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JP4766554B2 - Heating furnace control method and control apparatus - Google Patents
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Description

本発明は加熱炉の制御方法および制御装置に係り、特に所定の温度を維持して被加熱物を加熱するに好適な加熱炉の制御方法および制御装置に関する。   The present invention relates to a heating furnace control method and control apparatus, and more particularly to a heating furnace control method and control apparatus suitable for heating an object to be heated while maintaining a predetermined temperature.

従来から加熱した気体によって被加熱物を加熱する加熱炉が用いられている。この加熱炉としては、例えば電子基板に搭載された表面実装部品をはんだ付けするリフロー炉などがある。このリフロー炉は、図8に示すように配線基板3の予め形成された複数のランド(図示せず)に、はんだペースト4が塗布された後、図示しないマウンタによって電極を各ランドに位置付けながら載置された電子部品2をリフロー炉1内の所定の温度の雰囲気中で所定時間加熱して、はんだ付けする装置である。   Conventionally, a heating furnace for heating an object to be heated by a heated gas is used. As this heating furnace, for example, there is a reflow furnace for soldering surface-mounted components mounted on an electronic substrate. As shown in FIG. 8, the reflow furnace is mounted with a solder paste 4 applied to a plurality of lands (not shown) formed in advance on the wiring board 3 while electrodes are positioned on the lands by a mounter (not shown). This is an apparatus for heating and soldering the placed electronic component 2 in an atmosphere of a predetermined temperature in the reflow furnace 1 for a predetermined time.

このリフロー炉1には、配管9に流れる気体を一定の圧力に調整するレギュレータ(整圧器)8を通してボンベ6に蓄えられた所定の気体7(例えば、空気、窒素ガス等)がリフロー炉1に送り込まれるようになっている。そして、レギュレータ8の後段には、リフロー炉1に送り込まれる気体を加熱する温度調節部10が設けられている。この温度調節部10は、温度設定部11からの温度設定指令を受けて、この温度設定指令とリフロー炉1内の温度を検出する温度センサ12が検出した温度情報とを比較し、ヒータ13によってリフロー炉1に送り込まれる気体の温度を調整してリフロー炉1内を設定された温度に調整する気体加熱部14を構成する。   In this reflow furnace 1, a predetermined gas 7 (for example, air, nitrogen gas, etc.) stored in a cylinder 6 through a regulator (pressure regulator) 8 that adjusts the gas flowing in the pipe 9 to a constant pressure is supplied to the reflow furnace 1. It is supposed to be sent. A temperature control unit 10 that heats the gas sent to the reflow furnace 1 is provided at the subsequent stage of the regulator 8. The temperature adjusting unit 10 receives the temperature setting command from the temperature setting unit 11, compares the temperature setting command with temperature information detected by the temperature sensor 12 that detects the temperature in the reflow furnace 1, and the heater 13 The gas heating part 14 which adjusts the temperature of the gas sent into the reflow furnace 1 and adjusts the inside of the reflow furnace 1 to the set temperature is configured.

尚、ボンベ6に代えて図示しないファン等の送気装置や加圧装置等によってリフロー炉1内に空気や窒素ガス等を送り込むように構成されたリフロー炉もあるが説明は省略する。
このようなリフロー炉1は、溶解したはんだペースト4によって電子部品2(表面実装部品)が確実に配線基板3に取り付けられるようにするため、炉内の温度管理が重要である。特に最近は、地球環境保全の観点から鉛を含まない鉛フリーはんだが用いられるようになっている。この鉛フリーはんだは、従来の鉛とスズの合金のはんだに比べて電子部品2を配線基板3にはんだ付けする際の温度条件が厳しい。このためリフロー炉1内の温度管理は、製造品質を高めるうえで極めて重要なポイントとなっている。
In addition, there is a reflow furnace configured to send air, nitrogen gas, or the like into the reflow furnace 1 by an air supply device such as a fan (not shown) or a pressurizing device instead of the cylinder 6, but description thereof is omitted.
In such a reflow furnace 1, temperature management in the furnace is important in order to ensure that the electronic component 2 (surface-mounted component) is attached to the wiring board 3 by the melted solder paste 4. Particularly recently, lead-free solder containing no lead has been used from the viewpoint of global environmental protection. This lead-free solder has stricter temperature conditions when soldering the electronic component 2 to the wiring board 3 than the conventional solder of lead and tin alloy. For this reason, the temperature control in the reflow furnace 1 is an extremely important point in improving the manufacturing quality.

ところで配線基板3には、図示しないコンベアによってリフロー炉1内を移動しながら加熱されて電子部品2がはんだ付けされる。このコンベアの移動速度、リフロー炉1内の温度等の設定は、配線基板3の面積、材質、搭載される電子部品2の点数および種類、電子部品2を配線基板3の片面に実装するのか、または両面に実装するのかの取付け方法等のはんだ付け条件によってリフロー炉1内の温度およびコンベア速度の設定(温度プロファイル)がなされる。   By the way, the wiring board 3 is heated while moving in the reflow furnace 1 by a conveyor (not shown), and the electronic component 2 is soldered. The setting of the moving speed of the conveyor, the temperature in the reflow furnace 1, the area and material of the wiring board 3, the number and type of the electronic parts 2 to be mounted, whether the electronic parts 2 are mounted on one side of the wiring board 3, Alternatively, the temperature in the reflow furnace 1 and the conveyor speed (temperature profile) are set according to the soldering conditions such as the mounting method for mounting on both sides.

一般にこの温度プロファイルは、上述したはんだ付け条件によって異なったものとなる。そして、はんだ付け条件が異なる配線基板3をリフロー炉1にてはんだ付け処理する場合、その都度、温度プロファイルの設定をする必要がある。
ちなみにリフロー炉1は、炉内の温度を保持するため熱容量を大きくしてあり、異なる配線基板3をリフロー処理するための炉内の温度調整にはおおむね10分〜30分程度が必要である。また、従来のリフロー炉1は、温度プロファイルの設定および調整を行っているとき、炉内に配線基板3を投入することができず、特に少量多品種生産を行う場合、リフロー炉1の温度設定、雰囲気調整が、はんだ付けする配線基板3の種類が異なる毎に必要であり生産効率が著しく低下するという問題があった。
Generally, this temperature profile differs depending on the soldering conditions described above. And when the wiring board 3 from which the soldering conditions differ is soldered in the reflow furnace 1, it is necessary to set a temperature profile each time.
Incidentally, the reflow furnace 1 has a large heat capacity in order to maintain the temperature in the furnace, and the temperature adjustment in the furnace for reflowing different wiring boards 3 requires about 10 to 30 minutes. Further, in the conventional reflow furnace 1, when the temperature profile is set and adjusted, the wiring board 3 cannot be put in the furnace. There is a problem that the atmosphere adjustment is necessary every time the type of the wiring board 3 to be soldered is different, and the production efficiency is remarkably lowered.

そこでこの種の問題を解決するべくリフロー装置とその制御方法が提唱されている(例えば、特許文献1を参照)。
ちなみにリフロー炉1の温度プロファイルは、例えば図9に示すようにはんだ付けに先立つ予熱工程(プレヒート)があり、それ故、複数の温度に設定されたリフロー炉が横並びに並べられて長尺のラインとして構成されている。
特開2001−160675号公報
Therefore, a reflow apparatus and a control method thereof have been proposed to solve this type of problem (see, for example, Patent Document 1).
Incidentally, the temperature profile of the reflow furnace 1 has a preheating process (preheating) prior to soldering as shown in FIG. 9, for example. It is configured as.
JP 2001-160675 A

しかしながら、前述のリフロー装置にあっては、リフロー炉近傍の気圧、温度等の環境条件のほか、リフロー炉内に送り込まれる気体の圧力が変化すると、炉内に与えられる熱風の流量が変化してしまうという問題がある。この種の問題を解決するには、炉内に送り込まれる気体の圧力を一定に維持すればよいと考えられる。しかしながらこの方法は、炉内に送り込まれる熱風の体積流量を一定に維持することはできるものの、リフロー炉近傍の気圧変化および温度変化等の外乱によって、炉内に与えられる熱エネルギーが変化してしまい、最適なはんだ付け条件を逸脱するという懸念がある。このため、従来のリフロー炉は、製造品質の高いはんだ付けを安定して維持することが難しいという問題があった。   However, in the above-described reflow apparatus, in addition to environmental conditions such as atmospheric pressure and temperature in the vicinity of the reflow furnace, when the pressure of the gas sent into the reflow furnace changes, the flow rate of hot air given into the furnace changes. There is a problem of end. In order to solve this kind of problem, it is considered that the pressure of the gas fed into the furnace should be kept constant. However, although this method can keep the volume flow of hot air sent into the furnace constant, the thermal energy applied to the furnace changes due to disturbances such as changes in pressure and temperature near the reflow furnace. There is a concern of deviating from the optimal soldering conditions. For this reason, the conventional reflow furnace has a problem that it is difficult to stably maintain high quality soldering.

また、リフロー炉は、予熱工程を備えているため、その炉長が長くなり、リフロー炉の設置面積が広くなることが否めない。
本発明は、このような問題を解決すべくなされたものであって、その目的とするところは、加熱炉近傍の気圧および温度等の環境条件、炉内に送り込まれる気体の圧力が変化、あるいは配線基板の状態が変化したとしても炉内に送り込まれる気体を被加熱物の加工に最適な温度および流量に調整すると共に、設置面積が少ない加熱炉の制御方法および制御装置を提供することにある。
Moreover, since the reflow furnace is provided with the preheating process, it cannot be denied that the furnace length becomes long and the installation area of the reflow furnace becomes wide.
The present invention has been made to solve such a problem, and the object of the present invention is to change environmental conditions such as atmospheric pressure and temperature in the vicinity of the heating furnace, the pressure of the gas sent into the furnace, or An object of the present invention is to provide a control method and a control device for a heating furnace with a small installation area, while adjusting the gas sent into the furnace to an optimum temperature and flow rate for processing the object to be heated even if the state of the wiring board changes. .

例えは、加熱炉としてのリフロー炉は、そもそも炉内に送り込まれる気体(例えば空気、窒素ガス等)の分子がヒータによって加熱されることによって熱エネルギーをもち、この熱エネルギーがはんだペーストに伝達されることによってはんだペーストが溶解して配線基板に搭載された電子部品がはんだ付けされるのである。つまりリフロー炉は、被加熱物(はんだペースト)に熱を伝達することが主目的であり、温度を一定に保つには炉内に送り込む気体のエネルギーを一定に制御すること、すなわち炉内に送り込まれる気体の分子量を一定に制御することが望ましいのである。   For example, a reflow furnace as a heating furnace has heat energy when molecules of gas (for example, air, nitrogen gas, etc.) sent into the furnace are heated by a heater, and this heat energy is transmitted to the solder paste. As a result, the solder paste is melted and the electronic components mounted on the wiring board are soldered. In other words, the main purpose of the reflow furnace is to transfer heat to the object to be heated (solder paste), and to keep the temperature constant, the energy of the gas sent into the furnace is controlled to constant, that is, it is sent into the furnace. It is desirable to control the molecular weight of the gas to be constant.

本発明の加熱炉の制御方法は、このような知見に基づいて上述した目的を達成すべくなされたものであり、炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉の制御方法であって、
前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整工程と、この流量調整工程で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱工程と、前記流量調整工程と前記気体加熱工程とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整工程とを備えることを特徴としている。
The control method of the heating furnace of the present invention is made to achieve the above-described object based on such knowledge, and is a control method of a heating furnace that heats an object to be heated by a gas sent into the furnace. And
A flow rate adjusting step for adjusting the flow rate of the gas to a preset mass flow rate, a gas heating step for heating the gas adjusted in the flow rate adjusting step to a preset temperature, the flow rate adjusting step, and the gas And a heating energy adjusting step of adjusting the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value in cooperation with the heating step.

好ましくは、前記エネルギー調整工程は、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が増加したとき、前記気体加熱工程に前記気体の温度を低下させる指令を与える一方、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が減少したとき、前記気体加熱工程に前記気体の温度を上昇させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。   Preferably, in the energy adjustment step, when the inflow amount of the gas flowing into the heating furnace increases, the gas heating step gives a command to lower the temperature of the gas while the gas flowing into the heating furnace When the inflow amount of the gas decreases, it is desirable to give a command to raise the temperature of the gas to the gas heating step and adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value.

より好ましくは、前記エネルギー調整工程は、前記加熱炉の温度が上昇したとき、前記流量調整工程に前記気体の流量を減少させる指令を与える一方、前記加熱炉の温度が低下したとき、前記流量調整工程に前記気体の流量を増加させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。
上述の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置は、炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉の制御装置であって、
前記加熱炉に前記気体が送り込まれる配管に介挿されて、この配管に流れる前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整部と、この流量調整部の後段の配管に設けられて、前記流量調整部で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱部と、前記流量調整部と前記気体加熱部とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整部とを備えることを特徴としている。
More preferably, when the temperature of the heating furnace rises, the energy adjustment step gives a command to the flow rate adjustment step to reduce the flow rate of the gas, while when the temperature of the heating furnace falls, the flow rate adjustment It is desirable to adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value by giving a command to increase the flow rate of the gas in the process.
The heating furnace control apparatus to which the above-described heating furnace control method is applied is a heating furnace control apparatus that heats an object to be heated by gas fed into the furnace,
A flow rate adjusting unit that is inserted into a pipe into which the gas is fed into the heating furnace and adjusts the flow rate of the gas flowing through the pipe to a preset mass flow rate, and a pipe subsequent to the flow rate adjusting unit. The gas fed into the furnace by cooperating a gas heating unit that heats the gas adjusted by the flow rate adjusting unit to a preset temperature, the flow rate adjusting unit, and the gas heating unit And a thermal energy adjusting unit that adjusts the thermal energy of the battery to a predetermined value.

上述の加熱炉の制御装置は、加熱炉に送り込まれる気体(例えば、空気、窒素ガス等)の質量流量を流量調整部にて予め定められた値に調整するとともに、気体加熱部が備える例えばヒータ等によってこの気体を予め設定された温度に加熱する。したがって上述のリフロー炉の制御装置は、所定の質量流量Q、すなわち所定の分子量の気体をヒータによって予め設定された温度ΔT(加熱温度−周囲温度)に加熱しているので、気体のもつ熱エネルギー[Q×ΔT]を一定に維持することができ、被加熱物を熱加工するのに最適な熱量を与える。   The control device for the heating furnace described above adjusts the mass flow rate of the gas (for example, air, nitrogen gas, etc.) sent to the heating furnace to a predetermined value by the flow rate adjustment unit, and the gas heating unit includes, for example, a heater The gas is heated to a preset temperature by, for example. Therefore, the above-described reflow furnace control apparatus heats a gas having a predetermined mass flow rate Q, that is, a predetermined molecular weight, to a preset temperature ΔT (heating temperature−ambient temperature) by a heater. [Q × ΔT] can be kept constant, and an optimum amount of heat is provided for heat-processing the object to be heated.

好ましくは前記熱エネルギー調整部は、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が増加したとき、前記気体加熱部が加熱する前記気体の温度を低下させる指令を与える一方、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が減少したとき、前記気体加熱部が加熱する前記気体の温度を上昇させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。   Preferably, the thermal energy adjusting unit gives an instruction to lower the temperature of the gas heated by the gas heating unit when the amount of the gas flowing into the heating furnace increases, and flows into the heating furnace. When the inflow amount of the gas decreases, it is desirable to adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value by giving a command to increase the temperature of the gas heated by the gas heating unit. .

上述の加熱炉の制御装置は、加熱炉の周囲温度の変化、炉内で処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって加熱炉に流れ込む気体の流量が変化したとき、この流量変化分に見合う分の温度調整を前記気体加熱部に指令を与えて、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持する。したがって、上述の加熱炉の制御装置は、炉内で処理される被加熱物に熱処理に最適な熱エネルギーを与える。   When the flow rate of the gas flowing into the heating furnace changes due to a change in the ambient temperature of the heating furnace or a change in the thermal load of the object to be processed in the furnace, The gas heating unit is commanded to adjust the temperature corresponding to the amount of change, and the thermal energy of the gas is kept constant. Therefore, the above-described heating furnace control device gives thermal energy optimal for heat treatment to the object to be heated in the furnace.

より好ましくは、前記熱エネルギー調整部は、前記加熱炉の温度が上昇したとき、前記流量調整部に前記気体の流量を減少させる指令を与える一方、前記加熱炉の温度が低下したとき、前記流量調整部に前記気体の流量を増加させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整することが望ましい。
上述の加熱炉の制御装置は、加熱炉の周囲温度の変化や加熱炉内で処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって加熱炉の温度が変化したときでも、この温度変化分に見合う分の気体の分子量を前記流量調整計に指令を与えて、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持する。したがって上述の加熱炉の制御装置は、炉内で処理される被加熱物に熱処理に最適な熱エネルギーを与える。
More preferably, when the temperature of the heating furnace rises, the thermal energy adjustment unit gives an instruction to reduce the flow rate of the gas to the flow rate adjustment unit, while when the temperature of the heating furnace falls, the flow rate It is desirable to give a command to increase the gas flow rate to the adjustment unit to adjust the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value.
Even if the temperature of the heating furnace changes due to a change in the ambient temperature of the heating furnace or a change in the thermal load of an object to be processed in the heating furnace, the above-mentioned control device for the heating furnace does not change this temperature. A command is given to the flow controller for the molecular weight of the gas corresponding to the minute, and the thermal energy of the gas is kept constant. Therefore, the above-described heating furnace control device gives thermal energy optimal for heat treatment to an object to be heated to be processed in the furnace.

また前記加熱炉は、電子部品を実装する配線基板の予め形成されたランドに塗布されたはんだペーストを溶融して上記電子部品を取り付けるリフロー炉として構成される。
上述のリフロー炉の制御装置は、リフロー炉の周囲温度の変化やリフロー炉内ではんだ付けする配線基板の熱負荷が変化した等の理由によってリフロー炉の温度が変化したときでも、この温度変化分に見合う分の気体の分子量を前記流量調整計に指令を与えるとともに、前記気体加熱部が加熱する気体の加熱量を調整して、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持する。したがって上述のリフロー炉の制御装置は、リフロー炉内の配線基板上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与える。
The heating furnace is configured as a reflow furnace in which a solder paste applied to a previously formed land of a wiring board on which an electronic component is mounted is melted and the electronic component is attached.
The above-mentioned reflow furnace control device is capable of adjusting the temperature change even when the temperature of the reflow furnace changes due to a change in the ambient temperature of the reflow furnace or a change in the thermal load of the wiring board to be soldered in the reflow furnace. In addition to giving a command to the flow controller for the molecular weight of the gas corresponding to the above, the heating amount of the gas heated by the gas heating unit is adjusted to maintain the thermal energy of the gas constant. Therefore, the control device for the reflow furnace described above gives thermal energy optimum for soldering to the solder paste applied on the wiring board in the reflow furnace.

本発明の加熱炉の制御方法および制御装置によれば、流量調整部によって加熱炉内に送り込まれる気体(例えば、空気や窒素ガス等)の流量を予め設定された質量流量に調整するとともに、この流量調整部と加熱炉との間に介挿された気体加熱部(例えば、ヒータ)を協働させる熱エネルギー調整部にて、炉内に送り込まれる気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整しているので、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができ、加熱炉内の被加熱物に最適な熱エネルギーを与えることができる。したがって、本発明の加熱炉の制御方法および制御装置を例えば配線基板に載置された電子部品をはんだ付けするリフロー炉に適用すれば、はんだ付けに適した熱エネルギーをはんだペーストに与えることができ、高品質のはんだ付けを行うことができる。   According to the control method and control device for a heating furnace of the present invention, the flow rate of a gas (for example, air or nitrogen gas) sent into the heating furnace by the flow rate adjusting unit is adjusted to a preset mass flow rate, and this The thermal energy adjustment unit that cooperates with a gas heating unit (for example, a heater) inserted between the flow rate adjustment unit and the heating furnace adjusts the thermal energy of the gas sent into the furnace to a predetermined value. Therefore, the thermal energy of the gas can be kept constant, and the optimum thermal energy can be given to the object to be heated in the heating furnace. Therefore, if the heating furnace control method and control device of the present invention are applied to, for example, a reflow furnace for soldering electronic components mounted on a wiring board, thermal energy suitable for soldering can be applied to the solder paste. High quality soldering can be done.

また前記熱エネルギー調整部は、炉内に流入する気体の流入量が増加したとき、気体加熱部が調整する気体の温度を低下させる指令を与える一方、炉内に流入する気体の流入量が減少したとき、気体の温度を上昇させる指令を与えるものとして構成されているので、加熱炉の周囲温度の変化、炉内で熱処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって炉内に流れ込む気体の流量が変化したとしても、この流量変化分に見合う分の温度になるよう気体加熱部に指令を与えることができ、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することが可能である。このため本発明加熱炉の制御方法および制御装置は、炉内熱処理される被加熱物に最適な熱エネルギーを与えることができる。   The thermal energy adjustment unit gives a command to lower the temperature of the gas adjusted by the gas heating unit when the inflow amount of the gas flowing into the furnace increases, while the inflow amount of the gas flowing into the furnace decreases. Since it is configured to give a command to raise the temperature of the gas, the furnace temperature is changed in the furnace due to a change in the ambient temperature of the heating furnace, a change in the heat load of the object to be heated in the furnace, etc. Even if the flow rate of the flowing gas changes, it is possible to give a command to the gas heating unit so that the temperature corresponds to the flow rate change, and the heat energy of the gas can be kept constant. For this reason, the control method and control apparatus of the heating furnace of the present invention can give optimum heat energy to the object to be heated in the furnace.

或いは前記熱エネルギー調整部は、炉内の温度が上昇したとき、流量調整部が調整する気体の流量を減少させる指令を与える一方、炉内の温度が低下したとき、流量を増加させる指令を与えるものとして構成しているので、加熱炉の周囲温度の変化、炉内で熱処理される被加熱物の熱負荷が変化した等の理由によって炉内の温度が変化したとしても、流量調整部によってこの温度変化分に見合う分の分子量に調整した気体を炉内に送り込んでいるので、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができる。したがって、本発明に係る加熱炉の制御方法および制御装置は、炉内の被加熱物、例えば配線基板上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができ、高品質のはんだ付けが可能となるという優れた効果を奏し得る。   Alternatively, the thermal energy adjustment unit gives a command to decrease the flow rate of the gas adjusted by the flow rate adjustment unit when the temperature in the furnace rises, and gives a command to increase the flow rate when the temperature in the furnace decreases. Even if the temperature in the furnace changes due to a change in the ambient temperature of the heating furnace, a change in the thermal load of the object to be heated in the furnace, etc. Since the gas adjusted to the molecular weight corresponding to the temperature change is fed into the furnace, the thermal energy of the gas can be kept constant. Therefore, the control method and control device for a heating furnace according to the present invention can give optimum thermal energy for soldering to an object to be heated in the furnace, for example, a solder paste applied on a wiring board, and high quality. An excellent effect that soldering is possible can be achieved.

以下、本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置の一実施形態として、電子部品を実装する配線基板の予め形成されたランドに塗布されたはんだペーストを溶融して上記電子部品を取り付けるリフロー炉の制御装置について図面を参照しながら説明する。また、図8に示す従来のリフロー炉の制御装置と同一機能を有する部位には、同符号を付し、その説明を省略する。また、図1〜図7は、本発明の第一の実施形態およびその変形例に係るリフロー炉の制御装置を説明する図面であって、これらの図面によって本発明が限定されるものではない。   Hereinafter, as an embodiment of a heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied, the above-mentioned electronic component is obtained by melting a solder paste applied to a pre-formed land of a wiring board on which the electronic component is mounted. A control apparatus for a reflow furnace to which is attached will be described with reference to the drawings. Also, parts having the same functions as those of the conventional reflow furnace control device shown in FIG. Moreover, FIGS. 1-7 is drawing explaining the control apparatus of the reflow furnace which concerns on 1st embodiment of this invention and its modification, Comprising: These inventions are not limited by these drawings.

尚、詳細は後述するが図1に示すリフロー炉の制御装置が、従来のリフロー炉の制御装置と異なるところは、配管9を介してレギュレータ8とヒータ13との間に流れる気体を設定された質量流量に調整する流量調整部たる流体流量制御装置(マスフローコントローラ)20並びにこのマスフローコントローラ20を流れる気体の質量流量の指令を与える流量設定部21を設けた点、および入力されたリフロー炉1内に送り込まれる気体の質量流量および炉内温度の設定値並びに配線基板3の状態(配線基板3に搭載された電子部品2の数や種類、配線基板3の大きさおよび材質、はんだペースト4の種類等)によってマスフローコントローラ20とヒータ13とを協働させて炉内の温度を制御する制御部(熱エネルギー調整部)22を備えた点にある。   Although the details will be described later, the reflow furnace control device shown in FIG. 1 is different from the conventional reflow furnace control device in that the gas flowing between the regulator 8 and the heater 13 is set via the pipe 9. A fluid flow control device (mass flow controller) 20 which is a flow rate adjusting unit for adjusting the mass flow rate, a flow rate setting unit 21 for giving a command of a mass flow rate of the gas flowing through the mass flow controller 20, and the input in the reflow furnace 1 Set value of the mass flow rate of the gas fed to the furnace and the temperature in the furnace, and the state of the wiring board 3 (the number and type of electronic components 2 mounted on the wiring board 3, the size and material of the wiring board 3, the type of solder paste 4) Etc.) and a control unit (thermal energy adjusting unit) 22 for controlling the temperature in the furnace by causing the mass flow controller 20 and the heater 13 to cooperate with each other. There is a point.

マスフローコントローラ20には、質量流量を計測する質量流量センサを備える。この質量流量センサは、例えば図10に示すようにシリコン基台B上に設けた発熱抵抗体からなるヒータ素子Rhを間にして、流体の通流方向Fに測温抵抗体からなる一対の温度センサRu,Rdを設けた素子構造を有する。そして熱式流量計は、上記ヒータ素子Rhから発せられる熱の拡散度合い(温度分布)が前記流体の通流によって変化することを利用し、前記温度センサRu,Rdの熱による抵抗値変化から前記流体の流量Qを検出する如く構成される。   The mass flow controller 20 includes a mass flow sensor that measures the mass flow rate. For example, as shown in FIG. 10, this mass flow sensor has a pair of temperatures made of a resistance temperature detector in the fluid flow direction F with a heater element Rh made of a heating resistor provided on the silicon base B interposed therebetween. It has an element structure provided with sensors Ru and Rd. The thermal flow meter utilizes the fact that the degree of diffusion (temperature distribution) of the heat generated from the heater element Rh changes due to the flow of the fluid, and the resistance value changes due to the heat of the temperature sensors Ru and Rd. It is configured to detect the flow rate Q of the fluid.

具体的にはヒータ素子Rhから発せられた熱が流体の流量Qに応じて下流側の温度センサRdに加わることで、該温度センサRdの熱による抵抗値の変化が上流側の温度センサRuよりも大きいこと利用して上記流量Qを計測するものとなっている。尚、図中Rrは、前記ヒータ素子Rhから離れた位置に設けられた測温抵抗体からなる温度センサであって、周囲温度の計測に用いられる。   Specifically, the heat generated from the heater element Rh is applied to the downstream temperature sensor Rd according to the flow rate Q of the fluid, so that the change in the resistance value due to the heat of the temperature sensor Rd is greater than that of the upstream temperature sensor Ru. The flow rate Q is measured by utilizing the fact that it is large. In the figure, Rr is a temperature sensor made of a resistance temperature detector provided at a position away from the heater element Rh, and is used for measuring the ambient temperature.

図11は上述した質量流量センサを用いた熱式流量計の概略構成を示している。即ち、ヒータ素子Rhの駆動回路は、該ヒータ素子Rhと周囲温度計測用の温度センサRr、および一対の固定抵抗R1,R2を用いてブリッジ回路B1を形成し、所定の電源から供給される電圧VccをトランジスタQを介して前記ブリッジ回路B1に印加すると共に、該ブリッジ回路B1のブリッジ出力電圧を差動増幅器A1にて求め、そのブリッジ出力電圧がゼロ(0)となるように前記トランジスタQを帰還制御して前記ブリッジ回路B1に加えるヒータ駆動電圧を調整するように構成される。このように構成されたヒータ駆動回路により、前記ヒータ素子Rhの発熱温度が、その周囲温度よりも常に一定温度差ΔTだけ高くなるように制御される。   FIG. 11 shows a schematic configuration of a thermal flow meter using the above-described mass flow sensor. That is, the drive circuit of the heater element Rh forms a bridge circuit B1 using the heater element Rh, a temperature sensor Rr for measuring ambient temperature, and a pair of fixed resistors R1 and R2, and a voltage supplied from a predetermined power source Vcc is applied to the bridge circuit B1 via the transistor Q, the bridge output voltage of the bridge circuit B1 is obtained by the differential amplifier A1, and the transistor Q is adjusted so that the bridge output voltage becomes zero (0). The heater driving voltage applied to the bridge circuit B1 by feedback control is adjusted. The heater driving circuit configured as described above controls the heat generation temperature of the heater element Rh so as to be always higher than the ambient temperature by a constant temperature difference ΔT.

一方、前記一対の温度センサRu,Rdの熱による抵抗値変化から前記質量流量センサに沿って通流する流体の流量Qを検出する流量検出回路は、上記一対の温度センサRu,Rdと一対の固定抵抗Rx,Ryを用いて流量計測用のブリッジ回路B2を形成し、温度センサRu,Rdの抵抗値の変化に応じたブリッジ出力電圧(温度差に相当するセンサ出力)を差動増幅器A2を介して検出するように構成される。そして前記ヒータ駆動回路によりヒータ素子Rhの発熱量を一定化した条件下において、差動増幅器A2を介して検出されるブリッジ出力電圧から前記質量流量センサに沿って通流する流体の流量Qを求めるものとなっている。   On the other hand, the flow rate detection circuit for detecting the flow rate Q of the fluid flowing along the mass flow rate sensor from the change in resistance value due to the heat of the pair of temperature sensors Ru and Rd includes the pair of temperature sensors Ru and Rd and the pair of temperature sensors Ru and Rd. A bridge circuit B2 for measuring a flow rate is formed using the fixed resistors Rx and Ry, and a bridge output voltage (sensor output corresponding to a temperature difference) corresponding to a change in the resistance value of the temperature sensors Ru and Rd is supplied to the differential amplifier A2. Configured to detect via. Then, the flow rate Q of the fluid flowing along the mass flow sensor is obtained from the bridge output voltage detected through the differential amplifier A2 under the condition that the heat generation amount of the heater element Rh is made constant by the heater driving circuit. It has become a thing.

この流量Qの算出は、例えば上記ブリッジ出力電圧(センサ出力)を図示しない演算処理装置(CPU)等に取り込むことによって行われる。
このように構成されたリフロー炉1には、配線基板3の予め形成されたランドに塗布されたはんだペースト4の位置に図示しないマウンタによって電子部品2の電極が位置するように載置された配線基板3が、図2に示す所定の移動速度v[m/s]で稼働するコンベア15によって送り込まれるようになっている。
The flow rate Q is calculated, for example, by taking the bridge output voltage (sensor output) into an arithmetic processing unit (CPU) not shown.
In the reflow furnace 1 configured as described above, the wiring placed so that the electrode of the electronic component 2 is positioned by the mounter (not shown) at the position of the solder paste 4 applied to the previously formed land of the wiring board 3. The substrate 3 is fed by a conveyor 15 operating at a predetermined moving speed v [m / s] shown in FIG.

概略的には上述したように構成された本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置の作動について理論的に説明する。尚、ここでは理解をしやすくするため、便宜上、気体7は、窒素ガスであるとして説明する。
まずマスフローコントローラ20は、流量設定部21から出された流量指令を受けて、配管9を介してリフロー炉1内(以下、炉内と称することがある)に送り込まれる窒素ガス7の質量流量を一定に制御する。このマスフローコントローラ20を介して炉内に送り込まれる窒素ガスの質量流量は、一定であり、それゆえ配管9を流れる窒素ガス7の単位時間当たりの分子量は一定になる。つまり、リフロー炉1に送り込まれる窒素ガス7の単位時間当たりの分子量は一定となる。
The operation of the control apparatus for the reflow furnace according to the embodiment of the present invention configured as described above will be theoretically described. Here, for the sake of easy understanding, the gas 7 is assumed to be nitrogen gas for convenience.
First, the mass flow controller 20 receives the flow rate command issued from the flow rate setting unit 21 and determines the mass flow rate of the nitrogen gas 7 fed into the reflow furnace 1 (hereinafter sometimes referred to as “furnace”) via the pipe 9. Control to be constant. The mass flow rate of the nitrogen gas fed into the furnace via the mass flow controller 20 is constant, and therefore the molecular weight per unit time of the nitrogen gas 7 flowing through the pipe 9 is constant. That is, the molecular weight per unit time of the nitrogen gas 7 fed into the reflow furnace 1 is constant.

ところで絶対温度T[K]における分子1個がもつ運動エネルギーKは、気体定数をR[J/mol・K]とすれば、
=(3/2)R・T[J]
として示される。したがって、絶対温度T[K]の窒素ガスn[mol]が有する運動エネルギーKは、アボガドロ数をN[mol−1]とすれば、
=(3/2)n・N・R・T[J]
と求まる。いま、マスフローコントローラ20から炉内へ送り込まれる窒素ガス7の容積をV[m3]とすれば、この窒素ガス7のモル数Nは、
N=V/(22.4×10−3)[mol]
である。したがって、単位時間当たりの流量をq[m3/s]とすれば、この気体が1秒当たりに炉内に送り込まれる窒素ガス7のモル数nは、
n=q/(22.4×10−3)[mol/s]
となる。よって、この窒素ガス7がT[K]のとき、リフロー炉1に流れ込む熱流Iは、
I=(3/2)・q/(22.4×10−3)N・R・T[J/s]
=(3/2)・q/(22.4×10−3)N・R・T[W]
=K・q・T[W]
と求まる。ただし、K=3N・R/(2×22.4×10−3)である。
Meanwhile kinetic energy K E where one molecule at an absolute temperature T [K] has, if the gas constant and R [J / mol · K] ,
K E = (3/2) R · T [J]
As shown. Thus, the kinetic energy K n having the nitrogen gas n [mol] of the absolute temperature T [K], if the Avogadro's number and N A [mol -1],
K n = (3/2) n · NA A · R · T [J]
It is obtained. Now, assuming that the volume of the nitrogen gas 7 fed from the mass flow controller 20 into the furnace is V [m 3 ], the number of moles N of the nitrogen gas 7 is
N = V / (22.4 × 10 −3 ) [mol]
It is. Therefore, if the flow rate per unit time is q [m 3 / s], the number of moles n of nitrogen gas 7 fed into the furnace per second by this gas is:
n = q / (22.4 × 10 −3 ) [mol / s]
It becomes. Therefore, when the nitrogen gas 7 is T [K], the heat flow I flowing into the reflow furnace 1 is
I = (3/2) · q / (22.4 × 10 −3 ) NA A · R · T [J / s]
= (3/2) · q / (22.4 × 10 −3 ) NA A · R · T [W]
= K ・ q ・ T [W]
It is obtained. However, K = 3N A · R / (2 × 22.4 × 10 −3 ).

この式が示すようにリフロー炉1に与えられる熱流Iは、気体流量および気体の絶対温度の積に比例することが導ける。
さて、ここで解析を簡単にするため、配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含めた基板の熱伝達率α[W/(m2・K)]とし、基板の表面が窒素ガス7と接する接触表面積をS[m2]とすれば、基板の表面熱抵抗Rは、
=1/αS[K/W]
である。一方、リフロー炉1の熱容量をC[J/K]とし、基板の熱容量はリフロー炉1の熱容量に比べて極めて小さく、これを無視するとともに、リフロー炉1から外部に放散する熱流を無視して単純化すれば、図3に示すように熱容量Cと表面熱抵抗Rとが並列に接続されて、この並列回路に熱流Iを供給する等価回路が得られる。
As this equation shows, it can be derived that the heat flow I given to the reflow furnace 1 is proportional to the product of the gas flow rate and the absolute temperature of the gas.
In order to simplify the analysis here, the heat transfer coefficient α [W / (m 2 · K)] of the board including all objects including the electronic component 2 and the solder paste 4 mounted on the wiring board 3 is assumed. If the surface area of contact of the substrate surface with the nitrogen gas 7 is S [m 2 ], the surface thermal resistance R S of the substrate is
R S = 1 / αS [K / W]
It is. On the other hand, the heat capacity of the reflow furnace 1 is C [J / K], the heat capacity of the substrate is extremely small compared to the heat capacity of the reflow furnace 1, and this is ignored and the heat flow dissipated from the reflow furnace 1 to the outside is ignored. if simplification, and the heat capacity C and the surface thermal resistance R s as shown in FIG. 3 are connected in parallel, the equivalent circuit is obtained for supplying the heat flow I in the parallel circuit.

熱流Iは、上述したようにマスフローコントローラ20で一定の質量流量、すなわち単位時間あたり一定の分子量を含む窒素ガス7をヒータ13で加熱した熱風である。この熱流Iは、熱容量Cと表面熱抵抗Rのそれぞれに熱流Iおよび熱流Iとして分流する。ところで一般にリフロー炉1は、炉内の温度変動をおさえるため、熱容量Cを大きくした設計がなされている。したがって、熱流Iは、炉内が一定の温度に到達したときには、ほとんど流れないものと考えてよい。勿論、熱容量Cから漏れ出す熱流、すなわち炉外に放散される熱は、僅かながらあるものと考えられるが、この場合は、一定の熱流Iが流れるものと考えてよい。 As described above, the heat flow I is hot air obtained by heating the nitrogen gas 7 having a constant mass flow rate, that is, a constant molecular weight per unit time, by the heater 13 with the mass flow controller 20. This heat flow I is divided into the heat capacity C and the surface heat resistance R s as a heat flow I C and a heat flow I R , respectively. Incidentally, in general, the reflow furnace 1 is designed to have a large heat capacity C in order to suppress temperature fluctuation in the furnace. Therefore, heat flow I C, when the furnace has reached a certain temperature may be considered to hardly flows. Of course, the heat flow that leaks from the heat capacity C, that heat dissipated out of the furnace is considered as being slightly, this case can be considered as a constant heat flow I C flows.

一方、表面熱抵抗Rは、上述したように配線基板3に搭載された電子部品2、はんだペースト4を含むすべての物体を含めた基板の熱伝達率α[W/(m2・K)]および基板の表面積(窒素ガス7)と接する接触表面積S[m2]が変われば当然ながら変化する。したがって異なる基板ごとの表面熱抵抗Rに応じて最適な熱流Iになるように炉内に送り込む窒素ガス7の流量および温度を調整すれば、配線基板3のランドに塗布されたはんだペーストを溶融して電子部品2を高品質にはんだ付けすることが可能となる。 On the other hand, the surface thermal resistance RS is the heat transfer coefficient α [W / (m 2 · K) of the board including all the objects including the electronic component 2 and the solder paste 4 mounted on the wiring board 3 as described above. ] And the contact surface area S [m 2 ] in contact with the surface area of the substrate (nitrogen gas 7) changes as a matter of course. Therefore, if the flow rate and temperature of the nitrogen gas 7 fed into the furnace are adjusted so as to obtain an optimum heat flow I according to the surface thermal resistance R S for each different board, the solder paste applied to the land of the wiring board 3 is melted. Thus, the electronic component 2 can be soldered with high quality.

具体的には、はんだ付けする複数種の基板毎に最適なはんだ付け条件が維持できるようリフロー炉1内で予めはんだ付けを実施して評価し、そのとき流量設定部21に設定した流量条件および温度設定部11に設定した温度条件をそれぞれ記録して配線基板の状態に応じた最適条件を制御部22に設定する。そうすることによってコンベア15によって複数種の基板がリフロー炉1に送り込まれたとしても、制御部22にてリフロー炉1内を流れている基板に最適な熱流となるよう気体の流量および温度が調整されるので、高品質なはんだ付けができる。   Specifically, evaluation is performed by performing soldering in advance in the reflow furnace 1 so that optimum soldering conditions can be maintained for each of the plurality of types of substrates to be soldered, and the flow rate conditions set in the flow rate setting unit 21 and The temperature conditions set in the temperature setting unit 11 are recorded, and the optimum conditions corresponding to the state of the wiring board are set in the control unit 22. By doing so, even if a plurality of types of substrates are sent to the reflow furnace 1 by the conveyor 15, the flow rate and temperature of the gas are adjusted by the control unit 22 so that the heat flow is optimal for the substrates flowing in the reflow furnace 1. As a result, high quality soldering is possible.

より具体的に本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置について、コンベア15の移動速度vに対する配線基板3(配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含む)がリフロー炉1に要求する必要熱量Qと、リフロー炉1が配線基板3に与えることができる供給熱量Qとの関係を示す図4のグラフを用いて説明する。 More specifically, with respect to the reflow furnace control device according to the embodiment of the present invention, the wiring board 3 (all objects including the electronic component 2 and the solder paste 4 mounted on the wiring board 3) with respect to the moving speed v of the conveyor 15 including) will be described by using the necessary quantity of heat Q to request a reflow furnace 1, the graph of FIG. 4 showing a relationship between a supply heat quantity Q W capable reflow furnace 1 has on the wiring board 3.

配線基板3は、コンベア15の移動速度が速くなるにつれてリフロー炉1内に存在する時間が短くなる。このため移動速度が速くなった分、より多くの熱量を必要とする。一方、配線基板3に与える供給熱量は、リフロー炉1内に供給される熱流Iが一定であるとすれば、コンベア15の移動速度vに反比例して減少する。このようなことから図4に示すグラフが得られる。   The wiring board 3 has a shorter time in the reflow furnace 1 as the moving speed of the conveyor 15 increases. For this reason, the amount of heat required for the movement speed is increased. On the other hand, the amount of heat supplied to the wiring board 3 decreases in inverse proportion to the moving speed v of the conveyor 15 if the heat flow I supplied into the reflow furnace 1 is constant. From this, the graph shown in FIG. 4 is obtained.

この図から配線基板3が要求する熱量がQであり、コンベア15の移動速度がvであるとすれば、リフロー炉1が配線基板3に供給する供給熱量QW1は、このQが示す直線と、移動速度vとの交点Sを通るように設定すれば良いことが導ける。つまりこの交点Sは、配線基板3がはんだ付けを行うために必要な熱量と、リフロー炉1に供給される熱量とが等しくバランスする点であり、最適なはんだ付けを行うことができる。 An amount of heat Q A required by the wiring board 3 from the figure, if the moving speed of the conveyor 15 is v, supplied heat quantity Q W1 supplies the reflow furnace 1 to the wiring board 3 shows this Q A It can be derived that it may be set so as to pass through the intersection S between the straight line and the moving speed v. That is, this intersection point S is a point where the amount of heat required for the wiring board 3 to perform soldering and the amount of heat supplied to the reflow furnace 1 are equally balanced, and optimal soldering can be performed.

もし、コンベア15の移動速度vを一定にしたまま別の配線基板3をリフロー炉1に投入する場合、その配線基板3が要求する熱量がQに増加したとすれば、このQを示す直線と、移動速度vとの交点Tを通るように供給熱量を増加させてリフロー炉1が配線基板3に供給する供給熱量をQW2に調整すれば良い。
尚、上述したリフロー炉1の制御は、コンベア15の移動速度vを一定とした場合を例示したが、例えば、同じ配線基板3(配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含む)の製造枚数を増加させるためにコンベア15の移動速度vを速くする場合にも適用することができる。例えば、図5に示すように配線基板3が要求する熱量がQで示され、コンベア15の移動速度をvとしてリフロー炉1を稼働させる場合、直線Qとコンベア15の移動速度vとの交点Sを通るようにリフロー炉1に供給する熱量(熱流)をQW1に調整する。そして、コンベア15の速度を増加させて移動速度vとした場合、配線基板3が要求する熱量Qは増加するので、直線Qとコンベア15の移動速度vとの交点Tを通るようにリフロー炉1に供給する熱量(熱流)をQW2に調整すればよい。勿論、単位時間当たりの製造枚数を減少させる場合は、上述と逆の考え方を適用して、リフロー炉1に供給する熱量(熱流)を減少させればよい。
If you introduce another wiring board 3 while a constant movement speed v of the conveyor 15 to the reflow furnace 1, if the amount of heat that the wiring board 3 requires increases to Q B, shows the Q B line and may be adjusted to supply heat to be supplied to the reflow furnace 1 is wiring board 3 increases the amount of heat supplied so as to pass through the intersection point T between the moving velocity v in the Q W2.
In addition, although control of the reflow furnace 1 mentioned above illustrated the case where the moving speed v of the conveyor 15 was made constant, for example, the same wiring board 3 (the electronic component 2 mounted on the wiring board 3 and the solder paste 4 are included. The present invention can also be applied to a case where the moving speed v of the conveyor 15 is increased in order to increase the number of manufactured sheets (including all objects). For example, the amount of heat the wiring board 3 requests as shown in FIG. 5 indicated by Q, the movement speed of the conveyor 15 as v 1 when operating the reflow furnace 1, the moving speed v 1 of the straight line Q and the conveyor 15 The amount of heat (heat flow) supplied to the reflow furnace 1 so as to pass through the intersection S is adjusted to QW1 . When the speed of the conveyor 15 is increased to the moving speed v 2 , the amount of heat Q required by the wiring board 3 increases, so that the reflow is performed so as to pass through the intersection T between the straight line Q and the moving speed v 2 of the conveyor 15. the amount of heat (heat flow) is supplied to the furnace 1 may be adjusted to Q W2. Of course, when the number of manufactured sheets per unit time is reduced, the amount of heat (heat flow) supplied to the reflow furnace 1 may be reduced by applying a concept opposite to that described above.

或いは、リフロー炉1に供給する熱量(熱流)が一定であり、異なる配線基板3(配線基板3に搭載された電子部品2およびはんだペースト4を含むすべての物体を含む)をリフロー炉1にてはんだ付けする場合、コンベア15の移動速度vを調整すればよい。具体的には図6のグラフに示すように、リフロー炉1に供給する熱量Qが一定で、配線基板3の要求する熱量がQである場合、リフロー炉1に供給される供給熱量Qと配線基板3の必要熱量Qとの交点Uを見つけ、コンベア15の移動速度vとすればよい。そうして、異なる配線基板3が要求する熱量がQである場合、リフロー炉1に供給される供給熱量Qと配線基板3の必要熱量Qとの交点Vを見つけ、コンベア15の移動速度vとすればよい。 Alternatively, the amount of heat (heat flow) supplied to the reflow furnace 1 is constant, and different wiring boards 3 (including all objects including the electronic component 2 and the solder paste 4 mounted on the wiring board 3) are used in the reflow furnace 1. What is necessary is just to adjust the moving speed v of the conveyor 15, when soldering. Specifically, as shown in the graph of FIG. 6, when the amount of heat Q supplied to the reflow furnace 1 is constant and the amount of heat required by the wiring board 3 is Q A , the amount of heat supplied Q W supplied to the reflow furnace 1 an intersection U of the required heat quantity Q a of the wiring board 3 and find, may be set as the moving speed v 1 of the conveyor 15. Then, if different heat wiring board 3 requires is Q B, find the intersection V of the heat supplied Q W supplied to the reflow furnace 1 requires heat Q B of the wiring board 3, the movement of the conveyor 15 The speed v 3 may be used.

このように本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、被加熱物1を加熱処理するために要する熱エネルギーK、気体7の流量Qおよび加熱温度ΔT(処理温度−周囲温度)をパラメータとして[K=Q×ΔT]を満足するように制御部22(熱エネルギー調整部)が制御している。つまり、これら3つのパラメータのうち、いずれか2つが定まれば残りのパラメータは、一義的に定まることになる。よって、制御部22が、この演算を行うことにより被加熱物1を加熱処理するために最適な熱量を供給することができる。 As described above, the heating furnace control method and control apparatus according to the present invention use the parameters of the thermal energy K E required for heat-treating the article 1 to be heated, the flow rate Q of the gas 7 and the heating temperature ΔT (treatment temperature-ambient temperature) as parameters. Is controlled by the control unit 22 (thermal energy adjustment unit) so as to satisfy [K E = Q × ΔT]. That is, if any two of these three parameters are determined, the remaining parameters are uniquely determined. Therefore, the control part 22 can supply the optimal amount of heat to heat the object to be heated 1 by performing this calculation.

かくして本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置は、マスフローコントローラ20(流量調整部)によってリフロー炉1に送り込まれる気体(例えば、空気や窒素ガス等)9の流量を予め設定された質量流量に調整するとともに、このマスフローコントローラ20とリフロー炉1との間に介挿されたヒータ13(気体加熱部)を協働させて、予め設定された温度に気体を加熱・制御する制御部22(熱エネルギー調整部)を備えているので、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができ、リフロー炉1内の配線基板上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができる。したがって、本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置は、高品質のはんだ付けを行うことができる。   Thus, in the heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied, the flow rate of the gas (for example, air or nitrogen gas) 9 sent to the reflow furnace 1 by the mass flow controller 20 (flow rate adjusting unit) is preset. In addition to adjusting the mass flow rate, the heater 13 (gas heating unit) inserted between the mass flow controller 20 and the reflow furnace 1 cooperates to heat and control the gas to a preset temperature. Since the control unit 22 (thermal energy adjusting unit) is provided, the thermal energy of the gas can be kept constant, and the heat most suitable for soldering the solder paste applied on the wiring board in the reflow furnace 1 Can give energy. Therefore, the heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied can perform high-quality soldering.

次に本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置の変形例を図7に示す図面を参照しながら説明する。この変形例は、マスフローコントローラ20が制御する質量流量一定制御の変動に応じてヒータ13の加熱温度を制御する流量追従制御と、温度調節部10が制御する温度一定制御の変動に応じてマスフローコントローラ20の流量制御量を調整する温度追従制御をもったリフロー炉の制御装置であって、上述した実施形態と同機能を有する部位には同符号を付し、その説明を省略する。   Next, a modification of the control device for the reflow furnace according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawing shown in FIG. In this modified example, the flow rate follow-up control for controlling the heating temperature of the heater 13 according to the variation in the constant mass flow control controlled by the mass flow controller 20 and the mass flow controller according to the variation in the constant temperature control controlled by the temperature adjustment unit 10. A reflow furnace control apparatus having a temperature follow-up control that adjusts a flow rate control amount of 20 is provided with the same reference numerals for parts having the same functions as those of the above-described embodiment, and the description thereof is omitted.

マスフローコントローラ20は、配管9を流れる気体7の流量を調整する可動弁20a、この可動弁20aを介して流れる気体7の質量流量を検出して質量流量情報を出力する質量流量検出部20b、流量設定部21から出される流量指令と質量流量検出部20bが検出した質量流量情報とを比較してその偏差情報を出力する比較部20cおよびこの比較部20cが求めた偏差情報を受けて可動弁20aの弁開度を調整し、気体7の質量流量が、流量設定部21から与えられた流量になるよう調整する弁調節部20dを備えて構成される。   The mass flow controller 20 includes a movable valve 20a that adjusts the flow rate of the gas 7 that flows through the pipe 9, a mass flow rate detection unit 20b that detects the mass flow rate of the gas 7 that flows through the movable valve 20a, and outputs mass flow information. The comparison unit 20c that compares the flow rate command issued from the setting unit 21 with the mass flow rate information detected by the mass flow rate detection unit 20b and outputs the deviation information, and receives the deviation information obtained by the comparison unit 20c and receives the deviation information. The valve opening 20 is adjusted, and the valve 7 is configured to adjust the mass flow rate of the gas 7 to the flow rate given from the flow rate setting unit 21.

一方、温度コントローラ30は、リフロー炉1内の温度を一定に維持するべく配管9を流れる気体7を加熱するヒータ13と、このヒータ13によって加熱されてリフロー炉1内に送り込まれる熱風の温度を検出する温度検出部(温度センサ)12、温度設定部11から出される温度指定と、温度検出部12が検出した熱風の温度とを比較して、その偏差情報を出力する比較部31およびこの比較部31が求めた偏差情報を受けてヒータ13に通電する電流値を調整して、気体7の温度が温度設定部11から与えられた温度に調整するヒータ調節部(温度調節部)10を備えて構成される。   On the other hand, the temperature controller 30 heats the gas 7 flowing through the pipe 9 to keep the temperature in the reflow furnace 1 constant, and the temperature of the hot air heated by the heater 13 and sent into the reflow furnace 1. The temperature detection unit (temperature sensor) 12 to be detected, the temperature designation output from the temperature setting unit 11 and the temperature of the hot air detected by the temperature detection unit 12 are compared, and the comparison unit 31 that outputs the deviation information and this comparison The heater adjustment unit (temperature adjustment unit) 10 is provided that receives the deviation information obtained by the unit 31 and adjusts the value of the current supplied to the heater 13 to adjust the temperature of the gas 7 to the temperature given from the temperature setting unit 11. Configured.

またマスフローコントローラ20の質量流量検出部20bが検出した質量流量情報は、流量追従制御部40に与えられる。この流量追従制御部40は、制御部22が流量設定部21に与える流量設定値と比較する比較部41を備える。この比較部41は、制御部22が流量設定部21に与える流量設定値から質量流量検出部20bが検出した質量流量情報を差し引いた値(流量差分値)を求めて出力される。そして比較部41から出力された流量差分値は、所定のゲインに増幅して出力するゲイン調整部42を介して、増幅された流量差分値(流量変化分)に対する設定温度近傍の温度変化を求める微分回路(dT/dQ)43に与えられる。この微分回路43の出力は、制御部22が温度設定部11に与える温度指令値と、加算部44に加えられて温度設定部11に与えられる。   The mass flow rate information detected by the mass flow rate detection unit 20 b of the mass flow controller 20 is given to the flow rate tracking control unit 40. The flow rate tracking control unit 40 includes a comparison unit 41 that compares the flow rate setting value that the control unit 22 gives to the flow rate setting unit 21. The comparison unit 41 obtains and outputs a value (flow rate difference value) obtained by subtracting the mass flow rate information detected by the mass flow rate detection unit 20b from the flow rate setting value given to the flow rate setting unit 21 by the control unit 22. The flow rate difference value output from the comparison unit 41 obtains a temperature change in the vicinity of the set temperature with respect to the amplified flow rate difference value (flow rate change amount) via a gain adjustment unit 42 that amplifies the output to a predetermined gain and outputs the gain. It is given to the differentiation circuit (dT / dQ) 43. The output of the differentiating circuit 43 is added to the temperature command value given to the temperature setting unit 11 by the control unit 22 and the addition unit 44 and is given to the temperature setting unit 11.

このように構成することで気体7の質量流量が何らかの要因で変動したとしても、流量追従制御部40がその変動分を抑えるようにしてヒータ13の温度を調整する。具体的には、リフロー炉1に流入する気体7の流入量が増加したとき、流量追従制御部40は、ヒータ13が調整する気体7の温度を低下させる指令を出力する一方、リフロー炉1に流入する気体7の流入量が減少したとき、ヒータ13が調整する気体7の温度を上昇させる指令を出力する。したがって、リフロー炉1の周囲温度の変化、リフロー炉1内ではんだ付けする配線基板3の熱負荷が変化した等の理由によってリフロー炉1に流れ込む気体7の流量が変化したとしても、流量追従制御部40は、この流量変化分に見合う分の温度補正をして温度設定部11に与えているので、気体7がもつ熱エネルギーを一定に維持することができる。このため本発明に係る加熱炉の制御方法および制御装置は、リフロー炉1内の配線基板3上に塗布されたはんだペーストにはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができる。   With this configuration, even if the mass flow rate of the gas 7 varies due to some factor, the flow rate tracking control unit 40 adjusts the temperature of the heater 13 so as to suppress the variation. Specifically, when the inflow amount of the gas 7 flowing into the reflow furnace 1 increases, the flow rate tracking control unit 40 outputs a command to lower the temperature of the gas 7 adjusted by the heater 13 while the reflow furnace 1 When the inflow amount of the inflowing gas 7 decreases, a command to increase the temperature of the gas 7 adjusted by the heater 13 is output. Therefore, even if the flow rate of the gas 7 flowing into the reflow furnace 1 changes due to a change in the ambient temperature of the reflow furnace 1 or a change in the thermal load of the wiring board 3 to be soldered in the reflow furnace 1, the flow following control is performed. Since the unit 40 corrects the temperature corresponding to the change in the flow rate and gives it to the temperature setting unit 11, the thermal energy of the gas 7 can be kept constant. For this reason, the heating furnace control method and control apparatus according to the present invention can give thermal energy optimum for soldering to the solder paste applied on the wiring board 3 in the reflow furnace 1.

一方、温度コントローラ30の温度検出部12が検出した炉内の温度情報は、温度追従制御部50に与えられる。この温度追従制御部50は、制御部22が温度設定部11に与える温度設定値と比較する比較部51を備える。この比較部51は、制御部22が温度設定部11に与える温度設定値から温度検出部12が検出した温度情報を差し引いた値(温度差分値)を求めて出力される。この比較部51から出力された温度差分値は、所定のゲインに増幅して出力するゲイン調整部52を介して、増幅された温度差分値(温度変化分)に対する設定流量近傍の流量変化を求める微分回路(dQ/dT)53に与えられる。そして微分回路53の出力は、制御部22が流量設定部21に与える流量指令値と加算して出力する加算部54に加えられて流量設定部21に与えられる。   On the other hand, the temperature information in the furnace detected by the temperature detection unit 12 of the temperature controller 30 is given to the temperature tracking control unit 50. The temperature tracking control unit 50 includes a comparison unit 51 that compares the temperature setting value that the control unit 22 gives to the temperature setting unit 11. The comparison unit 51 obtains and outputs a value (temperature difference value) obtained by subtracting the temperature information detected by the temperature detection unit 12 from the temperature setting value given to the temperature setting unit 11 by the control unit 22. The temperature difference value output from the comparison unit 51 obtains a flow rate change in the vicinity of the set flow rate with respect to the amplified temperature difference value (temperature change amount) via a gain adjustment unit 52 that amplifies the output to a predetermined gain and outputs it. It is given to the differentiation circuit (dQ / dT) 53. The output of the differentiation circuit 53 is added to a flow rate command value given to the flow rate setting unit 21 by the control unit 22 and added to the addition unit 54 to be output to the flow rate setting unit 21.

このように構成することで、温度コントローラ30が制御して出力される気体7の温度が何らかの要因で変動したとしても、温度追従制御部50がその変動分を抑えるようにして気体7の質量流量を調整する。具体的に本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、リフロー炉1の温度が上昇したとき、マスフローコントローラ(流量調整計)20が調整する気体7の流量を減少させる指令を与える一方、リフロー炉1の温度が低下したとき、気体7の流量を増加させる指令を与えるものとしている。このためリフロー炉1の周囲温度の変化、リフロー炉1内ではんだ付けする配線基板3の熱負荷が変化した等の理由によってリフロー炉1の温度が変化したとしても、気体のもつ熱エネルギーを一定に維持することができる。   By configuring in this way, even if the temperature of the gas 7 controlled and output by the temperature controller 30 fluctuates due to some factor, the temperature follow-up control unit 50 suppresses the fluctuation and the mass flow rate of the gas 7 Adjust. Specifically, the control method and control device for a heating furnace according to the present invention provides a command to reduce the flow rate of the gas 7 adjusted by the mass flow controller (flow rate controller) 20 when the temperature of the reflow furnace 1 rises, When the temperature of the furnace 1 decreases, a command to increase the flow rate of the gas 7 is given. For this reason, even if the temperature of the reflow furnace 1 changes due to a change in the ambient temperature of the reflow furnace 1 or a change in the thermal load of the wiring board 3 to be soldered in the reflow furnace 1, the thermal energy of the gas is constant. Can be maintained.

したがって本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、リフロー炉1内の配線基板3上に塗布されたはんだペースト4にはんだ付けに最適な熱エネルギーを与えることができ、高品質のはんだ付けが可能となる。
次に、本発明の加熱炉の制御方法を適用した加熱炉の制御装置における第二の実施形態について説明する。この第二の実施形態が前述した実施形態と異なるところは、コンベアを用いず、マウンタによって電子部品2の電極が位置するように載置された配線基板3をリフロー炉1内に載置し、はんだ付け処理を行うもので、少量多品種の生産に適した加熱炉の制御装置とした点にある。
Therefore, the control method and control device for the heating furnace of the present invention can give the thermal energy optimum for soldering to the solder paste 4 applied on the wiring board 3 in the reflow furnace 1, and high quality soldering can be achieved. It becomes possible.
Next, a second embodiment of the heating furnace control apparatus to which the heating furnace control method of the present invention is applied will be described. The second embodiment is different from the above-described embodiment in that the wiring board 3 placed so that the electrode of the electronic component 2 is located by the mounter is placed in the reflow furnace 1 without using a conveyor. This is a soldering process, and it is a control device for a heating furnace suitable for the production of a small variety of products.

前述したように配線基板3に載置された電子部品2をはんだ付けするには、図9に示すような予熱工程(プレヒート)が必要である。そこで、本発明の加熱炉の制御装置を適用した加熱炉は、リフロー炉1に送り込む気体の流量および温度を、温度プロファイルに合致するように制御部22が制御することで、はんだ付けに相応しい温度プロファイルを実行することができる。したがって、本発明の加熱炉の制御装置を適用した加熱炉は、少量多品種の配線基板3をはんだ付けする際、温度プロファイルの再設定に要する時間を不要とすると共に、予熱のための加熱炉が不要であり、設置面積を削減することができる等の多大なる効果を奏する。   As described above, in order to solder the electronic component 2 placed on the wiring board 3, a preheating step (preheating) as shown in FIG. 9 is necessary. Accordingly, in the heating furnace to which the heating furnace control device of the present invention is applied, the flow rate and temperature of the gas fed into the reflow furnace 1 are controlled by the control unit 22 so as to match the temperature profile, so that the temperature suitable for soldering. You can run a profile. Therefore, the heating furnace to which the control device for the heating furnace of the present invention is applied eliminates the time required for resetting the temperature profile when soldering a small number of various types of wiring boards 3, and also a heating furnace for preheating. Is unnecessary, and there is a great effect that the installation area can be reduced.

尚、本発明の加熱炉の制御方法および制御装置は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉に適用可能である他、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論可能である。   In addition, the control method and control apparatus of the heating furnace of the present invention are not limited to the above-described embodiment, and can be applied to a heating furnace that heats an object to be heated by gas fed into the furnace, Of course, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

本発明の一実施形態に係るリフロー炉の制御装置の全体構成を示す概略ブロック図。The schematic block diagram which shows the whole structure of the control apparatus of the reflow furnace which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示すリフロー炉にコンベアにて搬送される配線基板を模式的に表した図。The figure which represented typically the wiring board conveyed with the conveyor to the reflow furnace shown in FIG. 図1に示すリフロー炉の熱回路を示す等価回路。The equivalent circuit which shows the thermal circuit of the reflow furnace shown in FIG. コンベアの搬送速度に対する配線基板が要求する必要熱量とリフロー炉が配線基板に供給できる供給熱量との関係を一例として示すグラフ。The graph which shows the relationship between the required heat amount which a wiring board requires with respect to the conveyance speed of a conveyor, and the supply heat amount which a reflow furnace can supply to a wiring board as an example. コンベアの搬送速度を変化させたとき、リフロー炉が配線基板に供給すべき供給熱量の関係を一例として示すグラフ。The graph which shows the relationship of the heat supply amount which a reflow furnace should supply to a wiring board as an example, when the conveyance speed of a conveyor is changed. 配線基板の状態(表面熱抵抗)を変化させたとき、設定すべきコンベアの移動速度の関係を一例として示すグラフ。The graph which shows the relationship of the moving speed of the conveyor which should be set as an example, when the state (surface thermal resistance) of a wiring board is changed. 図1に示すリフロー炉を変形した実施形態に係るリフロー炉の制御装置の全体構成を示す概略ブロック図。The schematic block diagram which shows the whole structure of the control apparatus of the reflow furnace which concerns on embodiment which deform | transformed the reflow furnace shown in FIG. 従来のリフロー炉の制御装置の全体構成を示す概略ブロック図。The schematic block diagram which shows the whole structure of the control apparatus of the conventional reflow furnace. リフロー炉における温度プロファイルの一例を示す図。The figure which shows an example of the temperature profile in a reflow furnace. 質量流量センサの概略構成図。The schematic block diagram of a mass flow sensor. 図10の質量流量センサに適用されるヒータ駆動回路と流量検出回路の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the heater drive circuit and flow detection circuit which are applied to the mass flow sensor of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 リフロー炉
2 電子部品
3 配線基板
4 ペースト
6 ボンベ
7 気体
8 レギュレータ
9 配管
10 温度調節部
11 温度設定部
12 温度検出部
13 ヒータ
20 マスフローコントローラ
21 流量設定部
22 制御部
30 温度コントローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reflow furnace 2 Electronic component 3 Wiring board 4 Paste 6 Cylinder 7 Gas 8 Regulator 9 Piping 10 Temperature control part 11 Temperature setting part 12 Temperature detection part 13 Heater 20 Mass flow controller 21 Flow rate setting part 22 Control part 30 Temperature controller

Claims (7)

炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉の制御方法であって、
前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整工程と、
この流量調整工程で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱工程と、
前記流量調整工程と前記気体加熱工程とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整工程と
を備えることを特徴とする加熱炉の制御方法。
A method for controlling a heating furnace that heats an object to be heated by gas fed into the furnace,
A flow rate adjusting step for adjusting the flow rate of the gas to a preset mass flow rate;
A gas heating step of heating the gas adjusted in the flow rate adjustment step to a preset temperature;
A heating energy adjusting step of adjusting the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value by cooperating the flow rate adjusting step and the gas heating step. Control method.
前記エネルギー調整工程は、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が増加したとき、前記気体加熱工程に前記気体の温度を低下させる指令を与える一方、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が減少したとき、前記気体加熱工程に前記気体の温度を上昇させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整するものである請求項1に記載の加熱炉の制御方法。   In the energy adjustment step, when the inflow amount of the gas flowing into the heating furnace increases, the gas heating step gives a command to lower the temperature of the gas, while the inflow amount of the gas flowing into the heating furnace. 2. The heating according to claim 1, wherein when the gas is reduced, the gas heating step is given a command to increase the temperature of the gas to adjust the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value. How to control the furnace. 前記エネルギー調整工程は、前記加熱炉の温度が上昇したとき、前記流量調整工程に前記気体の流量を減少させる指令を与える一方、前記加熱炉の温度が低下したとき、前記流量調整工程に前記気体の流量を増加させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整するものである請求項1に記載の加熱炉の制御方法。   When the temperature of the heating furnace rises, the energy adjustment process gives an instruction to reduce the flow rate of the gas to the flow rate adjustment process, while when the temperature of the heating furnace falls, the gas is supplied to the flow rate adjustment process. The heating furnace control method according to claim 1, wherein a heat energy of the gas fed into the furnace is adjusted to a predetermined value by giving a command to increase the flow rate of the furnace. 炉内に送り込まれる気体により被加熱物を加熱する加熱炉の制御装置であって、
前記加熱炉に前記気体が送り込まれる配管に介挿されて、この配管に流れる前記気体の流量を予め設定された質量流量に調整する流量調整部と、
この流量調整部の後段の配管に設けられて、前記流量調整部で調整された前記気体を予め設定された温度に加熱する気体加熱部と、
前記流量調整部と前記気体加熱部とを協働させて、前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整する熱エネルギー調整部と
を備えることを特徴とする加熱炉の制御装置。
A control device for a heating furnace that heats an object to be heated by gas sent into the furnace,
A flow rate adjusting unit that is inserted into a pipe through which the gas is fed into the heating furnace and adjusts the flow rate of the gas flowing through the pipe to a preset mass flow rate;
A gas heating unit that is provided in a downstream pipe of the flow rate adjustment unit and heats the gas adjusted by the flow rate adjustment unit to a preset temperature;
A heating furnace comprising: a heat energy adjusting unit that adjusts the thermal energy of the gas fed into the furnace to a predetermined value by cooperating the flow rate adjusting unit and the gas heating unit. Control device.
前記熱エネルギー調整部は、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が増加したとき、前記気体加熱部が加熱する前記気体の温度を低下させる指令を与える一方、前記加熱炉に流入する前記気体の流入量が減少したとき、前記気体加熱部が加熱する前記気体の温度を上昇させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整するものである請求項4に記載の加熱炉の制御装置。   The thermal energy adjusting unit gives a command to lower the temperature of the gas heated by the gas heating unit when the amount of the gas flowing into the heating furnace increases, while the gas flowing into the heating furnace The gas energy supplied to the furnace is adjusted to a predetermined value by giving a command to raise the temperature of the gas heated by the gas heating unit when the inflow amount of the gas decreases. 4. A control apparatus for a heating furnace according to 4. 前記熱エネルギー調整部は、前記加熱炉の温度が上昇したとき、前記流量調整部に前記気体の流量を減少させる指令を与える一方、前記加熱炉の温度が低下したとき、前記流量調整部に前記気体の流量を増加させる指令を与えて前記炉内に送り込まれる前記気体が有する熱エネルギーを所定の値に調整するものである請求項4に記載の加熱炉の制御装置。   When the temperature of the heating furnace rises, the thermal energy adjustment unit gives an instruction to reduce the flow rate of the gas to the flow rate adjustment unit, while when the temperature of the heating furnace decreases, the flow rate adjustment unit The control apparatus of the heating furnace of Claim 4 which gives the instruction | command which increases the flow volume of gas, and adjusts the thermal energy which the said gas sent into the said furnace has to a predetermined value. 前記加熱炉は、電子部品を実装する配線基板の予め形成されたランドに塗布されたはんだペーストを溶融して上記電子部品を取り付けるリフロー炉である請求項4〜6のいずれかに記載の加熱炉の制御装置。   The heating furnace according to any one of claims 4 to 6, wherein the heating furnace is a reflow furnace in which a solder paste applied to a pre-formed land of a wiring board on which an electronic component is mounted is melted and the electronic component is attached. Control device.
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