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JP4728840B2 - Thin plate container - Google Patents
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JP4728840B2 - Thin plate container - Google Patents

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Description

この発明は、半導体ウエハなどの薄板を収納して、輸送、搬送及び保管するための薄板保持容器に関するものである。   The present invention relates to a thin plate holding container for storing, transporting, transporting and storing thin plates such as semiconductor wafers.

半導体ウエハ等の薄板においては、安全のために、1枚ずつずれないように確実に支持して収納する必要があるものがある。このような薄板を収納して支持する薄板収納容器としては、特許文献1に記載のウエハキャリアのような、半導体ウエハを1枚ずつ収納するものが知られている。
特開2003−168731号公報
Some thin plates, such as semiconductor wafers, need to be securely supported and stored so as not to be shifted one by one for safety. As a thin plate storage container for storing and supporting such a thin plate, a container for storing semiconductor wafers one by one, such as a wafer carrier described in Patent Document 1, is known.
JP 2003-168731 A

ところで、上述のようなウエハキャリアでは、複数のウエハを枚葉で収納・管理することは可能であるが、各ウエハを気密に収納・管理することはできない。このため、上述のウエハキャリアでは、ウエハを、周囲の環境と無関係に、クリーンルーム以外の場所でも常に清浄な状態で収納・管理することはできないという問題がある。   By the way, in the wafer carrier as described above, it is possible to store and manage a plurality of wafers in a single wafer, but it is not possible to store and manage each wafer in an airtight manner. For this reason, the above-described wafer carrier has a problem that the wafer cannot be stored and managed in a clean state at any place other than the clean room regardless of the surrounding environment.

また、上述のウエハキャリアでは、上記ウエハの周縁部の下側面が容器本体側に当接して当該ウエハが支持されるが、この構造の場合、未加工の半導体ウエハ等のように、その表裏面に物を接触させることができないウエハに対しては使用することはできないという問題がある。   Further, in the above-described wafer carrier, the lower surface of the peripheral edge of the wafer contacts the container body side to support the wafer. In this structure, the front and back surfaces of the wafer carrier, such as an unprocessed semiconductor wafer, are supported. There is a problem in that it cannot be used for a wafer that cannot contact an object.

本発明は、上述の点に鑑みてなされたもので、積層されて互いに結合されることでそれらの間に薄板を挟持して保持収納する複数の載置トレイと、当該載置トレイの上側面又は下側面の一方又は両方に設けられて上記薄板を保持する保持部と、当該各保持部の周縁に設けられて上記薄板の外周縁部の上下に位置する稜部に当接して当該薄板をその稜部のみで保持する当接面を有する薄板周縁保持手段とを備え、上記薄板周縁保持手段が、上記薄板の外周縁部の上下に位置する稜部に当接する上記当接面を有する薄板受け部と、当該薄板受け部を弾性的に支持するバネ部とから構成されたことを特徴とする。なお、以下では、簡単のために、前記外周縁部の上下に位置する稜部を当接部と呼ぶ。この当接部には、上記薄板の外周縁部の上下がC面取り加工されたり、球面加工されたりした面取り加工部をも含むものとする。 The present invention has been made in view of the above-described points, and includes a plurality of mounting trays that are stacked and coupled to each other so that a thin plate is sandwiched between the mounting trays and the top of each mounting tray. A holding portion that is provided on one or both of the side surface and the lower side surface and holds the thin plate, and a thin plate that is in contact with a ridge portion provided on the periphery of each holding portion and positioned above and below the outer peripheral edge portion of the thin plate And a thin plate peripheral edge holding means having a contact surface that holds only the ridge portion, and the thin plate peripheral edge holding means has the contact surface that contacts the ridge portion positioned above and below the outer peripheral edge portion of the thin plate. It is characterized by comprising a thin plate receiving portion and a spring portion that elastically supports the thin plate receiving portion . Hereinafter, for the sake of simplicity, the ridges positioned above and below the outer peripheral edge are referred to as contact portions. The contact portion includes a chamfered portion in which the upper and lower sides of the outer peripheral edge of the thin plate are chamfered or spherically processed.

この構成により、上記載置トレイの保持部に上記薄板を載置すると、上記薄板周縁保持手段が、上記薄板の外周縁部に当接して当該薄板をその当接部のみで保持する。また、上記薄板は、その当接部が上記薄板周縁保持手段の薄板受け部に当接し、バネ部で弾性的に支持される。 With this configuration, when the thin plate is placed on the holding portion of the placing tray, the thin plate peripheral edge holding means contacts the outer peripheral edge portion of the thin plate and holds the thin plate only by the contact portion. The abutting portion of the thin plate abuts on the thin plate receiving portion of the thin plate peripheral edge holding means and is elastically supported by the spring portion.

上記薄板周縁保持手段の上記薄板受け部は、上記薄板の当接部にのみ当接して支持するように傾斜して形成されるのが望ましい。 The thin plate receiving portion of the thin plate peripheral edge holding means is preferably formed to be inclined so as to contact and support only the contact portion of the thin plate.

この構成により、上記薄板周縁保持手段の上記当接面が、上記薄板の当接部に当接して支持する。このとき、上記当接面は傾斜しているため、上記薄板の当接部にのみ当接し、薄板の表裏面に接触しないで最小面積で保持する。   With this configuration, the contact surface of the thin plate peripheral edge holding means contacts and supports the contact portion of the thin plate. At this time, since the abutting surface is inclined, the abutting surface abuts only on the abutting portion of the thin plate, and is held in a minimum area without contacting the front and back surfaces of the thin plate.

上記保持部を上記載置トレイの上側面及び下側面にそれぞれ設け、任意位置における上記載置トレイの上側面に形成された上記保持部と、当該載置トレイの上側に隣接する載置トレイの下側面に形成された保持部とが、又は任意位置における上記載置トレイの下側面に形成された保持部と、当該載置トレイの下側に隣接する載置トレイの上側面に形成された保持部とが一対になって上記薄板の外周縁部の上下に位置する稜部を挟持して協働保持する。   The holding portion is provided on each of the upper side surface and the lower side surface of the placement tray, and the holding portion formed on the upper side surface of the placement tray at an arbitrary position and the placement tray adjacent to the upper side of the placement tray. The holding part formed on the lower side surface, or the holding part formed on the lower side surface of the upper mounting tray at an arbitrary position, and the upper side surface of the mounting tray adjacent to the lower side of the mounting tray. A pair of holding parts is paired to hold the ridges located above and below the outer peripheral edge of the thin plate in a cooperative manner.

上記載置トレイの保持部が、上記薄板とほぼ相似な形状を有するのが望ましい。   It is desirable that the holding portion of the placing tray has a shape substantially similar to the thin plate.

この構成により、上記薄板を上記載置トレイの保持部に載置すると、上記薄板の当接部が上記保持部に当接されて保持される。   With this configuration, when the thin plate is placed on the holding portion of the placing tray, the contact portion of the thin plate is held in contact with the holding portion.

上記各載置トレイの間に、任意の一対の上記載置トレイで上記薄板を挟持したとき、当該薄板を収納する収納空間が形成されるのが望ましい。   It is desirable that a storage space for storing the thin plate is formed between the mounting trays when the thin plate is sandwiched between any pair of the upper mounting trays.

上記構成により、一対の上記載置トレイで形成される収納空間に上記薄板を収納して挟持する。   With the above configuration, the thin plate is stored and sandwiched in a storage space formed by a pair of upper placing trays.

上記各載置トレイの保持部を囲繞して設けられ、隣接する2つの載置トレイが互いに結合したとき、上記収納空間を外部環境から気密に隔離するシールを備えるのが望ましい。   It is desirable to provide a seal that is provided so as to surround the holding portion of each of the mounting trays and that airtightly isolates the storage space from the external environment when two adjacent mounting trays are coupled to each other.

この構成により、上記各載置トレイの保持部を囲繞して設けられたシールが、隣接する2つの載置トレイの結合によって、上記保持部を囲繞した状態で2つの載置トレイに当接して上記収納空間を外部環境から気密に隔離する。   With this configuration, the seal provided surrounding the holding portions of the respective mounting trays is brought into contact with the two mounting trays in a state of surrounding the holding portion by coupling of two adjacent mounting trays. The storage space is hermetically isolated from the external environment.

複数積層された上記各載置トレイを隣同士で互いに結合すると共に、任意の位置で分離可能な結合解除手段を備えるのが望ましい。   It is desirable that a plurality of stacked stacking trays be coupled to each other adjacent to each other and provided with a coupling release means that can be separated at an arbitrary position.

この構成により、上記結合解除手段で、複数積層された上記各載置トレイの任意の位置で分離して、内部の薄板を出し入れする。   With this configuration, the coupling release means separates the plurality of stacked stacking trays at an arbitrary position, and puts in and out the internal thin plate.

複数積層された上記各載置トレイの少なくとも一方の端部の載置トレイに、当該載置トレイと結合及び解除可能な上記結合解除手段を有するベーストレイを備え、当該ベーストレイの上記載置トレイと反対側の面に、機械処理装置の機械的インターフェイスと結合することが可能な結合溝を備えるのが望ましい。   The mounting tray at least at one end of each of the stacked stacking trays is provided with a base tray having the coupling release means that can be coupled to and released from the mounting tray, and the mounting tray above the base tray It is desirable to provide a coupling groove on the opposite surface to the mechanical interface of the machine processing device.

この構成により、複数積層された上記各載置トレイの端部に上記結合解除手段で上記ベーストレイを結合させ、このベーストレイの上記結合溝を機械処理装置の機械的インターフェイスと結合させる。   With this configuration, the base tray is coupled to the end of each of the plurality of stacked trays by the coupling release means, and the coupling groove of the base tray is coupled to the mechanical interface of the machine processing device.

複数積層された上記各載置トレイの少なくとも一方の端部の載置トレイに、機械処理装置の機械的インターフェイスと結合することが可能な結合溝を備えるのが望ましい。   It is desirable that a mounting groove at least one end of each of the stacked stacking trays be provided with a coupling groove that can be coupled with a mechanical interface of a machine processing device.

この構成により、複数積層された上記各載置トレイの端部の上記結合溝を機械処理装置の機械的インターフェイスと結合させる。   With this configuration, the coupling groove at the end of each of the stacked trays is coupled to the mechanical interface of the machine processing device.

上記ベーストレイと上記載置トレイとの間に、上記ベーストレイが上記載置トレイと協働して上記薄板を保持すると共に、当該ベーストレイと載置トレイとが互いに結合したときに形成される上記収納空間を外部環境から気密に隔離するシールを備えることが望ましい。   Formed when the base tray holds the thin plate in cooperation with the mounting tray and the base tray and the mounting tray are coupled to each other between the base tray and the mounting tray. It is desirable to provide a seal that hermetically isolates the storage space from the external environment.

この構成により、上記ベーストレイと上記載置トレイとで上記薄板を保持した状態で、これらベーストレイと載置トレイとの上記収納空間をシールによって外部環境から気密に隔離することで、上記薄板が収納される薄板収納容器内を外部環境から気密に隔離する。   With this configuration, in the state where the thin plate is held by the base tray and the placement tray, the storage space of the base tray and the placement tray is hermetically isolated from the external environment by a seal, so that the thin plate is The inside of the thin plate container to be stored is airtightly isolated from the external environment.

上記薄板周縁保持手段は、上記各載置トレイの保持部を囲繞して設けられた上記シールで弾性的に支持された上記載置トレイとベーストレイによって、上記薄板を弾性的に支持するのが望ましい。 The thin plate periphery holding means, by the placement tray and the base tray after being elastically supported by the seal provided to surround the holding portion of each loading tray, it is to support the thin plate elastically desirable.

この構成により、上記保持部に上記薄板が載置されて、上記載置トレイとベーストレイが積層されると、これらは上記シールで弾性的に支持され、上記薄板周縁保持手段が上記薄板を弾性的に支持する。 This configuration elasticity the thin plate is placed on the holding portion, when the upper the placement tray and the base tray are stacked, they are elastically supported by the seal, the thin plate periphery holding means the thin plate Supportive.

上記薄板受け部は、連続した環状に又は一定間隔で不連続に分割された環状に形成されることが望ましい。
The thin plate receiving unit preferably also is formed in an annular shape it is discontinuous divided at regular intervals on the continuous annular.

この構成により、連続した環状の薄板受け部が上記薄板をその全周から支持し、一定間隔で不連続に分割された環状の薄板受け部が上記薄板の周縁を一定間隔ごとに支持する。   With this configuration, the continuous annular thin plate receiving portion supports the thin plate from the entire circumference, and the annular thin plate receiving portion divided discontinuously at regular intervals supports the peripheral edge of the thin plate at regular intervals.

上記薄板周縁保持手段は上記薄板の全周を囲繞するように環状に形成され、当該薄板周縁保持手段に当接された上記薄板と上記載置トレイと上記シールとによって上記収納空間を気密に隔離するのが望ましい。   The thin plate peripheral edge holding means is formed in an annular shape so as to surround the entire circumference of the thin plate, and the storage space is hermetically isolated by the thin plate abutted on the thin plate peripheral edge support means, the above-described placing tray, and the seal. It is desirable to do.

この構成により、上記薄板と、上記載置トレイと、上記シールと、上記薄板が当接する薄板周縁保持手段によって上記収納空間を気密に保持することができる。   With this configuration, the storage space can be airtightly held by the thin plate, the above-described placing tray, the seal, and the thin plate peripheral edge holding means that the thin plate contacts.

上記載置トレイを積層して互いに結合したトレイ積層体と、当該トレイ積層体を内部に収納する外部収納容器とからなり、上記外部収納容器が、開口を有する袋状の容器本体と、当該容器本体の上記開口を塞ぐ蓋体と、上記容器本体と蓋体との間に設けられ、当該容器本体内を外部雰囲気から気密に隔離するシールとから構成されるのが望ましい。   The tray stack is formed by stacking the stacking trays and coupled to each other, and an external storage container that stores the tray stack inside. The external storage container includes a bag-like container body having an opening, and the container. It is desirable to comprise a lid that closes the opening of the main body, and a seal that is provided between the container main body and the lid and isolates the inside of the container main body from the outside atmosphere.

この構成により、上記トレイ積層体に上記薄板を収納して支持させた状態で、このトレイ積層体を外部収納容器内に収納させる。これにより、上記薄板を二重構造で支持すると共に、上記外部収納容器の上記容器本体と蓋体との間のシールによって、上記外部収納容器内を清浄に保つ。トレイ積層体がシールを備えている場合は、上記外部収納容器の上記容器本体と蓋体との間のシールと相まって二重に密封して上記薄板の周囲を清浄に保つ。   With this configuration, the tray stack is stored in the external storage container in a state where the thin plate is stored and supported in the tray stack. Accordingly, the thin plate is supported by a double structure, and the inside of the external storage container is kept clean by a seal between the container main body and the lid of the external storage container. When the tray stack has a seal, the periphery of the thin plate is kept clean by double sealing in combination with the seal between the container body and the lid of the external storage container.

以上詳述したように、本発明の薄板保持容器によれば、次のような効果を奏する。   As described above in detail, the thin plate container of the present invention has the following effects.

載置トレイの保持部に上記薄板を載置すると、当該薄板は、その当接部が上記薄板周縁保持手段に当接して、その当接部のみで保持されるため、上記薄板の表裏面に接触することなく安全に支持することができる。さらに、載置トレイを複数積層することで、複数枚の薄板を安全に支持することができる。   When the thin plate is placed on the holding portion of the mounting tray, the thin plate comes into contact with the thin plate peripheral edge holding means and is held only by the contact portion. It can be safely supported without contact. Furthermore, a plurality of thin plates can be safely supported by stacking a plurality of mounting trays.

上記薄板周縁保持手段の上記当接面を傾斜して形成し、上記薄板の当接部にのみ当接し、薄板の表裏面に接触しないで保持するため、上記薄板を安全に支持することができる。   Since the abutting surface of the thin plate peripheral edge holding means is formed to be inclined, abuts only on the abutting portion of the thin plate, and is held without contacting the front and back surfaces of the thin plate, the thin plate can be safely supported. .

隣接する2つの載置トレイの対向する各面の保持部が一対になって前記薄板の当接部を挟持して協働保持するため、上記薄板の表裏面に接触することなく安全に支持することができると共に、薄板のズレを防止して確実に支持することができる。   Since the holding parts of the opposing surfaces of the two adjacent loading trays form a pair and hold the abutting part of the thin plate in cooperation with each other, it is safely supported without contacting the front and back surfaces of the thin plate. In addition, it is possible to prevent the thin plate from being displaced and to support it reliably.

上記載置トレイの保持部を上記薄板とほぼ相似な形状にして、上記薄板の当接部が上記保持部に当接されて保持されるため、上記薄板の当接部の全周が上記保持部に当接して安定的に且つ確実に支持することができる。   Since the holding portion of the placing tray is substantially similar to the thin plate and the contact portion of the thin plate is held in contact with the holding portion, the entire circumference of the contact portion of the thin plate is held in the holding state. It is possible to contact the portion and support it stably and reliably.

一対の上記載置トレイで形成される収納空間に上記薄板を収納して挟持するため、上記薄板を安定的に且つ確実に支持することができる。また、一対の上記載置トレイで形成される収納空間に上記薄板を収納して挟持するため、当該収納空間を構成する載置トレイに情報管理手段を形成することによって、当該収納空間に収納された薄板を枚葉で管理することができ、高付加価値基板をさらに安全に取り扱うことが可能となる。   Since the thin plate is stored and sandwiched in a storage space formed by a pair of upper trays, the thin plate can be stably and reliably supported. Further, in order to store and sandwich the thin plate in a storage space formed by a pair of upper mounting trays, an information management means is formed on the mounting tray constituting the storage space, so that the storage space is stored in the storage space. The thin plate can be managed as a single sheet, and the high value-added substrate can be handled more safely.

上記各載置トレイの保持部を囲繞して設けられたシールが、隣接する2つの載置トレイの結合によって、上記保持部を囲繞した状態で2つの載置トレイに当接して上記収納空間を外部環境から気密に隔離するため、上記薄板を清浄な状態で支持することができる。   A seal provided to surround the holding portions of the respective mounting trays is brought into contact with the two mounting trays in a state of surrounding the holding portions by coupling of the two adjacent mounting trays, thereby reducing the storage space. In order to hermetically isolate from the external environment, the thin plate can be supported in a clean state.

上記結合解除手段で、複数積層された上記各載置トレイの任意の位置で分離して、内部の薄板を出し入れするため、上記薄板の出し入れ作業の効率化を図ることができる。   The coupling release means separates the plurality of stacked stacking trays at an arbitrary position and removes the internal thin plate, so that the efficiency of the thin plate loading / unloading operation can be improved.

複数積層された上記各載置トレイの端部に上記結合解除手段で上記ベーストレイを結合させ、このベーストレイの上記結合溝を機械処理装置の機械的インターフェイスと結合させるため、上記薄板収納容器を機械処理装置に確実に結合させることができる。   In order to couple the base tray to the end of each of the stacked trays by the coupling release means, and to couple the coupling groove of the base tray to the mechanical interface of the machine processing device, It can be securely coupled to the machine processing device.

複数積層された上記各載置トレイの端部の上記結合溝を機械処理装置の機械的インターフェイスと結合させるため、上記薄板収納容器を機械処理装置に確実に結合させることができる。   Since the coupling grooves at the ends of the stacked trays are coupled to the mechanical interface of the machine processing apparatus, the thin plate container can be securely coupled to the machine processing apparatus.

上記ベーストレイと上記載置トレイとで上記薄板を保持した状態で、これらベーストレイと載置トレイとの上記収納空間をシールによって外部環境から気密に隔離することで、上記薄板が収納される薄板収納容器内を外部環境から気密に隔離するため、上記薄板を清浄な状態で支持することができる。   A thin plate in which the thin plate is accommodated by airtightly isolating the storage space between the base tray and the mounting tray from the external environment with a seal in a state where the thin plate is held by the base tray and the placing tray. In order to airtightly isolate the inside of the storage container from the external environment, the thin plate can be supported in a clean state.

上記シールで上記各載置トレイ又は上記載置トレイとベーストレイが弾性的に支持されて、これらの上記薄板周縁保持手段で上記薄板を弾性的に支持するため、外部からの振動、衝撃を、上記各載置トレイ等を弾性的に支持した上記シールで吸収して上記薄板を安全に支持することができる。   The mounting tray or the mounting tray and the base tray are elastically supported by the seal, and the thin plate is held elastically by the thin plate peripheral edge holding means. The thin plate can be safely supported by being absorbed by the seal that elastically supports the mounting trays.

上記薄板の当接部が上記薄板周縁保持手段の薄板受け部に当接し、バネ部で弾性的に支持されるため、上記薄板を安定的に且つ確実に支持すると共に、外部からの振動、衝撃を上記バネ部が吸収して上記薄板を安全に支持することができる。   The abutting portion of the thin plate abuts on the thin plate receiving portion of the thin plate peripheral edge holding means and is elastically supported by the spring portion, so that the thin plate is stably and reliably supported, and vibration and impact from the outside are provided. Is absorbed by the spring portion, and the thin plate can be safely supported.

上記薄板受け部の傾斜した当接面が、上記薄板の当接部にのみ当接して当該薄板を支持するため、上記薄板を安全に支持することができる。   Since the inclined contact surface of the thin plate receiving portion contacts only the contact portion of the thin plate and supports the thin plate, the thin plate can be safely supported.

環状の薄板受け部が上記薄板をその全周から支持し、又は一定間隔で不連続に分割された環状の薄板受け部が上記薄板の周縁を一定間隔ごとに支持するため、上記薄板を安定的に且つ確実に支持することができる。   An annular thin plate receiving part supports the thin plate from the entire circumference, or an annular thin plate receiving part that is discontinuously divided at regular intervals supports the periphery of the thin plate at regular intervals. And can be reliably supported.

上記薄板周縁保持手段が上記薄板の全周を囲繞するように環状に形成され、当該薄板周縁保持手段に当接された上記薄板と上記載置トレイと上記シールとによって上記収納空間を気密に隔離して保持することができるため、複数の上記薄板が収納される際に、隣接する収納空間を隔離して気密に保持でき、一部の収納空間の清浄性が損なわれた場合でも、他の収納空間の清浄性を保つことができる。   The thin plate periphery holding means is formed in an annular shape so as to surround the entire periphery of the thin plate, and the storage space is hermetically isolated by the thin plate in contact with the thin plate periphery holding means, the placement tray, and the seal. Therefore, when a plurality of thin plates are stored, adjacent storage spaces can be isolated and airtight, and even if the cleanliness of some storage spaces is impaired, The cleanliness of the storage space can be maintained.

上記トレイ積層体に上記薄板を収納して支持させた状態で、このトレイ積層体を外部収納容器内に収納させて、上記薄板を二重構造で支持するため、上記薄板を安定的に且つ確実に支持することができる。また、上記外部収納容器の上記容器本体と蓋体との間のシールによって、上記外部収納容器内を清浄に保つことができる。トレイ積層体がシールを備えている場合は、上記外部収納容器の上記容器本体と蓋体との間のシールと相まって二重に密封して上記薄板の周囲を清浄に保つことができる。この結果、上記薄板を安全に、安定的に且つ確実に支持して、搬送することができる。   In a state where the thin plate is stored and supported in the tray stack, the tray stack is stored in an external storage container, and the thin plate is supported in a double structure. Can be supported. Further, the inside of the external storage container can be kept clean by the seal between the container main body and the lid of the external storage container. When the tray stack is provided with a seal, the periphery of the thin plate can be kept clean by double sealing together with the seal between the container body and the lid of the external storage container. As a result, the thin plate can be safely, stably and reliably supported and transported.

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。本発明の薄板保持容器は、半導体ウエハ、磁気記録媒体ディスク、光記録媒体ディスク、液晶用ガラス基板、フレキシブル表示装置用フィルム基板などの電子デバイス用の薄板、その他の薄板を収納して、搬送、保管、処理工程(製造ライン等)における使用に供するための容器である。特に、表裏面に接触することができない未加工の半導体ウエハ等に使用して好適な容器である。本実施形態では、半導体ウエハを収納する薄板保持容器を例に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The thin plate holding container of the present invention accommodates a thin plate for an electronic device such as a semiconductor wafer, a magnetic recording medium disk, an optical recording medium disk, a glass substrate for liquid crystal, a film substrate for a flexible display device, and other thin plates, and is transported. It is a container for use in storage and processing steps (production line, etc.). In particular, it is a container suitable for use on an unprocessed semiconductor wafer that cannot contact the front and back surfaces. In the present embodiment, a thin plate holding container for storing a semiconductor wafer will be described as an example.

薄板保持容器1は、図1、2に示すように主に、一対のベーストレイ2と、各ベーストレイ2の間に挿入される複数の載置トレイ3と、各載置トレイ3の間やベーストレイ2と載置トレイ3との間を互いに結合し、結合解除する結合解除手段4とから構成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the thin plate holding container 1 mainly includes a pair of base trays 2, a plurality of mounting trays 3 inserted between the base trays 2, and a space between the mounting trays 3. The base tray 2 and the loading tray 3 are coupled to each other and are composed of coupling release means 4 for releasing the coupling.

ベーストレイ2は、複数積層された載置トレイ3の上端面及び下端面を保護すると共に半導体ウエハWの研磨等の処理を行う機械装置やウエハWの載置や取り出しを行うための移載装置(いずれも図示せず)に係合するためのトレイである。ベーストレイ2は、ほぼ円盤状に形成されている。ベーストレイ2の周縁には、互いに対向する2箇所の位置に後述する把持部10が設けられている。ベーストレイ2は、上ベーストレイ2Aと下ベーストレイ2Bとからなり、1又は複数枚積層された載置トレイ3の上下の端部に設けられている。   The base tray 2 protects the upper end surface and the lower end surface of a plurality of stacked stacking trays 3 and performs a processing such as polishing of the semiconductor wafer W, or a transfer device for mounting and taking out the wafer W. It is a tray for engaging (both not shown). The base tray 2 is formed in a substantially disk shape. On the periphery of the base tray 2, grip portions 10 described later are provided at two positions facing each other. The base tray 2 includes an upper base tray 2A and a lower base tray 2B, and is provided at upper and lower ends of the stacking tray 3 in which one or a plurality of sheets are stacked.

上ベーストレイ2Aの上側面には、機械処理装置の機械的インターフェイスと結合することが可能な結合溝6が一体的に形成されている。この3つの結合溝6は、機械処理装置側のキネマチックピン(図示せず)に嵌合して薄板保持容器1の位置決めを行うための溝である。また、上ベーストレイ2Aの下側面には、載置トレイ3と結合及び解除可能な上記結合解除手段4が設けられている。上記結合溝6は、下ベーストレイ2Bの下側面にも同様に設けられている。上記結合解除手段4は、下ベーストレイ2Bの上側面にも同様に設けられている。   On the upper side surface of the upper base tray 2A, a coupling groove 6 that can be coupled with a mechanical interface of the machine processing device is integrally formed. The three coupling grooves 6 are grooves for positioning the thin plate holding container 1 by fitting with kinematic pins (not shown) on the machine processing apparatus side. Further, the above-described coupling release means 4 that can be coupled to and released from the mounting tray 3 is provided on the lower surface of the upper base tray 2A. The coupling groove 6 is similarly provided on the lower surface of the lower base tray 2B. The coupling release means 4 is similarly provided on the upper side surface of the lower base tray 2B.

上ベーストレイ2Aの下側面は、載置トレイ3の上側面に当接する平坦面状に形成されている。なお、この上ベーストレイ2Aの下側面は、後述する載置トレイ3の下側面の第2収納隔壁部9と同様の保持部を形成してもよい。下ベーストレイ2Bの上側面は、載置トレイ3の下側面に当接する平坦面状に形成されている。なお、この下ベーストレイ2Bの上側面は、後述する載置トレイ3の上側面の第1収納隔壁部8と同様の保持部を形成してもよい。   The lower side surface of the upper base tray 2 </ b> A is formed in a flat surface shape that comes into contact with the upper side surface of the loading tray 3. The lower side surface of the upper base tray 2A may form a holding portion similar to the second storage partition wall portion 9 on the lower side surface of the mounting tray 3 described later. The upper side surface of the lower base tray 2B is formed in a flat surface shape that comes into contact with the lower side surface of the loading tray 3. The upper side surface of the lower base tray 2B may form a holding portion similar to the first storage partition wall portion 8 on the upper side surface of the mounting tray 3 described later.

上ベーストレイ2A又は下ベーストレイ2Bのいずれか一方又は両方には、ベーストレイ2の情報を管理するための情報管理手段であるバーコード、無線タグ又はインフォパッド(いずれも図示せず)のいずれか一部又は全部が設けられる。これにより、種々の情報を、バーコード、無線タグ及びインフォパッドのいずれか一部で管理したり、それぞれに振り分けて管理したりする。また、これらの情報管理手段を各載置トレイ3に個々に設けることによって、載置トレイ3に対応させてウエハを枚葉管理することが可能となる。   Either one or both of the upper base tray 2A and the lower base tray 2B includes a bar code, a wireless tag, or an info pad (both not shown) that are information management means for managing information on the base tray 2. Or some or all of them are provided. Thereby, various information is managed by any one of the barcode, the wireless tag, and the info pad, or is distributed and managed. Further, by providing each of these information management means on each mounting tray 3, it becomes possible to manage wafers in correspondence with the mounting tray 3.

なお、ベーストレイ2が1枚のときは、ベーストレイ2は端部の載置トレイ3の一側面に取り付けられて、各載置トレイ3をその一側面から支持する。   When there is one base tray 2, the base tray 2 is attached to one side surface of the mounting tray 3 at the end, and supports each mounting tray 3 from one side surface.

載置トレイ3は、各ベーストレイ2の間に挿入されて半導体ウエハWを保持収納するためのトレイである。載置トレイ3は、後述する把持部10の部分が直線的にカットされた、ほぼ円盤状に形成されている。載置トレイ3は、任意の枚数が積層される。半導体ウエハWの枚数に応じた枚数の載置トレイ3を積層して、ベーストレイ2と共に薄板保持容器1を構成する。   The mounting tray 3 is a tray that is inserted between the base trays 2 to hold and store the semiconductor wafers W. The mounting tray 3 is formed in a substantially disk shape in which a portion of a gripping portion 10 described later is linearly cut. Any number of mounting trays 3 are stacked. The number of mounting trays 3 corresponding to the number of semiconductor wafers W is stacked, and the thin plate holding container 1 is configured together with the base tray 2.

載置トレイ3は、図2及び図5に示すように、第1収納隔壁部8と、第2収納隔壁部9と、結合解除手段4と、把持部10とを備えて構成されている。   As shown in FIGS. 2 and 5, the loading tray 3 includes a first storage partition wall portion 8, a second storage partition wall portion 9, a coupling release unit 4, and a grip portion 10.

第1収納隔壁部8は、後述する収納空間15に収納された半導体ウエハWの下側に位置して収納空間15の下側を仕切るための部分である。第1収納隔壁部8は、載置トレイ3の上側面に、半導体ウエハWの大きさ及び形状に合わせてほぼ相似な形状に凹ませて形成されている。半導体ウエハWは円形であるため、第1収納隔壁部8は、それに合わせて円形に形成されている。   The first storage partition wall 8 is a part for partitioning the lower side of the storage space 15 located below the semiconductor wafer W stored in the storage space 15 described later. The first storage partition wall portion 8 is formed on the upper side surface of the mounting tray 3 so as to be recessed into a substantially similar shape in accordance with the size and shape of the semiconductor wafer W. Since the semiconductor wafer W has a circular shape, the first storage partition wall portion 8 is formed in a circular shape in accordance with it.

第1収納隔壁部8の周縁には薄板周縁保持手段11が設けられている。この薄板周縁保持手段11は、半導体ウエハWの当接部に当接して当該半導体ウエハWをその当接部のみで保持する手段である。薄板周縁保持手段11は、半導体ウエハWをその当接部にのみ当接する当接面11Aを有して構成されている。なお、当接面11Aは、半導体ウエハWの当接部にのみ当接して支持するように傾斜して形成されている。当接面11Aは、半導体ウエハWの当接部に弾性的に当接するように、第1収納隔壁部8の他の部分と異なる弾性材料で形成してもよい。薄板周縁保持手段11は、半導体ウエハWを保持するように円環状に形成されている。また、上記当接部は、上述したように、半導体ウエハWの外周縁部の上下に位置する稜部である。そして、この当接部には、上記半導体ウエハWの外周縁部の上下がC面加工されたり、球面加工されたりした面取り加工部をも含むものとする。   Thin plate peripheral edge holding means 11 is provided on the peripheral edge of the first storage partition wall portion 8. The thin plate peripheral edge holding means 11 is a means that comes into contact with the contact portion of the semiconductor wafer W and holds the semiconductor wafer W only by the contact portion. The thin plate peripheral edge holding means 11 has an abutting surface 11A that abuts the semiconductor wafer W only on the abutting portion thereof. The contact surface 11A is formed to be inclined so as to contact and support only the contact portion of the semiconductor wafer W. The contact surface 11A may be formed of an elastic material different from other portions of the first storage partition wall portion 8 so as to elastically contact the contact portion of the semiconductor wafer W. The thin plate peripheral edge holding means 11 is formed in an annular shape so as to hold the semiconductor wafer W. Further, as described above, the contact portion is a ridge portion located above and below the outer peripheral edge portion of the semiconductor wafer W. The contact portion includes a chamfered portion in which the upper and lower portions of the outer peripheral edge of the semiconductor wafer W are C-surface processed or spherically processed.

第1収納隔壁部8の外周縁にはシール受け溝13が設けられている。このシール受け溝13は、シール14を保持するための溝である。シール受け溝13は第1収納隔壁部8の外周縁に円環状に形成されている。これにより、主として第1収納隔壁部8と第2収納隔壁部9とシール14と薄板周縁保持手段11の当接面11Aとで収納空間15が構成されている。シール14は、シール保持溝16に嵌合された状態で、2つの載置トレイ3が積層されて各載置トレイ3が互いに結合されたときにできる収納空間15を囲繞するように設けられ、この収納空間15を外部環境から隔離して気密に保つようになっている。この収納空間15は、1枚の半導体ウエハWを収納できる大きさに設定されている。収納空間15は、半導体ウエハWがその当接部のみが当接してそれ以外の部分はどこにも接触しないように構成されている。   A seal receiving groove 13 is provided on the outer peripheral edge of the first storage partition wall 8. The seal receiving groove 13 is a groove for holding the seal 14. The seal receiving groove 13 is formed in an annular shape on the outer peripheral edge of the first storage partition wall 8. Thereby, the storage space 15 is mainly constituted by the first storage partition wall portion 8, the second storage partition wall portion 9, the seal 14, and the contact surface 11 </ b> A of the thin plate peripheral edge holding means 11. The seal 14 is provided so as to surround a storage space 15 that is formed when the two placement trays 3 are stacked and the placement trays 3 are coupled to each other in a state of being fitted in the seal holding groove 16. This storage space 15 is isolated from the external environment and kept airtight. The storage space 15 is set to a size that can store one semiconductor wafer W. The storage space 15 is configured such that only the contact portion of the semiconductor wafer W is in contact, and the other portions are not in contact with anything.

なお、図4及び図6に示すように、第1収納隔壁部8と第2収納隔壁部9を設けない場合もある。半導体ウエハWは、その当接部のみで支持されるため、上記収納空間15を仕切る上記第1収納隔壁部8と第2収納隔壁部9はなくてもよい。ここでは当該第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9は、収納空間15を構成するためにのみ設けられている。このため、第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9を除いた場合は、当該第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9の代わりに半導体ウエハWが仕切り板となって収納空間15を構成する。また、半導体ウエハWが1枚も収納されていない場合は、ベーストレイ2とシール14と載置トレイ3とで収納空間15が形成されることになる。   In addition, as shown in FIG.4 and FIG.6, the 1st storage partition part 8 and the 2nd storage partition part 9 may not be provided. Since the semiconductor wafer W is supported only by the contact portion, the first storage partition wall 8 and the second storage partition wall 9 that partition the storage space 15 may be omitted. Here, the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 are provided only for configuring the storage space 15. For this reason, when the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 are excluded, the semiconductor wafer W serves as a partition plate instead of the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 and stores space. 15 is configured. When no semiconductor wafer W is stored, the storage space 15 is formed by the base tray 2, the seal 14, and the mounting tray 3.

収納空間15に配された半導体ウエハWの全周の少なくとも一部が重なるように環状に形成された薄板周縁保持手段11の当接面11Aに半導体ウエハWが当接することにより、隣り合う2枚の半導体ウエハWが第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9に変わって収納空間15を構成する。これにより、半導体ウエハWが各収納空間15を気密に隔離して、上下のベーストレイ2の破損や各載置トレイ3間のシール性の低下等によりいずれかの収納空間15の気密性が低下した場合でも、それに隣接する内側の収納空間15は気密に保持される。   Two adjacent wafers are brought into contact with the contact surface 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 formed in an annular shape so that at least a part of the entire circumference of the semiconductor wafer W arranged in the storage space 15 overlaps. The semiconductor wafer W forms a storage space 15 in place of the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9. As a result, the semiconductor wafer W isolates each storage space 15 in an airtight manner, and the airtightness of any of the storage spaces 15 decreases due to damage to the upper and lower base trays 2 or a decrease in sealing performance between the respective mounting trays 3. Even in this case, the inner storage space 15 adjacent to the inner storage space 15 is kept airtight.

第2収納隔壁部9は、収納空間15に収納された半導体ウエハWの上側に位置して収納空間15の下側を仕切るための部分である。第2収納隔壁部9は、載置トレイ3の下側面に、半導体ウエハWの大きさ及び形状に合わせてほぼ相似な形状に凹ませて形成されている。半導体ウエハWは円形であるため、第2収納隔壁部9は、第1収納隔壁部8と同様に、半導体ウエハWに合わせて円形に形成されている。   The second storage partition wall 9 is a portion that is located above the semiconductor wafer W stored in the storage space 15 and partitions the lower side of the storage space 15. The second storage partition wall 9 is formed on the lower surface of the mounting tray 3 so as to be recessed into a substantially similar shape in accordance with the size and shape of the semiconductor wafer W. Since the semiconductor wafer W has a circular shape, the second storage partition wall 9 is formed in a circle in accordance with the semiconductor wafer W, like the first storage partition wall 8.

第2収納隔壁部9の外周縁にはシール保持溝16が設けられている。このシール保持溝16は、第1収納隔壁部8側のシール受け溝13と相まってシール14を密着して上記収納空間15内の気密性を向上させるための部分である。シール保持溝16は、シール受け溝13に比べて深く形成され、シール14を嵌合して支持するようになっている。シール14は、シール保持溝16に嵌合支持された状態で、シール受け溝13に当接するようになっている。   A seal holding groove 16 is provided on the outer peripheral edge of the second storage partition wall 9. The seal holding groove 16 is a portion for improving the airtightness in the storage space 15 by closely contacting the seal 14 together with the seal receiving groove 13 on the first storage partition wall 8 side. The seal holding groove 16 is formed deeper than the seal receiving groove 13 so as to fit and support the seal 14. The seal 14 comes into contact with the seal receiving groove 13 while being fitted and supported in the seal holding groove 16.

さらに、シール14は、シール受け溝13とシール保持溝16とに嵌合して、隣接する2つの載置トレイ3を弾性的に支持し、これにより各第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9の各薄板周縁保持手段11を弾性的に支持し、この結果、各薄板周縁保持手段11が半導体ウエハWの当接部を弾性的に支持するようになっている。   Further, the seal 14 is fitted into the seal receiving groove 13 and the seal holding groove 16 to elastically support the two adjacent loading trays 3, thereby the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition portion 8. Each thin plate peripheral edge holding means 11 of the partition wall 9 is elastically supported. As a result, each thin plate peripheral edge holding means 11 elastically supports the contact portion of the semiconductor wafer W.

結合解除手段4は、隣接する各載置トレイ3の間を互いに結合・結合解除するための手段である。この結合解除手段4によって、複数枚積層された載置トレイ3を任意の位置で結合解除して開き、その内部の半導体ウエハWを取り出し、又はその部分に半導体ウエハWを収納して互いに結合するようになっている。この結合解除手段4としては、公知の機構を用いることができる。例えば、フックと、フック係止機構とからなる結合解除手段等の種々の機構を用いることができる。即ち、この結合解除手段4としては、隣接する各載置トレイ3の間を互いに結合・結合解除することができるものであればよく、公知の全ての構造を有する結合解除手段を用いることができる。   The coupling release unit 4 is a unit for coupling and decoupling the adjacent loading trays 3 to each other. By this uncoupling means 4, the stacking trays 3 stacked in a plurality of layers are decoupled and opened at an arbitrary position, the semiconductor wafer W inside is taken out, or the semiconductor wafer W is accommodated in that portion and coupled to each other. It is like that. A known mechanism can be used as the coupling release means 4. For example, various mechanisms such as a coupling release means including a hook and a hook locking mechanism can be used. That is, the coupling release unit 4 may be any unit that can couple and release the adjacent stacking trays 3 to each other, and any known coupling release unit having any structure can be used. .

脱着操作孔20は、フック係止機構19を着脱操作する上記操作キーを挿入するための孔である。この脱着操作孔20は、載置トレイ3の外側面に臨ませて形成されている。操作キーは、載置トレイ3の外側面から脱着操作孔20内へ挿入されて、内部のフック係止機構19とフック18とを切り離して結合解除手段4を固定解除するようになっている。   The attachment / detachment operation hole 20 is a hole for inserting the operation key for attaching / detaching the hook locking mechanism 19. The attachment / detachment operation hole 20 is formed so as to face the outer surface of the loading tray 3. The operation key is inserted into the attachment / detachment operation hole 20 from the outer side surface of the loading tray 3, and the internal hook locking mechanism 19 and the hook 18 are separated to release the coupling release means 4.

これにより、結合解除手段4は、ベーストレイ2及び載置トレイ3が積層されると、各載置トレイ3の間やベーストレイ2と載置トレイ3の間を互いに固定して薄板保持容器1を構成する。さらに、操作キーを任意の位置の脱着操作孔20に挿入して結合解除手段4を固定解除することにより、ベーストレイ2及び載置トレイ3を任意の位置で分離し、再び結合できるようになっている。   Thus, when the base tray 2 and the mounting tray 3 are stacked, the coupling release unit 4 fixes the thin plate holding container 1 between the mounting trays 3 or between the base tray 2 and the mounting tray 3. Configure. Furthermore, by inserting the operation key into the attachment / detachment operation hole 20 at an arbitrary position and releasing the coupling release means 4, the base tray 2 and the loading tray 3 can be separated at an arbitrary position and can be coupled again. ing.

把持部10は、外部の機械装置側の搬送アームが嵌合して把持するための部分である。把持部10は、図1及び図2に示すように、載置トレイ3の対向する側面(図2中の左右側面)に、それぞれ設けられている。把持部10は、その縦断面形状を楔状に形成されている。即ち、把持部10の縦断面形状は、上下方向の位置決めをする、互いに傾斜した2つの傾斜面を備えて構成されている。上記搬送アームの保持機構(図示せず)はV溝構造になっている。この保持機構42のV溝部分が把持部10の2つの傾斜面と接触して互いに嵌合することで、載置トレイ3の上下方向が位置決めされるようになっている。   The gripping part 10 is a part for engaging and gripping a transfer arm on the external machine device side. As shown in FIGS. 1 and 2, the gripping portions 10 are respectively provided on opposite side surfaces (left and right side surfaces in FIG. 2) of the mounting tray 3. The holding part 10 is formed in a wedge shape in its longitudinal sectional shape. That is, the vertical cross-sectional shape of the grip portion 10 is configured to include two inclined surfaces that are inclined with respect to each other and are positioned in the vertical direction. The holding mechanism (not shown) for the transfer arm has a V-groove structure. The V-groove portion of the holding mechanism 42 comes into contact with the two inclined surfaces of the grip portion 10 and is fitted to each other, whereby the vertical direction of the loading tray 3 is positioned.

上記構成の載置トレイ3は、非帯電性または導電性の高分子材料で形成されている。さらに、載置トレイ3の第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9の部分が透明になる高分子材料で形成されている。   The mounting tray 3 having the above configuration is formed of a non-chargeable or conductive polymer material. Further, the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 of the loading tray 3 are formed of a polymer material that becomes transparent.

載置トレイ3の具体的な材料としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリメタクリル酸メチル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂などの熱可塑性高分子材料やフッ素系樹脂などを用いることができる。これらの高分子にカーボンファイバーや金属パウダーなどの導電材料を混合したり、界面活性剤を混合したりすることによって、導電性や非帯電性を付与することができる。   Specific materials for the loading tray 3 include thermoplastic polymer materials such as polycarbonate resins, polybutylene terephthalate resins, polymethyl methacrylate resins, cycloolefin resins, polypropylene resins, and fluorine resins. Can be used. Conductivity and non-chargeability can be imparted by mixing these polymers with a conductive material such as carbon fiber or metal powder, or by mixing a surfactant.

薄板周縁保持手段11の当接面11Aを構成する弾性材料としては、ポリブチレンテレフタレート系樹脂やポリエチレンエラストマ−やポリブチレンエラストマ−などがある。   Examples of the elastic material constituting the contact surface 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 include polybutylene terephthalate resin, polyethylene elastomer, and polybutylene elastomer.

透明な材料としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリメタクリル酸メチル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂などがある。   Examples of the transparent material include polycarbonate resin, polymethyl methacrylate resin, and cycloolefin resin.

載置トレイ3には、上記ベーストレイ2と同様に、無線タグ等が設けられている。   Similar to the base tray 2, the mounting tray 3 is provided with a wireless tag or the like.

[作用]
以上のように構成された薄板保持容器1は、次のようにして使用される。
[Action]
The thin plate holding container 1 configured as described above is used as follows.

まず、保持する半導体ウエハWの枚数に合わせて枚数の載置トレイ3を積層し、上下の端部にベーストレイ2を取り付けて薄板保持容器1を構成する。そして、各半導体ウエハWを各載置トレイ3の第1収納隔壁部8に載置し、必要に応じて、各載置トレイ3及び各半導体ウエハWの情報を無線タグ等に適宜記録する。   First, the number of mounting trays 3 is stacked in accordance with the number of semiconductor wafers W to be held, and the base tray 2 is attached to the upper and lower ends to constitute the thin plate holding container 1. And each semiconductor wafer W is mounted in the 1st storage partition part 8 of each mounting tray 3, and the information of each mounting tray 3 and each semiconductor wafer W is suitably recorded on a wireless tag etc. as needed.

複数積層された載置トレイ3の任意の位置で、結合解除手段4を解除して載置トレイ3を開き、薄板周縁保持手段11に半導体ウエハWを載置する。これにより、半導体ウエハWは、収納空間15内に収納されて、その当接部が、第1収納隔壁部8の周縁に形成された薄板周縁保持手段11の当接面11Aに当接する。これにより、半導体ウエハWをその当接部のみで保持する。さらに、上側の載置トレイ3に設けられた第2収納隔壁部9側に形成された薄板周縁保持手段11の当接面11Aが、半導体ウエハWの当接部にその上側から当接する。これにより、半導体ウエハWは、第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9に設けられた各薄板周縁保持手段11の当接面11Aが互いに協働して半導体ウエハWの周縁部の上下に位置する稜部である当接部に効果的に作用し、その当接部の上下のみに当接して保持される。即ち、載置トレイ3の上側面の第1収納隔壁部8及び下側面の第2収納隔壁部9が一対になって半導体ウエハWの当接部を挟持して協働保持する。薄板周縁保持手段11は、上記シール14で弾性的に支持された各載置トレイ3によって、半導体ウエハWを弾性的に支持する。   At any position of the stacked stacking trays 3, the coupling release unit 4 is released to open the mounting tray 3, and the semiconductor wafer W is mounted on the thin plate peripheral edge holding unit 11. As a result, the semiconductor wafer W is stored in the storage space 15, and its contact portion comes into contact with the contact surface 11 </ b> A of the thin plate peripheral edge holding means 11 formed on the peripheral edge of the first storage partition wall portion 8. Thereby, the semiconductor wafer W is held only by the contact portion. Furthermore, the contact surface 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 formed on the second storage partition wall 9 provided on the upper mounting tray 3 contacts the contact portion of the semiconductor wafer W from above. As a result, the semiconductor wafer W has the contact surfaces 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 provided in the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 in cooperation with each other so that the top and bottom of the peripheral edge portion of the semiconductor wafer W It acts effectively on the abutting portion which is a ridge located at the position and is held in contact with only the upper and lower sides of the abutting portion. That is, the first storage partition wall portion 8 on the upper surface of the loading tray 3 and the second storage partition wall portion 9 on the lower surface are paired to hold and hold the contact portion of the semiconductor wafer W in cooperation. The thin plate peripheral edge holding means 11 elastically supports the semiconductor wafer W by each mounting tray 3 elastically supported by the seal 14.

このとき、各薄板周縁保持手段11の当接面11Aは傾斜しているため、当接面11Aは半導体ウエハWの当接部にのみ当接し、半導体ウエハWの表裏面に接触しないで保持する。また、隣接する2つの載置トレイ3の結合によって、シール14が収納空間15を外部環境から気密に隔離して、半導体ウエハWを清浄な状態に保つ。   At this time, since the contact surface 11A of each thin plate peripheral edge holding means 11 is inclined, the contact surface 11A contacts only the contact portion of the semiconductor wafer W and holds it without contacting the front and back surfaces of the semiconductor wafer W. . In addition, the seal 14 isolates the storage space 15 from the external environment in an airtight manner by coupling the two adjacent mounting trays 3, thereby keeping the semiconductor wafer W in a clean state.

この状態で、薄板保持容器1を工場等に搬送する。工場等では、ベーストレイ2の結合溝6が機械処理装置の機械的インターフェイスと結合され、内部の半導体ウエハWが取り出される。   In this state, the thin plate holding container 1 is transported to a factory or the like. In a factory or the like, the coupling groove 6 of the base tray 2 is coupled to the mechanical interface of the mechanical processing apparatus, and the internal semiconductor wafer W is taken out.

[効果]
これにより、薄板保持容器1は次のような効果を奏する。
[effect]
Thereby, the thin plate holding container 1 has the following effects.

載置トレイ3の第1収納隔壁部8に半導体ウエハWを収納すると、半導体ウエハWの当接部のみが薄板周縁保持手段11に当接するため、半導体ウエハWをその当接部のみで保持することができる。この結果、半導体ウエハWをその表裏面に接触することなく安全に支持することができる。さらに、載置トレイ3を複数積層することで、複数枚の半導体ウエハWを安全に支持することができる。   When the semiconductor wafer W is stored in the first storage partition wall portion 8 of the mounting tray 3, only the contact portion of the semiconductor wafer W comes into contact with the thin plate peripheral edge holding unit 11, so that the semiconductor wafer W is held only by the contact portion. be able to. As a result, the semiconductor wafer W can be safely supported without contacting the front and back surfaces. Furthermore, by stacking a plurality of mounting trays 3, a plurality of semiconductor wafers W can be safely supported.

薄板周縁保持手段11の当接面11Aを傾斜して形成することで、当接面11Aを半導体ウエハWの当接部にのみ当接して保持するため、半導体ウエハWを安全に支持することができる。   By forming the contact surface 11A of the thin plate periphery holding means 11 to be inclined, the contact surface 11A is held in contact with only the contact portion of the semiconductor wafer W, so that the semiconductor wafer W can be safely supported. it can.

隣接する2つの載置トレイ3の対向する各面の第1収納隔壁部8側及び第2収納隔壁部9側の薄板周縁保持手段11の当接面11Aが一対になって半導体ウエハWの当接部を挟持して協働保持するため、半導体ウエハWを安全に支持することができると共に、半導体ウエハWのズレを防止して確実に支持することができる。   The contact surfaces 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 on the first storage partition wall 8 side and the second storage partition wall 9 side of the opposing surfaces of the two adjacent loading trays 3 are paired to contact the semiconductor wafer W. Since the contact portion is sandwiched and held in cooperation, the semiconductor wafer W can be safely supported, and the semiconductor wafer W can be prevented from being displaced and reliably supported.

上記載置トレイ3の第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9を半導体ウエハWとほぼ相似な形状にして、半導体ウエハWの当接部が第1収納隔壁部8側及び第2収納隔壁部9側の薄板周縁保持手段11の当接面11Aに当接されて保持されるため、半導体ウエハWの当接部の全周が上記側の薄板周縁保持手段11の当接面11Aに当接して、半導体ウエハWをその周縁部から均等に支持する。これにより、半導体ウエハWを安定的に且つ確実に支持することができる。   The first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 of the placement tray 3 are formed in a shape substantially similar to the semiconductor wafer W, and the contact portion of the semiconductor wafer W is on the first storage partition wall portion 8 side and the second storage partition wall. Since the abutting surface 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 on the partition wall 9 side is held in contact with the abutting surface 11A, the entire circumference of the abutting portion of the semiconductor wafer W is on the abutting surface 11A of the thin plate peripheral edge holding means 11 on the above side. The semiconductor wafer W is abutted and uniformly supported from the peripheral edge thereof. Thereby, the semiconductor wafer W can be supported stably and reliably.

一対の上記載置トレイ3で形成される収納空間15に半導体ウエハWを収納して挟持するため、半導体ウエハWを安定的に且つ確実に支持することができる。   Since the semiconductor wafer W is stored and held in the storage space 15 formed by the pair of upper placing trays 3, the semiconductor wafer W can be supported stably and reliably.

上記各載置トレイ3の第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9を囲繞して設けられたシール14が、隣接する2つの載置トレイ3の結合によって、上記第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9を囲繞した状態で2つの載置トレイ3に当接して上記収納空間15を外部環境から気密に隔離するため、半導体ウエハWを清浄な状態で支持することができる。   A seal 14 provided so as to surround the first storage partition wall 8 and the second storage partition wall 9 of each of the mounting trays 3 is coupled to the adjacent two mounting trays 3 to thereby combine the first storage partition wall 8. In addition, the semiconductor wafer W can be supported in a clean state because the storage space 15 is hermetically isolated from the external environment by abutting against the two placement trays 3 while surrounding the second storage partition wall 9.

上記結合解除手段4で、複数積層された上記各載置トレイ3の任意の位置で分離して、内部の半導体ウエハWを出し入れするため、半導体ウエハWの出し入れ作業の効率化を図ることができる。   The coupling release means 4 separates the plurality of stacked stacking trays 3 at an arbitrary position and takes in / out the semiconductor wafers W, so that the semiconductor wafers W can be put in / out efficiently. .

複数積層された上記各載置トレイ3の端部に上記結合解除手段4で上記ベーストレイ2を結合させ、このベーストレイ2の上記結合溝6を機械処理装置の機械的インターフェイスと結合させるため、薄板保持容器1を機械処理装置に確実に結合させることができ、作業性が向上する。   In order to couple the base tray 2 to the end portion of each of the stacked trays 3 by the coupling release means 4 and to couple the coupling groove 6 of the base tray 2 to a mechanical interface of a machine processing device, The thin plate holding container 1 can be reliably coupled to the machine processing device, and workability is improved.

上記ベーストレイ2と上記載置トレイ3とで半導体ウエハWを保持した状態で、これらベーストレイ2と載置トレイ3との収納空間15をシール14によって外部環境から気密に隔離することで、半導体ウエハWが収納される薄板保持容器1内を外部環境から気密に隔離するため、半導体ウエハWを清浄な状態で支持することができる。   In a state where the semiconductor wafer W is held by the base tray 2 and the mounting tray 3 described above, the storage space 15 between the base tray 2 and the mounting tray 3 is hermetically isolated from the external environment by a seal 14, so that the semiconductor Since the inside of the thin plate holding container 1 in which the wafer W is stored is hermetically isolated from the external environment, the semiconductor wafer W can be supported in a clean state.

上記シール14で上記各載置トレイ3又は上記載置トレイ3とベーストレイ2が弾性的に支持されて、これらの上記薄板周縁保持手段11で半導体ウエハWを弾性的に支持するため、外部からの振動、衝撃が加わっても、その振動、衝撃を、上記各載置トレイ3等を弾性的に支持した上記シール14で吸収して、半導体ウエハWを安全に支持することができる。   The mounting tray 3 or the mounting tray 3 and the base tray 2 are elastically supported by the seal 14 and the semiconductor wafer W is elastically supported by the thin plate peripheral edge holding means 11. Even if this vibration or impact is applied, the vibration or impact is absorbed by the seal 14 that elastically supports the mounting trays 3 or the like, so that the semiconductor wafer W can be safely supported.

第1収納隔壁部8と第2収納隔壁部9を仕切る板部を設けない場合でも、上記半導体ウエハWと当該半導体ウエハWが当接する薄板周縁保持手段11とによって隔離される収納空間を気密に保持することができるため、複数の上半導体ウエハWが収納される際に、隣接する収納空間を隔離して気密に保持することができる。これにより、一部の収納空間の清浄性が損なわれた場合でも、その収納空間と隣接する収納空間は半導体ウエハWで気密に仕切られているため、隣接する他の収納空間の清浄性を保つことができる。   Even in the case where a plate portion for partitioning the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 is not provided, the storage space isolated by the semiconductor wafer W and the thin plate peripheral edge holding means 11 with which the semiconductor wafer W abuts is airtight. Therefore, when a plurality of upper semiconductor wafers W are stored, adjacent storage spaces can be isolated and kept airtight. Thereby, even when the cleanliness of a part of the storage space is impaired, the storage space adjacent to the storage space is hermetically partitioned by the semiconductor wafer W, so that the cleanliness of other adjacent storage spaces is maintained. be able to.

また、上下の2つの載置トレイ3で半導体ウエハWを挟んで支持するため、薄板保持容器1を補強装置として使用することができる。   Further, since the semiconductor wafer W is supported by the upper and lower mounting trays 3, the thin plate holding container 1 can be used as a reinforcing device.

[変形例]
上記実施形態では、薄板周縁保持手段11を当接面11Aで構成したが、図7及び図8に示すように構成してもよい。即ち、図示するように、薄板周縁保持手段21を、半導体ウエハWの当接部にその上下から当接して支持する薄板受け部22と、当該薄板受け部22を弾性的に支持するバネ部23とから構成してもよい。
[Modification]
In the above embodiment, the thin plate peripheral edge holding means 11 is configured by the contact surface 11A, but may be configured as shown in FIGS. That is, as shown in the drawing, the thin plate peripheral edge holding means 21 is supported on the contact portion of the semiconductor wafer W from above and below, and the spring portion 23 that elastically supports the thin plate support portion 22. You may comprise.

薄板受け部22は、半導体ウエハWの当接部に当接する上記当接面11Aと同様の傾斜面を形成する環状の弾性板材で構成されている。薄板受け部22は、半導体ウエハWの当接部にのみ当接して当該半導体ウエハWを支持するように傾斜して形成された当接面22Aを有する。   The thin plate receiving portion 22 is formed of an annular elastic plate material that forms an inclined surface similar to the contact surface 11A that contacts the contact portion of the semiconductor wafer W. The thin plate receiving portion 22 has an abutting surface 22A formed so as to be in contact with only the abutting portion of the semiconductor wafer W and to support the semiconductor wafer W.

バネ部23は、薄板受け部22と相まって断面U字状に折り曲げて形成された弾性部材で構成されている。バネ部23は、保持部24の壁面24Aに埋め込まれた基板部25に一体的に取り付けられている。   The spring portion 23 is formed of an elastic member formed by bending the thin plate receiving portion 22 into a U-shaped cross section. The spring portion 23 is integrally attached to the substrate portion 25 embedded in the wall surface 24 </ b> A of the holding portion 24.

これにより、薄板受け部22は、図8(A)の状態から、半導体ウエハWの当接部をその上下から当接面22Aが当接して挟持し、図8(B)のように弾性的に支持する。   Thereby, the thin plate receiving portion 22 holds the contact portion of the semiconductor wafer W from the state shown in FIG. 8A with the contact surface 22A coming into contact with the upper and lower sides, and is elastic as shown in FIG. 8B. To support.

これにより、半導体ウエハWを安定的に且つ確実に支持すると共に、外部からの振動、衝撃を上記バネ部23が吸収して半導体ウエハWを安全に支持することができる。   As a result, the semiconductor wafer W can be supported stably and reliably, and vibrations and shocks from the outside can be absorbed by the spring portion 23 to support the semiconductor wafer W safely.

また、上記薄板受け部22の傾斜した当接面22Aが、半導体ウエハWの当接部にのみ当接して当該半導体ウエハWを支持するため、半導体ウエハWを安全に支持することができる。   Further, since the inclined contact surface 22A of the thin plate receiving portion 22 contacts only the contact portion of the semiconductor wafer W and supports the semiconductor wafer W, the semiconductor wafer W can be safely supported.

このとき、薄板周縁保持手段21は、図7に示すように、円環状に形成してもよく、図9に示すように一定間隔で不連続に分割された環状に形成してもよい。この場合、薄板周縁保持手段21は、中心点を基準にした点対称に配設されることになる。なお、薄板周縁保持手段21は、点対称に限る必要はない。薄板周縁保持手段21の円弧の大きさを変えて配設しても良い。   At this time, the thin plate periphery holding means 21 may be formed in an annular shape as shown in FIG. 7, or may be formed in an annular shape discontinuously divided at regular intervals as shown in FIG. In this case, the thin plate peripheral edge holding means 21 is disposed symmetrically with respect to the center point. The thin plate peripheral edge holding means 21 need not be limited to point symmetry. You may arrange | position by changing the magnitude | size of the circular arc of the thin-plate periphery holding means 21. FIG.

また、薄板周縁保持手段21の個数を偶数個配設して点対象にする場合以外に、奇数個配設しても良い。半導体ウエハWを一定間隔で支持することによって、半導体ウエハWに加わる力を均一化・等方化することが可能となる。この結果、半導体ウエハWの当接部を安全に且つ確実に支持することができ、半導体ウエハWの保持を安定させると共に、ウエハの損傷を抑えることができる。   Further, an odd number of thin plate peripheral edge holding means 21 may be provided in addition to the case where the number of thin plate peripheral edge holding means 21 is an even number. By supporting the semiconductor wafer W at regular intervals, the force applied to the semiconductor wafer W can be made uniform and isotropic. As a result, the contact portion of the semiconductor wafer W can be safely and reliably supported, and the holding of the semiconductor wafer W can be stabilized and damage to the wafer can be suppressed.

また、図10に示すように、薄板周縁保持手段27の薄板受け部28を、半導体ウエハWの当接部に当接する上記当接面11Aと同様の傾斜面を形成する環状の弾性板材で構成し、バネ部29を上記薄板受け部28の中央部を環状に支持する断面L字型に形成してもよい。バネ部29は、保持部30の壁面30Aに固定された基板部31に一体的に取り付けられている。基板部31は円環状になっていても良いし、離散的に分離した基板部31上にバネ部と保持部が形成された形状となっていても良い。さらに、壁面30Aは必ずしも傾斜している必要はなく、垂直な壁面になっていても良い。   Further, as shown in FIG. 10, the thin plate receiving portion 28 of the thin plate peripheral edge holding means 27 is composed of an annular elastic plate material that forms an inclined surface similar to the contact surface 11A that contacts the contact portion of the semiconductor wafer W. The spring portion 29 may be formed in an L-shaped cross section that supports the central portion of the thin plate receiving portion 28 in an annular shape. The spring portion 29 is integrally attached to the substrate portion 31 fixed to the wall surface 30 </ b> A of the holding portion 30. The substrate part 31 may have an annular shape, or may have a shape in which a spring part and a holding part are formed on the discretely separated substrate part 31. Furthermore, the wall surface 30A is not necessarily inclined, and may be a vertical wall surface.

これにより、薄板受け部28は、図10(A)の状態から、半導体ウエハWの当接部をその上下から当接すると、図10(B)のように、バネ部29で支持された上記薄板受け部28が半導体ウエハWの当接部を挟むようにして締め付けて支持する。   Accordingly, when the contact portion of the semiconductor wafer W is contacted from above and below from the state of FIG. 10A, the thin plate receiving portion 28 is supported by the spring portion 29 as shown in FIG. 10B. The thin plate receiving portion 28 is clamped and supported so as to sandwich the contact portion of the semiconductor wafer W.

この薄板周縁保持手段27は、図9に示すように一定間隔を空けた飛び石状に形成されている。   The thin plate peripheral edge holding means 27 is formed in a stepping stone shape with a predetermined interval as shown in FIG.

この場合も、半導体ウエハWを安定的に且つ確実に支持すると共に、外部からの振動、衝撃を吸収して半導体ウエハWを安全に支持することができる。   Also in this case, the semiconductor wafer W can be stably and reliably supported, and the semiconductor wafer W can be safely supported by absorbing external vibration and impact.

また、上記実施形態では、一対のベーストレイ2と複数の載置トレイ3を積層して薄板保持容器1を構成したが、収納容器を用いてもよい。具体的には、図11に示すように、薄板保持容器を、一対のベーストレイ2と複数の載置トレイ3を積層したトレイ積層体35と、当該トレイ積層体35を内部に収納する外部収納容器36とから構成してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although a pair of base tray 2 and the some mounting tray 3 were laminated | stacked and the thin plate holding container 1 was comprised, you may use a storage container. Specifically, as shown in FIG. 11, the thin plate holding container includes a tray stack 35 in which a pair of base trays 2 and a plurality of mounting trays 3 are stacked, and external storage that stores the tray stack 35 therein. You may comprise from the container 36. FIG.

トレイ積層体35は、上記実施形態の薄板保持容器1と同様である。外部収納容器36は、開口を有する袋状の容器本体37と、当該容器本体37の上記開口を塞ぐ蓋体38と、上記容器本体37と蓋体38との間に設けられ、当該容器本体37内を外部雰囲気から気密に隔離するシール39とから構成されている。   The tray stack 35 is the same as the thin plate holding container 1 of the above embodiment. The external storage container 36 is provided between a bag-shaped container body 37 having an opening, a lid body 38 that closes the opening of the container body 37, and the container body 37 and the lid body 38. And a seal 39 that hermetically isolates the interior from the outside atmosphere.

この構成により、上記トレイ積層体35に上記半導体ウエハWを収納して支持させた状態で、このトレイ積層体35を外部収納容器36内に収納させて、蓋体38を取り付けて内部に密封する。   With this configuration, in a state where the semiconductor wafer W is stored and supported in the tray stack 35, the tray stack 35 is stored in the external storage container 36, and the lid 38 is attached and sealed inside. .

これにより、上記半導体ウエハWを二重構造で支持することができる。この結果、安全性が向上する。   Thereby, the semiconductor wafer W can be supported in a double structure. As a result, safety is improved.

さらに、上記外部収納容器36の上記容器本体37と蓋体38との間のシール39によって、上記外部収納容器36内を清浄に保つため、二重に密封して上記半導体ウエハWの周囲を清浄に保つことができる。   Furthermore, in order to keep the inside of the external storage container 36 clean by a seal 39 between the container main body 37 and the lid 38 of the external storage container 36, the periphery of the semiconductor wafer W is cleaned by double sealing. Can be kept in.

この結果、半導体ウエハWを安全に、安定的に且つ確実に支持して、搬送することができる。   As a result, the semiconductor wafer W can be safely and stably supported and transported.

また、上記実施形態では、載置トレイ3の両側面に第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9が形成されたが、載置トレイ3の一方の面にのみ保持部を形成するようにしてもよい。例えば、複数積層された載置トレイ3の端部に位置する載置トレイ3の場合は、一方の面にのみ保持部を形成する。他方の面には、機械処理装置の機械的インターフェイスと結合することが可能な結合溝6を設けたり、結合解除手段4を設けたりする。   Moreover, in the said embodiment, although the 1st storage partition part 8 and the 2nd storage partition part 9 were formed in the both sides | surfaces of the mounting tray 3, it seems that a holding part is formed only in one surface of the mounting tray 3. It may be. For example, in the case of the mounting tray 3 positioned at the end of the stacked stacking trays 3, the holding portion is formed only on one surface. On the other surface, a coupling groove 6 that can be coupled to the mechanical interface of the machine processing device or a coupling release means 4 is provided.

ベーストレイ2には、保持部を設けずに、載置トレイ3を支持するようにしたが、ベーストレイ2にも、第1収納隔壁部8及び第2収納隔壁部9を設けるようにしてもよい。これにより、ベーストレイ2と載置トレイ3とで収納空間15を形成して、半導体ウエハWを収納するようにしてもよい。   The mounting tray 3 is supported without providing the holding portion in the base tray 2, but the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 may also be provided in the base tray 2. Good. Accordingly, the storage space 15 may be formed by the base tray 2 and the mounting tray 3 to store the semiconductor wafer W.

上記実施形態では、載置トレイ3を3枚以上積層して薄板保持容器1を構成したが、2枚の載置トレイ3を重ねて、1枚の半導体ウエハWを搬送する枚葉容器として使用してもよい。この場合、シール14は必ず設けられる。   In the above embodiment, the thin plate holding container 1 is configured by stacking three or more mounting trays 3. However, the two stacking trays 3 are stacked and used as a single wafer container for transporting one semiconductor wafer W. May be. In this case, the seal 14 is always provided.

なお、上記実施形態で用いた「外周縁部」は、半導体ウエハWの円形の外周端の縁の部分である。また、「保持部」は、第1収納隔壁部8や第2収納隔壁部9でできる、半導体ウエハWを収納して保持するための空間で、収納空間15の一部を構成するものである。   The “outer peripheral edge portion” used in the above embodiment is the edge portion of the circular outer peripheral edge of the semiconductor wafer W. The “holding portion” is a space formed by the first storage partition wall portion 8 and the second storage partition wall portion 9 for storing and holding the semiconductor wafer W, and constitutes a part of the storage space 15. .

本発明の実施形態に係る薄板保持容器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る薄板保持容器を示す側面図である。It is a side view which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る薄板保持容器の載置トレイを2つ積層した状態を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the state which laminated | stacked two mounting trays of the thin plate holding container which concerns on embodiment of this invention. 図3の載置トレイにおいて第1収納隔壁部と第2収納隔壁部を仕切る板部を設けない薄板保持容器の載置トレイを2つ積層した状態を示す側面断面図である。FIG. 4 is a side cross-sectional view showing a state in which two mounting trays of a thin plate holding container that do not have a plate portion separating the first storage partition wall portion and the second storage partition wall portion in the mounting tray of FIG. 3 are stacked. 本発明の変形例に係る薄板保持容器の載置トレイを2つ積層した状態を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the state which laminated | stacked two mounting trays of the thin plate holding container which concerns on the modification of this invention. 図5の載置トレイにおいて第1収納隔壁部と第2収納隔壁部を仕切る板部を設けない薄板保持容器の載置トレイを2つ積層した状態を示す側面断面図である。FIG. 6 is a side cross-sectional view showing a state in which two mounting trays of a thin plate holding container that are not provided with a plate portion that partitions the first storage partition wall portion and the second storage partition wall portion in the mounting tray of FIG. 5 are stacked. 本発明の第1変形例に係る薄板保持容器を示す要部斜視図である。It is a principal part perspective view which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on the 1st modification of this invention. 本発明の第1変形例に係る薄板保持容器を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on the 1st modification of this invention. 本発明の第2変形例に係る薄板保持容器を示す要部斜視図である。It is a principal part perspective view which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on the 2nd modification of this invention. 本発明の第2変形例に係る薄板保持容器を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on the 2nd modification of this invention. 本発明の第3変形例に係る薄板保持容器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the thin plate holding | maintenance container which concerns on the 3rd modification of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:薄板保持容器、2:ベーストレイ、2A:上ベーストレイ、2B:下ベーストレイ、3:載置トレイ、4:結合解除手段、6:結合溝、8:第1収納隔壁部、9:第2収納隔壁部、10:把持部、11:薄板周縁保持手段、11A:当接面、13:シール保持溝、14:シール、15:収納空間、16:シール受け溝、18:フック、19:フック係止機構、20:脱着操作孔、W:半導体ウエハ。   1: thin plate holding container, 2: base tray, 2A: upper base tray, 2B: lower base tray, 3: loading tray, 4: coupling release means, 6: coupling groove, 8: first storage partition, 9: Second storage partition wall portion, 10: gripping portion, 11: thin plate peripheral edge holding means, 11A: contact surface, 13: seal holding groove, 14: seal, 15: storage space, 16: seal receiving groove, 18: hook, 19 : Hook locking mechanism, 20: Desorption operation hole, W: Semiconductor wafer.

Claims (14)

積層されて互いに結合されることでそれらの間に薄板を挟持して保持収納する複数の載置トレイと、
当該各載置トレイの上側面又は下側面の一方又は両方に設けられて上記薄板を保持する保持部と、
当該各保持部の周縁に設けられて上記薄板の外周縁部の上下に位置する稜部に当接して当該薄板をその稜部のみで保持する当接面を有する薄板周縁保持手段とを備え、
上記薄板周縁保持手段が、上記薄板の外周縁部の上下に位置する稜部に当接する上記当接面を有する薄板受け部と、当該薄板受け部を弾性的に支持するバネ部とから構成されたことを特徴とする薄板収納容器。
A plurality of mounting trays that are stacked and coupled to each other so as to hold and store a thin plate between them; and
A holding part that is provided on one or both of the upper side surface or the lower side surface of each loading tray and holds the thin plate;
A thin plate peripheral edge holding means provided on the peripheral edge of each of the holding portions and having a contact surface that contacts the ridge portion positioned above and below the outer peripheral edge portion of the thin plate and holds the thin plate only by the ridge portion;
The thin plate peripheral edge holding means is composed of a thin plate receiving portion having the contact surface that contacts the ridges located above and below the outer peripheral edge portion of the thin plate, and a spring portion that elastically supports the thin plate receiving portion. A thin plate container characterized by that.
上記薄板周縁保持手段の上記薄板受け部が、上記薄板の上記稜部にのみ当接して支持するように傾斜して形成されたことを特徴とする請求項1に記載の薄板収納容器。   2. The thin plate container according to claim 1, wherein the thin plate receiving portion of the thin plate peripheral edge holding means is formed so as to be inclined so as to contact and support only the ridge portion of the thin plate. 上記保持部が上記載置トレイの上側面及び下側面にそれぞれ設けられ、
任意位置における上記載置トレイの上側面に形成された上記保持部と、当該載置トレイの上側に隣接する載置トレイの下側面に形成された保持部とが、又は任意位置における上記載置トレイの下側面に形成された保持部と、当該載置トレイの下側に隣接する載置トレイの上側面に形成された保持部とが一対になって上記薄板の外周縁部の上下に位置する稜部を挟持して協働保持することを特徴とする請求項1又は2に記載の薄板収納容器。
The holding portions are respectively provided on the upper side surface and the lower side surface of the placing tray,
The holding unit formed on the upper side surface of the upper mounting tray at an arbitrary position and the holding unit formed on the lower side surface of the mounting tray adjacent to the upper side of the mounting tray, or the upper mounting unit at an arbitrary position A holding part formed on the lower side of the tray and a holding part formed on the upper side of the loading tray adjacent to the lower side of the loading tray are paired and positioned above and below the outer peripheral edge of the thin plate. The thin plate container according to claim 1 or 2, wherein the ridge portion to be held is held in cooperation.
上記載置トレイの保持部が、上記薄板とほぼ相似な形状を有することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の薄板収納容器。   The thin plate container according to any one of claims 1 to 3, wherein the holding portion of the placing tray has a shape substantially similar to the thin plate. 上記各載置トレイの間に、任意の一対の上記載置トレイで上記薄板を挟持したとき、当該薄板を収納する収納空間が形成されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の薄板収納容器。   5. A storage space for storing the thin plate is formed between the mounting trays when the thin plate is sandwiched between any pair of upper mounting trays. The thin plate container according to item. 上記各載置トレイの保持部を囲繞して設けられ、隣接する2つの載置トレイが互いに結合したとき、上記収納空間を外部環境から気密に隔離するシールを備えたことを特徴とする請求項5に記載の薄板収納容器。   5. A seal provided to surround the holding portion of each of the mounting trays, and when the adjacent two mounting trays are coupled to each other, the storage space is hermetically isolated from the external environment. 5. The thin plate container according to 5. 複数積層された上記各載置トレイを隣同士で互いに結合すると共に、任意の位置で分離可能な結合解除手段を備えたことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の薄板収納容器。   The thin plate according to any one of claims 1 to 6, further comprising coupling release means that couples the plurality of stacked trays adjacent to each other and can be separated at an arbitrary position. Storage container. 複数積層された上記各載置トレイの少なくとも一方の端部の載置トレイに、当該載置トレイと結合及び解除可能な上記結合解除手段を有するベーストレイを備え、当該ベーストレイの上記載置トレイと反対側の面に、機械処理装置の機械的インターフェイスと結合することが可能な結合溝を備えたことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の薄板収納容器。   The mounting tray at least at one end of each of the stacked stacking trays is provided with a base tray having the coupling release means that can be coupled to and released from the mounting tray, and the mounting tray above the base tray The thin plate container according to any one of claims 1 to 7, further comprising a coupling groove that can be coupled to a mechanical interface of a mechanical processing device on a surface opposite to the surface. 複数積層された上記各載置トレイの少なくとも一方の端部の載置トレイに、機械処理装置の機械的インターフェイスと結合することが可能な結合溝を備えたことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の薄板収納容器。   9. A mounting groove capable of being connected to a mechanical interface of a machine processing device is provided on a mounting tray at least one end of each of the stacked stacking trays. The thin plate container according to any one of the above. 上記ベーストレイと上記載置トレイとの間に、当該ベーストレイと載置トレイとが互いに結合したときにそれらの間を外部環境から気密に隔離するシールを備えたことを特徴とする請求項8に記載の薄板収納容器。   9. A seal is provided between the base tray and the mounting tray, wherein the base tray and the mounting tray are hermetically isolated from the external environment when the base tray and the mounting tray are coupled to each other. The thin plate storage container according to 1. 上記薄板周縁保持手段が、上記各載置トレイの保持部を囲繞して設けられた上記シールで弾性的に支持された上記載置トレイとベーストレイによって、上記薄板を弾性的に支持することを特徴とする請求項10に記載の薄板収納容器。 The thin plate periphery holding means, by the placement tray and the base tray after being elastically supported by the seal provided to surround the holding portion of each loading tray, to support the thin plate elastically The thin plate container according to claim 10 , wherein the container is a thin plate container. 上記薄板受け部が、連続した環状に又は一定間隔で不連続に分割された環状に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の薄板収納容器。   The thin plate container according to claim 1, wherein the thin plate receiving portion is formed in a continuous ring shape or a ring shape discontinuously divided at a constant interval. 上記薄板周縁保持手段が上記薄板の全周を囲繞するように環状に形成され、当該薄板周縁保持手段に当接された上記薄板と上記載置トレイと上記シールとによって上記収納空間を気密に隔離することを特徴とする請求項5に記載の薄板収納容器。   The thin plate periphery holding means is formed in an annular shape so as to surround the entire periphery of the thin plate, and the storage space is hermetically isolated by the thin plate in contact with the thin plate periphery holding means, the placement tray, and the seal. The thin plate container according to claim 5. 上記載置トレイを複数積層して互いに結合したトレイ積層体と、当該トレイ積層体を内部に収納する外部収納容器とからなり、
上記外部収納容器が、開口を有する袋状の容器本体と、当該容器本体の上記開口を塞ぐ蓋体と、上記容器本体と蓋体との間に設けられ、当該容器本体内を外部雰囲気から気密に隔離するシールとから構成されたことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の薄板収納容器。
It consists of a tray laminate in which a plurality of placement trays are stacked and joined together, and an external storage container for storing the tray laminate inside,
The external storage container is provided between a bag-shaped container body having an opening, a lid for closing the opening of the container body, and the container body and the lid, and the inside of the container body is airtight from an external atmosphere. The thin plate container according to any one of claims 1 to 13, wherein the thin plate container is composed of a seal isolated from each other.
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