JP4802456B2 - 硬化性組成物及び該硬化性組成物により封止された半導体装置 - Google Patents
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Description
(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(E)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンを必須成分とする硬化性組成物であって、
前記(A)成分が、下記一般式(III)
硬化性組成物中の(A)成分と(B)成分の比率、[硬化性組成物中の(A)成分のアルケニル基のモル数/硬化性組成物中の(B)成分のSiH基のモル数]の値が、下限0.25、上限30の範囲であり、
(A)成分と(E)成分の合計100重量部に対する(E)成分の割合が下限5重量部、上限65重量部であることを特徴とする硬化性組成物(請求項1)であり、
請求項1記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化物(請求項2)であり、
請求項1記載の硬化性組成物で半導体を封止してなることを特徴とする半導体装置(請求項3)であり、
半導体が発光ダイオード(LED)用素子であることを特徴とする請求項3記載の半導体装置(請求項4)である。
等が挙げられる。
1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサンがより好ましい。なお、上記一般式(VI)におけるR28は、C、H、Oから構成される炭素数1〜6の有機基であることが好ましく、炭素数1〜6の炭化水素基であることがより好ましく、炭素数1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。また、nは3〜10の数であることが好ましい。
R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40としては、得られる硬化物の耐熱性がより高くなりうるという観点からは、炭素数1〜20の一価の有機基であることが好ましく、炭素数1〜15の一価の有機基であることがより好ましく、炭素数1〜10の一価の有機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいR29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシ基、エトキシ基、ビニル基、アリル基、グリシジル基等が挙げられる。
冷却管、攪拌機、温度計を備えた1Lの4つ口フラスコに信越化学工業製1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン288gを入れ、トルエン360gを加えて溶解した後、110℃に保った。別途、トリアリルイソシアヌレート40gをトルエン40gに溶かし、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.3gを加えた溶液を用意し、これを4つ口フラスコ中の溶液に10分かけて滴下した後、攪拌しながら6時間反応させた。反応後、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.6gを加えて溶解した後、25℃まで放冷した。その後、反応液を1Lのナスフラスコに移し、減圧下、60℃で揮発分を留去することによって、130gの変性体(1)を得た。変性体(1)のヒドロシリル基含有量はプロトンNMR分析の結果、8.04mmol/gであった。また、同分析の結果、アリル基残存量は0.10mmol/gであった。なお、ヒドロシリル基含有量及びアリル基残存量は、1,2−ジブロモエタンを内部標準とし、この標準物質のプロトンの化学シフト(3.65ppm)面積とヒドロシリル基のプロトンの化学シフト(4.7ppm)面積またはアリル基のプロトンの化学シフト(4.5ppm)面積を比較することによって決定した。
2,2−ビス(4−アリルオキシシクロヘキシル)プロパン9.396g、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート7.777g、ビニル両末端(ジフェニルシロキサン/ジメチルシロキサン共重合体)(GELEST製PDV−2331)0.903g((A)成分と(E)成分の合計100重量部に対して5重量部)、ホウ酸トリメチル0.169g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.040g、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製酸化防止剤)0.675gを混合し、攪拌溶解した。次に、合成例1で調製した変性体(1)15.673g、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.101g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー製A−187)0.844gを混合し、攪拌溶解した。この混合液20gを、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作製したセルに流し込み、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、空気中で加熱を行い、硬化させた。
別途、前記混合液10gにフィラーとしてシリカ4gを加え、攪拌、脱泡した。このフィラー入り組成物9.2gを66.5mmφの軟膏缶に注ぎ込み、前記条件で硬化させた。また、このフィラー入り組成物は、シリコンチップの装着された4mm□のセラミックパッケージにもディスペンスし、前記条件で硬化させた。
(1)引張貯蔵弾性率の測定
66.5mmφの軟膏缶で作製した硬化物から、幅5mm、長さ3cmの大きさのサンプルを切り出し、アイティー計測制御製動的粘弾性測定装置DVA−200を用い、昇温速度:5℃/分、周波数:10Hzで測定した。
(2)高温着色性試験
ガラスセルで作製した硬化物から、幅1.5cm、長さ3cmの大きさのサンプルを切り出し、200℃で24時間、空気中で加熱した。その後、25℃まで冷却した後、470nmにおける透過率を測定し、加熱前の透過率の50%以上を保持したものを合格とした。
(3)耐ハンダクラック試験
上記により封止されたセラミックパッケージを250℃のハンダ浴に10秒間浸した後、すぐに25℃の純水に3秒間浸け、封止樹脂のクラック発生の有無を観察した。クラックが発生しないものを合格とした。
2,2−ビス(4−アリルオキシシクロヘキシル)プロパン7.863g、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート6.508g、ビニル両末端(ジフェニルシロキサン/ジメチルシロキサン共重合体)(GELEST製PDV−2331)6.153g((A)成分と(E)成分の合計100重量部に対して30重量部)、ホウ酸トリメチル0.169g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.040g、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製酸化防止剤)0.675gを混合し、攪拌溶解した。次に、合成例1で調製した変性体(1)13.225g、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.101g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー製A−187)0.844gを混合し、攪拌溶解した。この混合液20gを、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作製したセルに流し込み、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、空気中で加熱を行い、硬化させた。
別途、前記混合液10gにフィラーとしてシリカ4gを加え、攪拌、脱泡した。このフィラー入り組成物9.2gを66.5mmφの軟膏缶に注ぎ込み、前記条件で硬化させた。また、このフィラー入り組成物は、シリコンチップの装着された4mm□のセラミックパッケージにもディスペンスし、前記条件で硬化させた。
次に、上記によって得られた硬化物の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。
2,2−ビス(4−アリルオキシシクロヘキシル)プロパン4.849g、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート4.014g、ビニル両末端(ジフェニルシロキサン/ジメチルシロキサン共重合体)(GELEST製PDV−2331)16.475g((A)成分と(E)成分の合計100重量部に対して65重量部)、ホウ酸トリメチル0.169g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.040g、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製酸化防止剤)0.675gを混合し、攪拌溶解した。次に、合成例1で調製した変性体(1)8.411g、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.101g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー製A−187)0.844gを混合し、攪拌溶解した。この混合液20gを、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作製したセルに流し込み、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、空気中で加熱を行い、硬化させた。
別途、前記混合液10gにフィラーとしてシリカ4gを加え、攪拌、脱泡した。このフィラー入り組成物9.2gを66.5mmφの軟膏缶に注ぎ込み、前記条件で硬化させた。また、このフィラー入り組成物は、シリコンチップの装着された4mm□のセラミックパッケージにもディスペンスし、前記条件で硬化させた。
次に、上記によって得られた硬化物の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。
2,2−ビス(4−アリルオキシフェニル)プロパン6.146g、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート5.286g、ビニル両末端(ジフェニルシロキサン/ジメチルシロキサン共重合体)(GELEST製PDV−2331)11.447g((A)成分と(E)成分の合計100重量部に対して50重量部)、ホウ酸トリメチル0.169g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.040g、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製酸化防止剤)0.675gを混合し、攪拌溶解した。次に、合成例1で調製した変性体(1)10.871g、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.101g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー製A−187)0.844gを混合し、攪拌溶解した。この混合液20gを、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作製したセルに流し込み、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、空気中で加熱を行い、硬化させた。
別途、前記混合液10gにフィラーとしてシリカ4gを加え、攪拌、脱泡した。このフィラー入り組成物9.2gを66.5mmφの軟膏缶に注ぎ込み、前記条件で硬化させた。また、このフィラー入り組成物は、シリコンチップの装着された4mm□のセラミックパッケージにもディスペンスし、前記条件で硬化させた。
次に、上記によって得られた硬化物の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。
2,2−ビス(4−アリルオキシフェニル)プロパン9.397g、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート8.083g、ホウ酸トリメチル0.169g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.040g、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製酸化防止剤)0.675gを混合し、攪拌溶解した。次に、合成例1で調製した変性体(1)16.270g、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.101g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー製A−187)0.844gを混合し、攪拌溶解した。この混合液20gを、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作製したセルに流し込み、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、空気中で加熱を行い、硬化させた。
別途、前記混合液10gにフィラーとしてシリカ4gを加え、攪拌、脱泡した。このフィラー入り組成物9.2gを66.5mmφの軟膏缶に注ぎ込み、前記条件で硬化させた。また、このフィラー入り組成物は、シリコンチップの装着された4mm□のセラミックパッケージにもディスペンスし、前記条件で硬化させた。
次に、上記によって得られた硬化物の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。
2,2−ビス(4−アリルオキシシクロヘキシル)プロパン4.347g、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート3.598g、ビニル両末端(ジフェニルシロキサン/ジメチルシロキサン共重合体)(GELEST製PDV−2331)18.196g((A)成分と(E)成分の合計100重量部に対して70重量部)、ホウ酸トリメチル0.169g、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金3重量%含有)0.040g、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製酸化防止剤)0.675gを混合し、攪拌溶解した。次に、合成例1で調製した変性体(1)7.609g、1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.101g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー製A−187)0.844gを混合し、攪拌溶解した。この混合液20gを、2枚のガラス板に3mm厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさみこんで作製したセルに流し込み、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、空気中で加熱を行い、硬化させた。
別途、前記混合液10gにフィラーとしてシリカ4gを加え、攪拌、脱泡した。このフィラー入り組成物9.2gを66.5mmφの軟膏缶に注ぎ込み、前記条件で硬化させた。また、このフィラー入り組成物は、シリコンチップの装着された4mm□のセラミックパッケージにもディスペンスし、前記条件で硬化させた。
フィラー入り硬化物を目視観察した結果、PDV−2331の一部が表面に浮いた状態で硬化しており、硬化不良であった。
セラミックパッケージ内に、発光素子が配される開口部を設け、銀メッキした銅板を外部電極として配置させる。別途作製した発光素子をパッケージ内部でエポキシ樹脂を用いてダイボンドして固定する。導電性ワイヤーであるAu線を発光素子の各電極とパッケージに設けられた各外部電極とにそれぞれワイヤーボンディングし、電気的に接続させる。パッケージ開口部内にモールド部材として実施例2で用いた硬化性組成物を充填する。この状態で、60℃で6時間、続いて70℃で1時間、80℃で1時間、120℃で1時間、150℃で1時間、さらに180℃で30分間、硬化させる。このようにして、チップタイプ発光ダイオード(LED)を作製することができる。
Claims (4)
- (A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(E)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンを必須成分とする硬化性組成物であって、
前記(A)成分が、下記一般式(III)
(式中R4、R5、R6は、同一又は異なって、下記に示す炭素数1〜50の一価の有機基を表すが、少なくとも一つはSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する基である。)で表される化合物であり、
硬化性組成物中の(A)成分と(B)成分の比率、[硬化性組成物中の(A)成分のアルケニル基のモル数/硬化性組成物中の(B)成分のSiH基のモル数]の値が、下限0.25、上限30の範囲であり、
(A)成分と(E)成分の合計100重量部に対する(E)成分の割合が下限5重量部、上限65重量部であることを特徴とする硬化性組成物。
[前記式(III)中のR 4 、R 5 、R 6 は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、
で表されるエポキシ基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基、
で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基、
(式中R 7 は水素原子又はメチル基を表す。)で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基、
(式中R 8 は直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基を表し、R 9 は水素原子又はメチル基を表す。)で表される一価の有機基(複数のR 8 及びR 9 はそれぞれ異なっていても同一であってもよい。)、
から選ばれる有機基である。] - 請求項1記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化物。
- 請求項1記載の硬化性組成物で半導体を封止してなることを特徴とする半導体装置。
- 半導体が発光ダイオード(LED)用素子であることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
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