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JP4745333B2 - Photosensitive resin composition for volume phase hologram recording and optical information recording medium using the same - Google Patents
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Photosensitive resin composition for volume phase hologram recording and optical information recording medium using the same Download PDF

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Description

本発明は、活性エネルギー線(可視光レーザや紫外線、電子線等)により速やかに光硬化し、回折効率、解像力等のホログラム特性が良好で、かつ、透明性、耐熱性等に優れた厚膜形成可能な体積位相型ホログラムの材料として好適な体積位相型ホログラム記録用感光性樹脂組成物及びこれを用いた光情報記録媒体に関する。   The present invention is a thick film that is quickly cured by an active energy ray (visible laser, ultraviolet ray, electron beam, etc.), has excellent hologram properties such as diffraction efficiency and resolving power, and is excellent in transparency and heat resistance. The present invention relates to a photosensitive resin composition for volume phase hologram recording suitable as a formable volume phase hologram material and an optical information recording medium using the same.

従来、ホログラムは主に立体画像表示分野・セキュリティ分野で使用されてきた。そのホログラム材料としては、古くは銀塩感光材料や重クロム酸ゼラチン等の現像を必要とする湿式型材料が主に用いられてきたが、その後は、現像処理を必要としない記録後の耐環境性・耐光性に優れた乾式の光重合型ホログラム記録材料が主流となってきた。光重合型ホログラム記録材料の記録メカニズムは、銀塩感光材料や重クロム酸ゼラチン等とは異なり、一般的に次のように考えられている。つまり、コヒーレンス性(可干渉性)の優れた光の干渉からなる干渉縞が記録材料に照射されると、光の明部(光強度が強い領域)、暗部(光強度が弱い領域)にそれぞれ重合性の異なる物質が拡散移動し、光重合の進行とともに屈折率変調構造が形成されることでホログラムが記録される。光重合型ホログラム記録材料の重合形態としては、1)ラジカル重合型、2)カチオン重合型、3)ラジカル/カチオン重合併用型がある。光ラジカル重合型の材料が一般的であるが、感度は高いものの、その重合形態に起因する収縮が数%と大きいという欠点がある。現在、光重合型ホログラム記録材料の中で唯一市販されている感光性樹脂組成物は、米デュポン社のオムニデックスのみである。   Conventionally, holograms have been used mainly in the field of stereoscopic image display and security. In the past, wet type materials that require development, such as silver salt photosensitive materials and dichromated gelatin, have been mainly used as the hologram material. Dry photopolymerization hologram recording materials having excellent properties and light resistance have become mainstream. The recording mechanism of the photopolymerization hologram recording material is generally considered as follows, unlike silver salt photosensitive materials and dichromated gelatin. In other words, when the recording material is irradiated with interference fringes consisting of light interference with excellent coherence (coherence), it is applied to the bright part (area where the light intensity is strong) and dark part (area where the light intensity is weak). A substance having different polymerization properties diffuses and moves, and a refractive index modulation structure is formed with the progress of photopolymerization, whereby a hologram is recorded. Polymerization forms of the photopolymerization type hologram recording material include 1) radical polymerization type, 2) cationic polymerization type, and 3) radical / cationic polymerization combined type. Photo radical polymerization type materials are generally used, but although they have high sensitivity, there is a drawback that shrinkage due to the polymerization form is as large as several percent. Currently, the only commercially available photosensitive resin composition among photopolymerizable hologram recording materials is Omnidex manufactured by DuPont.

近年、ユビキタス情報化社会の実現に向けた取り組みの中で、光重合型ホログラム記録材料をホログラフィック・データストレージに用いようとする研究が世界中で再び活発になり、様々な光重合型ホログラム記録材料が提案されるようになった。これは、1990年代中頃より米国において始まった国家プロジェクトHDSS(Holographic Data Storage System:1995−1999)、PRISM(Photorefractive Information Storage Materials:1994−1998)が推進される中で、レーザ光源や空間光変調器等の技術が飛躍的に進歩したことが大きく寄与している。従来のCD、DVD等の光ディスクへの記録は、レーザ光をレンズで集光し記録材料面にデータをbit by bit で記録する方式をとっている。この集光スポットの大きさで決まるデータ記憶容量はその理論的限界がすでにきており、更なる記憶容量の増大のためには新たな技術が望まれている。その一つの候補として近年注目されているのがホログラフィである。   In recent years, in an effort to realize a ubiquitous information society, research to use photopolymerization hologram recording materials for holographic data storage has become active all over the world, and various photopolymerization hologram recordings have been made. Material has been proposed. This is because the national projects HDSS (Holographic Data Storage System: 1995-1999) and PRISM (Photorefractive Information Storage Materials: 1994-1998) started in the United States since the mid-1990s are being promoted. This has greatly contributed to the dramatic advancement of such technologies. Conventional recording on an optical disk such as a CD or DVD employs a system in which laser light is collected by a lens and data is recorded on a recording material surface bit by bit. The data storage capacity determined by the size of the focused spot has already reached its theoretical limit, and a new technology is desired to further increase the storage capacity. As one candidate, holography has been attracting attention in recent years.

ホログラフィック・データストレージは、CD、DVDのような面内記録ではなく体積記録ができ、取り扱うデータもページデータを用いるため、これまでのCDやDVDとは比べ物にならない大量のデータの記録ができる。現在、1TB(テラバイト)の記録が可能なWORM(Write Once Read Many:追記)型ホログラム光ディスクの実用化に向けて、各研究機関において材料開発及び記録技術開発が活発に行われている。ホログラフィック・データストレージ用材料の基本的な設計の考え方は、前述の立体画像記録やセキュリティ用途の光重合型ホログラム記録材料と同じである。しかし、ホログラフィック・データストレージ用途に用いる場合においては、特に使用する光源に対する感度や硬化収縮率に対する材料への要求が極めて厳しい。このホログラフィック・データストレージ用感光性樹脂組成物の代表的な例としては、米ポラロイド社の流れをくむ米アプリリス社のものと、米ルーセント・テクノロジー社の流れをくむ米インフェーズ社のものが挙げられる。   Holographic data storage can record volume rather than in-plane recording like CD and DVD, and uses page data for handling data, so it can record large amounts of data that is not comparable to conventional CD and DVD. . Currently, various research institutes are actively developing materials and recording technologies toward the practical use of WORM (Write Once Read Many) type hologram optical discs capable of recording 1 TB (terabyte). The basic design concept of the holographic data storage material is the same as the above-described photopolymerization hologram recording material for stereoscopic image recording and security applications. However, when used in holographic data storage applications, there are extremely strict requirements for materials for sensitivity to light sources and cure shrinkage. Typical examples of the photosensitive resin composition for holographic data storage include those of US-Aprilis Inc., which has flown through Polaroid Corporation, and those of Inphase Corporation, which has flowed through Lucent Technology Corporation. Can be mentioned.

まず、米アプリリス社では、例えば特許文献1、2に記載されているように、オキシラン、オキセタン環を有するCROP(Cationic Ring-Opening Polymerization:カチオン開環重合)モノマーを用い、プレ光照射をすることにより、重合収縮率を抑えた材料が開示されている。しかしながら、カチオン重合は、ラジカル重合のような酸素阻害は少ないが、長波長領域での感度がやや劣るという問題がある。一方、米インフェーズ社においては、例えば特許文献3、4あるいは5に記載されているように、シクロヘキセンオキシドと膨張剤(ジフェニルフランカルボン酸塩)を併用することにより、重合収縮が1%以下と極めて小さい材料が開示されている。しかしながら、ここでも、カチオン開環重合性モノマーを用い、それを記録前あるいは後に全面露光することで硬化収縮は抑えられているものの、感度向上に対する提案がなされていない。ホログラフィック・データストレージの実用化に向けて、更なる光感度の向上と硬化収縮率の低減、耐熱性の向上が望まれている。   First, as described in Patent Documents 1 and 2, for example, US Aprilis Co., Ltd. uses a CROP (Cationic Ring-Opening Polymerization) monomer having an oxirane or oxetane ring to perform pre-light irradiation. Discloses a material with reduced polymerization shrinkage. However, although cationic polymerization has little oxygen inhibition like radical polymerization, there is a problem that sensitivity in a long wavelength region is slightly inferior. On the other hand, in US Inphase, for example, as described in Patent Document 3, 4 or 5, by using cyclohexene oxide and a swelling agent (diphenylfuran carboxylate) in combination, the polymerization shrinkage is 1% or less. Very small materials are disclosed. However, here too, a cationic ring-opening polymerizable monomer is used and the entire surface is exposed before or after recording to suppress cure shrinkage, but no proposal for improving sensitivity has been made. For the practical application of holographic data storage, further improvement in photosensitivity, reduction in curing shrinkage, and improvement in heat resistance are desired.

米国特許第5,759,721号明細書US Pat. No. 5,759,721 米国特許第6,784,300号明細書US Pat. No. 6,784,300 米国特許第3,993,485号明細書US Pat. No. 3,993,485 米国特許第6,124,076号明細書US Pat. No. 6,124,076 特開2000−086914号公報JP 2000-086914 A 特開平5−94014号公報JP-A-5-94014 特開平9−106242号公報JP-A-9-106242 特開2004-123873号公報JP 2004-123873 A

特許文献6、7には、ラジカル重合性のエチレン系モノマー、光重合開始剤とエポキシ樹脂を配合したホログラム用の感光性樹脂組成物が記載されている。この組成物では、レーザによるホログラム露光時に干渉縞の明るい部分からラジカル重合性のエチレン系モノマーが優先的に重合し、明るい部分にエチレン系モノマーが移動する現象を利用してホログラムを形成している。なお、エポキシ樹脂はその後硬化される。特許文献8には、ジビニル芳香族化合物の構造単位とモノビニル芳香族化合物の構造単位を有する可溶性芳香族共重合体芳香族共重合体が記載されているが、ホログラム用途について教えるものはない。   Patent Documents 6 and 7 describe a photosensitive resin composition for hologram in which a radical polymerizable ethylene monomer, a photopolymerization initiator and an epoxy resin are blended. In this composition, a radical-polymerizable ethylene monomer is preferentially polymerized from a bright part of an interference fringe during hologram exposure by a laser, and a hologram is formed by utilizing the phenomenon that the ethylene monomer moves to a bright part. . The epoxy resin is then cured. Patent Document 8 describes a soluble aromatic copolymer aromatic copolymer having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound, but there is no teaching about hologram use.

体積位相型ホログラムが記録可能な感光性樹脂組成物として、これまで数多くの材料系について検討がなされ開示されてきたが、光感度と硬化収縮率の両方を同時に満足しうる感光樹性脂組成物はこれまでなかった。ホログラフィック・データストレージ用として体積位相型ホログラム記録用樹脂組成物を用いる場合には、特に光感度と低硬化収縮率の二つに関しては高いレベルが要求される。
本発明は、上記実情に鑑みて成し遂げられたものであり、体積位相型ホログラムに要求される、回折効率、解像力、透明性、耐熱性等が良好で、特に光感度に優れた体積位相型ホログラム記録用樹脂組成物、及び該組成物から得られる光情報記録媒体を提供することにある。もちろん、本発明により得られるホログラムは、ホログラフィック・データストレージ用以外の用途、例えば、回折格子、干渉フィルター、レンズ、ヘッドアップディスプレィ等ホログラムを用いることでその有用性が発揮される用途に使うことができる。
As a photosensitive resin composition capable of recording a volume phase hologram, a number of material systems have been studied and disclosed so far, but a photosensitive resin composition capable of satisfying both photosensitivity and cure shrinkage simultaneously. Never before. When a volume phase hologram recording resin composition is used for holographic data storage, a high level is particularly required for both photosensitivity and low cure shrinkage.
The present invention has been accomplished in view of the above circumstances, and has a diffraction phase, resolution, transparency, heat resistance and the like required for a volume phase hologram, and is particularly excellent in photosensitivity. An object of the present invention is to provide a recording resin composition and an optical information recording medium obtained from the composition. Of course, the hologram obtained by the present invention should be used for applications other than holographic data storage, such as applications where its usefulness is demonstrated by using holograms such as diffraction gratings, interference filters, lenses, and head-up displays. Can do.

本発明者らは上記課題に対して鋭意検討した結果、可溶性多官能ビニル芳香族共重合体とこれと共重合可能な光ラジカル重合性化合物を組成物中に配合することで、感光性を更に高めると同時に、硬化後の収縮をより抑えることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies on the above problems, the inventors of the present invention incorporated a soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer and a photo-radically polymerizable compound copolymerizable therewith into the composition to further improve the photosensitivity. At the same time, it was found that shrinkage after curing can be further suppressed, and the present invention has been completed.

本発明は、ジビニル芳香族化合物の構造単位とモノビニル芳香族化合物の構造単位を有し、下記式(a1)で表される構造単位を10モル%以上含有する可溶性芳香族共重合体(A)、可溶性芳香族共重合体(A)と共重合可能な光ラジカル重合性化合物(B)及び光重合開始剤(C)と、高分子結合剤(D)及び/又は可塑剤(E)を含んでなる感光性樹脂組成物であって、可溶性芳香族共重合体(A)を5〜60重量%含むことを特徴とする体積位相型ホログラム記録用感光性樹脂組成物である。

Figure 0004745333
(式中、Rは炭素数6〜30の芳香族炭化水素基を示す。)The present invention provides a soluble aromatic copolymer (A) having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound, and containing 10 mol% or more of a structural unit represented by the following formula (a1). A radically polymerizable compound (B) and a photopolymerization initiator (C) copolymerizable with the soluble aromatic copolymer (A), a polymer binder (D) and / or a plasticizer (E). A photosensitive resin composition for volume phase hologram recording, comprising 5 to 60% by weight of a soluble aromatic copolymer (A).
Figure 0004745333
(In the formula, R 1 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.)

また、本発明は、前記の感光性樹脂組成物からなる記録層が、一つの支持体上に又は二つの支持体間に形成されてなる体積位相型ホログラム記録用光情報記録媒体である。更に、本発明は、前記の光情報記録媒体にコヒーレント性の優れたエネルギー線から形成される干渉縞を記録して得られる体積位相型ホログラムである。更にまた、本発明は、前記の記録媒体にコヒーレント性の優れたエネルギー線から形成される干渉縞を露光記録することを特徴とする体積位相型ホログラムの製造方法である。   The present invention also provides a volume phase hologram recording optical information recording medium in which a recording layer comprising the above-described photosensitive resin composition is formed on one support or between two supports. Furthermore, the present invention is a volume phase hologram obtained by recording interference fringes formed from energy rays having excellent coherency on the optical information recording medium. Furthermore, the present invention is a method for producing a volume phase hologram, wherein the recording medium is exposed and recorded with interference fringes formed from energy rays having excellent coherency.

本発明の感光性樹脂組成物は、コヒーレンス性の優れた光の干渉からなる干渉縞を屈折率の異なる縞として記録するのに使用される体積位相型ホログラム記録用樹脂組成物であり、可溶性芳香族共重合体(A)、光ラジカル重合性化合物(B)及び光重合開始剤(C)を必須成分として含み、更に高分子結合剤(D)又は可塑剤(E)又は両者を必須成分として含む。   The photosensitive resin composition of the present invention is a volume phase-type hologram recording resin composition used for recording interference fringes composed of light interference having excellent coherence as fringes having different refractive indexes, and is a soluble aromatic fragrance. Group copolymer (A), radical photopolymerizable compound (B) and photopolymerization initiator (C) as essential components, and further a polymer binder (D) or plasticizer (E) or both as essential components Including.

まず、可溶性芳香族共重合体(A)について説明する。
可溶性芳香族共重合体(A)は、ジビニル芳香族化合物とモノビニル芳香族化合物を共重合させて得られ、上記式(a1)で表される側鎖に反応性ビニル基を含有する構造単位を10モル%以上有する。式(a1)で表される構造単位は、モノマーとしてのジビニル芳香族化合物に由来する。有利には、式(a1)で表される構造単位を1分子中に平均3以上有する。そして、可溶性芳香族共重合体(A)は、特許文献8等に記載の公知化合物であり、そこに記載の方法により好適に製造される。
First, the soluble aromatic copolymer (A) will be described.
The soluble aromatic copolymer (A) is obtained by copolymerizing a divinyl aromatic compound and a monovinyl aromatic compound, and has a structural unit containing a reactive vinyl group in the side chain represented by the formula (a1). It has 10 mol% or more. The structural unit represented by the formula (a1) is derived from a divinyl aromatic compound as a monomer. Advantageously, the structural unit represented by the formula (a1) has an average of 3 or more per molecule. And a soluble aromatic copolymer (A) is a well-known compound as described in patent document 8, etc., and is suitably manufactured by the method as described there.

ジビニル芳香族化合物としては、例えば、m−ジビニルベンゼン、p−ジビニルベンゼン、1,2−ジイソプロペニルベンゼン、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,3−ジビニルナフタレン、1,8−ジビニルナフタレン、1,4−ジビニルナフタレン、1,5−ジビニルナフタレン、2,3−ジビニルナフタレン、2,7−ジビニルナフタレン、2,6−ジビニルナフタレン、4,4’−ジビニルビフェニル、4,3’−ジビニルビフェニル、4,2’−ジビニルビフェニル、3,2’−ジビニルビフェニル、3,3’−ジビニルビフェニル、2,2’−ジビニルビフェニル、2,4−ジビニルビフェニル、1,2−ジビニル−3,4−ジメチルベンゼン、1,3−ジビニル−4,5,8−トリブチルナフタレン、2,2’−ジビニル−4−エチル−4’−プロピルビフェニル等を用いることができるが、これらに制限されるものではない。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。   Examples of the divinyl aromatic compound include m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, 1,2-diisopropenylbenzene, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,3- Divinylnaphthalene, 1,8-divinylnaphthalene, 1,4-divinylnaphthalene, 1,5-divinylnaphthalene, 2,3-divinylnaphthalene, 2,7-divinylnaphthalene, 2,6-divinylnaphthalene, 4,4′- Divinylbiphenyl, 4,3′-divinylbiphenyl, 4,2′-divinylbiphenyl, 3,2′-divinylbiphenyl, 3,3′-divinylbiphenyl, 2,2′-divinylbiphenyl, 2,4-divinylbiphenyl, 1,2-divinyl-3,4-dimethylbenzene, 1,3-divinyl-4,5,8-tri Chill naphthalene, 2,2' but divinyl-4-ethyl-4'-propyl biphenyl, or the like can be used, but is not limited thereto. These can be used alone or in combination of two or more.

ジビニル芳香族化合物の好適な具体例としては、コスト及び得られたポリマーの耐熱性の点で、ジビニルベンゼン(m−及びp−異性体の両方)、ジビニルビフェニル(各異性体を含む)及びジビニルナフタレン(各異性体を含む)がある。より好ましくは、ジビニルベンゼン(m−及びp−異性体の両方)、ジビニルビフェニル(各異性体を含む)である。特に、ジビニルベンゼン(m−及びp−異性体の両方)が最も好ましく用いられる。   Preferred specific examples of the divinyl aromatic compound include divinylbenzene (both m- and p-isomers), divinylbiphenyl (including each isomer), and divinyl in terms of cost and heat resistance of the obtained polymer. There is naphthalene (including each isomer). More preferred are divinylbenzene (both m- and p-isomers) and divinylbiphenyl (including each isomer). In particular, divinylbenzene (both m- and p-isomers) is most preferably used.

モノビニル芳香族化合物としては、スチレン、ビニルナフタレン、ビニルビフェニル等の他、これらの誘導体がある。誘導体としては、芳香族環にアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、フェニル基等の置換基が置換した化合物の他、ビニル基のα位又はβ位に上記置換基が置換した化合物がある。その他、インデン、アセナフチレン等の芳香族オレフィン及びその誘導体もモノビニル芳香族化合物として使用することができる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。   Examples of the monovinyl aromatic compound include styrene, vinyl naphthalene, vinyl biphenyl and the like and derivatives thereof. Examples of the derivatives include compounds in which an aromatic ring is substituted with a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, or a phenyl group, and compounds in which the above substituent is substituted at the α-position or β-position of the vinyl group. In addition, aromatic olefins such as indene and acenaphthylene and derivatives thereof can also be used as monovinyl aromatic compounds. These can be used alone or in combination of two or more.

スチレン誘導体としては例えば、メチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ペンチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、エトキシスチレン、プロポキシスチレン、ブトキシスチレン、ペントキシスチレン、ヘキソキシスチレン、シクロヘキソキシスチレン、フェノキシスチレン等を用いることができる。これらの置換基はビニル基に対し、o、m又はp位に置換することができ、側鎖を有し得る場合は、直鎖又は側鎖状のアルキル基又はアルコキシ基であることができる。   Examples of styrene derivatives include methyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, pentyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, ethoxy styrene, propoxy styrene, butoxy styrene, pentoxy styrene, hexoxy styrene, cyclohexoxy styrene, phenoxy styrene. Etc. can be used. These substituents can be substituted at the o-, m-, or p-position with respect to the vinyl group, and when they can have side chains, they can be linear or side chain alkyl groups or alkoxy groups.

インデン又はその誘導体としては例えば、インデン、炭素数1〜6のアルキル置換インデン、炭素数1〜6のアルコキシ置換インデン等を用いることができる。アセナフチレンン又はその誘導体としては例えば、アセナフチレン、炭素数1〜6のアルキル置換アセナフチレン、フェニル置換アセナフチレン、塩素、臭素等のハロゲン置換アセナフチレン等が挙げられる。   As indene or a derivative thereof, for example, indene, alkyl substituted indene having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy substituted indene having 1 to 6 carbon atoms, or the like can be used. Examples of acenaphthylene or derivatives thereof include acenaphthylene, alkyl-substituted acenaphthylene having 1 to 6 carbon atoms, phenyl-substituted acenaphthylene, halogen-substituted acenaphthylene such as chlorine and bromine, and the like.

モノビニル芳香族化合物はこれらに制限されるものではない。これらのモノビニル芳香族化合物の中で、重合時に共重合体の骨格中における、インダン構造の生成量が大きいという点で、核アルキル置換芳香族ビニル化合物、α−アルキル置換芳香族ビニル化合物が好ましい。好適な具体例としては、コスト及び得られたポリマーの耐熱性の点でエチルビニルベンゼン(m−及びp−異性体の両方)、エチルビニルビフェニル(各異性体を含む)及びエチルビニルナフタレン(各異性体を含む)がある。   The monovinyl aromatic compound is not limited to these. Among these monovinyl aromatic compounds, a nuclear alkyl-substituted aromatic vinyl compound and an α-alkyl-substituted aromatic vinyl compound are preferable in that the amount of indane structure generated in the skeleton of the copolymer during polymerization is large. Preferred examples include ethyl vinyl benzene (both m- and p-isomers), ethyl vinyl biphenyl (including each isomer), and ethyl vinyl naphthalene (each) in terms of cost and heat resistance of the resulting polymer. Including isomers).

可溶性芳香族共重合体(A)は、上記のようなジビニル芳香族化合物とモノビニル芳香族化合物を共重合させて得られるが、必要により他のモノマーを使用してもよい。かかる他のモノマーとしては、トリビニル芳香族化合物やブタジエン、イソプレンなどのジエン化合物、アルキルビニルエーテル、イソブテン、ジイソブチレン等を挙げることができる。これらの他のモノマーは全モノマーの30モル%未満の範囲内で使用される。なお、ジビニル芳香族化合物は全モノマーの20モル%以上、好ましくは40〜80モル%となるように使用され、モノビニル芳香族化合物は全モノマーの10モル%以上、好ましくは20〜60モル%となるように使用される。   The soluble aromatic copolymer (A) is obtained by copolymerizing the divinyl aromatic compound and the monovinyl aromatic compound as described above, but other monomers may be used as necessary. Examples of such other monomers include trivinyl aromatic compounds, diene compounds such as butadiene and isoprene, alkyl vinyl ethers, isobutene, and diisobutylene. These other monomers are used in a range of less than 30 mol% of the total monomers. The divinyl aromatic compound is used so as to be 20 mol% or more, preferably 40 to 80 mol% of the total monomer, and the monovinyl aromatic compound is 10 mol% or more, preferably 20 to 60 mol% of the total monomer. Used to be.

可溶性芳香族共重合体(A)を製造するための重合方法は、特許文献8に記載の方法が好ましい例として挙げられる。例えば、次のような方法である。   A preferable example of the polymerization method for producing the soluble aromatic copolymer (A) is the method described in Patent Document 8. For example, it is the following method.

有機溶媒中、ルイス酸触媒及び下記一般式(1)

Figure 0004745333
(式中、R1は水素原子又は炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示し、R2はp価の芳香族炭化水素基又は脂肪族炭化水素基を示し、Zはハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシル基又はアシルオキシル基を示し、pは1〜6の整数を示す。一分子中に、複数のR1及びZがある場合、それぞれは同一であって、異なってもよい)で表される開始剤により、ジビニル芳香族化合物(a)を20〜100モル%含有してなる単量体成分を20〜120℃の温度でカチオン重合させる。In an organic solvent, Lewis acid catalyst and the following general formula (1)
Figure 0004745333
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a p-valent aromatic hydrocarbon group or aliphatic hydrocarbon group, Z represents a halogen atom, An alkoxyl group or an acyloxyl group having 1 to 6 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 6. When there are a plurality of R 1 and Z in one molecule, they may be the same or different. The monomer component containing 20 to 100 mol% of the divinyl aromatic compound (a) is cationically polymerized at a temperature of 20 to 120 ° C.

有機溶媒としては、誘電率が2〜15である1種以上の有機溶媒が好ましく、4級アンモニウム塩、炭素数3以上のエーテル系化合物、炭素数3以上のチオエーテル系化合物及び炭素数2以上のスルホキシド系化合物からなる群から選ばれるドナー成分を存在させることも好ましい。有機溶媒としてはカチオン重合を本質的に阻害しない化合物であれば、特に制約なく使用することができ、誘電率が2〜15の範囲内となるように単独又は2種以上を組み合わせて重合溶媒として使用することがよい。有機溶媒としては、塩化メチル、ジクロロメタン、n−プロピルクロライド、n−ブチルクロライド、クロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン等の芳香族炭化水素;エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の直鎖式脂肪族炭化水素類;2−メチルプロパン、2−メチルブタン、2,3,3−トリメチルペンタン、2,2,5−トリメチルヘキサン等の分岐式脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の環式脂肪族炭化水素類;石油留分を水添精製したパラフィン油等を挙げることができる。この中で、ジクロロエタン、トルエン、キシレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、2−メチルプロパン、2−メチルブタン、メチルシクロヘキサン及びエチルシクロヘキサンが好ましい。重合性、溶解性のバランスと入手の容易さの観点からジクロロエタン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン及びエチルシクロヘキサンが更に好ましい。有機溶媒の使用量は、得られる重合体溶液の粘度や除熱の容易さを考慮して、通常、重合体の濃度が1〜50wt%、好ましくは5〜35wt%となるように決定される。誘電率が2未満であると重合活性が低くなるので好ましくなく、誘電率が15を越えると重合時にゲル化が起こりやすくなるので好ましくない。また、重合は一般式(1)で表される開始剤を、開始剤1モルに対し、ルイス酸触媒を0.001〜100モル、好ましくは0.3〜50倍モル、ドナー成分を0.001〜10モルの範囲で使用し、可溶性芳香族共重合体を溶解する有機溶媒中で重合させることも好ましい。   As the organic solvent, one or more organic solvents having a dielectric constant of 2 to 15 are preferable, and a quaternary ammonium salt, an ether compound having 3 or more carbon atoms, a thioether compound having 3 or more carbon atoms, or a compound having 2 or more carbon atoms. It is also preferable to have a donor component selected from the group consisting of sulfoxide compounds. Any organic solvent can be used without particular limitation as long as it is a compound that does not essentially inhibit cationic polymerization, and it can be used alone or in combination of two or more as a polymerization solvent so that the dielectric constant falls within the range of 2 to 15. It is good to use. As organic solvents, methyl chloride, dichloromethane, n-propyl chloride, n-butyl chloride, chloromethane, trichloromethane, tetrachloromethane, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, chloroethylene, dichloroethylene, chlorobenzene, chlorobenzene, dichlorobenzene , Halogenated hydrocarbons such as trichlorobenzene; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, propylbenzene, butylbenzene; ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, etc. Linear aliphatic hydrocarbons; branched aliphatic carbonization such as 2-methylpropane, 2-methylbutane, 2,3,3-trimethylpentane, 2,2,5-trimethylhexane Motorui; and paraffin oils such as petroleum distillates and made water 添精; cyclohexane, methylcyclohexane, cycloaliphatic hydrocarbons such as ethylcyclohexane. Of these, dichloroethane, toluene, xylene, pentane, hexane, heptane, octane, 2-methylpropane, 2-methylbutane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane are preferred. From the viewpoint of balance of polymerizability and solubility and availability, dichloroethane, toluene, xylene, n-hexane, cyclohexane, heptane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane are more preferable. The amount of the organic solvent used is usually determined so that the concentration of the polymer is 1 to 50 wt%, preferably 5 to 35 wt%, in consideration of the viscosity of the polymer solution obtained and ease of heat removal. . A dielectric constant of less than 2 is not preferred because the polymerization activity is low, and a dielectric constant of more than 15 is not preferred because gelation tends to occur during polymerization. In addition, the polymerization is performed by using 0.001 to 100 moles, preferably 0.3 to 50 times moles of a Lewis acid catalyst and 0.1 parts of a donor component to an initiator represented by the general formula (1) with respect to 1 mole of the initiator. It is also preferred to use in the range of 001 to 10 mol and polymerize in an organic solvent in which the soluble aromatic copolymer is dissolved.

重合触媒として使用されるルイス酸触媒の具体例を示すと、臭化ホウ素(III)、塩化ホウ素(III)、臭化アルミニウム(III)、フッ化アルミニウム(III)、塩化アルミニウム(III)、ヨウ化アルミニウム(III)、臭化ガリウム(III)、塩化ガリウム(III)、臭化インジウム(III)、塩化インジウム(III)、フッ化インジウム(III)、ヨウ化インジウム(III)、臭化タリウム(III)、フッ化タリウム(III)、臭化ケイ素(IV)、塩化ケイ素(IV)、フッ化ケイ素(IV)、ヨウ化ケイ素(IV)、臭化ゲルマニウム(IV)、塩化ゲルマニウム(IV)、ヨウ化ゲルマニウム(IV)、臭化スズ(IV)、塩化スズ(IV)、フッ化スズ(IV)、ヨウ化スズ(IV)、フッ化鉛(IV)、臭化アンチモン(III)、塩化アンチモン(III)、塩化アンチモン(V)、フッ化アンチモン(III)、フッ化アンチモン(V)、ヨウ化アンチモン(III)、臭化ビスマス(III)、塩化ビスマス(III)、フッ化ビスマス(III)、ヨウ化ビスマス(III)、塩化チタン(IV)、臭化チタン(IV)、BF・OEt、塩化タングステン(VI)、塩化バナジウム(V)、塩化鉄(III)、臭化亜鉛(II)等の金属ハロゲン化物;EtAlCl、EtAlCl等の有機金属ハロゲン化物などを挙げることができる。上記の触媒は、特に制限されるものではなく、単独又は2種以上を組合せて用いることができる。上記の触媒の内で臭化ホウ素(III)、塩化ホウ素(III)、塩化スズ(IV)、臭化スズ(IV)、塩化スズ(IV)、フッ化スズ(IV)、ヨウ化スズ(IV)、塩化アンチモン(V)、が分岐構造の制御、及び重合活性の点で好ましい。より好ましくは塩化ホウ素(III)、塩化スズ(IV)であり、特に好ましくは塩化スズ(IV)である。Specific examples of Lewis acid catalysts used as polymerization catalysts are boron bromide (III), boron chloride (III), aluminum bromide (III), aluminum fluoride (III), aluminum chloride (III), iodine Aluminum (III) iodide, gallium bromide (III), gallium chloride (III), indium bromide (III), indium chloride (III), indium fluoride (III), indium iodide (III), thallium bromide ( III), thallium fluoride (III), silicon bromide (IV), silicon chloride (IV), silicon fluoride (IV), silicon iodide (IV), germanium bromide (IV), germanium chloride (IV), Germanium (IV) iodide, tin (IV) bromide, tin (IV) chloride, tin (IV) fluoride, tin (IV) iodide, lead (IV) fluoride, antimony bromide (III), antimony chloride (III), antimony chloride (V), antifluoride Mon (III), antimony fluoride (V), antimony iodide (III), bismuth (III) bromide, bismuth chloride (III), bismuth fluoride (III), bismuth iodide (III), titanium chloride (IV ), Titanium bromide (IV), BF 3 .OEt 2 , tungsten chloride (VI), vanadium chloride (V), iron chloride (III), zinc bromide (II), etc .; Et 2 AlCl, EtAlCl And organometallic halides such as 2 . Said catalyst is not specifically limited, It can use individually or in combination of 2 or more types. Among the above catalysts, boron (III) bromide, boron chloride (III), tin (IV) chloride, tin (IV) bromide, tin (IV) chloride, tin (IV) fluoride, tin iodide (IV) ) And antimony chloride (V) are preferable in terms of control of the branched structure and polymerization activity. More preferred are boron (III) chloride and tin (IV) chloride, and particularly preferred is tin (IV) chloride.

一般式(1)で表される開始剤としては、(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン、1,4−ビス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン、1,3−ビス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン、1,3−ビス(1−クロル−1−メチルエチル)−5−(tert−ブチル)ベンゼン、1−クロロエチルベンゼン、1−ブロモエチルベンゼン等の化合物が挙げられる。好ましいのは、ビス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン、1−クロロエチルベンゼン及び1−ブロモエチルベンゼンである。   As the initiator represented by the general formula (1), (1-chloro-1-methylethyl) benzene, 1,4-bis (1-chloro-1-methylethyl) benzene, 1,3-bis (1 -Chloro-1-methylethyl) benzene, 1,3,5-tris (1-chloro-1-methylethyl) benzene, 1,3-bis (1-chloro-1-methylethyl) -5- (tert- Butyl) benzene, 1-chloroethylbenzene, 1-bromoethylbenzene and the like. Preference is given to bis (1-chloro-1-methylethyl) benzene, 1-chloroethylbenzene and 1-bromoethylbenzene.

可溶性芳香族共重合体(A)を製造するための重合は20〜100℃の温度範囲で行う。20℃未満で重合反応を行うと、生成した共重合体の耐熱性が低くなるので好ましくなく、また100℃を超えると、反応速度が大きすぎるため、反応の制御が難しく、架橋による不溶性のゲルの生成がおこりやすくなるので好ましくない。重合反応停止後、共重合体を回収する方法は特に限定されず、例えば、スチームストリッピング法、貧溶媒での析出などの通常用いられる方法を用いればよい。   The polymerization for producing the soluble aromatic copolymer (A) is carried out in a temperature range of 20 to 100 ° C. If the polymerization reaction is carried out at a temperature lower than 20 ° C., the heat resistance of the produced copolymer is lowered, which is not preferable. If the temperature exceeds 100 ° C., the reaction rate is too high, so that the reaction is difficult to control and an insoluble gel due to crosslinking. It is not preferable because the generation of is easy to occur. The method for recovering the copolymer after the termination of the polymerization reaction is not particularly limited. For example, a commonly used method such as a steam stripping method or precipitation with a poor solvent may be used.

可溶性芳香族重合体(A)は、下記式(a2)

Figure 0004745333
(式中、R4は、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基を示す。)で表されるモノビニル芳香族化合物由来の構造単位を有することが好ましく、式(a1)で表される構造単位と式(a2)で表される構造単位の存在モル比(a1)/[(a1)+(a2)]が0.1以上である。好ましくはが0.3以上であり、特に好ましくは0.5以上である。0.1未満であると記録したホログラムが時間とともに消失する。The soluble aromatic polymer (A) is represented by the following formula (a2)
Figure 0004745333
(Wherein R 4 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms) and preferably has a structural unit derived from a monovinyl aromatic compound represented by formula (a1). The existence molar ratio (a1) / [(a1) + (a2)] of the unit and the structural unit represented by the formula (a2) is 0.1 or more. Preferably it is 0.3 or more, and particularly preferably 0.5 or more. If it is less than 0.1, the recorded hologram disappears with time.

更に、可溶性芳香族重合体(A)は、その主鎖骨格中に下記一般式(2)

Figure 0004745333
(但し、Yは飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基又はベンゼン環に縮合した芳香族環若しくは置換芳香族環を示し、nは0〜4の整数である。)で表されるインダン構造単位を0〜20モル%有することが好ましい。インダン構造は上記の製造方法により共重合体(A)を製造する際、特定の溶媒、触媒、温度等の製造条件下で製造を行うことにより、成長ポリマー鎖末端の活性点がジビニル芳香族化合物及びモノビニル芳香族化合物由来の構造単位の芳香族環を攻撃することにより生成するものである。インダン構造は全ての単量体の構造単位に対して0.01モル%以上存在することが好ましく。より好ましくは0.1モル%以上であり、更に好ましくは1モル%以上である。特に好ましくは3モル%以上である。最も好ましくは5モル%以上である。本発明の多官能ビニル芳香族共重合体の主鎖骨格中に上記インダン構造が存在しないと、耐熱性と溶剤への可溶性が不足するので好ましくない。Furthermore, the soluble aromatic polymer (A) has the following general formula (2) in its main chain skeleton.
Figure 0004745333
(Y represents a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group or an aromatic ring or substituted aromatic ring condensed with a benzene ring, and n is an integer of 0 to 4). It is preferable to have 0-20 mol% of indane structural units represented. The indane structure is produced under the production conditions such as a specific solvent, catalyst, and temperature when the copolymer (A) is produced by the above production method, so that the active point of the growing polymer chain end is divinyl aromatic compound. And an aromatic ring of a structural unit derived from a monovinyl aromatic compound. The indane structure is preferably present in an amount of 0.01 mol% or more based on the structural units of all monomers. More preferably, it is 0.1 mol% or more, More preferably, it is 1 mol% or more. Especially preferably, it is 3 mol% or more. Most preferably, it is 5 mol% or more. If the indane structure is not present in the main chain skeleton of the polyfunctional vinyl aromatic copolymer of the present invention, heat resistance and solubility in a solvent are insufficient, which is not preferable.

可溶性芳香族共重合体(A)の数平均分子量(ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて得られる標準ポリスチレン換算による。以下、Mnという)は400〜30000が好ましい。より好ましくは400〜10000、更に好ましくは500〜5000である。Mnが400未満であると共重合体(A)の粘度が低すぎるため、加工性がよくないので好ましくない。また、Mnが30000以上であると、ホログラム記録時の速やかな物質移動が阻害されるので好ましくない。
また、可溶性芳香族共重合体(A)分子量分布(Mw/Mn)の値は10以下であることがよい。Mw/Mnが10を越えると、可溶性多官能ビニル芳香族共重合体の加工特性の悪化、ゲルの発生といった問題点を生ずるので好ましくない。
The number average molecular weight (in terms of standard polystyrene obtained using gel permeation chromatography, hereinafter referred to as Mn) of the soluble aromatic copolymer (A) is preferably 400 to 30000. More preferably, it is 400-10000, More preferably, it is 500-5000. If the Mn is less than 400, the viscosity of the copolymer (A) is too low, and the workability is not good. Further, if Mn is 30000 or more, it is not preferable because rapid mass transfer during hologram recording is inhibited.
The value of the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the soluble aromatic copolymer (A) is preferably 10 or less. If Mw / Mn exceeds 10, problems such as deterioration in processing characteristics of the soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer and generation of gel are not preferable.

可溶性芳香族共重合体(A)は、不飽和結合を有する式(a1)で表される構造単位を持つため重合性を有する。そして、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジクロロエタン又はクロロホルムに可溶であるため、組成物として特定部分を重合させたとき濃度勾配を解消するように移動することが可能である。   The soluble aromatic copolymer (A) has polymerizability because it has a structural unit represented by the formula (a1) having an unsaturated bond. And since it is soluble in toluene, xylene, tetrahydrofuran, dichloroethane, or chloroform, when a specific part is polymerized as a composition, it can move so as to eliminate the concentration gradient.

次に、光ラジカル重合性化合物(B)について説明する。
本発明に用いる光ラジカル重合性化合物(B)は、可溶性芳香族共重合体(A)及び後述する高分子結合剤(D)又は可塑剤(E)と相溶性がよいものでラジカル重合開始剤から発生する活性ラジカル種により重合するものがよい。有利には、分子内に(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等の重合可能な官能基を少なくとも1個有するモノマーが好適に使用することができる。光ラジカル重合性化合物(B)は、重合性や屈折率の異なる2種以上の光ラジカル重合性化合物を使用してもよい。
Next, the photoradical polymerizable compound (B) will be described.
The radical photopolymerizable compound (B) used in the present invention is a radical polymerization initiator that is compatible with the soluble aromatic copolymer (A) and the polymer binder (D) or plasticizer (E) described later. Those which are polymerized by the active radical species generated from the catalyst are preferred. Advantageously, a monomer having at least one polymerizable functional group such as (meth) acryloyl group, vinyl group, allyl group or the like in the molecule can be preferably used. As the radical photopolymerizable compound (B), two or more radical photopolymerizable compounds having different polymerizability and refractive index may be used.

光が照射されたとき、先に(干渉光の明部において)重合する成分は、主に光ラジカル重合性化合物(B)と可溶性芳香族共重合体(A)である。この時生成した硬化物は、可溶性芳香族共重合体(A)の重合物と、光ラジカル重合性化合物(B)と可溶性芳香族共重合体(A)との共重合物が主成分となっていると推定される。ただ、可溶性芳香族共重合体(A)が存在しない系、あるいは、反応性ビニル基を持たない芳香族オリゴマーを可溶性芳香族共重合体(A)の替わりに用いた系では、一瞬記録はできるが、その後しばらく放置すると次第に記録が消去してしまうことから、可溶性芳香族共重合体(A)は光ラジカル重合性化合物(B)と反応し、記録を固定化する役割を果たしていると考えられる。したがって、屈折率差は次の成分間で起こると考えられる。1)高分子結合剤(D)、可塑剤(E)又は両者を使用する場合は、明部は可溶性芳香族共重合体(A)と光ラジカル重合性化合物(B)の硬化物が濃縮され(硬化物濃縮相)、暗部は高分子結合剤(D)、可塑剤(E)又は両者が濃縮され(非硬化物濃縮相)、屈折率差が生じる。2)光ラジカル重合性化合物(B)を2種以上使用し、明部で反応するものに比べて反応性が劣る光ラジカル重合性化合物(B 2)を使用する場合は、暗部は光ラジカル重合性化合物(B2)の重合体と、高分子結合剤(D)、可塑剤(E)又は両者が濃縮され(暗硬化物及び非硬化物濃縮相)、屈折率差が生じる。それゆえ、1)の場合は、硬化物濃縮相と非硬化物濃縮相とは屈折率が一定値以上異なる必要がある。2)の場合は、硬化物濃縮相と暗硬化物及び非硬化物濃縮相とは屈折率が一定値以上異なる必要がある。屈折率の調整は、光ラジカル重合性化合物(B)、高分子結合剤(D)、可塑剤(E)の種類や量を選択することによりなされる。   When light is irradiated, the components that polymerize first (in the bright part of the interference light) are mainly the radical photopolymerizable compound (B) and the soluble aromatic copolymer (A). The cured product produced at this time is mainly composed of a polymer of the soluble aromatic copolymer (A) and a copolymer of the photoradical polymerizable compound (B) and the soluble aromatic copolymer (A). It is estimated that However, recording can be performed for a moment in a system in which no soluble aromatic copolymer (A) is present or a system in which an aromatic oligomer having no reactive vinyl group is used in place of the soluble aromatic copolymer (A). However, since the recording gradually disappears after standing for a while after that, the soluble aromatic copolymer (A) reacts with the radical photopolymerizable compound (B) to play a role in fixing the recording. . Therefore, the refractive index difference is considered to occur between the following components. 1) When polymer binder (D), plasticizer (E) or both are used, the cured product of soluble aromatic copolymer (A) and photoradically polymerizable compound (B) is concentrated in the bright part. In the dark portion (cured product concentrated phase), the polymer binder (D), the plasticizer (E) or both are concentrated (non-cured product concentrated phase) in the dark part, and a difference in refractive index occurs. 2) When using two or more types of photoradically polymerizable compounds (B) and using photoradically polymerizable compounds (B2) that are less reactive than those that react in bright parts, the dark parts are photoradical polymerized. The polymer of the functional compound (B2) and the polymer binder (D), the plasticizer (E) or both are concentrated (dark cured product and non-cured product concentrated phase), and a difference in refractive index occurs. Therefore, in the case of 1), the refractive index of the cured product concentrated phase and the non-cured product concentrated phase must be different from each other by a certain value or more. In the case of 2), the refractive index of the cured product concentrated phase needs to be different from the dark cured product and the non-cured product concentrated phase by a certain value or more. The refractive index is adjusted by selecting the type and amount of the radical photopolymerizable compound (B), the polymer binder (D), and the plasticizer (E).

光ラジカル重合性化合物(B)の例として、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレートフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリブロモベンジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン等の一官能(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロキシプロピルトリス(メトキシ)シラン等のケイ素含有(メタ)アクリレート類;ビスフェノールF、ビスフェノールA、水素化ビスフェノールAなどのビスフェノール化合物アルキレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート類;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能(メタ)アクリレート;エチレングリコールジグリシジルエーテル−エポキシ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテル−エポキシジ(メタ)アクリレート、フェノールグリシジルエーテル−エポキシ(メタ)アクリレート、レゾルシンジグリシジルエーテル−エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテル−エポキシジ(メタ)アクリレート、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィドジグリシジルエーテル−エポキシ(メタ)アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ樹脂−(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂−(メタ)アクリレート、ビスフェノール(例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールFなど)型エポキシ樹脂−(メタ)アクリレート、ビフェノール(例えば、3,3',5,5'-テトラメチルビフェノールなど)型エポキシ樹脂−(メタ)アクリレート、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート−(メタ)アクリレートなど、各種公知のエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート類;N、N−ジメチルアクリルアミド、N、N−ジエチルアクリルアミド等のアクリルアミド類;ビニルベンゼン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ビニルビフェニル、アセナフチレン、スチレン、p -クロロスチレン、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等の一官能のビニル化合物類;ジアリリデンペンタエリストール、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、エチレングリコールジアリルカーボネート、トリメリット酸トリアリルエステル、トリアリル(イソ)シアヌレート等のアリル基含有化合物類;あるいは、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリウレタン(メタ)アクリレート類、チオウレタンアクリレート類、ポリチオウレタンアクリレート類、エステルアクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類、ポリエーテル(メタ)アクリレート類、含硫黄(メタ)アクリレート類、含硫黄多官能(メタ)アクリレート類、などの公知の各種重合性モノマーあるいはこれらのオリゴマー、その他、各種光重合性オリゴマーなどが挙げられる。上記のうち、光硬化性が比較的良好な(メタ)アクリレート系モノマーが好ましい。特に、少なくとも二官能以上の(メタ)アクリレートを含む(メタ)アクリレートの組合せにおいてホログラム記録性が良好となる。   Examples of the photo-radical polymerizable compound (B) include methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate phenoxyethyl (meth) Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tribromobenzyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine; (meth) acryloxypropyl Silicon-containing (meth) acrylates such as tris (methoxy) silane; di (meth) acrylates of bisphenol compound alkylene oxide adducts such as bisphenol F, bisphenol A, and hydrogenated bisphenol A Chryrates: polyfunctional (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate; ethylene glycol di Glycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, propylene glycol diglycidyl ether-epoxy di (meth) acrylate, phenol glycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, resorcin diglycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether-epoxy di ( (Meth) acrylate, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide Glycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, phenol novolac type epoxy resin- (meth) acrylate, cresol novolac type epoxy resin- (meth) acrylate, bisphenol (for example, bisphenol A, bisphenol F, etc.) type epoxy resin- (meth) acrylate , Biphenol (for example, 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol, etc.) type epoxy resin- (meth) acrylate, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate- (meth) acrylate, etc. Epoxy (meth) acrylates that are a reaction product of an epoxy compound and (meth) acrylic acid; acrylamides such as N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide; vinylbenzene, divinylbenzene, vinylnaphtha , Vinyl biphenyl, acenaphthylene, styrene, p-chlorostyrene, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam and other monofunctional vinyl compounds; diarylidene pentaerythritol, diallyl phthalate, diallyl isophthalate , Allyl group-containing compounds such as ethylene glycol diallyl carbonate, trimellitic acid triallyl ester, triallyl (iso) cyanurate; or urethane (meth) acrylates, polyurethane (meth) acrylates, thiourethane acrylates, polythiourethanes Acrylates, ester acrylates, polyester (meth) acrylates, polyether (meth) acrylates, sulfur-containing (meth) acrylates, sulfur-containing polyfunctional (meth) acrylates , Various known polymerizable monomers or oligomers thereof, such as, other various photopolymerizable oligomers and the like. Of the above, (meth) acrylate monomers having relatively good photocurability are preferred. In particular, the hologram recording property is good in a combination of (meth) acrylates containing at least bifunctional (meth) acrylates.

光ラジカル重合性化合物(B)は、組成物に配合されて光が照射されることにより重合硬化するが、一部は可溶性芳香族共重合体(A)と共重合して硬化する。   The photoradically polymerizable compound (B) is blended in the composition and polymerized and cured when irradiated with light, but a part thereof is copolymerized and cured with the soluble aromatic copolymer (A).

次に、光重合開始剤系(C)について説明する。
光重合開始剤系(C)としては、He−Neレーザ(633nm)、Arレーザ(515、488nm)、YAGレーザ(532nm)、He−Cdレーザ(442nm)、あるいは青色DPSSレーザ(405nm)等の可視光レーザ光を吸収してラジカルを発生し、その活性ラジカル種が本発明の必須成分である可溶性芳香族共重合体(A)並びに光ラジカル重合性化合物(B)を重合させる開始剤系であればよい。また、各レーザ光波長における感度を更に高める目的で、色素増感剤を添加することができる。
Next, the photopolymerization initiator system (C) will be described.
Examples of the photopolymerization initiator system (C) include He—Ne laser (633 nm), Ar laser (515, 488 nm), YAG laser (532 nm), He—Cd laser (442 nm), and blue DPSS laser (405 nm). An initiator system that absorbs visible laser light to generate radicals, and the active radical species polymerizes the soluble aromatic copolymer (A) and the photoradically polymerizable compound (B), which are essential components of the present invention. I just need it. In addition, a dye sensitizer can be added for the purpose of further increasing sensitivity at each laser light wavelength.

光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンゾフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−ヒドロキシエトキシ)−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム、4,4−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、メチルベンゾイソフォーメート、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、カンファーキノン、ベンジル、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えばIrgacure184、369、500、651、819、907、784、2959、Darocurl116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, benzophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1- ON, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2 -Diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- (4-hydroxyethoxy) -phenyl-2-hydroxy -2-Methyl-1-propan-1-one 2-Methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, bis ( 2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phos Fin oxide, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl) titanium, 4,4-bisdimethylaminobenzophenone , Methyl benzoisoformate, benzyldimethyl ketal, benzoylbenzoic acid, 4-dimethyl Examples include ethyl aminobenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, camphorquinone, benzyl, 4,4'-diethylaminobenzophenone and the like. Examples of commercially available products of the photo radical polymerization initiator include Irgacure 184, 369, 500, 651, 819, 907, 784, 2959, Darocur 116, 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.).

また、上記光重合開始剤と併用する形で熱重合開始剤を用いてもよい。併用する熱重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、べンゾイルパーオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド等を挙げることができる。   Moreover, you may use a thermal-polymerization initiator in the form used together with the said photoinitiator. Examples of the thermal polymerization initiator used in combination include 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobisisovaleronitrile, 2 , 2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, 2,4- Examples thereof include dichlorobenzoyl peroxide.

これら開始剤の添加量は、開始剤の種類、配合する化合物の種類及び組成比により異なるので一概には決定できないが、感光樹脂組成物全量に対して0.05〜30重量%の範囲が好ましい。特に好ましくは0.1〜8重量%の範囲である。0.05重量%未満であると硬化性が劣り、未反応物が残り、記録安定性不良となる。また、30重量%を越えると重合度が低くなり、硬化物が柔らかくなり過ぎ、場合によっては透明性が低下するので、好ましくない。0.1〜8重量%の場合、硬化性が特に良好で、ホログラム特性が良好な感光樹脂組成物を与えることができる。   The amount of these initiators to be added varies depending on the type of initiator, the type of compound to be blended, and the composition ratio, and thus cannot be determined unconditionally. . Especially preferably, it is the range of 0.1-8 weight%. If it is less than 0.05% by weight, curability is inferior, unreacted substances remain, and recording stability becomes poor. On the other hand, if it exceeds 30% by weight, the degree of polymerization becomes low, the cured product becomes too soft, and in some cases, the transparency is lowered. When the content is 0.1 to 8% by weight, a photosensitive resin composition having particularly good curability and good hologram characteristics can be provided.

色素増感剤を使用する場合、色素増感剤としては、可視領域の光に吸収を示すものであればよく、(チオ)キサンテン系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、スクワリリウム系色素、チオピリリウム塩系色素、キノリン系色素、(ベース)スチリル系色素、(ケト)クマリン系色素、ローダシアニン系色素、ポルフィリン系色素、オキサジン系色素等の公知の化合物を挙げることができる。これらは単独で用いても2以上の組み合わせて用いてもよい。   When using a dye sensitizer, any dye sensitizer that absorbs light in the visible region may be used. (Thio) xanthene dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, squarylium dyes, thiopyrylium Well-known compounds such as salt dyes, quinoline dyes, (base) styryl dyes, (keto) coumarin dyes, rhodocyanine dyes, porphyrin dyes, and oxazine dyes can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明において、例えば厚膜にも対応できる成膜性や膜強度の向上、或いはホログラム記録後の耐環境性を高める等の目的で高分子結合剤(D)を用いることができる。この目的で使用される高分子結合剤(D)として好ましくは、透明性が高いこと、可溶性芳香族共重合体(A)との相溶性が高いものがよい。例えば、ポリスチレン及びその誘導体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体(MS樹脂)、スチレン-アクリロニトリル共重合体(AS、SAN樹脂)、ポリ(4-メチルペンテン-1)(TPX樹脂)、ポリシクロオレフィン(COP樹脂)、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート(EGAC樹脂)、ポリチオウレタン(PTU樹脂)、ポリメチルビニルエーテル(PMVE樹脂)、ポリサルフォン樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アセチルセルロース等が挙げられる。高分子結合剤(D)は、その側鎖又は主鎖にカチオン重合性基などの反応性基を有していても良い。これらは1種類以上を配合することができる。   In the present invention, for example, the polymer binder (D) can be used for the purpose of improving the film formability and film strength which can cope with a thick film, or improving the environmental resistance after hologram recording. The polymer binder (D) used for this purpose is preferably one having high transparency and high compatibility with the soluble aromatic copolymer (A). For example, polystyrene and derivatives thereof, methyl methacrylate-styrene copolymer (MS resin), styrene-acrylonitrile copolymer (AS, SAN resin), poly (4-methylpentene-1) (TPX resin), polycycloolefin ( COP resin), polydiethylene glycol bisallyl carbonate (EGAC resin), polythiourethane (PTU resin), polymethyl vinyl ether (PMVE resin), polysulfone resin, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acetyl cellulose and the like. The polymer binder (D) may have a reactive group such as a cationic polymerizable group in its side chain or main chain. One or more of these can be blended.

本発明において、可溶性芳香族共重合体(A)、光ラジカル重合性化合物(B)の物質移動、あるいは感光性樹脂組成物の相溶性を向上させる化合物として、可塑剤(E)を用いることができる。可塑剤(E)としては、 芳香族共重合体(A)及び光ラジカル重合性化合物(B)と相溶性の高いもの、更に、記録時の物質移動を容易にする液状のものが好適に選ばれる。例えば、ジメチルセバケート、ジエチルセバケート、ジブチルセバケート、ビス(2−エチルヘキシル)セバケート等のセバシン酸エステル類;ジメチルアジペート、ジエチルアジペート、ジブチルアジペート、ビス(2−エチルヘキシル)アジペート等のアジピン酸エステル類;ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ビス(2−エチルヘキシル)フタレート、ジイソデシルフタレート等のフタル酸エステル類;トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、(2−エチルヘキシル)ホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等の正リン酸エステル類;等の公知の可塑剤(E)を用いることができる。これらは、1種類以上で使用することができる。   In the present invention, the plasticizer (E) may be used as a compound that improves the mass transfer of the soluble aromatic copolymer (A) and the radically polymerizable compound (B) or the compatibility of the photosensitive resin composition. it can. As the plasticizer (E), those that are highly compatible with the aromatic copolymer (A) and the photo-radical polymerizable compound (B), and liquid that facilitates mass transfer during recording are preferably selected. It is. For example, sebacic acid esters such as dimethyl sebacate, diethyl sebacate, dibutyl sebacate, bis (2-ethylhexyl) sebacate; adipic acid esters such as dimethyl adipate, diethyl adipate, dibutyl adipate, bis (2-ethylhexyl) adipate Phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, bis (2-ethylhexyl) phthalate, diisodecyl phthalate; trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, (2-ethylhexyl) phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl Known plasticizers (E) such as orthophosphates such as phosphate and tricresyl phosphate can be used. These can be used in one or more types.

更に、必要に応じて、熱重合禁止剤、連鎖移動剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、表面調整剤、可塑剤、消泡剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、紫外線吸収剤、増粘剤その他の公知の添加剤(F)を加えることもできる。   Furthermore, if necessary, thermal polymerization inhibitors, chain transfer agents, antioxidants, silane coupling agents, coating surface improvers, surface conditioners, plasticizers, antifoaming agents, surfactants, colorants, storage stability Agents, UV absorbers, thickeners and other known additives (F) can also be added.

本発明における樹脂組成物が固体である場合や、高粘度で塗工が難しい場合には、樹脂組成物を溶解もしくは分散するために溶剤(G)を使用することができる。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;トルエン、キシレン等の石油系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;エタノール、メタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素を挙げることができる。溶剤は、樹脂固形成分100重量部当たり200重量部以下の配合が好ましく、100重量部以下が更に好ましい。また、後の乾燥工程の効率を上げるために、その沸点は100℃以下のものが好ましい。なお、溶剤(G)は樹脂組成物を溶解もしくは分散するための成分であり、本発明における樹脂組成物の構成成分ではなく、各成分の含有量の計算においては除外される。   When the resin composition in the present invention is solid, or when it is difficult to apply due to high viscosity, a solvent (G) can be used to dissolve or disperse the resin composition. For example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; petroleum solvents such as toluene and xylene; cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; ethanol, methanol And alcohols such as isopropanol and butanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform. The solvent is preferably blended in an amount of 200 parts by weight or less per 100 parts by weight of the resin solid component, and more preferably 100 parts by weight or less. In order to increase the efficiency of the subsequent drying step, the boiling point is preferably 100 ° C. or lower. The solvent (G) is a component for dissolving or dispersing the resin composition, and is excluded from the calculation of the content of each component, not a constituent component of the resin composition in the present invention.

なお、本発明の組成物で必須成分として使用する成分は(A)〜(C)と、(D)又は(E)であるが、(D)及び(E)の両者を使用することが好ましい。また、上記成分及び他の成分(F)等、及び溶剤(G)の説明において、これらは例示したものに限定されるものではない。   The components used as essential components in the composition of the present invention are (A) to (C) and (D) or (E), but it is preferable to use both (D) and (E). . Moreover, in description of the said component, another component (F), etc., and a solvent (G), these are not limited to what was illustrated.

<ホログラム記録材料の組成>
本発明の体積位相型ホログラム記録用感光性樹脂組成物は、組成物全重量(溶剤を除く)に対し、各成分を次の割合で配合することが好ましい。
可溶性芳香族共重合体(A)を5〜60重量%、好ましくは10〜40重量%
光ラジカル重合性化合物(B)を5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%
光重合開始剤(C)を0.05〜30重量%、好ましくは1〜10重量%(色素増感剤を配合する場合は色素増感剤を0.01〜10重量%であり、光重合開始剤との合計量が30重量%を超えない)
高分子結合剤(D)を0〜50重量%、好ましくは10〜40重量%
可塑剤(E)を0〜40重量%、好ましくは10〜35重量%
高分子結合剤(D)と可塑剤(E)の合計:20〜80重量%、好ましくは30〜70重量%
<Composition of hologram recording material>
In the photosensitive resin composition for volume phase hologram recording of the present invention, each component is preferably blended in the following proportions with respect to the total weight of the composition (excluding the solvent).
5 to 60% by weight of soluble aromatic copolymer (A), preferably 10 to 40% by weight
5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight of the radically polymerizable compound (B)
The photopolymerization initiator (C) is 0.05 to 30% by weight, preferably 1 to 10% by weight (when a dye sensitizer is added, the dye sensitizer is 0.01 to 10% by weight, The total amount with initiator does not exceed 30% by weight)
0-50% by weight of polymer binder (D), preferably 10-40% by weight
0 to 40% by weight of plasticizer (E), preferably 10 to 35% by weight
Total of polymer binder (D) and plasticizer (E): 20 to 80% by weight, preferably 30 to 70% by weight

<ホログラム記録用媒体の作製>
本発明の感光性樹脂組成物からホログラム記録用媒体の作製は、液状とした感光性樹脂組成物をスピンコーター、ロールコーター、バーコーターなどの公知の塗工手段を用いて、ガラス板やポリカーボネート板、ポリメチルメタクリレート板、ポリエステルフィルムなどの基材上に乾燥膜厚1〜1000μmとなるように塗布し、必要に応じて乾燥工程を経てホログラム記録用媒体を作製する方法が適する。この際、感光性樹脂組物層上には酸素遮断膜として保護層を設けても良い。保護層には、例えば上記の基板と同等なもの、あるいはポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール又はポリエチレンテレフタレートなどのフィルムやガラスなどを用いることができる。なお、感光液を塗布する際には、必要に応じて適当な溶剤で希釈しても良いが、その場合には基板上に塗布した後に、乾燥を要する。
<Production of hologram recording medium>
Production of a hologram recording medium from the photosensitive resin composition of the present invention is carried out by using a known photosensitive coating composition such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, etc. A method of applying a hologram recording medium on a substrate such as a polymethylmethacrylate plate or a polyester film so as to have a dry film thickness of 1 to 1000 μm and producing a hologram recording medium through a drying step as necessary is suitable. At this time, a protective layer may be provided as an oxygen blocking film on the photosensitive resin assembly layer. As the protective layer, for example, a film equivalent to the above substrate, a film such as polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, or polyethylene terephthalate, glass, or the like can be used. When applying the photosensitive solution, it may be diluted with an appropriate solvent as necessary. In that case, drying is required after coating on the substrate.

<ホログラム記録用光源・記録方法>
前述のように作製された記録層は、従来から知られている方法により干渉露光を行って体積位相型ホログラムを形成することができる。例えば、レーザ光やコヒーレンス性(可干渉性)の優れた光(例えば、波長300〜1200nmの光)による通常のホログラフィー露光装置による二光束干渉縞露光によりその内部に干渉縞が記録される。この段階で、記録された干渉縞による回折光が得られ、ホログラムとすることができる。
本発明のホログラム記録材料に適した光源としては、He−Neレーザ(633nm)、Arレーザ(515、488nm)、YAGレーザ(532nm)、He−Cdレーザ(442nm)、あるいは青色DPSSレーザ(405nm)等が利用できる。また、上記レーザ等によるホログラム記録後に、キセノンランプ、水銀ランプ、メタルハライドランプ等による紫外線(UV)全面照射、あるいは60℃程度の熱を光記録用組成物膜に加えることにより、未反応のまま残っている一部ラジカル重合性化合物の重合、物質移動に伴う相分離が促進され、よりホログラム特性に優れたホログラムが得られる。
<Light source and recording method for hologram recording>
The recording layer produced as described above can be subjected to interference exposure by a conventionally known method to form a volume phase hologram. For example, interference fringes are recorded by two-beam interference fringe exposure by a normal holographic exposure apparatus using laser light or light having excellent coherence (coherence) (for example, light having a wavelength of 300 to 1200 nm). At this stage, diffracted light by the recorded interference fringes is obtained and can be made into a hologram.
As a light source suitable for the hologram recording material of the present invention, a He—Ne laser (633 nm), an Ar laser (515, 488 nm), a YAG laser (532 nm), a He—Cd laser (442 nm), or a blue DPSS laser (405 nm). Etc. are available. Further, after hologram recording by the above laser or the like, the entire surface is left unreacted by applying ultraviolet (UV) irradiation with a xenon lamp, mercury lamp, metal halide lamp or the like, or applying heat of about 60 ° C. to the optical recording composition film. Polymerization of the partially radically polymerizable compound and phase separation accompanying mass transfer are promoted, and a hologram having more excellent hologram characteristics can be obtained.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例中で用いる記号は次の通りである。
DVB:ジビニルベンゼン
DVB570:DVBとエチルビニルベンゼンの成分比が57:43である混合モノマー、(新日鐵化学社製)
S2EG:ビス (2−メタクリロイルチオエチル)スルフィド(住友精化社製)、
TCP:トリクレジルホスフェート、(新日本理化社製)
MS−200:メチルメタクリレート−スチレン(20:80)共重合ポリマー、
MS−600:メチルメタクリレート−スチレン(60:40)共重合ポリマー。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples. The symbols used in the examples are as follows.
DVB: Divinylbenzene
DVB570: Mixed monomer with a component ratio of DVB and ethylvinylbenzene of 57:43 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
S2EG: Bis (2-methacryloylthioethyl) sulfide (manufactured by Sumitomo Seika),
TCP: tricresyl phosphate (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.)
MS-200: methyl methacrylate-styrene (20:80) copolymer,
MS-600: methyl methacrylate-styrene (60:40) copolymer.

なお、本実施例におけるホログラムならびに感光性樹脂組成物の評価は、以下の方法で行った。
<ホログラムの評価>
*回折効率の評価
透過型ホログラムの回折効率は、直線偏光型He-Neレーザ(632.8nm)による回折光を光パワーメーターで読み取った値を用いて、次式により算出した。
回折効率(%)=(回折光強度/入射光強度)×100
*耐環境性の評価
記録1ヶ月後(60℃で保管)の回折効率、透明性の変化(○:変化なし、△:わずかに変化、×:変化あり)
*感光性樹脂組成物の体積収縮率
感光性樹脂組成物の硬化収縮率は、硬化前後の樹脂組成物の密度を測定することにより、次式で算出できる。なお、光源にはスポットUV照射装置を使用し、50μmの厚みのサンプルに対し、6mW/cm2のUVを空気下で照射した。
硬化収縮率(%)=(1−液密度/フィルム密度)×100
The evaluation of the hologram and the photosensitive resin composition in this example was performed by the following method.
<Evaluation of hologram>
* Evaluation of diffraction efficiency The diffraction efficiency of a transmission hologram was calculated by the following equation using the value obtained by reading the diffracted light from a linearly polarized He-Ne laser (632.8 nm) with an optical power meter.
Diffraction efficiency (%) = (diffracted light intensity / incident light intensity) × 100
* Evaluation of environment resistance Change in diffraction efficiency and transparency after 1 month of recording (stored at 60 ° C) (○: No change, △: Slight change, ×: Change)
* Volume shrinkage of photosensitive resin composition The cure shrinkage of the photosensitive resin composition can be calculated by the following equation by measuring the density of the resin composition before and after curing. A spot UV irradiation device was used as a light source, and a sample having a thickness of 50 μm was irradiated with 6 mW / cm 2 of UV under air.
Curing shrinkage (%) = (1−liquid density / film density) × 100

合成例1
ジビニルベンゼン1.75モル(258.9ml)、エチルビニルベンゼン1.30モル(186.3ml)、1−クロロエチルベンゼン(289.1mmol)のトルエン溶液(トルエン1806ml、モノマー濃度:1.31mol/ml、誘電率:2.38)2282mlを3000mlのフラスコ内に投入して30℃に加熱した。更に、12.64mmolのSnClのトルエン溶液(濃度:0.584mmol/ml)21.7mlを添加し、4時間反応させた。重合反応を窒素でバブリングを行った少量のメタノールで停止させた後、室温で反応混合液を大量のメタノールに投入し、可溶性芳香族共重合体を析出させた。得られた共重合体をメタノールで洗浄し、濾別、乾燥、秤量して、可溶性芳香族共重合体171.62g(収率:42.9wt%)を得た。重合活性は3.39(gポリマー/mmolSn・hr)であった。得られた共重合体のMwは6930、Mnは1990、Mw/Mnは3.48であった。
Synthesis example 1
Divinylbenzene 1.75 mol (258.9 ml), ethylvinylbenzene 1.30 mol (186.3 ml), 1-chloroethylbenzene (289.1 mmol) in toluene solution (toluene 1806 ml, monomer concentration: 1.31 mol / ml, Dielectric constant: 2.38) 2282 ml was put into a 3000 ml flask and heated to 30 ° C. Further, 21.7 ml of a 12.64 mmol SnCl 4 toluene solution (concentration: 0.584 mmol / ml) was added and reacted for 4 hours. After the polymerization reaction was stopped with a small amount of methanol bubbled with nitrogen, the reaction mixture was poured into a large amount of methanol at room temperature to precipitate a soluble aromatic copolymer. The obtained copolymer was washed with methanol, filtered, dried and weighed to obtain 171.62 g of a soluble aromatic copolymer (yield: 42.9 wt%). The polymerization activity was 3.39 (g polymer / mmol Sn · hr). Mw of the obtained copolymer was 6930, Mn was 1990, and Mw / Mn was 3.48.

合成例2
ジビニルベンゼン1.51モル(223.4ml)、エチルビニルベンゼン0.71モル(123.2ml)、1−クロロエチルベンゼン(364.2mmol)のジクロロエタン溶液(濃度:0.73mmol/ml)5.5ml及びジクロロエタン(誘電率:10.3)3500mlを5000mlのフラスコ内に投入し、70℃で50.11mmolのSnClのジクロロエタン溶液(濃度:0.074mmol/ml)63.3mlを添加し、3時間反応させた。重合反応を窒素でバブリングを行った少量のメタノールで停止させた後、室温で反応混合液を大量のメタノールに投入し、可溶性芳香族重合体を析出させた。得られた共重合体をメタノールで洗浄し、濾別、乾燥、秤量して、可溶性芳香族共重合体178.91g(収率:61.3wt%)を得た。重合活性は8.54(gポリマー/mmolSn・hr)であった。得られた共重合体のMwは49700、Mnは9730、Mw/Mnは5.1であった。
Synthesis example 2
1.51 mol (223.4 ml) of divinylbenzene, 0.71 mol (123.2 ml) of ethylvinylbenzene, 5.5 ml of a dichloroethane solution (concentration: 0.73 mmol / ml) of 1-chloroethylbenzene (364.2 mmol) and 3500 ml of dichloroethane (dielectric constant: 10.3) was put into a 5000 ml flask, and 63.3 ml of 50.11 mmol of SnCl 4 in dichloroethane (concentration: 0.074 mmol / ml) was added at 70 ° C. and reacted for 3 hours. I let you. After the polymerization reaction was stopped with a small amount of methanol bubbled with nitrogen, the reaction mixture was poured into a large amount of methanol at room temperature to precipitate a soluble aromatic polymer. The obtained copolymer was washed with methanol, filtered, dried, and weighed to obtain 178.91 g of a soluble aromatic copolymer (yield: 61.3 wt%). The polymerization activity was 8.54 (g polymer / mmol Sn · hr). Mw of the obtained copolymer was 49700, Mn was 9730, and Mw / Mn was 5.1.

実施例1
下記の通りの成分を配合して、体積位相型ホログラム記録用感光性樹脂組成物溶液を作製した。
ジクロロメタン:50gに合成例1で得た共重合体:10g、TCP:15g、MS−200:20g、S2EG:15g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(Irgacure184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製):0.1g、3−エチル−5−[(3−エチル−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン)エチリデン]−2−チオキソ−4−オキサゾリジノン(NK−1473、(株)林原生物化学研究所製):0.01gを溶解して感光液を得た。
これを50mm×50mm、厚み0.5mmのガラス基板の片面に、乾燥膜厚50μmとなるようにバーコーターを使用して塗布し、50℃に設定した窒素雰囲気のイナートオーブン内で1時間乾燥して体積位相型ホログラム記録用感光板を作製した。これに保護膜として、38μmのPETフィルムをラミネートして、光情報記録媒体とした。
Example 1
The following components were blended to prepare a photosensitive resin composition solution for volume phase hologram recording.
Dichloromethane: 50 g, copolymer obtained in Synthesis Example 1: 10 g, TCP: 15 g, MS-200: 20 g, S2EG: 15 g, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals): 0.1 g, 3-ethyl-5-[(3-ethyl-2 (3H) -benzothiazolylidene) ethylidene] -2-thioxo-4-oxazolidinone (NK-1473, manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratories) ): 0.01 g was dissolved to obtain a photosensitive solution.
This was applied to one side of a 50 mm × 50 mm glass substrate having a thickness of 0.5 mm using a bar coater to a dry film thickness of 50 μm and dried in an inert oven in a nitrogen atmosphere set at 50 ° C. for 1 hour. Thus, a photosensitive plate for volume phase hologram recording was prepared. As a protective film, a 38 μm PET film was laminated to obtain an optical information recording medium.

得られた記録媒体アルゴンイオンレーザの514.5nm光による二光束干渉露光法を用い、空間周波数約1000本/mmの干渉縞とし、これをPET側から入射して体積位相型ホログラムを記録した。透過型ホログラムの露光は、感光板上での1つの光強度を1mW/cmとして、10秒〜100秒間、露光量10〜100mJ/cmで行った。得られた体積位相型ホログラムは、露光量13mJ/cmで回折効率82%であった。また、樹脂組成物の硬化収縮率は0.5%であった。Using the two-beam interference exposure method with 514.5 nm light of the obtained recording medium argon ion laser, interference fringes with a spatial frequency of about 1000 lines / mm were formed and incident from the PET side to record a volume phase hologram. The exposure of the transmission hologram was performed at an exposure amount of 10 to 100 mJ / cm 2 for 10 to 100 seconds with one light intensity on the photosensitive plate being 1 mW / cm 2 . The obtained volume phase hologram had a diffraction efficiency of 82% at an exposure amount of 13 mJ / cm 2 . Moreover, the cure shrinkage rate of the resin composition was 0.5%.

実施例2〜6及び比較例1〜3
配合組成を表1に示すとおりとした他は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物溶液、を作製し、これから光情報記録媒体を得て、ホログラムを記録し、評価を行った。組成及び評価結果を表1にまとめた。表1中、DVBオリゴマー(Mn=2000)は合成例1で得た共重合体を示し、DVBオリゴマー(Mn=10000)は合成例2で得た共重合体を示す。
Examples 2-6 and Comparative Examples 1-3
A photosensitive resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition was as shown in Table 1. From this, an optical information recording medium was obtained, a hologram was recorded, and evaluation was performed. The composition and evaluation results are summarized in Table 1. In Table 1, DVB oligomer (Mn = 2000) represents the copolymer obtained in Synthesis Example 1, and DVB oligomer (Mn = 10000) represents the copolymer obtained in Synthesis Example 2.

Figure 0004745333
Figure 0004745333

産業上の利用の可能性Industrial applicability

本発明によれば、感光性樹脂組成物に可溶性多官能ビニル芳香族共重合体を用いることにより、透明性はもちろんのこと、感度、低硬化収縮率、透明性に優れた体積位相型ホログラム記録材料、体積位相型ホログラム記録媒体、及び、体積位相型ホログラムを提供することができる。   According to the present invention, by using a soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer in the photosensitive resin composition, not only the transparency, but also the volume phase hologram recording excellent in sensitivity, low curing shrinkage, and transparency. A material, a volume phase hologram recording medium, and a volume phase hologram can be provided.

Claims (5)

ジビニル芳香族化合物の構造単位とモノビニル芳香族化合物の構造単位を有し、ジビニル芳香族化合物に由来する下記式(a1)で表される構造単位を10モル%以上含有する可溶性芳香族共重合体(A)、可溶性芳香族共重合体(A)と共重合可能な光ラジカル重合性化合物(B)及び光重合開始剤(C)と、高分子結合剤(D)及び/又は可塑剤(E)を含んでなる感光性樹脂組成物であって、可溶性芳香族共重合体(A)を5〜60重量%含むことを特徴とする体積位相型ホログラム記録用感光性樹脂組成物。
Figure 0004745333
但し、R1は炭素数6〜30の芳香族炭化水素基を示す。
A soluble aromatic copolymer having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound and containing 10 mol% or more of a structural unit represented by the following formula (a1) derived from the divinyl aromatic compound (A), photo-radically polymerizable compound (B) and photopolymerization initiator (C) copolymerizable with soluble aromatic copolymer (A), polymer binder (D) and / or plasticizer (E A photosensitive resin composition for volume phase hologram recording, comprising 5 to 60% by weight of a soluble aromatic copolymer (A).
Figure 0004745333
However, R < 1 > shows a C6-C30 aromatic hydrocarbon group.
可溶性芳香族共重合体(A)の数平均分子量が400〜30000である請求項1記載の体積位相型ホログラム記録用感光性樹脂組成物。  The photosensitive resin composition for volume phase hologram recording according to claim 1, wherein the soluble aromatic copolymer (A) has a number average molecular weight of 400 to 30,000. 請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物からなる記録層が、一つの支持体上に又は二つの支持体間に形成されてなる体積位相型ホログラム記録用光情報記録媒体。  An optical information recording medium for volume phase hologram recording, wherein the recording layer comprising the photosensitive resin composition according to claim 1 or 2 is formed on one support or between two supports. 請求項3記載の光情報記録媒体にコヒーレント性の優れたエネルギー線から形成される干渉縞を記録して得られる体積位相型ホログラム。  A volume phase hologram obtained by recording interference fringes formed from energy beams having excellent coherency on the optical information recording medium according to claim 3. 請求項3記載の記録媒体にコヒーレント性の優れたエネルギー線から形成される干渉縞を露光記録することを特徴とする体積位相型ホログラムの製造方法。  4. A method for producing a volume phase hologram, wherein the recording medium according to claim 3 is subjected to exposure recording of interference fringes formed from energy beams having excellent coherency.
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