JP4766554B2 - Heating furnace control method and control apparatus - Google Patents
Heating furnace control method and control apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP4766554B2 JP4766554B2 JP2005377272A JP2005377272A JP4766554B2 JP 4766554 B2 JP4766554 B2 JP 4766554B2 JP 2005377272 A JP2005377272 A JP 2005377272A JP 2005377272 A JP2005377272 A JP 2005377272A JP 4766554 B2 JP4766554 B2 JP 4766554B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- furnace
- flow rate
- temperature
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Description
本発明は加熱炉の制御方法および制御装置に係り、特に所定の温度を維持して被加熱物を加熱するに好適な加熱炉の制御方法および制御装置に関する。 The present invention relates to a heating furnace control method and control apparatus, and more particularly to a heating furnace control method and control apparatus suitable for heating an object to be heated while maintaining a predetermined temperature.
従来から加熱した気体によって被加熱物を加熱する加熱炉が用いられている。この加熱炉としては、例えば電子基板に搭載された表面実装部品をはんだ付けするリフロー炉などがある。このリフロー炉は、図8に示すように配線基板3の予め形成された複数のランド(図示せず)に、はんだペースト4が塗布された後、図示しないマウンタによって電極を各ランドに位置付けながら載置された電子部品2をリフロー炉1内の所定の温度の雰囲気中で所定時間加熱して、はんだ付けする装置である。
Conventionally, a heating furnace for heating an object to be heated by a heated gas is used. As this heating furnace, for example, there is a reflow furnace for soldering surface-mounted components mounted on an electronic substrate. As shown in FIG. 8, the reflow furnace is mounted with a
このリフロー炉1には、配管9に流れる気体を一定の圧力に調整するレギュレータ(整圧器)8を通してボンベ6に蓄えられた所定の気体7(例えば、空気、窒素ガス等)がリフロー炉1に送り込まれるようになっている。そして、レギュレータ8の後段には、リフロー炉1に送り込まれる気体を加熱する温度調節部10が設けられている。この温度調節部10は、温度設定部11からの温度設定指令を受けて、この温度設定指令とリフロー炉1内の温度を検出する温度センサ12が検出した温度情報とを比較し、ヒータ13によってリフロー炉1に送り込まれる気体の温度を調整してリフロー炉1内を設定された温度に調整する気体加熱部14を構成する。
In this
尚、ボンベ6に代えて図示しないファン等の送気装置や加圧装置等によってリフロー炉1内に空気や窒素ガス等を送り込むように構成されたリフロー炉もあるが説明は省略する。
このようなリフロー炉1は、溶解したはんだペースト4によって電子部品2(表面実装部品)が確実に配線基板3に取り付けられるようにするため、炉内の温度管理が重要である。特に最近は、地球環境保全の観点から鉛を含まない鉛フリーはんだが用いられるようになっている。この鉛フリーはんだは、従来の鉛とスズの合金のはんだに比べて電子部品2を配線基板3にはんだ付けする際の温度条件が厳しい。このためリフロー炉1内の温度管理は、製造品質を高めるうえで極めて重要なポイントとなっている。
In addition, there is a reflow furnace configured to send air, nitrogen gas, or the like into the
In such a
ところで配線基板3には、図示しないコンベアによってリフロー炉1内を移動しながら加熱されて電子部品2がはんだ付けされる。このコンベアの移動速度、リフロー炉1内の温度等の設定は、配線基板3の面積、材質、搭載される電子部品2の点数および種類、電子部品2を配線基板3の片面に実装するのか、または両面に実装するのかの取付け方法等のはんだ付け条件によってリフロー炉1内の温度およびコンベア速度の設定(温度プロファイル)がなされる。
By the way, the
一般にこの温度プロファイルは、上述したはんだ付け条件によって異なったものとなる。そして、はんだ付け条件が異なる配線基板3をリフロー炉1にてはんだ付け処理する場合、その都度、温度プロファイルの設定をする必要がある。
ちなみにリフロー炉1は、炉内の温度を保持するため熱容量を大きくしてあり、異なる配線基板3をリフロー処理するための炉内の温度調整にはおおむね10分〜30分程度が必要である。また、従来のリフロー炉1は、温度プロファイルの設定および調整を行っているとき、炉内に配線基板3を投入することができず、特に少量多品種生産を行う場合、リフロー炉1の温度設定、雰囲気調整が、はんだ付けする配線基板3の種類が異なる毎に必要であり生産効率が著しく低下するという問題があった。
Generally, this temperature profile differs depending on the soldering conditions described above. And when the
Incidentally, the
そこでこの種の問題を解決するべくリフロー装置とその制御方法が提唱されている(例えば、特許文献1を参照)。
ちなみにリフロー炉1の温度プロファイルは、例えば図9に示すようにはんだ付けに先立つ予熱工程(プレヒート)があり、それ故、複数の温度に設定されたリフロー炉が横並びに並べられて長尺のラインとして構成されている。
Incidentally, the temperature profile of the
しかしながら、前述のリフロー装置にあっては、リフロー炉近傍の気圧、温度等の環境条件のほか、リフロー炉内に送り込まれる気体の圧力が変化すると、炉内に与えられる熱風の流量が変化してしまうという問題がある。この種の問題を解決するには、炉内に送り込まれる気体の圧力を一定に維持すればよいと考えられる。しかしながらこの方法は、炉内に送り込まれる熱風の体積流量を一定に維持することはできるものの、リフロー炉近傍の気圧変化および温度変化等の外乱によって、炉内に与えられる熱エネルギーが変化してしまい、最適なはんだ付け条件を逸脱するという懸念がある。このため、従来のリフロー炉は、製造品質の高いはんだ付けを安定して維持することが難しいという問題があった。 However, in the above-described reflow apparatus, in addition to environmental conditions such as atmospheric pressure and temperature in the vicinity of the reflow furnace, when the pressure of the gas sent into the reflow furnace changes, the flow rate of hot air given into the furnace changes. There is a problem of end. In order to solve this kind of problem, it is considered that the pressure of the gas fed into the furnace should be kept constant. However, although this method can keep the volume flow of hot air sent into the furnace constant, the thermal energy applied to the furnace changes due to disturbances such as changes in pressure and temperature near the reflow furnace. There is a concern of deviating from the optimal soldering conditions. For this reason, the conventional reflow furnace has a problem that it is difficult to stably maintain high quality soldering.
また、リフロー炉は、予熱工程を備えているため、その炉長が長くなり、リフロー炉の設置面積が広くなることが否めない。
本発明は、このような問題を解決すべくなされたものであって、その目的とするところは、加熱炉近傍の気圧および温度等の環境条件、炉内に送り込まれる気体の圧力が変化、あるいは配線基板の状態が変化したとしても炉内に送り込まれる気体を被加熱物の加工に最適な温度および流量に調整すると共に、設置面積が少ない加熱炉の制御方法および制御装置を提供することにある。
Moreover, since the reflow furnace is provided with the preheating process, it cannot be denied that the furnace length becomes long and the installation area of the reflow furnace becomes wide.
The present invention has been made to solve such a problem, and the object of the present invention is to change environmental conditions such as atmospheric pressure and temperature in the vicinity of the heating furnace, the pressure of the gas sent into the furnace, or An object of the present invention is to provide a control method and a control device for a heating furnace with a small installation area, while adjusting the gas sent into the furnace to an optimum temperature and flow rate for processing the object to be heated even if the state of the wiring board changes. .
例えは、加熱炉としてのリフロー炉は、そもそも炉内に送り込まれる気体(例えば空気、窒素ガス等)の分子がヒータによって加熱されることによって熱エネルギーをもち、この熱エネルギーがはんだペーストに伝達されることによってはんだペーストが溶解して配線基板に搭載された電子部品がはんだ付けされるのである。つまりリフロー炉は、被加熱物(はんだペースト)に熱を伝達することが主目的であり、温度を一定に保つには炉内に送り込む気体のエネルギーを一定に制御すること、すなわち炉内に送り込まれる気体の分子量を一定に制御することが望ましいのである。 For example, a reflow furnace as a heating furnace has heat energy when molecules of gas (for example, air, nitrogen gas, etc.) sent into the furnace are heated by a heater, and this heat energy is transmitted to the solder paste. As a result, the solder paste is melted and the electronic components mounted on the wiring board are soldered. In other words, the main purpose of the reflow furnace is to transfer heat to the object to be heated (solder paste), and to keep the temperature constant, the energy of the gas sent into the furnace is controlled to constant, that is, it is sent into the furnace. It is desirable to control the molecular weight of the gas to be constant.
本発明の加熱炉の制御方法は、このような知見に基づいて上述した目的を達成すべくなされたものであり、炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉の制御方法であって、
前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整工程と、この流量調整工程で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱工程と、前記流量調整工程と前記気体加熱工程とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整工程とを備えることを特徴としている。
The control method of the heating furnace of the present invention is made to achieve the above-described object based on such knowledge, and is a control method of a heating furnace that heats an object to be heated by a gas sent into the furnace. And
A flow rate adjusting step for adjusting the flow rate of the gas to a preset mass flow rate, a gas heating step for heating the gas adjusted in the flow rate adjusting step to a preset temperature, the flow rate adjusting step, and the gas And a heating energy adjusting step of adjusting the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value in cooperation with the heating step.
好ましくは、前記エネルギー調整工程は、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が増加したとき、前記気体加熱工程に前記気体の温度を低下させる指令を与える一方、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が減少したとき、前記気体加熱工程に前記気体の温度を上昇させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。 Preferably, in the energy adjustment step, when the inflow amount of the gas flowing into the heating furnace increases, the gas heating step gives a command to lower the temperature of the gas while the gas flowing into the heating furnace When the inflow amount of the gas decreases, it is desirable to give a command to raise the temperature of the gas to the gas heating step and adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value.
より好ましくは、前記エネルギー調整工程は、前記加熱炉の温度が上昇したとき、前記流量調整工程に前記気体の流量を減少させる指令を与える一方、前記加熱炉の温度が低下したとき、前記流量調整工程に前記気体の流量を増加させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。
上述の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置は、炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉の制御装置であって、
前記加熱炉に前記気体が送り込まれる配管に介挿されて、この配管に流れる前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整部と、この流量調整部の後段の配管に設けられて、前記流量調整部で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱部と、前記流量調整部と前記気体加熱部とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整部とを備えることを特徴としている。
More preferably, when the temperature of the heating furnace rises, the energy adjustment step gives a command to the flow rate adjustment step to reduce the flow rate of the gas, while when the temperature of the heating furnace falls, the flow rate adjustment It is desirable to adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value by giving a command to increase the flow rate of the gas in the process.
The heating furnace control apparatus to which the above-described heating furnace control method is applied is a heating furnace control apparatus that heats an object to be heated by gas fed into the furnace,
A flow rate adjusting unit that is inserted into a pipe into which the gas is fed into the heating furnace and adjusts the flow rate of the gas flowing through the pipe to a preset mass flow rate, and a pipe subsequent to the flow rate adjusting unit. The gas fed into the furnace by cooperating a gas heating unit that heats the gas adjusted by the flow rate adjusting unit to a preset temperature, the flow rate adjusting unit, and the gas heating unit And a thermal energy adjusting unit that adjusts the thermal energy of the battery to a predetermined value.
上述の加熱炉の制御装置は、加熱炉に送り込まれる気体(例えば、空気、窒素ガス等)の質量流量を流量調整部にて予め定められた値に調整するとともに、気体加熱部が備える例えばヒータ等によってこの気体を予め設定された温度に加熱する。したがって上述のリフロー炉の制御装置は、所定の質量流量Q、すなわち所定の分子量の気体をヒータによって予め設定された温度ΔT(加熱温度−周囲温度)に加熱しているので、気体のもつ熱エネルギー[Q×ΔT]を一定に維持することができ、被加熱物を熱加工するのに最適な熱量を与える。 The control device for the heating furnace described above adjusts the mass flow rate of the gas (for example, air, nitrogen gas, etc.) sent to the heating furnace to a predetermined value by the flow rate adjustment unit, and the gas heating unit includes, for example, a heater The gas is heated to a preset temperature by, for example. Therefore, the above-described reflow furnace control apparatus heats a gas having a predetermined mass flow rate Q, that is, a predetermined molecular weight, to a preset temperature ΔT (heating temperature−ambient temperature) by a heater. [Q × ΔT] can be kept constant, and an optimum amount of heat is provided for heat-processing the object to be heated.
好ましくは前記熱エネルギー調整部は、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が増加したとき、前記気体加熱部が加熱する前記気体の温度を低下させる指令を与える一方、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が減少したとき、前記気体加熱部が加熱する前記気体の温度を上昇させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。 Preferably, the thermal energy adjusting unit gives an instruction to lower the temperature of the gas heated by the gas heating unit when the amount of the gas flowing into the heating furnace increases, and flows into the heating furnace. When the inflow amount of the gas decreases, it is desirable to adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value by giving a command to increase the temperature of the gas heated by the gas heating unit. .
上述の加熱炉の制御装置は、加熱炉の周囲温度の変化、炉内で処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって加熱炉に流れ込む気体の流量が変化したとき、この流量変化分に見合う分の温度調整を前記気体加熱部に指令を与えて、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持する。したがって、上述の加熱炉の制御装置は、炉内で処理される被加熱物に熱処理に最適な熱エネルギーを与える。 When the flow rate of the gas flowing into the heating furnace changes due to a change in the ambient temperature of the heating furnace or a change in the thermal load of the object to be processed in the furnace, The gas heating unit is commanded to adjust the temperature corresponding to the amount of change, and the thermal energy of the gas is kept constant. Therefore, the above-described heating furnace control device gives thermal energy optimal for heat treatment to the object to be heated in the furnace.
より好ましくは、前記熱エネルギー調整部は、前記加熱炉の温度が上昇したとき、前記流量調整部に前記気体の流量を減少させる指令を与える一方、前記加熱炉の温度が低下したとき、前記流量調整部に前記気体の流量を増加させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。
上述の加熱炉の制御装置は、加熱炉の周囲温度の変化や加熱炉内で処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって加熱炉の温度が変化したときでも、この温度変化分に見合う分の気体の分子量を前記流量調整計に指令を与えて、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持する。したがって上述の加熱炉の制御装置は、炉内で処理される被加熱物に熱処理に最適な熱エネルギーを与える。
More preferably, when the temperature of the heating furnace rises, the thermal energy adjustment unit gives an instruction to reduce the flow rate of the gas to the flow rate adjustment unit, while when the temperature of the heating furnace falls, the flow rate It is desirable to give a command to increase the gas flow rate to the adjustment unit to adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value.
Even if the temperature of the heating furnace changes due to a change in the ambient temperature of the heating furnace or a change in the thermal load of an object to be processed in the heating furnace, the above-mentioned control device for the heating furnace does not change this temperature. A command is given to the flow controller for the molecular weight of the gas corresponding to the minute, and the thermal energy of the gas is kept constant. Therefore, the above-described heating furnace control device gives thermal energy optimal for heat treatment to an object to be heated to be processed in the furnace.
また前記加熱炉は、電子部品を実装する配線基板の予め形成されたランドに塗布されたはんだペーストを溶融して上記電子部品を取り付けるリフロー炉として構成される。
上述のリフロー炉の制御装置は、リフロー炉の周囲温度の変化やリフロー炉内ではんだ付けする配線基板の熱負荷が変化した等の理由によってリフロー炉の温度が変化したときでも、この温度変化分に見合う分の気体の分子量を前記流量調整計に指令を与えるとともに、前記気体加熱部が加熱する気体の加熱量を調整して、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持する。したがって上述のリフロー炉の制御装置は、リフロー炉内の配線基板上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与える。
The heating furnace is configured as a reflow furnace in which a solder paste applied to a previously formed land of a wiring board on which an electronic component is mounted is melted and the electronic component is attached.
The above-mentioned reflow furnace control device is capable of adjusting the temperature change even when the temperature of the reflow furnace changes due to a change in the ambient temperature of the reflow furnace or a change in the thermal load of the wiring board to be soldered in the reflow furnace. In addition to giving a command to the flow controller for the molecular weight of the gas corresponding to the above, the heating amount of the gas heated by the gas heating unit is adjusted to maintain the thermal energy of the gas constant. Therefore, the control device for the reflow furnace described above gives thermal energy optimum for soldering to the solder paste applied on the wiring board in the reflow furnace.
本発明の加熱炉の制御方法および制御装置によれば、流量調整部によって加熱炉内に送り込まれる気体(例えば、空気や窒素ガス等)の流量を予め設定された質量流量に調整するとともに、この流量調整部と加熱炉との間に介挿された気体加熱部(例えば、ヒータ)を協働させる熱エネルギー調整部にて、炉内に送り込まれる気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整しているので、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができ、加熱炉内の被加熱物に最適な熱エネルギーを与えることができる。したがって、本発明の加熱炉の制御方法および制御装置を例えば配線基板に載置された電子部品をはんだ付けするリフロー炉に適用すれば、はんだ付けに適した熱エネルギーをはんだペーストに与えることができ、高品質のはんだ付けを行うことができる。 According to the control method and control device for a heating furnace of the present invention, the flow rate of a gas (for example, air or nitrogen gas) sent into the heating furnace by the flow rate adjusting unit is adjusted to a preset mass flow rate, and this The thermal energy adjustment unit that cooperates with a gas heating unit (for example, a heater) inserted between the flow rate adjustment unit and the heating furnace adjusts the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value. Therefore, the thermal energy of the gas can be kept constant, and the optimum thermal energy can be given to the object to be heated in the heating furnace. Therefore, if the heating furnace control method and control device of the present invention are applied to, for example, a reflow furnace for soldering electronic components mounted on a wiring board, thermal energy suitable for soldering can be applied to the solder paste. High quality soldering can be done.
また前記熱エネルギー調整部は、炉内に流入する気体の流入量が増加したとき、気体加熱部が調整する気体の温度を低下させる指令を与える一方、炉内に流入する気体の流入量が減少したとき、気体の温度を上昇させる指令を与えるものとして構成されているので、加熱炉の周囲温度の変化、炉内で熱処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって炉内に流れ込む気体の流量が変化したとしても、この流量変化分に見合う分の温度になるよう気体加熱部に指令を与えることができ、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することが可能である。このため本発明加熱炉の制御方法および制御装置は、炉内熱処理される被加熱物に最適な熱エネルギーを与えることができる。 The thermal energy adjustment unit gives a command to lower the temperature of the gas adjusted by the gas heating unit when the inflow amount of the gas flowing into the furnace increases, while the inflow amount of the gas flowing into the furnace decreases. Since it is configured to give a command to raise the temperature of the gas, the furnace temperature is changed in the furnace due to a change in the ambient temperature of the heating furnace, a change in the heat load of the object to be heated in the furnace, etc. Even if the flow rate of the flowing gas changes, it is possible to give a command to the gas heating unit so that the temperature corresponds to the flow rate change, and the heat energy of the gas can be kept constant. For this reason, the control method and control apparatus of the heating furnace of the present invention can give optimum heat energy to the object to be heated in the furnace.
或いは前記熱エネルギー調整部は、炉内の温度が上昇したとき、流量調整部が調整する気体の流量を減少させる指令を与える一方、炉内の温度が低下したとき、流量を増加させる指令を与えるものとして構成しているので、加熱炉の周囲温度の変化、炉内で熱処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって炉内の温度が変化したとしても、流量調整部によってこの温度変化分に見合う分の分子量に調整した気体を炉内に送り込んでいるので、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができる。したがって、本発明に係る加熱炉の制御方法および制御装置は、炉内の被加熱物、例えば配線基板上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができ、高品質のはんだ付けが可能となるという優れた効果を奏し得る。 Alternatively, the thermal energy adjustment unit gives a command to decrease the flow rate of the gas adjusted by the flow rate adjustment unit when the temperature in the furnace rises, and gives a command to increase the flow rate when the temperature in the furnace decreases. Even if the temperature in the furnace changes due to a change in the ambient temperature of the heating furnace, a change in the thermal load of the object to be heated in the furnace, etc. Since the gas adjusted to the molecular weight corresponding to the temperature change is fed into the furnace, the thermal energy of the gas can be kept constant. Therefore, the control method and control device for a heating furnace according to the present invention can give optimum thermal energy for soldering to an object to be heated in the furnace, for example, a solder paste applied on a wiring board, and high quality. An excellent effect that soldering is possible can be achieved.
以下、本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置の一実施形態として、電子部品を実装する配線基板の予め形成されたランドに塗布されたはんだペーストを溶融して上記電子部品を取り付けるリフロー炉の制御装置について図面を参照しながら説明する。また、図8に示す従来のリフロー炉の制御装置と同一機能を有する部位には、同符号を付し、その説明を省略する。また、図1〜図7は、本発明の第一の実施形態およびその変形例に係るリフロー炉の制御装置を説明する図面であって、これらの図面によって本発明が限定されるものではない。 Hereinafter, as an embodiment of a heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied, the above-mentioned electronic component is obtained by melting a solder paste applied to a pre-formed land of a wiring board on which the electronic component is mounted. A control apparatus for a reflow furnace to which is attached will be described with reference to the drawings. Also, parts having the same functions as those of the conventional reflow furnace control device shown in FIG. Moreover, FIGS. 1-7 is drawing explaining the control apparatus of the reflow furnace which concerns on 1st embodiment of this invention and its modification, Comprising: These inventions are not limited by these drawings.
尚、詳細は後述するが図1に示すリフロー炉の制御装置が、従来のリフロー炉の制御装置と異なるところは、配管9を介してレギュレータ8とヒータ13との間に流れる気体を設定された質量流量に調整する流量調整部たる流体流量制御装置(マスフローコントローラ)20並びにこのマスフローコントローラ20を流れる気体の質量流量の指令を与える流量設定部21を設けた点、および入力されたリフロー炉1内に送り込まれる気体の質量流量および炉内温度の設定値並びに配線基板3の状態(配線基板3に搭載された電子部品2の数や種類、配線基板3の大きさおよび材質、はんだペースト4の種類等)によってマスフローコントローラ20とヒータ13とを協働させて炉内の温度を制御する制御部(熱エネルギー調整部)22を備えた点にある。
Although the details will be described later, the reflow furnace control device shown in FIG. 1 is different from the conventional reflow furnace control device in that the gas flowing between the
マスフローコントローラ20には、質量流量を計測する質量流量センサを備える。この質量流量センサは、例えば図10に示すようにシリコン基台B上に設けた発熱抵抗体からなるヒータ素子Rhを間にして、流体の通流方向Fに測温抵抗体からなる一対の温度センサRu,Rdを設けた素子構造を有する。そして熱式流量計は、上記ヒータ素子Rhから発せられる熱の拡散度合い(温度分布)が前記流体の通流によって変化することを利用し、前記温度センサRu,Rdの熱による抵抗値変化から前記流体の流量Qを検出する如く構成される。
The
具体的にはヒータ素子Rhから発せられた熱が流体の流量Qに応じて下流側の温度センサRdに加わることで、該温度センサRdの熱による抵抗値の変化が上流側の温度センサRuよりも大きいこと利用して上記流量Qを計測するものとなっている。尚、図中Rrは、前記ヒータ素子Rhから離れた位置に設けられた測温抵抗体からなる温度センサであって、周囲温度の計測に用いられる。 Specifically, the heat generated from the heater element Rh is applied to the downstream temperature sensor Rd according to the flow rate Q of the fluid, so that the change in the resistance value due to the heat of the temperature sensor Rd is greater than that of the upstream temperature sensor Ru. The flow rate Q is measured by utilizing the fact that it is large. In the figure, Rr is a temperature sensor made of a resistance temperature detector provided at a position away from the heater element Rh, and is used for measuring the ambient temperature.
図11は上述した質量流量センサを用いた熱式流量計の概略構成を示している。即ち、ヒータ素子Rhの駆動回路は、該ヒータ素子Rhと周囲温度計測用の温度センサRr、および一対の固定抵抗R1,R2を用いてブリッジ回路B1を形成し、所定の電源から供給される電圧VccをトランジスタQを介して前記ブリッジ回路B1に印加すると共に、該ブリッジ回路B1のブリッジ出力電圧を差動増幅器A1にて求め、そのブリッジ出力電圧がゼロ(0)となるように前記トランジスタQを帰還制御して前記ブリッジ回路B1に加えるヒータ駆動電圧を調整するように構成される。このように構成されたヒータ駆動回路により、前記ヒータ素子Rhの発熱温度が、その周囲温度よりも常に一定温度差ΔTだけ高くなるように制御される。 FIG. 11 shows a schematic configuration of a thermal flow meter using the above-described mass flow sensor. That is, the drive circuit of the heater element Rh forms a bridge circuit B1 using the heater element Rh, a temperature sensor Rr for measuring ambient temperature, and a pair of fixed resistors R1 and R2, and a voltage supplied from a predetermined power source Vcc is applied to the bridge circuit B1 via the transistor Q, the bridge output voltage of the bridge circuit B1 is obtained by the differential amplifier A1, and the transistor Q is adjusted so that the bridge output voltage becomes zero (0). The heater driving voltage applied to the bridge circuit B1 by feedback control is adjusted. The heater driving circuit configured as described above controls the heat generation temperature of the heater element Rh so as to be always higher than the ambient temperature by a constant temperature difference ΔT.
一方、前記一対の温度センサRu,Rdの熱による抵抗値変化から前記質量流量センサに沿って通流する流体の流量Qを検出する流量検出回路は、上記一対の温度センサRu,Rdと一対の固定抵抗Rx,Ryを用いて流量計測用のブリッジ回路B2を形成し、温度センサRu,Rdの抵抗値の変化に応じたブリッジ出力電圧(温度差に相当するセンサ出力)を差動増幅器A2を介して検出するように構成される。そして前記ヒータ駆動回路によりヒータ素子Rhの発熱量を一定化した条件下において、差動増幅器A2を介して検出されるブリッジ出力電圧から前記質量流量センサに沿って通流する流体の流量Qを求めるものとなっている。 On the other hand, the flow rate detection circuit for detecting the flow rate Q of the fluid flowing along the mass flow rate sensor from the change in resistance value due to the heat of the pair of temperature sensors Ru and Rd includes the pair of temperature sensors Ru and Rd and the pair of temperature sensors Ru and Rd. A bridge circuit B2 for measuring a flow rate is formed using the fixed resistors Rx and Ry, and a bridge output voltage (sensor output corresponding to a temperature difference) corresponding to a change in the resistance value of the temperature sensors Ru and Rd is supplied to the differential amplifier A2. Configured to detect via. Then, the flow rate Q of the fluid flowing along the mass flow sensor is obtained from the bridge output voltage detected through the differential amplifier A2 under the condition that the heat generation amount of the heater element Rh is made constant by the heater driving circuit. It has become a thing.
この流量Qの算出は、例えば上記ブリッジ出力電圧(センサ出力)を図示しない演算処理装置(CPU)等に取り込むことによって行われる。
このように構成されたリフロー炉1には、配線基板3の予め形成されたランドに塗布されたはんだペースト4の位置に図示しないマウンタによって電子部品2の電極が位置するように載置された配線基板3が、図2に示す所定の移動速度v[m/s]で稼働するコンベア15によって送り込まれるようになっている。
The flow rate Q is calculated, for example, by taking the bridge output voltage (sensor output) into an arithmetic processing unit (CPU) not shown.
In the
概略的には上述したように構成された本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置の作動について理論的に説明する。尚、ここでは理解をしやすくするため、便宜上、気体7は、窒素ガスであるとして説明する。
まずマスフローコントローラ20は、流量設定部21から出された流量指令を受けて、配管9を介してリフロー炉1内(以下、炉内と称することがある)に送り込まれる窒素ガス7の質量流量を一定に制御する。このマスフローコントローラ20を介して炉内に送り込まれる窒素ガスの質量流量は、一定であり、それゆえ配管9を流れる窒素ガス7の単位時間当たりの分子量は一定になる。つまり、リフロー炉1に送り込まれる窒素ガス7の単位時間当たりの分子量は一定となる。
The operation of the control apparatus for the reflow furnace according to the embodiment of the present invention configured as described above will be theoretically described. Here, for the sake of easy understanding, the
First, the
ところで絶対温度T[K]における分子1個がもつ運動エネルギーKEは、気体定数をR[J/mol・K]とすれば、
KE=(3/2)R・T[J]
として示される。したがって、絶対温度T[K]の窒素ガスn[mol]が有する運動エネルギーKnは、アボガドロ数をNA[mol−1]とすれば、
Kn=(3/2)n・NA・R・T[J]
と求まる。いま、マスフローコントローラ20から炉内へ送り込まれる窒素ガス7の容積をV[m3]とすれば、この窒素ガス7のモル数Nは、
N=V/(22.4×10−3)[mol]
である。したがって、単位時間当たりの流量をq[m3/s]とすれば、この気体が1秒当たりに炉内に送り込まれる窒素ガス7のモル数nは、
n=q/(22.4×10−3)[mol/s]
となる。よって、この窒素ガス7がT[K]のとき、リフロー炉1に流れ込む熱流Iは、
I=(3/2)・q/(22.4×10−3)NA・R・T[J/s]
=(3/2)・q/(22.4×10−3)NA・R・T[W]
=K・q・T[W]
と求まる。ただし、K=3NA・R/(2×22.4×10−3)である。
Meanwhile kinetic energy K E where one molecule at an absolute temperature T [K] has, if the gas constant and R [J / mol · K] ,
K E = (3/2) R · T [J]
As shown. Thus, the kinetic energy K n having the nitrogen gas n [mol] of the absolute temperature T [K], if the Avogadro's number and N A [mol -1],
K n = (3/2) n · NA A · R · T [J]
It is obtained. Now, assuming that the volume of the
N = V / (22.4 × 10 −3 ) [mol]
It is. Therefore, if the flow rate per unit time is q [m 3 / s], the number of moles n of
n = q / (22.4 × 10 −3 ) [mol / s]
It becomes. Therefore, when the
I = (3/2) · q / (22.4 × 10 −3 ) NA A · R · T [J / s]
= (3/2) · q / (22.4 × 10 −3 ) NA A · R · T [W]
= K ・ q ・ T [W]
It is obtained. However, K = 3N A · R / (2 × 22.4 × 10 −3 ).
この式が示すようにリフロー炉1に与えられる熱流Iは、気体流量および気体の絶対温度の積に比例することが導ける。
さて、ここで解析を簡単にするため、配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含めた基板の熱伝達率α[W/(m2・K)]とし、基板の表面が窒素ガス7と接する接触表面積をS[m2]とすれば、基板の表面熱抵抗RSは、
RS=1/αS[K/W]
である。一方、リフロー炉1の熱容量をC[J/K]とし、基板の熱容量はリフロー炉1の熱容量に比べて極めて小さく、これを無視するとともに、リフロー炉1から外部に放散する熱流を無視して単純化すれば、図3に示すように熱容量Cと表面熱抵抗Rsとが並列に接続されて、この並列回路に熱流Iを供給する等価回路が得られる。
As this equation shows, it can be derived that the heat flow I given to the
In order to simplify the analysis here, the heat transfer coefficient α [W / (m 2 · K)] of the board including all objects including the
R S = 1 / αS [K / W]
It is. On the other hand, the heat capacity of the
熱流Iは、上述したようにマスフローコントローラ20で一定の質量流量、すなわち単位時間あたり一定の分子量を含む窒素ガス7をヒータ13で加熱した熱風である。この熱流Iは、熱容量Cと表面熱抵抗Rsのそれぞれに熱流ICおよび熱流IRとして分流する。ところで一般にリフロー炉1は、炉内の温度変動をおさえるため、熱容量Cを大きくした設計がなされている。したがって、熱流ICは、炉内が一定の温度に到達したときには、ほとんど流れないものと考えてよい。勿論、熱容量Cから漏れ出す熱流、すなわち炉外に放散される熱は、僅かながらあるものと考えられるが、この場合は、一定の熱流ICが流れるものと考えてよい。
As described above, the heat flow I is hot air obtained by heating the
一方、表面熱抵抗RSは、上述したように配線基板3に搭載された電子部品2、はんだペースト4を含むすべての物体を含めた基板の熱伝達率α[W/(m2・K)]および基板の表面積(窒素ガス7)と接する接触表面積S[m2]が変われば当然ながら変化する。したがって異なる基板ごとの表面熱抵抗RSに応じて最適な熱流Iになるように炉内に送り込む窒素ガス7の流量および温度を調整すれば、配線基板3のランドに塗布されたはんだペーストを溶融して電子部品2を高品質にはんだ付けすることが可能となる。
On the other hand, the surface thermal resistance RS is the heat transfer coefficient α [W / (m 2 · K) of the board including all the objects including the
具体的には、はんだ付けする複数種の基板毎に最適なはんだ付け条件が維持できるようリフロー炉1内で予めはんだ付けを実施して評価し、そのとき流量設定部21に設定した流量条件および温度設定部11に設定した温度条件をそれぞれ記録して配線基板の状態に応じた最適条件を制御部22に設定する。そうすることによってコンベア15によって複数種の基板がリフロー炉1に送り込まれたとしても、制御部22にてリフロー炉1内を流れている基板に最適な熱流となるよう気体の流量および温度が調整されるので、高品質なはんだ付けができる。
Specifically, evaluation is performed by performing soldering in advance in the
より具体的に本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置について、コンベア15の移動速度vに対する配線基板3(配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含む)がリフロー炉1に要求する必要熱量Qと、リフロー炉1が配線基板3に与えることができる供給熱量QWとの関係を示す図4のグラフを用いて説明する。
More specifically, with respect to the reflow furnace control device according to the embodiment of the present invention, the wiring board 3 (all objects including the
配線基板3は、コンベア15の移動速度が速くなるにつれてリフロー炉1内に存在する時間が短くなる。このため移動速度が速くなった分、より多くの熱量を必要とする。一方、配線基板3に与える供給熱量は、リフロー炉1内に供給される熱流Iが一定であるとすれば、コンベア15の移動速度vに反比例して減少する。このようなことから図4に示すグラフが得られる。
The
この図から配線基板3が要求する熱量がQAであり、コンベア15の移動速度がvであるとすれば、リフロー炉1が配線基板3に供給する供給熱量QW1は、このQAが示す直線と、移動速度vとの交点Sを通るように設定すれば良いことが導ける。つまりこの交点Sは、配線基板3がはんだ付けを行うために必要な熱量と、リフロー炉1に供給される熱量とが等しくバランスする点であり、最適なはんだ付けを行うことができる。
An amount of heat Q A required by the
もし、コンベア15の移動速度vを一定にしたまま別の配線基板3をリフロー炉1に投入する場合、その配線基板3が要求する熱量がQBに増加したとすれば、このQBを示す直線と、移動速度vとの交点Tを通るように供給熱量を増加させてリフロー炉1が配線基板3に供給する供給熱量をQW2に調整すれば良い。
尚、上述したリフロー炉1の制御は、コンベア15の移動速度vを一定とした場合を例示したが、例えば、同じ配線基板3(配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含む)の製造枚数を増加させるためにコンベア15の移動速度vを速くする場合にも適用することができる。例えば、図5に示すように配線基板3が要求する熱量がQで示され、コンベア15の移動速度をv1としてリフロー炉1を稼働させる場合、直線Qとコンベア15の移動速度v1との交点Sを通るようにリフロー炉1に供給する熱量(熱流)をQW1に調整する。そして、コンベア15の速度を増加させて移動速度v2とした場合、配線基板3が要求する熱量Qは増加するので、直線Qとコンベア15の移動速度v2との交点Tを通るようにリフロー炉1に供給する熱量(熱流)をQW2に調整すればよい。勿論、単位時間当たりの製造枚数を減少させる場合は、上述と逆の考え方を適用して、リフロー炉1に供給する熱量(熱流)を減少させればよい。
If you introduce another
In addition, although control of the
或いは、リフロー炉1に供給する熱量(熱流)が一定であり、異なる配線基板3(配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含む)をリフロー炉1にてはんだ付けする場合、コンベア15の移動速度vを調整すればよい。具体的には図6のグラフに示すように、リフロー炉1に供給する熱量Qが一定で、配線基板3の要求する熱量がQAである場合、リフロー炉1に供給される供給熱量QWと配線基板3の必要熱量QAとの交点Uを見つけ、コンベア15の移動速度v1とすればよい。そうして、異なる配線基板3が要求する熱量がQBである場合、リフロー炉1に供給される供給熱量QWと配線基板3の必要熱量QBとの交点Vを見つけ、コンベア15の移動速度v3とすればよい。
Alternatively, the amount of heat (heat flow) supplied to the
このように本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、被加熱物1を加熱処理するために要する熱エネルギーKE、気体7の流量Qおよび加熱温度ΔT(処理温度−周囲温度)をパラメータとして[KE=Q×ΔT]を満足するように制御部22(熱エネルギー調整部)が制御している。つまり、これら3つのパラメータのうち、いずれか2つが定まれば残りのパラメータは、一義的に定まることになる。よって、制御部22が、この演算を行うことにより被加熱物1を加熱処理するために最適な熱量を供給することができる。
As described above, the heating furnace control method and control apparatus according to the present invention use the parameters of the thermal energy K E required for heat-treating the
かくして本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置は、マスフローコントローラ20(流量調整部)によってリフロー炉1に送り込まれる気体(例えば、空気や窒素ガス等)9の流量を予め設定された質量流量に調整するとともに、このマスフローコントローラ20とリフロー炉1との間に介挿されたヒータ13(気体加熱部)を協働させて、予め設定された温度に気体を加熱・制御する制御部22(熱エネルギー調整部)を備えているので、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができ、リフロー炉1内の配線基板上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができる。したがって、本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置は、高品質のはんだ付けを行うことができる。
Thus, in the heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied, the flow rate of the gas (for example, air or nitrogen gas) 9 sent to the
次に本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置の変形例を図7に示す図面を参照しながら説明する。この変形例は、マスフローコントローラ20が制御する質量流量一定制御の変動に応じてヒータ13の加熱温度を制御する流量追従制御と、温度調節部10が制御する温度一定制御の変動に応じてマスフローコントローラ20の流量制御量を調整する温度追従制御をもったリフロー炉の制御装置であって、上述した実施形態と同機能を有する部位には同符号を付し、その説明を省略する。
Next, a modification of the control device for the reflow furnace according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawing shown in FIG. In this modified example, the flow rate follow-up control for controlling the heating temperature of the
マスフローコントローラ20は、配管9を流れる気体7の流量を調整する可動弁20a、この可動弁20aを介して流れる気体7の質量流量を検出して質量流量情報を出力する質量流量検出部20b、流量設定部21から出される流量指令と質量流量検出部20bが検出した質量流量情報とを比較してその偏差情報を出力する比較部20cおよびこの比較部20cが求めた偏差情報を受けて可動弁20aの弁開度を調整し、気体7の質量流量が、流量設定部21から与えられた流量になるよう調整する弁調節部20dを備えて構成される。
The
一方、温度コントローラ30は、リフロー炉1内の温度を一定に維持するべく配管9を流れる気体7を加熱するヒータ13と、このヒータ13によって加熱されてリフロー炉1内に送り込まれる熱風の温度を検出する温度検出部(温度センサ)12、温度設定部11から出される温度指定と、温度検出部12が検出した熱風の温度とを比較して、その偏差情報を出力する比較部31およびこの比較部31が求めた偏差情報を受けてヒータ13に通電する電流値を調整して、気体7の温度が温度設定部11から与えられた温度に調整するヒータ調節部(温度調節部)10を備えて構成される。
On the other hand, the
またマスフローコントローラ20の質量流量検出部20bが検出した質量流量情報は、流量追従制御部40に与えられる。この流量追従制御部40は、制御部22が流量設定部21に与える流量設定値と比較する比較部41を備える。この比較部41は、制御部22が流量設定部21に与える流量設定値から質量流量検出部20bが検出した質量流量情報を差し引いた値(流量差分値)を求めて出力される。そして比較部41から出力された流量差分値は、所定のゲインに増幅して出力するゲイン調整部42を介して、増幅された流量差分値(流量変化分)に対する設定温度近傍の温度変化を求める微分回路(dT/dQ)43に与えられる。この微分回路43の出力は、制御部22が温度設定部11に与える温度指令値と、加算部44に加えられて温度設定部11に与えられる。
The mass flow rate information detected by the mass flow rate detection unit 20 b of the
このように構成することで気体7の質量流量が何らかの要因で変動したとしても、流量追従制御部40がその変動分を抑えるようにしてヒータ13の温度を調整する。具体的には、リフロー炉1に流入する気体7の流入量が増加したとき、流量追従制御部40は、ヒータ13が調整する気体7の温度を低下させる指令を出力する一方、リフロー炉1に流入する気体7の流入量が減少したとき、ヒータ13が調整する気体7の温度を上昇させる指令を出力する。したがって、リフロー炉1の周囲温度の変化、リフロー炉1内ではんだ付けする配線基板3の熱負荷が変化した等の理由によってリフロー炉1に流れ込む気体7の流量が変化したとしても、流量追従制御部40は、この流量変化分に見合う分の温度補正をして温度設定部11に与えているので、気体7がもつ熱エネルギーを一定に維持することができる。このため本発明に係る加熱炉の制御方法および制御装置は、リフロー炉1内の配線基板3上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができる。
With this configuration, even if the mass flow rate of the
一方、温度コントローラ30の温度検出部12が検出した炉内の温度情報は、温度追従制御部50に与えられる。この温度追従制御部50は、制御部22が温度設定部11に与える温度設定値と比較する比較部51を備える。この比較部51は、制御部22が温度設定部11に与える温度設定値から温度検出部12が検出した温度情報を差し引いた値(温度差分値)を求めて出力される。この比較部51から出力された温度差分値は、所定のゲインに増幅して出力するゲイン調整部52を介して、増幅された温度差分値(温度変化分)に対する設定流量近傍の流量変化を求める微分回路(dQ/dT)53に与えられる。そして微分回路53の出力は、制御部22が流量設定部21に与える流量指令値と加算して出力する加算部54に加えられて流量設定部21に与えられる。
On the other hand, the temperature information in the furnace detected by the
このように構成することで、温度コントローラ30が制御して出力される気体7の温度が何らかの要因で変動したとしても、温度追従制御部50がその変動分を抑えるようにして気体7の質量流量を調整する。具体的に本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、リフロー炉1の温度が上昇したとき、マスフローコントローラ(流量調整計)20が調整する気体7の流量を減少させる指令を与える一方、リフロー炉1の温度が低下したとき、気体7の流量を増加させる指令を与えるものとしている。このためリフロー炉1の周囲温度の変化、リフロー炉1内ではんだ付けする配線基板3の熱負荷が変化した等の理由によってリフロー炉1の温度が変化したとしても、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができる。
By configuring in this way, even if the temperature of the
したがって本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、リフロー炉1内の配線基板3上に塗布されたはんだペースト4にはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができ、高品質のはんだ付けが可能となる。
次に、本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置における第二の実施形態について説明する。この第二の実施形態が前述した実施形態と異なるところは、コンベアを用いず、マウンタによって電子部品2の電極が位置するように載置された配線基板3をリフロー炉1内に載置し、はんだ付け処理を行うもので、少量多品種の生産に適した加熱炉の制御装置とした点にある。
Therefore, the control method and control device for the heating furnace of the present invention can give the thermal energy optimum for soldering to the
Next, a second embodiment of the heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied will be described. The second embodiment is different from the above-described embodiment in that the
前述したように配線基板3に載置された電子部品2をはんだ付けするには、図9に示すような予熱工程(プレヒート)が必要である。そこで、本発明の加熱炉の制御装置を適用した加熱炉は、リフロー炉1に送り込む気体の流量および温度を、温度プロファイルに合致するように制御部22が制御することで、はんだ付けに相応しい温度プロファイルを実行することができる。したがって、本発明の加熱炉の制御装置を適用した加熱炉は、少量多品種の配線基板3をはんだ付けする際、温度プロファイルの再設定に要する時間を不要とすると共に、予熱のための加熱炉が不要であり、設置面積を削減することができる等の多大なる効果を奏する。
As described above, in order to solder the
尚、本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉に適用可能である他、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論可能である。 In addition, the control method and control apparatus of the heating furnace of the present invention are not limited to the above-described embodiment, and can be applied to a heating furnace that heats an object to be heated by gas fed into the furnace, Of course, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
1 リフロー炉
2 電子部品
3 配線基板
4 ペースト
6 ボンベ
7 気体
8 レギュレータ
9 配管
10 温度調節部
11 温度設定部
12 温度検出部
13 ヒータ
20 マスフローコントローラ
21 流量設定部
22 制御部
30 温度コントローラ
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整工程と、
この流量調整工程で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱工程と、
前記流量調整工程と前記気体加熱工程とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整工程と
を備えることを特徴とする加熱炉の制御方法。 A method for controlling a heating furnace that heats an object to be heated by gas fed into the furnace,
A flow rate adjusting step for adjusting the flow rate of the gas to a preset mass flow rate;
A gas heating step of heating the gas adjusted in the flow rate adjustment step to a preset temperature;
A heating energy adjusting step of adjusting the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value by cooperating the flow rate adjusting step and the gas heating step. Control method.
前記加熱炉に前記気体が送り込まれる配管に介挿されて、この配管に流れる前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整部と、
この流量調整部の後段の配管に設けられて、前記流量調整部で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱部と、
前記流量調整部と前記気体加熱部とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整部と
を備えることを特徴とする加熱炉の制御装置。 A control device for a heating furnace that heats an object to be heated by gas sent into the furnace,
A flow rate adjusting unit that is inserted into a pipe through which the gas is fed into the heating furnace and adjusts the flow rate of the gas flowing through the pipe to a preset mass flow rate;
A gas heating unit that is provided in a downstream pipe of the flow rate adjustment unit and heats the gas adjusted by the flow rate adjustment unit to a preset temperature;
A heating furnace comprising: a heat energy adjusting unit that adjusts the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value by cooperating the flow rate adjusting unit and the gas heating unit. Control device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005377272A JP4766554B2 (en) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | Heating furnace control method and control apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005377272A JP4766554B2 (en) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | Heating furnace control method and control apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007178064A JP2007178064A (en) | 2007-07-12 |
| JP4766554B2 true JP4766554B2 (en) | 2011-09-07 |
Family
ID=38303430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005377272A Expired - Fee Related JP4766554B2 (en) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | Heating furnace control method and control apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4766554B2 (en) |
-
2005
- 2005-12-28 JP JP2005377272A patent/JP4766554B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007178064A (en) | 2007-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7470100B2 (en) | Gas control system and method for reflow soldering furnace | |
| CN101642003B (en) | Reduced-pressure heater, its heating method, and electronic product manufacturing method | |
| US8165725B2 (en) | Temperature controlling device of heating element and method thereof | |
| AU2009242789A1 (en) | Device and method for thermally treating workpieces in particular by convective heat transfer | |
| JP5604812B2 (en) | Reflow furnace and control method thereof | |
| JP4685992B2 (en) | Soldering apparatus, soldering method, and soldering program | |
| JP4766554B2 (en) | Heating furnace control method and control apparatus | |
| JP5668301B2 (en) | Temperature control method and temperature control apparatus for heating object | |
| JP2010247180A (en) | Brazing apparatus and brazing method using the apparatus | |
| JPH06224551A (en) | Reflow soldering device temperature control method | |
| JP5178261B2 (en) | Thermal flow meter | |
| JP5178262B2 (en) | Thermal flow meter and its initial adjustment method and initial adjustment device | |
| JP5178263B2 (en) | Thermal flow meter and its initial adjustment method and initial adjustment device | |
| JP2009229092A (en) | Thermal flowmeter and method for initial adjustment thereof | |
| Hurban et al. | A new approach to measuring the temperature fields in reflow ovens | |
| KR20120056551A (en) | Flow Soldering Pre Heater and Method Thereof | |
| JPH10145037A (en) | Reflow soldering device | |
| JP2007294485A (en) | Soldering method and soldering apparatus | |
| JP4398297B2 (en) | Microparts laminating apparatus and microparts laminating method | |
| JP2607795B2 (en) | Method and apparatus for adjusting processing conditions of continuous furnace | |
| JP5159383B2 (en) | Thermal flow meter and its initial adjustment method and initial adjustment device | |
| JPH04165694A (en) | Method of setting reflow condition of reflow furnace | |
| JP3566772B2 (en) | Temperature setting method for reflow soldering equipment | |
| JPH0241770A (en) | Reflow device | |
| JPH0314546B2 (en) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080318 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101005 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110608 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110609 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4766554 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |