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JP4771421B2 - Holding device and substrate delivery method - Google Patents
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JP4771421B2 - Holding device and substrate delivery method - Google Patents

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Description

本発明は、例えば半導体基板等の被処理物の搬送用ロボット又は基板を支持するステージに適用される保持装置及び基板受け渡し方法に関する。   The present invention relates to a holding device and a substrate delivery method applied to a stage for supporting a substrate or a robot for transferring an object to be processed such as a semiconductor substrate.

従来より、半導体製造の分野においては、多関節アームを備えた基板搬送ロボットが用いられている。図6は、この種の従来の基板搬送ロボットの概略構成を示す斜視図である。この基板搬送ロボット1は、駆動部2と、この駆動部2に連結された多関節構造のアーム3と、アーム3の先端に連結されたハンド4とを有している。ハンド4はその上面で基板の裏面を支持し、成膜室やエッチング室等の複数の処理室間において基板を搬送したり、ステージや基板収納カセット等との間において基板の受け渡しを行う。   Conventionally, in the field of semiconductor manufacturing, a substrate transfer robot having an articulated arm has been used. FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of this type of conventional substrate transfer robot. The substrate transport robot 1 includes a drive unit 2, an articulated arm 3 connected to the drive unit 2, and a hand 4 connected to the tip of the arm 3. The hand 4 supports the back surface of the substrate on its upper surface, transports the substrate between a plurality of processing chambers such as a film formation chamber and an etching chamber, and transfers the substrate to and from a stage, a substrate storage cassette, and the like.

基板の支持面として構成されるハンド4の上面には、図7に示すように、基板Wの裏面の所定箇所に接触する複数の保持部5が設けられている。これらの保持部5は、ゴム等の弾性材料で形成され、基板Wの裏面に対する滑り止め機能をもつ。これにより、ハンド4の上面において基板Wの安定した搬送姿勢を保持するようにしている(例えば下記特許文献1参照)。   On the upper surface of the hand 4 configured as a support surface of the substrate, as shown in FIG. These holding portions 5 are formed of an elastic material such as rubber and have a non-slip function with respect to the back surface of the substrate W. Thereby, the stable conveyance attitude | position of the board | substrate W is hold | maintained on the upper surface of the hand 4 (for example, refer patent document 1 below).

一方、処理室において基板を支持するステージにおける基板保持方法として、バキュームチャックや静電チャック、メカニカルチャック等が知られている。また、フッ素系ゴムやシリコーンゴム等からなるゴム材料の粘着性を利用して基板を保持する方式がある。例えば下記特許文献2には、複数のOリングをその中心軸がステージ面と平行となるように配置し、これらOリングの周面で基板の裏面を粘着支持することで、基板の位置ズレを防止する構成が開示されている。   On the other hand, vacuum chucks, electrostatic chucks, mechanical chucks, and the like are known as substrate holding methods on a stage that supports a substrate in a processing chamber. There is also a method for holding the substrate by utilizing the adhesiveness of a rubber material made of fluorine rubber, silicone rubber, or the like. For example, in Patent Document 2 below, a plurality of O-rings are arranged so that their central axes are parallel to the stage surface, and the back surface of the substrate is adhesively supported by the peripheral surfaces of these O-rings, thereby shifting the position of the substrate. A configuration to prevent is disclosed.

特開平9−246353号公報JP 9-246353 A 特開2006−86427号公報JP 2006-86427 A

上述した従来の構成の基板搬送ロボットにおいては、ハンド4の支持面に複数の保持部5を配置する構成により、基板裏面に対して一定の滑り止め効果は得られるものの、一定以上の加速度や振動に対しての基板保持性が乏しいため、基板の高速搬送を実現することができないという欠点がある。このため、生産性の大幅な向上を図ることができない。   In the substrate transport robot having the conventional configuration described above, the configuration in which the plurality of holding portions 5 are arranged on the support surface of the hand 4 can provide a certain anti-slip effect on the back surface of the substrate, but acceleration and vibration above a certain level. However, there is a disadvantage that high-speed conveyance of the substrate cannot be realized. For this reason, the productivity cannot be significantly improved.

一方、ステージについて、バキュームチャック方式は、真空雰囲気中での使用が不可能であるという問題がある。また、静電チャック方式は、真空雰囲気中においても使用できる反面、デチャック(静電チャック解除)時における基板の除電に時間がかかるため、生産性の向上が図れないという問題がある。更に、メカニカルチャック方式においては、真空中での使用が可能でありデチャックも速やかに行える点で、バキュームチャックや静電チャックに比べて有利であるが、メカニカルクランプ方式は、ダストが発生する問題がある。   On the other hand, the vacuum chuck system has a problem that it cannot be used in a vacuum atmosphere. In addition, the electrostatic chuck method can be used even in a vacuum atmosphere, but there is a problem in that productivity cannot be improved because it takes time to remove static electricity from the substrate during dechucking (electrostatic chuck release). Furthermore, the mechanical chuck method is advantageous over vacuum chucks and electrostatic chucks in that it can be used in vacuum and can be de-chucked quickly, but the mechanical clamp method has a problem of generating dust. is there.

更に、弾性材料の粘着性を利用した基板保持方法においては、基板の受け渡し時に弾性材料が基板裏面に貼り付いてしまうことがあり、これを原因として、基板に振動が生じて位置ズレを生じさせ、ダストを発生させるなどの問題がある。   Furthermore, in the substrate holding method using the adhesiveness of the elastic material, the elastic material may stick to the back surface of the substrate when the substrate is delivered, and this causes the substrate to vibrate and cause misalignment. There are problems such as generating dust.

本発明は上述の問題に鑑みてなされ、基板の保持性を高められるとともに、ダストが発生せず、生産性にも優れ、更には基板の受け渡しをも円滑に行うことができる保持装置及び基板受け渡し方法を提供することを課題とする。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. The holding device and the substrate delivery that can improve the holding property of the substrate, do not generate dust, are excellent in productivity, and can smoothly deliver the substrate. It is an object to provide a method.

以上の課題を解決するに当たり、本発明の保持装置は、被処理物を支持する支持面と、上記支持面の少なくとも一部に設けられた保持部とを備え、上記保持部は、電圧の大きさによって粘着力が可変な機能性粘着素子からなることを特徴とする。   In solving the above problems, the holding device of the present invention includes a support surface that supports an object to be processed, and a holding portion that is provided on at least a part of the support surface, and the holding portion has a large voltage. It is characterized by comprising a functional adhesive element whose adhesive strength is variable depending on the thickness.

このように、支持面に設けられた保持部を上記機能性粘着素子で構成することにより、被処理物に対する保持力を電気的に制御することが可能となり、被処理物の高速搬送と、被処理物の円滑な受け渡しを実現することができる。   Thus, by configuring the holding portion provided on the support surface with the functional adhesive element, it is possible to electrically control the holding force with respect to the object to be processed. Smooth delivery of processed products can be realized.

本発明において、被処理物は、半導体基板やガラス基板等の板状部品が挙げられるが、勿論これに限られない。支持面としては、基板搬送ロボット等の搬送機構における基板を支持するハンドの上面が該当する。また、支持面は、被処理物を搬送する搬送機構から被処理物が移載されるステージの上面で構成でき、この場合、上記機能性粘着素子は、ステージ上面自体、又は、ステージ上面から上方へ突出可能なリフターピンの先端部に設けられる。   In the present invention, examples of the object to be processed include plate-like parts such as a semiconductor substrate and a glass substrate, but of course not limited thereto. The support surface corresponds to the upper surface of a hand that supports a substrate in a transport mechanism such as a substrate transport robot. Further, the support surface can be constituted by the upper surface of the stage on which the workpiece is transferred from the transport mechanism that transports the workpiece. In this case, the functional adhesive element is located above the stage upper surface itself or the stage upper surface. It is provided at the tip of the lifter pin that can project to the rear.

ここで、上記機能性粘着素子としては、電気レオロジー効果を利用した粘着素子を好適に用いることができる。この素子は、ゲル状電気絶縁性媒体中に電気レオロジー粒子を分散させ、電圧の大きさで媒体表面における粒子の凝集性を制御するものである。従って、ゲル状媒体を粘着性のある材料で構成すれば、印加電圧の大きさで媒体表面の粘着性を可変とすることができる。   Here, as the functional adhesive element, an adhesive element utilizing an electrorheological effect can be suitably used. In this element, electrorheological particles are dispersed in a gel-like electrically insulating medium, and the aggregation property of the particles on the surface of the medium is controlled by the magnitude of the voltage. Therefore, if the gel-like medium is made of an adhesive material, the adhesiveness on the surface of the medium can be varied depending on the applied voltage.

一方、本発明の基板受け渡し方法は、基板を搬送する搬送機構と、基板を処理するためのステージとの間で、基板の受け渡しを行う基板受け渡し方法であって、
上記搬送機構のハンドの基板支持面の少なくとも一部に、電圧の大きさによって粘着力が可変な機能性粘着素子を配置し、
上記搬送機構で基板を搬送するときは、上記機能性粘着素子の粘着力で基板を保持し、上記ステージへ基板を移載するときは、上記機能性粘着素子の粘着力を消失させる。
On the other hand, the substrate delivery method of the present invention is a substrate delivery method for delivering a substrate between a transport mechanism for transporting a substrate and a stage for processing the substrate,
A functional adhesive element whose adhesive strength is variable depending on the magnitude of voltage is disposed on at least a part of the substrate support surface of the hand of the transport mechanism,
When the substrate is transported by the transport mechanism, the substrate is held by the adhesive force of the functional adhesive element, and when the substrate is transferred to the stage, the adhesive force of the functional adhesive element is lost.

好適には、上記ステージの上面から上方へ突出可能なリフターピンの先端部にも上記機能性粘着素子を配置し、
上記リフターピンで基板を支持するときは、リフターピンの機能性粘着素子の粘着力で基板を保持し、上記搬送機構へ基板を移載するときは、上記リフターピンの機能性粘着素子の粘着力を消失させる。
Preferably, the functional adhesive element is also arranged at the tip of the lifter pin that can protrude upward from the upper surface of the stage,
When supporting the substrate with the lifter pin, hold the substrate with the adhesive force of the functional adhesive element of the lifter pin, and when transferring the substrate to the transport mechanism, the adhesive force of the functional adhesive element of the lifter pin Disappear.

これにより、基板の受け渡し時における保持部と基板裏面との貼り付きによる基板の振動の発生や位置ズレを防止して、基板の円滑な受け渡しが可能となる。また、基板を受け取った後の保持部の粘着性を高めることで、基板の安定した搬送姿勢を保持し、基板の高速搬送を実現することができる。   Accordingly, the substrate can be smoothly transferred by preventing the occurrence of vibration and positional deviation of the substrate due to the attachment between the holding portion and the back surface of the substrate when the substrate is transferred. In addition, by increasing the adhesiveness of the holding unit after receiving the substrate, it is possible to maintain a stable transport posture of the substrate and realize high-speed transport of the substrate.

以上述べたように、本発明によれば、保持部における基板の粘着性を任意に調整することができるので、基板の保持性を高めて基板の高速搬送を実現することができる。また、基板の受け渡し時に基板の位置ズレを生じさせることなく円滑に行うことができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to arbitrarily adjust the adhesiveness of the substrate in the holding unit, so that it is possible to improve the holding property of the substrate and realize high-speed conveyance of the substrate. In addition, the substrate can be smoothly transferred without causing a positional shift of the substrate.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施形態を示す図であり、被処理物として半導体基板(以下、単に「基板」ともいう。)Wを搬送する基板搬送ロボット(搬送機構)10のハンド11と、この基板搬送ロボット10から基板Wが移載されるステージ12とを示す概略斜視図である。これら基板搬送ロボット10とステージ12とは、本発明に係る「保持装置」の一具体例である。   FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention. A hand 11 of a substrate transfer robot (transfer mechanism) 10 that transfers a semiconductor substrate (hereinafter also simply referred to as “substrate”) W as an object to be processed, FIG. 3 is a schematic perspective view showing a stage 12 on which a substrate W is transferred from the substrate transfer robot 10. The substrate transfer robot 10 and the stage 12 are specific examples of the “holding device” according to the present invention.

基板搬送ロボット10は、そのハンド12の部分のみ示しているが、図6を参照して説明した従来の基板搬送ロボットと同様に、駆動部や多関節アーム等を備え、ハンド11は上記多関節アームの先端に連結されている。   The substrate transfer robot 10 shows only the portion of the hand 12. However, like the conventional substrate transfer robot described with reference to FIG. 6, the substrate transfer robot 10 includes a drive unit, an articulated arm, and the like. It is connected to the tip of the arm.

ハンド11はフォーク状に形成され、その上面は基板Wの裏面を支持する支持面11aとされている。そして、ハンド11の支持面11aには、基板Wの裏面の所定箇所に接触する複数の保持部13が設けられている。これらの保持部13は、粘着力を電気的に制御することができる機能性粘着素子で構成されている。なお、図において保持部13は、支持面11aに対して突出形成されているが、支持面11aと同一面に構成されていてもよい。また、上記機能性粘着素子の詳細については後述する。   The hand 11 is formed in a fork shape, and its upper surface is a support surface 11 a that supports the back surface of the substrate W. The support surface 11 a of the hand 11 is provided with a plurality of holding portions 13 that come into contact with predetermined locations on the back surface of the substrate W. These holding | maintenance parts 13 are comprised by the functional adhesive element which can control adhesive force electrically. In addition, although the holding | maintenance part 13 is protrudingly formed with respect to the support surface 11a in the figure, you may be comprised in the same surface as the support surface 11a. Details of the functional adhesive element will be described later.

一方、ステージ12は、成膜室やエッチング室等の処理室を形成する真空チャンバ(図示略)の内部に設置されており、その上面には、基板搬送ロボット10を介して搬送された基板Wが移載される支持面12aが構成されている。支持面12aは基板Wよりも大きな面積で形成されており、その略中央部には、複数本のリフターピン14が配置されている。   On the other hand, the stage 12 is installed inside a vacuum chamber (not shown) that forms a processing chamber such as a film formation chamber or an etching chamber, and a substrate W transferred via the substrate transfer robot 10 is provided on the upper surface thereof. The support surface 12a to which is transferred is configured. The support surface 12a is formed with an area larger than that of the substrate W, and a plurality of lifter pins 14 are disposed at a substantially central portion thereof.

リフターピン14は、基板処理等の通常時においてステージ12の内部に退避しており、基板搬送ロボット10との基板受け渡し時においては図示するようにステージ12の上面12aから上方へ突出可能に構成されている。そして、これらリフターピン14の先端部には、ハンド11の保持部13と同様に機能性粘着素子からなる保持部15が設けられている。   The lifter pin 14 is retracted inside the stage 12 during normal processing such as substrate processing, and is configured to protrude upward from the upper surface 12a of the stage 12 as shown in FIG. ing. And the holding | maintenance part 15 which consists of a functional adhesive element similarly to the holding | maintenance part 13 of the hand 11 is provided in the front-end | tip part of these lifter pins 14. As shown in FIG.

図2は、ハンド11の保持部13及びリフターピン14の保持部15の構成を概略的に示す断面図である。保持部13,15は、電圧の大きさによって粘着力を変化させることができる機能性粘着素子20で構成することができる(例えば特開2005−255701号公報参照)。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the holding portion 13 of the hand 11 and the holding portion 15 of the lifter pin 14. The holding parts 13 and 15 can be configured by a functional adhesive element 20 that can change the adhesive force depending on the magnitude of the voltage (see, for example, JP-A-2005-255701).

この機能性粘着素子20は、電気レオロジー効果(ER効果)を利用した素子で、ゲル状電気絶縁性材料からなる媒体21と、媒体21内に分散された電気レオロジー粒子22と、粒子22に電圧を印加する一対の電極23a,23bとを備えている。粒子22は、媒体21中に分散して電気レオロジー効果を示すものであれば特に限定されず、シリカゲル等の固体粒子、カーボン粒子、有機高分子化合物の芯材と電気半導体性無機物粒子の表層とからなる複合型粒子等を用いることができる。   This functional adhesive element 20 is an element that utilizes an electrorheological effect (ER effect), and includes a medium 21 made of a gel-like electrically insulating material, electrorheological particles 22 dispersed in the medium 21, and a voltage applied to the particles 22. A pair of electrodes 23a and 23b. The particles 22 are not particularly limited as long as they are dispersed in the medium 21 and exhibit an electrorheological effect. The particles 22 are solid particles such as silica gel, carbon particles, a core material of an organic polymer compound, and a surface layer of electrosemiconductor inorganic particles. The composite type particle | grains which consist of, etc. can be used.

特に本実施形態における機能性粘着素子20は、媒体21が粘着性材料で構成されている。このような粘着性材料としては、例えば、フッ素系樹脂やシリコーン樹脂等が挙げられる。また、この媒体21の一方の面21Aは、一対の電極23a,23bが配置される電極形成面とされ、他方の面21Bは、一対の電極23a,23b間の電圧の大きさで粘着力が制御される粘着力制御面とされる。   In particular, in the functional adhesive element 20 in the present embodiment, the medium 21 is made of an adhesive material. Examples of such an adhesive material include a fluorine resin and a silicone resin. Also, one surface 21A of the medium 21 is an electrode forming surface on which the pair of electrodes 23a and 23b is arranged, and the other surface 21B has an adhesive force due to the voltage between the pair of electrodes 23a and 23b. The adhesive force control surface is controlled.

電極23aと電極23bとの間には所定の電圧源24が接続されており、スイッチ25の切替によって、図2Aに示す電圧オフ状態と、図2Bに示す電圧オン状態とをとる。電圧源24は直流電源でもよいし、交流電源でもよい。電極23a,23bの配置例は特に限定されず、例えば図3Aに示すように2枚の電極23a,23bを平行に対向配置させる構成のほか、図3Bに示すように、一方の電極23aの周りに他方の電極23bを配置させる構成例や、図3Cに示すように、電極23a,23bを電極形成面21A内で屈曲形成する構成例などが採用可能である。電極23a,23bに対する電圧のオン/オフ操作は、例えば、基板搬送ロボット10及びステージ12の本体制御部においてそれぞれ行われる。   A predetermined voltage source 24 is connected between the electrode 23a and the electrode 23b, and a voltage OFF state shown in FIG. 2A and a voltage ON state shown in FIG. The voltage source 24 may be a DC power supply or an AC power supply. The arrangement example of the electrodes 23a and 23b is not particularly limited. For example, in addition to the configuration in which the two electrodes 23a and 23b are arranged opposite to each other in parallel as shown in FIG. 3A, as shown in FIG. A configuration example in which the other electrode 23b is disposed on the electrode, a configuration example in which the electrodes 23a and 23b are bent in the electrode formation surface 21A, as shown in FIG. The voltage on / off operation for the electrodes 23a and 23b is performed, for example, in the substrate transport robot 10 and the main body control unit of the stage 12, respectively.

機能性粘着素子20は、図2Aに示す電圧オフ状態のとき、粒子22が媒体21の粘弾性により一定以上の粒子間距離をもって分散され、媒体21の表面に粒子22が突出する安定状態をとる。これにより、粘着力制御面21Bの粘着力が消失する。他方、図2Bに示す電圧オン状態のとき、粒子22が誘電分極を生じて電気力線上に凝集し、媒体21の表面に分布した粒子22が媒体21の内部に埋没する。これにより、粘着力制御面21Bが媒体21の表面で構成されることにより、一定の粘着力が発現することになる。なお、電圧の大きさを可変することにより、媒体21表面に対する粒子22の突出量を調整し、粘着力制御面21Bの粘着力を変化させることも可能である。   When the functional adhesive element 20 is in the voltage-off state shown in FIG. 2A, the particles 22 are dispersed with a certain inter-particle distance due to the viscoelasticity of the medium 21, and a stable state in which the particles 22 protrude from the surface of the medium 21 is obtained. . Thereby, the adhesive force of the adhesive force control surface 21B disappears. On the other hand, when the voltage is on as shown in FIG. 2B, the particles 22 generate dielectric polarization and aggregate on the lines of electric force, and the particles 22 distributed on the surface of the medium 21 are buried inside the medium 21. As a result, the adhesive force control surface 21 </ b> B is configured by the surface of the medium 21, whereby a certain adhesive force is expressed. It is also possible to adjust the amount of protrusion of the particles 22 relative to the surface of the medium 21 and change the adhesive force of the adhesive force control surface 21B by changing the magnitude of the voltage.

次に、以上のように構成される基板搬送ロボット10及びステージ12間における基板Wの受け渡し方法について説明する。基板Wの受け渡しは真空雰囲気中で行われるが、大気中での基板の受け渡しであってもよい。   Next, a method for transferring the substrate W between the substrate transport robot 10 configured as described above and the stage 12 will be described. Although the delivery of the substrate W is performed in a vacuum atmosphere, the delivery of the substrate in the air may be performed.

図1に示すように、基板Wは、基板搬送ロボット10のハンド11に支持されている。このとき、ハンド11の支持面11aに設けられた各保持部13を構成する機能性粘着素子20は、図2Bに示すように電圧オン状態となっており、粘着力制御面21Bは粘着性媒体21の構成材料が支配的となるため、基板Wの裏面に対して一定の粘着力をもって密着される。これにより、ハンド11の支持面11a上において基板Wを高い保持力をもって支持できるため、高速搬送が可能となり、生産性の向上が図れるようになる。   As shown in FIG. 1, the substrate W is supported by the hand 11 of the substrate transport robot 10. At this time, the functional adhesive elements 20 constituting the holding portions 13 provided on the support surface 11a of the hand 11 are in a voltage-on state as shown in FIG. 2B, and the adhesive force control surface 21B is an adhesive medium. Since the constituent material 21 is dominant, it adheres to the back surface of the substrate W with a certain adhesive force. As a result, the substrate W can be supported with a high holding force on the support surface 11a of the hand 11, so that high-speed conveyance is possible and productivity can be improved.

次に、基板搬送ロボット11からステージ12への移載方法について説明する。ステージ12の各リフターピン14は、図1に示すように、ステージ12の支持面12aから上方に突出した状態で待機される。基板搬送ロボット10は、図4に示すように、これらリフターピン14の直上位置で基板Wを停止させる。図4に示すように、ハンド11を構成するフォーク部の間隙はリフターピン14の配置領域よりも大きく構成されている。従って、ステージ12の直上位置からハンド11を所定距離下降させると、ハンド11に支持されている基板Wはリフターピン14の先端部に当接し、ハンド11からリフターピン14へ移載される。   Next, a transfer method from the substrate transfer robot 11 to the stage 12 will be described. As shown in FIG. 1, each lifter pin 14 of the stage 12 stands by in a state of protruding upward from the support surface 12 a of the stage 12. As shown in FIG. 4, the substrate transfer robot 10 stops the substrate W at a position immediately above the lifter pins 14. As shown in FIG. 4, the gap between the forks constituting the hand 11 is configured to be larger than the region where the lifter pins 14 are arranged. Accordingly, when the hand 11 is lowered by a predetermined distance from a position directly above the stage 12, the substrate W supported by the hand 11 comes into contact with the tip of the lifter pin 14 and is transferred from the hand 11 to the lifter pin 14.

ハンド11からリフターピン14への基板移載時、ハンド11の保持部13を構成する機能性粘着素子20は、図2Bに示す電圧オン状態から図2Aに示す電圧オフ状態へ切り替えられて、粘着力制御面21Bの粘着力を消失させる。これにより、リフターピン14上への基板Wの移載後におけるハンド11と基板W間の貼り付きを防止し、基板Wの振動や位置ズレを回避して安定した移載作業を確保することができる。   When the substrate is transferred from the hand 11 to the lifter pin 14, the functional adhesive element 20 constituting the holding unit 13 of the hand 11 is switched from the voltage on state shown in FIG. 2B to the voltage off state shown in FIG. The adhesive force of the force control surface 21B is lost. Thereby, sticking between the hand 11 and the substrate W after the transfer of the substrate W onto the lifter pin 14 can be prevented, and a stable transfer operation can be ensured by avoiding the vibration and displacement of the substrate W. it can.

一方、各リフターピン14の先端部に設けられた保持部15を構成する機能性粘着素子20においては、基板Wの移載時において電圧オン状態(図2B)に設定され、リフターピン14上で基板Wを高い粘着力をもって支持する。なお、これら保持部15の電圧オン操作は、基板Wの移載直前に行ってもよいし、移載直後に行ってもよい。   On the other hand, in the functional adhesive element 20 constituting the holding portion 15 provided at the tip portion of each lifter pin 14, the voltage is turned on (FIG. 2B) when the substrate W is transferred, and on the lifter pin 14. The substrate W is supported with high adhesive strength. The voltage on operation of the holding unit 15 may be performed immediately before the transfer of the substrate W or may be performed immediately after the transfer.

ハンド11からリフターピン14への基板Wの移載後、ハンド11はステージ12の直上位置から処理室外部へ退避する。その後、リフターピン14は下降し、基板Wの裏面をステージ12の支持面12aで支持する。このとき、リフターピン14は、基板Wの粘着支持を継続し、基板Wの支持面が、ステージ12の上面12aと一致する高さで下降動作が停止される。   After the substrate W is transferred from the hand 11 to the lifter pin 14, the hand 11 is retracted from the position immediately above the stage 12 to the outside of the processing chamber. Thereafter, the lifter pins 14 are lowered and the back surface of the substrate W is supported by the support surface 12 a of the stage 12. At this time, the lifter pins 14 continue to support the adhesion of the substrate W, and the lowering operation is stopped when the support surface of the substrate W coincides with the upper surface 12a of the stage 12.

ステージ12上における基板Wの所定の処理(成膜、エッチングなど)の終了後、基板Wは、基板搬送ロボット10によって次工程へ搬送される。このとき、リフターピン14がステージ12の支持面12aから上方へ突出し、基板Wをリフターピン14の保持部15のみで粘着支持する。そして、基板搬送ロボット10のハンド11が基板Wの裏面直下に移動し、所定距離上昇して、リフターピン14の先端から基板Wを受け取る。   After the predetermined processing (film formation, etching, etc.) of the substrate W on the stage 12 is completed, the substrate W is transferred to the next process by the substrate transfer robot 10. At this time, the lifter pins 14 protrude upward from the support surface 12 a of the stage 12, and the substrate W is adhesively supported only by the holding portions 15 of the lifter pins 14. Then, the hand 11 of the substrate transport robot 10 moves directly below the back surface of the substrate W, rises a predetermined distance, and receives the substrate W from the tip of the lifter pin 14.

この際、リフターピン14の保持部15を構成する機能性粘着素子20を電圧オフ状態(図2A)に切り替えて粘着力制御面21Bの粘着力を消失させることで、ハンド11への基板Wの移載を円滑に行うことができる。一方、ハンド11の保持部13を構成する機能性粘着素子20を電圧オン状態(図2B)に切り替えて、粘着力制御面21によって基板Wの裏面を粘着支持した状態で、基板Wを搬送する。   At this time, the functional adhesive element 20 constituting the holding portion 15 of the lifter pin 14 is switched to a voltage-off state (FIG. 2A), and the adhesive force of the adhesive force control surface 21B is lost, whereby the substrate W to the hand 11 is removed. Transfer can be performed smoothly. On the other hand, the functional adhesive element 20 constituting the holding unit 13 of the hand 11 is switched to the voltage-on state (FIG. 2B), and the substrate W is transported in a state where the back surface of the substrate W is adhesively supported by the adhesive force control surface 21. .

以上のように、本実施形態によれば、ハンド11の保持部13及びリフターピン14の保持部15の粘着力を任意に調整することができるので、真空中での基板保持が可能であるとともに、基板のデチャックに要する時間もほとんど必要なく速やかに基板の受け渡しを行うことができる。また、基板の受け渡し時にダストが発生する懸念もないので、処理室の汚染を防ぐことができる。   As described above, according to the present embodiment, the adhesive force of the holding portion 13 of the hand 11 and the holding portion 15 of the lifter pin 14 can be arbitrarily adjusted, so that the substrate can be held in a vacuum. Substrate delivery can be performed quickly with almost no time required for dechucking the substrate. Further, since there is no concern that dust is generated when the substrate is delivered, contamination of the processing chamber can be prevented.

更に、本実施形態によれば、ハンド11の保持部13及びリフターピン14の保持部15の粘着力を任意に調整することができるので、基板Wの高速搬送を実現して生産性の向上を図ることができるとともに、ハンド11とリフターピン14との間における基板の円滑な移載を確保して、受け渡し時における基板の振動や位置ズレを回避することができる。   Furthermore, according to this embodiment, since the adhesive force of the holding part 13 of the hand 11 and the holding part 15 of the lifter pin 14 can be arbitrarily adjusted, high-speed conveyance of the substrate W can be realized and productivity can be improved. In addition to ensuring the smooth transfer of the substrate between the hand 11 and the lifter pin 14, it is possible to avoid the vibration and displacement of the substrate during delivery.

以上、本発明の実施形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, of course, this invention is not limited to this, A various deformation | transformation is possible based on the technical idea of this invention.

例えば以上の実施形態では、ハンド11の支持面11aの一部に保持部13を点在配置して、これらの保持部で基板Wの裏面を粘着支持するようにしたが、これに限らず、例えば図5に模式的に示すように、ハンド11の支持面11aの全域に機能性粘着素子17を設けてもよい。これにより、基板Wに対する粘着保持性をより一層高めることができる。   For example, in the above embodiment, the holding portions 13 are scattered and arranged on a part of the support surface 11a of the hand 11, and the back surface of the substrate W is adhesively supported by these holding portions. For example, as schematically shown in FIG. 5, a functional adhesive element 17 may be provided over the entire support surface 11 a of the hand 11. Thereby, the adhesiveness retention property with respect to the board | substrate W can be improved further.

また、図5の構成において、支持面11aの全域に形成した機能性粘着素子17を、領域毎に局所電圧駆動できるように電極をマトリックス状に配置すれば、基板Wの粘着支持領域を任意に選択することが可能となり、例えば、基板W等の被処理物の大きさに合わせた粘着支持領域を画定することができる。   In the configuration of FIG. 5, if the functional adhesive elements 17 formed on the entire support surface 11 a are arranged in a matrix so that local voltage driving can be performed for each area, the adhesive support area of the substrate W can be arbitrarily set. For example, an adhesive support region can be defined in accordance with the size of an object to be processed such as the substrate W.

また、ステージ12についても同様に、リフターピン14の先端部のみでなく、ステージ面12aの一部又は全域にも上述した構成の機能性粘着素子からなる保持部を設けてもよい。この場合、ステージ面で基板を支持するときは、ステージ面の保持部の粘着力で基板を保持し、搬送機構へ基板を移載するときは、ステージ面の保持部の粘着力を消失させることで、円滑な基板の受け渡しを実現することができる。   Similarly, the stage 12 may be provided not only with the front end portion of the lifter pin 14 but also with a holding portion made of the functional adhesive element having the above-described configuration over a part or the entire area of the stage surface 12a. In this case, when supporting the substrate on the stage surface, hold the substrate with the adhesive force of the holding portion of the stage surface, and when transferring the substrate to the transport mechanism, eliminate the adhesive force of the holding portion of the stage surface. Thus, smooth substrate transfer can be realized.

本発明の実施形態による保持装置としての基板搬送ロボットのハンド及びステージの概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view showing a schematic structure of a hand and a stage of a substrate transfer robot as a holding device according to an embodiment of the present invention. 図1に示した保持装置(ハンド及びステージ)の保持部を構成する機能性粘着素子の構成と作用を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the structure and effect | action of a functional adhesive element which comprises the holding | maintenance part of the holding | maintenance apparatus (hand and stage) shown in FIG. 図2に示した機能性粘着素子の電極構成例を説明する図である。It is a figure explaining the example of an electrode structure of the functional adhesive element shown in FIG. 図1に示した基板搬送ロボットとステージ間の基板受け渡し工程を示す要部平面図である。FIG. 4 is a plan view of a principal part showing a substrate transfer process between the substrate transfer robot and the stage shown in FIG. 1. 本発明の実施形態による保持装置としてのハンドの構成の変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modification of a structure of the hand as a holding | maintenance apparatus by embodiment of this invention. 従来の基板搬送ロボットの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the conventional board | substrate conveyance robot. 図6に示した従来の基板搬送ロボットのハンドを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the hand of the conventional board | substrate conveyance robot shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板搬送ロボット
11 ハンド
11a 支持面
12 ステージ
12a 支持面(ステージ面)
13 (ハンドの)保持部
14 リフターピン
15 (リフターピンの)保持部
17 保持部
10 substrate transfer robot 11 hand 11a support surface 12 stage 12a support surface (stage surface)
13 (Hand) holding part 14 Lifter pin 15 (Lifter pin) holding part 17 Holding part

Claims (5)

被処理物を支持する支持面と、前記支持面から上方へ突出可能な複数本のリフターピンとを有し、被処理物を搬送する搬送機構から前記支持面へ前記被処理物が移載されるステージと、
前記複数本のリフターピンの先端部にそれぞれ設けられ、電圧の大きさによって粘着力が可変な機能性粘着素子からなる保持部とを備え
保持装置。
A support surface that supports the object to be processed and a plurality of lifter pins that can protrude upward from the support surface, and the object to be processed is transferred from the transport mechanism that transports the object to be processed to the support surface. Stage,
A holding device comprising: a holding portion made of a functional adhesive element that is provided at a tip portion of each of the plurality of lifter pins and whose adhesive force is variable depending on the magnitude of voltage .
前記機能性粘着素子は、電気絶縁性の粘着性媒体と、前記粘着性媒体中に分散された電気レオロジー粒子と、前記粘着性媒体に電圧を印加する一対の電極とを有する
請求項1に記載の保持装置。
The functional adhesive element includes an electrically insulating adhesive medium, electrorheological particles dispersed in the adhesive medium, and a pair of electrodes for applying a voltage to the adhesive medium. Holding device.
前記粘着性媒体の一方の面は、前記一対の電極が配置される電極配置面であり、
前記粘着性媒体の他方の面は、前記一対の電極間の電圧の大きさで粘着力が制御される粘着力制御面である
請求項に記載の保持装置。
One surface of the adhesive medium is an electrode arrangement surface on which the pair of electrodes are arranged,
The holding device according to claim 2 , wherein the other surface of the adhesive medium is an adhesive force control surface in which an adhesive force is controlled by a magnitude of a voltage between the pair of electrodes.
基板を搬送する搬送機構と、前記基板を処理するためのステージとの間で、前記基板の受け渡しを行う基板受け渡し方法であって、
前記搬送機構のハンドの基板支持面の少なくとも一部に、電圧の大きさによって粘着力が可変な第1の機能性粘着素子を配置し、
前記ステージの上面から上方へ突出可能なリフターピンの先端部に、電圧の大きさによって粘着力が可変な第2の機能性粘着素子を配置し、
前記搬送機構で前記基板を搬送するときは、前記第1の機能性粘着素子の粘着力で前記基板を保持し、前記ステージへ前記基板を移載するときは、前記第1の機能性粘着素子の粘着力を消失させ、
前記リフターピンで前記基板を支持するときは、前記第2の機能性粘着素子の粘着力で前記基板を保持し、前記搬送機構へ前記基板を移載するときは、前記第2の機能性粘着素子の粘着力を消失させる
基板受け渡し方法。
A substrate delivery method for delivering the substrate between a transport mechanism for transporting the substrate and a stage for processing the substrate,
The first functional adhesive element whose adhesive force is variable depending on the magnitude of voltage is disposed on at least a part of the substrate support surface of the hand of the transport mechanism,
A second functional adhesive element whose adhesive force is variable depending on the magnitude of the voltage is arranged at the tip of the lifter pin that can protrude upward from the upper surface of the stage,
Wherein when transporting the substrate in the transport mechanism, the first to hold the substrate in adhesive strength of the functional adhesive element, when transferring the substrate to the stage, the first functional adhesive element Disappears the adhesive strength of
When the substrate is supported by the lifter pin, the substrate is held by the adhesive force of the second functional adhesive element, and when the substrate is transferred to the transport mechanism, the second functional adhesive. A substrate delivery method for eliminating the adhesive strength of an element .
前記ステージの上面の少なくとも一部に電圧の大きさによって粘着力が可変な第3の機能性粘着素子を配置し、
前記ステージの上面で前記基板を支持するときは、前記第3の機能性粘着素子の粘着力で前記基板を保持し、前記搬送機構へ前記基板を移載するときは、前記第3の機能性粘着素子の粘着力を消失させる
ことを特徴とする請求項に記載の基板受け渡し方法。
A third functional adhesive element whose adhesive force is variable depending on the magnitude of voltage is disposed on at least a part of the upper surface of the stage;
When the substrate is supported on the upper surface of the stage, the substrate is held by the adhesive force of the third functional adhesive element, and when the substrate is transferred to the transport mechanism, the third functionality The substrate delivery method according to claim 4 , wherein the adhesive force of the adhesive element is lost.
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