JP4703077B2 - ピリミジン誘導体及びそれを含有する除草剤 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
本発明は、新規なピリミジン誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ピリミジン誘導体については、国際出願WO95/12582号公報明細書、国際出願WO96/22980号公報明細書、国際出願WO97/12877号公報明細書等に知られているが、本発明のピリミジン誘導体は未だ知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
有用作物に対して使用される除草剤は、畑作土壌又は水田に施用し、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間の選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。そこで本発明は優れた除草活性ならびに作物雑草間に選択性のある化合物を提供することを課題とする。
【0004】
【発明を解決するための手段】
本発明者らは、このような状況に鑑み種々の置換ピリミジン誘導体を合成し、その生理活性について検討を重ねた。その結果、本発明化合物の新規な置換ピリミジン誘導体が優れた除草活性ならびに作物雑草間に選択性を有することを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式[I]
【0005】
【化16】
【0006】
{式中、R1は水素原子(但しR2=水素原子でありW=SO2の場合は除く)、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルカルボニルC1〜C6アルキル基、ヒドロキシ基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、シアノC1〜C6アルキル基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C1〜C6アルキルチオ基(但しR2=フェニル基でありW=SO2の場合は除く)、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノ基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC2〜C6アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルC1〜C6アルキル基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、アルデヒド基、オキシラニル基、基NR9R10又は基CONR9R10を表し、R9は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基を表し、R10はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでR9及びR10はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員飽和環を形成してもよく、R2は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C2〜C7アシル基、シアノ基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキシイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、基CR11R12NR9R10、基CONR9R10、基CR11R12CONR9R10又は一般式R2−1〜R2−13
【0007】
【化17】
【0008】
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、R11及びR12は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC1〜C6アルコキシ基を表し、R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、ジC1〜C6アルキルアミノ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、オキシラニルC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基を表し、Wは基−C(=Q)Z−又は基−SO2−を表し、Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、Zは酸素原子、硫黄原子、基−NR6−、基−CH2CH2−、基−CH=CH−、基−C(R4)R5−、基−C(R4)R5−Q−、基−C(=Q)−、基−NR6NR6a−又は基−NR6C(R4)R5−を表し、R4及びR5は水素原子、C1〜C6アルキル基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C6アルキルチオ基を表し、R6及びR6aは水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基又はC2〜C6アルキニル基を表し、ここでR3及びR6はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員環状ウレアを形成してもよく、
Ar基は一般式Ar−1〜Ar−17
【0009】
【化18】
【0010】
(式中、X’は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、n’は1〜3の整数を表し、mは0〜3の整数を表し、n’が2〜3の整数の場合は、X’は、同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、
R7は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表し、
R8は水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表す。}で示されるピリミジン誘導体及び、これを有効成分として含有する除草剤を提供するものである。
尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。
【0011】
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
C1〜C6アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を意味し、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基等を挙げることができる。
C3〜C6シクロアルキル基とは、炭素数が3〜6のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基等を挙げることができる。
C2〜C6アルケニル基とは、炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基又は2−プロペニル基等を挙げることができる。
C2〜C6アルキニル基とは、炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基又は2−プロピニル基等を挙げることができる。
C1〜C4ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は相異なるハロゲン原子1〜9で置換されている炭素数が1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばクロロメチル基、トリフルオロメチル基又はテトラフルオロエチル基等を挙げることができる。
C1〜C6アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)−O−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基等を挙げることができる。
【0012】
C2〜C6アルケニルオキシ基とは、アルケニル部分が上記の意味である(アルケニル)−O−基を示し、例えばエテニルオキシ基又は2−プロペニルオキシ基等を挙げることができる。
C2〜C6アルキニルオキシ基とは、アルキニル部分が上記の意味である(アルキニル)−O−基を示し、例えばエチニルオキシ基又は2−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。
C3〜C6シクロアルキルオキシ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である(シクロアルキル)−O−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)−O−(アルキレン)−基を示し、例えばメトキシメチル基又はエトキシメチル基等を挙げることができる。
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である(シクロアルキル)−(C1〜C6アルキレン)基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基又はシクロヘキシルエチル基等を挙げることができる。
C1〜C4ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である(ハロアルキル)−O−基を示し、例えばトリフルオロメトキシ基又は2,2,2−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【0013】
C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基及びC1〜C6アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)−S−基、(アルキル)−SO−基、(アルキル)−SO2−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はエチルスルホニル基等を挙げることができる。
C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルケニルスルフィニル基及びC2〜C6アルケニルスルホニル基とは、アルケニル部分が上記の意味である(アルケニル)−S−基、(アルケニル)−SO−基、(アルケニル)−SO2−基を示し、例えばプロペニルチオ基、ブテニルチオ基、プロペニルスルフィニル基、ブテニルスルフィニル基、プロペニルスルホニル基又はブテニルスルホニル基等を挙げることができる。
C2〜C6アルキニルチオ基、C2〜C6アルキニルスルフィニル基及びC2〜C6アルキニルスルホニル基とは、アルキニル部分が上記の意味である(アルキニル)−S−基、(アルキニル)−SO−基、(アルキニル)−SO2−基を示し、例えばエチニルチオ基、2−プロピニルチオ基、エチニルスルフィニル基、2−プロピニルスルフィニル基、エチニルスルホニル基又は2−プロピニルスルホニル基等を挙げることができる。
【0014】
C3〜C6シクロアルキルチオ基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基及びC3〜C6シクロアルキルスルホニル基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である(シクロアルキル)−S−基、(シクロアルキル)−SO−基、(シクロアルキル)−SO2−基を示し、例えばシクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、シクロプロピルスルフィニル基、シクロブチルスルフィニル基、シクロペンチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、シクロプロピルスルホニル基、シクロブチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基又はシクロヘキシルスルホニル基等を挙げることができる。
【0015】
C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)−S−(アルキレン)基を示し、例えばメチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基又はメチルチオエチル基等を挙げることができる。
C2〜C7アシル基とは、C1〜C6アルキルカルボニル基、C2〜C6アルケニルカルボニル基、C2〜C6アルキニルカルボニル基、C3〜C6シクロアルキルカルボニル基又はベンゾイル基を示し、例えばアセチル基、プロピオニル基、n−ブチリル基、イソブチリル基、シクロプロピルカルボニル基又はベンゾイル基等を挙げることができる。
C1〜C6アルキルカルボニルC1〜C6アルキル基とは例えばメチルカルボニルメチル基、エチルカルボニルメチル基又はプロピルカルボニルメチル基等を挙げることができる。
ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基とは、例えばジメトキメチル基又はジエトキメチル基等を挙げることができる。
C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基とは、例えばメトキイミノメチル基、エトキシイミノメチル基等を挙げることができる。
ヒドロキシイミノC1〜C6アルキル基とは、例えばヒドロキシイミノメチル基又はヒドロキシイミノエチル基等を挙げることができる。
シアノC1〜C6アルキル基とは、例えばシアノメチル基又はシアノエチル基等が挙げられる。
C1〜C6ヒドロキシアルキル基とは、例えばヒドロキシメチル基又はヒドロキシエチル基等が挙げられる。
C1〜C6アルコキシカルボニル基とは、例えばメトキカルボニル基又はエトキシカルボニル基等を挙げることができる。
C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基とは、例えばメトキカルボニルメチル基又はエトキシカルボニルメチル基等を挙げることができる。
カルボキシルC1〜C6アルキル基とは、例えばカルボキシメチル基又はカルボキシエチル基等を挙げることができる。
ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基とは、例えばジエトキシメチル基又は2−ジメトキシエチル基等を挙げることができる。
ジC1〜C6アルキルアミノ基とはアルキルアルキル部分が上記の意味であるジアルキルアミノ基であり、例えばジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基等を挙げることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
次に、一般式[I]で表される本発明化合物の代表的な具体例を表1〜表39に例示する。しかしながら、本発明化合物はこれらの化合物に限定されるものではない。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。また、本発明化合物及び記載化合物中で1つ以上の不斉炭素を有している場合は全ての立体異性体を本発明化合物として含む。
【0017】
本明細書の表中においてS−体及びR−体の表記はそれぞれ光学異性体のS−体及びR−体を表し、不斉炭素を有していても特に表記がない場合はラセミ体を表す。また、表中においてA−体及びB−体の表記は、ジアステレマー異性体が存在する場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分割して先に溶出するものをA−体、後に溶出するものをB−体とし、ジアステレオマー異性体が存在していても特に表記がない場合はジアステレオマー混合物を表す。
【0018】
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Me :メチル基、 Et :エチル基、
Pr :n−プロピル基、 Pr−i :イソプロピル基、
Pr−c :シクロプロピル基、 Bu :n−ブチル基、
Bu−i :イソブチル基、 Bu−s :sec−ブチル基、
Bu−t :tert−ブチル基、 Bu−c :シクロブチル基、
Pen :n−ペンチル基、 Pen−i:イソペンチル基、
Pen−c:シクロペンチル基、 Hex−c:シクロヘキシル基
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】
【表3】
【0022】
【表4】
【0023】
【表5】
【0024】
【表6】
【0025】
【表7】
【0026】
【表8】
【0027】
【表9】
【0028】
【表10】
【0029】
【表11】
【0030】
【表12】
【0031】
【表13】
【0032】
【表14】
【0033】
【表15】
【0034】
【表16】
【0035】
【表17】
【0036】
【表18】
【0037】
【表19】
【0038】
【表20】
【0039】
【表21】
【0040】
【表22】
【0041】
【表23】
【0042】
【表24】
【0043】
【表25】
【0044】
【表26】
【0045】
【表27】
【0046】
【表28】
【0047】
【表29】
【0048】
【表30】
【0049】
【表31】
【0050】
【表32】
【0051】
【表33】
【0052】
【表34】
【0053】
【表35】
【0054】
【表36】
【0055】
【表37】
【0056】
【表38】
【0057】
【表39】
【0058】
本発明化合物は、例えば以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。尚、製造中間体の合成法も併せて記載する。
【0059】
【化19】
(式中、R1、R2、R7及びR8はそれぞれ前記と同じ意味を表し、R13はC1〜C6アルキル基を表す。)
即ち、工程(1−1)では一般式[II−1]で表される化合物1当量に対し、一般式[II−2]で表される化合物1〜10当量を無水酢酸中で反応させることにより、一般式[II−4]で表される化合物を得ることができる。ここで、場合により触媒(例えば塩化亜鉛等を例示できる。)0.01〜1.0当量を添加しても良い。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0060】
次に、工程(1−2)では一般式[II−4]で表される化合物1当量に対し、塩基1〜10当量の存在下、一般式[II−6]で表される化合物のルイス酸塩1〜10当量を不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[II−7]で表される化合物を得ることができる。本反応は、場合により一般式[II−8]で表される化合物も副生成物として得られる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
【0061】
塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム又は水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物を例示できる。
ルイス酸としては酢酸、塩酸等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0062】
又、工程(1−3)では一般式[II−1]で表される化合物1当量に対し、一般式[II−3]で表される化合物1〜10当量を、無溶媒又は不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[II−5]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0063】
更に、工程(1−4)では一般式[II−5]で表される化合物1当量に対し、一般式[II−6]で表される化合物のルイス酸塩1〜5当量を、不活性溶媒中、塩基1〜10当量の存在下、反応させることにより、一般式[II−7]で表される化合物を得ることができる。本反応は、場合により一般式[II−8]で表される化合物も副生成物として得られる。
不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、又は水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物を例示できる。
ルイス酸としては酢酸、塩酸等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0064】
【化20】
(L1はハロゲン原子を表し、式中、R1、R2、R7及びR8はそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
即ち、工程(2−1)では一般式[II−7]で表される化合物1当量を、不活性溶媒中、還元剤(例えばボラン−tert−ブチルアミン錯体又は水素化ホウ素ナトリウム等を例示できる。)0.5〜10当量で還元することにより、一般式[III−3]で表される化合物を得ることができる。
【0065】
不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール、tert−ブチルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0066】
工程(2−2)では一般式[III−1]で表される化合物1当量に対し、一般式[III−2]で表される化合物1〜10当量を、メチルリチウム、エチルリチウム又はn−ブチルリチウム等のアルキルリチウム類、或いはマグネシウム1〜10当量の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[III−3]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−100℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
なお、上記製造方法で用いる製造中間体である一般式[III−1]で表される化合物は、例えば、国際出願WO97/37978号公報明細書等に記載の方法で合成できる。
【0067】
工程(2−3)では一般式[III−4]で表される化合物1当量に対し、一般式[III−5]で表される化合物1〜10当量を、メチルリチウム、エチルリチウム又はn−ブチルリチウム等のアルキルリチウム類、或いはマグネシウム1〜10当量の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[III−3]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−100℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0068】
【化21】
(式中、L2はC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルキル基が置換されてもよいフェニル基を表し、R1、R2、R3、R7、R8及びL1はそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
【0069】
即ち、工程(3−1)では一般式[III−3]で表される化合物1当量を、不活性溶媒中、塩素化剤(例えばチオニルクロリド又は塩化水素等を例示できる。)1〜10当量で塩素化することにより、一般式[IV−1]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0070】
工程(3−2)では一般式[IV−1]で表される化合物1当量に対し、一般式[IV−3]で表される化合物1〜10当量を不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[IV−4]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0071】
又、工程(3−3)では一般式[III−3]で表される化合物1当量と、一般式[IV−8]で表される化合物1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[IV−2]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いはピリジン等のピリジン類を例示できる。
【0072】
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0073】
更に、工程(3−4)では一般式[IV−2]で表される化合物1当量に対し、一般式[IV−3]で表される化合物2〜10当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[IV−4]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコールなどのアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0074】
工程(3−5)では一般式[III−3]で表される化合物1当量を、不活性溶媒中、三フッソ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、トリフェニルホスフィン及びトリフルオロ酢酸の存在下又は非存在下、トシルアジド、アジ化ジフェニルホスホリル、アジ化ナトリウム、アジ化リチウム又はアジ化水素などのアジド化剤1〜10当量でアジド化することにより、一般式[IV−5]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0075】
工程(3−6)では一般式[IV−5]で表される化合物1当量に対し、マグネシウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、トリフェニルホスフィン又は鉄などの還元剤1〜10当量を使用、或いはパラジウム炭素、白金炭素又はラネーニッケルなどの触媒を使う水素化接触還元を行うことにより、不活性溶媒中で、一般式[IV−6]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0076】
工程(3−7)では一般式[IV−6]で表される化合物1当量に対し、一般式[IV−7]で表される化合物1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[IV−4]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0077】
【化22】
(式中、R1、R2、R3、R7、R8、Z及びArはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
【0078】
即ち、工程(4−1)では一般式[IV−4]で表される化合物1当量に対し、一般式[V−1]で表される化合物1〜10当量を、不活性溶媒中、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下で反応させるか、或いは、一般式[IV−4]で表される化合物1当量に対し、一般式[V−2]で表される化合物1〜10当量を、縮合剤(例えば1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドハイドロクロリド又は1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾール等を例示できる。)1〜10当量の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[V]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いはアセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒を例示できる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類、或いはピリジン又はトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
何れの反応も場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0079】
【化23】
(式中、R1、R2、R3、R7、R8、Z及びArはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
【0080】
即ち、工程(5−1)では一般式[V]で表される本発明化合物1当量を、不活性溶媒中、五硫化二リン又はローソン試薬0.3〜10当量と反応させることにより、一般式[VI]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いはピリジン等のピリジン類等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0081】
【化24】
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R6a、R7、R8、Ar及びL1はそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
【0082】
即ち、工程(6−1)では一般式[IV−4]で表される化合物1当量に対し、一般式[VII−1]で表される化合物又は一般式[VII−2]で表される化合物0.5〜5当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[VII−3]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール、イソプロピルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0083】
次に、工程(6−2)では一般式[VII−3]で表される本発明化合物1当量に対し、一般式[VII−4]で表される化合物1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[VII]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0084】
工程(6−3)では一般式[IV−4]で表される化合物1当量に対し、一般式[VII−5]で表される化合物1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[VII−6]で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0085】
次に、工程(6−4)、工程(6−5)及び工程(6−6)では一般式[VII−6]で表される化合物1当量に対し、それぞれ一般式[VII−7]で表される化合物、一般式[VII−8]で表される化合物及び一般式[VII−9]で表される化合物1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[VII]で表される本発明化合物、一般式[VII’]で表される化合物及び一般式[VII”]で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0086】
【化25】
(式中、R1、R2、R7、R8、Z及びArはそれぞれ前記と同じ意味を表わし、R13aはC1〜C6アルキル基を表す。)
【0087】
即ち、工程(7−1)では一般式[VIII−1]で表される化合物1当量を、不活性溶媒中、パラホルムアルデヒド1〜10当量と反応させることにより(条件により、ディーンスタークの使用又は触媒を添加する)、一般式[VIII−2]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
触媒としては、例えばトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0088】
次に工程(7−2)では一般式[VIII−2]で表される化合物1当量を、[V−1]で表される化合物1〜10当量と不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[VIII−3]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0089】
更に工程(7−3)では一般式[VIII−3]で表される化合物1当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、一般式[VIII−4]で表される化合物1〜4当量と不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[VIII]で表される本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類、或いはピリジン又はトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0090】
【化26】
(式中、R1、R2、R3、R7、R8及びArはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
【0091】
即ち、工程(8−1)では一般式[IV−4]で表される化合物1当量に対し、一般式[IX−1]で表される化合物1〜10当量を、不活性溶媒中、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下で反応させることにより、一般式[IX]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類、或いはピリジン又はトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0092】
【化27】
(式中、R1、R7、R8及びL1はそれぞれ前記と同じ意味を表し、R21及びR22は水素原子又はC1〜C6アルキル基を表わし、R23はC1〜C6アルコキシ基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルキルチオ基、シアノ基又はNR9R10を表わし、R9及びR10はそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
【0093】
即ち、工程(9−1)では一般式[X−1]で表される化合物1当量を、不活性溶媒中、塩素化剤(例えばスルフリルクロリド、N−クロロスクシンイミド又は塩素等を例示できる。)1〜10当量でハロゲン化することにより、一般式[X−2]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0094】
次に、工程(9−2)では一般式[X−2]で表される化合物1当量に対し、一般式[X−3]で表される化合物1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[X−4]で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0095】
【化28】
(式中、R2、R3、R7、R8、R9、R10、W、L1及びArはそれぞれ前記と同じ意味を表し、R13bはC1〜C6アルキル基又は互いに結合していてもよいC1〜C4飽和炭素鎖を表わし、R13cはC1〜C6アルキル基を表し、R14及びR15は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表わし、sは0又は1を表わす。)
【0096】
即ち、工程(10−1)では一般式[XI−1]で表される化合物1当量に対し、塩酸又は硫酸等の酸0.9〜20当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XI−2]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、アセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、水、或いはそれらの混液を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0097】
次に、工程(10−2)では一般式[XI−2]で表される本発明化合物1当量に対し、ヒドロキシアミン塩酸塩1〜10当量を、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムの存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−3]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0098】
次に、工程(10−3)では一般式[XI−3]で表される化合物1当量に対し、脱水剤1〜10当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XI−4]で表される本発明化合物を得ることができる。
【0099】
脱水剤としては1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、1,1’−カルボニルジイミダゾール、チオニルクロライド、五塩化リン、メタンスルホニルクロライド、ジホスゲン、p−トルエンスルホン酸クロライド、又は無水酢酸等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、又は四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0100】
次に、工程(10−4)では、一般式[XI−4]で表される本発明化合物1当量に対し、一般式[XI−5]で表される化合物1〜10当量と、メチルリチウム、エチルリチウム又はn−ブチルリチウム等のアルキルリチウム、或いはマグネシウム1〜10当量を、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−6]で表される化合物を得ることができる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
【0101】
又、工程(10−5)では、一般式[XI−9]で表される本発明化合物1当量に対し、塩酸又は硫酸等の酸0.9〜20当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XI−6]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、アセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、水、或いはそれらの混液を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0102】
次に、工程(10−6)では一般式[XI−6]で表される本発明化合物1当量に対し、1〜10当量の酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム存在下、一般式[XI−7]で表される化合物1〜10当量を、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−8]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0103】
次に、工程(10−7)では一般式[XI−2]で表される本発明化合物1当量に対し、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の塩基1〜10当量の存在又は非存在下、過マンガン酸カリウム、過酢酸、過酸化水素、m−クロロ過安息香酸又は次亜塩素酸ナトリウムなどの酸化剤1〜10当量を不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XI−10]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばアセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、水、或いはそれらの混液を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0104】
次に、工程(10−8)では一般式[XI−10]で表される本発明化合物1当量に対し、硫酸、p−トルエンスルホン酸等の存在下、一般式[XI−11]で表される化合物1〜50当量を、不活性溶媒中又は無溶媒で、反応させることにより一般式[XI−12]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0105】
工程(10−9)では一般式[XI−10]で表される本発明化合物1当量に対し、チオニルクロライドなどの塩素化剤1〜10当量を、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−13]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、又は四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはn−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0106】
次に、工程(10−10)では、一般式[XI−13]で表される化合物1当量に対し、一般式[XI−11]で表される化合物1〜3当量を、塩基1〜6当量の存在又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−12]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0107】
又、工程(10−11)では、一般式[XI−10]で表される本発明化合物1当量に対し、一般式[XI−15]で表される化合物1〜3当量を、塩基1〜6当量の存在又は非存在下、1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾール、又はN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのペプチド化剤を使用することにより、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−14]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0108】
工程(10−12)では、一般式[XI−13]で表される化合物1当量に対し、一般式[XI−15]で表される化合物1〜3当量を、塩基1〜10当量の存在又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式[XI−14]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜100時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0109】
【化29】
(式中、R1、R2、R7、R8、Q及びArはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Msはメタンスルホニル基、pは2、3又は4を表わし、qは1又は0を表わす。)
【0110】
即ち、工程(11−1)及び工程(11−2)では一般式[IV−1]で表される化合物又は一般式[IV−2]で表される化合物1当量に対し、一般式[XII−1]で表される化合物0.9〜3当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下で、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XII−2]で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0111】
次に、工程(11−3)では一般式[XII−2]で表される化合物1当量に対し、ホスゲン又はチオホスゲン1〜10当量を、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下で、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XII]で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0112】
【化30】
(式中、R1aは水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、フェニル基又はC1〜C4ハロアルキル基を表わし、R16は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、フェニル基を表わし、Yは酸素原子、イオウ原子又はNR9を表わし、R9は前記と同じ意味を表わし、rは1または2を表わす。)
【0113】
即ち、工程(12−1)では一般式[XIII−1]で表される化合物1当量に対し、N−メチルホルムアニリド又はN,N−ジメチルホルムアミド1〜10当量とオキシ塩化リン1〜20当量を、不活性溶媒中又は無溶媒で反応させることにより、一般式[XIII−2]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素、クロロベンゼン、又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0114】
次に、工程(12−2)では一般式[XIII−2]で表される化合物1当量に対し、一般式[XIII−3]で表される化合物1〜3当量を使用することにより、塩基1〜10当量の存在下又は非存在下で、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XIII−4]で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムtert−ブトキシド等を例示できる。
ここで溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【0115】
また、工程(12−3)では一般式[XIII−2]で表される化合物1当量に対し、酸化マンガン1〜8当量とパラジウウム炭素又はラネーニッケルなどの触媒0.01〜4当量を使用することにより、水素添加を行い、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式[XIII−5]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類又は水を例示できる。
反応温度は−10℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、工程(12−4)では一般式[XIII−5]で表される化合物1当量に対し、不活性溶媒中でオキザリルクロリド1〜10当量、ジメチルスルホキシド1〜10当量、及びトリエチルアミン1〜10当量などを使用する酸化反応を行うことにより、一般式[XIII−6]で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、又は四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
【0116】
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−80℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが1時間〜24時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化合物の合成中間体の製造法も併せて記載する。
【0117】
【実施例】
<製造例1>
N−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]フェニルアセトアミド(本発明化合物番号1−8)の製造
4−トリフルオロメチル−5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]ピリミジン6g(26ミリモル)及び炭酸カリウム3.6g(26ミリモル)をアセトニトリル150mlに溶解し、フェニルアセチルクロリド4g(26ミリモル)を滴下し、室温にて3時間攪拌した。反応溶液に水200mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗結晶をn−ヘキサンにて洗浄し、無色透明結晶(融点106〜109℃)のN−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]フェニルアセトアミド7.7g(収率85%)を得た。
【0118】
<製造例2>
N−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]−2−ピリジルアセトアミド(本発明化合物番号2−3)の製造
2−ピリミジニル酢酸塩酸塩0.3g(1.7ミリモル)及びトリエチルアミン0.18g(1.8ミリモル)をテトラヒドロフラン30mlに溶解し、1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾール0.28g(1.7ミリモル)を加え、室温で1時間攪拌した。次に4−トリフルオロメチル−5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]ピリミジン0.4g(1.7ミリモル)を加え、さらに3時間加熱還流した。反応溶液に水100mlを加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル:メタノール=4.5:4.5:1)で精製し、無色透明結晶(融点99〜100℃)のN−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]−2−ピリジルアセトアミド0.2g(収率33%)を得た。
【0119】
<製造例3>
N−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]フェニルチオアセトアミド(本発明化合物番号1−142)の製造
N−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]フェニルアセトアミド0.45g(1.3ミリモル)及びローソン試薬0.52g(1.3ミリモル)をトルエン30mlに溶解し、30時間加熱還流した。反応溶液に水100mlを加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、淡黄色結晶(融点93〜94℃)のN−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]フェニルチオアセトアミド0.12g(収率26%)を得た。
【0120】
<製造例4>
N−メトキシメチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]−4−クロロフェニルアセトアミド(本発明化合物番号1−105)の製造
4−トリフルオロメチル−5−[1−アミノ−2−メチルプロピル]ピリミジン1.0g(4.6ミリモル)、パラホルムアルデヒド0.23g(6.9ミリモル)及びトリエチルアミン0..1g(9.9ミリモル)をトルエン50mlに溶解した。反応系からディーンスタークで脱水しながら1時間加熱還流した。反応溶液を室温に戻し、4−クロロフェニルアセチルクロリド0.86g(4.6ミリモル)を滴下し、さらに2時間撹拌した。この溶液に、メタノール0.2g(6.2ミリモル)及びトリエチルアミン0.5g(4.9ミリモル)のトルエン溶液10mlを滴下し、室温で1時間撹拌した。反応溶液に水100mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、無色透明結晶(融点142〜145℃)のN−メトキシメチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]−4−クロロフェニルアセトアミド0.5g(収率26%)を得た。
【0121】
<製造例5>
N−メチル−N−[2−メチル−1−(4−クロロジフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]−N’−(4−メチルフェニル)ウレア(本発明化合物番号1−37)の製造
4−クロロジフルオロメチル−5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]ピリミジン0.50g(2.1ミリモル)及び4−メチルフェニルイソシアナート0.28g(2.1ミリモル)をイソプロピルエーテル30mlに溶解し、室温にて1時間撹拌した。析出した結晶をろ別し、無色透明結晶(融点135〜137℃)のN−メチル−N−[2−メチル−1−(4−クロロジフルオロメチルピリミジン−5−イル)プロピル]−N’−(4−メチルフェニル)ウレア0.65g(収率84%)を得た。
【0122】
<製造例6>
1,3−ジメチル−1−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−3−フェニルウレア(本発明化合物番号1−424)の製造
4−トリフルオロメチル−5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]ピリジン0.8g(3.4ミリモル)をクロロホルム30mlに溶解し、フェニルイソシアネート0.45g(3.8ミリモル)のクロロホルム溶液5mlを滴下し、室温にて10時間攪拌した。反応溶液に水50mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機相を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗結晶をn−ヘキサンにて洗浄し、1−メチル−1−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−3−フェニルウレア1.0g(収率83%)を得た。得られた1−メチル−1−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−3−フェニルウレア0.5g(1.4ミリモル)をテトラヒドロフラン30mlに溶解し、水素化ナトリウム0.06g(2.5ミリモル)を加え室温にて0.5時間攪拌した後、沃化メチル0.22g(1.6ミリモル)を滴下し、室温にて4時間攪拌した。反応溶液に水50mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機相を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル9:1〜3:1)により精製し、無色結晶(融点104−105℃)1,3−ジメチル−1−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル−3−フェニルウレア0.28g(収率53.8%)を得た。
【0123】
<製造例7>
N−[1−(4−エチル−ピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−4−フルオロ−N−メチル−ベンゼンスルホンアミド(本発明化合物番号4−3)の製造
[1−(4−エチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−メチル−アミン0.4g(0.2ミリモル)をピリジン20mlに溶解し、p−フルオロベンゼンスルホニルクロリド0.43g(0.22ミリモル)を滴下し、室温にて10時間攪拌した。反応溶液に水50mlを加えジエチルエーテルにより抽出した。得られた有機相を希クエン酸水溶液30mlで2回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル4:1〜1:1)により精製し、無色油状物(nD 20=1.5399)(N−[1−(4−エチル−ピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−4−フルオロ−N−メチル−ベンゼンスルホンアミド0.4g(収率56%)を得た。
【0124】
<製造例8>
1−(4−クロロベンジル)−1,3ジメチル−3−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−ウレア(本発明化合物番号1−532)の製造
(4−クロロベンジル)−メチルアミン0.16g(1.0ミリモル)をピリジン30mlに溶解し、N−メチル−N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−カルバモイルクロリド0.3g(1.0ミリモル)を滴下し、室温にて10時間攪拌した。反応溶液に水50mlを加えジエチルエーテルにより抽出した。得られた有機相を希クエン酸水溶液30mlで2回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=8:1〜3:1)により精製し、無色結晶(融点95−98℃)1−(4−クロロベンジル)−1,3ジメチル−3−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−ウレア0.22g(収率52%)を得た。
【0125】
<製造例9>
N−[1−(4−ジエトキシメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル−2−フェニル酢酸アミド(本発明化合物番号1−453)の製造
[1−(4−ジエトキシメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]メチルアミン8.3g(0.031モル)、炭酸カリウム6.4g(46ミリモル)をアセトニトリル100mlに加えた後、フェニルアセチルクロライド5.8g(0.038モル)を室温下で加え2時間反応させた。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:5〜酢酸エチル)で精製して、無色粘凋液体(nD 20=1.5253)N−[1−(4−ジエトキシメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル−2−フェニル酢酸アミドを8.4g(収率70%)得た。
【0126】
<製造例10>
N−[1−(4−フォルミルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル−4−フルオロフェニルアセトアミド(本発明化合物番号1−523)の製造
N−[1−(4−ジエトキシメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル4−フルオロフェニルアセトアミド8.4g(2.1ミリモル)をアセトン100mlに溶解し、6N−塩酸13mlを加え室温で5時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性にして酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:5〜酢酸エチル)で精製して、無色粘凋液体(nD 20=1.5466)のN−[1−(4−ホルミルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル−4−フルオロフェニルアセトアミドを5.3g(収率77%)得た。
【0127】
<製造例11>
N−[1−(4−ヒドロキシイミノメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミド(本発明化合物番号1−500)の製造
N−[1−(4−ホルミルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミド1.0g(3.2ミリモル)をメタノール30mlに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩0.45g(6.5ミリモル)、酢酸カリウム0.63g(6.4ミリモル)を加えて室温下で1時間反応させた。反応終了後、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、クエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1〜酢酸エチル)で精製して、無色結晶(融点171〜172℃)のN−[1−(4−ヒドロキシイミノメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミドを0.45g(収率43%)得た。
【0128】
<製造例12>
N−[1−(4−シアノピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミド(本発明化合物番号1−504)の製造
N−[1−(4−ヒドロキシイミノメチルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミド0.25g(0.77ミリモル)をクロロホルム30mlに溶解し、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩0.16g(0.83ミリモル)を加え、室温下で8時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去し水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1〜酢酸エチル)で精製して、無色結晶(融点80〜81℃)のN−[1−(4−シアノピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミドを0.19g(収率88%)得た。
【0129】
<製造例13>
2−(4−クロロフェニル)−N−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル酢酸アミド(本発明化合物番号3−41)の製造
1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピルアミン0.80g(3.8ミリモル)、ヨウ化メチル0.59g(4.2ミリモル)、トリエチルアミン0.46g(4.6ミリモル)をN,N−ジメチルアセトアミド10mlに加え、80℃で1時間反応させた。反応終了後水にあけ、トルエンで抽出した。有機層を水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物を精製せずに次反応に供した。この油状物0.20g(0.89ミリモル)、炭酸カリウム0.22g(1.6ミリモル)をアセトニトリル20mlに加えた後、4−クロロフェニルアセチルクロライド0.30g(1.6ミリモル)を室温下で加え一晩反応させた。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物を分取HPLC(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)で精製して、無色結晶(融点107〜109℃)の2−(4−クロロフェニル)−N−[1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチル酢酸アミド0.21g(収率15%、2steps)得た。
【0130】
<製造例14>
1−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−3−フェニルイミダゾリン−2−オン(本発明化合物番号5−1)の製造
5−(1−クロロ−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジン1.05g(4.2モル)、N−フェニルエチレンジアミン0.61(4.2モル)をイソプロピルアルコール10mlに加え、室温で6時間攪拌させた。反応終了後、反応液を濃縮した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1〜酢酸エチル)で精製して、N−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)−プロピル]−N’−フェニルエタン−1,2−ジアミン0.38gを得た。次にN−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチルピリミジン−5−イル)−プロピル]−N’−フェニルエタン−1,2−ジアミン0.38g(1ミリモル)、トリエチルアミン0.5g(5ミリモル)をジクロロメタン10mlに加え、氷冷下ホスゲン0.2g(2ミリモル)を含んだジクロロメタン溶液を滴下した。滴下後、さらに室温で1時間攪拌し、反応を終了した。反応終了後水にあけ、重曹水で洗浄し、乾燥、濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1〜酢酸エチル)で精製して、無色結晶(融点126〜128℃)の1−[2−メチル−1−(4−トリフルオロメチル−ピリミジン−5−イル)−プロピル]−3−フェニルイミダゾリン−2−オン0.25g(収率61%)得た。
【0131】
<製造例15>
5−(1−{[2−(4−クロロフェニル)−プロピオニル]メチルアミノ}−2−メチルプロピル)−ピリミジン−4−カルボン酸(本発明化合物番号1−718)の製造
N−[1−(4−ホルミルピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピル]−N−メチルフェニルアセトアミド1.0g(3.2ミリモル)、テトラヒドロフラン10ml溶液を水酸化カリウム0.23g(4.1ミリモル)、水10mlの溶液に加えた後に、さらに過マンガンカリウム0.88g(5.56ミリモル)を加えた。次に80℃で3時間加温した。反応終了後、亜硫酸ナトリウムを加えた後にろ過を行い、ろ液を塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出し、塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行ない粗生成物を得た。この粗生成物をトルエン、エーテル、アセトン混液に溶解し、水酸化カリウム水溶液で抽出を行った後に、希塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出を行い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮しさらにイソプロピルエーテルで洗浄を行い、淡褐色結晶(融点168−170℃)の5−(1−{[2−(4−クロロフェニル)−プロピオニル]メチルアミノ}−2−メチルプロピル)−ピリミジン−4−カルボン酸(ジアステレオマーA体)0.33g(収率32%)を得た。
【0132】
<製造例16>
5−(1−{[2−(4−クロロフェニル)−プロピオニル]メチルアミノ}−2−メチルプロピル)−ピリミジン−4−カルボン酸メチルエステル(ジアステレオマーA体)(本発明化合物番号1−592)の製造
濃硫酸数滴を5−(1−{[2−(4−クロロフェニル)−プロピオニル]メチルアミノ}−2−メチルプロピル)−ピリミジン−4−カルボン酸2.00g(5.32ミリモル)、メタノール溶液に加え、加熱還流を5時間行った。反応終了後、水を加え酢酸エチルで抽出を行い、塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮を行い、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1〜酢酸エチル)で精製して、無色油状物の5−(1−{[2−(4−クロロフェニル)−プロピオニル]メチルアミノ}−2−メチルプロピル)−ピリミジン−4−カルボン酸メチルエステル(ジアステレオマーA体)0.59g(収率28%)を得た。
【0133】
(中間体の製造例)
<参考例1>
3−エトキシメチレン−1,1,1−トリフルオロ−5−メチル−2,4−ヘキサンジオンの製造
1,1,1−トリフルオロ−5−メチル−2,4−ヘキサンジオン213g(1.17モル)、オルトぎ酸エチル242g(1.64モル)及び無水酢酸166g(1.63モル)の混合物を6時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去し、3−エトキシメチレン−1,1,1−トリフルオロ−5−メチル−2,4−ヘキサンジオン146g(収率67%)を得た。
【0134】
<参考例2>
5−イソプロピルカルボニル−4−トリフルオロメチルピリミジンの製造
ナトリウムメトキシド46g(0.85モル)をメタノール700mlに溶解し、ホルムアミジン酢酸塩76g(0.73モル)を加え室温で15分攪拌した。次に3−エトキシメチレン−1,1,1−トリフルオロ−5−メチル−2,4−ヘキサンジオン146g(0.61モル)を氷冷下で加え、さらに2時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去し、氷水1000mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製し、淡黄色液体の5−イソプロピルカルボニル−4−トリフルオロメチルピリミジン89g(収率67%)を得た。
【0135】
<参考例3>
5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジンの製造
5−イソプロピルカルボニル−4−トリフルオロメチルピリミジン25g(115ミリモル)をエタノール100mlに溶解し、氷冷下、ボラン−tert−ブチルアミン錯体6g(69ミリモル)を加え2時間攪拌した。さらにアセトン20mlを加え、0.5時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製し、淡黄色液体(nD 20=1.4481)の5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジン22g(収率87%)を得た。
【0136】
<参考例4>
5−(1−クロル−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジンの製造
5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジン22g(100ミリモル)をクロロホルム150mlに溶解し、チオニルクロリド25ml(342ミリモル)を加えた。反応混合物を2時間加熱還流した。溶媒及びチオニルクロリドを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製し、褐色液体(屈折率nD 20:1.4558)の5−(1−クロル−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジン11.6g(収率49%)を得た。
【0137】
<参考例5>
5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]−4−トリフルオロメチルピリミジンの製造
5−(1−クロル−2−メチルプロピル)−4−トリフルオロメチルピリミジン4.5g(19ミリモル)をイソプロピルアルコール50mlに溶解し、50%メチルアミン水溶液10ml(161ミリモル)を加え、室温にて8時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、水100mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、淡黄色液体(屈折率nD 20:1.4529)の5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]−4−トリフルオロメチルピリミジン3.4g(収率77%)を得た。
【0138】
<参考例6>
4−エトキシメチレン−2,6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオンの製造
2,6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオン17.2g(110ミリモル)、オルトぎ酸エチル22.8g(153ミリモル)及び無水酢酸31.5g(309ミリモル)の混合物を2時間110℃で反応させた。溶媒を減圧下留去し、4−エトキシメチレン−2,6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオン11.5g(収率49%)を得た。
【0139】
<参考例7>
5−イソプロピルカルボニル−4−イソプロピルピリミジンの製造
28%ナトリウムメトキシド溶液11.5g(60ミリモル)をメタノール100mlに溶解し、ホルムアミジン酢酸塩5.6g(54ミリモル)を加え、室温で15分攪拌した。次に4−エトキシメチレン−2,6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオン11.5g(54ミリモル)を氷冷下で加えた。反応混合物をさらに50℃にて1時間反応させた。溶媒を減圧下留去し、水200mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、淡黄色液体の5−イソプロピルカルボニル−4−イソプロピルピリミジン9.2g(収率89%)を得た。
【0140】
<参考例8>
5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−イソプロピルピリミジンの製造
5−イソプロピルカルボニル−4−イソプロピルピリミジン9.2g(48ミリモル)をエタノール50mlに溶解し、氷冷下、ボラン−tert−ブチルアミン錯体2.5g(29ミリモル)を加え2時間攪拌した。さらにアセトン20mlを加え0.5時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、水200mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−イソプロピルピリミジン8.3g(収率89%)の目的物を得た。
【0141】
<参考例9>
5−(1−メチルスルホニルオキシ−2−メチルプロピル)−4−イソプロピルピリミジンの製造
5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−イソプロピルピリミジン8.3g(43ミリモル)をピリジン10mlに溶解し、氷冷下、メチルスルホニルクロリド9.8g(86ミリモル)を滴下した。反応混合物を室温にて2時間反応させた後、氷水100mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層をクエン酸水溶液、水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、5−(1−メチルスルホニルオキシ−2−メチルプロピル)−4−イソプロピルピリミジン10.6g(収率90%)を得た。
〔1H−NMR(300MHz、CDCl3,TMS δ(ppm))0.91(3H,d)、1.14(3H,d)、1.31(3H,dd)、2.1−2.2(1H,m)、2.89(3H,s)、3.2−3.3(3H,m)、5.56(1H,d)、8.68(1H,s)、9.14(1H,s)〕
【0142】
<参考例10>
5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]−4−イソプロピルピリミジンの製造
5−(1−メチルスルホニルオキシ−2−メチルプロピル)−4−イソプロピルピリミジン10.6g(39ミリモル)をイソプロピルアルコール50mlに溶解し、40%メチルアミン水溶液10ml(129ミリモル)を加え、室温にて8時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、水100mlを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒=酢酸エチル)で精製し、淡黄色結晶(融点37〜39℃)の5−[1−(N−メチルアミノ)−2−メチルプロピル]−4−イソプロピルピリミジン2.9g(収率36%)を得た。
【0143】
<参考例11>
5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−メチルチオピリミジンの製造
5−ブロモ−4−メチルチオピリミジン10.6g(52ミリモル)をテトラヒドロフラン100mlに溶解し、−60℃にてn−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.6mol/l)36mlを滴下した。−60℃で30分攪拌した後、イソブチルアルデヒド4.1g(57ミリモル)を滴下し、さらに1時間反応させた。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒/n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2)で精製し、淡黄色結晶(融点123〜127℃)の5−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−4−メチルチオピリミジン2.9g(収率28%)を得た。
【0144】
<参考例12>
2−ブロモ−1−(4−エチルピリミジン−5−イル)−プロパン−1−オンの製造
1−(4−エチルピリミジン−5−イル)プロパン−1−オン49.2g(0.30モル)を四塩化炭素500mlに溶解し、N−ブロモスクシンイミド53g(0.30モル)、アゾイソブチロニトリル0.3gを加え、2時間還流させた。放冷後、結晶をろ過して除き、ろ液を濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:4〜1:2)で精製して、黄色液体の2−ブロモ−1−(4−エチルピリミジン−5−イル)−プロパン−1−オンを64.3g(収率89%)得た。
【0145】
<参考例13>
1−(4−エチルピリミジン−5−イル)−2−メチルチオ−プロパン−1−オンの製造
2−ブロモ−1−(4−エチルピリミジン−5−イル)プロパン−1−オン10.0g(0.041モル)をイソプロピルアルコール40mlの溶解し、15%メチルメルカプタンナトリウム水溶液21g(0.045モル)を氷冷下で加えたのち、室温で1時間反応させた。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩水で洗浄、乾燥、濃縮して粗製の1−(4−エチルピリミジン−5−イル)−2−メチルチオ−プロパン−1−オン9.5gを得た。精製せずに次反応に供した。
【0146】
<参考例14>
4,6−ジクロロピリミジン−5−カルボアルデヒドの製造
N,N−ジメチルホルムアミド65.0g(0.89モル)に氷冷下、20℃以下でオキシ塩化リン356g(2.3モル)を加え、室温で10分攪拌した。4,6−ジヒドロキシピリミジン50.0g(0.45モル)を氷冷下でゆっくりと加えた。添加終了後、温度上昇がおさまったら90℃で3時間反応させた。過剰のオキシ塩化リンを減圧留去し、クロロホルム300mlを加え、氷水中にゆっくり加えた。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた粗結晶をn−ヘキサンで洗浄して褐色結晶(融点65〜66℃)の4,6−ジクロロピリミジン−5−カルボアルデヒドを43.8g(収率55%)得た。
【0147】
<参考例15>
4,6−ジメトキシピリミジン−5−カルボアルデヒドの製造
4,6−ジクロロピリミジン−5−カルボアルデヒド43.6g(246ミリモル)をメタノール200mlに溶解し、28%ナトリウムメトキシド120g(622ミリモル)を氷冷下で加えた後、室温下で2時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去しクエン酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、クエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた粗結晶をイソプロピルエーテルで洗浄して4,6−ジメトキシピリミジン−5−カルボアルデヒドを8.3g(収率20%)得た。
【0148】
<参考例16>
1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−3−メチルブタン−2−オールの製造
マグネシウム0.81g(33ミリモル)をテトラヒドロフラン30mlに加え、2−ブロモプロパン4.1g(33ミリモル)を加えてイソプロピルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン溶液を調製した。4,6−ジメトキシピリミジン−5−カルボアルデヒド2.8g(17ミリモル)をテトラヒドロフラン50mlに溶解し、上記のテトラヒドロフラン溶液を室温下で加え一晩反応させた。反応液を塩化アンモニウム水溶液にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:4)で精製して、淡黄色結晶の1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−3−メチルブタン−2−オールを1.9g(収率54%)得た。
【0149】
<参考例17>
5−(2−アジド−3−メチルブチル)−4,6−ジメトキシピリミジンの製造
1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−3−メチルブタン−2−オール1.05g(5ミリモル)をトルエン10mlに溶解し、氷冷下でトリメチルシリルアジド1.01g(10ミリモル)と三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体1.42g(10ミリモル)を順に加えた後、室温下で7時間反応させた。反応終了後、水にあけ、トルエンで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:9)で精製して、無色液体の5−(2−アジド−3−メチルブチル)−4,6−ジメトキシピリミジンを1.22g(収率100%)得た。
〔1H−NMR(300MHz、CDCl3,TMS δ(ppm))0.70(3H,d)、1.13(3H,d)、2.44(1H,m)、4.00(6H,s)、4.38(1H,d)、8.39(1H,s)〕
【0150】
<参考例18>
1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピルアミンの製造
5−(2−アジド−3−メチルブチル)−4,6−ジメトキシピリミジン1.2g(5.1ミリモル)をメタノール20mlに溶解し、氷冷下でマグネシウム1.5g(0.062モル)を加え、一晩反応させた。反応終了後、溶媒を留去しエーテルを加えて不溶物をろ過し、希塩酸で抽出した。水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性としトルエンで抽出した。有機層を水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)で精製して、無色結晶の1−(4,6−ジメトキシピリミジン−5−イル)−2−メチルプロピルアミン0.80g(収率75%)得た。
〔1H−NMR(300MHz,CDCl3,TMS δ(ppm))0.70(3H,d)、1.07(3H,d)、1.71(2H,s)、2.02(1H,m)、3.78(1H,d)、3.97(6H,s)、8.33(1H,s)〕
次に製造法1から製造法12に記載の方法に準じて製造した本発明化合物の物性値(1H−NMR値(CDCl3/TMS δ(ppm))を表40から表43に示す。
【0151】
【表40】
【0152】
【表41】
【0153】
【表42】
【0154】
【表43】
本発明の除草剤は、一般式〔I〕で示されるピリミジン誘導体を有効成分としてなる。
【0155】
本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
【0156】
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
【0157】
本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用または水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤または粒剤とする場合は0.01〜10%(重量)、好ましくは0.05〜5%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は1〜50%(重量)、好ましくは5〜30%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。
【0158】
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として10アール当り0.1g〜5kg、好ましくは1g〜1kgの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合のように液状で使用する場合は、0.1〜50,000ppm、好ましくは10〜10,000ppmの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
【0159】
〈製剤例1〉 水和剤
化合物(1−8)の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、クレーの69部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【0160】
〈製剤例2〉 水和剤
化合物(1−8)の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、ホワイトカーボンの5部、クレーの64部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【0161】
〈製剤例3〉 水和剤
化合物(1−8)の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の20部、ホワイトカーボンの5部、炭酸カルシウムの64部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【0162】
〈製剤例4〉 乳剤
化合物(1−8)の30部にキシレンとイソホロンの等量混合物60部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の10部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得る。
【0163】
〈製剤例5〉 粒剤
化合物(1−8)の10部、タルクとベントナイトを1:3の割合の混合した増量剤で80部、ホワイトカーボンの5部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の5部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に0.5〜1mmの長さに切断し、粒剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
【0164】
〈試験例1〉 水田湛水処理による除草効果試験
100cm2プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ(Eo)、コナギ(Mo)の種子を播種し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を10アール当り100gとした。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表44の基準に従って除草効果を調査した。結果を表45〜表52に示す。
【0165】
【表44】
【0166】
【表45】
【0167】
【表46】
【0168】
【表47】
【0169】
【表48】
【0170】
【表49】
【0171】
【表50】
【0172】
【表51】
【0173】
【表52】
【0174】
〈試験例2〉 畑地土壌処理による除草効果試験
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ(Ec)、エノコログサ(Se)の種子を播種して覆土した。製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、10アール当り有効成分が100gになる様に、10アール当り100lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理21日目に表44の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表53〜表60に示す。
【0175】
【表53】
【0176】
【表54】
【0177】
【表55】
【0178】
【表56】
【0179】
【表57】
【0180】
【表58】
【0181】
【表59】
【0182】
【表60】
【0183】
〈試験例3〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ(Ec)、エノコログサ(Se)の種子を播種し、温室内で2週間育成後、製剤例1に準じて調製した水和剤を水に希釈し、10アール当り有効成分が100gになる様に、10アール当り100lを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理14日目に表44の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表61〜表64に示す。
【0184】
【表61】
【0185】
【表62】
【0186】
【表63】
【0187】
【表64】
【0188】
〈試験例4〉 水田湛水処理による作物選択性試験
100cm2プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ(Eo)、コナギ(Mo)の種子を播種し、2葉のイネ(Or)を移植し、水深3cmに湛水した。翌日、製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を10アール当り25gとした。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表44の基準に従って除草効果を調査した。結果を表65〜表69に示す。
【0189】
【表65】
【0190】
【表66】
【0191】
【表67】
【0192】
【表68】
【0193】
【表69】
【0194】
〈試験例5〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ(Ec)、エノコログサ(Se)、ダイズ(Gl)、コムギ(Tr)、トウモロコシ(Ze)、の種子を播種して覆土した。製剤例1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、10アール当り有効成分が25gになる様に、10アール当り100lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理21日目に表44の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表70に示す。
【0195】
【表70】
【0196】
【産業上の利用可能性】
一般式〔I〕で表される本発明の化合物は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および1年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
一方、本発明の除草剤は作物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対して高い安全性を示す。
Claims (7)
- 一般式[I]
{式中、R1は水素原子(但しR2=水素原子でありW=SO2の場合は除く)、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルカルボニルC1〜C6アルキル基、ヒドロキシ基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、シアノC1〜C6アルキル基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C1〜C6アルキルチオ基(但しR2=フェニル基でありW=SO2の場合は除く)、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノ基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC2〜C6アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルC1〜C6アルキル基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、アルデヒド基、オキシラニル基、基NR9R10又は基CONR9R10を表し、R9は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基を表し、R10はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでR9及びR10はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員飽和環を形成してもよく、
R2は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C2〜C7アシル基、シアノ基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、基CR11R12NR9R10、基CONR9R10、基CR11R12CONR9R10又は一般式R2−1〜R2−13
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、R11及びR12は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC1〜C6アルコキシ基を表し、R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、ジC1〜C6アルキルアミノ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、オキシラニルC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基を表し、
Wは基−C(=Q)Z−又は基−SO2−を表し、Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、Zは酸素原子、硫黄原子、基−NR6−、基−CH2CH2−、基−CH=CH−、基−C(R4)R5−、基−C(R4)R5−Q−、基−C(=Q)−、基−NR6NR6a−又は基−NR6C(R4)R5−を表し、R4及びR5は水素原子、C1〜C6アルキル基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C6アルキルチオ基を表し、R6及びR6aは水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基又はC2〜C6アルキニル基を表し、ここでR3及びR6はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員環状ウレアを形成してもよく、
Ar基は一般式Ar−1〜Ar−17
(式中、X’は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、n’は1〜3の整数を表し、mは0〜3の整数を表し、n’が2〜3の整数の場合は、X’は、同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、
R7は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表し、
R8は水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表す。}で示されるピリミジン誘導体。 - 一般式[I]
{式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルカルボニルC1〜C6アルキル基、ヒドロキシ基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C1〜C6アルキルチオ基、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル基、ヒドロキシアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノ基、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC2〜C6アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルC1〜C6アルキル基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキシイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、アルデヒド基、オキシラニル基、基NR9R10、基CONR9R10を表し、R9は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基を表し、R10はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでR9及びR10はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員飽和環を形成してもよく、
R2は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C2〜C7アシル基、シアノ基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、基CR11R12NR9R10、基CONR9R10、基CR11R12CONR9R10又は一般式R2−1〜R2−13
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、R11及びR12は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC1〜C6アルコキシ基を表し、
R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、ジC1〜C6アルキルアミノ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、オキシラニルC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基を表し、
Wは基−C(=Q)Z−を表し、Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、Zは酸素原子、硫黄原子、基−NR6−、基−CH2CH2−、基−CH=CH−、基−C(R4)R5−、基−C(R4)R5−Q−、基−C(=Q)−、基−NR6NR6a−又は基−NR6C(R4)R5−を表し、R4及びR5は水素原子、C1〜C6アルキル基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C6アルキルチオ基を表し、R6及びR6aは水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基又はC2〜C6アルキニル基を表し、ここでR3及びR6はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員環状ウレアを形成してもよく、
Ar基は一般式Ar−1〜Ar−17
(式中、X’は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、n’は1〜3の整数を表し、mは0〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、X’は同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)で示される基を表し、R7は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表し、R8は水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表す。}で示されるピリミジン誘導体。 - 一般式[1]
{式中、R1はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、オキソC1〜C6アルキル基、ヒドロキシ基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル基、ヒドロキシアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノ基、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC2〜C6アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルC1〜C6アルキル基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、アルデヒド基、オキシラニル基、基NR9R10又は基CONR9R10を表し、R9は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基を表し、R10はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、ここでR9及びR10はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員飽和環を形成してもよく、
R2は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C2〜C7アシル基、シアノ基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、基CR11R12NR9R10、基CONR9R10、基CR11R12CONR9R10又は一般式R2−1〜R2−13
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基又はニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、R11及びR12は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC1〜C6アルコキシ基を表し、R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、ジC1〜C6アルキルアミノ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、オキシランC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基を表し、
Wは基−SO2−を表し、
Ar基は一般式Ar−1〜Ar−17
(式中、X’は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、n’は1〜3の整数を表し、mは0〜3の整数を表し、n’が2〜3の整数の場合は、X’は同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)で示される基を表し、
R7は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表し、
R8は水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表す。}で示されるピリミジン誘導体。 - 一般式[1]
{式中、R1はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルカルボニルC1〜C6アルキル基、ヒドロキシ基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C1〜C6アルキルチオ基(但しR2=フェニル基、W=SO2の場合は除く)、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノ基、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC2〜C6アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルC1〜C6アルキル基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、アルデヒド基、オキシラニル基、基NR9R10又は基CONR9R10を表し、R9は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基を表し、R10はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでR9及びR10はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員飽和環を形成してもよく、
R2はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C2〜C7アシル基、シアノ基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基、ヒドロキイミノC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6ヒドロキシアルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基、基CR11R12NR9R10、基CONR9R10、基CR11R12CONR9R10又は一般式R2−1〜R2−13
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、R11及びR12は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC1〜C6アルコキシ基を表し、
R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、ジC1〜C6アルキルアミノ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノC1〜C6アルキル基又はC3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基を表し、Wは基−C(=Q)Z−又は基−SO2−を表し、Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、Zは酸素原子、硫黄原子、基−NR6−、基−C(R4)R5−、基−C(R4)R5−Q−、基−NR6NR6a−又は基−NR6C(R4)R5−を表し、R4及びR5は水素原子、C1〜C6アルキル基、ハロゲン原子又はC1〜C6アルコキシ基を表し、R6及びR6aは水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基又はC2〜C6アルキニル基を表し、ここでR3及びR6はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員環状ウレアを形成してもよく、
Ar基は一般式Ar−1〜Ar−17
(式中、X’は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、n’は1〜3の整数を表し、mは0〜3の整数を表し、n’が2〜3の整数の場合は、X’は同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)で示される基を表し、R7は水素原子又はハロゲン原子を表し、
R8は水素原子を表す。}で示されるピリミジン誘導体。 - 一般式[I]
{式中、R1はC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルカルボニルC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシ基、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C1〜C6アルキルチオ基(但しR2=フェニル基、W=SO2の場合は除く)、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノ基、シアノC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシカルボニルC2〜C6アルケニル基、カルボキシル基、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルコキシイミノC1〜C6アルキル基を表し、
R2はC1〜C6アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)C2〜C7アシル基、又は一般式R2−1又はR2−6
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、
R9は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基を表し、R10はC1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでR9及びR10はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員飽和環を形成してもよく、
R11及びR12は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基又はC1〜C6アルコキシ基を表し、
R3は、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基又はシアノC1〜C6アルキル基を表し、
Wは基−C(=Q)Z−又は基−SO2_を表し、Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、Zは、基−NR6−、基−C(R4)R5−、基−C(R4)R5−Q−、基−NR6NR6a−又は基−NR6C(R4)R5−を表し、R4及びR5は水素原子、C1〜C6アルキル基、ハロゲン原子又はC1〜C6アルコキシ基を表し、R6及びR6aは水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基又はC2〜C6アルキニル基を表し、ここでR3及びR6はこれらのものが結合する炭素原子と共に5〜7員環状ウレアを形成してもよく、
Ar基は一般式Ar−1、Ar−6又はAr−14
(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、基NR9R10、基CONR9R10、C1〜C4ハロアルコキシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C2〜C7アシル基、C1〜C6アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はC1〜C4ハロアルキル基を表し、nは1〜3の整数を表し、mは2〜3の整数を表し、nが2〜3の整数の場合は、Xは、同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が2個結合してC1〜C3アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)の何れかで示される基を表し、
R7は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表し、
R8は水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表す。}で示されるピリミジン誘導体。 - 一般式[II]で示される中間体
{式中、R1はC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、ジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)又はジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基を表し、
R2はC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、C1〜C6アルキルチオC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C4ハロアルキル基により置換されてもよい。)、フェニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、チエニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基又はC1〜C6アルキルスルホニル基により置換されてもよい。)、ジC1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基又はジオキソラニル基(該基はC1〜C6アルキル基が置換されてもよい)を表し、
R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル基、シアノC1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、オキシラニルC1〜C6アルキル基又はC1〜C6アルコキシカルボニルC1〜C6アルキル基を表し、
R7は水素原子又はC1〜C6アルコキシ基を表し、
R8は水素原子、C1〜C6アルキル基又はC3〜C6シクロアルキル基を表す。}で示されるピリミジン誘導体。 - 請求の範囲1乃至5の何れか1項に記載のピリミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
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