JP4731107B2 - Flexible metal foil laminate - Google Patents
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- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims description 38
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 36
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 64
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 55
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 55
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 50
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 38
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 37
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 claims description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 11
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 11
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- XAFOTXWPFVZQAZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-aminophenyl)-3h-benzimidazol-5-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=NC2=CC=C(N)C=C2N1 XAFOTXWPFVZQAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- -1 (3,4-dicarboxy) Phenyl Chemical group 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=NC(C)=C1 BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(C)=C1 JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1C NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQFBXSRZSUJGOF-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 VQFBXSRZSUJGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 5-methylnonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCC(C)CCCCN MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTCGLFCOUJIOQH-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-oxadiazole-2,5-diamine Chemical compound NC1=NN=C(N)O1 YTCGLFCOUJIOQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-Me3C6H3 Natural products CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMXCPDQUXVZBGQ-UHFFFAOYSA-N 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)C(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=C(Cl)C(Cl)=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O XMXCPDQUXVZBGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXOKJIRTNWHPFS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCC(C)CCC(C)CN YXOKJIRTNWHPFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDWGBHZZXPDKDZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC(Cl)=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O SDWGBHZZXPDKDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZWGLBCZWLGCDT-UHFFFAOYSA-N 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound ClC1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC(Cl)=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O JZWGLBCZWLGCDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRGGMCIBEHEAIL-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=CC=N1 NRGGMCIBEHEAIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,3-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(2,3-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminopropoxy)ethoxy]propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCOCCCN POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRJAHFLFCRNNMR-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-aminophenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=C(N)C=CC=C1C(O)=O ZRJAHFLFCRNNMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEEIWUUBRYZFEH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(OC)CCCN YEEIWUUBRYZFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGEWZUYVXQESSB-UHFFFAOYSA-N 3-methylheptane-1,7-diamine Chemical compound NCCC(C)CCCCN SGEWZUYVXQESSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWIBGDOHXGXHEV-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylheptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCC(C)(C)CCCN ZWIBGDOHXGXHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGRZMPCVIHBQOE-UHFFFAOYSA-N 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C(C(O)=O)CC(C)=C2C(C(O)=O)C(C(O)=O)CC(C)=C21 QGRZMPCVIHBQOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSMVBYPXNKCPAJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylcyclohexylamine Chemical compound CC1CCC(N)CC1 KSMVBYPXNKCPAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWXCYYWDGDDPAC-UHFFFAOYSA-N 4-[(3,4-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IWXCYYWDGDDPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSGFBINRYVUILV-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-diethylsilyl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1[Si](CC)(CC)C1=CC=C(N)C=C1 OSGFBINRYVUILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLMSGSGJGUHKFW-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-diphenylsilyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1[Si](C=1C=CC(N)=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BLMSGSGJGUHKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMLVVZNIIWJNTI-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-ethylphosphoryl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1P(=O)(CC)C1=CC=C(N)C=C1 NMLVVZNIIWJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZLSMUPEJXXBO-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-phenylphosphoryl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1P(=O)(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=CC=C1 KTZLSMUPEJXXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(3,4-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWKHQQCBFMYAJZ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(3-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC(N)=C1 HWKHQQCBFMYAJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBOLXXRVIFGDTI-UHFFFAOYSA-N 4-benzylpyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CC1=CC=CC=C1 DBOLXXRVIFGDTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBNFPUAJWZYIOQ-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)-4-n-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1N(C)C1=CC=C(N)C=C1 LBNFPUAJWZYIOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGXNJWEDDQLFH-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylpyridine Chemical compound CC(C)C1=CC=NC=C1 FRGXNJWEDDQLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQVOMFPTJXMAQE-UHFFFAOYSA-N 4-propylphthalic acid Chemical compound CCCC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AQVOMFPTJXMAQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMDNZKASBVVBBC-UHFFFAOYSA-N 5-(4-amino-3-methylphenyl)-2-methylaniline Chemical group C1=C(N)C(C)=CC=C1C1=CC=C(N)C(C)=C1 MMDNZKASBVVBBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFKXEFSEPKMOMS-UHFFFAOYSA-N CC1=C(CC2=CC=C(C=C2)CC2=C(C=C(C=C2)N)C)C=CC(=C1)N Chemical compound CC1=C(CC2=CC=C(C=C2)CC2=C(C=C(C=C2)N)C)C=CC(=C1)N VFKXEFSEPKMOMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- FOLJMFFBEKONJP-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-diamine Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(N)CC2(N)C3 FOLJMFFBEKONJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006127 amorphous resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N dodecane-2,11-diamine Chemical compound CC(N)CCCCCCCCC(C)N CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIXSDMKDSYXUMJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylcyclohexanamine Chemical compound CCN(CC)C1CCCCC1 CIXSDMKDSYXUMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQXBKCWOCJSIRT-UHFFFAOYSA-N octadecane-1,12-diamine Chemical compound CCCCCCC(N)CCCCCCCCCCCN VQXBKCWOCJSIRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- JGGWKXMPICYBKC-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=C21 JGGWKXMPICYBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKFLCXNDKRUHTA-UHFFFAOYSA-N phenyl(pyridin-4-yl)methanone Chemical compound C=1C=NC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 SKFLCXNDKRUHTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=N1 VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
本発明は、フレキシブル金属箔積層体に関する。さらに詳しくは、熱収縮による寸法変化率およびそのバラツキが小さく、ファインピッチ回路を形成する基板材料として好適に用いられるフレキシブル金属箔積層体に関する。 The present invention relates to a flexible metal foil laminate. More specifically, the present invention relates to a flexible metal foil laminate that has a small dimensional change rate due to thermal shrinkage and its variation and is suitably used as a substrate material for forming a fine pitch circuit.
近年、電子機器の高性能化、高機能化、小型化が急速に進んでおり、電子機器に用いられる電子部品の小型化、軽量化の要請が高まっている。これに伴い、電子部品の素材についても、耐熱性、機械的強度、電気特性等の諸物性の向上がさらに求められ、半導体素子パッケージ方法やそれらを実装する配線板にも、より高密度、高機能、かつ高性能なものが求められるようになってきている。 2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices with high performance, high functionality, and miniaturization are rapidly progressing, and there is an increasing demand for miniaturization and weight reduction of electronic components used in electronic devices. Along with this, improvements in various physical properties such as heat resistance, mechanical strength, and electrical characteristics are also required for the materials of electronic components, and the semiconductor element packaging method and the wiring board on which they are mounted also have higher density and higher performance. There is a growing demand for functional and high performance.
特に、携帯電話やデジタルカメラ等の小型電子機器に搭載される液晶ディスプレーは、より高精細・高速駆動になってきているため、その駆動用ICは極めて微細なバンプピッチを有し、それを実装するフレキシブルプリント基板にもファインピッチが要求されてきている。ファインピッチの駆動用ICとフレキシブルプリント基板との接続部分の信頼性を確保するためには、フレキシブルプリント基板に高い寸法安定性が求められる。 In particular, liquid crystal displays mounted on small electronic devices such as mobile phones and digital cameras are becoming more high-definition and high-speed driving, so the driving IC has a very fine bump pitch and is mounted on it. A fine pitch is also required for flexible printed circuit boards. In order to ensure the reliability of the connection portion between the fine pitch driving IC and the flexible printed board, the flexible printed board is required to have high dimensional stability.
一般的に、フレキシブルプリント基板は、金属箔と樹脂層との積層体からなるフレキシブル金属箔積層体をフォトエッチングにより配線を形成し、フィルム状または液状のカバーレイで配線を被覆保護し、必要に応じて端子部を金、錫、半田等でメッキするなどして作成される。フレキシブルプリント基板の寸法安定性は、フレキシブル金属箔積層体の主として絶縁ベースとなる樹脂層の収縮率に起因することが知られている。 Generally, a flexible printed circuit board is formed by forming a wiring by photoetching a flexible metal foil laminate consisting of a laminate of a metal foil and a resin layer, and covering and protecting the wiring with a film or liquid coverlay. Accordingly, the terminal portion is formed by plating with gold, tin, solder or the like. It is known that the dimensional stability of the flexible printed circuit board is mainly caused by the shrinkage rate of the resin layer that becomes the insulating base of the flexible metal foil laminate.
フレキシブル金属箔積層体に積層させる樹脂層は、主にポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ガラスエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、液晶ポリマー等から形成され、工業的には、耐熱性が要求されない用途では安価なポリエステル樹脂が、また耐熱性が要求される用途ではポリイミド樹脂が最もよく用いられている。 The resin layer to be laminated on the flexible metal foil laminate is mainly made of polyimide resin, polyester resin, glass epoxy resin, polyphenylene sulfide resin, liquid crystal polymer, etc., and industrially inexpensive polyester for applications that do not require heat resistance. Polyimide resins are most often used in applications where resins are required and heat resistance is required.
芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを重縮合して得られるポリイミド樹脂は、極めて耐熱性にすぐれた重合体として知られている。銅張板によって代表される金属箔樹脂積層体を製造する工程では、これらの各原料物質を反応させて得られるポリアミック酸の有機溶剤溶液を金属箔に塗布した後、加熱して溶剤を蒸発させると同時にポリイミド化反応を完結させる方法やポリイミド樹脂が有機溶剤可溶性の場合には、ポリイミド樹脂有機溶剤溶液を金属箔に塗布した後溶剤を蒸発させる方法がとられる。あるいは、熱可塑性ポリイミド樹脂フィルムを金属箔と接触させ、熱融着によって両面金属箔ポリイミド樹脂積層体を形成させる方法も工業化されている。 A polyimide resin obtained by polycondensation of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine is known as a polymer having excellent heat resistance. In the process of producing a metal foil resin laminate represented by a copper-clad plate, an organic solvent solution of polyamic acid obtained by reacting these raw materials is applied to the metal foil, and then heated to evaporate the solvent. At the same time, a method for completing the polyimidation reaction or a method for evaporating the solvent after applying the polyimide resin organic solvent solution to the metal foil when the polyimide resin is soluble in the organic solvent are used. Alternatively, a method in which a thermoplastic polyimide resin film is brought into contact with a metal foil and a double-sided metal foil polyimide resin laminate is formed by heat fusion has been industrialized.
しかしながら、これらの方法ではすべて、必ず樹脂部をガラス転移点Tg以上の温度に曝し、冷却する工程を経ている。このとき、急冷による未緩和体積が必然的に残り、実装工程における加熱工程での熱履歴によって収縮の発生を避けることができない。特に、最近ではフレキシブルプリント基板のファインパターン化により、熱による収縮の小さい金属箔樹脂積層体が望まれており、同時に温度変化による寸法変化が小さいことも望まれている。 However, in all of these methods, the resin part is always exposed to a temperature not lower than the glass transition point Tg and cooled. At this time, an unrelaxed volume due to rapid cooling inevitably remains, and shrinkage cannot be avoided due to a thermal history in the heating process in the mounting process. In particular, recently, a metal foil resin laminate having a small shrinkage due to heat is desired due to the fine patterning of a flexible printed circuit board, and at the same time, a small dimensional change due to a temperature change is also desired.
熱による収縮を低減させるための代表的な方法としては、特許文献1〜7に記載されるような熱アニールを施す方法が多く採用されている。これらの方法に共通していえることは、熱処理温度と熱処理時間とからなる熱処理条件が広く、また樹脂層の種類が異なると当然最適熱処理条件が異なるため、特定の樹脂に関する処理条件に自ら限定されることになる。さらに、熱処理条件は、樹脂の分子構造によって試行錯誤的にチューニングする方法がとられていると考えられ、理論的に熱収縮量を小さくする明確な熱処理条件が明記されているとはいえない。
これらの従来技術の共通点として、樹脂部の熱による寸法変化を小さくすることが目的として挙げられているが、熱収縮量以外にも設計上の重要な特性値として、熱による収縮量のバラツキが挙げられる。熱収縮についてはその収縮量の平均値が一定であれば設計値に補正をかけることにより設計通りの寸法を得ることができるが、収縮量のバラツキが許容公差以上となった場合には当然ながら要求寸法精度が得られないことになるので、ICとフレキシブルプリント基板との接続信頼性を確保する上で、熱収縮率のバラツキは重要な評価項目である。しかしながら、熱収縮率のバラツキについては、従来着目されていないのが実情である。 The common point of these prior arts is to reduce the dimensional change due to heat of the resin part, but in addition to the amount of heat shrinkage, as an important characteristic value in design, there is variation in the amount of shrinkage due to heat. Is mentioned. As for thermal shrinkage, if the average value of the shrinkage is constant, the dimensions as designed can be obtained by correcting the design value, but naturally if the variation in shrinkage exceeds the allowable tolerance, Since the required dimensional accuracy cannot be obtained, the variation in the thermal shrinkage rate is an important evaluation item in securing the connection reliability between the IC and the flexible printed board. However, the fact is that conventionally, attention has not been paid to variations in the heat shrinkage rate.
本発明の目的は、熱収縮による寸法変化率のバラツキが小さく、高密度ピッチのICを実装するのに適したファインピッチ回路を有するフレキシブルプリント基板を形成し得るフレキシブル金属箔積層体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a flexible metal foil laminate capable of forming a flexible printed circuit board having a fine pitch circuit suitable for mounting an IC having a high density pitch with little variation in dimensional change due to heat shrinkage. It is in.
かかる本発明の目的は、金属箔と290〜350℃のガラス転移点Tgを有するポリイミド樹脂からなる樹脂層との積層体であって、昇温速度10℃/分で不活性ガス中で示差熱分析(DSC)を実施したとき、ガラス転移領域で観察される吸熱ピークの熱量が樹脂の単位重量当り0.5J/g以上の値を示すフレキシブル金属箔積層体によって達成される。このようなフレキシブル金属箔積層体は、樹脂のガラス転移点Tgよりも5〜50℃低い温度で8時間以上熱処理することによって得られる。
An object of the present invention is a laminate of a metal foil and a resin layer made of a polyimide resin having a glass transition point Tg of 290 to 350 ° C. , which has a differential heat in an inert gas at a temperature rising rate of 10 ° C./min. When analysis (DSC) is performed, it is achieved by a flexible metal foil laminate in which the heat value of the endothermic peak observed in the glass transition region shows a value of 0.5 J / g or more per unit weight of the resin. Such a flexible metal foil laminate can be obtained by heat treatment for 8 hours or more at a
フレキシブルプリント基板の製造工程や実装工程で要求される寸法安定化を得るために、ガラス状態における準安定状態の樹脂をガラス転移点Tgよりも低い温度で熱処理し、体積飽和、換言するとフィジカルエージングさせることで最も有効な効果が得られることを、本発明では見出した。 In order to obtain the dimensional stability required in the manufacturing process and mounting process of flexible printed circuit boards, a resin in a metastable state in a glass state is heat-treated at a temperature lower than the glass transition point Tg, and volume saturation, in other words, physical aging is performed. The present invention has found that the most effective effect can be obtained.
寸法安定性を確保するための熱処理条件は、ポリイミド樹脂の骨格構造にガラス転移点Tgが依存するが、このガラス転移点Tgよりも低い温度で熱処置を施した効果は、DSC測定時のガラス転移点Tg温度領域に観測される吸熱ピークの大きさが寸法安定性(寸法変化率のバラツキ)の指標となることを本発明では見出したのである。 The heat treatment conditions for ensuring dimensional stability depend on the glass transition point Tg depending on the skeleton structure of the polyimide resin. The effect of heat treatment at a temperature lower than the glass transition point Tg is the effect of the glass during DSC measurement. The present invention has found that the size of the endothermic peak observed in the temperature range of the transition point Tg is an index of dimensional stability (variation in dimensional change rate).
また、このような吸熱ピークを出現させるためには、ガラス転移点Tgよりも5〜50℃低い温度で少くとも8時間以上熱処置することによって達成される。ポリイミド樹脂の種類によっては、十分な効果を得るためには約100時間以上の熱処理が必要となる場合もある。処理時間は、長ければ長い程DSCのTg付近のピーク強度は大きくなる傾向にあるが、緩和が十分に進むとピーク強度は処理時間に対して飽和する。
Moreover, in order to make such an endothermic peak appear, it is achieved by performing heat treatment at a
一般的には、処理時間が長い程寸法安定性は向上するが、極端にフィジカルエージングさせた場合には、体積の熱収縮は減少するが、その反面破壊エネルギー(ss曲線の積分値)は僅かに低下する。用途によって機械的物性とのバランスを考慮しなければならない場合もあり得るが、フレキシブルプリント基板へのこの技術の適用範囲内では、フィジカルエージングによる僅かな機械的物性の低下は問題とはならないレベルにある。 In general, the longer the processing time, the better the dimensional stability.However, when the physical aging is performed extremely, the thermal shrinkage of the volume decreases, but the fracture energy (integrated value of the ss curve) is slightly lower. To drop. Depending on the application, it may be necessary to consider the balance with mechanical properties, but within the scope of this technology for flexible printed circuit boards, a slight decrease in mechanical properties due to physical aging will not be a problem. is there.
エンジニアリングプラスチックのフィジカルエージングによる構造安定化については、一般的には知られているが、本発明においてはこのようなガラス転移点Tg以下での長時間の熱処理によて、熱収縮率の絶対値が小さくなるばかりではなく、熱収縮率のバラツキ、すなわち3σ(σ:標準偏差)も小さくなることが見出されている。ファインパターンが要求されるフレキシブルプリント基板の回路設計段階では、熱収縮率自体よりもそのバラツキが重要な問題であるが、本発明ではその点をクリヤーしている。
フィジカルエージングによる構造安定化の度合いは、DSC測定を昇温時に実施したときのガラス転移点Tg付近に出現する吸熱ピークの量によってその定量が可能である。そして、このピークが大きければ大きい程熱収縮率は小さくなり、そのバラツキも小さくなる。フィジカルエージングによるガラス転移点Tg付近でのDSCピークと寸法安定性およびそのバラツキの低減効果との関係は、ポリイミド樹脂の構造によらず発現する。ガラス転移点Tgの異なる2種類以上の樹脂を用いた場合であっても、ガラス転移点Tgよりも約5〜30℃低い温度での長時間の熱処理によって、寸法安定化は達成できるが、その処理時間や処理温度によって効果の程度は左右される。 The degree of structural stabilization by physical aging can be quantified by the amount of endothermic peak that appears in the vicinity of the glass transition point Tg when DSC measurement is performed at elevated temperature. And the larger this peak, the smaller the heat shrinkage rate and the smaller the variation. The relationship between the DSC peak near the glass transition point Tg by physical aging, the dimensional stability, and the effect of reducing the variation appears regardless of the structure of the polyimide resin. Even when two or more kinds of resins having different glass transition points Tg are used, dimensional stabilization can be achieved by long-term heat treatment at a temperature about 5 to 30 ° C. lower than the glass transition point Tg. The degree of the effect depends on the processing time and the processing temperature.
このような熱処理によって、ガラス転移点Tg付近に出現するピークの熱量が大きい程寸法安定化効果は大きく、逆にガラス転移点Tgよりも低い温度で長時間処理しても、このようなピークが観測されないこともある。このような樹脂では、熱処理による寸法安定化効果は期待できない。 By such heat treatment, the larger the amount of heat of the peak appearing near the glass transition point Tg, the larger the dimensional stabilization effect. Conversely, even if the treatment is performed for a long time at a temperature lower than the glass transition point Tg, It may not be observed. With such a resin, a dimensional stabilization effect by heat treatment cannot be expected.
熱処理をした結果、ガラス転移点Tg付近に現われる吸熱ピークの熱量ΔHが、樹脂単位重量当り0.5J/g以上、好ましくは2.0J/g以上の値を示す場合、寸法安定性とそのバラツキの低減効果が十分に確認される。特記すべきは、もともと熱収縮量の少ない樹脂材料は、0.5J/gレベルのピークが観測される程度に熱処理を施せば、熱処理前には設計目標値を僅かに外れていても、このような熱処理を施すことにより、スペックに入れることが可能となるという事実である。すなわち、他の寸法安定化方法と平行しての採用が可能であるといえる。 As a result of heat treatment, if the heat quantity ΔH of the endothermic peak that appears near the glass transition point Tg shows a value of 0.5 J / g or more per unit weight of the resin, preferably 2.0 J / g or more, dimensional stability and its variation are reduced. The effect is fully confirmed. It should be noted that a resin material with a small amount of heat shrinkage should be treated in such a way that a peak of the 0.5 J / g level is observed, even if it slightly deviates from the design target value before the heat treatment. It is a fact that it becomes possible to put it into the specification by performing a heat treatment. That is, it can be said that it can be adopted in parallel with other dimensional stabilization methods.
熱処理法以外の寸法安定化方法としては、ポリイミド樹脂絶縁層を複層コートする方法などが工業化されているが、このような多層樹脂についても、その収縮の最も大きな樹脂成分について本発明で規定される条件下で熱処理すると、熱収縮性を低減することができる。
フレキシブルプリント基板に微細な配線ピッチを必要とする場合、本発明に係る寸法安定性のあるポリイミド樹脂フィルムを使用することによって、接続部分の信頼性を確保することができる。特に、異方性導電性樹脂(ACF等)の接着工程では加熱工程が入るため、熱収縮を起すポリイミド樹脂を使用すると、接続部が端部で位置ずれを生ずる。本発明はそのようなおそれもなく、ファインピッチのフレキシブルプリント基板に利用することができる。 When a fine wiring pitch is required for the flexible printed circuit board, the reliability of the connection portion can be ensured by using the dimensionally stable polyimide resin film according to the present invention. In particular, since a heating step is included in the bonding step of the anisotropic conductive resin (ACF or the like), if a polyimide resin that causes thermal shrinkage is used, the connecting portion is displaced at the end portion. The present invention can be used for a fine pitch flexible printed circuit board without such fear.
本発明による効果は、アモルファス樹脂製品の熱収縮性の低減を可能にする基本的な手法であって、広く応用できるばかりではなく、熱処理による熱収縮特性を熱分析によるガラス転移点Tg部分のピーク強度を指標できる点で画期的であるということができる。すなわち、樹脂材料毎に試行錯誤して決定しなければならなかった熱処理条件を、どんな材料についても統一した考え方で設定が可能となる。それに加えて、製品設計パラメーターの中で極めて重要な寸法安定性のバラツキを低減できる意味は大きいものといえる。 The effect of the present invention is a basic technique that enables the thermal shrinkage of amorphous resin products to be reduced, and is not only widely applicable, but also shows the heat shrinkage characteristics of heat treatment by the peak of the glass transition point Tg portion by thermal analysis. It can be said that it is groundbreaking in that the strength can be indicated. That is, the heat treatment conditions that had to be determined by trial and error for each resin material can be set in a unified way for any material. In addition, it can be said that it is significant to reduce the critical dimensional stability variation among the product design parameters.
また、ガラス転移点Tg付近の吸熱ピークが観測される条件は、比較的狭く、ガラス転移点Tgから50℃低い温度では、処理時間10時間程度では吸熱ピークが観測されないことはしばしばである。このことからみて、本発明では熱処理によって寸法安定化を図る場合の条件の特異点を見出したものともいえる。 Further, the conditions under which the endothermic peak near the glass transition point Tg is observed are relatively narrow, and at temperatures lower by 50 ° C. from the glass transition point Tg, the endothermic peak is often not observed after about 10 hours of processing time. From this point of view, it can be said that the present invention has found a singular point of the condition when dimensional stabilization is achieved by heat treatment.
このように、本発明にあっては、樹脂材料のガラス転移点Tg直下の熱処理による未緩和体積の緩和現象を利用しており、ここで寸法安定性が発現される理由は、熱によって生じる熱収縮が樹脂のアモルファス相の未緩和体積の収縮に起因しており、これをガラス状態において局所的な分子の緩和によって取り去ることで、収縮し易い部分をなくしているものと考えられる。 Thus, in the present invention, the relaxation phenomenon of the unrelaxed volume due to the heat treatment just below the glass transition point Tg of the resin material is used, and the reason why the dimensional stability is expressed here is the heat generated by heat. The shrinkage is attributed to the shrinkage of the unrelaxed volume of the amorphous phase of the resin, and it is considered that the portion that tends to shrink is eliminated by removing this by local molecular relaxation in the glass state.
金属箔としては、電解銅箔、圧延銅箔、アルミニウム箔、ステンレス鋼箔等が挙げられ、一般的には電解銅箔または圧延銅箔が用いられる。高密度フレキシブルプリント基板としては、電解銅箔を用いるのが銅エッチングによるファインパターン形成に優れており好ましい。これらの金属箔は、フレキシブルプリント基板用であるので、一般に約3〜35μm程度のものが用いられるが、微細ピッチの配線を形成するために好ましくは約18μmまでの厚さのものが用いられる。 Examples of the metal foil include electrolytic copper foil, rolled copper foil, aluminum foil, stainless steel foil, and the like. Generally, electrolytic copper foil or rolled copper foil is used. As the high-density flexible printed circuit board, it is preferable to use an electrolytic copper foil because it is excellent in fine pattern formation by copper etching. Since these metal foils are for flexible printed circuit boards, those having a thickness of about 3 to 35 μm are generally used, but those having a thickness of up to about 18 μm are preferably used for forming fine pitch wiring.
これらの金属箔を片面または両面に積層させる樹脂層は、主にポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂等から形成され、好ましくはポリイミド樹脂が用いられる。これらの樹脂層は、約5〜50μm、好ましくは約7〜25μmの厚さで形成される。樹脂層の厚さがこれ以下であると、回路の絶縁に対する信頼性に乏しくなり、また折曲げ等の機械的特性が低くなる。一方、これ以上の厚さの樹脂層を形成させると、加熱の際発泡を生じ易くなったり、フレキシビリティが損われるようになる。 The resin layer for laminating these metal foils on one or both sides is mainly formed from a polyimide resin, a polyester resin or the like, and preferably a polyimide resin is used. These resin layers are formed with a thickness of about 5 to 50 μm, preferably about 7 to 25 μm. If the thickness of the resin layer is less than this, the reliability of circuit insulation is poor, and mechanical properties such as bending are lowered. On the other hand, if a resin layer having a thickness greater than this is formed, foaming is likely to occur during heating, and flexibility is impaired.
ポリイミド樹脂について述べると、ポリイミド樹脂の構造に特に制限されないという効果が得られるが、フレキシブルプリント基板に求められる鉛フリー半田耐熱温度である270℃という温度や異方性導電接着剤(ACF)の使用を前提として考えると、ポリイミド樹脂のガラス転移点Tgは290℃以上であることが好ましい。半田耐熱性を必要としない場合には、ガラス転移点Tgは240℃以上あればよい。一方、熱融着や溶剤乾燥工程、樹脂の熱分解などを考慮すると、ガラス転移点Tgは350℃以下であることが望ましい。この温度領域での長時間の熱処理では、酸素の存在が問題となるため、不活性ガス中などの無酸素状態での熱処理が基本となる。 Regarding polyimide resin, the effect is not particularly limited by the structure of the polyimide resin, but the lead-free solder heat resistance temperature required for flexible printed circuit boards is 270 ° C and the use of anisotropic conductive adhesive (ACF) As a premise, the glass transition point Tg of the polyimide resin is preferably 290 ° C. or higher. When solder heat resistance is not required, the glass transition point Tg may be 240 ° C. or higher. On the other hand, the glass transition point Tg is desirably 350 ° C. or lower in consideration of heat fusion, solvent drying process, thermal decomposition of resin, and the like. In the heat treatment for a long time in this temperature region, the presence of oxygen becomes a problem, and thus heat treatment in an oxygen-free state such as in an inert gas is fundamental.
ガラス転移点Tgを290〜350℃の範囲内とするには、ポリイミド樹脂を構成するモノマーの共重合組成が問題であり、耐熱性を考慮すると、酸無水物としては芳香族テトラカルボン酸二無水物が用いられる。かかる芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′-ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、イソプロピリデンビス(4-フェニレンオキシ-4-フタル酸)二無水物、2,2′-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4-カルボキシフェニル)エーテル二無水物、ナフタレン-1,2,4,5-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、デカヒドロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロナフタレン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,7-ジクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-テトラクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、フェナントレン-1,8,9,10-テトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ベンゼン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が、単独であるいは2種以上の混合物として用いられる。 In order to set the glass transition point Tg within the range of 290 to 350 ° C., the copolymer composition of the monomers constituting the polyimide resin is a problem, and considering heat resistance, the acid anhydride may be an aromatic tetracarboxylic dianhydride. Things are used. Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, and 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic acid. Dianhydride, isopropylidenebis (4-phenyleneoxy-4-phthalic acid) dianhydride, 2,2'-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) sulfone dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) ether dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, decahydronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2, 3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2 , 7- Dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,8 , 9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, Bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2 1,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, etc. are used alone or as a mixture of two or more.
また、これらの芳香族テトラカルボン酸二無水物と反応する芳香族ジアミンとしては、例えば4,4′-ジアミノジフェニルエーテル、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、4,4′-ジアミノジフェニルプロパン、4,4′-ジアミノジフェニルメタン、ベンチジン、4,4′-ジアミノジフェニルサルファイド、4,4′-ジアミノジフェニルスルホン、3,3′-ジアミノジフェニルスルホン、2,6-ジアミノピリジン、ビス(4-アミノフェニル)ジエチルシラン、ビス(4-アミノフェニル)ジフェニルシラン、3,3′-ジクロロベンチジン、ビス(4-アミノフェニル)エチルホスフィンオキサイド、ビス(4-アミノフェニル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(4-アミノフェニル)-N-フェニルアミン、ビス(4-アミノフェニル)-N-メチルアミン、1,5-ジアミノナフタレン、3,3′-ジメチル-4,4′-ジアミノビフェニル、3,4′-ジメチル-3′,4-ジアミノビフェニル、3,3′-ジメトキシベンチジン、2,4-ビス(β-アミノ-第3ブチル)トルエン、ビス(p-β-アミノ-第3ブチルフェニル)エーテル、p-ビス(2-メチル-4-アミノベンジル)ベンゼン、p-ビス(1,1-ジメチル-5-アミノベンジル)ベンゼン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,3-ジアミノアダマンタン、3,3′-ジアミノ-1,1′-ジアダマンタン、3,3′-ジアミノ-1,1′-ジアダマンタン、ビス(p-アミノシクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3-メチルヘプタメチレンジアミン、4,4-ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11-ジアミノドデカン、1,2-ビス(3-アミノプロポキシ)エタン、2,2-ジメチルプロピレンジアミン、3-メトキシ-ヘキサメチレンジアミン、2,5-ジメチルヘキサメチレンジアミン、5-メチルノナメチレンジアミン、5-メチルノナメチレンジアミン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,12-ジアミノオクタデカン、2,5-ジアミノ-1,3,4-オキサジアゾール、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、N-(3-アミノフェニル)-4-アミノベンズアミド、4-アミノフェニル-3-アミノベンゾエート、6-アミノ-2-(p-アミノフェニル)ベンゾイミダゾール等が、単独であるいは2種以上の混合物として用いられ、好ましくは4,4′-ジアミノジフェニルエーテルが単独で用いられる。 Examples of the aromatic diamine that reacts with these aromatic tetracarboxylic dianhydrides include 4,4′-diaminodiphenyl ether, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4 , 4'-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 2,6-diaminopyridine, bis (4-aminophenyl) Diethylsilane, bis (4-aminophenyl) diphenylsilane, 3,3'-dichlorobenzidine, bis (4-aminophenyl) ethylphosphine oxide, bis (4-aminophenyl) phenylphosphine oxide, bis (4-aminophenyl) ) -N-phenylamine, bis (4-aminophenyl) -N-methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethyl -4,4'-diaminobiphenyl, 3,4'-dimethyl-3 ', 4-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (β-amino-tert-butyl) toluene, bis (p-β-amino-tert-butylphenyl) ether, p-bis (2-methyl-4-aminobenzyl) benzene, p-bis (1,1-dimethyl-5-aminobenzyl) benzene, m-xylylene diene Amine, p-xylylenediamine, 1,3-diaminoadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-diadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-diadamantane, bis (p-amino (Cyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,2 -Bis (3-aminopropoxy) ethane, 2,2-dimethyl Rupropylenediamine, 3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, 1,12-diaminooctadecane, 2 , 5-Diamino-1,3,4-oxadiazole, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 4-aminophenyl-3 -Aminobenzoate, 6-amino-2- (p-aminophenyl) benzimidazole and the like are used alone or as a mixture of two or more, and preferably 4,4'-diaminodiphenyl ether is used alone.
1:1のモル比で行われるこれら両者間の重縮合反応には、必ずしも重合触媒を必要とはしないが、反応性を制御するために第3級アミン類の使用が可能である。第3級アミン類としては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、イソキノリン、2-エチルピリジン、2-メチルピリジン、N-エチルモルフォリン、N-メチルモルフォリン、N,N-ジエチルシクロヘキシルアミン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、4-ベンゾイルピリジン、2,4-ルチジン、2,6-ルチジン、2,4,6-コリジン、3,4-ルチジン、3,5-ルチジン、4-メチルピリジン、3-メチルピリジン、4-イソプロピルピリジン、N,N-ジメチルベンジルアミン、4-ベンジルピリジン、N,N-ジメチルドデシルアミン等が挙げられる。 A polymerization catalyst is not necessarily required for the polycondensation reaction between the two carried out at a molar ratio of 1: 1, but tertiary amines can be used to control the reactivity. Tertiary amines include, for example, trimethylamine, triethylamine, pyridine, isoquinoline, 2-ethylpyridine, 2-methylpyridine, N-ethylmorpholine, N-methylmorpholine, N, N-diethylcyclohexylamine, N, N -Dimethylcyclohexylamine, 4-benzoylpyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 4-methylpyridine, 3-methyl Examples include pyridine, 4-isopropylpyridine, N, N-dimethylbenzylamine, 4-benzylpyridine, N, N-dimethyldodecylamine and the like.
重縮合反応は、有機溶剤、例えばN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-ジメチルメトキシアセトアミド、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチレンスルホン、ホルムアミド、N-メチルホルムアミド、ブチロラクトン等が、単独であるいは2種以上の混合物として用いられる。これらの有機溶剤はまた、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ベンゾニトリル、ジオキサン等の溶剤性に劣る溶剤と組合せて用いることもできる。 The polycondensation reaction can be carried out using organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-diethylacetamide, N-dimethylmethoxyacetamide, N-methylcaprolactam, dimethyl sulfoxide. N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, formamide, N-methylformamide, butyrolactone, etc. are used alone or as a mixture of two or more. . These organic solvents can also be used in combination with solvents having poor solvent properties such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, benzonitrile and dioxane.
重縮合反応の一次生成物は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸であり、このアミック酸溶液(これは反応生成物溶液そのものであってもよい)を、塗工装置を用いて金属箔上に塗布する。塗工装置としては、グラビアコータ、リバースロールコータ、バーリバースロールコータ、バーコータ、ドクターブレードコータ、カーテンフローコータ、ダイコータ、多層ダイコータ等を用いることができるが、特性の向上などを目的として複数種のポリアミック酸溶液を多層になるように塗布することもできる。あるいは、ポリアミック酸からポリイミド樹脂フィルムを作製し、これを金属箔に接着剤を用いて貼り付ける方法をとることもできる。 The primary product of the polycondensation reaction is a polyamic acid that is a precursor of a polyimide resin, and this amic acid solution (which may be the reaction product solution itself) is applied on a metal foil using a coating device. Apply to. As the coating apparatus, a gravure coater, a reverse roll coater, a bar reverse roll coater, a bar coater, a doctor blade coater, a curtain flow coater, a die coater, a multilayer die coater, and the like can be used. The polyamic acid solution can also be applied so as to have multiple layers. Or the polyimide resin film can be produced from polyamic acid and the method of sticking this on metal foil using an adhesive agent can also be taken.
ファインピッチ用途においては、接着剤を用いずに、ポリイミド樹脂を直接金属箔へ接着する方法がとられる。かかる銅箔等の金属箔への良好な接着性を示すポリイミド樹脂としては、(A)イソプロピリデンビス(4-フェニレンオキシ-4-フタル酸)二無水物および(B)3,3′,4,4′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物よりなる2種類の芳香族テトラカルボン酸二無水物と(C)6-アミノ-2-(p-アミノフェニル)ベンゾイミダゾールとの共重合体であるポリイミド樹脂などが挙げられる。
また、接着剤を用いずに、ポリアミック酸を経由して合成されるポリイミド樹脂を用いて直接金属箔に接着させることもでき、かかるポリイミド樹脂としては、次のようなものが挙げられる。
・(A)ピロメリット酸二無水物および(B)3,3´,4,4´-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物よりなる2種類のテトラカルボン酸二無水物と(C)6-アミノ-2-(p-アミノフェニル)ベンズイミダゾールとの共重合体
・(A)イソピロピリデンビス(4-フェニレンオキシ-4-フタル酸)二無水物および(B)3,3´,4,4´-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物よりなる2種類のテトラカルボン酸二無水物と(C)6-アミノ-2-(p-アミノフェニル)ベンズイミダゾールとの共重合体
・(A)イソピロピリデンビス(4-フェニレンオキシ-4-フタル酸)二無水物および(B)3,3´,4,4´-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物よりなる2種類のテトラカルボン酸二無水物と(C)6-アミノ-2-(p-アミノフェニル)ベンズイミダゾールおよび(D)ビス(4-アミノフェニル)エーテル(D1)およびフェニレンジアミン(D2)の少なくとも1種類よりなる2種類または3種類のジアミンとの共重合体
Moreover, it can also be made to adhere directly to metal foil using the polyimide resin synthesize | combined via a polyamic acid, without using an adhesive agent, The following are mentioned as this polyimide resin.
・ Two types of tetracarboxylic dianhydrides consisting of (A) pyromellitic dianhydride and (B) 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and (C) 6-amino- Copolymer with 2- (p-aminophenyl) benzimidazole, (A) isopropylpyridenebis (4-phenyleneoxy-4-phthalic acid) dianhydride and (B) 3,3 ′, 4,4 ′ Copolymers of two types of tetracarboxylic dianhydrides consisting of 2-biphenyltetracarboxylic dianhydride and (C) 6-amino-2- (p-aminophenyl) benzimidazole, (A) isopropylpyridenebis Two tetracarboxylic dianhydrides consisting of (4-phenyleneoxy-4-phthalic acid) dianhydride and (B) 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and (C) At least one of 6-amino-2- (p-aminophenyl) benzimidazole and (D) bis (4-aminophenyl) ether (D 1 ) and phenylenediamine (D 2 ) Copolymers with two or three types of diamines
このような金属箔への接着性良好なポリイミド樹脂層の上に、さらに低吸湿性あるいは低熱膨張性のポリイミド樹脂またはその前駆体であるポリアミック酸をコートすることも可能である。ポリアミック酸を経由して合成されるポリイミド樹脂としては、上記の如きものが挙げられる。 On such a polyimide resin layer having good adhesion to the metal foil, it is also possible to coat a polyimide resin having low hygroscopicity or low thermal expansion or polyamic acid which is a precursor thereof. Examples of the polyimide resin synthesized via polyamic acid include those described above.
また、熱可塑性ポリイミド樹脂を金属箔と接触させ、熱融着によって両面金属箔ポリイミド樹脂積層体を形成させる方法も工業化されており、このような方法も適用可能である。これ以外の方法でも、金属箔とポリイミド樹脂との積層体が得られる方法であれば、本発明は適用可能である。 In addition, a method in which a thermoplastic polyimide resin is brought into contact with a metal foil and a double-sided metal foil polyimide resin laminate is formed by thermal fusion is industrialized, and such a method is also applicable. The present invention can be applied to other methods as long as a laminate of a metal foil and a polyimide resin is obtained.
この際、線膨張係数のコントロール、機械的特性の調整、接着性の向上などを目的として、異なるポリイミド樹脂のブレンドあるいは異種の樹脂をブレンドして用いることもできる。また、種々の特性改良を目的として、無機質、有機質または金属質の粉末、繊維等を混合して使用することもでき、さらに金属箔導体の酸化を防ぐために酸化防止剤を添加したり、あるいは接着性の向上を目的としてシランカップリング剤等を添加して用いることもできる。 In this case, for the purpose of controlling the linear expansion coefficient, adjusting the mechanical characteristics, improving the adhesion, etc., it is possible to use a blend of different polyimide resins or a blend of different resins. In addition, for the purpose of improving various properties, inorganic, organic or metallic powders, fibers, etc. can be mixed and used, and an antioxidant is added to prevent oxidation of the metal foil conductor, or adhesion A silane coupling agent or the like can be added for the purpose of improving the property.
これらいずれかの方法により金属箔/樹脂層積層体、好ましくは銅箔/ポリイミド樹脂層積層体(ポリイミド樹脂銅張板)を製造した後、樹脂層をガラス転移点Tgよりも約5〜50℃、好ましくは約10〜30℃低い温度で少くとも約8時間窒素雰囲気下で熱処理する。このとき、銅張板はロール状でもあるいは1枚のシート状でも構わないが、量産性を考慮するとロール状での熱処理が好ましい。不活性ガス雰囲気の代りに真空オーブンを用いても同様の効果が得られるが、伝熱速度を考慮した場合不活性ガスオーブンを用いるのが妥当である。 After producing a metal foil / resin layer laminate, preferably a copper foil / polyimide resin layer laminate (polyimide resin copper clad plate) by any of these methods, the resin layer is about 5 to 50 ° C. above the glass transition point Tg. Preferably, the heat treatment is performed at a temperature lower by about 10 to 30 ° C. in a nitrogen atmosphere for at least about 8 hours. At this time, the copper-clad plate may be in the form of a roll or a single sheet, but in view of mass productivity, heat treatment in the form of a roll is preferred. A similar effect can be obtained by using a vacuum oven instead of the inert gas atmosphere, but it is appropriate to use an inert gas oven in consideration of the heat transfer rate.
伝熱効率をアップさせるためには、ロールを支える支柱に補助ヒータを導入することなどによって、製品全体が設定温度に到達する時間を短縮することができる。熱処理時間は、長すぎると破断伸びが低下することがあるが、熱処理後示差熱分析(DSC)測定によって、10℃/分の昇温速度での昇温時にガラス転移点Tg温度領域に吸熱ピークが生ずる迄行われる。ガラス転移点Tgに近い温度で処理すると、安定な構造が得られない場合がある。熱処理した結果、DSC測定によって昇温時に、ガラス転移点Tg温度領域に生ずる吸熱ピークの熱量が樹脂単位重量当り0.5J/g以上観測される場合には、寸法安定化の効果が確認できる。 In order to increase the heat transfer efficiency, the time for the entire product to reach the set temperature can be shortened by introducing an auxiliary heater to the column supporting the roll. If the heat treatment time is too long, the elongation at break may decrease. However, by differential thermal analysis (DSC) measurement after heat treatment, an endothermic peak appears in the Tg temperature range at the glass transition point when the temperature is raised at a rate of 10 ° C / min. This is done until If the treatment is performed at a temperature close to the glass transition point Tg, a stable structure may not be obtained. As a result of heat treatment, when the heat value of the endothermic peak occurring in the glass transition point Tg temperature region is observed at 0.5 J / g or more per unit weight of the resin at the time of temperature rise by DSC measurement, the effect of dimensional stabilization can be confirmed.
熱処理条件である必要な熱処理温度および熱処理時間は、樹脂の種類に依存するが、熱処理時間については一般に約8時間以上、好ましくは約24〜120時間の範囲で大きな効果が得られる。これ以上の熱処理時間は、コストアップになるので工業的に非現実的であり、また樹脂の熱分解も無視できない。しかしながら、樹脂の熱分解が殆んどみられない場合には、処理時間は長ければ長い程よい。 The necessary heat treatment temperature and heat treatment time, which are the heat treatment conditions, depend on the type of resin, but the heat treatment time is generally about 8 hours or longer, preferably about 24 to 120 hours. A heat treatment time longer than this is costly, which is industrially impractical, and thermal decomposition of the resin cannot be ignored. However, when the thermal decomposition of the resin is hardly observed, the longer the processing time, the better.
樹脂が多数の成分から構成されている場合、例えば樹脂層がブレンド物であったり、多層構造体であったりした場合がこれに相当するが、構成される樹脂の主成分のみがフィジカルエージングされるだけでも、効果が得られる場合もある。また、樹脂のガラス転移点Tgがほぼ等しいと、寸法安定化効果も大きい。さらに、構成樹脂の高い方のガラス転移点Tgに合せて熱処理し、その後引続きガラス転移点Tgよりも低い温度で熱処理するといった多段熱処理も有効である。 When the resin is composed of a large number of components, for example, the resin layer is a blend or a multilayer structure, which corresponds to this, but only the main component of the resin is physically aged. There are some cases where an effect can be obtained. In addition, when the glass transition points Tg of the resins are substantially equal, the dimensional stabilization effect is large. Further, multi-stage heat treatment is also effective in which heat treatment is performed in accordance with the glass transition point Tg of the higher constituent resin, and subsequently heat treatment is performed at a temperature lower than the glass transition point Tg.
熱処理終了後、基準値として積層体の寸法を測定する。測定は、200×250mmの大きさの積層体シートを20℃、65%RHの恒温恒湿槽に24時間保持した後、積層体シートに50mm間隔で直径1mmの孔を計20個穿孔し、孔の中心間の距離を測りとるといった方法で行われる。塗布方向に寸法を測定したものをMD方向、塗布方向と垂直方向に測定したものをTD方向と定義する。 After the heat treatment is completed, the dimension of the laminate is measured as a reference value. The measurement was carried out by holding a laminate sheet of 200 × 250 mm size in a constant temperature and humidity chamber at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours, then drilling a total of 20 holes with a diameter of 1 mm at 50 mm intervals in the laminate sheet, This is done by measuring the distance between the centers of the holes. The dimension measured in the coating direction is defined as the MD direction, and the dimension measured in the direction perpendicular to the coating direction is defined as the TD direction.
その後、銅エッチングをエッチャー等の表面処理装置を用いて行い、20℃、65%RHの恒温恒湿槽に24時間保持した後、同様に寸法測定を行う。次に、200℃で30分間加熱した後、20℃、65%RHの恒温恒湿槽に24時間保持した後、同様に寸法測定を行う。製品を設計する際には、加熱後の寸法のバラツキの問題が重要であり、端子ピッチが40μm以下になる場合、標準偏差σとしたときに3σの値が0.05%以下であることが望ましい。 After that, copper etching is performed using a surface treatment apparatus such as an etcher, and the dimensions are measured in the same manner after being kept in a constant temperature and humidity chamber at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. Next, after heating at 200 ° C. for 30 minutes and holding in a constant temperature and humidity chamber at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours, the dimensions are measured in the same manner. When designing a product, the problem of dimensional variation after heating is important. When the terminal pitch is 40 μm or less, the value of 3σ is preferably 0.05% or less when the standard deviation σ is used.
本発明においては、他の寸法安定化方法と併用することもできる。すなわち、他の手法によって得られた寸法安定性(熱収縮率とそのバラツキ)がスペックに僅かに足りない場合などに、フィジカルエージングによる構造安定化を図ることにより、簡単に目的の寸法安定性を得ることができる。 In the present invention, it can be used in combination with other dimensional stabilization methods. In other words, when the dimensional stability (heat shrinkage rate and its variation) obtained by other methods is slightly insufficient for the specifications, the structural stability by physical aging can be easily achieved, so that the desired dimensional stability can be easily achieved. Obtainable.
特に、市販品の銅張板を購入後、DSCによって測定したガラス転移点Tgよりも約10℃低い温度で熱処理し、DSC昇温測定時にガラス転移点Tg付近に吸熱ピークが生ずるように熱処理すると、寸法安定性のバラツキが抑制される。 In particular, after purchasing a commercially available copper-clad plate, heat treatment is performed at a temperature about 10 ° C. lower than the glass transition point Tg measured by DSC, and heat treatment is performed so that an endothermic peak occurs near the glass transition point Tg during DSC temperature rise measurement. , Variation in dimensional stability is suppressed.
熱処理した結果、ガラス転移点Tg付近に現れる吸熱ピークの熱量が樹脂単位重量当り0.5J/g以上、好ましくは2.0J/g以上の値を示す場合、寸法安定性とそのバラツキの低減効果が明らかに確認できる。ただし、熱処理して寸法安定化した製品をガラス転移点以上の温度に曝すと、寸法安定化効果はなくなる。 As a result of heat treatment, if the heat quantity of the endothermic peak that appears near the glass transition point Tg shows a value of 0.5 J / g or more per unit weight of the resin, preferably 2.0 J / g or more, the dimensional stability and the effect of reducing the variation are clear. Can be confirmed. However, if a product that has been dimensionally stabilized by heat treatment is exposed to a temperature above the glass transition point, the dimension stabilizing effect is lost.
この吸熱ピークの熱量(吸熱量)ΔHの測定は、不活性ガス中、昇温速度10℃/分の条件下で実施した示差熱分析(DSC)として行われるが、このときガラス転移点Tg温度領域で観測される吸熱ピークのピーク面積を算出するためのベースラインは、高温側のベースラインをガラス転移点Tg温度領域に延長して用い、ガラス転移点TgにおけるDSC曲線との交点に囲まれた体積緩和現象に由来するピークから算出される。また、DSC測定用サンプルは、金属箔を付けたまま測定し、樹脂層部分の重量はエッチング前後の重量の差から換算する方法が用いられる。 The calorific value (endothermic amount) ΔH of this endothermic peak is measured as a differential thermal analysis (DSC) conducted in an inert gas under conditions of a heating rate of 10 ° C./min. At this time, the glass transition point Tg temperature The base line for calculating the peak area of the endothermic peak observed in the region is used by extending the base line on the high temperature side to the glass transition point Tg temperature region and surrounded by the intersection with the DSC curve at the glass transition point Tg. It is calculated from the peak derived from the volume relaxation phenomenon. The DSC measurement sample is measured with a metal foil attached, and the weight of the resin layer is converted from the difference in weight before and after etching.
次に、実施例について本発明を説明する。 Next, the present invention will be described with reference to examples.
実施例1
銅張板(新日鉄化学製品エスパネックスKE)について、DSCによってガラス転移点Tgを10℃/分の昇温速度で窒素気流中で測定すると345℃であった。このロール状銅張板を、窒素雰囲気下に330℃で72時間熱処理すると、熱処理後のガラス転移点に観測される吸熱エンタルピーは0.55J/gであった。なお、銅と樹脂との重量比は、エッチング前後の重量比から決定し、樹脂単位重量当りの値に換算した。
Example 1
For a copper-clad plate (Nippon Steel Chemicals Espanex KE), the glass transition temperature Tg was measured by DSC at a heating rate of 10 ° C./min in a nitrogen stream, and it was 345 ° C. When this roll-shaped copper-clad plate was heat-treated at 330 ° C. for 72 hours in a nitrogen atmosphere, the endothermic enthalpy observed at the glass transition point after the heat treatment was 0.55 J / g. The weight ratio of copper to resin was determined from the weight ratio before and after etching and was converted to a value per unit weight of the resin.
熱処理後、得られた銅張り板をシート状に切り出し、ガラス転移温度での吸熱量ΔH、累積寸法変化率(トータル収縮率)測定し、平均値および分散値3σを算出した。なお、サンプルは銅箔を除かない状態で測定に供し、また測定後エッチングして銅を除去した後の乾燥重量を樹脂の重量とした。
ΔH:パーキンエルマー社製DSC7を用い、昇温速度10℃/分でDSC測定を行ない、こ のときガラス転移点Tg温度領域で観測される吸熱ピークのピーク面積を算出す るためのベースラインは、高温側のベースラインをガラス転移点Tg温度領域に 延長して用い、ガラス転移点TgにおけるDSC曲線との交点に囲まれた体積緩和 現象に由来するピークから算出される
トータル加熱収縮率:IPC-TM-650 2.2.4 Revision C (Method C)
ただし、暴露温度を200℃に変化したときの変化率
After the heat treatment, the obtained copper-clad plate was cut into a sheet, and the endothermic amount ΔH at the glass transition temperature and the cumulative dimensional change rate (total shrinkage) were measured, and the average value and the dispersion value 3σ were calculated. The sample was subjected to measurement without removing the copper foil, and the dry weight after the copper was removed by etching after the measurement was taken as the weight of the resin.
ΔH: DSC7 manufactured by PerkinElmer was used, and DSC measurement was performed at a heating rate of 10 ° C / min. At this time, the baseline for calculating the peak area of the endothermic peak observed in the glass transition temperature Tg temperature range is , The base line on the high temperature side is extended to the glass transition temperature Tg temperature region, and the total heat shrinkage calculated from the peak derived from the volume relaxation phenomenon surrounded by the intersection with the DSC curve at the glass transition temperature Tg: IPC -TM-650 2.2.4 Revision C (Method C)
However, the rate of change when the exposure temperature is changed to 200 ° C
比較例1
実施例1において、熱処理前の銅張板の200℃でのトータル加熱収縮率を測定した。
Comparative Example 1
In Example 1, the total heat shrinkage at 200 ° C. of the copper clad plate before heat treatment was measured.
実施例2
銅張りポリイミドフィルム(鐘淵化学製品アピカルNPI)について、DSCによってガラス転移点Tgを10℃/分の昇温速度で窒素気流中で測定すると348℃であった。このロール状銅張板を、窒素雰囲気下に330℃で72時間熱処理すると、熱処理後のガラス転移点に観測される吸熱エンタルピーは0.61J/gであった。なお、銅と樹脂との重量比は、エッチング前後の重量比から決定し、樹脂単位重量当りの値に換算した。この窒素雰囲気下での熱処理後の200℃でのトータル加熱収縮率を測定した。
Example 2
For a copper-clad polyimide film (Kanesu Chemical Product Apical NPI), the glass transition temperature Tg was measured by DSC at a heating rate of 10 ° C./min in a nitrogen stream to be 348 ° C. When this roll-shaped copper clad sheet was heat-treated at 330 ° C. for 72 hours in a nitrogen atmosphere, the endothermic enthalpy observed at the glass transition point after the heat treatment was 0.61 J / g. The weight ratio of copper to resin was determined from the weight ratio before and after etching and was converted to a value per unit weight of the resin. The total heat shrinkage at 200 ° C. after the heat treatment under this nitrogen atmosphere was measured.
比較例2
実施例2において、熱処理前の銅張板の200℃でのトータル加熱収縮率を測定した。
以上の各実施例および比較例で得られた結果は、次の表1に示される。
表1
ΔH 測定 トータル収縮率(%)
熱処理条件 (J/g) 方向 平 均 3 σ
実施例1 0.55 TD -0.02 0.02
330℃ (Tg-15℃)、72h MD -0.03 0.02
比較例1 0.0 TD -0.05 0.03
(未処理) MD -0.06 0.04
実施例2 0.61 TD -0.00 0.03
330℃(Tg-18℃)、72h MD -0.00 0.03
比較例2 0.0 TD -0.04 0.06
(未処理) MD -0.04 0.06
Comparative Example 2
In Example 2, the total heat shrinkage at 200 ° C. of the copper clad plate before heat treatment was measured.
The results obtained in the above examples and comparative examples are shown in the following Table 1.
Table 1
ΔH Measurement total shrinkage (%)
Heat treatment condition (J / g) direction average 3 σ
Example 1 0.55 TD -0.02 0.02
330 ° C (Tg-15 ° C), 72h MD -0.03 0.02
Comparative Example 1 0.0 TD -0.05 0.03
(Unprocessed) MD -0.06 0.04
Example 2 0.61 TD -0.00 0.03
330 ° C (Tg-18 ° C), 72h MD -0.00 0.03
Comparative Example 2 0.0 TD -0.04 0.06
(Unprocessed) MD -0.04 0.06
実施例3
イソプロピリデンビス(4-フェニレンオキシ-4-フタル酸)二無水物(モル比0.4)、3,3′,4,4′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(モル比0.6)および6-アミノ-2-(p-アミノフェニル)ベンズイミダゾール(モル比1.00)を共重合して得られたポリイミド樹脂のN-メチル-2-ピロリドンワニス溶液(ポリマー固形分濃度14重量%)を、ロールコータを用いて、1/2オンス(18μm)の銅箔上に1/2ミル(12.7μm)の厚さで塗布した。
Example 3
Isopropylidenebis (4-phenyleneoxy-4-phthalic acid) dianhydride (molar ratio 0.4), 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (molar ratio 0.6) and 6-amino- Using a roll coater, N-methyl-2-pyrrolidone varnish solution of polyimide resin (polymer solid content concentration 14% by weight) obtained by copolymerizing 2- (p-aminophenyl) benzimidazole (molar ratio 1.00) The coating was applied to a thickness of 1/2 mil (12.7 μm) on a 1/2 ounce (18 μm) copper foil.
この銅箔/ポリイミド樹脂(Tg 305℃)積層材を、酸素濃度0.5%以下の環境下で最高温度390℃で乾燥させた。乾燥後の溶剤含有量は0.4重量%であった。徐冷後、巻き取ったロールを窒素オーブン中に投入し、処理時間、温度を種々に変更して熱処理を行った。 This copper foil / polyimide resin (Tg 305 ° C.) laminate was dried at a maximum temperature of 390 ° C. in an environment with an oxygen concentration of 0.5% or less. The solvent content after drying was 0.4% by weight. After slow cooling, the wound roll was put into a nitrogen oven, and heat treatment was performed by changing the treatment time and temperature in various ways.
熱処理後、得られた銅張り板をシート状に切り出し、実施例1と同様にガラス転移温度での吸熱量ΔHを測定した。 After the heat treatment, the obtained copper-clad plate was cut into a sheet shape, and the endothermic amount ΔH at the glass transition temperature was measured in the same manner as in Example 1.
実施例3で得られた結果は図1のグラフに示される。このグラフから、ガラス転移温度での吸熱量ΔHは明らかに処理温度がTgに近いほど短時間で増加することが示されており、現実的な時間で熱処理を行うためにはTg-15℃程度が望ましいことが示されている。 The results obtained in Example 3 are shown in the graph of FIG. From this graph, it is shown that the endothermic amount ΔH at the glass transition temperature clearly increases in a shorter time as the processing temperature is closer to Tg, and in order to perform heat treatment in a realistic time, it is about Tg-15 ° C Has been shown to be desirable.
1 樹脂層(ベースフィルム)
2 FPC
3 端子
4 バンプ
5 IC
1 Resin layer (base film)
2 FPC
3 terminal 4
Claims (2)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003357738A JP4731107B2 (en) | 2003-10-17 | 2003-10-17 | Flexible metal foil laminate |
| TW093127755A TW200514685A (en) | 2003-10-17 | 2004-09-14 | Flexible metal foil laminate |
| CN 200410085678 CN1608835B (en) | 2003-10-17 | 2004-10-15 | Flexible metal foil laminated body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003357738A JP4731107B2 (en) | 2003-10-17 | 2003-10-17 | Flexible metal foil laminate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005119178A JP2005119178A (en) | 2005-05-12 |
| JP4731107B2 true JP4731107B2 (en) | 2011-07-20 |
Family
ID=34614543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003357738A Expired - Fee Related JP4731107B2 (en) | 2003-10-17 | 2003-10-17 | Flexible metal foil laminate |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4731107B2 (en) |
| CN (1) | CN1608835B (en) |
| TW (1) | TW200514685A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109219513B (en) | 2016-06-03 | 2021-03-09 | 株式会社有泽制作所 | Method for manufacturing flexible metal-clad laminate |
| CN115353845B (en) * | 2022-08-26 | 2024-02-02 | 江西省航宇电子材料有限公司 | Stainless steel-based copper-clad plate silk-screen insulating adhesive and silk-screen printing method |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3805546B2 (en) * | 1998-11-09 | 2006-08-02 | 株式会社カネカ | Manufacturing method of heat-resistant bonding sheet |
| JP4507137B2 (en) * | 1999-12-17 | 2010-07-21 | 東洋紡績株式会社 | Flexible printed wiring board and manufacturing method thereof |
| JP3494098B2 (en) * | 1999-12-20 | 2004-02-03 | ソニーケミカル株式会社 | Flexible printed circuit board |
| TW584596B (en) * | 2001-12-10 | 2004-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | Method for manufacturing a polyimide and metal compound sheet |
-
2003
- 2003-10-17 JP JP2003357738A patent/JP4731107B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-09-14 TW TW093127755A patent/TW200514685A/en not_active IP Right Cessation
- 2004-10-15 CN CN 200410085678 patent/CN1608835B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1608835A (en) | 2005-04-27 |
| JP2005119178A (en) | 2005-05-12 |
| TWI343869B (en) | 2011-06-21 |
| CN1608835B (en) | 2010-04-28 |
| TW200514685A (en) | 2005-05-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050714 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071018 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071030 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071205 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080108 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110419 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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