JP4801359B2 - 水素製造方法 - Google Patents
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Description
脱水素反応直後の気相を水素分離膜を用いた水素の精製手段により純度99.99%以上の高純度水素とし、更に該高純度水素の一部を前記脱水素反応器へリサイクルし、
前記水素の精製手段における水素分離膜の温度が200℃以上で、該水素分離膜の入出差圧が2kg/cm 2 以上であり、水素回収率が85%以上となる条件で脱水素反応直後の気相を精製処理する
ことを特徴とする水素製造方法。
脱水素触媒として0.5%Pt/Al2O3触媒(平均細孔径72.9Å、全細孔容量に占める40〜80Åの細孔容量の割合60%)10cm3を固定床流通式反応装置に充填した。芳香族炭化水素の水素化物としてメチルシクロヘキサン(MCHX)を用い、触媒層温度380℃、反応圧力0.9MPa、液空間速度(LHSV)=2hr-1、水素/オイル比(H2/Oil)=3mol/molの条件下で脱水素反応を行った。反応装置からの出口ガスを気液分離し、生成ガスと回収油の組成をガスクロにより分析したところ、脱水素反応転化率93%、補正計算後(反応装置に導入した純水素ガスの量を差し引いた)発生ガス中の水素99.983%、メタン0.01%であった。
参考例と同様の触媒25cm3を固定床流通式反応装置に充填し、触媒層温度350℃、反応器入口ゲージ圧力0.75MPa、液空間速度(LHSV)=1hr-1、水素/オイル比(H2/Oil)=1.35mol/molの条件下でメチルシクロヘキサン(MCHX)を脱水素反応したところ、反応装置からの出口ガスは水素:トルエン(TOL):MCHX:TOL及びMCHX以外の炭化水素=80.06:17.94:1.77:0.23(vol%)であり、転化率は91%であった。このガスを300℃の膜厚15μmのPd−40Cu膜に、透過膜入口ゲージ圧力0.75MPa、透過膜出口ゲージ圧力0.0MPaで通して選択透過させたところ、水素純度は99.999%以上、水素回収率は97%であった。
参考例と同様の触媒25cm3を固定床流通式反応装置に充填し、触媒層温度316℃、反応器入口ゲージ圧力0.30MPa、液空間速度(LHSV)=1hr-1、水素/オイル比(H2/Oil)=1.35mol/molの条件下でメチルシクロヘキサン(MCHX)を脱水素反応したところ、反応装置からの出口ガスは水素:トルエン(TOL):MCHX:TOL及びMCHX以外の炭化水素=80.54:17.02:2.42:0.02(vol%)であり、転化率は88%であった。このガスを300℃の膜厚15μmのPd−40Cu膜に、透過膜入口ゲージ圧力0.3MPa、透過膜出口ゲージ圧力0.0MPaで通して選択透過させたところ、水素純度は99.999%以上、水素回収率は89%であった。
参考例と同様の触媒4cm3を固定床流通式反応装置に充填し、触媒層温度370℃、反応圧力0.9MPa、液空間速度(LHSV)=2hr-1、窒素/オイル比(N2/Oil)=0.007mol/molの条件下でメチルシクロヘキサン(MCHX)を脱水素反応した。反応装置からの出口ガスを気液分離し、生成ガスと回収油の組成をガスクロにより分析したところ、脱水素反応転化率93%、補正計算後(反応装置に導入した純水素ガスの量を差し引いた)発生ガス中の水素99.90%、メタン0.09%であった。水素流通下の参考例1に比べると発生ガス中の水素純度が低く、副反応にともなうメタンの含有量が多くなった。
2 脱水素反応器
3 熱交換器
4 バーナー
5 水素分離膜
6 気液分離器
7 回収油タンク
Claims (6)
- 脱水素反応器中での芳香族炭化水素の水素化物の脱水素反応により高純度水素を製造する方法において、
脱水素反応直後の気相を水素分離膜を用いた水素の精製手段により純度99.99%以上の高純度水素とし、更に該高純度水素の一部を前記脱水素反応器へリサイクルし、
前記水素の精製手段における水素分離膜の温度が200℃以上で、該水素分離膜の入出差圧が2kg/cm 2 以上であり、水素回収率が85%以上となる条件で脱水素反応直後の気相を精製処理する
ことを特徴とする水素製造方法。 - 前記脱水素反応器が固定床流通式反応器であることを特徴とする請求項1に記載の水素製造方法。
- 前記水素分離膜がPd合金膜であることを特徴とする請求項1又は2に記載の水素製造方法。
- 前記水素分離膜がPd−Cu合金膜であることを特徴とする請求項3に記載の水素製造方法。
- 前記芳香族炭化水素の水素化物の脱水素反応に用いる脱水素反応触媒が、白金、ルテニウム、パラジウム、ロジウム、スズ、レニウム、及びゲルマニウムよりなる群から選択される少なくとも1種の金属を多孔質担体に担持してなり、平均細孔径が40〜130Åの範囲であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の水素製造方法。
- 前記脱水素反応を、LHSVが0.5〜4、反応温度が100℃〜450℃、反応圧力が常圧〜2MPa、水素/芳香族炭化水素水素化物のモル比が0.01〜10の範囲で、かつ転化率が85%以上となる条件で行うことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の水素製造方法。
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