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JP4689564B2 - Fuel injection valve manufacturing apparatus and manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、内燃機関における燃料噴射弁の製造装置および製造方法に関し、特に、直噴エンジンに好適な燃料噴射弁の製造装置および製造方法に関するものである。   The present invention relates to a fuel injection valve manufacturing apparatus and manufacturing method in an internal combustion engine, and more particularly to a fuel injection valve manufacturing apparatus and manufacturing method suitable for a direct injection engine.

従来から直噴エンジンの燃料噴射弁においては、燃料の不完全燃焼時に「デポジット」と称する生成物が、燃焼室に露出している弁先端部に付着し、ノズル細孔の目詰まり等の不具合を生じ易い。このため、燃焼室で生じる生成物の、燃料噴射弁の先端部への付着を最小限に抑える燃料噴射弁の製造方法が提案されている(特許文献1参照)。   Conventionally, in fuel injection valves of direct injection engines, a product called “deposit” adheres to the tip of the valve exposed in the combustion chamber during incomplete combustion of the fuel, causing problems such as clogging of the nozzle pores. It is easy to produce. For this reason, a method for manufacturing a fuel injection valve that minimizes the adhesion of products generated in the combustion chamber to the tip of the fuel injection valve has been proposed (see Patent Document 1).

これは、燃料噴射弁の先端のオリフィス内側壁へのデポドット付着防止のための被膜を施工するに際して、先ず弁座への被膜付着を避けるためのマスキング治具を設置し、被膜施工後に前記マスキング治具を外し、次いで弁座を再研磨し、別に形成したニードルと組合わせて燃料噴射弁を組立てる方法が記載されている。
特表2002−543330号公報
This is because when a coating for preventing deposition of deposits on the inner wall of the orifice at the tip of the fuel injection valve is applied, a masking jig is first installed to prevent the coating from adhering to the valve seat. A method is described for removing the tool, then re-grinding the valve seat and assembling the fuel injection valve in combination with a separately formed needle.
JP 2002-543330 A

しかしながら、上記従来例では、被膜実施後にマスキング治具を取除き、弁座の密封度向上のために再研磨作業を実施しており、マスキング治具を取除く作業および精密再研磨作業が必要であり作業効率を低下させると共に、弁座再研磨の際に折角オリフィス内の側壁に施した被膜が再研磨の削り屑で傷つく虞があった。   However, in the above conventional example, the masking jig is removed after coating, and the regrinding work is performed to improve the sealing of the valve seat, and the work of removing the masking jig and the precision regrinding work are required. In addition, the working efficiency is lowered, and there is a possibility that the coating applied to the side wall in the corner orifice at the time of re-polishing the valve seat may be damaged by the re-polished shavings.

そこで本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、必要な箇所のみ効率的に被膜を実施できる燃料噴射弁の製造装置および製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a fuel injection valve manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of efficiently performing a coating only at a necessary portion.

本発明は、被膜処理装置により弁装置の燃焼室に露出するノズルプレートの表面、ニードル先端表面および噴射孔内面にデポジット付着防止の被膜を形成する内燃機関用の燃料噴射弁の製造装置および製造方法であり、前記被膜処理装置のカソード電極上に配置可能であり、被膜処理装置のアノード電極に対面する表面に開口する複数の保持穴を整列させて備え、内部に弁装置の少なくともノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を収容可能であり、前記燃料噴射弁の弁装置の燃焼室へ露出するノズルプレートの表面を、前記複数の保持穴の開口面から被膜処理装置のアノード電極に夫々対面するよう夫々露出させて、複数の弁装置のノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を位置決め可能な保持装置を備えるようにした。   The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a fuel injection valve for an internal combustion engine, in which a film for preventing deposit adhesion is formed on the surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device, the tip surface of the needle, and the inner surface of the injection hole. A plurality of holding holes which are arranged on the cathode electrode of the coating apparatus and open to the surface facing the anode electrode of the coating apparatus, and at least the nozzle plate or nozzle of the valve apparatus inside. Parts that can be integrated with the plate can be accommodated, and the surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device of the fuel injection valve is respectively connected to the anode electrode of the film processing apparatus from the opening surface of the plurality of holding holes. Retained so that they face each other and can position the nozzle plate of multiple valve devices or parts integrated with the nozzle plate It was to prepare for a location.

したがって、本発明では、被膜処理装置のカソード電極上に配置可能であり、被膜処理装置のアノード電極に対面する表面に開口する複数の保持穴を整列させて備え、内部に弁装置の少なくともノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を収容可能であり、前記燃料噴射弁の弁装置の燃焼室へ露出するノズルプレートの表面を、前記複数の保持穴の開口面から被膜処理装置のアノード電極に夫々対面するよう夫々露出させて、複数の弁装置のノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を位置決め可能な保持装置を用いることにより、被膜処理装置内で大量のワークが被膜を必要とするノズルプレート表面、ニードル先端表面および噴射孔内面をアノード電極に対面させて保持されるので、被膜を必要とするノズルプレート表面、ニードル先端表面および噴射孔内面に一括して被膜でき、コスト低減が図れる。同時に、大量のワークが凹凸なく安定して保持されるので、得られる被膜の膜厚を一定に保つことができ、被膜品質を向上できる。   Therefore, according to the present invention, a plurality of holding holes that can be arranged on the cathode electrode of the film processing apparatus and open on the surface facing the anode electrode of the film processing apparatus are aligned, and at least the nozzle plate of the valve apparatus is provided inside. Alternatively, a part integrated with the nozzle plate can be accommodated, and the surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device of the fuel injection valve is moved from the opening surface of the plurality of holding holes to the anode electrode of the film processing apparatus. A large number of workpieces need coating in the coating processing equipment by using a holding device that can position the nozzle plate of multiple valve devices or parts integrated with the nozzle plate so that they are exposed to face each other. Since the nozzle plate surface, needle tip surface and injection hole inner surface are held facing the anode electrode, a coating is required. That the nozzle plate surface, collectively the needle tip surface and the injection hole inner surface can coating, cost reduction can be achieved. At the same time, since a large amount of work is stably held without unevenness, the film thickness of the obtained film can be kept constant, and the film quality can be improved.

以下、本発明の燃料噴射弁の製造装置および製造方法の一実施形態を図1〜図24に基づいて説明する。図1〜4は本発明の製造装置および製造方法を適用しようとする燃料噴射弁の構造を説明するための断面図、図5〜図6は本実施形態の燃料噴射弁の製造装置である被膜処理装置の概略説明図、図7〜図20は本実施形態の燃料噴射弁の製造装置である保持装置を説明するための説明図および工程図、図21は被膜処理装置による被膜工程を示す工程図、図22〜図24は保持装置の第2、3実施例を示す断面図である。   Hereinafter, an embodiment of a fuel injection valve manufacturing apparatus and method according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4 are sectional views for explaining the structure of a fuel injection valve to which the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present invention are applied, and FIGS. 5 to 6 are coating films that are the fuel injection valve manufacturing apparatus of the present embodiment. FIG. 7 to FIG. 20 are explanatory diagrams and process diagrams for explaining a holding device which is a manufacturing apparatus for a fuel injection valve according to this embodiment, and FIG. 21 is a process showing a coating process by a coating processing apparatus. 22 and 24 are cross-sectional views showing second and third embodiments of the holding device.

先ず、燃料噴射弁1の構造について、図1〜図4に基づいて説明する。この燃料噴射弁1は、主にエンジンの燃焼室内に燃料を噴射する燃料供給方式のエンジンに利用されるものであり、図1に示すように、ハウジング2と、ハウジング2の先端側に設けられる弁装置3と、弁装置3を駆動するソレノイド装置4とを備えている。この燃料噴射弁1は、図示しないが、燃料を噴射する先端部が内燃機関の燃焼室に開口させて設けた噴射弁挿入孔に挿入した状態でシリンダヘッドに固定される。そして、図示しない燃料供給管から内部に高圧の燃料が供給される。   First, the structure of the fuel injection valve 1 will be described with reference to FIGS. The fuel injection valve 1 is mainly used in a fuel supply type engine that injects fuel into a combustion chamber of an engine, and is provided on a housing 2 and a front end side of the housing 2 as shown in FIG. A valve device 3 and a solenoid device 4 for driving the valve device 3 are provided. Although not shown, the fuel injection valve 1 is fixed to the cylinder head in a state in which a tip portion for injecting fuel is inserted into an injection valve insertion hole provided in the combustion chamber of the internal combustion engine. Then, high-pressure fuel is supplied to the inside from a fuel supply pipe (not shown).

前記弁装置3は、図2に示すように、ハウジング2の先端側に固定される筒状のノズルハウジング5を備え、このノズルハウジング5の先端側に固定されたノズルプレート6と、このノズルプレート6に着座する弁体7と、弁体7を先端に備え、後述するソレノイド装置4のアーマチュア10に基部8Aを連結するプランジャロッド8とを備える。前記弁体7とプランジャロッド8とは一体となっており、ニードル13と総称する場合がある。前記筒状のノズルハウジング5は、先端側の小径部5Aと後端側の大径部5Bとにより構成され、小径部5Aの先端にノズルプレート6を備え、大径部5Bの内周に設けたスペーサ5Cによりプランジャロッド8を摺動自在に保持している。   As shown in FIG. 2, the valve device 3 includes a cylindrical nozzle housing 5 fixed to the distal end side of the housing 2, a nozzle plate 6 fixed to the distal end side of the nozzle housing 5, and the nozzle plate 6 is provided with a valve body 7 that is seated on 6 and a plunger rod 8 that is provided with a valve body 7 at its tip and that connects a base portion 8A to an armature 10 of a solenoid device 4 to be described later. The valve body 7 and the plunger rod 8 are integrated, and may be collectively referred to as a needle 13. The cylindrical nozzle housing 5 includes a small-diameter portion 5A on the front end side and a large-diameter portion 5B on the rear end side, and includes a nozzle plate 6 at the tip of the small-diameter portion 5A and is provided on the inner periphery of the large-diameter portion 5B. The plunger rod 8 is slidably held by the spacer 5C.

前記ノズルプレート6は、外周面が密にノズルハウジング5の小径部5Aに嵌合された状態で小径部5A内面に固定され、内周側には、先端側から小径の噴射孔(ノズル)6Aと、この噴射孔6Aに連ねて徐々に内径が拡大されて弁体7が着座するテーパ状の弁座6Bとを備える。前記ノズルプレート6の背面には、ノズルハウジング5の小径部5Aの内周面に外周を固定した環状の過流発生器9が配置され、この過流発生器9により燃料噴射時における噴霧にスプレーパターンを付与する。前記弁体7は、図3に示すように、プランジャロッド8の先端において、テーパ状に尖らせて形成され、前記ノズルプレート6の弁座6Bに着座可能に構成されている。なお、前記弁体7は、図4に示すように、プランジャロッド8の先端において、概略球形体として、前記ノズルプレート6の弁座6Bに着座可能に構成される場合もある。   The nozzle plate 6 is fixed to the inner surface of the small diameter portion 5A in a state where the outer peripheral surface is closely fitted to the small diameter portion 5A of the nozzle housing 5, and the inner peripheral side has a small diameter injection hole (nozzle) 6A from the tip side. And a tapered valve seat 6B on which the valve body 7 is seated so that the inner diameter is gradually enlarged in continuation with the injection hole 6A. On the back surface of the nozzle plate 6, an annular overflow generator 9 having an outer periphery fixed to the inner peripheral surface of the small diameter portion 5A of the nozzle housing 5 is disposed. The overflow generator 9 sprays the spray during fuel injection. Give a pattern. As shown in FIG. 3, the valve body 7 is formed in a tapered shape at the tip of the plunger rod 8, and is configured to be seated on the valve seat 6 </ b> B of the nozzle plate 6. As shown in FIG. 4, the valve body 7 may be configured to be seated on the valve seat 6 </ b> B of the nozzle plate 6 as a substantially spherical body at the distal end of the plunger rod 8.

前記ソレノイド装置4は、図1に示すように、前記弁装置3のプランジャロッド8基部8Aに連結され、前記ハウジング2内を摺動移動可能に挿入されたアーマチュア10と、前記ハウジング2内に固定された中空のコア11と、前記コア11外周に嵌合され且つハウジング2内に挿入されたコイル12と、を備える。前記ハウジング2は、前記コイル12を取囲み、アーマチュア10およびコア11外周に接触することにより、これらにより磁気回路を構成する。   As shown in FIG. 1, the solenoid device 4 is connected to a plunger rod 8 base 8 </ b> A of the valve device 3, and is fixed in the housing 2 and an armature 10 that is slidably inserted in the housing 2. A hollow core 11 and a coil 12 fitted to the outer periphery of the core 11 and inserted into the housing 2. The housing 2 surrounds the coil 12 and makes contact with the outer periphery of the armature 10 and the core 11, thereby constituting a magnetic circuit.

前記アーマチュア10は、図示しないスプリングにより弁装置3に向かって付勢され、プランジャロッド8を介して弁体7をノズルプレート6の弁座6Bに着座させる。また、コイル12に駆動電流が供給された際には、前記磁気回路が形成されて、アーマチュア10は図示しないスプリングに抗してコア11側に駆動されてコア11に接触されることにより、弁装置3の弁体7をノズルプレート6の弁座6Bから離間させて弁装置3を開放するよう機能する。   The armature 10 is urged toward the valve device 3 by a spring (not shown), and the valve body 7 is seated on the valve seat 6 </ b> B of the nozzle plate 6 via the plunger rod 8. Further, when a drive current is supplied to the coil 12, the magnetic circuit is formed, and the armature 10 is driven to the core 11 side against a spring (not shown) and brought into contact with the core 11, thereby The valve body 7 of the device 3 is separated from the valve seat 6B of the nozzle plate 6 and functions to open the valve device 3.

以上の構成の燃料噴射弁1の弁装置3のノズルプレート6の燃焼室側端面6C、および燃料噴射孔6A(オリフィス)内面と、弁体7の先端表面には、燃料の不完全燃焼時に「デポジット」と称する生成物が付着するため、これらの面には、図3に示すように、デポジット付着防止のための被膜15を施工している。この被膜15は、炭素被膜より構成される。更に、この炭素薄膜15は、フッ素(F)を含み膜厚を10μm以下とする。このように、燃料接触部位に炭素薄膜15を備えることで、カーボン分(劣化したガソリンやエンジンオイルなどの燃焼時に生成される煤など)や、これらにしみ込んだ燃料等がデポジットとして付着するのが抑制されるため、良い燃料噴霧特性の長期継続が可能となる。また、炭素被膜15がフッ素を含有することにより、デポジットの積層がより抑制される。   The combustion chamber side end surface 6C of the nozzle plate 6 and the inner surface of the fuel injection hole 6A (orifice) of the valve device 3 of the fuel injection valve 1 having the above-described configuration and the tip surface of the valve body 7 have a " Since a product called “deposit” adheres, a coating 15 for preventing deposit adhesion is applied to these surfaces as shown in FIG. The coating 15 is composed of a carbon coating. Further, the carbon thin film 15 contains fluorine (F) and has a thickness of 10 μm or less. In this way, by providing the carbon thin film 15 at the fuel contact portion, carbon (such as soot generated during combustion of deteriorated gasoline or engine oil), fuel soaked in these, etc., adhere as deposits. Therefore, good fuel spray characteristics can be maintained for a long time. Moreover, when the carbon film 15 contains fluorine, stacking of deposits is further suppressed.

前記被膜15は、ノズルプレート6に炭素被膜を気相成膜法により被覆して形成する。これより、均一で薄い被膜を形成でき、また、めっき法のように細孔やシール面の腐食が懸念されることはない。しかも、噴射孔6A内部への回り込み付着が液相法と比較して少ないため、液相成膜では必要とされる弁座6Bへのマスキングが不要となる。前記気相成膜法としては、例えば、プラズマCVD法を採用することが好適である。このときは炭素被膜中に多くのフッ素原子を取り込むことができる。また、より低温条件で成膜できる。また、前記プラズマCVD法を採用するときは、炭素被膜用ガスとして炭化水素ガス及びフッ素系ガスを用いることが好適である。   The coating 15 is formed by coating the nozzle plate 6 with a carbon coating by a vapor deposition method. As a result, a uniform and thin film can be formed, and there is no concern about corrosion of the pores and the sealing surface unlike the plating method. In addition, since the sneak adhesion to the inside of the injection hole 6A is less than that in the liquid phase method, the masking on the valve seat 6B, which is required in the liquid phase film formation, is unnecessary. As the vapor deposition method, for example, a plasma CVD method is preferably employed. At this time, many fluorine atoms can be taken into the carbon coating. Further, the film can be formed under a lower temperature condition. When the plasma CVD method is employed, it is preferable to use a hydrocarbon gas and a fluorine-based gas as the carbon coating gas.

前記炭化水素ガスとしては、メタン(CH4)、エタン(C26)、プロパン(C38)、ブタン(C410)、アセチレン(C22)、ベンゼン(C66)、シクロヘキサン(C612)等を使用することができる。また、前記フッ素系ガスとしては、フッ素(F2)、3フッ化窒素(NF3)、6フッ化硫黄(SF6)、4フッ化炭素(CF4)、6フッ化2炭素(C26)、8フッ化4炭素(C48)、4フッ化ケイ素(SiF4)、6フッ化ケイ素(Si26)、3フッ化塩素(ClF3)、フッ化水素(HF)等を使用することができる。 Examples of the hydrocarbon gas include methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), propane (C 3 H 8 ), butane (C 4 H 10 ), acetylene (C 2 H 2 ), and benzene (C 6 H 6 ), cyclohexane (C 6 H 12 ) and the like can be used. The fluorine-based gas includes fluorine (F 2 ), nitrogen trifluoride (NF 3 ), sulfur hexafluoride (SF 6 ), carbon tetrafluoride (CF 4 ), carbon difluoride (C 2). F 6), 8 fluoride 4 carbon (C 4 F 8), 4 silicon fluoride (SiF 4), 6 silicon fluoride (Si 2 F 6), 3 chlorine fluoride (ClF 3), hydrogen fluoride (HF ) Etc. can be used.

図5は、プラズマCVD法による被膜処理を施す被膜処理装置を示す。真空排気チャンバー20には、真空に排気するための排気ポンプ21とガスを供給するボンベ28が接続されている。排気ポンプ21とチャンバー20間には、圧力調整弁22が設置され、チャンバー20内が所定圧力に調整可能とされている。ボンベ28とチャンバー20間には、MFC(流量調節器)27が設置され、所定のガス流量がコントロールされる。チャンバー20内には、接地電極23と高周波電極25が設置され、弁装置3は、高周波電極25上に、後述するように、専用の保持装置16に保持されて多数が配列・設置される。そして、高周波電極25には、高周波電源30からマッチングボックス29を介して高周波電力が供給される。このことにより、設置電極23と高周波電極25間にプラズマが生成される。高周波電極25は、温度上昇を抑えるため、水冷することが望ましい。   FIG. 5 shows a film processing apparatus for performing a film processing by a plasma CVD method. An exhaust pump 21 for exhausting to a vacuum and a cylinder 28 for supplying gas are connected to the vacuum exhaust chamber 20. A pressure adjustment valve 22 is installed between the exhaust pump 21 and the chamber 20 so that the inside of the chamber 20 can be adjusted to a predetermined pressure. An MFC (flow rate regulator) 27 is installed between the cylinder 28 and the chamber 20 to control a predetermined gas flow rate. A ground electrode 23 and a high-frequency electrode 25 are installed in the chamber 20, and a large number of valve devices 3 are arranged and installed on the high-frequency electrode 25 while being held by a dedicated holding device 16 as will be described later. The high frequency electrode 25 is supplied with high frequency power from a high frequency power supply 30 via a matching box 29. As a result, plasma is generated between the installation electrode 23 and the high-frequency electrode 25. The high-frequency electrode 25 is desirably water-cooled in order to suppress a temperature rise.

図6は、プラズマCVD装置(被膜処理装置)内への弁装置3の配置レイアウトの概略を示し、ノズルプレート6の燃焼室への露出面6Cがアノード電極23に対面するようノズルプレート6付きのノズルハウジング5を倒立させた状態で配置する。ノズルハウジング5内には、弁体7をノズルプレート6の弁座6Bに着座させた状態でプランジャロッド8を同じく倒立させて配置してもよい。   FIG. 6 shows an outline of the layout of the valve device 3 in the plasma CVD apparatus (film processing apparatus), and the nozzle plate 6 is attached so that the exposed surface 6C of the nozzle plate 6 to the combustion chamber faces the anode electrode 23. The nozzle housing 5 is disposed in an inverted state. In the nozzle housing 5, the plunger rod 8 may be similarly inverted and placed with the valve body 7 seated on the valve seat 6 </ b> B of the nozzle plate 6.

図7は、カソード電極25に載置した状態の弁装置3の保持装置16(第1実施例)の斜視図を示している。カソード電極25は、被膜処理装置であるプラズマCVD装置のアノード電極23に対応して装置内の下方に配置され、図示例のような、円板状に形成され、図示しないが水冷等の冷却手段が設置されている。弁装置3の保持装置16は、先ず、前記カソード電極25上に位置決めしてワーク(弁装置3)の下部からカソード電極25側に熱が逃げないよう断熱層17を配置し、断熱層17の上に、ニードル保持具18を積層し、ニードル保持具18に複数のニードル13を配列して保持させ、保持されたニードル13に夫々被せてノズルプレート6付きのバルブハウジング5をその弁座6Bを前記弁体7に着座させて配置し、これらのバルブハウジング5を位置決めするようニードル保持具18の上方にハウジング保持具19を積層して構成している。   FIG. 7 shows a perspective view of the holding device 16 (first embodiment) of the valve device 3 placed on the cathode electrode 25. The cathode electrode 25 is disposed below the apparatus corresponding to the anode electrode 23 of the plasma CVD apparatus which is a film processing apparatus, and is formed in a disk shape as in the illustrated example. Although not illustrated, cooling means such as water cooling is provided. Is installed. First, the holding device 16 of the valve device 3 is positioned on the cathode electrode 25 and the heat insulating layer 17 is disposed so that heat does not escape from the lower part of the workpiece (valve device 3) to the cathode electrode 25 side. A needle holder 18 is stacked thereon, and a plurality of needles 13 are arranged and held on the needle holder 18, and the valve housing 5 with the nozzle plate 6 is put on the valve seat 6 </ b> B over the held needles 13. A housing holder 19 is laminated above the needle holder 18 so as to be seated on the valve body 7 and to position the valve housing 5.

前記保持装置16の断熱層17、ニードル保持具18およびハウジング保持具19の構成および設置手順を、弁装置3の設置手順も含めて、図8〜図19に基づいて、以下に説明する。なお、説明の便宜上、カソード電極25上に順に組立てるよう説明しているが、前記カソード電極25は、プラズマCVD装置の中に設置されているものであり、断熱層17、ニードル保持具18およびハウジング保持具19を組合せて構成する保持装置16にワーク3を保持させた後に、これらがプラズマCVD装置の中に設置されているカソード電極25上に設置されるものである。   The configuration and installation procedure of the heat insulating layer 17, the needle holder 18 and the housing holder 19 of the holding device 16 including the installation procedure of the valve device 3 will be described below with reference to FIGS. For convenience of explanation, the cathode electrode 25 is described as being assembled in order. However, the cathode electrode 25 is installed in a plasma CVD apparatus, and includes a heat insulating layer 17, a needle holder 18, and a housing. After the workpiece 3 is held by the holding device 16 configured by combining the holding tools 19, these are installed on the cathode electrode 25 installed in the plasma CVD apparatus.

前記断熱層17は、図8に示すように、円筒形の枠体17Aと、この枠体17Aの上側の蓋体17Bとを一体に固定して備え、内部空間には断熱材からなる樹脂スペーサ17Cを充填して備える。枠体17Aの下端面には、円周方向等間隔に配置した位置決め突起17Dを備え、この位置決め突起17Dをカソード電極25に設けた位置決め孔25Aに係合させることにより、カソード電極25の中央に位置するように配置される。また、蓋体17Bの外周側上面にも、円周方向等間隔に配置した位置決めピン33を嵌合させる位置決め穴17Eを備えている。   As shown in FIG. 8, the heat insulating layer 17 includes a cylindrical frame body 17A and a lid body 17B on the upper side of the frame body 17A, which are integrally fixed, and a resin spacer made of a heat insulating material in the internal space. Fill with 17C. The lower end surface of the frame 17A is provided with positioning protrusions 17D arranged at equal intervals in the circumferential direction. By engaging the positioning protrusions 17D with positioning holes 25A provided in the cathode electrode 25, the positioning protrusions 17D are formed at the center of the cathode electrode 25. It is arranged to be located. In addition, positioning holes 17E for fitting positioning pins 33 arranged at equal intervals in the circumferential direction are also provided on the outer peripheral side upper surface of the lid body 17B.

前記断熱層17の蓋体17Bに設けた位置決め穴17Eには、図9に示すように、位置決めピン33を係合させる。前記位置決めピン33は、円柱状をなし、上端にはテーパ部を形成して、ニードル保持具18およびハウジング保持具19の位置決め穴と係合させての位置決め作業を容易にしている。   As shown in FIG. 9, a positioning pin 33 is engaged with the positioning hole 17E provided in the lid 17B of the heat insulating layer 17. The positioning pin 33 has a cylindrical shape, and a tapered portion is formed at the upper end to facilitate positioning work by engaging with the positioning holes of the needle holder 18 and the housing holder 19.

次いで、前記断熱層17の上に、前記位置決めピン33に位置決め穴34を係合させて、ニードル保持具18が積層される。前記ニードル保持具18は、図10に示すように、ニードル13のプランジャロッド8のアーマチュア10への連結用の基部8Aを周囲に微小な隙間(例えば、0.2〜0.5mm)をもって収容可能な寸法の内径を備えた窪み35を千鳥配置させて多数配列して備える。図示例では、253個の窪み35を形成している。最外周に形成した4個の貫通孔は、位置決めピン33への位置決め穴34である。   Next, the needle holder 18 is laminated on the heat insulating layer 17 by engaging the positioning hole 34 with the positioning pin 33. As shown in FIG. 10, the needle holder 18 can accommodate a base portion 8A for connecting the plunger rod 8 of the needle 13 to the armature 10 with a small clearance (for example, 0.2 to 0.5 mm) around the periphery. A large number of recesses 35 having an inner diameter of various dimensions are arranged in a staggered manner. In the illustrated example, 253 recesses 35 are formed. The four through holes formed in the outermost periphery are positioning holes 34 to the positioning pins 33.

次いで、図11および図12に示すように、ニードル保持具18の各窪み35に、ニードル13のプランジャロッド8の基部8Aを夫々挿入し、弁体7を上方にして位置決めする。そして、図13および図14に示すように、立設された各ニードル13にノズルプレート6付きのバルブハウジング5を被せて配置する。各ニードル13の弁体7にノズルプレート6の弁座6Bを当接して着座状態とすることにより、バルブハウジング5の大径側5B端部はニードル保持具18の各窪み35の縁から僅か(例えば、0.2〜0.5mm)に浮かせて載置されることとなる。   Next, as shown in FIGS. 11 and 12, the base portion 8 </ b> A of the plunger rod 8 of the needle 13 is inserted into each recess 35 of the needle holder 18 and positioned with the valve body 7 facing upward. Then, as shown in FIGS. 13 and 14, the valve housing 5 with the nozzle plate 6 is placed on each of the standing needles 13. By bringing the valve seat 6B of the nozzle plate 6 into contact with the valve body 7 of each needle 13 to be in a seated state, the end of the large diameter side 5B of the valve housing 5 is slightly (from the edge of each recess 35 of the needle holder 18 ( For example, it floats and is mounted in 0.2-0.5 mm.

図15および図16は、ハウジング保持具19の断面図および底面図を示す。前記ハウジング保持具19は、最外周に4個の貫通孔で形成した位置決め穴36を備え、バルブハウジング5の大径部5Bおよび小径部5Aと微小な隙間(例えば、0.2〜0.5mm)をもって嵌合する段付き貫通孔37を、前記ニードル保持具18の窪み35と同じ位置・配列により備える。段付貫通孔37の大径側穴37Bの深さは、バルブハウジング5の大径部5Bの軸方向寸法より僅かに大きい寸法(例えば、0.3〜0.5mm程度)に形成し、同じく小径側孔37Aの軸方向寸法は、バルブハウジング5の小径部5Aの軸方向寸法より若干(例えば、0.3〜0.5mm程度)短く形成している。   15 and 16 show a cross-sectional view and a bottom view of the housing holder 19. The housing holder 19 includes a positioning hole 36 formed with four through holes on the outermost periphery, and a small gap (for example, 0.2 to 0.5 mm) between the large diameter portion 5B and the small diameter portion 5A of the valve housing 5. ) And the stepped through-hole 37 to be fitted in the same position and arrangement as the recess 35 of the needle holder 18. The depth of the large-diameter side hole 37B of the stepped through hole 37 is formed to be slightly larger than the axial dimension of the large-diameter portion 5B of the valve housing 5 (for example, about 0.3 to 0.5 mm). The axial dimension of the small diameter side hole 37 </ b> A is slightly shorter (for example, about 0.3 to 0.5 mm) than the axial dimension of the small diameter part 5 </ b> A of the valve housing 5.

次いで、図17および図18に示すように、各プランジャロッド8毎にノズルプレート6付きのバルブハウジング5を倒立させて組合せたニードル保持具18の上に、ハウジング保持具19を、段付貫通孔37の大径穴37Bを下に且つ小径穴37Aを上にして、位置決めピン33と位置決め穴36とを係合させて、積層する。バルブハウジング5の大径部5Bは、ニードル保持具18の上面から僅かに浮いている一方、ハウジング保持具19の段付貫通孔37の大径穴37Bの底部である段付部分に接触して軸方向に拘束されて位置決めされる。   Next, as shown in FIGS. 17 and 18, the housing holder 19 is placed on the needle holder 18 in which the valve housing 5 with the nozzle plate 6 is inverted and combined for each plunger rod 8. The positioning pin 33 and the positioning hole 36 are engaged with each other with the large-diameter hole 37B of the lower side 37B facing down and the small-diameter hole 37A facing up. The large-diameter portion 5B of the valve housing 5 is slightly lifted from the upper surface of the needle holder 18, while contacting the stepped portion that is the bottom of the large-diameter hole 37B of the stepped through hole 37 of the housing holder 19. Positioning is restricted in the axial direction.

次いで、断熱層17、ニードル保持具18およびハウジング保持具19とを、図示しない固定手段により固定し、図19に示すように、上方に突出する位置決めピン33を取外すことで、弁装置3の位置決めが完了する。   Next, the heat insulating layer 17, the needle holder 18 and the housing holder 19 are fixed by fixing means (not shown), and the positioning pin 33 protruding upward is removed as shown in FIG. Is completed.

図20は、保持装置16による位置決め完了状態を示したものであり、ニードル13はプランジャロッド8の基部8Aをニードル保持具18に設けた窪み35の底部に接触させ且つ先端の弁体7をバルブハウジング5に一体のノズルプレート6の弁座6Bに着座させて軸方向に位置決め保持されている。また、バルブハウジング5の大径部5Bはニードル保持具18の上面から僅かに浮いている一方、ハウジング保持具19の段付貫通孔37の段付面に当接させて軸方向に位置決め保持されている。バルブハウジング5のノズルプレート6の燃焼室側の端面6Cは、ハウジング支持具19の表面から僅かに突出した状態で保持される。   FIG. 20 shows a state in which the positioning by the holding device 16 is completed. In the needle 13, the base 8A of the plunger rod 8 is brought into contact with the bottom of the recess 35 provided in the needle holder 18, and the valve body 7 at the tip is moved to the valve. It is seated on the valve seat 6B of the nozzle plate 6 integral with the housing 5 and is positioned and held in the axial direction. The large-diameter portion 5B of the valve housing 5 is slightly lifted from the upper surface of the needle holder 18, while being positioned in the axial direction by contacting the stepped surface of the stepped through hole 37 of the housing holder 19. ing. The end surface 6 </ b> C on the combustion chamber side of the nozzle plate 6 of the valve housing 5 is held in a state of slightly protruding from the surface of the housing support 19.

また、ハウジング保持具19の段付貫通孔37の内面とバルブハウジング5の外周面との間には僅かな隙間が形成される。ニードル13のプランジャロッド8の基部8Aの外周面とニードル保持具18の窪み35の内周面との間にも僅かな隙間が形成される。これらの隙間は、バルブハウジング5およびニードル13の組付作業性、安定した保持性の向上や加熱時の熱膨張量を吸収するために、寸法が選定されて形成される。   In addition, a slight gap is formed between the inner surface of the stepped through hole 37 of the housing holder 19 and the outer peripheral surface of the valve housing 5. A slight gap is also formed between the outer peripheral surface of the base portion 8 </ b> A of the plunger rod 8 of the needle 13 and the inner peripheral surface of the recess 35 of the needle holder 18. These gaps are formed by selecting dimensions in order to improve the assembly workability of the valve housing 5 and the needle 13, improve stable holding performance, and absorb the amount of thermal expansion during heating.

以上の手順でワーク3を保持するように組立てられた保持装置16によれば、大量のノズルハウジング5とニードル13との組合せ部品(ワーク)を保持装置16により整然と密に並べる構造であるので、ロット単位で準備することができ、サプライヤ間のワーク搬送も効率的であり、被膜処理装置(プラズマCVD装置)への部品セッティング時間や梱包作業短縮に効果的であり、量産タクトを向上させることができ、かつ大量のワーク表面に一括して被膜を形成でき、製造コストの低減を図ることができる。   According to the holding device 16 assembled so as to hold the workpiece 3 in the above-described procedure, a combination component (work) of a large amount of the nozzle housing 5 and the needle 13 is arranged in an orderly and dense manner by the holding device 16. Can be prepared in units of lots, efficient transfer of workpieces between suppliers, is effective in shortening the time required for setting parts to the coating film processing equipment (plasma CVD equipment) and packing work, and improving mass production tact. In addition, it is possible to form a coating film on the surface of a large number of workpieces at a time, thereby reducing the manufacturing cost.

以上に説明した手順でワークを保持させて組立てられた保持装置16を、被膜処理装置であるプラズマCVD装置のカソード電極25上に設置し、図21に示す手順により、プラズマCVD装置内での被膜形成処理を実行する。   The holding device 16 assembled by holding the workpiece by the procedure described above is installed on the cathode electrode 25 of the plasma CVD apparatus which is a film processing apparatus, and the film in the plasma CVD apparatus is obtained by the procedure shown in FIG. Execute the forming process.

即ち、第1工程S1に示すように、プラズマCVD装置内にワーク3をセットした保持装置16をカソード電極25上にセットする。次いで、第2工程S2に示すように、真空ポンプ31により装置内の空気を排出する。次に、第3工程S3の被膜前処理作業としての昇温を行なう。この昇温は、装置内に不活性のアルゴンガスを導入し、高周波電源からマッチングボックスを介して高周波電極25に(周波数13.56[MHz]、300[W]程度の)第1段階の高周波電力を供給してガスをプラズマ状態としてワーク3および保持装置16の温度上昇を行う。   That is, as shown in the first step S1, the holding device 16 in which the workpiece 3 is set in the plasma CVD apparatus is set on the cathode electrode 25. Next, as shown in the second step S2, the air in the apparatus is discharged by the vacuum pump 31. Next, the temperature is raised as the film pretreatment operation in the third step S3. For this temperature increase, an inert argon gas is introduced into the apparatus, and a high-frequency electrode 1 is supplied to the high-frequency electrode 25 via a matching box from a high-frequency power source (frequency of about 13.56 [MHz], 300 [W]). Electric power is supplied to change the temperature of the workpiece 3 and the holding device 16 to a plasma state.

次いで、第4工程S4に示すように、被膜処理を実行する。この被膜処理は、装置内に、例えば、メタンガス(CH4)と6フッ化2炭素ガス(C26)との混合ガスを供給し、高周波電源30からマッチングボックス29を介して高周波電極25に(周波数13.56[MHz]、300[W]程度の)第2段階の高周波電力を供給してガスをプラズマ状態とし、ワーク表面であるノズルプレート6表面6Cおよびノズルプレート6に形成した燃料噴射孔6Aの内面および弁体7の先端表面にフッ素原子が取り込まれた炭素被膜15を形成する。このノズルプレート6の表面6Cは、ハウジング保持具19の表面から僅かに突出す程度として多数が配列されているため、プラズマが一部のノズルプレート6の表面6Cに集中して放電されることがなく、各ノズルプレート6表面6Cは一様に被膜15される。 Next, as shown in the fourth step S4, a coating process is performed. In this coating treatment, for example, a mixed gas of methane gas (CH 4 ) and 6 carbon fluoride 2 gas (C 2 F 6 ) is supplied into the apparatus, and the high frequency electrode 25 is supplied from the high frequency power supply 30 through the matching box 29. The second stage high frequency power (with a frequency of about 13.56 [MHz], 300 [W]) is supplied to the gas to form a plasma state, and the fuel formed on the nozzle plate 6 surface 6C and the nozzle plate 6 which are the workpiece surfaces A carbon film 15 in which fluorine atoms are taken in is formed on the inner surface of the injection hole 6 </ b> A and the tip surface of the valve body 7. Since a large number of the surfaces 6C of the nozzle plate 6 are arranged so as to slightly protrude from the surface of the housing holder 19, the plasma may be concentrated on the surface 6C of some of the nozzle plates 6 and discharged. Instead, each nozzle plate 6 surface 6C is uniformly coated 15.

そして、上記被膜処理が終了した段階で、第5工程S5により装置内より処理ガスを排出し、第6工程S6により装置内より処理が終了したワーク3を保持している保持装置16を取り出し、保持装置16を分解することにより、被膜処理された複数のワーク3を得ることができる。   And in the stage which the said film processing was complete | finished, the process gas is discharged | emitted from inside the apparatus by 5th process S5, the holding | maintenance apparatus 16 holding the workpiece | work 3 which the process was complete | finished from the inside by 6th process S6 is taken out, By disassembling the holding device 16, it is possible to obtain a plurality of workpieces 3 that have been coated.

以上のように、多数のノズルハウジング5とニードル13との組合せ部品(ワーク)を保持装置16により整然と配列する構造であるので、大量のワーク表面に一括して被膜を形成でき、製造コストの低減を図ることができる。   As described above, since the combination parts (workpieces) of a large number of nozzle housings 5 and needles 13 are arranged in an orderly manner by the holding device 16, a coating can be formed on the surface of a large number of workpieces at a reduced cost, thereby reducing the manufacturing cost. Can be achieved.

また、部品である弁装置3を埋め込む構造の保持装置16を使用するため、被膜処理装置内での被膜施工表面の凹凸を抑えることができ、凹凸ができることによるプラズマ放電時の局所集中放電による被覆膜厚を一定とならない不具合が解消され、被覆膜厚を一定に保ち、品質が安定する。   Further, since the holding device 16 having a structure for embedding the valve device 3 which is a part is used, the unevenness of the coating surface in the coating processing apparatus can be suppressed, and the unevenness caused by local concentrated discharge at the time of plasma discharge. The problem that the film thickness is not constant is solved, the film thickness is kept constant, and the quality is stabilized.

しかも、プラズマCVD法では、プラズマ放電でワーク3の温度が上昇するが、保持装置16の下部に断熱材を備える断熱層17を配置しているため、保持装置16の下部からの放熱を最小限に抑えることができ、下部からその熱が逃げてワーク3が規定温度まで上昇せずに被覆密着性が悪化することがなく、ワーク3の温度を安定して規定温度に保持でき、被膜密着性を向上させることができる。   Moreover, in the plasma CVD method, the temperature of the work 3 rises due to plasma discharge, but since the heat insulating layer 17 including a heat insulating material is disposed at the lower portion of the holding device 16, heat radiation from the lower portion of the holding device 16 is minimized. The heat escapes from the lower part and the workpiece 3 does not rise to the specified temperature and the coating adhesion is not deteriorated. The temperature of the workpiece 3 can be stably maintained at the specified temperature, and the coating adhesion Can be improved.

さらに、保持装置16は位置決めピン33により精度よく組立てられており、しかも断熱層17の位置決め突起17Dによりカソード電極25上に精度よく位置決めして配置されていることにより、被膜処理装置内でのワーク設置位置が高精度になされることにより、被覆の歩留まりが改善できる。   Furthermore, the holding device 16 is accurately assembled by the positioning pins 33, and is positioned with high accuracy on the cathode electrode 25 by the positioning projections 17D of the heat insulating layer 17, so that the workpiece in the coating film processing apparatus can be obtained. By making the installation position highly accurate, the yield of the coating can be improved.

また、ノズルプレート6が溶接されたノズルハウジング5加工完了部品と、ニードル13の加工完了部品とを組合せて保持装置16に保持させているため、ノズルプレート6表面6Cおよび燃料噴射孔6A内の表面のみならず、弁座6Bに着座しているニードル13の弁体7の先端表面にも皮膜を形成することができ、弁体7の先端表面へのデポジットの付着も抑制でき、燃料噴射量の低下を更に抑制することもできる。   Moreover, since the nozzle housing 6 welded part to which the nozzle plate 6 is welded and the needle 13 finished part are combined and held by the holding device 16, the nozzle plate 6 surface 6C and the surface in the fuel injection hole 6A In addition, a film can be formed on the tip surface of the valve body 7 of the needle 13 seated on the valve seat 6B, and adhesion of deposits to the tip surface of the valve body 7 can be suppressed, and the fuel injection amount can be reduced. The decrease can be further suppressed.

図22に示す保持装置16Aは、保持装置16の第2実施例であり、ニードル保持具18のプランジャ8基部8Aを保持する各窪み35の底部に耐熱性のあるシリコンゴム、ウレタンゴム若しくは金属スプリング等の弾性体38を収容配置した構成のみが第1実施例の保持装置16と相違し、その他の構成は第1実施例の保持装置16と同様に構成している。   A holding device 16A shown in FIG. 22 is a second embodiment of the holding device 16, and a heat-resistant silicone rubber, urethane rubber, or metal spring is provided at the bottom of each recess 35 that holds the plunger 8 base 8A of the needle holder 18. Only the configuration in which the elastic body 38 is accommodated is different from the holding device 16 of the first embodiment, and other configurations are the same as the holding device 16 of the first embodiment.

この保持装置16Aにおいては、ニードル13がその基部8A側から弾性体38により付勢されることにより、先端の弁体7をバルブハウジング5のノズルプレート6の弁座6Bに弾接させた状態とでき、搬送時等においてバルブハウジング5とニードル13との間にガタツキを生ずることがない。また、プラズマCVD法による被膜処理では、プラズマ放電で発生する熱によりワーク3が熱伸びを発生するが、こり熱伸びを前記弾性体38により吸収することができる。また、弾性体38によりノズルハウジング5とニードル13に一定荷重を均一にかけることができるので、被覆作業時のワーク3のガタつきを排除でき、ニードル13先端への被覆ムラを排除することができる。   In this holding device 16 </ b> A, the needle 13 is biased by the elastic body 38 from the base 8 </ b> A side, so that the valve body 7 at the tip is elastically contacted with the valve seat 6 </ b> B of the nozzle plate 6 of the valve housing 5. In addition, there is no backlash between the valve housing 5 and the needle 13 during transportation. Further, in the film processing by the plasma CVD method, the work 3 generates thermal expansion due to heat generated by plasma discharge, but the elastic thermal expansion can be absorbed by the elastic body 38. In addition, since a constant load can be applied uniformly to the nozzle housing 5 and the needle 13 by the elastic body 38, it is possible to eliminate the play of the work 3 during the covering operation and to eliminate uneven coating on the tip of the needle 13. .

図23に示す保持装置16Bは、保持装置16の第3実施例であり、第1実施例の保持装置16よりニードル13を取除いてノズルプレート6付のバルブハウジング5のみを保持するようにしたものである。この実施例においては、断熱層17に積層される中間保持具18Aの上面にバルブハウジング5の大径部5Bの下部を収容する多数の窪み40を形成して構成している。したがって、中間保持具18Aの上面の窪み40に大径部5Bを挿入して多数のバルブハウジング5を整列させて配列し、位置決めピン33と位置決め穴36とを係合させて、これらバルブハウジング5に、段付貫通孔37の大径穴37Bを下に且つ小径穴37Aを上にしてハウジング保持具19を被せて積層する。なお、前記大径穴37Bの軸方向寸法は、第1、2実施例のハウジング保持具19における軸方向寸法より短く形成され、前記中間保持具18Aの窪み40の軸方向寸法との合計寸法が前記大径部5Bの軸方向寸法と同等となるように設定している。バルブハウジング5は、その大径部5Bをハウジング保持具19の段付貫通孔37の大径穴37Bの底部である段付部分に接触して軸方向に拘束されて位置決めされる。   A holding device 16B shown in FIG. 23 is a third embodiment of the holding device 16, and the needle 13 is removed from the holding device 16 of the first embodiment so that only the valve housing 5 with the nozzle plate 6 is held. Is. In this embodiment, a large number of recesses 40 for accommodating the lower portion of the large diameter portion 5B of the valve housing 5 are formed on the upper surface of the intermediate holder 18A laminated on the heat insulating layer 17. Therefore, the large-diameter portion 5B is inserted into the recess 40 on the upper surface of the intermediate holder 18A, and a large number of valve housings 5 are aligned and arranged, and the positioning pins 33 and the positioning holes 36 are engaged with each other, so that these valve housings 5 are engaged. Next, the housing holder 19 is placed on the large diameter hole 37B of the stepped through hole 37 and the small diameter hole 37A is placed on top of each other. The axial dimension of the large-diameter hole 37B is shorter than the axial dimension of the housing holder 19 of the first and second embodiments, and the total dimension with the axial dimension of the recess 40 of the intermediate holder 18A is as follows. It is set to be equal to the axial dimension of the large diameter portion 5B. The valve housing 5 is positioned by being constrained in the axial direction by bringing the large diameter portion 5B into contact with the stepped portion which is the bottom of the large diameter hole 37B of the stepped through hole 37 of the housing holder 19.

この保持装置16Bにおいては、ノズルプレート6付きのバルブハウジング5のみが位置決め保持されるものであるため、図24に示すように、被膜はノズルプレート6の燃焼室側の表面6Cと噴射孔6Aの内面とに施される。プラズマCVDによる被膜では、プラズマ放電の直進性が高いため、被膜がノズルプレート6の弁座6Bに廻りこんで付着することがなく、ノズルプレート6の弁座6Bを再度研磨する必要がない。   In this holding device 16B, only the valve housing 5 with the nozzle plate 6 is positioned and held. Therefore, as shown in FIG. 24, the coating is formed between the surface 6C on the combustion chamber side of the nozzle plate 6 and the injection holes 6A. Applied to the inner surface. Since the film formed by plasma CVD has high straightness of plasma discharge, the film does not go around and adhere to the valve seat 6B of the nozzle plate 6, and it is not necessary to polish the valve seat 6B of the nozzle plate 6 again.

この実施例においても、多数のノズルハウジング5(ワーク)を保持装置16Bにより整然と配列する構造であるので、大量のワーク表面に一括して被膜を形成でき、製造コストの低減を図ることができる。   Also in this embodiment, since a large number of nozzle housings 5 (workpieces) are arranged in an orderly manner by the holding device 16B, a coating film can be formed on a large number of workpiece surfaces at the same time, and the manufacturing cost can be reduced.

また、部品であるバルブハウジング5を埋め込む構造の保持装置16Bを使用するため、被膜処理装置内での被膜施工表面の凹凸を抑えることができ、凹凸ができることによるプラズマ放電時の局所集中放電による被覆膜厚を一定とならない不具合が解消され、被覆膜厚を一定に保ち、品質が安定する。   Further, since the holding device 16B having a structure for embedding the valve housing 5 which is a component is used, the unevenness of the coating surface in the coating processing apparatus can be suppressed, and the unevenness caused by the local concentrated discharge during the plasma discharge due to the unevenness. The problem that the film thickness is not constant is solved, the film thickness is kept constant, and the quality is stabilized.

しかも、プラズマCVD法では、プラズマ放電でワークの温度が上昇するが、保持装置16Bの下部に断熱材を備える断熱層17を配置しているため、保持装置16Bの下部からの放熱を最小限に抑えることができ、下部からその熱が逃げてワークが規定温度まで上昇せずに被覆密着性が悪化することがなく、被膜密着性を向上させることができる。   In addition, in the plasma CVD method, the temperature of the workpiece rises due to plasma discharge, but since the heat insulating layer 17 including a heat insulating material is disposed below the holding device 16B, heat radiation from the lower portion of the holding device 16B is minimized. The heat can escape from the lower portion and the workpiece does not rise to the specified temperature, so that the coating adhesion is not deteriorated, and the coating adhesion can be improved.

さらに、保持装置16Bは位置決めピン33により精度よく組立てられており、しかも断熱層17の位置決め突起17Dによりカソード電極25上に精度よく位置決めして配置されていることにより、被膜処理装置内でのワーク設置位置が高精度になされることにより、被覆によるの歩留まりが改善できる。   Furthermore, the holding device 16B is assembled with the positioning pins 33 with high accuracy, and is positioned with high accuracy on the cathode electrode 25 with the positioning protrusions 17D of the heat insulating layer 17, so that the workpiece in the coating film processing apparatus can be obtained. By making the installation position highly accurate, the yield due to the coating can be improved.

本実施形態においては、以下に記載する効果を奏することができる。   In the present embodiment, the following effects can be achieved.

(ア)被膜処理装置であるプラズマCVD装置により弁装置3の燃焼室に露出するノズルプレート6の表面6Cおよび噴射孔6A内面にデポジット付着防止の被膜を形成する内燃機関用の燃料噴射弁1の製造装置および製造方法であり、被膜処理装置のカソード電極25上に配置可能であり、内部に弁装置3の少なくともノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5を収容可能であり、プラズマCVD装置のアノード電極23に対面する表面に開口する複数の保持穴35、37を整列させて備える保持装置16を設け、前記保持装置16の複数の保持穴35、37に、燃料噴射弁1の弁装置3の燃焼室へ露出するノズルプレート6の表面6Cを、前記複数の保持穴35、37の開口面からプラズマCVD装置のアノード電極23に夫々対面するよう夫々露出させて、複数の弁装置3のノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5を保持装置16により位置決めし、前記位置決めした複数の弁装置3のノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5とその保持装置16とをプラズマCVD装置のカソード電極25上に配置して、アノード電極23に対面するノズルプレート6の表面6Cおよび噴射孔6A内面にデポジット付着防止の被膜を形成するようにしている。   (A) The fuel injection valve 1 for an internal combustion engine in which a deposit prevention film is formed on the surface 6C of the nozzle plate 6 exposed to the combustion chamber of the valve device 3 and the inner surface of the injection hole 6A by a plasma CVD apparatus which is a film processing apparatus. A manufacturing apparatus and a manufacturing method, which can be disposed on the cathode electrode 25 of the coating processing apparatus, and can accommodate at least the nozzle plate 6 of the valve device 3 or the component 5 integrated with the nozzle plate 6 therein, A holding device 16 provided with a plurality of holding holes 35, 37 that are opened on the surface facing the anode electrode 23 of the plasma CVD apparatus is provided, and the fuel injection valve 1 is provided in the plurality of holding holes 35, 37 of the holding device 16. The surface 6C of the nozzle plate 6 exposed to the combustion chamber of the valve device 3 is moved from the opening surfaces of the plurality of holding holes 35 and 37 to the anode of the plasma CVD apparatus. Each of the plurality of valve devices 3 exposed to the electrodes 23 is positioned by the holding device 16 and the nozzle plate 6 of the plurality of valve devices 3 or the component 5 integrated with the nozzle plate 6 is positioned. The nozzle plate 6 or the component 5 integrated with the nozzle plate 6 and the holding device 16 are arranged on the cathode electrode 25 of the plasma CVD apparatus, and the surface 6C of the nozzle plate 6 facing the anode electrode 23 and the injection hole A film for preventing deposit adhesion is formed on the inner surface of 6A.

したがって、前記保持装置16により、プラズマCVD装置内で大量のワーク3が被膜を必要とするノズルプレート6表面6Cおよび噴射孔6A内面をアノード電極23に対面させて保持されるので、被膜を必要とするノズルプレート6表面6Cおよび噴射孔6A内面に一括して被膜でき、コスト低減が図れる。同時に、大量のワーク3が凹凸なく安定して保持されるので、得られる被膜の膜厚を一定に保つことができ、被膜品質を向上できる。また、保持装置16により大量のワーク3を保持するものであるため、プラズマCVD装置へワークセッティング時間やワーク梱包作業も保持装置16と共に実施すれば、効果的に時間短縮でき、サプライヤ間の部品搬送も容易となり、量産タクトを向上できる。   Therefore, since a large amount of workpieces 3 are held by the holding device 16 with the nozzle plate 6 surface 6C and the injection hole 6A inner surface that require coating facing the anode electrode 23 in the plasma CVD apparatus, a coating is required. It is possible to coat the surface of the nozzle plate 6 surface 6C and the inner surface of the injection hole 6A all together, thereby reducing the cost. At the same time, since a large amount of the workpiece 3 is stably held without unevenness, the film thickness of the obtained film can be kept constant, and the film quality can be improved. In addition, since a large amount of work 3 is held by the holding device 16, if the work setting time and the work packing work are also performed with the holding device 16 in the plasma CVD apparatus, the time can be effectively shortened, and parts can be conveyed between suppliers. The mass production tact can be improved.

(イ)保持装置16は、カソード電極25側の保持部材18とアノード電極側の保持部材19とより構成され、カソード電極25側の保持部材18上に弁装置3の少なくともノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5を配列した状態でアノード電極23側の保持部材19を積層して、これらの部品を保持穴37により位置決め保持するようにしている。即ち、保持装置16は、カソード電極25側の保持部材18とアノード電極23側の保持部材19とより構成され、前記カソード電極25側保持部材18上に弁装置3の少なくともノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5を配列し、前記カソード電極25側保持部材18および前記配列状態のノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5にアノード電極23側の保持部材19を積層して、これらの部品を保持穴37により位置決め保持するようにしている。このため、ワーク3の被膜が必要な部分のみが保持装置16から露出させて位置決めされており、プラズマCVD装置内でワーク表面同士に凹凸が生ずることによるプラズマ放電の局所集中を防止でき、ワーク表面同士の凹凸を抑えて、夫々のワーク3に得られる被覆の膜厚を一定に保つことができ、被膜品質を向上できる。   (A) The holding device 16 includes a holding member 18 on the cathode electrode 25 side and a holding member 19 on the anode electrode side, and at least the nozzle plate 6 or the nozzle plate of the valve device 3 on the holding member 18 on the cathode electrode 25 side. The holding members 19 on the anode electrode 23 side are laminated in a state where the parts 5 integrated with the parts 6 are arranged, and these parts are positioned and held by the holding holes 37. That is, the holding device 16 includes a holding member 18 on the cathode electrode 25 side and a holding member 19 on the anode electrode 23 side, and at least the nozzle plate 6 or the nozzle plate of the valve device 3 on the cathode electrode 25 side holding member 18. 6 is arranged, and the holding member 19 on the anode electrode 23 side is arranged on the cathode electrode 25 side holding member 18 and the nozzle plate 6 in the arrangement state or the part 5 integrated with the nozzle plate 6. These parts are positioned and held by the holding holes 37. For this reason, only the part of the workpiece 3 where the coating is necessary is exposed and positioned from the holding device 16, and it is possible to prevent local concentration of plasma discharge due to unevenness between the workpiece surfaces in the plasma CVD apparatus. The unevenness between each other can be suppressed, the film thickness of the coating obtained on each workpiece 3 can be kept constant, and the coating quality can be improved.

(ウ)保持装置16のカソード電極25側保持部材18は、弁体7をアノード側電極23に向けた状態でニードル13を保持穴35に軸心を合わせて配列可能となっており、前記各ニードル13の各弁体7を弁座6Bに着座させてノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5を配列し、その状態でアノード電極23側保持部材19を積層して、これらの部品を保持穴37により位置決め保持する。即ち、前記カソード電極25側保持部材18に弁体7を備えたニードル13を弁体7をアノード側電極23に向けた状態で保持穴35に軸心を合わせて配列し、前記配列したニードル13の各弁体7を弁座6Bに着座させてノズルプレート6若しくはノズルプレート6と一体的となった部品5を配列し、これらの上からアノード電極23側保持部材19を積層して、弁装置3の部品を保持穴37により位置決め保持するようにしている。   (C) The cathode electrode 25 side holding member 18 of the holding device 16 can be arranged such that the needles 13 are aligned with the holding holes 35 in the state where the valve element 7 faces the anode side electrode 23. The valve body 7 of the needle 13 is seated on the valve seat 6B, the nozzle plate 6 or the component 5 integrated with the nozzle plate 6 is arranged, and in this state, the anode electrode 23 side holding member 19 is laminated, These parts are positioned and held by the holding holes 37. That is, the needle 13 provided with the valve body 7 on the cathode electrode 25 side holding member 18 is aligned with the axial center of the holding hole 35 with the valve body 7 facing the anode side electrode 23, and the arranged needles 13 are arranged. The valve body 7 is seated on the valve seat 6B, the nozzle plate 6 or the parts 5 integrated with the nozzle plate 6 are arranged, and the anode electrode 23 side holding member 19 is stacked on the nozzle plate 6 to form the valve device The parts 3 are positioned and held by the holding holes 37.

このため、従来技術のように弁座6Bを保護するマスキング治具を使用せずに、研削加工等の完了したニードル13を直接組合せて被覆させるので、噴射孔6A内壁と同時に、従来技術では被膜施工が困難だったニードル13(弁体7)先端への局所的な被膜も容易となり、ニードル13(弁体7)先端へのデポジット付着による内燃機関の燃料噴射量の低下を更に抑制できる。しかも、部品として完成したニードル13を、部品として完成したノズルハウジング5に組合せるので、密封度向上のための弁座6Bの再研磨加工を不要とでき、研磨屑による噴射孔6A内面の被覆の損傷が発生しない。   For this reason, since the needle 13 that has been subjected to grinding or the like is directly combined and coated without using a masking jig for protecting the valve seat 6B as in the prior art, the coating in the prior art simultaneously with the inner wall of the injection hole 6A. The local coating on the tip of the needle 13 (valve element 7), which has been difficult to construct, is also facilitated, and the reduction in the fuel injection amount of the internal combustion engine due to deposit adhesion on the tip of the needle 13 (valve element 7) can be further suppressed. In addition, since the needle 13 completed as a part is combined with the nozzle housing 5 completed as a part, it is not necessary to re-grind the valve seat 6B to improve the sealing degree, and the inner surface of the injection hole 6A is coated with polishing dust. No damage will occur.

(エ)図22に示すように、保持装置6Aのカソード電極25側保持部材18は、弁体7を備えたニードル13をノズルプレート6の弁座6Bに着座させるよう付勢する弾性手段38を備えていることにより、先端の弁体7をバルブハウジング5のノズルプレート6の弁座6Bに弾接させた状態とでき、搬送時等においてバルブハウジング5とニードル13との間にガタツキを生ずることがない。また、プラズマCVD法による被膜処理では、プラズマ放電で発生する熱によりワーク3が熱伸びを発生するが、この熱伸びを前記弾性体38により吸収することができる。また、弾性体38によりノズルハウジング5とニードル13に一定荷重を均一にかけることができるので、被覆作業時のワーク3のガタツキを排除でき、ニードル13先端への被覆ムラを排除することができる。   (D) As shown in FIG. 22, the cathode electrode 25 side holding member 18 of the holding device 6 </ b> A has elastic means 38 that urges the needle 13 having the valve body 7 to be seated on the valve seat 6 </ b> B of the nozzle plate 6. By being provided, the valve body 7 at the tip can be elastically brought into contact with the valve seat 6B of the nozzle plate 6 of the valve housing 5, and a backlash is generated between the valve housing 5 and the needle 13 during transportation or the like. There is no. Further, in the coating process by the plasma CVD method, the work 3 generates thermal elongation due to heat generated by plasma discharge, and this thermal elongation can be absorbed by the elastic body 38. In addition, since a constant load can be applied uniformly to the nozzle housing 5 and the needle 13 by the elastic body 38, it is possible to eliminate backlash of the work 3 during the covering operation, and to eliminate uneven coating on the tip of the needle 13.

(オ)保持装置16は、前記プラズマCVD装置のカソード電極25との間に配置する断熱材(17)を備えることにより、保持装置16の下部からの放熱を最小限に抑えることができ、下部からその熱が逃げてワーク3が規定温度まで上昇せずに被覆密着性が悪化することがなく、ワーク3の温度を安定して規定温度に保持でき、被膜密着性を向上させることができる。   (E) Since the holding device 16 includes a heat insulating material (17) disposed between the cathode electrode 25 of the plasma CVD device, heat radiation from the lower portion of the holding device 16 can be suppressed to a minimum. Therefore, the heat does not escape and the workpiece 3 does not rise to the specified temperature, and the coating adhesion is not deteriorated, the temperature of the workpiece 3 can be stably maintained at the specified temperature, and the coating adhesion can be improved.

(カ)プラズマCVD装置内でもワーク3の設置位置により被覆の品質が異なるものであるが、保持装置16は、位置決め手段17D、25Aにより前記プラズマCVD装置のカソード電極25の中央に位置決めされるものであることにより、保持装置16は位置決めピン33により精度よく組立てられていることと相俟って、被膜処理装置内でのワーク設置位置が高精度になされることにより、被覆の歩留まりが改善できる。   (F) Although the quality of the coating varies depending on the position of the work 3 in the plasma CVD apparatus, the holding device 16 is positioned at the center of the cathode electrode 25 of the plasma CVD apparatus by positioning means 17D and 25A. Therefore, in combination with the assembly of the holding device 16 with the positioning pins 33 with high accuracy, the work placement position in the film processing apparatus can be made highly accurate, so that the coating yield can be improved. .

本発明の一実施形態の製造装置および製造方法を適用しようとする燃料噴射弁の概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view of a fuel injection valve to which a manufacturing apparatus and a manufacturing method according to an embodiment of the present invention are applied. 同じく燃料噴射弁の弁装置を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which similarly shows the valve apparatus of a fuel injection valve. 弁装置の要部拡大断面図。The principal part expanded sectional view of a valve apparatus. 弁装置の類例を示す要部拡大断面図。The principal part expanded sectional view which shows the example of a valve apparatus. 燃料噴射弁の製造装置であるプラズマCVD装置の概略説明図。Schematic explanatory drawing of the plasma CVD apparatus which is a manufacturing apparatus of a fuel injection valve. 図5に示すプラズマCVD装置へのワークの配置レイアウト図。FIG. 6 is a layout layout of workpieces on the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5. 本実施形態の燃料噴射弁の製造装置である保持装置の斜視図。The perspective view of the holding | maintenance apparatus which is a manufacturing apparatus of the fuel injection valve of this embodiment. 保持装置における断熱層の断面図。Sectional drawing of the heat insulation layer in a holding | maintenance apparatus. 図8の断熱層を含む保持装置のワーク保持具の断面図。Sectional drawing of the workpiece holder of the holding | maintenance apparatus containing the heat insulation layer of FIG. ワーク保持具の平面図。The top view of a workpiece holder. 図9に示すワーク保持具へのニードルの配列状態を示す説明図。Explanatory drawing which shows the arrangement | sequence state of the needle to the workpiece holder shown in FIG. 図11の要部拡大図。The principal part enlarged view of FIG. 図11の保持装置へのバルブハウジングの装着状態を示す説明図。Explanatory drawing which shows the mounting state of the valve housing to the holding | maintenance apparatus of FIG. 図13の要部拡大図。The principal part enlarged view of FIG. ハウジング保持具の断面図。Sectional drawing of a housing holder. ハウジング保持具の底面図。The bottom view of a housing holder. ハウジング保持具を積層した状態の保持装置の断面図。Sectional drawing of the holding | maintenance apparatus of the state which laminated | stacked the housing holder. 図17の要部拡大図。The principal part enlarged view of FIG. 組み上がった保持装置の断面図。Sectional drawing of the assembled holding | maintenance apparatus. 保持装置によるワーク保持状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the workpiece | work holding state by a holding | maintenance apparatus. プラズマCVD装置による被膜の処理工程を示す工程図。The process figure which shows the process process of the film by a plasma CVD apparatus. 保持装置の第2実施例を示す要部断面図。The principal part sectional view showing the 2nd example of a holding device. 保持装置の第3実施例を示す要部断面図。Sectional drawing of the principal part which shows 3rd Example of a holding | maintenance apparatus. 第3実施例の保持装置によるワークへの被膜状態を示す説明図。Explanatory drawing which shows the film state to the workpiece | work by the holding | maintenance apparatus of 3rd Example.

符号の説明Explanation of symbols

1 燃料噴射弁
2 ハウジング
3 弁装置
4 ソレノイド装置
5 バルブハウジング
6 ノズルプレート
7 弁体
8 プランジャロッド
9 過流発生器
10 アーマチュア
11 コア
12 コイル
13 ニードル
15 被膜
16 保持装置
17 断熱層
18 ニードル保持具
19 ハウジング保持具
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Fuel injection valve 2 Housing 3 Valve apparatus 4 Solenoid apparatus 5 Valve housing 6 Nozzle plate 7 Valve body 8 Plunger rod 9 Overflow generator 10 Armature 11 Core 12 Coil 13 Needle 15 Coating 16 Holding apparatus 17 Thermal insulation layer 18 Needle holder 19 Housing holder

Claims (9)

被膜処理装置により弁装置の燃焼室に露出するノズルプレートの表面および噴射孔内面にデポジット付着防止の被膜を形成する内燃機関用の燃料噴射弁の製造装置であり、
前記被膜処理装置のカソード電極上に配置可能であり、被膜処理装置のアノード電極に対面する表面に開口する複数の保持穴を備え、内部に弁装置の少なくともノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を収容可能であり、前記燃料噴射弁の弁装置の燃焼室へ露出するノズルプレートの表面を、前記複数の保持穴の開口面から被膜処理装置のアノード電極に夫々対面するよう夫々露出させて、複数の弁装置のノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を位置決め可能な保持装置を備えることを特徴とする燃料噴射弁の製造装置。
An apparatus for manufacturing a fuel injection valve for an internal combustion engine, which forms a coating for preventing deposit adhesion on the surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device and the inner surface of the injection hole by the coating processing device,
A plurality of holding holes that can be disposed on the cathode electrode of the film processing apparatus and open on the surface facing the anode electrode of the film processing apparatus, and are integrated with at least the nozzle plate or the nozzle plate of the valve device inside. The surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device of the fuel injection valve is exposed from the opening surface of the plurality of holding holes so as to face the anode electrode of the film processing device. An apparatus for manufacturing a fuel injection valve, comprising a nozzle plate of a plurality of valve devices or a holding device capable of positioning a part integrated with the nozzle plate.
前記保持装置は、カソード電極側の保持部材とアノード電極側の保持部材とより構成され、カソード電極側の保持部材上に弁装置の少なくともノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を配列した状態でアノード電極側の保持部材を積層して、これらの部品を保持穴により位置決め保持することを特徴とする請求項1に記載の燃料噴射弁の製造装置。   The holding device is composed of a cathode electrode side holding member and an anode electrode side holding member, and at least a nozzle plate of the valve device or a part integrated with the nozzle plate is arranged on the cathode electrode side holding member. 2. The fuel injection valve manufacturing apparatus according to claim 1, wherein a holding member on the anode electrode side is laminated in a state, and these components are positioned and held by a holding hole. 前記保持装置のカソード電極側保持部材は、弁体をアノード側電極に向けた状態でニードルを保持穴に軸心を合わせて配列可能となっており、前記各ニードルの各弁体を弁座に着座させてノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を配列し、その状態でアノード電極側保持部材を積層して、これらの部品を保持穴により位置決め保持することを特徴とする請求項2に記載の燃料噴射弁の製造装置。   The cathode electrode side holding member of the holding device can be arranged in a state where the needle is aligned with the holding hole in a state where the valve body faces the anode side electrode, and each valve body of each needle is used as a valve seat. 3. The nozzle plate or a part integrated with the nozzle plate is arranged, and the anode electrode side holding member is laminated in that state, and these parts are positioned and held by the holding holes. A fuel injection valve manufacturing apparatus according to claim 1. 前記保持装置のカソード電極側保持部材は、弁体を備えたニードルをノズルプレートの弁座に着座させるよう付勢する弾性手段を備えていることを特徴とする請求項3に記載の燃料噴射弁の製造装置。   The fuel injection valve according to claim 3, wherein the cathode electrode side holding member of the holding device includes elastic means for urging the needle provided with the valve body to be seated on the valve seat of the nozzle plate. Manufacturing equipment. 前記保持装置は、前記被膜処理装置のカソード電極との間に配置する断熱材を備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の燃料噴射弁の製造装置。   The said holding | maintenance apparatus is equipped with the heat insulating material arrange | positioned between the cathode electrodes of the said film processing apparatus, The manufacturing apparatus of the fuel injection valve as described in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記保持装置は、位置決め手段により前記被膜処理装置のカソード電極の中央に位置決めされるものであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一つに記載の燃料噴射弁の製造装置。   6. The fuel injection valve manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the holding device is positioned at a center of a cathode electrode of the film processing apparatus by positioning means. 7. . 被膜処理装置により弁装置の燃焼室に露出するノズルプレートの表面および噴射孔内面にデポジット付着防止の被膜を形成する内燃機関用の燃料噴射弁の製造方法であり、
前記被膜処理装置のカソード電極上に配置可能であり、被膜処理装置のアノード電極に対面する表面に開口する複数の保持穴を備え、内部に弁装置の少なくともノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を収容可能な保持装置を設け、
前記保持装置の複数の保持穴に、燃料噴射弁の弁装置の燃焼室へ露出するノズルプレートの表面を、前記複数の保持穴の開口面から被膜処理装置のアノード電極に夫々対面するよう夫々露出させて、複数の弁装置のノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を保持装置に位置決めし、
前記位置決めした複数の弁装置のノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品とその保持装置とを被膜処理装置のカソード電極上に配置して、アノード電極に対面するノズルプレートの表面、ニードル先端表面および噴射孔内面にデポジット付着防止の被膜を形成することを特徴とする燃料噴射弁の製造方法。
A method of manufacturing a fuel injection valve for an internal combustion engine, in which a coating for preventing deposit adhesion is formed on the surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device and the inner surface of the injection hole by the coating processing device,
A plurality of holding holes that can be disposed on the cathode electrode of the film processing apparatus and open on the surface facing the anode electrode of the film processing apparatus, and are integrated with at least the nozzle plate or the nozzle plate of the valve device inside. A holding device that can accommodate
The surface of the nozzle plate exposed to the combustion chamber of the valve device of the fuel injection valve is exposed to the plurality of holding holes of the holding device so as to face the anode electrode of the film processing apparatus from the opening surface of the plurality of holding holes, respectively. And positioning the nozzle plate of a plurality of valve devices or parts integrated with the nozzle plate to the holding device,
The nozzle plate of the plurality of positioned valve devices or a component integrated with the nozzle plate and the holding device thereof are arranged on the cathode electrode of the coating apparatus, and the surface of the nozzle plate facing the anode electrode, the tip of the needle A method of manufacturing a fuel injection valve, comprising forming a deposit-preventing coating on a surface and an inner surface of an injection hole.
前記保持装置は、カソード電極側の保持部材とアノード電極側の保持部材とより構成し、
前記カソード電極側保持部材上に弁装置の少なくともノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を配列し、
前記カソード電極側保持部材および前記配列状態のノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品にアノード電極側の保持部材を積層して、これらの部品を保持穴により位置決め保持することを特徴とする請求項7に記載の燃料噴射弁の製造方法。
The holding device includes a cathode electrode side holding member and an anode electrode side holding member,
Arranging at least the nozzle plate of the valve device or a part integrated with the nozzle plate on the cathode electrode side holding member,
The anode electrode side holding member is laminated on the cathode electrode side holding member and the nozzle plate in the arrangement state or the parts integrated with the nozzle plate, and these parts are positioned and held by holding holes. A method for manufacturing the fuel injection valve according to claim 7.
前記保持装置のカソード電極側保持部材は、弁体をアノード側電極に向けた状態でニードルを保持穴に軸心を合わせて配列可能となっており、
前記カソード電極側保持部材に弁体を備えたニードルを弁体をアノード側電極に向けた状態で保持穴に軸心を合わせて配列し、
前記配列したニードルの各弁体を弁座に着座させてノズルプレート若しくはノズルプレートと一体的となった部品を配列し、
これらの上からアノード電極側保持部材を積層して、弁装置の部品を保持穴により位置決め保持することを特徴とする請求項8に記載の燃料噴射弁の製造方法。
The cathode electrode side holding member of the holding device can be arranged with the needle aligned with the holding hole in the state where the valve body faces the anode side electrode,
A needle provided with a valve body on the cathode electrode side holding member is arranged with its axis aligned with the holding hole in a state where the valve body faces the anode side electrode,
The valve body of the arranged needles is seated on the valve seat and the nozzle plate or the parts integrated with the nozzle plate are arranged,
9. The method for manufacturing a fuel injection valve according to claim 8, wherein the anode electrode side holding member is laminated from above, and the components of the valve device are positioned and held by the holding holes.
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