた携帯電話やパーソナルコンピュータのディスプレイ等を例示することができる。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, although the above embodiment shows a transmissive liquid crystal device, the structure of the present invention can also be applied to a reflective or transflective liquid crystal device. In this case, examples of the electronic device include a mobile phone provided with a direct-view display unit and a display of a personal computer.

本発明の一実施形態の液晶装置における配線等の等価回路図。1 is an equivalent circuit diagram of wiring and the like in a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention. 図1の液晶装置の画素構造を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a pixel structure of the liquid crystal device of FIG. 1. 図1の液晶装置についてその要部の構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the principal part about the liquid crystal device of FIG. 図1の液晶装置に備えられた配向膜の部分平面図及び部分断面図。FIG. 2 is a partial plan view and a partial cross-sectional view of an alignment film provided in the liquid crystal device of FIG. 1. 図4に示す配向膜による液晶分子の配向状態を示す説明図。Explanatory drawing which shows the orientation state of the liquid crystal molecule by the orientation film shown in FIG. 第1変形例の配向膜の構成を示す部分断面図。The fragmentary sectional view which shows the structure of the alignment film of a 1st modification. 第2変形例の配向膜の構成を示す部分断面図。The fragmentary sectional view which shows the structure of the alignment film of a 2nd modification. 第3変形例の配向膜の構成を示す部分断面図。The fragmentary sectional view which shows the structure of the alignment film of a 3rd modification. 本発明に係る投射型表示装置についての一例を示す図。The figure which shows an example about the projection type display apparatus which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

9…画素電極(電極層)、10…TFTアレイ基板、20…対向基板、21…共通電極(電極層)、40,60…配向膜(配向層)、40a…空孔、43…疎水層、44…ポーラス構造体(本体部)、50…液晶層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 ... Pixel electrode (electrode layer), 10 ... TFT array substrate, 20 ... Counter substrate, 21 ... Common electrode (electrode layer), 40, 60 ... Alignment film (alignment layer), 40a ... Hole, 43 ... Hydrophobic layer, 44 ... Porous structure (main body), 50 ... Liquid crystal layer

Claims (8)

互いに対向して配置された一対の基板間に液晶層が挟持された液晶装置であって、
少なくとも一方の基板の前記液晶層側に、液晶分子を配向可能な配向層が設けられており、
前記配向層は、複数の空孔を有する本体部と、その本体部の表面の少なくとも一部に前記液晶分子を配向可能で且つ疎水性を有してなる疎水層とを具備してなり、
前記疎水層は、前記本体部の空孔の内部に沿って形成されてなることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates disposed to face each other,
An alignment layer capable of aligning liquid crystal molecules is provided on the liquid crystal layer side of at least one substrate,
The alignment layer includes a body portion having a plurality of holes, Ri Na and and a hydrophobic layer formed with a possible and hydrophobic orienting the liquid crystal molecules in at least part of the surface of the body portion,
The liquid crystal device , wherein the hydrophobic layer is formed along the inside of a hole of the main body .
前記疎水層は、前記液晶分子を当該疎水層の層表面に対して垂直方向に配向可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the hydrophobic layer is configured to be capable of aligning the liquid crystal molecules in a direction perpendicular to a surface of the hydrophobic layer. 前記疎水層は、前記本体部よりも疎水性が高いことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1 , wherein the hydrophobic layer has higher hydrophobicity than the main body. 前記本体部の空孔は、前記基板面の法線方向に沿って該基板上に概ね直立してなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶装置。 4. The liquid crystal device according to claim 1 , wherein the hole of the main body portion is substantially upright on the substrate along a normal direction of the substrate surface. 5. 前記本体部の空孔の内部形状が、略円柱状とされていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の液晶装置。 5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein an inner shape of a hole of the main body is a substantially columnar shape. 前記本体部の空孔が、前記基板に対して傾斜して形成されていることを特徴とする請求項1ないし3、請求項5のいずれか1項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1 , wherein the holes of the main body are formed to be inclined with respect to the substrate. 前記液晶層が、誘電異方性が負の液晶にて構成されてなることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1 , wherein the liquid crystal layer is composed of a liquid crystal having negative dielectric anisotropy. 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1 .
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