Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP4789686B2 - Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP4789686B2 - Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit - Google Patents

Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit Download PDF

Info

Publication number
JP4789686B2
JP4789686B2 JP2006104444A JP2006104444A JP4789686B2 JP 4789686 B2 JP4789686 B2 JP 4789686B2 JP 2006104444 A JP2006104444 A JP 2006104444A JP 2006104444 A JP2006104444 A JP 2006104444A JP 4789686 B2 JP4789686 B2 JP 4789686B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microprobe
groove
guide
unit
shaft portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006104444A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007278799A (en
Inventor
正毅 淵山
努 大貝
ビョン・スーリョン
リー・ジホン
Original Assignee
株式会社ユニオンアロー・テクノロジー
クラット インク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社ユニオンアロー・テクノロジー, クラット インク filed Critical 株式会社ユニオンアロー・テクノロジー
Priority to JP2006104444A priority Critical patent/JP4789686B2/en
Priority to KR1020070031011A priority patent/KR20070100117A/en
Priority to TW096111199A priority patent/TW200741211A/en
Priority to CN2007100958275A priority patent/CN101051056B/en
Publication of JP2007278799A publication Critical patent/JP2007278799A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4789686B2 publication Critical patent/JP4789686B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06733Geometry aspects
    • G01R1/06744Microprobes, i.e. having dimensions as IC details
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G3/00Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
    • G09G3/006Electronic inspection or testing of displays and display drivers, e.g. of LED or LCD displays
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

本発明は、寸法の小さいマイクロプローブを配置するマイクロプローブガイド及びマイクロプローブをマイクロプローブガイドに配置したマイクロプローブユニットに係り、特に、マイクロプローブガイドを用いるマイクロプローブユニット及び千鳥配置型マイクロプローブユニットに関する。 The present invention relates to a micro-probe unit arranged microprobe guide and microprobes to place a small microprobe dimensional microprobe guide, in particular, it relates to microprobe unit and staggered micro probe unit used microswitch probe guide .

半導体ウェハあるいは液晶表示素子等における電極端子にプローブを接触等させて、半導体ウェハ上に製作されたICチップあるいは液晶表示素子の回路特性等を検査するために、いわゆるプローブカードが用いられる。   A so-called probe card is used to inspect the circuit characteristics and the like of an IC chip or a liquid crystal display element manufactured on a semiconductor wafer by bringing a probe into contact with an electrode terminal of the semiconductor wafer or liquid crystal display element.

例えば特許文献1に、一般的なプローブカードとして、中央に開口部が設けられたディスク状のプローブカード基板にプリント配線が設けられ、各プリント配線端子にはそれぞれプローブの基端が接続固定され、これらのプローブの先端が半導体ウェハあるいは液晶表示素子等の検査対象の電極パッドに向けて伸張することが述べられている。そして、半導体ウェハあるいは液晶表示素子等の電極パッドの配置が高密度になるに従ってプローブ群自体も精密高精度に配置しなければならなくなり、各プローブの先端から基端へ向かって扇形に開いて展開すること、また、プローブ群を構成する各プローブの高さを異ならせて多層配置することが述べられている。その他、隣接するプローブの先端を千鳥型に配置することも知られている。   For example, in Patent Document 1, as a general probe card, a printed wiring is provided on a disk-shaped probe card substrate having an opening in the center, and the base end of each probe is connected and fixed to each printed wiring terminal, It is described that the tips of these probes extend toward an electrode pad to be inspected such as a semiconductor wafer or a liquid crystal display element. And as electrode pads such as semiconductor wafers and liquid crystal display elements become denser, the probe group itself must be placed with high precision and precision, and it opens in a fan shape from the tip to the base of each probe. In addition, it is described that the probes constituting the probe group are arranged in multiple layers with different heights. In addition, it is also known that the tips of adjacent probes are arranged in a staggered pattern.

また、特許文献2には、シリコン基板の{100}面が{111}面より早くエッチングされることを利用し、KOH溶液等でシリコン基板に溝を形成し、その溝に無電解めっき法でプローブを作りこむ方法が開示されている。   Further, Patent Document 2 utilizes the fact that the {100} plane of the silicon substrate is etched faster than the {111} plane, and forms a groove in the silicon substrate with a KOH solution or the like, and electroless plating the groove. A method of making a probe is disclosed.

特開平6−222079号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-222079 特開2002−257859号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-257859

上記のように、プローブカードにおけるプローブの狭ピッチ化について様々な提案がなされている。しかし、特許文献1に紹介されている千鳥型配置あるいは多層配置においては、プローブを狭いピッチで保持し固定する具体的方法は、プローブカードのプリント配線への接着固定等であるので、各プローブの先端の位置を高精度に配置するには、各プローブの配置を精度よく案内するための精密な治工具等を要する。また、特許文献2に述べられているシリコン基板にプローブを作りこむ方法においては、プローブの材質、形状等に制限がある。   As described above, various proposals have been made for narrowing the pitch of probes in a probe card. However, in the staggered arrangement or the multi-layer arrangement introduced in Patent Document 1, the specific method for holding and fixing the probe at a narrow pitch is adhesive fixing to the printed wiring of the probe card. In order to arrange the position of the tip with high accuracy, a precise jig or the like for accurately guiding the arrangement of each probe is required. Moreover, in the method of making a probe on a silicon substrate described in Patent Document 2, there are limitations on the material, shape, etc. of the probe.

本発明の目的は、プローブを高精度に案内し、各プローブの先端配置の狭ピッチ化を可能とするマイクロプローブガイドを用いるマイクロプローブユニット及び千鳥配置型マイクロプローブユニットを提供することである。 An object of the present invention is to guide the probe with high accuracy, to provide a micro probe unit and staggered micro probe unit using luma Lee black probe guide to enable the pitch of the tip arrangement of each probe .

本発明は、半導体製造プロセスで用いられるエッチング技術や膜堆積技術等を用いることでシリコン等に微小な機構を作りこむ、いわゆるMEMS技術あるいはマイクロマシン技術と呼ばれる技術をプローブカードに適用して実現することができる。より具体的には、半導体プロセス技術が適用可能な材料、例えばシリコンプレートに、異方性エッチング等の技術を施して、深く細長い溝を形成し、これをマイクロプローブの案内とする。ここで、異方性エッチングとは、エッチングマスクの寸法に対し、ほとんどサイドエッチされることなく、マスクの寸法どおりの形状で深い穴あるいは溝を形成するエッチングの意味で用いられる。なおこの場合、マイクロプローブは、通常の材料を用い周知の機械加工技術あるいはエッチング技術で製作されたものを用いることができる。また、マイクロプローブの位置決めを行なうための位置決め穴あるいは開口もまた、マイクロマシン技術等によって形成することができる。   The present invention is realized by applying a so-called MEMS technology or micromachine technology, which creates a micro mechanism in silicon or the like by using an etching technology or a film deposition technology used in a semiconductor manufacturing process, to a probe card. Can do. More specifically, a material to which semiconductor process technology can be applied, for example, a silicon plate, is subjected to a technique such as anisotropic etching to form a deep and narrow groove, which is used as a guide for the microprobe. Here, the anisotropic etching is used to mean etching that forms a deep hole or groove in a shape according to the size of the mask with almost no side etching with respect to the size of the etching mask. In this case, as the microprobe, a microprobe manufactured by a known machining technique or etching technique using a normal material can be used. A positioning hole or opening for positioning the microprobe can also be formed by a micromachine technique or the like.

また、本発明に係るマイクロプローブユニットは、高さが幅の2倍以上ある矩形断面の軸部を有する細長いマイクロプローブと、マイクロプローブの軸部矩形断面の幅に対応する溝幅と、軸部矩形断面の高さに対応する溝深さとを有するマイクロプローブ案内溝を、複数整列配置したマイクロプローブガイドと、を備え、各マイクロプローブ案内溝にそれぞれマイクロプローブを保持させ、マイクロプローブは、その一方端が軸部に対し傾斜して延びて一方端部となり、他方端が軸部に対し、一方端の傾斜と逆方向に傾斜して延びてその先端が他方端部となる両端曲がり型マイクロプローブであり、マイクロプローブガイドは、両端曲がり型マイクロプローブの軸部の長さに対応する溝長さを有し、溝の一方端から溝底に対して下側にマイクロプローブの曲がっている一方端部を出し、溝の他方端から溝底に対して上側にマイクロプローブの曲がっている他方端部を出し、マイクロプローブの軸部に対する一方端部の先端の高さは、軸部に対する他方端部の先端の高さに比べ、マイクロプローブガイドの厚み分だけ異なることを特徴とする。 In addition, the microprobe unit according to the present invention includes an elongated microprobe having a rectangular cross-section shaft portion whose height is twice or more the width, a groove width corresponding to the width of the shaft probe rectangular cross section, and a shaft portion. A plurality of microprobe guide grooves having a groove depth corresponding to the height of the rectangular cross section, and a plurality of microprobe guide grooves each holding a microprobe. A curved double-ended microprobe whose end is inclined and extended with respect to the shaft portion and becomes one end portion, and whose other end is inclined with respect to the shaft portion and extends in the direction opposite to the inclination of the one end, and whose tip is the other end portion. The microprobe guide has a groove length corresponding to the length of the shaft portion of the both-ends bent microprobe, and the microphone from one end of the groove to the bottom of the groove Take out one bent end of the probe, and take out the other bent end of the microprobe above the groove bottom from the other end of the groove, and the height of the tip of one end with respect to the shaft portion of the microprobe is , than the height of the tip of the other end with respect to the shaft portion, and wherein the Rukoto differ by the thickness of the micro-probe guide.

また、本発明に係るマイクロプローブユニットにおいて、マイクロプローブは、さらに、軸部の一部に位置決め用凸部を有し、マイクロプローブガイドは、さらに、マイクロプローブ案内溝の溝底の一部に、マイクロプローブの位置決め用凸部に対応するくぼみ又は開口を有することが好ましい。   Further, in the microprobe unit according to the present invention, the microprobe further has a positioning convex portion at a part of the shaft portion, and the microprobe guide is further at a part of the groove bottom of the microprobe guide groove, It is preferable to have a recess or an opening corresponding to the positioning protrusion of the microprobe.

また、本発明に係るマイクロプローブユニットにおいて、マイクロプローブガイドは、複数のマイクロプローブ案内溝を有するシリコンプレートであることが好ましい。   In the microprobe unit according to the present invention, the microprobe guide is preferably a silicon plate having a plurality of microprobe guide grooves.

また、本発明に係る千鳥配置型マイクロプローブユニットは、複数のマイクロプローブ案内溝を有するマイクロプローブガイドの各案内溝に両端曲がり型マイクロプローブをそれぞれ配置して、溝の両端から両端曲がり型マイクロプローブの両端をそれぞれ突き出させるマイクロプローブユニットを2つ相互に背中合わせにしてホルダで保持し、マイクロプローブガイドの両端のそれぞれにおいて隣接する両端曲がり型マイクロプローブの先端が互いに千鳥型に配置される千鳥配置型マイクロプローブユニットであって、両端曲がり型マイクロプローブは、高さが幅の2倍以上ある矩形断面を有する細長い軸部と、軸部の一方端が軸部に対し傾斜して延びる一方端部と、軸部の他方端が軸部に対し、一方端の傾斜と逆方向に傾斜して延び、その先端の軸部に対する高さが、一方端部の先端の軸部に対する高さに比べ、マイクロプローブガイドの厚さ分だけ異なる他方端部と、を含み、各マイクロプローブ案内溝は、両端曲がり型マイクロプローブの軸部矩形断面の幅に対応する溝幅と、軸部矩形断面の高さに対応する溝深さと、軸部の長さに対応する溝長さであって、溝の一方端から溝底に対し下側に両端曲がり型マイクロプローブの一方端部を突き出し、溝の他方端から溝底に対し上側に両端曲がり型マイクロプローブの他方端部を突き出すことができる溝長さと、を有し、ホルダは、一方側のマイクロプローブユニットと他方側のマイクロプローブユニットとを相互に背中合わせにし、マイクロプローブ案内溝のピッチ方向に任意の距離だけ相互にずらし、マイクロプローブ案内溝の長さ方向に、隣接するマイクロプローブの先端が離隔する任意の距離だけずらして配置して保持し、マイクロプローブガイドの両端のそれぞれにおいて、隣接するマイクロプローブの先端が互いに千鳥型配置とすることを特徴とする。   Further, the staggered microprobe unit according to the present invention is arranged such that both ends of the microprobe are arranged in each guide groove of the microprobe guide having a plurality of microprobe guide grooves, and both ends of the microprobe unit are bent from both ends of the groove. Two microprobe units that project both ends of the probe are back-to-back with each other and held by a holder, and the ends of adjacent micro-probes adjacent to each other at both ends of the microprobe guide are arranged in a staggered manner. A micro-probe unit, a both-ends bending type micro-probe includes an elongated shaft portion having a rectangular cross section whose height is twice or more of a width, and one end portion in which one end of the shaft portion extends while being inclined with respect to the shaft portion. The other end of the shaft portion extends in a direction opposite to the inclination of the one end with respect to the shaft portion, and Each of the microprobe guide grooves is bent at both ends. The other end is different in height by the thickness of the microprobe guide compared to the height of the tip of the one end. The groove width corresponding to the width of the shaft section rectangular cross section of the microprobe, the groove depth corresponding to the height of the shaft section rectangular section, and the groove length corresponding to the length of the shaft section, from one end of the groove A groove length that allows one end of a curved microprobe to protrude downward from the bottom of the groove and allows the other end of the curved microprobe to protrude upward from the other end of the groove to the bottom of the groove. The holder is designed so that the microprobe unit on one side and the microprobe unit on the other side are back-to-back with each other, and are shifted by an arbitrary distance in the pitch direction of the microprobe guide groove. In the length direction of the groove, the tip of the adjacent microprobe is shifted and held at an arbitrary distance so that the tips of the adjacent microprobes are staggered at each end of the microprobe guide. It is characterized by that.

また、本発明に係る千鳥配置型マイクロプローブユニットにおいて、プローブガイドは、複数のマイクロプローブ案内溝を有するシリコンプレートであることが好ましい。   In the staggered microprobe unit according to the present invention, the probe guide is preferably a silicon plate having a plurality of microprobe guide grooves.

記構成の少なくとも1つにより、マイクロプローブとして高さが幅の2倍以上ある矩形断面の軸部を有する細長いものを用い、この矩形断面の幅に対応する溝幅と、高さに対応する溝深さとを有するマイクロプローブ案内溝を有するマイクロプローブガイドを用いて、マイクロプローブガイドを構成するので、例えば板材から縦長断面を有するマイクロプローブを作り出し、これを縦長断面に対応する溝を有するマイクロプローブガイドで精度よく案内することができる。深溝を有するマイクロプローブガイドは、マイクロマシン技術等で得ることができる。
そして、マイクロプローブとして両端曲がり型マイクロプローブを用い、マイクロプローブガイドの溝長さを両端曲がり型マイクロプローブの軸部の長さとし、溝の一方端から溝底に対して下側にマイクロプローブの曲がっている一方端部を出し、溝の他方端から溝底に対して上側にマイクロプローブの曲がっている他方端部を出す。これにより、測定対象物に向かい合う測定用端部と、測定部に接続される接続用端部とを上下に分けて出しながら、精度よく案内することができる。
また、両端曲がり型マイクロプローブの軸部に対する一方端部の先端の高さは、軸部に対する他方端部の先端の高さに比べ、マイクロプローブガイドの厚み分だけ異なる。これによって、この形態の両端曲がり型マイクロプローブが配置されたマイクロプローブユニットを背中合わせにして組み合わせると、マイクロプローブガイドの両端のそれぞれにおいて、上側マイクロプローブユニットから突き出たマイクロプローブの先端と、下側マイクロプローブユニットから突き出たマイクロプローブの先端の高さが揃う。したがって、この形態のマイクロプローブユニットを背中合わせに重ねて用いることで、軸部から測定対象物までの高さの異なるマイクロプローブを積層して配置できる。これによって、複数列のプローブを狭いピッチで配置し、あるいは、隣り合うプローブの先端を千鳥型に配置することが容易になる。
At least one upper Symbol structure, used as elongated having a shank of rectangular cross-section with a height of more than twice the width as the microprobe, the groove width corresponding to the width of the rectangular cross-section, corresponding to the height Since the microprobe guide is constituted by using the microprobe guide having the microprobe guide groove having the groove depth, for example, a microprobe having a vertically long cross section is produced from a plate material, and this microprobe has a groove corresponding to the vertically long cross section. Guidance can be provided with accuracy. A microprobe guide having a deep groove can be obtained by micromachine technology or the like.
Then, using a micro probe with both ends bent, the groove length of the micro probe guide is the length of the shaft of the both ends bent micro probe, and the micro probe bends from one end of the groove to the bottom of the groove. The other end of the microprobe is bent upward from the other end of the groove with respect to the groove bottom. Thereby, it is possible to guide with high accuracy while separating the measurement end facing the measurement object and the connection end connected to the measurement unit vertically.
Further, the height of the tip of one end portion with respect to the shaft portion of the both-ends bent microprobe differs from the height of the tip end of the other end portion with respect to the shaft portion by the thickness of the microprobe guide. As a result, when the microprobe units having the bent microprobes arranged on both ends are combined back to back, the tip of the microprobe protruding from the upper microprobe unit and the lower microprobe at each end of the microprobe guide. The tips of the microprobes protruding from the probe unit are aligned. Therefore, by using the microprobe units of this form in a back-to-back manner, microprobes having different heights from the shaft portion to the measurement object can be stacked and arranged. This makes it easy to arrange a plurality of rows of probes at a narrow pitch, or to arrange the tips of adjacent probes in a staggered pattern.

同様に、上記構成の少なくとも1つにより、マイクロプローブに位置決め用凸部を設けるときは、これに対応してマイクロプローブガイドにおいて、マイクロプローブ案内溝の溝底の一部にくぼみ又は開口を設ける。これによって、マイクロプローブを精度よく位置決めして案内することができる。   Similarly, when the positioning probe is provided on the microprobe according to at least one of the above configurations, a recess or an opening is provided in a part of the groove bottom of the microprobe guide groove in the microprobe guide. As a result, the microprobe can be accurately positioned and guided.

上記構成の少なくとも1つにより、マイクロプローブとして、他方端部の先端の軸部に対する高さが、一方端部の先端の軸部に対する高さに比べてマイクロプローブガイドの厚さ分だけ異なっている両端曲がり型マイクロプローブを用いる。そして、その態様の両端曲がり型マイクロプローブをマイクロプローブガイドに配置したマイクロプローブユニットを背中合わせにして組み合わせる。その場合、一方側のマイクロプローブユニットと他方側のマイクロプローブユニットとを相互に背中合わせにし、マイクロプローブ案内溝のピッチ方向に任意の距離だけ相互にずらし、マイクロプローブ案内溝の長さ方向に、隣接するマイクロプローブの先端が離隔する任意の距離だけずらして配置する。この構成で、マイクロプローブガイドの両端のそれぞれにおいて、隣接するマイクロプローブの先端が互いに千鳥型配置となる。このように、複数のマイクロプローブの隣接する先端が、千鳥型配置となるように、各マイクロプローブを精度よく案内することができる。これによって、プローブを高精度に案内でき、各プローブの先端配置の狭ピッチ化が可能となる。   Due to at least one of the above configurations, the height of the tip of the other end of the microprobe relative to the shaft of the tip of the other end differs from the height of the tip of the tip of the one end by the thickness of the microprobe guide. A double-ended curved microprobe is used. And the microprobe unit which arrange | positioned the both ends bending type | mold microprobe of the aspect to the microprobe guide is combined back-to-back. In that case, the microprobe unit on one side and the microprobe unit on the other side are back-to-back with each other, shifted by an arbitrary distance in the pitch direction of the microprobe guide groove, and adjacent in the length direction of the microprobe guide groove The microprobe is shifted by an arbitrary distance that separates the tip of the microprobe. With this configuration, the tips of adjacent microprobes are staggered with respect to each other at both ends of the microprobe guide. In this way, each microprobe can be guided with high precision so that the adjacent tips of the plurality of microprobes have a staggered arrangement. As a result, the probes can be guided with high precision, and the pitch of the tips of the probes can be reduced.

以下に図面を用いて本発明に係る実施の形態につき、詳細に説明する。以下では、マイクロプローブユニットが適用される装置を、液晶表示パネルの点灯検査装置として説明するが、それ以外の装置であっても、複数のプローブを測定対象物に接触させることで測定等の処理を行う装置であればよい。例えば液晶表示装置の測定装置でもよく、半導体ウェハの検査装置であってもよい。また、複数のプローブに対し測定対象物を相対的に移動させるいわゆるプローバ装置であってもよい。また、以下で述べる寸法等は、説明のための一例であって、それ以外の寸法等であってもよい。   Embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the following, a device to which the microprobe unit is applied will be described as a lighting inspection device for a liquid crystal display panel. However, even in other devices, processing such as measurement is performed by bringing a plurality of probes into contact with a measurement object. Any device can be used. For example, it may be a liquid crystal display measuring device or a semiconductor wafer inspection device. Moreover, what is called a prober apparatus which moves a measurement object relatively with respect to a some probe may be sufficient. The dimensions described below are examples for explanation, and other dimensions may be used.

図1は、液晶表示パネル点灯検査装置10の構成を示す図である。ここでは、液晶表示パネル点灯検査装置10の構成要素ではないが、検査対象物である液晶表示パネル8とその端子パッド9が図示されている。液晶表示パネル点灯検査装置10は、液晶表示パネル8を保持して任意の位置に移動させるステージ12と、ステージ12に対し固定位置にあるプローバ保持部14と、点灯検査器16と、プローバ保持部14に取り付けられるマニピュレータ18と、マニピュレータ18の先端に取り付けられるコンタクトプローブ20と、コンタクトプローブ20と点灯検査器16との間を接続するフラットケーブル22等を含んで構成される。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a liquid crystal display panel lighting inspection device 10. Here, although not a component of the liquid crystal display panel lighting inspection apparatus 10, a liquid crystal display panel 8 and its terminal pads 9 which are inspection objects are illustrated. The liquid crystal display panel lighting inspection device 10 includes a stage 12 that holds the liquid crystal display panel 8 and moves the liquid crystal display panel 8 to an arbitrary position, a prober holding unit 14 that is fixed with respect to the stage 12, a lighting inspection device 16, and a prober holding unit. 14, a manipulator 18 attached to 14, a contact probe 20 attached to the tip of the manipulator 18, a flat cable 22 that connects between the contact probe 20 and the lighting tester 16, and the like.

図2は、コンタクトプローブ20の斜視図である。コンタクトプローブ20は、複数のマイクロプローブ50,51を整列配置して保持する機能を有し、広い意味でのプローブカードに相当する。コンタクトプローブ20は、千鳥配置型マイクロプローブユニット40を含む。千鳥配置型マイクロプローブユニット40は、複数のマイクロプローブを2層構造で整列配置し、液晶表示パネル8に向かい合う一方側Aと、フラットケーブル22に接続される他方側Bのそれぞれにおいて、隣接するマイクロプローブ50,51の先端部が千鳥配置型となるようにしたものである。すなわち、一方側A、他方側Bのいずれにおいても、隣接するマイクロプローブ50,51の先端は、マイクロプローブ50,51の長手方向に沿ってS1の間隔で、マイクロプローブ50,51の整列ピッチ方向に沿ってS2の間隔で、千鳥配置型で配置される。   FIG. 2 is a perspective view of the contact probe 20. The contact probe 20 has a function of arranging and holding a plurality of microprobes 50 and 51, and corresponds to a probe card in a broad sense. The contact probe 20 includes a staggered microprobe unit 40. The staggered microprobe unit 40 has a plurality of microprobes aligned and arranged in a two-layer structure. The microprobe unit 40 is adjacent to each other on one side A facing the liquid crystal display panel 8 and the other side B connected to the flat cable 22. The tips of the probes 50 and 51 are staggered. That is, on either one side A or the other side B, the tips of the adjacent microprobes 50 and 51 are arranged at intervals of S1 along the longitudinal direction of the microprobes 50 and 51, and the alignment pitch direction of the microprobes 50 and 51 Are arranged in a staggered arrangement at intervals of S2.

図3は、コンタクトプローブ20の詳細図で、図3(a)に側面図、(b)に平面図、(c)に断面図を示す。断面図には、位置決めピン30と固定ボルト32とを通る平面における断面が示されている。コンタクトプローブ20は、千鳥配置型マイクロプローブユニット40と、千鳥配置型マイクロプローブユニット40を保持するためのマニピュレータベース24、サポート台26、押え板28とを含んで構成される。押え板28とサポート台26とは、位置決めピン30によって位置決めと固定とがなされ、組み立て後は、千鳥配置型マイクロプローブユニット40を案内する門型の部材として一体となる。押え板28と一体化されたサポート台26は、マニピュレータベース24とともに、向かい合う面の間で千鳥配置型マイクロプローブユニット40を挟み込み、固定ボルト32で適当に締め付けることで、千鳥配置型マイクロプローブユニット40を固定する。位置決めピン30の代わりに固定ボルトを用いなかったのは、コンタクトプローブ20の小型化のためである。すなわち固定ボルトの頭の部分の寸法はネジ部に対し大きく、これを位置決めピン30の位置にもってくると、コンタクトプローブ20の横幅が大きくなるからである。   3A and 3B are detailed views of the contact probe 20. FIG. 3A is a side view, FIG. 3B is a plan view, and FIG. 3C is a cross-sectional view. In the sectional view, a section in a plane passing through the positioning pin 30 and the fixing bolt 32 is shown. The contact probe 20 includes a staggered microprobe unit 40, a manipulator base 24 for holding the staggered microprobe unit 40, a support base 26, and a pressing plate 28. The presser plate 28 and the support base 26 are positioned and fixed by positioning pins 30 and are integrated as a gate-shaped member for guiding the staggered microprobe unit 40 after assembly. The support base 26 integrated with the presser plate 28, together with the manipulator base 24, sandwiches the staggered microprobe unit 40 between the opposing faces and appropriately tightens it with the fixing bolt 32, thereby staggering the microprobe unit 40. To fix. The reason that the fixing bolt is not used in place of the positioning pin 30 is to reduce the size of the contact probe 20. That is, the dimension of the head portion of the fixing bolt is larger than that of the screw portion, and when this is brought to the position of the positioning pin 30, the lateral width of the contact probe 20 is increased.

千鳥配置型マイクロプローブユニット40は、同じ構造のマイクロプローブユニットを2つ背中合わせにして組み合わせたものである。図4は、千鳥配置型マイクロプローブユニット40を構成する2つのマイクロプローブユニットが背中合わせに組み合わされる様子を示す図で、上側マイクロプローブユニット42と、下側マイクロプローブユニット44とが、背中合わせで配置される。上側マイクロプローブユニット42には、マイクロプローブガイド70に設けられた溝の中にマイクロプローブ50が配置され、下側マイクロプローブユニット44には、マイクロプローブガイド71に設けられた溝の中にマイクロプローブ51が配置される。マイクロプローブ50,51は、一方端が軸部に対し傾斜して延びて一方端部となり、他方端が軸部に対し、一方端の傾斜と逆方向に傾斜して延びてその先端が他方端部となる両端曲がり型のマイクロプローブである。図4では一方端部の先端54,55と、他方端部の先端56,57とが示されている。マイクロプローブガイド70,71の構造の詳細、マイクロプローブ50,51の構造の詳細については後述する。   The staggered microprobe unit 40 is a combination of two microprobe units having the same structure, back to back. FIG. 4 is a view showing a state in which two microprobe units constituting the staggered microprobe unit 40 are combined back to back, and an upper microprobe unit 42 and a lower microprobe unit 44 are arranged back to back. The The microprobe 50 is disposed in the groove provided in the microprobe guide 70 in the upper microprobe unit 42, and the microprobe is disposed in the groove provided in the microprobe guide 71 in the lower microprobe unit 44. 51 is arranged. The microprobes 50 and 51 have one end extending with an inclination with respect to the shaft portion to become one end portion, and the other end extending with respect to the shaft portion in a direction opposite to the inclination of the one end, with the tip thereof being the other end. It is a micro probe of the both ends bending type used as a part. In FIG. 4, tips 54 and 55 at one end and tips 56 and 57 at the other end are shown. Details of the structure of the microprobe guides 70 and 71 and details of the structure of the microprobes 50 and 51 will be described later.

ここで、上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とが背中合わせで組み合わされるとき、図4における下側において、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とが配置されることになる。同様に、図4における上側において、上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とが配置されることになる。   Here, when the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are combined back to back, on the lower side in FIG. 4, the tip 54 of one end of the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are The tip 57 of the other end is arranged. Similarly, on the upper side in FIG. 4, the tip 56 at the other end of the upper microprobe unit 42 and the tip 55 at the one end of the lower microprobe unit 44 are arranged.

このようにしたときに、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とが同じ高さ位置になるように、同様に上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とが同じ高さ位置になるように、マクロプローブ50,51の一方端部の高さと他方端部の高さとが設定される。すなわち、図4に示すように、マクロプローブ50,51の軸部からの一方端部の高さh1は、軸部からの他方端部の高さh2に比較して、マイクロプローブガイド50,51の厚さt分だけ高い。これによって、上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とが背中合わせで組み合わされるとき、図4における下側において、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とが同じ高さ位置になる。同様に、図4における上側において、上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とが同じ高さ位置になる。   Similarly, the upper microprobe unit 42 has the same height so that the tip 54 at one end of the upper microprobe unit 42 and the tip 57 at the other end of the lower microprobe unit 44 are at the same height. The height of one end and the height of the other end of the macroprobes 50 and 51 are set so that the tip 56 of the other end of 42 and the tip 55 of one end of the lower microprobe unit 44 are at the same height. Sato is set. That is, as shown in FIG. 4, the height h1 of one end portion from the shaft portion of the macroprobes 50 and 51 is smaller than the height h2 of the other end portion from the shaft portion. The thickness is high by t. As a result, when the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are combined back to back, the tip 54 of one end of the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 on the lower side in FIG. The tip 57 of the other end is at the same height. Similarly, on the upper side in FIG. 4, the tip 56 at the other end of the upper microprobe unit 42 and the tip 55 at the one end of the lower microprobe unit 44 are at the same height.

また、上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とは、隣接するマイクロプローブ50,51の先端部が相互に千鳥型配置になるように、位置決めされる。例えば、図4の下側において、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とは、マイクロプローブ50,51の長手方向に沿ってS1の間隔となるように、またマイクロプローブ50,51の整列ピッチ方向に沿ってS2の間隔となるように、位置決めされて配置される。上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とは同一構造であるので、このとき、図4の上側においても、上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とは、マイクロプローブ50,51の長手方向に沿ってS1の間隔となり、マイクロプローブ50,51の整列ピッチ方向に沿ってS2の間隔となる。   The upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are positioned so that the tips of the adjacent microprobes 50 and 51 are in a staggered arrangement with each other. For example, on the lower side of FIG. 4, the tip 54 at one end of the upper microprobe unit 42 and the tip 57 at the other end of the lower microprobe unit 44 are S1 along the longitudinal direction of the microprobes 50 and 51. And positioned so as to be at an interval of S2 along the alignment pitch direction of the microprobes 50 and 51. Since the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 have the same structure, the tip 56 of the other end of the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are also at the upper side in FIG. On the other hand, the tip 55 of the one end is a distance S1 along the longitudinal direction of the microprobes 50 and 51, and a distance S2 along the alignment pitch direction of the microprobes 50 and 51.

図5は、上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とが背中合わせで組み合わされて千鳥配置型マイクロプローブユニット40となる様子を示す図である。図5(a)は、上側マイクロプローブユニット42側から見た平面図、(b)は側面図、(c)は下側マイクロプローブユニット44側から見た底面図である。   FIG. 5 is a diagram showing a state where the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are combined back to back to form a staggered microprobe unit 40. 5A is a plan view seen from the upper microprobe unit 42 side, FIG. 5B is a side view, and FIG. 5C is a bottom view seen from the lower microprobe unit 44 side.

これらの図に示されるように、上側マイクロプローブユニット42は、複数の溝72を有するマイクロプローブガイド70と、各溝72にそれぞれ配置されるマイクロプローブ50とから構成される。また、下側マイクロプローブユニット44は、複数の溝72を有するマイクロプローブガイド71と、各溝72にそれぞれ配置されるマイクロプローブ51とから構成される。ここで、マイクロプローブガイド70とマイクロプローブガイド71とは同じ構造であり、マイクロプローブ50とマイクロプローブ51とは同じ構造である。ただし、上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とを背中合わせで組み合わされるときに、左右関係が相互に反対となる。   As shown in these drawings, the upper microprobe unit 42 includes a microprobe guide 70 having a plurality of grooves 72 and microprobes 50 respectively disposed in the grooves 72. The lower microprobe unit 44 includes a microprobe guide 71 having a plurality of grooves 72 and a microprobe 51 disposed in each groove 72. Here, the microprobe guide 70 and the microprobe guide 71 have the same structure, and the microprobe 50 and the microprobe 51 have the same structure. However, when the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are combined back to back, the left-right relationship is opposite to each other.

ここで、マイクロプローブ50,51の軸部からの一方側端部の高さh1と、軸部からの他方端部の高さh2と、マイクロプローブガイド70,71の厚さtとの間に、h1=h2+tの関係が成立するようにすることで、図5(b)における下側において、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とが同じ高さ位置になる。同様に、図5(b)における上側において、上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とが同じ高さ位置になる。   Here, the height h1 of the one side end portion from the shaft portion of the microprobes 50 and 51, the height h2 of the other end portion from the shaft portion, and the thickness t of the microprobe guides 70 and 71 are between. , H1 = h2 + t so that the lower end in FIG. 5 (b) has one end 54 of the upper microprobe unit 42 and the other end of the lower microprobe unit 44. 57 and the same height position. Similarly, on the upper side in FIG. 5B, the tip 56 of the other end of the upper microprobe unit 42 and the tip 55 of the one end of the lower microprobe unit 44 are at the same height.

また、図5(b)において示されるように、図の下側において、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とが、マイクロプローブ50,51の長手方向に沿ってS1の間隔となるように配置されることが示される。同様に、図の上側において、上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とが、マイクロプローブ50,51の長手方向に沿ってS1の間隔となるように配置される。間隔S1は、隣接するマイクロプローブの先端が十分離隔する任意の距離に設定される。例えば、0.1mm程度の設定することができる。   Further, as shown in FIG. 5B, on the lower side of the drawing, the tip 54 at one end of the upper microprobe unit 42 and the tip 57 at the other end of the lower microprobe unit 44 are microprobes. It is shown that they are arranged so as to have an interval of S1 along the longitudinal direction of 50 and 51. Similarly, on the upper side of the figure, the tip 56 of the other end of the upper microprobe unit 42 and the tip 55 of the one end of the lower microprobe unit 44 extend along the longitudinal direction of the microprobes 50, 51. It arrange | positions so that it may become a space | interval. The interval S1 is set to an arbitrary distance at which the tips of adjacent microprobes are sufficiently separated. For example, it can be set to about 0.1 mm.

また、図5(a)の上面図において、上側マイクロプローブユニット42の他方端部の先端56と下側マイクロプローブユニット44の一方端部の先端55とが、マイクロプローブ50,51の配置ピッチの方向にS2の間隔で配置されることが示されている。同様に、図5(c)の底面図において、上側マイクロプローブユニット42の一方端部の先端54と下側マイクロプローブユニット44の他方端部の先端57とが、マイクロプローブ50,51の配置ピッチの方向にS2の間隔で配置される。これらの図から分かるように、この場合の間隔S2は、マイクロプローブ50,51の配置ピッチPの1/2である。つまり、上側マイクロプローブユニット42と下側マイクロプローブユニット44とは、マイクロプローブ50の配置の中間にマイクロプローブ51が配置されるように、相互位置関係をずらして配置される。間隔S2をマイクロプローブ50,51の配置ピッチPの1/2とするときは、マイクロプローブ50,51の配置ピッチの方向に、先端54,57が互いに等ピッチの関係で順次配置されるが、もちろん、等ピッチとしないこともできる。すなわち、マイクロプローブ50,51の配置ピッチの方向に、先端54,57の間隔を任意の距離に設定してもよい。この場合には、先端54から隣接する2つの先端57への間隔がそれぞれ異なったものとすることができる。あるいは、先端57から隣接する2つの先端54への間隔がそれぞれ異なったものとすることができる。   5A, the tip 56 of the other end of the upper microprobe unit 42 and the tip 55 of the one end of the lower microprobe unit 44 have the arrangement pitch of the microprobes 50 and 51. It is shown that they are arranged at intervals of S2 in the direction. Similarly, in the bottom view of FIG. 5C, the tip 54 of one end of the upper microprobe unit 42 and the tip 57 of the other end of the lower microprobe unit 44 are arranged pitches of the microprobes 50 and 51. Are arranged at intervals of S2. As can be seen from these figures, the interval S2 in this case is ½ of the arrangement pitch P of the microprobes 50 and 51. That is, the upper microprobe unit 42 and the lower microprobe unit 44 are arranged so that the mutual positional relationship is shifted so that the microprobe 51 is arranged in the middle of the arrangement of the microprobe 50. When the interval S2 is ½ of the arrangement pitch P of the microprobes 50 and 51, the tips 54 and 57 are sequentially arranged in the same pitch in the direction of the arrangement pitch of the microprobes 50 and 51. Of course, the pitch may not be equal. That is, the distance between the tips 54 and 57 may be set to an arbitrary distance in the direction of the arrangement pitch of the microprobes 50 and 51. In this case, the distance from the tip 54 to the two adjacent tips 57 can be different. Alternatively, the distance from the tip 57 to the two adjacent tips 54 can be different.

マイクロプローブ50,51は共に同様の構成であるので、代表してマイクロプローブ50の詳細図を図6に示す。ここでは、図6(a)に上面図、(b)に側面図、(c)に底面図、(d),(e)に両立面図が示されている。マイクロプローブ50,51は、細長い軸部52を有し、その一方端が軸部52に対し傾斜して延びて一方端部となり、他方端が軸部52に対し、一方端の傾斜と逆方向に傾斜して延びてその先端が他方端部となる両端曲がり型のマイクロプローブである。軸部52は、高さH、幅Wの矩形断面形状を有する。すでに述べたように、一方端部の先端54の軸部52からの高さh1は、他方端部の先端56の軸部からの高さh2に比べ、マイクロプローブガイド70,71の厚さt分だけ高い。すなわち、h1=h2+tとなるように、h1,h2が設定される。   Since the microprobes 50 and 51 have the same configuration, a detailed view of the microprobe 50 is shown in FIG. Here, FIG. 6A shows a top view, FIG. 6B shows a side view, FIG. 6C shows a bottom view, and FIGS. Each of the microprobes 50 and 51 has an elongated shaft portion 52, and one end of the microprobes 50 and 51 extends while being inclined with respect to the shaft portion 52, and the other end is opposite to the inclination of the one end with respect to the shaft portion 52. It is a microprobe of the both ends bending type which inclines inclining and the front-end | tip becomes the other end part. The shaft portion 52 has a rectangular cross-sectional shape having a height H and a width W. As already described, the height h1 of the tip 54 of the one end from the shaft 52 is greater than the height h2 of the tip 56 of the other end from the shaft t. It ’s expensive. That is, h1 and h2 are set so that h1 = h2 + t.

マイクロプローブ50,51は、細長い軸部52の途中の一部に、位置決め用の凸部64が設けられる。この凸部64は、マイクロプローブ50,51がマイクロプローブガイド70,71に配置されたときに、軸方向に位置がずれないようにするものである。そのために、マイクロプローブガイド70,71にも、この凸部64に対応してくぼみ又は開口が設けられる。なお、この例では、凸部の数が1つであるが、凸部の数を2以上としてもよい。その場合には、これらの凸部に対応して、マイクロプローブガイド70,71にも、複数のくぼみ又は開口が設けられる。   The microprobes 50 and 51 are provided with a convex portion 64 for positioning at a part of the elongated shaft portion 52. The convex portions 64 prevent the positions of the projections 64 from being displaced in the axial direction when the microprobes 50 and 51 are disposed on the microprobe guides 70 and 71. For this purpose, the microprobe guides 70 and 71 are also provided with recesses or openings corresponding to the convex portions 64. In this example, the number of convex portions is one, but the number of convex portions may be two or more. In that case, the microprobe guides 70 and 71 are also provided with a plurality of indentations or openings corresponding to these convex portions.

図6(b)において軸部52から下方に曲がって延びる一方端の先端54のやや上部に設けられる突起60は、マイクロプローブ50,51がマイクロプローブガイド70,71に配置されたときの位置を知るための目印となる位置目印突起である。   In FIG. 6B, the protrusion 60 provided slightly above the tip 54 at one end extending downward from the shaft portion 52 is positioned when the microprobes 50 and 51 are disposed on the microprobe guides 70 and 71. It is a position mark protrusion which serves as a mark for knowing.

また、軸部52から一方端部に向かって曲がる手前において、高さHが少しずつ低くなるテーパ58が設けられる。同様に、軸部52から他方端部に向かって曲がる手前において、高さHがすこしずつ低くなるテーパ62が設けられる。このテーパ58,62は、マイクロプローブ50,51が弾性を有して変形し得るようにするためのものである。すなわち、マイクロプローブガイド70,71に配置され、図3で説明されたマニピュレータベース24とサポート台26とによって挟まれるとき、軸部52のもっとも高いところでマイクロプローブ50,51がマイクロプローブガイドの底部に向かって押さえつけられ拘束される。このときに、テーパ58,62があることで、マニピュレータベース24の押さえ面あるいはサポート台26の押さえ面とマイクロプローブ50,51との間に隙間が確保される。その隙間の範囲内で、マイクロプローブ50,51は弾性変形することが可能で、これにより、マイクロプローブ50,51の先端と測定対象物との間に適当な押え圧を与えることができる。   In addition, a taper 58 is provided in which the height H gradually decreases before bending from the shaft portion 52 toward the one end portion. Similarly, a taper 62 is provided in which the height H slightly lowers before bending from the shaft portion 52 toward the other end portion. The tapers 58 and 62 are for allowing the microprobes 50 and 51 to be deformed with elasticity. That is, the microprobes 50 and 51 are placed on the bottom of the microprobe guide when they are arranged on the microprobe guides 70 and 71 and are sandwiched between the manipulator base 24 and the support base 26 described in FIG. It is pressed down and restrained. At this time, the presence of the tapers 58 and 62 ensures a gap between the pressing surface of the manipulator base 24 or the pressing surface of the support base 26 and the microprobes 50 and 51. Within the range of the gap, the microprobes 50 and 51 can be elastically deformed, whereby an appropriate pressing pressure can be applied between the tips of the microprobes 50 and 51 and the measurement object.

かかるマイクロプローブ50,51は、タングステン、銅、リン青銅等のプローブ用導体材料を、プレス加工あるいはエッチング加工によって所定の形状にしたものを用いることができる。寸法の一例として、軸部52について、高さHを約250μm、幅Wを約25μmとすることができる。ここでは高さH/幅W=10であるが、少なくともH/Wは2以上が好ましい。また、例えばマイクロプローブガイド70,71の厚さtを約400μmとして、一方端部の先端54の軸部52からの高さh1を約800μm、他方端部の先端56の軸部からの高さh2を約400μmとすることができる。   As the microprobes 50 and 51, a probe conductor material such as tungsten, copper, phosphor bronze, or the like formed into a predetermined shape by pressing or etching can be used. As an example of the dimensions, the shaft portion 52 can have a height H of about 250 μm and a width W of about 25 μm. Here, height H / width W = 10, but at least H / W is preferably 2 or more. Further, for example, the thickness t of the microprobe guides 70 and 71 is about 400 μm, the height h1 of the tip 54 at one end from the shaft 52 is about 800 μm, and the height from the shaft 56 of the tip 56 at the other end. h2 can be about 400 μm.

マイクロプローブガイド70,71は共に同様の構成であるので、代表してマイクロプローブガイド70の様子を図7に示す。ここでは、図7(a)に上面図、(b)に側面図、(c)に底面図が示される。マイクロプローブガイド70,71は、マイクロプローブ50,51を所定の配置ピッチPで配置し、位置決めをする案内機能を有する部品である。したがって、平板状プレートに複数の溝をピッチPで配置し、その溝底に位置決め用のくぼみ又は開口を設けるものが用いられる。すなわち、両端曲がり型のマイクロプローブ50,51の軸部52の矩形断面の幅Wに対応する溝幅と、軸部52の矩形断面の高さHに対応する溝深さと、軸部52の長さに対応する溝長さを有する溝72がピッチPで配置される。そして、溝底に、マイクロプローブ50,51の位置決め用凸部64に対応して、開口84が設けられる。また、溝72の一方端は、両端曲がり型のマイクロプローブ50,51の一方端部を突き出せるように、溝底に開口が設けられ、いわば切り欠いた開口74とされる。また、溝72の他方端は、溝底に対し上側に両端曲がり型マイクロプローブの他方端部を突き出すときの案内となるように、立上壁76が設けられる。   Since the microprobe guides 70 and 71 have the same configuration, the state of the microprobe guide 70 is representatively shown in FIG. 7A is a top view, FIG. 7B is a side view, and FIG. 7C is a bottom view. The microprobe guides 70 and 71 are parts having a guiding function for positioning the microprobes 50 and 51 at a predetermined arrangement pitch P. Therefore, a flat plate is used in which a plurality of grooves are arranged at a pitch P and a positioning recess or opening is provided at the groove bottom. That is, the groove width corresponding to the width W of the rectangular section of the shaft portion 52 of the both-end bent microprobes 50, 51, the groove depth corresponding to the height H of the rectangular section of the shaft portion 52, and the length of the shaft portion 52. Grooves 72 having a groove length corresponding to the length are arranged at a pitch P. An opening 84 is provided at the groove bottom corresponding to the positioning convex portion 64 of the microprobes 50 and 51. In addition, one end of the groove 72 is provided with an opening at the bottom of the groove so as to protrude one end portion of the both-end bent microprobes 50 and 51, so as to be a notched opening 74. Further, a rising wall 76 is provided at the other end of the groove 72 so as to serve as a guide when the other end of the curved microprobe is protruded upward from the groove bottom.

図8は、マイクロプローブガイド70,71を背中合わせに組み立てたときの様子を示す図である。なお、図8は、図7におけるC方向から見た図で、縦横の縮尺を正確にあわせてある。この例では、マイクロプローブガイド70の厚さを400μmよりやや小さく、溝72については、溝ピッチPが50μmであるので、溝幅を25μmよりやや大きく例えば約28μmとすることができる。また、溝深さを250μmよりやや大きく設定し、開口84の幅も25μmよりやや大きく、例えば28μmに設定することができる。開口84は、マイクロプローブガイド70の底が完全に抜かれてある。マイクロプローブガイド71において、溝73、開口85等の各部の寸法も同様である。そして、マイクロプローブガイド70とマイクロプローブガイド71とは、溝配置ピッチの方向に、S2=P/2相互にずらして配置される。なお、溝の長手方向については、図4、図5で説明したように、S1だけずらして配置される。   FIG. 8 is a view showing a state when the microprobe guides 70 and 71 are assembled back to back. FIG. 8 is a view as seen from the direction C in FIG. 7, and the scales in the vertical and horizontal directions are accurately adjusted. In this example, since the thickness of the microprobe guide 70 is slightly smaller than 400 μm and the groove 72 has a groove pitch P of 50 μm, the groove width can be slightly larger than 25 μm, for example, about 28 μm. Further, the groove depth can be set slightly larger than 250 μm, and the width of the opening 84 can also be set slightly larger than 25 μm, for example, 28 μm. In the opening 84, the bottom of the microprobe guide 70 is completely removed. In the microprobe guide 71, the dimensions of the respective parts such as the groove 73 and the opening 85 are the same. The microprobe guide 70 and the microprobe guide 71 are arranged so as to be shifted from each other in the direction of the groove arrangement pitch by S2 = P / 2. In addition, about the longitudinal direction of a groove | channel, as demonstrated in FIG. 4, FIG.

千鳥配置型マイクロプローブユニット40は、図8のようにマイクロプローブガイド70,71が背中合わせに位置決めして組み立てられ、その後、溝72,73に、マイクロプローブ50,51が挿入され、開口84,85に各マイクロプローブ70,71の位置決め用凸部がそれぞれ位置決めされて、得られる。   As shown in FIG. 8, the staggered microprobe unit 40 is assembled with the microprobe guides 70 and 71 positioned back to back, and thereafter, the microprobes 50 and 51 are inserted into the grooves 72 and 73, and the openings 84 and 85. The positioning projections of the microprobes 70 and 71 are respectively positioned and obtained.

図9は、マイクロプローブガイド70,71の製造方法の手順を説明する図である。図9では、各工程における平面図と断面図とが示されている。なお、図9(c)における断面図は、その平面図のD−D線における断面図を、図9(d)における断面図は、その平面図のE−E線における断面図がそれぞれ示されている。   FIG. 9 is a diagram for explaining the procedure of the manufacturing method of the microprobe guides 70 and 71. FIG. 9 shows a plan view and a sectional view in each step. 9C is a cross-sectional view taken along the line DD of the plan view, and FIG. 9D is a cross-sectional view taken along the line EE of the plan view. ing.

最初に所定の厚さのシリコンプレート90を製作する(シリコンプレート製作工程)。例えば、シリコンウェハを厚さ約400μmに加工する。加工後のシリコンウェハは、十分に洗浄される。その後シリコンプレート90の上面に適当なマスクが設けられ、マスクにおいて溝形状の部分が除去される(溝形成のためのマスク工程)。マスクとしては、適当な無機絶縁膜又は有機絶縁膜を用いることができる。無機絶縁膜を用いるときは、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等を堆積させ、フォトエッチング技術によって所定の形状にエッチングし、溝形成のためのマスク92を形成することができる。有機絶縁膜を用いるときは、フォトレジスト膜を塗布し、適当な露光マスクを用いた露光・現像技術によって、溝形成のためのマスク92を形成することができる。図9(a)は、溝形成のためのマスク92がシリコンプレート90上に形成された様子を示す図である。マスクの開口は、形成したい溝幅、溝長さと同じ寸法に設定される。   First, a silicon plate 90 having a predetermined thickness is manufactured (silicon plate manufacturing process). For example, a silicon wafer is processed to a thickness of about 400 μm. The processed silicon wafer is sufficiently cleaned. Thereafter, an appropriate mask is provided on the upper surface of the silicon plate 90, and a groove-shaped portion is removed from the mask (mask process for forming a groove). As the mask, an appropriate inorganic insulating film or organic insulating film can be used. When an inorganic insulating film is used, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like is deposited and etched into a predetermined shape by a photoetching technique to form a mask 92 for forming a groove. When an organic insulating film is used, a mask 92 for groove formation can be formed by applying a photoresist film and exposing / developing using an appropriate exposure mask. FIG. 9A is a diagram illustrating a state in which a mask 92 for forming a groove is formed on the silicon plate 90. The opening of the mask is set to the same dimension as the groove width and groove length to be formed.

次に、ドライエッチング法によって、溝72を形成する(溝形成工程)。ドライエッチング法としては、反応性イオンエッチング法を用いることができる。あるいは、イオンビームエッチング法又はスパッタエッチング法と呼ばれる方法を用いることもできる。これらの方法は、主に物理的衝撃によってシリコンプレート90を除去して所定の形状にする異方性エッチング法であり、エッチング液等による化学反応を用いる等方性エッチング法に比べ格段にサイドエッチングが少ない。したがって、ほぼマスクの形状どおりに深い溝や開口を形成することができる。反応ガスとしては、SiCl4、Cl2、CBrF3等を用いることができる。溝深さの調整は、例えば、反応時間で行うことができる。図9(b)は、溝72が形成された様子を示す図である。 Next, the groove 72 is formed by a dry etching method (groove forming step). As the dry etching method, a reactive ion etching method can be used. Alternatively, a method called an ion beam etching method or a sputter etching method can be used. These methods are anisotropic etching methods in which the silicon plate 90 is removed mainly by physical impact so as to have a predetermined shape. Side etching is much more effective than isotropic etching methods using a chemical reaction with an etchant or the like. Less is. Therefore, deep grooves and openings can be formed almost in accordance with the mask shape. As the reaction gas, SiCl 4 , Cl 2 , CBrF 3 or the like can be used. The adjustment of the groove depth can be performed by the reaction time, for example. FIG. 9B is a diagram illustrating a state in which the groove 72 is formed.

つぎに、溝72が形成されたシリコンプレートを反転し、裏面に適当なマスクが設けられ、マスクにおいて開口形状の部分が除去される(開口形成のためのマスク工程)。マスク形成の詳細な内容は、溝形成のためのマスク工程と同様である。ただし、開口形成のマスクは、溝72に対する位置決めを行うことが必要である。この位置決めは、適当な目合わせパターン等を用いて行うことができる。図9(c)には、溝72が形成されたシリコンプレートの裏面側に溝形成のためのマスク94が形成された様子が示される。   Next, the silicon plate in which the groove 72 is formed is inverted, and an appropriate mask is provided on the back surface, and an opening-shaped portion is removed from the mask (mask process for forming an opening). The detailed contents of the mask formation are the same as the mask process for forming the grooves. However, the opening formation mask needs to be positioned with respect to the groove 72. This positioning can be performed using an appropriate alignment pattern or the like. FIG. 9C shows a state in which a mask 94 for forming a groove is formed on the back side of the silicon plate in which the groove 72 is formed.

このマスクを用いて、ドライエッチング法によって開口が形成される(開口形成工程)。ここでも、溝形成工程と同様な異方性エッチング法を用いることができる。開口の寸法精度があまり厳しくない場合には、エッチング液によるウェットエッチングを用いてもよい。図9(d)には、溝72の溝底に開口84,74が形成される様子が示される。このようにして、シリコンプレート90から、異方性ドライエッチング法によって、マイクロプローブガイドを得ることができる。   Using this mask, an opening is formed by dry etching (opening forming step). Here too, an anisotropic etching method similar to the groove forming step can be used. When the dimensional accuracy of the opening is not so strict, wet etching with an etchant may be used. FIG. 9D shows a state where the openings 84 and 74 are formed at the groove bottom of the groove 72. In this manner, a microprobe guide can be obtained from the silicon plate 90 by anisotropic dry etching.

上記においては、上側マイクロプローブユニット42に用いられるマイクロプローブガイド70と、下側マイクロプローブユニット44に用いられるマイクロプローブガイド71とが同一のものとして説明した。ここでは、マイクロプローブガイド70,71は背中合わせに組み立てたとき、各溝72は、P/2=S2のピッチで平行に配置されており、すなわち、千鳥配置型マイクロプローブユニット40として組み立てたとき、各マイクロプローブ50,51は、P/2=S2のピッチで平行に配置される。図10は、各マイクロプローブ50,51を平行でなく、液晶表示パネル8側でピッチS2、フラットケーブル22側でピッチS4となるように、斜行して配置されるマイクロプローブユニット102,104を示す図である。この場合、マイクロプローブガイド106,108は同一のものではなく、互いに裏返しの関係で各溝が設けられるが、マイクロプローブ50,51は同一のものを用いることができる。   In the above description, the microprobe guide 70 used for the upper microprobe unit 42 and the microprobe guide 71 used for the lower microprobe unit 44 have been described as being the same. Here, when the microprobe guides 70 and 71 are assembled back to back, the grooves 72 are arranged in parallel at a pitch of P / 2 = S2, that is, when assembled as a staggered microprobe unit 40, The microprobes 50 and 51 are arranged in parallel at a pitch of P / 2 = S2. FIG. 10 shows the microprobe units 102 and 104 arranged obliquely so that the microprobes 50 and 51 are not parallel but have a pitch S2 on the liquid crystal display panel 8 side and a pitch S4 on the flat cable 22 side. FIG. In this case, the microprobe guides 106 and 108 are not the same, and each groove is provided in an inverted relationship, but the same microprobes 50 and 51 can be used.

液晶表示パネル8側でピッチS2とし、フラットケーブル22側でピッチS4として、両端で異なるピッチとする理由は次の通りである。すなわち、液晶表示パネル8は、点灯検査の後、端子パッド9にテープキャリアパッケージ(TCP)が実装されて製品化される。液晶表示パネル8は、このTCPを経由して信号を入出力するので、液晶表示パネル8の製造工程における検査において、このTCPを転用することが便利である。その観点から、フラットケーブル22にはTCP用のフラットケーブルが用いられる。TCPは、液晶表示パネル8の端子パッド9に熱圧着によって接合されるものであるが、熱圧着時の熱によって寸法が伸びるため、熱圧着時の温度において液晶表示パネル8の端子パッド9のピッチに合うようにパターンが形成されている。したがって、常温におけるTCPの端子ピッチS4は、液晶表示パネル8の端子パッド9のピッチS2より短い。このために、フラットケーブル22側のピッチS4は、液晶表示パネル8の端子パッド9のピッチS2より短くなる。   The reason why the pitch S2 is set on the liquid crystal display panel 8 side and the pitch S4 is set on the flat cable 22 side is different at both ends is as follows. That is, after the lighting test, the liquid crystal display panel 8 is commercialized by mounting a tape carrier package (TCP) on the terminal pads 9. Since the liquid crystal display panel 8 inputs and outputs signals via this TCP, it is convenient to divert this TCP in the inspection in the manufacturing process of the liquid crystal display panel 8. From this point of view, a flat cable for TCP is used as the flat cable 22. The TCP is bonded to the terminal pad 9 of the liquid crystal display panel 8 by thermocompression bonding. However, since the dimension is increased by heat at the time of thermocompression bonding, the pitch of the terminal pad 9 of the liquid crystal display panel 8 at the temperature at the time of thermocompression bonding. A pattern is formed so as to meet the above. Therefore, the terminal pitch S4 of TCP at normal temperature is shorter than the pitch S2 of the terminal pads 9 of the liquid crystal display panel 8. For this reason, the pitch S4 on the flat cable 22 side is shorter than the pitch S2 of the terminal pads 9 of the liquid crystal display panel 8.

このように、フラットケーブル22を液晶表示パネル8に用いられるTCPを転用する場合には、マイクロプローブ50,51のピッチを液晶表示パネル8側とフラットケーブル22側とで異なるものとする必要がある。このような場合でも、ドライエッチング工程におけるマスクをその仕様にすることで、マイクロプローブガイド106,108をその仕様で容易に製作することができる。   Thus, when diverting the TCP used for the liquid crystal display panel 8 to the flat cable 22, the pitch of the microprobes 50 and 51 needs to be different between the liquid crystal display panel 8 side and the flat cable 22 side. . Even in such a case, the microprobe guides 106 and 108 can be easily manufactured in accordance with the specifications of the mask used in the dry etching process.

本発明に係る実施の形態のマイクロプローブユニットが適用される液晶表示パネル点灯検査装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display panel lighting test | inspection apparatus with which the microprobe unit of embodiment which concerns on this invention is applied. 本発明に係る実施の形態におけるコンタクトプローブの斜視図である。It is a perspective view of the contact probe in the embodiment according to the present invention. 本発明に係る実施の形態におけるコンタクトプローブの詳細図である。It is detail drawing of the contact probe in embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る実施の形態において、千鳥配置型マイクロプローブユニットを構成する2つのマイクロプローブユニットが背中合わせに組み合わされる様子を示す図である。In embodiment which concerns on this invention, it is a figure which shows a mode that two microprobe units which comprise a staggered microprobe unit are combined back-to-back. 本発明に係る実施の形態において、上側マイクロプローブユニットと下側マイクロプローブユニットとが背中合わせで組み合わされて千鳥配置型マイクロプローブユニットとなる様子を示す詳細図である。In embodiment which concerns on this invention, it is detail drawing which shows a mode that an upper side microprobe unit and a lower side microprobe unit are combined back-to-back, and become a staggered microprobe unit. 本発明に係る実施の形態におけるマイクロプローブの詳細図である。It is detail drawing of the microprobe in embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る実施の形態におけるマイクロプローブガイドの様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the microprobe guide in embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る実施の形態において、マイクロプローブガイドを背中合わせに組み立てたときの様子を示す図である。In embodiment which concerns on this invention, it is a figure which shows a mode when a microprobe guide is assembled back to back. 本発明に係る実施の形態において、マイクロプローブガイドの製造方法の手順を説明する図である。In embodiment which concerns on this invention, it is a figure explaining the procedure of the manufacturing method of a microprobe guide. 本発明に係る実施の形態において、各マイクロプローブの配置を、液晶表示パネル側でピッチS2、フラットケーブル側でピッチS4となるようにする様子を示す図である。In embodiment which concerns on this invention, it is a figure which shows a mode that arrangement | positioning of each microprobe becomes pitch S2 on the liquid crystal display panel side, and becomes pitch S4 on the flat cable side.

符号の説明Explanation of symbols

8 液晶表示パネル、9 端子パッド、10 液晶表示パネル点灯検査装置、12 ステージ、14 プローバ保持部、16 点灯検査器、18 マニピュレータ、20 コンタクトプローブ、22 フラットケーブル、24 マニピュレータベース、26 サポート台、28 押さえ板、30 位置決めピン、32 固定ボルト、40 千鳥配置型マイクロプローブユニット、42,44,102,104 マイクロプローブユニット、50,51 マイクロプローブ、52 軸部、54,55,56,57 先端、58,62 テーパ、60 突起、64 凸部、70,71,106,108 マイクロプローブガイド、72,73 溝、74,84,85,74 開口、76 立上壁、90 シリコンプレート、92,94 マスク。   8 liquid crystal display panel, 9 terminal pad, 10 liquid crystal display panel lighting inspection device, 12 stage, 14 prober holder, 16 lighting inspection device, 18 manipulator, 20 contact probe, 22 flat cable, 24 manipulator base, 26 support base, 28 Presser plate, 30 Positioning pin, 32 Fixing bolt, 40 Staggered microprobe unit, 42, 44, 102, 104 Microprobe unit, 50, 51 Microprobe, 52 Shaft, 54, 55, 56, 57 Tip, 58 62, taper, 60 protrusion, 64 convex, 70, 71, 106, 108 microprobe guide, 72, 73 groove, 74, 84, 85, 74 opening, 76 upright wall, 90 silicon plate, 92, 94 mask.

Claims (5)

高さが幅の2倍以上ある矩形断面の軸部を有する細長いマイクロプローブと、An elongated microprobe having a rectangular cross-section shaft portion having a height of at least twice the width;
マイクロプローブの軸部矩形断面の幅に対応する溝幅と、軸部矩形断面の高さに対応する溝深さとを有するマイクロプローブ案内溝を、複数整列配置したマイクロプローブガイドと、  A microprobe guide in which a plurality of microprobe guide grooves having a groove width corresponding to the width of the shaft section rectangular cross section of the microprobe and a groove depth corresponding to the height of the shaft section rectangular section are arranged;
を備え、各マイクロプローブ案内溝にそれぞれマイクロプローブを保持させ、And holding each microprobe in each microprobe guide groove,
マイクロプローブは、The microprobe
その一方端が軸部に対し傾斜して延びて一方端部となり、他方端が軸部に対し、一方端の傾斜と逆方向に傾斜して延びてその先端が他方端部となる両端曲がり型マイクロプローブであり、One end bent at one end and inclined to the shaft portion, and the other end bent at the opposite end to the shaft portion and inclined at the opposite end, and the other end is bent at both ends. A microprobe,
マイクロプローブガイドは、両端曲がり型マイクロプローブの軸部の長さに対応する溝長さを有し、溝の一方端から溝底に対して下側にマイクロプローブの曲がっている一方端部を出し、溝の他方端から溝底に対して上側にマイクロプローブの曲がっている他方端部を出し、The microprobe guide has a groove length corresponding to the length of the shaft part of the both ends bent microprobe, and projects one end of the microprobe bent downward from one end of the groove to the bottom of the groove. The other end of the microprobe is bent upward from the other end of the groove with respect to the groove bottom,
マイクロプローブの軸部に対する一方端部の先端の高さは、軸部に対する他方端部の先端の高さに比べ、マイクロプローブガイドの厚み分だけ異なることを特徴とするマイクロプローブユニット。A microprobe unit characterized in that the height of the tip of one end relative to the shaft of the microprobe differs from the height of the tip of the other end relative to the shaft by the thickness of the microprobe guide.
請求項1に記載のマイクロプローブユニットにおいて、The microprobe unit according to claim 1,
マイクロプローブは、さらに、軸部の一部に位置決め用凸部を有し、The microprobe further has a positioning convex part on a part of the shaft part,
マイクロプローブガイドは、さらに、マイクロプローブ案内溝の溝底の一部に、マイクロプローブの位置決め用凸部に対応するくぼみ又は開口を有することを特徴とするマイクロプローブユニット。The microprobe guide further has a recess or an opening corresponding to the convex portion for positioning the microprobe at a part of the groove bottom of the microprobe guide groove.
請求項1に記載のマイクロプローブユニットにおいて、The microprobe unit according to claim 1,
マイクロプローブガイドは、複数のマイクロプローブ案内溝を有するシリコンプレートであることを特徴とするマイクロプローブユニット。The microprobe unit is a silicon plate having a plurality of microprobe guide grooves.
複数のマイクロプローブ案内溝を有するマイクロプローブガイドの各案内溝に両端曲がり型マイクロプローブをそれぞれ配置して、溝の両端から両端曲がり型マイクロプローブの両端をそれぞれ突き出させるマイクロプローブユニットを2つ相互に背中合わせにしてホルダで保持し、マイクロプローブガイドの両端のそれぞれにおいて隣接する両端曲がり型マイクロプローブの先端が互いに千鳥型に配置される千鳥配置型マイクロプローブユニットであって、Two micro-probe units are arranged so that each end-bend microprobe is arranged in each guide groove of a micro-probe guide having a plurality of micro-probe guide grooves, and both ends of the both-ends bend-type microprobe protrude from each end of the groove. A staggered microprobe unit that is held back-to-back with holders, and the ends of adjacent curved microprobes adjacent to each other at both ends of the microprobe guide are arranged in a staggered fashion,
両端曲がり型マイクロプローブは、Both ends bend type microprobe
高さが幅の2倍以上ある矩形断面を有する細長い軸部と、An elongated shaft portion having a rectangular cross section whose height is at least twice the width;
軸部の一方端が軸部に対し傾斜して延びる一方端部と、One end of the shaft portion extending at an angle with respect to the shaft portion;
軸部の他方端が軸部に対し、一方端の傾斜と逆方向に傾斜して延び、その先端の軸部に対する高さが、一方端部の先端の軸部に対する高さに比べ、マイクロプローブガイドの厚さ分だけ異なる他方端部と、The other end of the shaft portion extends in a direction opposite to the inclination of the one end with respect to the shaft portion, and the height of the tip end relative to the shaft portion is smaller than the height of the tip end of the one end portion relative to the shaft portion. The other end that differs by the thickness of the guide,
を含み、Including
各マイクロプローブ案内溝は、Each microprobe guide groove
両端曲がり型マイクロプローブの軸部矩形断面の幅に対応する溝幅と、The groove width corresponding to the width of the shaft rectangular cross section of the both ends bent microprobe,
軸部矩形断面の高さに対応する溝深さと、The groove depth corresponding to the height of the rectangular section of the shaft,
軸部の長さに対応する溝長さであって、溝の一方端から溝底に対し下側に両端曲がり型マイクロプローブの一方端部を突き出し、溝の他方端から溝底に対し上側に両端曲がり型マイクロプローブの他方端部を突き出すことができる溝長さと、The length of the groove corresponds to the length of the shaft part. One end of the bent microprobe protrudes from one end of the groove downward to the groove bottom, and the other end of the groove extends upward from the groove bottom. A groove length capable of projecting the other end of the both ends bent microprobe,
を有し、Have
ホルダは、The holder is
一方側のマイクロプローブユニットと他方側のマイクロプローブユニットとを相互に背中合わせにし、マイクロプローブ案内溝のピッチ方向に任意の距離だけ相互にずらし、マイクロプローブ案内溝の長さ方向に、隣接するマイクロプローブの先端が離隔する任意の距離だけずらして配置して保持し、マイクロプローブガイドの両端のそれぞれにおいて、隣接するマイクロプローブの先端が互いに千鳥型配置とすることを特徴とする千鳥配置型マイクロプローブユニット。The microprobe unit on one side and the microprobe unit on the other side are back-to-back with respect to each other, shifted by an arbitrary distance in the pitch direction of the microprobe guide groove, and adjacent microprobes in the length direction of the microprobe guide groove Staggered microprobe unit characterized in that the tips of adjacent microprobes are arranged in a staggered manner at both ends of the microprobe guide, and are shifted and held by an arbitrary distance apart from each other. .
請求項4に記載の千鳥配置型マイクロプローブユニットにおいて、In the staggered microprobe unit according to claim 4,
プローブガイドは、複数のマイクロプローブ案内溝を有するシリコンプレートであることを特徴とする千鳥配置型マイクロプローブユニット。A staggered microprobe unit, wherein the probe guide is a silicon plate having a plurality of microprobe guide grooves.
JP2006104444A 2006-04-05 2006-04-05 Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit Expired - Fee Related JP4789686B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006104444A JP4789686B2 (en) 2006-04-05 2006-04-05 Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit
KR1020070031011A KR20070100117A (en) 2006-04-05 2007-03-29 Manufacturing Method of Microprobe Guide, Microprobe Unit Using Microprobe Guide and Zigzag Shaped Microprobe Unit
TW096111199A TW200741211A (en) 2006-04-05 2007-03-30 Manufacturing method of micro probe guide, micro probe unit using micro probe guide and zigzaged arrangement type micro probe unit
CN2007100958275A CN101051056B (en) 2006-04-05 2007-04-05 Method of manufacturing mini probe guiding device and mini probe unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006104444A JP4789686B2 (en) 2006-04-05 2006-04-05 Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007278799A JP2007278799A (en) 2007-10-25
JP4789686B2 true JP4789686B2 (en) 2011-10-12

Family

ID=38680393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006104444A Expired - Fee Related JP4789686B2 (en) 2006-04-05 2006-04-05 Microprobe unit using microprobe guide and staggered microprobe unit

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4789686B2 (en)
KR (1) KR20070100117A (en)
CN (1) CN101051056B (en)
TW (1) TW200741211A (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100883269B1 (en) * 2008-02-14 2009-02-10 (주) 루켄테크놀러지스 Integrated probe unit for low cost LCD inspection
CN101526555B (en) * 2008-03-04 2011-12-07 跃沄科技有限公司 Method for manufacturing probe
JP5373437B2 (en) * 2009-03-04 2013-12-18 日本電子材料株式会社 Socket probe card
KR100972049B1 (en) * 2009-03-10 2010-07-22 주식회사 프로이천 Probe unit for testing panel
JP5417265B2 (en) * 2010-06-24 2014-02-12 株式会社日本マイクロニクス Probe assembly
JP5588892B2 (en) * 2010-12-03 2014-09-10 株式会社日本マイクロニクス Probe assembly
KR101962644B1 (en) * 2017-08-23 2019-03-28 리노공업주식회사 A test probe and test device using the same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05215814A (en) * 1991-05-24 1993-08-27 Tokyo Electron Yamanashi Kk Semiconductor device inspecting device
JPH087235B2 (en) * 1992-12-01 1996-01-29 日本電子材料株式会社 Narrow pitch compatible probe card
CN1036945C (en) * 1994-03-15 1998-01-07 吉林大学 Microwave probe for coplanar integrated circuit chip
JP2000340924A (en) * 1999-05-27 2000-12-08 Nhk Spring Co Ltd Probe unit for testing semiconductor chip mounting substrates
JP2003004769A (en) * 2001-06-22 2003-01-08 Kobe Steel Ltd Connection apparatus
AU2003282421A1 (en) * 2002-11-22 2004-06-18 Phicom Corporation Probe for testing flat panel display and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
CN101051056A (en) 2007-10-10
TW200741211A (en) 2007-11-01
CN101051056B (en) 2011-05-18
JP2007278799A (en) 2007-10-25
KR20070100117A (en) 2007-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102832149B (en) Probe head formation methods employing guide plate raising assembly mechanism
US7498827B2 (en) Probe card
JP4786679B2 (en) Probe card and manufacturing method thereof
US8723546B2 (en) Vertical guided layered probe
US20100176831A1 (en) Probe Test Card with Flexible Interconnect Structure
TWI844716B (en) Probe head for electronic devices and corresponding probe card
CN101051056B (en) Method of manufacturing mini probe guiding device and mini probe unit
KR20020020196A (en) Semi conductor devices imsepection apparatus and fabrication method there of
KR20020014677A (en) Probe, Probe Card and Manufacturing Method of Probe
KR100670999B1 (en) Probe Structure, Probe Contact Substrate and Manufacturing Method Thereof
EP4089721B1 (en) Contactor, inspection jig, inspection device, and method for manufacturing said contactor
CN110662969A (en) Contact probes and associated probes for apparatus for testing electronic devices
KR100523745B1 (en) Microprobe and Method for Manufacturing the Same Using MEMS and Electroplating Technology
JP2010197092A (en) Contact probe and probe unit
KR100586675B1 (en) Method for manufacturing vertical electrical contactor and thus vertical electrical contactor
JP4974021B2 (en) Probe assembly
KR20170085450A (en) Probe guide plate and method of manufacturing the same and probe device
JP2007171139A (en) Probe holding structure and spring type probe
US8115504B2 (en) Microspring array having reduced pitch contact elements
JP2002071719A (en) Probe card and production method thereof
CN100508154C (en) Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device
JP4936275B2 (en) Contact assembly
JP2007127488A (en) Probe card
KR101066551B1 (en) Pin array frame used to manufacture probe cards
JP2005127961A (en) Test board and test apparatus using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080220

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090216

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20091015

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20091015

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110308

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110520

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110628

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110719

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140729

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees