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JP4803395B2 - Method for silylation of hydroxyl group - Google Patents
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Description

本発明は、ヒドロキシル基をシリル化する方法に関する。本発明のヒドロキシル基のシリル化方法は、スルホン酸化合物もしくはその誘導体又は銅化合物を触媒として、好ましくは塩基存在下にヒドロキシル基含有化合物とクロロシラン化合物を反応させることにより、効率よくシリル化して保護することができるため、医薬品や農薬等の合成に有用である。   The present invention relates to a method for silylating a hydroxyl group. The hydroxyl group silylation method of the present invention is efficiently silylated and protected by reacting a hydroxyl group-containing compound and a chlorosilane compound in the presence of a base, preferably using a sulfonic acid compound or a derivative thereof or a copper compound as a catalyst. Therefore, it is useful for the synthesis of pharmaceuticals and agricultural chemicals.

ヒドロキシル基をシリル化する反応は、有機合成上重要な反応であり、カルバペネム系の抗生物質等の医薬品類や各種農薬類、その他のファインケミカル製品類の製造に欠かせない反応の一つである。その中でも、t−ブチルジメチルシリル基は、各種反応条件下で安定であり、また酸触媒、フッ素アニオン等により容易に脱保護できることから、ヒドロキシル基の保護基として有用である。   The reaction for silylating a hydroxyl group is an important reaction in organic synthesis, and is one of the reactions indispensable for the production of pharmaceuticals such as carbapenem antibiotics, various agricultural chemicals, and other fine chemical products. Among them, the t-butyldimethylsilyl group is useful as a protecting group for a hydroxyl group because it is stable under various reaction conditions and can be easily deprotected by an acid catalyst, a fluorine anion or the like.

ヒドロキシル基をシリル化する場合には、クロロシランやシリルトリフルオロメタンスルホネート等が用いられる。ヒドロキシル基をクロロシランでシリル化する場合、たとえば、t−ブチルジメチルクロロシランを用いてシリル化反応を行う場合には、2等量以上のイミダゾールを用いて無水DMF溶媒で反応させる方法が知られている(非特許文献1:有機化学実験の手引き、6ページ、化学同人)。しかしながら、この方法では、高価なイミダゾールを多く使用する必要があり、また、溶媒のDMFが水溶性であるため、反応後の後処理で副生するイミダゾール塩酸塩を除くために水を添加した場合に、抽出用の溶媒が必要であり、また塩酸塩と共にDMFが水層に溶解するため、水層の処理が困難となるという欠点がある。   When the hydroxyl group is silylated, chlorosilane, silyl trifluoromethanesulfonate, or the like is used. When silylating a hydroxyl group with chlorosilane, for example, when performing silylation reaction using t-butyldimethylchlorosilane, a method of reacting with an anhydrous DMF solvent using 2 equivalents or more of imidazole is known. (Non-Patent Document 1: Guide to Organic Chemistry Experiments, page 6, Chemistry Doujin). However, in this method, it is necessary to use a large amount of expensive imidazole, and since the solvent DMF is water-soluble, water is added to remove imidazole hydrochloride that is by-produced in post-treatment after the reaction. In addition, a solvent for extraction is required, and DMF is dissolved in the aqueous layer together with the hydrochloride, which makes it difficult to treat the aqueous layer.

また、ヒドロキシル基が嵩高くクロロシランに対する反応性が低い場合に、2,6−ルチジンを塩基として用いてt−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを塩化メチレン中で反応させる方法が知られている(非特許文献1:有機化学実験の手引き、6ページ、化学同人)。しかしながら、t−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートは高価であり、工業的な使用には適さない。   In addition, a method is known in which t-butyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate is reacted in methylene chloride using 2,6-lutidine as a base when the hydroxyl group is bulky and the reactivity with chlorosilane is low (non-patent document). Reference 1: Guide to Organic Chemistry Experiments, page 6, chemistry coterie). However, t-butyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate is expensive and not suitable for industrial use.

ヒドロキシル基とクロロシランの反応において、触媒を用いて反応を行う方法として、ジメチルアミノピリジンを触媒として用いて、t−ブチルジメチルクロロシランを、トリエチルアミン存在下に塩化メチレン中で反応させて、1級のヒドロキシル基を選択的にシリル化する方法が知られている(非特許文献2:hernandez, O.;Chaudhary, S. K.Tetrahedron Lett. 1979, 99.)。しかしながら、この方法では、2級のヒドロキシル基等の場合には適用できない。また、2級アミンをt−ブチルジメチルシリル化するためには、ジメチルアミノピリジン触媒を用いた場合にもDMFの様な極性溶媒を用いる必要があることが示されている(非特許文献2:hernandez, O.;Chaudhary, S. K.Tetrahedron Lett. 1979, 99.)。
上記の様に、これまでに触媒を用いてヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化する方法では、触媒の活性は満足できるものではなかった。
In the reaction between a hydroxyl group and chlorosilane, as a method of performing a reaction using a catalyst, dimethylaminopyridine is used as a catalyst, and t-butyldimethylchlorosilane is reacted in methylene chloride in the presence of triethylamine to form a primary hydroxyl group. A method of selectively silylating a group is known (Non-Patent Document 2: Hernandez, O .; Chaudhary, S. K. Tetrahedron Lett. 1979, 99.). However, this method cannot be applied in the case of a secondary hydroxyl group or the like. Further, it has been shown that in order to t-butyldimethylsilylate a secondary amine, it is necessary to use a polar solvent such as DMF even when a dimethylaminopyridine catalyst is used (Non-patent Document 2: Hernandez, O .; Chaudhary, SK Tetrahedron Lett. 1979, 99.).
As described above, the activity of the catalyst has not been satisfactory in the method of silylating a hydroxyl group with chlorosilane using a catalyst.

一方、ヒドロキシル基の保護によく用いられているt−ブチルジメチルクロロシランは、常温で結晶であり、工業的レベルでは取扱いで問題になる場合がある。取扱いを容易にするために、t−ブチルジメチルクロロシランをトルエンや酢酸エチル等の溶剤等に溶解した溶液が工業的に用いられている。また、ヒドロキシル基のクロロシランによるシリル化反応に炭化水素系溶媒を用いた場合には、副生する塩酸塩を、水を加えて溶解した場合に溶媒が水層に移行せず、水層中の反応に用いた塩基の塩酸塩からの遊離の塩基回収も容易になるという利点も有している。しかしながら、トルエン等の炭化水素系溶媒中でクロロシランを用いてヒドロキシル基をシリル化した場合には、DMF等の極性溶媒を用いた場合に比較して反応性が低下する場合があるという問題点があった。   On the other hand, t-butyldimethylchlorosilane, which is often used for protecting hydroxyl groups, is crystalline at room temperature, and may be problematic in handling at an industrial level. In order to facilitate handling, a solution in which t-butyldimethylchlorosilane is dissolved in a solvent such as toluene or ethyl acetate is industrially used. In addition, when a hydrocarbon solvent is used in the silylation reaction of the hydroxyl group with chlorosilane, when the by-product hydrochloride is dissolved by adding water, the solvent does not migrate to the aqueous layer, There is also an advantage that free base recovery from the hydrochloride of the base used in the reaction is facilitated. However, when a hydroxyl group is silylated using chlorosilane in a hydrocarbon solvent such as toluene, the reactivity may be lower than when a polar solvent such as DMF is used. there were.

以上のことから、ヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化する際に触媒を用いて反応性を向上させる方法、特に非極性溶媒中でシリル化する方法の開発が望まれていた。   From the above, it has been desired to develop a method for improving reactivity using a catalyst when silylating a hydroxyl group with chlorosilane, particularly a method for silylation in a nonpolar solvent.

有機化学実験の手引き、6ページ、化学同人Guide to Organic Chemistry Experiments, page 6, Chemistry hernandez, O.;Chaudhary, S. K.Tetrahedron Lett. 1979, 99.hernandez, O .; Chaudhary, S .; K. Tetrahedron Lett. 1979, 99.

本発明は、上記要望に応えたもので、非極性溶媒を用いて、ヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化する反応を促進することができ、特に非極性溶媒中で有効にシリル化することができるヒドロキシル基のシリル化方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in response to the above-mentioned demand, and can promote the reaction of silylating a hydroxyl group with chlorosilane using a nonpolar solvent. The object is to provide a method for the silylation of radicals.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、スルホン酸化合物もしくはその誘導体又は銅化合物を反応系に添加することにより、ヒドロキシル基のクロロシラン化合物によるシリル化反応が促進されることを見出し、本発明に至ったものである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have promoted the silylation reaction of a hydroxyl group with a chlorosilane compound by adding a sulfonic acid compound or a derivative thereof or a copper compound to the reaction system. This has been found and the present invention has been achieved.

即ち、本発明は、銅化合物の存在下に、ヒドロキシル基含有化合物のヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化することを特徴とするヒドロキシル基のシリル化方法を提供する。この場合、非極性溶媒を用いて反応を行うことが好ましい。 That is, the present invention provides a method for silylating a hydroxyl group, wherein the hydroxyl group of a hydroxyl group-containing compound is silylated with chlorosilane in the presence of a copper compound. In this case, the reaction is preferably performed using a nonpolar solvent.

本発明のヒドロキシル基含有化合物のシリル化方法によれば、ヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化する反応を促進することができ、特に非極性溶媒中で有効にシリル化することができる。   According to the method for silylating a hydroxyl group-containing compound of the present invention, the reaction of silylating a hydroxyl group with chlorosilane can be promoted, and in particular, it can be effectively silylated in a nonpolar solvent.

本発明のヒドロキシル基含有化合物のシリル化方法は、スルホン酸化合物もしくはその誘導体又は銅化合物の存在下にヒドロキシル基含有化合物のヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化するものである。   The method for silylating a hydroxyl group-containing compound of the present invention is to silylate a hydroxyl group of a hydroxyl group-containing compound with chlorosilane in the presence of a sulfonic acid compound or a derivative thereof or a copper compound.

この場合、本発明のスルホン酸化合物及びその誘導体触媒において、スルホン酸化合物としてはスルホン酸基を有する化合物であれば特に限定されるものではなく、無水のスルホン酸でもp−トルエンスルホン酸・1水和物のような水和物であってもよい。具体的には、スルホン酸化合物としては、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸・1水和物、ドデシルベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等が挙げられる。特に、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸・1水和物、ドデシルベンゼンスルホン酸を用いることが好ましい。また、スルホン酸化合物の誘導体としては、スルホン酸のアミン塩や金属塩、スルホン酸のシリルエステル等が挙げられる。スルホン酸のアミン塩としては、上記スルホン酸のアンモニウム塩、メチルアミン塩、エチルアミン塩、ジメチルアミン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジイソプロピルエチルアミン塩、ジメチルアニリン塩、アニリン塩、2−ピコリン塩、3−ピコリン塩、4−ピコリン塩、キノリン塩、テトラメチルエチレンジアミン塩等が挙げられる。スルホン酸の金属塩としては、上記スルホン酸のリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等が挙げられる。スルホン酸のシリルエステルとしては、上記スルホン酸のトリメチルシリルエステル、エチルジメチルシリルエステル、ジエチルメチルシリルエステル、トリエチルシリルエステル、tert−ブチルジメチルシリルエステル、tert−ブチルジフェニルシリルエステル、トリイソプロピルシリルエステル、トリ−n−ブチルシリルエステル、シリルエステル等が挙げられる。   In this case, in the sulfonic acid compound and the derivative catalyst thereof of the present invention, the sulfonic acid compound is not particularly limited as long as it is a compound having a sulfonic acid group, and even anhydrous sulfonic acid is p-toluenesulfonic acid / 1 water. It may be a hydrate such as a hydrate. Specifically, as the sulfonic acid compound, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, hexanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, dodecylbenzenesulfonic acid And trifluoromethanesulfonic acid. In particular, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, and dodecylbenzenesulfonic acid are preferably used. Examples of the derivative of the sulfonic acid compound include amine salts and metal salts of sulfonic acid, silyl esters of sulfonic acid, and the like. Examples of the amine salt of sulfonic acid include ammonium salt, methylamine salt, ethylamine salt, dimethylamine salt, diethylamine salt, triethylamine salt, diisopropylethylamine salt, dimethylaniline salt, aniline salt, 2-picoline salt, 3- Examples include picoline salt, 4-picoline salt, quinoline salt, and tetramethylethylenediamine salt. Examples of the metal salt of sulfonic acid include lithium salt, sodium salt, potassium salt and the like of the above sulfonic acid. Examples of the silyl ester of sulfonic acid include trimethylsilyl ester, ethyldimethylsilyl ester, diethylmethylsilyl ester, triethylsilyl ester, tert-butyldimethylsilyl ester, tert-butyldiphenylsilyl ester, triisopropylsilyl ester, tri- Examples thereof include n-butylsilyl ester and silyl ester.

また、本発明の銅化合物としては、具体的には、塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)、酢酸銅(I)、シアン化銅(I)、チオシアン酸銅(I)、塩化銅(II)、臭化銅(II)、ヨウ化銅(II)等が挙げられる。特に、塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)を用いることが好ましい。   Specific examples of the copper compound of the present invention include copper (I) chloride, copper (I) bromide, copper (I) iodide, copper (I) acetate, copper (I) cyanide, and thiocyanic acid. Examples include copper (I), copper (II) chloride, copper (II) bromide, copper (II) iodide and the like. In particular, it is preferable to use copper (I) chloride, copper (I) bromide, or copper (I) iodide.

本発明のスルホン酸化合物及びその誘導体触媒の使用量は、ヒドロキシル基含有化合物1molに対して0.001〜0.1mol用いることが好ましく、特には0.002〜0.05mol用いることが好ましく、更に好ましくは0.005〜0.03mol用いることが好ましい。これより少ない場合には、反応速度が遅くなる場合があり実用的でなく、これより多く用いてもさらなる反応速度の向上しない場合があり、経済的でない。   The amount of the sulfonic acid compound of the present invention and its derivative catalyst used is preferably 0.001 to 0.1 mol, particularly preferably 0.002 to 0.05 mol, based on 1 mol of the hydroxyl group-containing compound. Preferably, 0.005 to 0.03 mol is used. If the amount is less than this, the reaction rate may be slow, which is not practical, and if it is used more than this, the reaction rate may not be further improved, which is not economical.

本発明の銅化合物の使用量は、ヒドロキシル基含有化合物1molに対して0.001〜0.2mol用いることが好ましく、特には0.005〜0.1mol用いることが好ましく、更に好ましくは0.01〜0.05mol用いることが好ましい。これより少ない場合には、反応速度が遅くなる場合があり実用的でなく、これより多く用いても更なる反応速度の向上しない場合があり、経済的でない。   The use amount of the copper compound of the present invention is preferably 0.001 to 0.2 mol, particularly preferably 0.005 to 0.1 mol, and more preferably 0.01 to 1 mol of the hydroxyl group-containing compound. It is preferable to use ~ 0.05 mol. If the amount is less than this, the reaction rate may be slow, which is not practical, and if it is used more than this, the reaction rate may not be further improved, which is not economical.

本発明のヒドロキシル基を含有する化合物としては、アルコール性又はフェノール性のヒドロキシル基を有する化合物であれば特に限定されない。例えば、1級、2級及び3級アルコール類、置換基としてハロゲン、ジオルガノアミノ基、エステル基、シアノ基等の置換基を有するアルコール類、置換又は無置換のフェノール類、同一分子内の複数の水酸基を有する多価アルコール類等が挙げられる。   The compound containing a hydroxyl group of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having an alcoholic or phenolic hydroxyl group. For example, primary, secondary and tertiary alcohols, alcohols having a substituent such as halogen, diorganoamino group, ester group, cyano group as a substituent, substituted or unsubstituted phenols, plural in the same molecule And polyhydric alcohols having a hydroxyl group.

1級アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノール、n−デカノール、アリルアルコール、3−ブテン−1−オール、5−ヘキセン−1−オール、10−ウンデセン−1−オール、2−クロロエタノール、2−ブロモエタノール、3−クロロプロパノール、3−ブロモプロパノール、4−クロロブタノール、4−ブロモエタノール、2−ジメチルアミノエタノール、2−ジエチルアミノエタノール、3−ジメチルアミノプロパノール、3−ジエチルアミノプロパノール等が挙げられる。   As primary alcohol, methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, n-pentanol, n-hexanol, n-octanol, 2-ethylhexanol, n-decanol, allyl alcohol, 3-buten-1-ol 5-hexen-1-ol, 10-undecen-1-ol, 2-chloroethanol, 2-bromoethanol, 3-chloropropanol, 3-bromopropanol, 4-chlorobutanol, 4-bromoethanol, 2-dimethyl Examples include aminoethanol, 2-diethylaminoethanol, 3-dimethylaminopropanol, and 3-diethylaminopropanol.

2級アルコールとしては、2−プロパノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、シクロペンタノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、シクロヘキサノール、シクロオクタノール等が挙げられる。   Examples of the secondary alcohol include 2-propanol, 2-butanol, 2-pentanol, 3-pentanol, cyclopentanol, 2-hexanol, 3-hexanol, cyclohexanol, cyclooctanol and the like.

3級アルコールとしては、t−ブタノール、t−アミルアルコール、2−メチル−3−ブテン−2−オール、3−メチル−1−ペンテン−3−オール等が挙げられる。   Examples of the tertiary alcohol include t-butanol, t-amyl alcohol, 2-methyl-3-buten-2-ol, 3-methyl-1-penten-3-ol and the like.

フェノール類としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2−エチルフェノール、3−エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、3−t−ブチルフェノール、4−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、p−クロロフェノール、o−ブロモフェノール、m−ブロモフェノール、p−ブロモフェノール等が挙げられる。   The phenols include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2-ethylphenol, 3-ethylphenol, 4-ethylphenol, 2-t-butylphenol, 3-t-butylphenol, 4-t- Butylphenol, 2,6-di-t-butylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, o-chlorophenol, m-chlorophenol, p-chlorophenol, o-bromophenol, m-bromo Phenol, p-bromophenol, etc. are mentioned.

水酸基を2つ以上持つポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール等が挙げられる。   Examples of the polyol having two or more hydroxyl groups include ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 2-butene-1, 4-diol etc. are mentioned.

本発明のクロロシラン類としては、特に制限はない。クロロシランとしては、トリメチルクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、ジエチルメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、tert−ブチルジメチルクロロシラン、tert−ブチルジフェニルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン、トリ−n−ブチルクロロシラン、トリイソブチルクロロシラン等のモノクロロシラン類、ジ−tert−ブチルジクロロシラン、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトライソプロピルジシロキサン等のジクロロシラン類等が挙げられる。これらのクロロシラン類は、液状のクロロシラン類はそのまま用いることができ、またtert−ブチルジメチルクロロシランのように常温で固体のクロロシラン類は、固体のまま用いてもよく、トルエンや酢酸エチル等の溶媒に溶解して、溶液として用いることもできる。   There is no restriction | limiting in particular as chlorosilane of this invention. As chlorosilanes, monochlorosilanes such as trimethylchlorosilane, ethyldimethylchlorosilane, diethylmethylchlorosilane, triethylchlorosilane, tert-butyldimethylchlorosilane, tert-butyldiphenylchlorosilane, triisopropylchlorosilane, tri-n-butylchlorosilane, triisobutylchlorosilane, And dichlorosilanes such as di-tert-butyldichlorosilane and 1,3-dichloro-1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane. As these chlorosilanes, liquid chlorosilanes can be used as they are, and chlorosilanes which are solid at room temperature such as tert-butyldimethylchlorosilane may be used as they are, and can be used in a solvent such as toluene or ethyl acetate. It can also be dissolved and used as a solution.

本発明のクロロシランの使用量としては、ヒドロキシル基1molに対して0.5〜2.0mol用いることが好ましく、更には0.8〜1.8mol用いることが好ましく、特に0.9〜1.5mol用いることが好ましい。これより少ないとシリル化反応が十分進行しない場合があり、これより多くても反応率は向上せず、経済的でない。   The amount of the chlorosilane used in the present invention is preferably 0.5 to 2.0 mol, more preferably 0.8 to 1.8 mol, particularly 0.9 to 1.5 mol, relative to 1 mol of hydroxyl group. It is preferable to use it. If it is less than this, the silylation reaction may not proceed sufficiently, and if it is more than this, the reaction rate does not improve and it is not economical.

本発明のヒドロキシル基のシリル化反応は、還流条件下等で反応を行い、副生するハロゲン化水素を反応系外に除去しながら行うこともできるが、塩基の存在下に反応を行い、生成する塩化水素をトラップすることが好ましい。用いる塩基としては特に制限はないが、アミン類を用いることが好ましい。アミンとしては具体的には、アンモニア、メチルアミンやエチルアミン等の1級アミン、ジメチルアミンやジエチルアミン等の2級アミン類、トリエチルアミンやジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアニリン等の3級アミン類、アニリンや2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリン、キノリン等の芳香族アミン類、テトラメチルエチレンジアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン等のジアミン類等が挙げられる。これらの中で、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミンを用いることが好ましい。   The hydroxyl group silylation reaction of the present invention can be carried out under reflux conditions or the like while removing the by-produced hydrogen halide outside the reaction system. It is preferable to trap hydrogen chloride. The base to be used is not particularly limited, but amines are preferably used. Specific examples of amines include ammonia, primary amines such as methylamine and ethylamine, secondary amines such as dimethylamine and diethylamine, tertiary amines such as triethylamine, diisopropylethylamine and dimethylaniline, aniline and 2-picoline. Aromatic amines such as 3-picoline, 4-picoline and quinoline, and diamines such as tetramethylethylenediamine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene. Of these, tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine are preferably used.

この場合、アミンの使用量は、ヒドロキシル基1molに対して0.5〜2.5mol、好ましくは0.8〜2.0mol、更に好ましくは1.1〜1.7molである。アミンの使用量が0.5molより少ないとシリル化反応が十分に進行しない場合があり、2.5molよりも多くても反応率は向上せず、経済的でない場合がある。   In this case, the amount of amine used is 0.5 to 2.5 mol, preferably 0.8 to 2.0 mol, more preferably 1.1 to 1.7 mol, relative to 1 mol of hydroxyl groups. If the amount of amine used is less than 0.5 mol, the silylation reaction may not proceed sufficiently, and if it is more than 2.5 mol, the reaction rate does not improve and may not be economical.

本発明においては、反応は溶媒を用いて行うことができ、溶媒としては非極性溶媒が好ましい。非極性溶媒としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−デカン、イソオクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、ジエチルベンゼン等が挙げられる。これらの非極性溶媒は単独で用いてもよく、また2種以上混合して用いてもよい。その使用量は、ヒドロキシル基1molに対して20〜1,000ml、好ましくは50〜500ml、更に好ましくは100〜300mlである。非極性溶媒の使用量が20mlより少ないと撹拌ができなくなる場合があり、1,000mlを超えるとポットイールドが低下する場合がある。   In the present invention, the reaction can be carried out using a solvent, and a nonpolar solvent is preferred as the solvent. Nonpolar solvents include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-decane, isooctane, cyclopentane, cyclohexane, cyclooctane, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, Examples thereof include ethylbenzene, mesitylene, diethylbenzene and the like. These nonpolar solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount used is 20 to 1,000 ml, preferably 50 to 500 ml, more preferably 100 to 300 ml, per 1 mol of hydroxyl groups. If the amount of nonpolar solvent used is less than 20 ml, stirring may not be possible, and if it exceeds 1,000 ml, the pot yield may decrease.

上記のヒドロシリル基のシリル化反応は、0〜200℃の反応温度で行うことが好ましく、より好ましくは10〜180℃で行うことが好ましい。特に好ましくは20〜150℃である。この温度より低いと反応速度が遅くなり、実用的でなくなることがあり、また、これより高い温度では副反応が起こり、収率が低下するおそれがある。   The silylation reaction of the hydrosilyl group is preferably performed at a reaction temperature of 0 to 200 ° C, more preferably 10 to 180 ° C. Especially preferably, it is 20-150 degreeC. If it is lower than this temperature, the reaction rate becomes slow and may become impractical, and if it is higher than this temperature, side reactions may occur and the yield may decrease.

上記ヒドロキシル基のシリル化反応は、クロロシランと塩基、触媒、溶媒を仕込み、ヒドロキシル基含有化合物を添加して行うことができる。また、ヒドロキシル基含有化合物と塩基、触媒、溶媒を仕込み、クロロシランを添加して行うこともできる。この場合、クロロシラン化合物がtert−ブチルジメチルクロロシラン等、固体の場合には、溶媒に溶かした溶液として用いることが好ましい。また、クロロシランとヒドロキシル基含有化合物、塩基、触媒、溶媒を一括で仕込み加熱して行うこともできる。これらの中では、クロロシランと塩基、触媒、溶媒を仕込み、ヒドロキシル基含有化合物を添加して行うことが好ましい。ここで、触媒としてスルホン酸のアミン塩を用いる場合には、スルホン酸のアミン塩として添加してもよく、またスルホン酸とアミンとを混合して反応系内でスルホン酸アミン塩として用いてもよい。同様に、スルホン酸のシリルエステルは、スルホン酸シリルエステルを触媒として添加してもよく、また、クロロシランとスルホン酸を反応系内で混合してスルホン酸シリルエステルとして用いてもよい。   The hydroxyl group silylation reaction can be performed by adding chlorosilane, a base, a catalyst, and a solvent, and adding a hydroxyl group-containing compound. Alternatively, a hydroxyl group-containing compound, a base, a catalyst, and a solvent are charged and chlorosilane is added. In this case, when the chlorosilane compound is a solid such as tert-butyldimethylchlorosilane, it is preferably used as a solution dissolved in a solvent. Alternatively, chlorosilane, a hydroxyl group-containing compound, a base, a catalyst, and a solvent can be charged all at once and heated. In these, it is preferable to carry out by adding chlorosilane, a base, a catalyst, a solvent, and adding a hydroxyl group-containing compound. Here, when an amine salt of sulfonic acid is used as a catalyst, it may be added as an amine salt of sulfonic acid, or a mixture of sulfonic acid and amine may be used as a sulfonic acid amine salt in the reaction system. Good. Similarly, the silyl ester of sulfonic acid may be added using sulfonic acid silyl ester as a catalyst, or chlorosilane and sulfonic acid may be mixed in the reaction system and used as sulfonic acid silyl ester.

上記ヒドロキシル基のシリル化反応では、副生する塩酸と塩基が反応して塩基の塩酸塩が生成する。生成した塩酸塩は、濾過により除去してもよく、また反応液に水を加えて塩酸塩を溶解して分液により除去することもできる。塩酸塩は、そのまま廃棄してもよいが、水酸化ナトリウム水溶液等の強塩基により中和して遊離の塩基とした後に、精製して再利用することが好ましい。   In the hydroxyl group silylation reaction, hydrochloric acid produced as a by-product reacts with a base to form a hydrochloride of the base. The produced hydrochloride may be removed by filtration, or water may be added to the reaction solution to dissolve the hydrochloride and remove it by liquid separation. The hydrochloride may be discarded as it is, but it is preferable to purify and reuse it after neutralizing with a strong base such as an aqueous sodium hydroxide solution to give a free base.

上記ヒドロキシル基のヒドロシリル化反応で得られるシリル化物は、上記の方法により副生する塩酸塩を除去した後、蒸留や、カラムクロマトグラフィーにより精製することができる。また、副生する塩酸塩を除去しないでそのままカラムクロマトグラフィー等により精製することもできる。また、上記方法により、塩酸塩を除去した後に精製せずにそのまま用いることもできる。   The silylated product obtained by the hydrosilylation reaction of the hydroxyl group can be purified by distillation or column chromatography after removing the by-product hydrochloride by the above method. Moreover, it can also be purified by column chromatography or the like without removing the by-product hydrochloride. Moreover, it can also use as it is, without refine | purifying, after removing hydrochloride by the said method.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。実施例中の反応率は、ガスクロマトグラフィーの面積パーセントより求めた。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to the following Example. The reaction rate in an Example was calculated | required from the area percent of the gas chromatography.

参考例1]
300mlの4つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、t−ブチルジメチルクロロシラン31.6g(0.21mol)と2−ブタノール14.8g(0.2mol)、トリエチルアミン22.3g(0.22mol)、メタンスルホン酸0.38g(0.004mol)を仕込み、トルエン50mlを添加して溶解した。還流下熟成を行い、反応の進行をガスクロマトグラフィーにより追跡した。熟成3時間で、反応率は100%となった。熟成時間と反応率の関係を表1に示す。
[ Reference Example 1]
A 300 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. To this flask, 31.6 g (0.21 mol) of t-butyldimethylchlorosilane, 14.8 g (0.2 mol) of 2-butanol, 22.3 g (0.22 mol) of triethylamine, 0.38 g (0.004 mol) of methanesulfonic acid ) And dissolved by adding 50 ml of toluene. Aging was performed under reflux, and the progress of the reaction was followed by gas chromatography. The reaction rate reached 100% after 3 hours of aging. Table 1 shows the relationship between the aging time and the reaction rate.

参考例2]
メタンスルホン酸を0.19g(0.002mol)に変更した以外は、参考例1と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表1に示す。
[ Reference Example 2]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 1 except that methanesulfonic acid was changed to 0.19 g (0.002 mol), and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
メタンスルホン酸を添加しない以外は参考例1と同様にして反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that methanesulfonic acid was not added, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

参考例3]
メタンスルホン酸をp−トルエンスルホン酸・1水和物0.38g(0.002mol)に変更した以外は、参考例1と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表1に示す。
[ Reference Example 3]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 1 except that methanesulfonic acid was changed to 0.38 g (0.002 mol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

[実施例
メタンスルホン酸をCuCl0.40g(0.004mol)に変更した以外は、参考例1と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表1に示す。
[Example 1 ]
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that methanesulfonic acid was changed to 0.40 g (0.004 mol) of CuCl, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

[実施例
メタンスルホン酸をCuBr0.57g(0.004mol)に変更した以外は、参考例1と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表1に示す。
[Example 2 ]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 1 except that methanesulfonic acid was changed to CuBr 0.57 g (0.004 mol), and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

[実施例
メタンスルホン酸をCuI0.76g(0.004mol)に変更した以外は、参考例1と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表1に示す。
[Example 3 ]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 1 except that methanesulfonic acid was changed to 0.76 g (0.004 mol) of CuI, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

Figure 0004803395
Figure 0004803395

参考例4
300mlの4つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、t−ブチルジメチルクロロシラン31.6g(0.21mol)と1−ヘキサノール20.4g(0.2mol)、トリエチルアミン22.3g(0.22mol)、メタンスルホン酸0.19g(0.002mol)を仕込み、トルエン50mlを添加して溶解した。還流下熟成を行い、反応の進行をガスクロマトグラフィーにより追跡した。熟成1時間で、反応率は100%となった。
[ Reference Example 4 ]
A 300 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. To this flask, 31.6 g (0.21 mol) of t-butyldimethylchlorosilane, 20.4 g (0.2 mol) of 1-hexanol, 22.3 g (0.22 mol) of triethylamine, 0.19 g (0.002 mol) of methanesulfonic acid. ) And dissolved by adding 50 ml of toluene. Aging was performed under reflux, and the progress of the reaction was followed by gas chromatography. The reaction rate reached 100% after 1 hour of aging.

[比較例2]
メタンスルホン酸を添加しない以外は参考例4と同様にして反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表2に示す。
[Comparative Example 2]
The reaction was performed in the same manner as in Reference Example 4 except that methanesulfonic acid was not added, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 2.

[実施例
メタンスルホン酸をCuCl0.40g(0.004mol)に変更した以外は、参考例4と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表2に示す。
[Example 4 ]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 4 except that the methanesulfonic acid was changed to CuCl 0.40 g (0.004 mol), and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 2.

Figure 0004803395
Figure 0004803395

参考例5
300mlの4つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、トリイソプロピルクロロシラン40.5g(0.21mol)と1−ヘキサノール20.4g(0.2mol)、トリエチルアミン22.3g(0.22mol)、メタンスルホン酸0.38g(0.004mol)を仕込み、トルエン50mlを添加して溶解した。還流下熟成を行い、反応の進行をガスクロマトグラフィーにより追跡した。熟成4時間で、反応率は99%となった。
[ Reference Example 5 ]
A 300 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. To this flask, 40.5 g (0.21 mol) of triisopropylchlorosilane, 20.4 g (0.2 mol) of 1-hexanol, 22.3 g (0.22 mol) of triethylamine, and 0.38 g (0.004 mol) of methanesulfonic acid were added. Charge and dissolve 50 ml of toluene. Aging was performed under reflux, and the progress of the reaction was followed by gas chromatography. After 4 hours of aging, the reaction rate was 99%.

[比較例3]
メタンスルホン酸を添加しない以外は参考例5と同様にして反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表3に示す。
[Comparative Example 3]
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 5 except that methanesulfonic acid was not added, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 3.

参考例6
メタンスルホン酸をp−トルエンスルホン酸・1水和物0.76g(0.004mol)に変更した以外は、参考例5と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表3に示す。
[実施例
メタンスルホン酸をCuCl0.59g(0.006mol)に変更した以外は、参考例5と同様に反応を行い、反応率をガスクロマトグラフィーにより追跡した。結果を表3に示す。
[ Reference Example 6 ]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 5 except that methanesulfonic acid was changed to 0.76 g (0.004 mol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 3.
[Example 5 ]
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 5 except that methanesulfonic acid was changed to CuCl 0.59 g (0.006 mol), and the reaction rate was monitored by gas chromatography. The results are shown in Table 3.

Figure 0004803395
Figure 0004803395

参考例7
300mlの4つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、t−ブチルジメチルクロロシラン63.3g(0.42mol)とトリエチルアミン44.5g(0.44mol)、メタンスルホン酸0.77g(0.002mol)を仕込み、トルエン120mlを添加して溶解した。室温で2−ブロモエタノール50.0g(0.4mol)を50分かけて滴下し、そのまま2時間撹拌した。水80.0gを添加して生成した塩を溶解し、水層を分液により除去した。得られた有機層を、減圧蒸留することにより、(2−ブロモエトキシ)−t−ブチルジメチルシラン79.0g(0.33mol、沸点70℃/0.8kPa)が得られた。収率は83%であった。
[ Reference Example 7 ]
A 300 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. This flask was charged with 63.3 g (0.42 mol) of t-butyldimethylchlorosilane, 44.5 g (0.44 mol) of triethylamine, and 0.77 g (0.002 mol) of methanesulfonic acid, and dissolved by adding 120 ml of toluene. . 2-Bromoethanol 50.0g (0.4mol) was dripped over 50 minutes at room temperature, and it stirred as it was for 2 hours. The salt formed by adding 80.0 g of water was dissolved, and the aqueous layer was removed by liquid separation. The obtained organic layer was distilled under reduced pressure to obtain 79.0 g (0.33 mol, boiling point: 70 ° C./0.8 kPa) of (2-bromoethoxy) -t-butyldimethylsilane. The yield was 83%.

[比較例4]
300mlの4つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、t−ブチルジメチルクロロシラン63.3g(0.42mol)とトリエチルアミン44.5g(0.44mol)を仕込み、トルエン120mlを添加して溶解した。室温で2−ブロモエタノール50.0g(0.4mol)を50分かけて滴下したが反応が進行しなかった。オイルバスにより70℃まで加熱したところ、発熱的に反応が進行し、内温が105℃まで上昇した。ガスクロマトグラフィーにより分析したところ、(2−ブロモエトキシ)−t−ブチルジメチルシランと(2−クロロエトキシ)−t−ブチルジメチルシランが2:1の割合で生成していた。このことから、触媒を用いない反応では、室温では反応が進行せず、加熱すると副反応が起こることを示している。
[Comparative Example 4]
A 300 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. This flask was charged with 63.3 g (0.42 mol) of t-butyldimethylchlorosilane and 44.5 g (0.44 mol) of triethylamine, and dissolved by adding 120 ml of toluene. Although 2-bromoethanol 50.0g (0.4mol) was dripped over 50 minutes at room temperature, reaction did not advance. When heated to 70 ° C. with an oil bath, the reaction proceeded exothermically and the internal temperature rose to 105 ° C. When analyzed by gas chromatography, (2-bromoethoxy) -t-butyldimethylsilane and (2-chloroethoxy) -t-butyldimethylsilane were produced at a ratio of 2: 1. This indicates that the reaction without using a catalyst does not proceed at room temperature and a side reaction occurs when heated.

Claims (3)

化合物の存在下に、ヒドロキシル基含有化合物のヒドロキシル基をクロロシランによりシリル化することを特徴とするヒドロキシル基のシリル化方法。 A method for silylating a hydroxyl group, comprising silylating a hydroxyl group of a hydroxyl group-containing compound with chlorosilane in the presence of a copper compound. 非極性溶媒を用いて反応を行うことを特徴とする請求項1記載のヒドロキシル基のシリル化方法。   The method for silylating a hydroxyl group according to claim 1, wherein the reaction is carried out using a nonpolar solvent. 塩基の存在下で反応を行う請求項1又は2記載のヒドロキシル基のシリル化方法。The method for silylating a hydroxyl group according to claim 1 or 2, wherein the reaction is carried out in the presence of a base.
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