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JP4660922B2 - Thermistor and manufacturing method thereof - Google Patents
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JP4660922B2
JP4660922B2 JP2000385566A JP2000385566A JP4660922B2 JP 4660922 B2 JP4660922 B2 JP 4660922B2 JP 2000385566 A JP2000385566 A JP 2000385566A JP 2000385566 A JP2000385566 A JP 2000385566A JP 4660922 B2 JP4660922 B2 JP 4660922B2
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manufacturing
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば温度検知あるいは回路部品の温度補償などに用いられるサーミスタ及びその製造方法に関し、より詳細には、プリント回路基板などに表面実装され得るチップ型のサーミスタ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、温度検知や電子回路の温度補償を行うために、サーミスタが広く用いられている。サーミスタは、半導体セラミックスよりなるサーミスタ素体の外表面に一対の外部電極を形成した構造を有する。製造に際しては、半導体セラミックスよりなるセラミック焼結体を得た後に、導電ペーストの塗布・焼付により外部電極を形成する。
【0003】
上記サーミスタとしては、従来より種々の構造のものが知られている。例えば特開平9−186002号公報には、図4に示すサーミスタ51が開示されている。サーミスタ51では、サーミスタ素体52の両端に外部電極53,54が形成されている。外部電極53,54は、それぞれ、下地となる素子電極53a,54aと、素子電極53a,54a上に形成されたカバー電極53b,54bとを有する。素子電極53a,54aは、RuO2 などの低抵抗値の酸化物からなり、カバー電極53b,54bは、Agなどを主成分とする導電ペーストの塗布・焼付により形成されている。ここでは、低抵抗の酸化物からなる素子電極53a,54aを形成することにより、半田付け時に半田食われなどによりカバー電極53b,54bの一部が消失したとしても、素子電極53a,54aが残存しているため、サーミスタ51の電気的特性、例えば比抵抗やB定数の低下を防止することができるとされている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
サーミスタでは、その用途に応じた電気的特性、すなわち比抵抗やB定数を有するものが用いられる。他方、従来のサーミスタでは、抵抗値等を容易に補正することが困難であった。すなわち、半導体セラミックスからなるサーミスタ素体を得た後には、外表面に形成される一対の外部電極間の距離を変更したりすることによってしか抵抗値の調整ができなかった。そのため、抵抗値の調整範囲が狭く、目的とする電気的特性のサーミスタを速やかに提供することが困難であった。
【0005】
特開平9−186002号公報に開示されている上記サーミスタ51においても、電気的特性の劣化を防止することができ、高温半田による配線処理に適しているものの、従来より周知のサーミスタと同様に、サーミスタ素体を得た後に、電気的特性を調整することについては、何ら言及されていない。
【0006】
本発明の目的は、半導体セラミックスよりなるサーミスタ素体を得た後に、抵抗値等の電気的特性を大幅にかつ容易に調整することが可能なサーミスタ及びその製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の広い局面によれば、セラミック焼結体よりなり、対向し合う第1,第2の面を有するサーミスタ素体と、第1,第2の面において、サーミスタペーストの焼付けにより形成された第1,第2のサーミスタ層と、第1,第2のサーミスタ層上に形成された第1,第2の外部電極とを備えるサーミスタが提供される。
【0008】
本発明の特定の局面では、前記サーミスタ素体内に形成された複数の内部電極を有し、該複数の内部電極が第1の端面または第2の端面に引き出されている。
【0009】
本発明の他の特定の局面では、前記外部電極が導電ペーストの焼付けにより形成された導電膜により構成されており、かつ外部電極の外表面に積層されたメッキ膜がさらに備えられる。
【0010】
本発明のさらに別の特定の局面では、上記セラミック焼結体は、負の抵抗温度特性を有する半導体セラミックスからなる。
本発明の別の広い局面によれば、セラミック焼結体よりなり、対向し合う第1,第2の面を有するサーミスタ素体を用意する工程と、サーミスタ素体の第1,第2の面上にサーミスタペーストを付与する工程と、前記サーミスタペーストを焼成し、第1,第2のサーミスタ層を形成する工程と、第1,第2のサーミスタ層上に導電ペーストを塗布し、焼き付けることにより第1,第2の外部電極を形成する工程とを備えるサーミスタの製造方法が提供される。
【0011】
本発明に係るサーミスタの製造方法の他の特定の局面では、サーミスタ素体の第1,第2の面にサーミスタペーストを付与するに先立ち、サーミスタ素体をバレル研磨し、サーミスタ素体の第1,第2の面の外周縁に存在する稜線を研磨する工程がさらに備えられる。
【0012】
本発明のサーミスタの製造方法のさらに他の特定の局面では、前記サーミスタ素体として、内部に複数の内部電極が形成されておりかつ複数の内部電極が第1,第2の端面に引き出されているサーミスタ素体が用いられる。
【0013】
本発明に係るサーミスタの製造方法のさらに別の特定の局面によれば、前記外部電極を形成した後に、外部電極表面にメッキ膜を形成する工程がさらに備えられる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施例を挙げることにより、本発明を明らかにする。
【0015】
図1は、本発明の一実施例に係るNTCサーミスタを示す断面図である。NTCサーミスタ1は、直方体状のサーミスタ素体2を有する。サーミスタ素体2は、負の抵抗温度特性を有する半導体セラミックスからなるセラミック焼結体を用いて構成されている。
【0016】
サーミスタ素体2内には、複数の内部電極3〜6がサーミスタ素体層を介して重なり合うように配置されている。内部電極3〜6は、Agペーストなどの導電ペーストの焼付けにより形成されている。
【0017】
内部電極3,5は、サーミスタ素体2の第1の端面2aに引き出されている。内部電極4,6は、第1の端面と対向している第2の端面2bに引き出されている。
【0018】
端面2a,2bを覆うように、それぞれ、第1,第2のサーミスタ層7,8が形成されている。サーミスタ層7,8は、サーミスタペーストの焼付けにより形成されている。すなわち、サーミスタ素体2を得た後に、サーミスタペーストを端面2a,2bを覆うように塗布し、焼き付けることにより、サーミスタ層7,8が形成されている。
【0019】
上記サーミスタペーストとしては、負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック粉末を主体とするものが用いられる。この場合、サーミスタ層7,8を構成する半導体セラミック粉末は、サーミスタ素体2を構成している半導体セラミックスと同じ材料であってもよく、異なる材料であってもよい。
【0020】
サーミスタ層7,8は、端面2a,2bだけでなく、サーミスタ素体2の上面2c、下面2d及び図示されていない一対の側面にも至るように形成されている。サーミスタ層7,8及び後述する外部電極が、サーミスタ素体2の上面2c,2d及び一対の側面に至っている部分を、以下、被り部と称する。
【0021】
サーミスタ層7,8の外表面には、導電ペーストの塗布・焼付により形成された第1,第2の外部電極9,10を有する。外部電極9,10は、サーミスタ層7,8の外表面を覆うように形成されている。従って、外部電極9,10もまた、上記被り部を有するように構成されている。
【0022】
外部電極9,10を構成する導電ペーストについては、Agペーストなどの従来より電極材料として用いられている適宜の導電ペーストを用いることができる。
【0023】
図1から明らかなように、外部電極9,10と、端面2a,2bとの間にサーミスタ層7,8が介在されているので、内部電極3〜6は外部電極9,10に直接電気的に接続されていない。
【0024】
外部電極9,10の外表面には、メッキ膜11a,11b,12a,12bが積層されている。メッキ膜11a,12aは、外部電極9,10の外表面に直接形成されており、例えばNiなどの半田食われが生じ難い金属により構成されている。他方、メッキ膜11a,12a上に形成された第2のメッキ膜11b,12bは、Snや半田などの半田付け性に優れた金属材料により構成されている。
【0025】
NTCサーミスタ1の特徴は、上記サーミスタ層7,8が、外部電極9,10と端面2a,2bとの間に介在されていることにある。
すなわち、本実施例のNTCサーミスタ1では、サーミスタ素体2を得た後に、上記サーミスタ層7,8及び外部電極9,10が形成されるので、サーミスタ層7,8を構成する材料及びサーミスタ層7,8の厚みを調整することにより、抵抗値等の電気的特性を大幅に調整することができる。これを、具体的な実験例に基づき説明する。
【0026】
Mn、Ni、Coなどの酸化物からなる負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック粉末と、有機バインダーと水とを加え、混練することによりセラミックスラリーを得た。このセラミックスラリーを用い、厚み50μmのセラミックグリーンシートを作製し、矩形形状に打ち抜いた。
【0027】
矩形形状のセラミックグリーンシート上に、内部電極を形成するためのAg/Pdペーストを印刷した。しかる後、内部電極形成用Ag/Pdペーストが印刷された複数枚のセラミックグリーンシートを積層し、最上部及び最下部に、無地の矩形の複数枚のセラミックグリーンシートを積層し、厚み方向に加圧して、マザーの積層体を得た。このマザーの積層体を個々のサーミスタ単位の積層体に切断した後、1300℃で焼成し、セラミック焼結体よりなるサーミスタ素体2を得た。
【0028】
このサーミスタ素体2を、バレル研磨した。バレル研磨により、上面2c及び下面2dと端面2a,2bとのなす稜線部分に、図1に矢印Xで示すような丸みが付けられた。また、図1には示されていないが、一対の側面と、端面2a,2bとのなす稜線部分にも同様に丸みが付与された。
【0029】
上記バレル研磨後に、サーミスタ素体2の端面2a,2bに、サーミスタ層7,8を形成した。サーミスタ層7,8の形成に際しては、サーミスタ素体2を端面2a側からサーミスタペースト層に浸漬し、引き上げ、しかる後端面2b側からサーミスタ素体2をサーミスタペースト層に浸漬し、引き上げ、端面2a,2bを覆うようにサーミスタペーストを付与した。
【0030】
しかる後、サーミスタペーストが付与されたサーミスタ素体2を1000〜1300℃の温度で焼成することにより、図2に示す、厚み5〜10μmのサーミスタ層7,8を形成した。
【0031】
次に、図3に示すように、サーミスタ層7,8の外表面に、Ag/Pdペーストを塗布し、焼き付けることにより厚み40μmの外部電極9,10を形成した。さらに、外部電極9,10の外表面に、Ni膜及びSn膜を順次メッキし、メッキ膜11a,11b,12a,12bを形成した。
【0032】
上記のようにして、NTCサーミスタ1を製造したが、上記製造に際し、サーミスタ層7,8の比抵抗ρが、26Ω・cm、880Ω・cm及び4735Ω・cmとなるように、以下の3種類のサーミスタペーストを用い、実施例1〜3のサーミスタを得た。
【0033】
サーミスタペースト1…Mn−Ni−Co−Cu−O
サーミスタペースト2…Mn−Ni−Co−Al−O
サーミスタペースト3…Mn−Ni−Al−O
また、上記サーミスタ層7,8を形成しないことを除いては、上記実施例と同様にして従来例のサーミスタを作製した。
【0034】
上記のようにして得られた従来例及び実施例1〜3の各サーミスタの特性を下記の表1に示す。
【0035】
【表1】

Figure 0004660922
【0036】
表1から明らかなように、サーミスタ層7,8を構成するサーミスタペーストを異ならせることにより、同じサーミスタ素体2を用いた場合でも、最終的に得られた完成品としてのサーミスタ1における抵抗値及びB定数を大幅に変更し得ることがわかる。
【0037】
すなわち、焼成によりサーミスタ素体2を得た後に本実施例によればNTCサーミスタ1の抵抗値やB定数などの電気的特性を大幅に調整することができる。
従って、用途に応じた特性のNTCサーミスタ1を容易にかつ速やかに提供し得ることがわかる。
【0038】
なお、サーミスタ層7,8の厚みについては特に限定されるわけではないが、内部電極3〜6と外部電極9,10との導通を確実なものとするためには、さほど厚くないことが望ましく、10μm以下とすることが望ましい。
【0039】
上記実施例では、外部電極9,10の外表面にメッキ膜11a,11b,12a,12bを形成したが、メッキ膜11a,11b,12a,12bは必ずしも形成されずともよい。
【0040】
また、上記実施例では、内部電極3〜6を有する積層型のNTCサーミスタ1を説明したが、本発明は、内部電極を有しないサーミスタにも適用することができる。また、サーミスタ素体についても、円板状や角板状のサーミスタ素体を用いてもよく、円板状や角板状のサーミスタ素体の両主面にサーミスタ層及び外部電極を形成したものであってもよい。
【0041】
さらに、NTCサーミスタだけでなく、PTCサーミスタにも本発明を適用することができる。
【0042】
【発明の効果】
本発明に係るサーミスタによれば、セラミック焼結体の対向し合う第1,第2の面にサーミスタペーストの焼付けにより第1,第2のサーミスタ層が形成されており、第1,第2のサーミスタ層上に第1,第2の外部電極が形成されている。従って、セラミック焼結体からなるサーミスタ素体を得た後に、様々な特性のサーミスタペーストから目的とする特性に応じたサーミスタペーストを選択して第1,第2のサーミスタ層を形成することにより、同じサーミスタ素体を用いた場合であっても、最終的に得られるサーミスタの抵抗値やB定数などの電気的特性を大幅にかつ容易に調整することができる。よって、必要とされる特性に応じたサーミスタを容易にかつ速やかに提供することができる。
【0043】
ーミスタ素体内に複数の内部電極が形成されており、複数の内部電極が第1の端面または第2の端面に引き出されている構造を有する場合には、積層型のサーミスタを本発明に従って得ることができるので、様々な抵抗値のサーミスタを容易に設計することができる。
【0044】
外部電極が導電ペーストの焼付けにより形成された導電膜により形成されており、かつ外部電極の外表面に積層されたメッキ膜をさらに備える場合には、導電ペーストの焼付けにより形成された外部電極により電気的接続の信頼性が高められ、かつ積層されたメッキ膜の材料を選択することにより半田付け性等を高めることができる。
【0045】
セラミック焼結体が負の抵抗温度特性を有する半導体セラミックスからなる場合には、本発明に従って、抵抗値等の電気的特性を大幅に調整し得るNTC素子を容易に提供することができる。
【0046】
本発明に係るサーミスタの製造方法では、サーミスタ素体を用意した後に、サーミスタ素体の第1,第2の面上にサーミスタペーストを付与し、該サーミスタペーストを焼成することにより、第1,第2のサーミスタ層が形成されるので、サーミスタペーストを選択することにより、最終的に得られるサーミスタの電気的特性を大幅にかつ容易に調整することができる。
【0047】
サーミスタ素体の第1,第2の面にサーミスタペーストを付与するに先立ち、サーミスタ素体をバレル研磨し、サーミスタ素体の第1,第2の面の外周縁の稜線を研磨した場合には、第1,第2のサーミスタ層を稜線部分においても十分な厚みに形成することができる。従って、第1,第2のサーミスタ層による電気的特性の調整を安定に行うことができる。
【0048】
ーミスタ素体内に複数の内部電極が形成されており、複数の内部電極が第1,第2の端面に引き出されている場合には、本発明に従って、電気的特性を大幅にかつ速やかに調整し得る積層型のサーミスタを容易に提供することができる。
【0049】
本発明に係る製造方法において、外部電極形成後に、外部電極表面にメッキ膜を形成する場合には、メッキ膜の材料を選択することにより、半田付け性などを容易に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のサーミスタを示す縦断面図。
【図2】図1に示したサーミスタを得るにあたって、サーミスタ素体の外表面に第1,第2のサーミスタ層を形成した状態を示す縦断面図。
【図3】図2に示したサーミスタ素体の第1,第2のサーミスタ層上に外部電極を形成した状態を示す縦断面図。
【図4】従来のサーミスタの一例を示す縦断面図。
【符号の説明】
1…サーミスタ
2…サーミスタ素体
2a,2b…第1,第2の端面
3〜6…内部電極
7,8…第1,第2のサーミスタ層
9,10…第1,第2の外部電極
11a,11b,12a,12b…メッキ膜[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a thermistor used for, for example, temperature detection or temperature compensation of a circuit component and a manufacturing method thereof, and more particularly to a chip type thermistor that can be surface-mounted on a printed circuit board and the like and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, thermistors have been widely used for temperature detection and temperature compensation of electronic circuits. The thermistor has a structure in which a pair of external electrodes are formed on the outer surface of a thermistor body made of semiconductor ceramics. In manufacturing, after obtaining a ceramic sintered body made of semiconductor ceramics, an external electrode is formed by applying and baking a conductive paste.
[0003]
As the thermistor, those having various structures are conventionally known. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-186002 discloses a thermistor 51 shown in FIG. In the thermistor 51, external electrodes 53 and 54 are formed on both ends of the thermistor body 52. The external electrodes 53 and 54 have element electrodes 53a and 54a serving as bases, and cover electrodes 53b and 54b formed on the element electrodes 53a and 54a, respectively. The element electrodes 53a and 54a are made of an oxide having a low resistance value such as RuO 2, and the cover electrodes 53b and 54b are formed by applying and baking a conductive paste mainly containing Ag or the like. Here, by forming the device electrodes 53a and 54a made of low resistance oxide, even if part of the cover electrodes 53b and 54b disappears due to solder erosion during soldering, the device electrodes 53a and 54a remain. Therefore, it is said that the electrical characteristics of the thermistor 51, for example, a decrease in specific resistance and B constant can be prevented.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
As the thermistor, a thermistor having an electrical characteristic corresponding to its application, that is, a specific resistance or a B constant is used. On the other hand, in the conventional thermistor, it is difficult to easily correct the resistance value and the like. That is, after obtaining a thermistor body made of semiconductor ceramics, the resistance value could be adjusted only by changing the distance between a pair of external electrodes formed on the outer surface. For this reason, the adjustment range of the resistance value is narrow, and it is difficult to quickly provide a thermistor having the desired electrical characteristics.
[0005]
In the thermistor 51 disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-186002, the electrical characteristics can be prevented from being deteriorated, and although suitable for wiring processing with high-temperature solder, There is no mention of adjusting the electrical characteristics after obtaining the thermistor body.
[0006]
An object of the present invention is to provide a thermistor capable of greatly and easily adjusting electrical characteristics such as a resistance value after obtaining a thermistor body made of semiconductor ceramics, and a method for manufacturing the thermistor.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
According to a wide aspect of the present invention, a thermistor body made of a ceramic sintered body and having opposing first and second end faces and formed by baking the thermistor paste on the first and second end faces. A thermistor is provided that includes the first and second thermistor layers formed, and the first and second external electrodes formed on the first and second thermistor layers.
[0008]
In a particular aspect of the present invention, prior SL has a plurality of internal electrodes formed on the thermistor element body, internal electrodes of the plurality of being drawn to the first end face and the second end surface.
[0009]
In another specific aspect of the present invention, the external electrode is made of a conductive film formed by baking a conductive paste, and further includes a plating film laminated on the outer surface of the external electrode.
[0010]
In still another specific aspect of the present invention, the ceramic sintered body is made of a semiconductor ceramic having negative resistance temperature characteristics.
According to another broad aspect of the present invention, a step of preparing a thermistor body made of a ceramic sintered body and having opposing first and second end faces, and first and second of the thermistor body. A step of applying a thermistor paste on the end face; a step of firing the thermistor paste to form first and second thermistor layers; and applying and baking a conductive paste on the first and second thermistor layers. Accordingly, there is provided a thermistor manufacturing method including the steps of forming the first and second external electrodes.
[0011]
In another specific aspect of the thermistor manufacturing method according to the present invention, prior to applying the thermistor paste to the first and second end faces of the thermistor body, the thermistor body is barrel-polished, The process of grind | polishing the ridgeline which exists in the outer periphery of 1 and 2nd end surface is further provided.
[0012]
In still another specific aspect of the method for manufacturing the thermistor of the present invention, as a pre-Symbol thermistor body, a plurality of which the internal electrode is formed and a plurality of internal electrodes inside is drawn to the first, second end face Thermistor element is used.
[0013]
According to still another specific aspect of the thermistor manufacturing method according to the present invention, the method further includes the step of forming a plating film on the surface of the external electrode after the external electrode is formed.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples of the present invention with reference to the drawings.
[0015]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an NTC thermistor according to an embodiment of the present invention. The NTC thermistor 1 has a rectangular parallelepiped thermistor body 2. The thermistor body 2 is configured using a ceramic sintered body made of semiconductor ceramics having negative resistance temperature characteristics.
[0016]
In the thermistor element body 2, a plurality of internal electrodes 3 to 6 are arranged so as to overlap with each other via the thermistor element layer. The internal electrodes 3 to 6 are formed by baking a conductive paste such as an Ag paste.
[0017]
The internal electrodes 3 and 5 are drawn out to the first end face 2 a of the thermistor body 2. The internal electrodes 4 and 6 are drawn out to the second end face 2b facing the first end face.
[0018]
First and second thermistor layers 7 and 8 are formed so as to cover the end faces 2a and 2b, respectively. The thermistor layers 7 and 8 are formed by baking the thermistor paste. That is, after the thermistor body 2 is obtained, the thermistor layers 7 and 8 are formed by applying and baking the thermistor paste so as to cover the end faces 2a and 2b.
[0019]
As the thermistor paste, a paste mainly composed of semiconductor ceramic powder having negative resistance temperature characteristics is used. In this case, the semiconductor ceramic powder constituting the thermistor layers 7 and 8 may be the same material as the semiconductor ceramic constituting the thermistor body 2 or may be a different material.
[0020]
The thermistor layers 7 and 8 are formed to reach not only the end faces 2a and 2b but also the upper surface 2c and the lower surface 2d of the thermistor element body 2 and a pair of side surfaces not shown. The portions where the thermistor layers 7 and 8 and external electrodes to be described later reach the upper surfaces 2c and 2d and the pair of side surfaces of the thermistor body 2 are hereinafter referred to as covered portions.
[0021]
On the outer surfaces of the thermistor layers 7 and 8, there are first and second external electrodes 9 and 10 formed by applying and baking a conductive paste. The external electrodes 9 and 10 are formed so as to cover the outer surfaces of the thermistor layers 7 and 8. Therefore, the external electrodes 9 and 10 are also configured to have the above-described cover portions.
[0022]
As the conductive paste constituting the external electrodes 9 and 10, an appropriate conductive paste conventionally used as an electrode material such as an Ag paste can be used.
[0023]
As is apparent from FIG. 1, the thermistor layers 7 and 8 are interposed between the external electrodes 9 and 10 and the end faces 2a and 2b, so that the internal electrodes 3 to 6 are directly electrically connected to the external electrodes 9 and 10. Not connected to.
[0024]
Plating films 11a, 11b, 12a, and 12b are laminated on the outer surfaces of the external electrodes 9 and 10. The plating films 11a and 12a are directly formed on the outer surfaces of the external electrodes 9 and 10, and are made of a metal such as Ni that hardly erodes solder. On the other hand, the second plating films 11b and 12b formed on the plating films 11a and 12a are made of a metal material having excellent solderability such as Sn and solder.
[0025]
The NTC thermistor 1 is characterized in that the thermistor layers 7 and 8 are interposed between the external electrodes 9 and 10 and the end faces 2a and 2b.
That is, in the NTC thermistor 1 of the present embodiment, the thermistor layers 7 and 8 and the external electrodes 9 and 10 are formed after the thermistor body 2 is obtained. Therefore, the materials and thermistor layers constituting the thermistor layers 7 and 8 are formed. By adjusting the thicknesses 7 and 8, the electrical characteristics such as the resistance value can be significantly adjusted. This will be described based on a specific experimental example.
[0026]
A ceramic slurry was obtained by adding and kneading a semiconductor ceramic powder having negative resistance temperature characteristics made of an oxide such as Mn, Ni, and Co, an organic binder, and water. Using this ceramic slurry, a ceramic green sheet having a thickness of 50 μm was produced and punched into a rectangular shape.
[0027]
An Ag / Pd paste for forming internal electrodes was printed on a rectangular ceramic green sheet. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets on which the internal electrode forming Ag / Pd paste is printed are laminated, and a plurality of plain rectangular ceramic green sheets are laminated on the top and bottom, and applied in the thickness direction. To obtain a mother laminate. The mother laminate was cut into individual thermistor laminates and fired at 1300 ° C. to obtain a thermistor body 2 made of a ceramic sintered body.
[0028]
The thermistor body 2 was barrel-polished. By the barrel polishing, the ridgeline portion formed by the upper surface 2c and the lower surface 2d and the end surfaces 2a and 2b was rounded as indicated by an arrow X in FIG. Further, although not shown in FIG. 1, the ridge line portion formed by the pair of side surfaces and the end surfaces 2a and 2b is similarly rounded.
[0029]
After the barrel polishing, the thermistor layers 7 and 8 were formed on the end faces 2 a and 2 b of the thermistor body 2. When the thermistor layers 7 and 8 are formed, the thermistor body 2 is immersed in the thermistor paste layer from the end face 2a side and pulled up. Thermistor paste was applied so as to cover 2b.
[0030]
Thereafter, the thermistor body 2 provided with the thermistor paste was baked at a temperature of 1000 to 1300 ° C. to form thermistor layers 7 and 8 having a thickness of 5 to 10 μm shown in FIG.
[0031]
Next, as shown in FIG. 3, Ag / Pd paste was applied to the outer surfaces of the thermistor layers 7 and 8 and baked to form external electrodes 9 and 10 having a thickness of 40 μm. Further, Ni films and Sn films were sequentially plated on the outer surfaces of the external electrodes 9 and 10 to form plated films 11a, 11b, 12a, and 12b.
[0032]
As described above, the NTC thermistor 1 was manufactured. At the time of manufacturing, the following three types of thermistor layers 7 and 8 had specific resistances ρ of 26 Ω · cm, 880 Ω · cm, and 4735 Ω · cm. The thermistors of Examples 1 to 3 were obtained using the thermistor paste.
[0033]
Thermistor paste 1 ... Mn-Ni-Co-Cu-O
Thermistor paste 2 ... Mn-Ni-Co-Al-O
Thermistor paste 3 ... Mn-Ni-Al-O
A conventional thermistor was produced in the same manner as in the above example except that the thermistor layers 7 and 8 were not formed.
[0034]
The characteristics of the thermistors of the conventional example and Examples 1 to 3 obtained as described above are shown in Table 1 below.
[0035]
[Table 1]
Figure 0004660922
[0036]
As is clear from Table 1, the thermistor paste constituting the thermistor layers 7 and 8 is made different so that the resistance value in the thermistor 1 as a final product finally obtained even when the same thermistor body 2 is used. And it can be seen that the B constant can be changed significantly.
[0037]
That is, after obtaining the thermistor body 2 by firing, according to the present embodiment, the electrical characteristics such as the resistance value and the B constant of the NTC thermistor 1 can be significantly adjusted.
Therefore, it can be seen that the NTC thermistor 1 having characteristics according to the application can be provided easily and quickly.
[0038]
The thickness of the thermistor layers 7 and 8 is not particularly limited, but it is desirable that the thermistor layers 7 and 8 are not so thick in order to ensure conduction between the internal electrodes 3 to 6 and the external electrodes 9 and 10. It is desirable that the thickness be 10 μm or less.
[0039]
In the above embodiment, the plating films 11a, 11b, 12a, and 12b are formed on the outer surfaces of the external electrodes 9 and 10, but the plating films 11a, 11b, 12a, and 12b are not necessarily formed.
[0040]
Moreover, in the said Example, although the laminated type NTC thermistor 1 which has the internal electrodes 3-6 was demonstrated, this invention is applicable also to the thermistor which does not have an internal electrode. As for the thermistor body, a disc-like or square-plate thermistor element may be used, and a thermistor layer and external electrodes are formed on both main surfaces of the disc-like or square-plate thermistor body. It may be.
[0041]
Furthermore, the present invention can be applied not only to NTC thermistors but also to PTC thermistors.
[0042]
【The invention's effect】
According to the thermistor of the present invention, the first and second thermistor layers are formed by baking the thermistor paste on the opposing first and second end faces of the ceramic sintered body. First and second external electrodes are formed on the thermistor layer. Therefore, after obtaining a thermistor body made of a ceramic sintered body, by selecting a thermistor paste according to the desired characteristics from thermistor pastes of various characteristics, and forming the first and second thermistor layers, Even when the same thermistor body is used, the electrical characteristics such as the resistance value and B constant of the thermistor finally obtained can be adjusted greatly and easily. Therefore, the thermistor according to the required characteristic can be provided easily and promptly.
[0043]
Are formed a plurality of internal electrodes to thermistors element body, if having a structure in which a plurality of internal electrodes are led out to the first end face and the second end face, obtained in accordance with the present invention a laminated thermistor Therefore, thermistors having various resistance values can be easily designed.
[0044]
When the external electrode is formed of a conductive film formed by baking a conductive paste and further includes a plating film laminated on the outer surface of the external electrode, the external electrode formed by baking the conductive paste The reliability of the general connection can be improved, and the solderability and the like can be improved by selecting the material of the laminated plating film.
[0045]
When the ceramic sintered body is made of a semiconductor ceramic having negative resistance temperature characteristics, an NTC element capable of greatly adjusting electrical characteristics such as resistance can be easily provided according to the present invention.
[0046]
In the method for producing the thermistor according to the present invention, after the thermistor body is prepared, the thermistor paste is applied to the first and second end faces of the thermistor body, and the thermistor paste is fired to obtain the first, Since the second thermistor layer is formed, the electrical characteristics of the thermistor finally obtained can be greatly and easily adjusted by selecting the thermistor paste.
[0047]
Prior to applying the thermistor paste to the first and second end faces of the thermistor body, the thermistor body is barrel-polished, and the outer peripheral edge lines of the first and second end faces of the thermistor body are polished. In this case, the first and second thermistor layers can be formed to a sufficient thickness even in the ridge line portion. Therefore, the electrical characteristics can be stably adjusted by the first and second thermistor layers.
[0048]
Are formed a plurality of internal electrodes in the body thermistors containing a plurality of internal electrodes first, when being drawn on the second end face, in accordance with the present invention, significantly and quickly adjust the electrical characteristics Therefore, it is possible to easily provide a stacked thermistor.
[0049]
In the manufacturing method according to the present invention, when a plating film is formed on the surface of the external electrode after forming the external electrode, the solderability and the like can be easily improved by selecting the material of the plating film.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a thermistor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a state in which first and second thermistor layers are formed on the outer surface of a thermistor body when the thermistor shown in FIG. 1 is obtained.
3 is a longitudinal sectional view showing a state in which external electrodes are formed on the first and second thermistor layers of the thermistor body shown in FIG.
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing an example of a conventional thermistor.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thermistor 2 ... Thermistor body 2a, 2b ... 1st, 2nd end surface 3-6 ... Internal electrode 7, 8 ... 1st, 2nd thermistor layer 9, 10 ... 1st, 2nd external electrode 11a , 11b, 12a, 12b ... plating film

Claims (8)

セラミック焼結体よりなり、対向し合う第1,第2の面を有するサーミスタ素体と、
第1,第2の面において、サーミスタペーストの焼付けにより形成された第1,第2のサーミスタ層と、
前記第1,第2のサーミスタ層上に形成された第1,第2の外部電極とを備えることを特徴とする、サーミスタ。
A thermistor body made of a ceramic sintered body and having first and second end faces facing each other;
First and second thermistor layers formed by baking the thermistor paste on the first and second end faces;
A thermistor comprising first and second external electrodes formed on the first and second thermistor layers.
記サーミスタ素体内に形成された複数の内部電極を有し、該複数の内部電極が第1の端面または第2の端面に引き出されている、請求項1に記載のサーミスタ。 Before SL has a plurality of internal electrodes formed on the thermistor element body, internal electrodes of the plurality of being drawn to the first end face and the second end surface, a thermistor of claim 1. 前記外部電極が導電ペーストの焼付けにより形成された導電膜により構成されており、かつ外部電極の外表面に積層されたメッキ膜をさらに備える、請求項1または2に記載のサーミスタ。  3. The thermistor according to claim 1, wherein the external electrode is formed of a conductive film formed by baking a conductive paste, and further includes a plating film laminated on an outer surface of the external electrode. 前記セラミック焼結体が、負の抵抗温度特性を有する半導体セラミックスからなる、請求項1〜3のいずれかに記載のサーミスタ。  The thermistor in any one of Claims 1-3 in which the said ceramic sintered compact consists of semiconductor ceramics which have a negative resistance temperature characteristic. セラミック焼結体よりなり、対向し合う第1,第2の面を有するサーミスタ素体を用意する工程と、
前記サーミスタ素体の第1,第2の面上にサーミスタペーストを付与する工程と、
前記サーミスタペーストを焼成し、第1,第2のサーミスタ層を形成する工程と、
前記第1,第2のサーミスタ層上に導電ペーストを塗布し、焼き付けることにより第1,第2の外部電極を形成する工程とを備えることを特徴とするサーミスタの製造方法。
A step of preparing a thermistor body made of a ceramic sintered body and having opposing first and second end faces;
Applying a thermistor paste on the first and second end faces of the thermistor body;
Firing the thermistor paste to form first and second thermistor layers;
Forming a first external electrode by applying a conductive paste on the first and second thermistor layers and baking the conductive paste, and a method for manufacturing the thermistor.
前記サーミスタ素体の第1,第2の面にサーミスタペーストを付与するに先立ち、サーミスタ素体をバレル研磨し、サーミスタ素体の第1,第2の面の外周縁の稜線を研磨する工程をさらに備える、請求項5に記載のサーミスタの製造方法。Prior to applying the thermistor paste to the first and second end faces of the thermistor element body, the thermistor element body is barrel-polished, and the ridge lines of the outer peripheral edges of the first and second end faces of the thermistor element body are polished. The thermistor manufacturing method according to claim 5, further comprising a step. 記サーミスタ素体として、内部に複数の内部電極が形成されておりかつ複数の内部電極が第1,第2の端面に引き出されているサーミスタ素体を用いる、請求項5または6に記載のサーミスタの製造方法。As before Symbol thermistor body, using a thermistor element in which a plurality of which internal electrodes are formed and a plurality of internal electrodes inside is drawn to the first and second end surfaces, according to claim 5 or 6 Thermistor manufacturing method. 前記外部電極を形成した後に、外部電極表面にメッキ膜を形成する工程をさらに備える、請求項5〜7のいずれかに記載のサーミスタの製造方法。  The method of manufacturing a thermistor according to claim 5, further comprising a step of forming a plating film on a surface of the external electrode after forming the external electrode.
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