JP4697188B2 - Method for treating water containing organic arsenic compound - Google Patents
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Description
本発明は、旧軍化学兵器遺棄地帯における廃水や有機ヒ素化合物を触媒として用いた後に生じる廃水等の有機ヒ素化合物含有水から有毒の有機ヒ素化合物を除去する方法に関する。 The present invention relates to a method for removing toxic organic arsenic compounds from water containing organic arsenic compounds such as waste water generated after using waste water or organic arsenic compounds as a catalyst in a former military chemical weapon abandoned zone.
ジフェニルアルシン酸を始めとする有機ヒ素化合物は毒性を有しているため、廃水等が有機ヒ素化合物を含んでいる場合、廃水から有機ヒ素化合物を除去してから環境に放出する必要がある。有機ヒ素化合物を含む廃水としては、有機ヒ素化合物であるジフェニルアルシン酸を触媒として用いたＢａｅｙｅｒ−Ｖｉｌｌｉｇｅｒ反応やエポキシ化反応を行った後に生じる廃水が挙げられる。また、旧日本軍の化学兵器において有機ヒ素化合物が使用された場合があり、それらを含む砲弾筒や遺棄周辺土壌を洗浄した水には有機ヒ素化合物が含まれる。したがって、有機ヒ素化合物を除去する方法に対する需要は多い。 Since organic arsenic compounds such as diphenylarsinic acid are toxic, when wastewater or the like contains an organic arsenic compound, it is necessary to remove the organic arsenic compound from the wastewater and then release it to the environment. Examples of the wastewater containing an organic arsenic compound include wastewater generated after performing a Bayer-Villiger reaction or an epoxidation reaction using diphenylarsinic acid, which is an organic arsenic compound, as a catalyst. In addition, organic arsenic compounds may be used in former Japanese military chemical weapons, and organic arsenic compounds are contained in the shells containing them and the water that washed away the surrounding soil. Therefore, there is a great demand for a method for removing organic arsenic compounds.
ジフェニルアルシン酸等の有機ヒ素化合物は水中で安定に存在する。また、次亜塩素酸ナトリウム、過酸化水素等の酸化剤では常温ではこれを分解することができないため、７０℃以上に加熱しながら過酸化水素と金属塩を添加する方法が提案されている（特許文献１）。 Organic arsenic compounds such as diphenylarsinic acid exist stably in water. In addition, since oxidizing agents such as sodium hypochlorite and hydrogen peroxide cannot be decomposed at room temperature, a method of adding hydrogen peroxide and a metal salt while heating to 70 ° C. or higher has been proposed ( Patent Document 1).
しかしながら、特許文献１の記載では処理後の残留濃度が不明であり、さらに、処理に当たって全ての処理水を７０℃以上に加熱しなければならず、地下水汚染等のように処理水量が大量になった場合に高コストになるという問題がある。 However, in the description of Patent Document 1, the residual concentration after treatment is unknown, and furthermore, all treated water must be heated to 70 ° C. or higher in the treatment, resulting in a large amount of treated water such as groundwater contamination. There is a problem that the cost becomes high.
また、紫外線照射とオゾンガスの吹き込みにより有機ヒ素化合物を分解する方法が知られている（特許文献２）。 A method of decomposing an organic arsenic compound by ultraviolet irradiation and ozone gas blowing is known (Patent Document 2).
しかしながら、この方法では、装置が比較的高価であるため、処理対象が少量である場合あるいは処理期間が数ヶ月といった短期である場合にコストが割高になるという問題がある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、加熱等の処理が必要でなく、また、高価な装置も用いないことにより、処理対象が大量であっても少量であってもコストの面で問題を生じない簡単な方法で有機ヒ素化合物を処理する方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and does not require a process such as heating, and does not use an expensive apparatus, so that the cost can be increased regardless of whether the processing target is large or small. It is an object of the present invention to provide a method for treating an organic arsenic compound by a simple method that does not cause any problems.
上記課題を解決するため、本発明の勇気ヒ素化合物含有水の処理方法は、ジフェニルア ルシン酸およびフェニルアルソン酸の両方またはいずれか一方である有機ヒ素化合物を含 有する有機ヒ素化合物含有水にジルコニウム化合物を添加する工程と、ジルコニウム化合物の添加により生じた有機ヒ素化合物含有沈殿物を除去する工程とを包含することを特徴とする。
To solve the above problems, the processing method of the courage arsenic compound-containing water of the present invention, both or organic arsenic compounds of zirconium compound in an organic arsenic compound-containing water having containing at one of diphenyl arsine acid and phenylarsonic acid And a step of removing the organic arsenic compound-containing precipitate produced by the addition of the zirconium compound.
前記ジルコニウム化合物としては、硫酸ジルコニウム、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウムが挙げられる。これらは、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the zirconium compound include zirconium sulfate, zirconium chloride, and zirconium oxychloride. These may be used alone or in combination of two or more.
また、塩化第二鉄、硫酸第二鉄およびポリ硫酸第二鉄からなる群から選択される１種以上の添加剤がさらに添加されてもよい。このような添加剤を添加することにより、処理対象の水中の無機ヒ素化合物を除去することができる。 One or more additives selected from the group consisting of ferric chloride, ferric sulfate, and polyferric sulfate may be further added. By adding such an additive, the inorganic arsenic compound in the water to be treated can be removed.
本発明における有機ヒ素化合物を除去するために用いられるジルコニウム化合物は、無機ヒ素化合物に対しても効果を有している。したがって、処理対象水中に無機ヒ素化合物の含有量が多い場合、有機ヒ素化合物を除去するために添加されたジルコニウム化合物が、無機ヒ素化合物に食われる結果となり、その分、有機ヒ素化合物を除去する効果が弱くなる。 The zirconium compound used for removing the organic arsenic compound in the present invention has an effect on the inorganic arsenic compound. Therefore, when the content of the inorganic arsenic compound is large in the water to be treated, the zirconium compound added to remove the organic arsenic compound is eaten by the inorganic arsenic compound, and the effect of removing the organic arsenic compound accordingly. Becomes weaker.
このため、処理対象水中の無機ヒ素化合物含有量が多い場合には、ジルコニウム化合物より安価で無機ヒ素化合物に対して除去効果を有する第二鉄塩を、ジルコニウム化合物を添加する前に添加しておくと全体的なヒ素化合物の除去効率を向上させることができる。したがって、無機ヒ素化合物の含有量が多くない場合には、第二鉄塩を添加する必要はない。 For this reason, when the inorganic arsenic compound content in the water to be treated is high, a ferric salt that is cheaper than the zirconium compound and has a removal effect on the inorganic arsenic compound is added before the zirconium compound is added. And overall arsenic compound removal efficiency can be improved. Therefore, when the content of the inorganic arsenic compound is not large, it is not necessary to add a ferric salt.
前記のジルコニウム化合物を添加した後の処理水のｐHは、好ましくは３〜６に調整される。このような範囲のｐHに調整することにより、より効果的に有機ヒ素化合物の沈殿を生じさせることができる。このｐHは４〜５であればより好ましい。 The pH of the treated water after adding the zirconium compound is preferably adjusted to 3-6. By adjusting the pH to such a range, the organic arsenic compound can be precipitated more effectively. This pH is more preferably 4-5.
有機ヒ素化合物含有沈殿物を除去する工程は、生じた沈殿物を沈降させた後に、上澄みだけを回収する、ろ過により沈殿物を除去する等、当業者に公知のあらゆる方法により行われてよい。 The step of removing the organic arsenic compound-containing precipitate may be carried out by any method known to those skilled in the art, such as collecting only the supernatant after removing the resulting precipitate and removing the precipitate by filtration.
また、上記の有機ヒ素化合物含有水としては、地下水、化学剤処理廃水または遺棄周辺土壌等の洗浄水が例示される。ここに挙げた水は、それぞれ、単独で処理してもよいが、必要に応じて、これらの複数種を混ぜ合わせて処理を行ってもよい。 Examples of the organic arsenic compound-containing water include ground water, chemical agent-treated waste water, and washing water such as abandoned surrounding soil. Each of the waters mentioned here may be treated alone, but if necessary, these waters may be mixed and treated.
上記に説明された有機ヒ素化合物の処理は、複数段において行われることが好ましい。このようにすれば、用いられるジルコニウム化合物および沈殿物の処理費を低く抑えることができるという利点がある。 The treatment of the organic arsenic compound described above is preferably performed in a plurality of stages. In this way, there is an advantage that the processing cost of the zirconium compound used and the precipitate can be kept low.
本発明の有機ヒ素化合物の処理方法は、有機ヒ素化合物含有水にジルコニウム化合物を添加し、これを処理対象の水中の有機ヒ素化合物とで沈殿物を生じさせ、生じた沈殿物を除去するようにしたので、加熱等の処理が必要でなく、また、高価な装置も用いないことにより、処理対象が大量であっても少量であってもコストの面で問題を生じない簡単な方法で有機ヒ素化合物を処理することができる。本発明の処理によりジフェニルアルシン酸を始めとする有機ヒ素化合物の濃度を０．００１ｍｇ／Ｌ以下にすることができる。 In the method for treating an organic arsenic compound of the present invention, a zirconium compound is added to water containing an organic arsenic compound, a precipitate is formed with the organic arsenic compound in water to be treated, and the generated precipitate is removed. Therefore, no treatment such as heating is required, and no expensive equipment is used, so organic arsenic can be produced by a simple method that does not cause a problem in terms of cost even if the amount of treatment is large or small. The compound can be processed. By the treatment of the present invention, the concentration of organic arsenic compounds including diphenylarsinic acid can be reduced to 0.001 mg / L or less.
以下、本発明について、図１の本発明の有機ヒ素化合物含有水の処理方法を説明するフローシートに基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, this invention is demonstrated in detail based on the flow sheet explaining the processing method of the organic arsenic compound containing water of this invention of FIG.
ジフェニルアルシン酸、フェニルアルソン酸等の有機ヒ素化合物を含む有機ヒ素化合物含有水は、貯留タンク（１）に貯留された後、必要に応じて設けられる前処理沈殿槽（２）、前処理上澄水槽（３）を順次通された後、反応沈殿槽（４）に通される。 Organic arsenic compound-containing water containing organic arsenic compounds such as diphenylarsinic acid and phenylarsonic acid is stored in the storage tank (1), and then provided as necessary, a pretreatment sedimentation tank (2), a pretreatment supernatant water tank (3) is sequentially passed, and then passed to the reaction settling tank (4).
前処理沈殿槽（２）には、第二鉄塩として、塩化第二鉄、硫酸第二鉄およびポリ硫酸第二鉄からなる群から選択される１種または複数種が添加され、さらにＮａＯＨ等のｐＨ調整剤が添加される。 In the pretreatment settling tank (2), one or more kinds selected from the group consisting of ferric chloride, ferric sulfate and polyferric sulfate are added as ferric salts, and NaOH and the like PH adjuster is added.
第二鉄塩およびｐＨ調整剤が導入された後、前処理沈殿槽（２）中には、無機ヒ素化合物を含む沈殿物が生じる。このようにして形成された沈殿物は、前処理沈殿槽（２）の底部に貯まり、汚泥として回収される。得られた汚泥は焼却処理に付される。上澄は、前処理上澄水槽（３）に通される。 After the ferric salt and the pH adjuster are introduced, a precipitate containing an inorganic arsenic compound is generated in the pretreatment precipitation tank (2). The precipitate thus formed is stored at the bottom of the pretreatment sedimentation tank (2) and recovered as sludge. The obtained sludge is subjected to incineration. The supernatant is passed through a pretreatment supernatant water tank (3).
反応沈殿槽（４）に処理対象水を通す前に、このような前処理沈殿槽（２）および前処理上澄槽（３）を通ることにより、処理対象水中に存在する無機ヒ素化合物を予め処理しておくことができる。ジルコニウム化合物は、有機ヒ素化合物の沈殿を生じさせる効果を有しているが、同様に無機ヒ素化合物に対しても沈殿を生じさせる効果を有している。したがって、処理対象水中に無機ヒ素化合物の含有量が多い場合には、ジルコニウム化合物よりも安価であり、無機ヒ素化合物に対して沈殿生成効果を有する第二鉄塩を添加することにより、処理対象水中の無機ヒ素化合物を低減させることができる。したがって、処理対象水中の無機ヒ素化合物含有量が少ない場合には、上記の前処理沈殿槽（２）および前処理上澄水槽（３）は不要である。 Before passing the water to be treated through the reaction sedimentation tank (4), the inorganic arsenic compound present in the water to be treated is preliminarily passed through such a pretreatment sedimentation tank (2) and a pretreatment supernatant tank (3). Can be processed. Zirconium compounds have the effect of causing precipitation of organic arsenic compounds, but similarly have the effect of causing precipitation of inorganic arsenic compounds. Therefore, when the content of the inorganic arsenic compound is large in the water to be treated, it is cheaper than the zirconium compound, and by adding a ferric salt having a precipitation forming effect on the inorganic arsenic compound, Inorganic arsenic compounds can be reduced. Therefore, when the content of the inorganic arsenic compound in the water to be treated is small, the pretreatment sedimentation tank (2) and the pretreatment supernatant water tank (3) are unnecessary.
反応沈殿槽（４）には、ジルコニウム化合物として、硫酸ジルコニウム、塩化ジルコニウムおよびオキシ塩化ジルコニウムからなる群から選択される１種または複数種が添加され、さらにＮａＯＨ等のｐＨ調整剤が添加される。 As the zirconium compound, one or more kinds selected from the group consisting of zirconium sulfate, zirconium chloride and zirconium oxychloride are added to the reaction precipitation tank (4), and a pH adjusting agent such as NaOH is further added.
反応沈殿槽（４）に添加されるジルコニウム化合物の量は、処理対象の有機ヒ素化合物含有水に含まれるヒ素量に応じて決定すればよく、有機ヒ素化合物含有水中に含まれる有機ヒ素化合物に対して過剰になるように添加してもよい。ジルコニウム化合物は、処理後の水にジルコニウム化合物が残存していたとしてもその生体毒性は極めて低く、一般に、食器、化粧品等の分野で使用されるものであるので、残存しているジルコニウム化合物に対してこれらの分野で用いられるジルコニウム処理法を適用すればよく、その取り扱いが容易である。 What is necessary is just to determine the quantity of the zirconium compound added to a reaction precipitation tank (4) according to the amount of arsenic contained in the organic arsenic compound containing water of a process target, with respect to the organic arsenic compound contained in the organic arsenic compound containing water. May be added so as to be excessive. Zirconium compounds have extremely low biotoxicity even if they remain in the treated water, and are generally used in the fields of tableware, cosmetics, etc. Therefore, the zirconium treatment method used in these fields may be applied, and the handling thereof is easy.
反応沈殿槽（４）のｐＨは、ｐＨ調整剤により３〜６に調整される。ｐＨのモニタリングはｐＨ計測器等の当業者に公知の手段を用いればよい。 The pH of the reaction precipitation tank (4) is adjusted to 3 to 6 with a pH adjuster. For monitoring pH, means known to those skilled in the art such as a pH meter may be used.
ジルコニウム化合物およびｐＨ調整剤が導入された後、反応沈殿槽（４）中には、有機ヒ素化合物を含む沈殿物が生じる。このようにして形成された沈殿物は、反応沈殿槽（４）の底部に貯まり、汚泥として回収される。得られた汚泥は焼却処理に付される。上澄は、上澄水槽（５）に通される。 After the zirconium compound and the pH adjusting agent are introduced, a precipitate containing an organic arsenic compound is generated in the reaction precipitation tank (4). The precipitate thus formed is stored at the bottom of the reaction sedimentation tank (4) and recovered as sludge. The obtained sludge is subjected to incineration. The supernatant is passed through the supernatant water tank (5).
なお、ジルコニウム化合物添加工程は、多段で行うように構成してもよい。このような多段構成とすることにより、有機ヒ素化合物の除去率を高く設定することができ、しかも、１段のみにより処理する場合と比較して、ジルコニウム化合物およびｐＨ調整剤のための薬剤費および沈殿を処理するための費用を低く抑えることができることが、本発明者らが行った実験により明らかとなった。例えば、１段処理で用いられる薬剤と比較して、２段処理に要する薬剤は、１０％＋１０％の量で十分であり、処理対象水中の有機ヒ素化合物含有量が多い場合にはジルコニウム化合物添加工程を多段で行うことが有効である。また、ジルコニウム化合物等の添加薬剤量を低減することができることにより、処理後に残留する硫酸イオン、塩化物イオン等のジルコニウムまたは鉄の対イオンの濃度を低くことができる。これらのイオンの濃度が高いと、処理後の水を放流する前に、規制によりこれらを処理しなければならない場合も生じる。 In addition, you may comprise so that a zirconium compound addition process may be performed in multiple steps. By adopting such a multi-stage configuration, the removal rate of the organic arsenic compound can be set high, and compared with the case of processing by only one stage, the chemical cost for the zirconium compound and the pH adjuster and Experiments conducted by the present inventors have revealed that the cost for treating the precipitate can be kept low. For example, compared with the chemical used in the first stage treatment, the amount of the chemical required for the second stage treatment is 10% + 10%, and when the content of the organic arsenic compound in the water to be treated is large, the zirconium compound is added. It is effective to perform the process in multiple stages. Further, since the amount of added chemicals such as zirconium compounds can be reduced, the concentration of counter ions of zirconium or iron such as sulfate ions and chloride ions remaining after the treatment can be lowered. If the concentration of these ions is high, it may be necessary to treat these by regulation before discharging the treated water.
複数段でジルコニウム化合物添加工程を行う場合、その適正な段数は、処理対象水の水量を鑑みて経済的に決められる。例えば、処理対象水中の有機ヒ素化合物含有量が多い場合または短い期間内で処理対象水を処理する必要がある場合には、含有量に応じて段数を多くすればよい。他方、段数が増えると処理槽の設置のための費用が割高となり、また、スペースも必要となるので、処理対象水中の有機ヒ素化合物含有量が少ない場合には、少ない段数または１段で処理を行うようにすればよい。 When the zirconium compound addition step is performed in a plurality of stages, the appropriate number of stages is economically determined in view of the amount of water to be treated. For example, when the content of the organic arsenic compound in the treatment target water is large or when it is necessary to treat the treatment target water within a short period, the number of stages may be increased according to the content. On the other hand, if the number of stages increases, the cost for installing the treatment tank becomes expensive, and space is also required. Therefore, when the content of the organic arsenic compound in the water to be treated is small, the treatment is performed with a small number of stages or one stage. You just have to do it.
上澄水槽（５）に通された水は、必要に応じて、沈殿生成槽（６）、中継槽（７）、ろ過器（８）、活性炭吸着塔（９）およびヒ素吸着塔（１０）を順次通過し、さらなる処理に付される。沈殿生成槽（６）は、上述のような多段で処理する場合の二段目のジルコニウム化合物添加処理槽であってよく、あるいは、上流の槽での固形物の除去が思わしくない場合に固形物を凝集・沈殿させる槽であってもよい。後者の場合には、固形物を沈殿させるために高分子凝集剤が添加される。沈殿生成槽（６）で生じた沈殿物は、汚泥として回収され、産業廃棄物として処理される。ろ過器（８）では、反応沈殿槽（４）または沈殿生成槽（６）で汚泥として除去されきれなかった沈殿物、処理水中の浮遊物を除くための処理がなされる。活性炭吸着塔（９）では、各処理を終了した水を脱臭および脱色するための処理がなされる。ヒ素吸着塔（１０）は、ヒ素吸着用樹脂あるいは活性炭により処理水中のヒ素を除くための処理がなされる、安全弁としての機能を有する塔である。 The water passed through the supernatant water tank (5) is, as necessary, a precipitation generation tank (6), a relay tank (7), a filter (8), an activated carbon adsorption tower (9), and an arsenic adsorption tower (10). Are sequentially passed through for further processing. The precipitation generation tank (6) may be a second-stage zirconium compound addition treatment tank when processing in multiple stages as described above, or a solid substance when removal of solid substances in the upstream tank is not expected. May be a tank for agglomerating and precipitating. In the latter case, a polymer flocculant is added to precipitate the solid. The precipitate generated in the precipitation generation tank (6) is recovered as sludge and treated as industrial waste. In the filter (8), a treatment for removing precipitates that have not been removed as sludge in the reaction precipitation tank (4) or the precipitation generation tank (6) and suspended matters in the treated water is performed. In the activated carbon adsorption tower (9), the treatment for deodorizing and decoloring the water after each treatment is performed. The arsenic adsorption tower (10) is a tower having a function as a safety valve, which is treated for removing arsenic in the treated water with an arsenic adsorption resin or activated carbon.
次に、反応沈殿槽（４）における処理についてより詳細に説明する。 Next, the process in the reaction settling tank (4) will be described in more detail.
上記のように反応沈殿槽（４）には、ジルコニウム化合物およびｐＨ調整剤が注入され、その注入量は、有機ヒ素化合物の設定除去率およびジルコニウム化合物添加工程を行うための段数により決定される。 As described above, the zirconium compound and the pH adjusting agent are injected into the reaction precipitation tank (4), and the injection amount is determined by the set removal rate of the organic arsenic compound and the number of stages for performing the zirconium compound addition step.
ジルコニウム化合物量の目安としては、処理段数が１である場合には、
有機ヒ素化合物の処理目標濃度／原水中有機ヒ素化合物濃度
＝［ジルコニウムイオンのモル濃度／有機ヒ素化合物のモル濃度］−０．９２
が成立するようにし、処理段数が２以上である場合には、段毎に、
有機ヒ素化合物の処理目標濃度／原水中有機ヒ素化合物濃度
＝［ジルコニウムイオンのモル濃度／有機ヒ素化合物のモル濃度］−１．７７
が成立するようにするのが好ましい。
As a measure of the amount of zirconium compound, when the number of processing stages is 1,
Treatment target concentration of organic arsenic compound / Organic arsenic compound concentration in raw water = [Molar concentration of zirconium ion / Molar concentration of organic arsenic compound] −0.92
If the number of processing stages is 2 or more, for each stage,
Treatment target concentration of organic arsenic compound / Organic arsenic compound concentration in raw water = [Molar concentration of zirconium ion / Molar concentration of organic arsenic compound] -1.77
Is preferably satisfied.
適切なジルコニウム化合物の注入量を決めるためには、事前に処理水中の有機ヒ素化合物濃度を測定する試験を行い確認する必要がある。 In order to determine an appropriate injection amount of the zirconium compound, it is necessary to confirm in advance by performing a test for measuring the concentration of the organic arsenic compound in the treated water.
また、反応沈殿槽（４）におけるｐＨは、３〜６に調整されることが好ましく、より好ましいｐＨの範囲は４〜５であり、最も好ましくは目標ｐＨを５としてｐＨを４〜５の範囲に調整する。このような範囲にｐＨを調整すれば、反応沈殿槽（４）において有機ヒ素化合物の沈殿が最も析出しやすく、沈殿物が除去された後の水は、上澄水槽（５）に貯留後、上記に挙げた任意の工程を経ることなく、直接的に放流することができる。 Further, the pH in the reaction precipitation tank (4) is preferably adjusted to 3 to 6, more preferably in the range of 4 to 5, most preferably in the range of 4 to 5 with the target pH being 5. Adjust to. If the pH is adjusted to such a range, the precipitation of the organic arsenic compound is most likely to precipitate in the reaction precipitation tank (4), and the water after the precipitate is removed is stored in the supernatant water tank (5), It can be discharged directly without going through any of the steps listed above.
本発明の有機ヒ素化合物含有水の処理の効果を確認した。以下、これを実施例として説明する。 The effect of the treatment of the organic arsenic compound-containing water of the present invention was confirmed. This will be described below as an example.
（実施例１）
１）有機ヒ素化合物であるジフェニルアルシン酸を蒸留水に溶解させることにより、１７〜２６ｍｇ／Ｌの濃度（ヒ素換算）のジフェニルアルシン酸含有水溶液試料を作製した。
Example 1
1) A diphenylarsinic acid-containing aqueous solution sample having a concentration of 17 to 26 mg / L (in terms of arsenic) was prepared by dissolving diphenylarsinic acid, which is an organic arsenic compound, in distilled water.
２）上記のジフェニルアルシン酸含有水溶液試料に、モル比（Ｚｒ／Ａｓの元素モル比）で４．１〜６．２となるように硫酸ジルコニウムを添加した。 2) Zirconium sulfate was added to the diphenylarsinic acid-containing aqueous solution sample so that the molar ratio (element molar ratio of Zr / As) was 4.1 to 6.2.
３）２）の試料を９個に分け、それぞれにＮａＯＨを加えることにより試料のｐＨを、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１に調整した。 3) The sample of 2) was divided into 9 pieces, and the pH of the sample was adjusted to 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 by adding NaOH to each.
４）得られた各試料を暗所に０．５時間静置した後、上澄水中の全ヒ素濃度を測定した。この全ヒ素濃度の測定は、ＩＣＰ／ＡＥＳおよびＩＣＰ／ＭＳ法により行った。 4) Each sample obtained was allowed to stand in the dark for 0.5 hour, and then the total arsenic concentration in the supernatant water was measured. The total arsenic concentration was measured by ICP / AES and ICP / MS methods.
（実施例２）
実施例１の工程２）において、硫酸ジルコニウムに代えて塩化ジルコニウムを添加した以外は、実施例１と同様にして操作を行った。
(Example 2)
The operation was performed in the same manner as in Example 1 except that zirconium chloride was added instead of zirconium sulfate in Step 2) of Example 1.
（実施例３）
実施例１の工程２）において、硫酸ジルコニウムに代えてオキシ塩化ジルコニウムを添加した以外は、実施例１と同様にして操作を行った。
(Example 3)
The operation was performed in the same manner as in Example 1 except that zirconium oxychloride was added instead of zirconium sulfate in Step 2) of Example 1.
（比較例１）
実施例１の工程２）において、硫酸ジルコニウムに代えてポリ硫酸鉄（ＩＩＩ）を添加した以外は、実施例１と同様にして操作を行った。
(Comparative Example 1)
The operation was performed in the same manner as in Example 1 except that polyiron sulfate (III) was added in place of zirconium sulfate in Step 2) of Example 1.
図２は、実施例１〜３と比較例１による有機ヒ素化合物の除去効果の結果を示すグラフである。 FIG. 2 is a graph showing the results of the removal effect of organic arsenic compounds according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.
グラフに示すように、各ジルコニウム化合物を添加した方がポリ硫酸鉄を添加した場合よりも良好に有機ヒ素化合物を除去することができた。その中でも、ジルコニウム化合物として硫酸ジルコニウムを用いた場合に最良の除去効果が得られた。また、ｐＨが３〜６である場合に有機ヒ素化合物の除去効果が得られたが、ｐＨが５の時に最良の除去効果が得られた。 As shown in the graph, the organic arsenic compound could be removed better when each zirconium compound was added than when the polyiron sulfate was added. Among them, the best removal effect was obtained when zirconium sulfate was used as the zirconium compound. Moreover, although the removal effect of the organic arsenic compound was obtained when the pH was 3 to 6, the best removal effect was obtained when the pH was 5.
図３には、最も好ましい結果が得られた、硫酸ジルコニウムを添加しｐＨを５に調整して処理した場合におけるジルコニウム添加量（ジルコニウムイオンモル濃度／有機ヒ素化合物モル濃度）と除去率との関係を示す。 FIG. 3 shows the relationship between the amount of zirconium added (zirconium ion molar concentration / organic arsenic compound molar concentration) and the removal rate when zirconium sulfate was added and the pH was adjusted to 5 in order to obtain the most preferable results. Indicates.
（実施例４）
別の有機ヒ素化合物であるフェニルアルソン酸についても、上記の実施例と同様の処理を行う試験を行った。
Example 4
Another phenyl arsonic acid, which is an organic arsenic compound, was tested for the same treatment as in the above examples.
その結果、全ての条件でフェニルアルソン酸の除去率が、ジフェニルアルシン酸の除去率よりも高いという結果が得られた。 As a result, the result that the removal rate of phenylarsonic acid was higher than the removal rate of diphenylarsinic acid under all conditions was obtained.
このことから、本発明により処理方法においては、ジフェニルアルシン酸を想定した処理を行うようにすれば、フェニルアルソン酸とジフェニルアルソン酸との両方を混合して含む水に対しても十分な除去効果を得ることができることが分かった。 From this, in the treatment method according to the present invention, if the treatment assuming diphenylarsinic acid is performed, a sufficient removal effect can be obtained even for water containing both phenylarsonic acid and diphenylarsonic acid mixed. It turns out that you can get.
１ 貯留タンク
２ 前処理沈殿槽
３ 前処理上澄水槽
４ 反応沈殿槽
５ 上澄水槽
６ 沈殿生成槽
７ 中継槽
８ ろ過器
９ 活性炭吸着塔
１０ ヒ素吸着塔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (7)
ジルコニウム化合物の添加により生じた有機ヒ素化合物含有沈殿物を除去する工程と
を包含することを特徴とする有機ヒ素化合物含有水の処理方法。 Adding a zirconium compound to organic arsenic compound-containing water containing an organic arsenic compound that is both or one of diphenylarsinic acid and phenylarsonic acid ;
And a method for removing the organic arsenic compound-containing precipitate produced by the addition of the zirconium compound.
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