Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP4805286B2 - Transport device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP4805286B2 - Transport device - Google Patents

Transport device Download PDF

Info

Publication number
JP4805286B2
JP4805286B2 JP2008027050A JP2008027050A JP4805286B2 JP 4805286 B2 JP4805286 B2 JP 4805286B2 JP 2008027050 A JP2008027050 A JP 2008027050A JP 2008027050 A JP2008027050 A JP 2008027050A JP 4805286 B2 JP4805286 B2 JP 4805286B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base plate
transport
transport rail
rail
supports
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008027050A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009184788A (en
Inventor
修之 牧野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2008027050A priority Critical patent/JP4805286B2/en
Publication of JP2009184788A publication Critical patent/JP2009184788A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4805286B2 publication Critical patent/JP4805286B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、搬送レールの延在方向に沿って被搬送物を走行させて搬送する搬送装置に関する。   The present invention relates to a transport device that travels and transports an object to be transported along an extending direction of a transport rail.

被搬送物である搬送台を、搬送レールの延在方向に沿って走行させて、搬送台を搬送する搬送装置が、たとえば特許文献1に開示されている。図9は、従来技術の搬送装置51において、下地板52を搬送レール53で支持した状態で、搬送レール53の延在方向に沿って走行させる様子を示す図である。この搬送装置51は、特許文献1に開示される搬送装置を適用したものである。   For example, Patent Document 1 discloses a transport device that transports a transport table by causing a transport table, which is an object to be transported, to travel along the extending direction of the transport rail. FIG. 9 is a diagram illustrating a state in which the base plate 52 is supported by the conveyance rail 53 and travels along the extending direction of the conveyance rail 53 in the conventional conveyance device 51. The transfer device 51 is an application of the transfer device disclosed in Patent Document 1.

搬送装置51においては、下地板52は板状に形成されており、搬送レール53は、下地板52の厚み方向一方の面を鉛直方向下方から上方に向けて支持する。このように下地板52を搬送レール53で支持した状態で、所定の受渡し部54に向けて、搬送レール53の矢符Aで示される延在方向に沿って下地板52を走行させて搬送する。搬送レール53で支持された状態で搬送される下地板52は、走行時に搬送レール53との間に発生する摩擦によって、搬送レール53で支持された面が摩耗する。このように下地板52の搬送レール53で支持された面が摩耗すると、下地板52は、その摩耗量に対応した長さYだけ鉛直方向下方にずれた位置で、搬送レール53に支持されることになる。そうすると、下地板52が受渡し部54の所定の位置に正確に搬送されなくなる。   In the transport device 51, the base plate 52 is formed in a plate shape, and the transport rail 53 supports one surface in the thickness direction of the base plate 52 from the lower side to the upper side in the vertical direction. In this state, with the base plate 52 supported by the transport rail 53, the base plate 52 travels along the extending direction indicated by the arrow A of the transport rail 53 and transports toward the predetermined delivery section 54. . The base plate 52 transported while being supported by the transport rail 53 wears the surface supported by the transport rail 53 due to friction generated between the base plate 52 and the transport rail 53 during travel. When the surface of the base plate 52 supported by the transport rail 53 is worn, the base plate 52 is supported by the transport rail 53 at a position shifted downward in the vertical direction by a length Y corresponding to the wear amount. It will be. If it does so, the baseplate 52 will not be correctly conveyed to the predetermined position of the delivery part 54. FIG.

以上のような位置ずれの問題を解決する搬送装置が、たとえば特許文献2に開示されている。特許文献2に開示される搬送装置では、検出手段が、被搬送物を搬送する搬送部と、被搬送物の受渡しが行われる部位との位置ずれを検出する。そして、検出手段が出力する検出結果に基づいて、搬送部と受渡し部位とが、位置ずれが解消するように相対移動する。   For example, Patent Document 2 discloses a transport device that solves the problem of positional deviation as described above. In the transport apparatus disclosed in Patent Document 2, the detection unit detects a positional deviation between a transport unit that transports the transported object and a portion where the transported object is delivered. And based on the detection result which a detection means outputs, a conveyance part and a delivery site | part move relatively so that position shift may be eliminated.

特開2003−332404号公報JP 2003-332404 A 特開2006−32529号公報JP 2006-32529 A

下地板52の搬送レール53で支持された面が摩耗して、その摩耗量に対応した長さYだけ鉛直方向下方にずれた位置で、下地板52が搬送レール53に支持されるような場合であっても、特許文献2に開示される検出手段を適用することによって、位置ずれを解消することができる。しかしながら、位置ずれを検出する検出手段と、検出結果に基づいて位置ずれが解消するような制御を行うように構成される制御機構とが必要となり、搬送装置が複雑化してしまうという問題が生じる。   When the surface of the base plate 52 supported by the transport rail 53 is worn and the base plate 52 is supported by the transport rail 53 at a position shifted downward in the vertical direction by a length Y corresponding to the wear amount. Even so, by applying the detection means disclosed in Patent Document 2, it is possible to eliminate the positional deviation. However, there is a problem that the detection unit for detecting the positional deviation and a control mechanism configured to perform control that eliminates the positional deviation based on the detection result are required, and the conveyance device becomes complicated.

したがって本発明の目的は、搬送レールの延在方向に沿って被搬送物を走行させて搬送するときに、被搬送物が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、簡易な構成で位置ずれを解消して、所定の位置に被搬送物を搬送することが可能な搬送装置を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is when the transported object is worn and transported along the extending direction of the transport rail, and the position shift corresponding to the wear amount occurs. However, it is an object of the present invention to provide a transport apparatus that can eliminate a positional shift with a simple configuration and transport a transported object to a predetermined position.

本発明は、板状に形成される下地板と、下地板の厚み方向一方の面を支持する搬送レールと、下地板を搬送レールで支持した状態で、下地板の受渡しが行われる受渡し部とを有し、搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送する搬送装置であって、
前記搬送レールは、下地板を搬送する搬送方向上流側に配設される第1搬送レールと、搬送方向下流側に配設され、前記第1搬送レールに対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成される第2搬送レールとで構成され、
前記第2搬送レールは、
前記第1搬送レールと接続される接続位置で低く、搬送方向に向って前記第1搬送レールの下地板を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有する斜面部と、
前記斜面部の傾斜上端部から搬送方向に向って前記第1搬送レールの下地板を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有する平坦部とを含んで構成され、
前記受渡し部は、
下地板を支持する支持面が、前記第2搬送レールの前記平坦部の下地板を支持する支持面に対して、前記搬送レールの延在方向に直交する方向である鉛直方向にずれることなく配置されることを特徴とする搬送装置である。
The present invention, receiving Passing a base plate which is formed in a plate shape, a transport rail which supports the thickness direction one side of the base plate, while supporting the base plate in the transport rail, Ru delivery of the underlying plate is performed and a section, a transfer device for transferring by traveling base plate along the extending direction of the transport rail,
The transport rail is disposed on the upstream side in the transport direction for transporting the base plate and on the downstream side in the transport direction, and in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail. is composed of a Ru supported configured to be able to base plate at a position displaced a second transfer rail,
The second transport rail is
A slope portion having an inclined surface that is low at a connection position connected to the first transport rail and extends in a predetermined length to a position equivalent to a support surface that supports a base plate of the first transport rail in the transport direction;
A flat portion having a flat surface extending in a predetermined length at a position equivalent to a support surface supporting the base plate of the first transport rail from the inclined upper end portion of the slope portion toward the transport direction;
The delivery unit
The support surface that supports the base plate is arranged without being shifted in the vertical direction that is perpendicular to the extending direction of the transport rail with respect to the support surface that supports the base plate of the flat portion of the second transport rail. is a conveying apparatus according to claim Rukoto.

また本発明は、前記第2搬送レールの下地板を支持する支持面の幅が、前記第1搬送レールの下地板を支持する支持面の幅よりも大きいことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the width of the support surface that supports the base plate of the second transport rail is larger than the width of the support surface that supports the base plate of the first transport rail.

また本発明は、板状に形成される下地板と、下地板の厚み方向一方の面を支持する搬送レールと、下地板を搬送レールで支持した状態で、下地板の受渡しが行われる受渡し部とを有し、搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送する搬送装置であって、
前記搬送レールは、下地板を搬送する搬送方向上流側の領域に位置する第1搬送レール部と、搬送方向下流側の領域に位置し、前記第1搬送レール部に対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成される第2搬送レール部とで構成され、
前記第2搬送レール部は、
前記第1搬送レール部と接続される接続位置で低く、搬送方向に向って前記第1搬送レール部の下地板を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有する斜面部と、
前記斜面部の傾斜上端部から搬送方向に向って前記第1搬送レール部の下地板を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有する平坦部とを含んで構成され、
前記受渡し部は、
下地板を支持する支持面が、前記第2搬送レール部の前記平坦部の下地板を支持する支持面に対して、前記搬送レールの延在方向に直交する方向である鉛直方向にずれることなく配置されることを特徴とする搬送装置である。
The present invention includes a base plate which is formed in a plate shape, a transport rail which supports the thickness direction one side of the base plate, while supporting the base plate in the transport rail, Ru delivery of the underlying plate is made received A transfer device having a transfer section and transporting the base plate along the extending direction of the transfer rail,
The transport rail is positioned in a region on the upstream side in the transport direction for transporting the base plate and in a region on the downstream side in the transport direction, and the width of the base plate with respect to the first transport rail portion It is composed of a second transport rail portion configured to be able to support the base plate at a position shifted in the hand direction ,
The second transport rail portion is
A slope portion having an inclined surface that is low at a connection position connected to the first transport rail portion and extends by a predetermined length to a position equivalent to a support surface that supports a base plate of the first transport rail portion in the transport direction. When,
A flat portion having a flat surface extending at a predetermined length at a position equivalent to a support surface supporting the base plate of the first transport rail portion from the inclined upper end portion of the slope portion toward the transport direction;
The delivery unit
The support surface that supports the base plate does not deviate in the vertical direction, which is a direction orthogonal to the extending direction of the transport rail, with respect to the support surface that supports the base plate of the flat portion of the second transport rail portion. It arranged a conveying apparatus according to claim Rukoto.

本発明によれば、板状に形成される下地板を搬送レールで支持した状態で、下地板の受渡しが行われる受渡し部に向けて、搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送する。このとき、搬送レールは、下地板を搬送する搬送方向上流側に配設される第1搬送レールと、搬送方向下流側に配設される第2搬送レールとに分割されている。そして、第2搬送レールは、第1搬送レールに対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成されている。第1搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送するときに下地板が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レールは、第1搬送レールに対して下地板の幅手方向にずれた位置であり、摩耗していない位置で下地板を支持することができる。そのため、複雑な制御機構を用いない簡易な構成で、摩耗量に対応した位置ずれを解消して、下地板を支持する支持面が、第2搬送レールの平坦部の下地板を支持する支持面に対して鉛直方向にずれることなく配置される受渡し部に下地板を搬送することができる。
また、第2搬送レールは、斜面部と平坦部とを含んで構成される。斜面部は、第1搬送レールと第2搬送レールとが接続される接続位置で低く、搬送方向に向って第1搬送レールの下地板を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有する。そのため、第1搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送するときに下地板が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、下地板は、斜面部の傾斜面に案内されて、第1搬送レールから第2搬送レールに向けてスムーズに移動することができる。
そして、平坦部は、斜面部の傾斜上端部から搬送方向に向って第1搬送レールの下地板を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有する。そのため、斜面部に案内されて平坦部に移動してきた下地板は、第1搬送レールの支持面と同等位置で、平坦部によって支持される。したがって、下地板は、平坦部から受渡し部に向けてスムーズに移動することができる。
According to the present invention, in a state where the base plate formed in a plate shape is supported by the transport rail, the base plate is caused to travel along the extending direction of the transport rail toward the delivery portion where the base plate is delivered. Transport. At this time, the transport rail is divided into a first transport rail disposed on the upstream side in the transport direction for transporting the base plate and a second transport rail disposed on the downstream side in the transport direction. The second transport rail is configured to be able to support the base plate at a position shifted in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail. Even when the base plate is worn and transported along the extending direction of the first transport rail and the base plate is worn and a positional shift corresponding to the wear amount occurs, the second transport rail is The base plate can be supported at a position shifted in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail and not worn. Therefore, with a simple configuration that does not use a complicated control mechanism, the position shift corresponding to the wear amount is eliminated, and the support surface that supports the base plate is the support surface that supports the base plate of the flat portion of the second transport rail. The base plate can be transported to the delivery section that is arranged without being displaced in the vertical direction .
Moreover, the 2nd conveyance rail is comprised including a slope part and a flat part. The slope portion is low at a connection position where the first transport rail and the second transport rail are connected, and extends in a predetermined length in the transport direction to a position equivalent to a support surface that supports the base plate of the first transport rail. Has an inclined surface. Therefore, even when the base plate is worn and transported along the extending direction of the first transport rail and the base plate is worn, and the position shift corresponding to the wear amount occurs, the base plate is Guided by the inclined surface of the slope portion, it can move smoothly from the first transport rail toward the second transport rail.
The flat portion has a flat surface extending from the inclined upper end portion of the slope portion toward the transport direction by a predetermined length at a position equivalent to a support surface that supports the base plate of the first transport rail. Therefore, the base plate guided to the slope portion and moved to the flat portion is supported by the flat portion at the same position as the support surface of the first transport rail. Therefore, the base plate can move smoothly from the flat portion toward the delivery portion.

また本発明によれば、第2搬送レールの下地板を支持する支持面の幅が、第1搬送レールの下地板を支持する支持面の幅よりも大きい。そのため、第2搬送レールは、第1搬送レールに対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能となる。したがって、第1搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送するときに下地板が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レールは、第1搬送レールに対して下地板の幅手方向にずれた位置であり、摩耗していない位置で下地板を支持することができる。   Moreover, according to this invention, the width | variety of the support surface which supports the base plate of a 2nd conveyance rail is larger than the width of the support surface which supports the base plate of a 1st conveyance rail. Therefore, the second transport rail can support the base plate at a position shifted in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail. Therefore, even when the base plate is worn and transported along the extending direction of the first transport rail and the base plate is worn and a positional shift corresponding to the wear amount occurs, the second transport is performed. The rail is a position shifted in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail, and can support the base plate at a position where it is not worn.

また本発明によれば、板状に形成される下地板を搬送レールで支持した状態で、下地板の受渡しが行われる受渡し部に向けて、搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送する。このとき、搬送レールは、下地板を搬送する搬送方向上流側の領域に位置する第1搬送レール部と、搬送方向下流側の領域に位置する第2搬送レール部とが連続している。そして、第2搬送レール部は、第1搬送レール部に対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成されている。第1搬送レール部の延在方向に沿って下地板を走行させて搬送するときに下地板が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レール部は、第1搬送レール部に対して下地板の幅手方向にずれた位置であり、摩耗していない位置で下地板を支持することができる。そのため、複雑な制御機構を用いない簡易な構成で、摩耗量に対応した位置ずれを解消して、下地板を支持する支持面が、第2搬送レール部の平坦部の下地板を支持する支持面に対して鉛直方向にずれることなく配置される受渡し部に下地板を搬送することができる。
また、第2搬送レール部は、斜面部と平坦部とを含んで構成される。斜面部は、第1搬送レール部と第2搬送レール部とが接続される接続位置で低く、搬送方向に向って第1搬送レール部の下地板を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有する。そして、平坦部は、斜面部の傾斜上端部から搬送方向に向って第1搬送レール部の下地板を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有する。
Further, according to the present invention, the base plate travels along the extending direction of the transport rail toward the delivery portion where the base plate is delivered with the base plate formed in a plate shape supported by the transport rail. Then transport. At this time, as for the conveyance rail, the 1st conveyance rail part located in the area | region of the conveyance direction upstream which conveys a base plate, and the 2nd conveyance rail part located in the area | region of the conveyance direction downstream are continuing. And the 2nd conveyance rail part is comprised so that a base plate can be supported in the position shifted in the width direction of the base plate with respect to the 1st conveyance rail part. Even when the base plate is worn and transported along the extending direction of the first transport rail portion, the second transport rail is worn even if the base plate is worn and a position shift corresponding to the wear amount occurs. The portion is a position shifted in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail portion, and can support the base plate at a position where it is not worn. Therefore, with a simple configuration that does not use a complicated control mechanism, the displacement corresponding to the amount of wear is eliminated, and the support surface that supports the base plate supports the base plate of the flat portion of the second transport rail portion. The base plate can be transported to a delivery unit that is arranged without being displaced in the vertical direction with respect to the surface .
The second transport rail portion includes a slope portion and a flat portion. The slope portion is low at the connection position where the first transport rail portion and the second transport rail portion are connected, and has a predetermined length to the same position as the support surface that supports the base plate of the first transport rail portion in the transport direction. It has an inclined surface extending at the height. The flat portion has a flat surface extending from the inclined upper end portion of the slope portion toward the conveyance direction by a predetermined length at a position equivalent to a support surface that supports the base plate of the first conveyance rail portion.

図1は、搬送装置1の構成を示す図である。図1(a)は搬送装置1の構成を示す上面図であり、図1(b)は側面図である。搬送装置1は、金属または半導体から成る固体原料が溶融された融液から薄板状の基板を製造する基板製造装置に用いられる。基板製造装置では、搬送装置1によって搬送された下地板2を融液に浸漬して、下地板2の表面に結晶を凝固成長させて薄板状の基板を製造する。このような基板製造装置においては、高温雰囲気下であるとともに、純度および結晶性において質の高い結晶を成長させるために、水分などの不純成分の含有量が極めて少ない高純度の不活性ガスであるアルゴンガスなどで装置内を充填している。そのため、基板製造装置に用いられる搬送装置1においても、その設置環境は、200〜250℃の高温雰囲気であるとともに、高純度のアルゴンガスなどで充填された環境である。 Figure 1 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 1. FIG. 1A is a top view showing the configuration of the transport apparatus 1, and FIG. 1B is a side view. The transfer device 1 is used in a substrate manufacturing apparatus that manufactures a thin plate-like substrate from a melt obtained by melting a solid material made of metal or semiconductor. In the substrate manufacturing apparatus, the base plate 2 transported by the transport device 1 is immersed in the melt, and crystals are solidified and grown on the surface of the base plate 2 to manufacture a thin plate-like substrate. In such a substrate manufacturing apparatus, it is a high-purity inert gas having a very low content of impurity components such as moisture in order to grow high-quality crystals in a high-temperature atmosphere and in purity and crystallinity. The inside of the device is filled with argon gas. Therefore, also in the transfer apparatus 1 used for the substrate manufacturing apparatus, the installation environment is an environment filled with high-purity argon gas or the like while being a high temperature atmosphere of 200 to 250 ° C.

搬送装置1は、下地板2と、搬送レール3と、受渡し部4とを含んで構成される。搬送装置1は、下地板2を搬送レール3で支持した状態で、受渡し部4に向けて、水平方向に延びる搬送レール3の延在方向に沿って下地板2を走行させて搬送する。   The transport device 1 includes a base plate 2, a transport rail 3, and a delivery unit 4. In the state where the base plate 2 is supported by the transport rail 3, the transport device 1 transports the base plate 2 by traveling along the extending direction of the transport rail 3 extending in the horizontal direction toward the delivery unit 4.

下地板2は、前述のように、凝固成長された結晶から成る薄板状の基板を製造するときの下地となる。下地板2は、板状に形成される板状部2aと、断面が台形に形成される突出部2bとを有する。下地板2は、板状部2aの厚み方向一方の面に突出部2bが接続された構造となっている。板状部2aの厚み方向両面のうち、突出部2bが接続された面である下面が、後述する搬送レール3に支持される面となり、他方の面が、結晶が凝固成長される面となる。突出部2bは、後述する受渡し部4が有するあり溝部4bと嵌合する部位である。また、下地板2を構成する材料は、前述した融液に混交するコンタミネーションを防ぐような材料から選ばれる必要があり、搬送装置1ではカーボンが選ばれる。下地板2は、搬送レール3に支持された状態で、所定の受渡し部4に向けて、搬送レール3の延在方向に沿って走行して搬送される。 As described above, the base plate 2 serves as a base for manufacturing a thin plate substrate made of solidified and grown crystals. The base plate 2 includes a plate-like portion 2a formed in a plate shape and a protruding portion 2b whose cross section is formed in a trapezoidal shape. The base plate 2 has a structure in which the protruding portion 2b is connected to one surface in the thickness direction of the plate-like portion 2a. Of the both surfaces in the thickness direction of the plate-like portion 2a, the lower surface, which is the surface to which the protruding portion 2b is connected, is a surface that is supported by the transport rail 3 to be described later, and the other surface is the surface on which the crystal is solidified and grown. . The protruding portion 2b is a portion that fits into a dovetail groove portion 4b of the delivery portion 4 described later. Moreover, the material which comprises the base plate 2 needs to be selected from the material which prevents the contamination mixed with the melt mentioned above, and carbon is selected in the conveying apparatus 1. FIG. The base plate 2 is transported by traveling along the extending direction of the transport rail 3 toward the predetermined delivery section 4 while being supported by the transport rail 3.

受渡し部4は、後述する搬送レール3に支持された状態で搬送される下地板2の受渡しが行われる部位である。受渡し部4は、搬送レール3に支持された状態で搬送されてきた下地板2を、後工程である結晶成長処理を行う処理部へと水平方向および鉛直方向に移動して運搬する。受渡し部4は、支持部4aとあり溝部4bとを有する。支持部4aは、搬送レール3上を走行して搬送された下地板2の下面を支持する。受渡し部4は、支持部4aの下地板2を支持する支持面が、搬送レール3の下地板2を支持する支持面に対して、鉛直方向にずれることがないように配置されている。あり溝部4bは、支持部4aの下地板2を支持する支持面に対して凹んだ凹所となって、下地板2の突出部2bと嵌合可能に形成されている。   The delivery unit 4 is a part where delivery of the base plate 2 that is transported in a state supported by a later-described transport rail 3 is performed. The delivery unit 4 transports the base plate 2 that has been transported while being supported by the transport rail 3, moving in the horizontal and vertical directions to a processing unit that performs crystal growth processing, which is a subsequent process. The delivery part 4 has a support part 4a and a dovetail part 4b. The support portion 4a supports the lower surface of the base plate 2 that is transported while traveling on the transport rail 3. The delivery unit 4 is arranged such that the support surface that supports the base plate 2 of the support unit 4 a does not shift in the vertical direction with respect to the support surface that supports the base plate 2 of the transport rail 3. The dovetail groove portion 4 b is a recess that is recessed with respect to the support surface that supports the base plate 2 of the support portion 4 a, and is formed so as to be able to fit into the protruding portion 2 b of the base plate 2.

搬送レール3は、受渡し部4に向けて水平方向に延びる一対のレールであり、下地板2の厚み方向一方の面を支持した状態で、搬送される下地板2を受渡し部4に案内する。搬送レール3を構成する材料は、前述した下地板2と同様に、融液に混交するコンタミネーションを防ぐような材料から選ばれる必要があり、搬送装置1ではカーボンが選ばれる。搬送レール3は、第1搬送レール31と第2搬送レール32とを有する。第1搬送レール31は、下地板2を支持する支持面が、受渡し部4の支持部4aの下地板2を支持する支持面に対して、鉛直方向にずれることがないように配置されている。第1搬送レール31は、下地板2が搬送される搬送方向Aの上流側に配設されて、下地板2を支持した状態で、搬送される下地板2を第2搬送レール32に向けて案内する。 The transport rails 3 are a pair of rails extending in the horizontal direction toward the delivery unit 4 and guide the transported base plate 2 to the delivery unit 4 while supporting one surface in the thickness direction of the base plate 2. As with the base plate 2 described above, the material constituting the transport rail 3 needs to be selected from materials that prevent contamination mixed with the melt. In the transport device 1 , carbon is selected. The transport rail 3 includes a first transport rail 31 and a second transport rail 32. The 1st conveyance rail 31 is arrange | positioned so that the support surface which supports the base plate 2 may not shift | deviate to a perpendicular direction with respect to the support surface which supports the base plate 2 of the support part 4a of the delivery part 4. FIG. . The first transport rail 31 is disposed on the upstream side in the transport direction A in which the base plate 2 is transported, and the base plate 2 to be transported is directed toward the second transport rail 32 while supporting the base plate 2. invite.

図2は、搬送装置1において、下地板2を搬送レール3で支持した状態で、搬送レール3の延在方向に沿って走行させる様子を示す図である。図2(a)は下地板2を走行させる様子を側面側から見た図であり、図2(b)は正面側から見た図である。第1搬送レール31で支持された状態で搬送される下地板2の下面は、走行時に第1搬送レール31との間に発生する摩擦によって、第1搬送レール31との接触位置が摩耗して、摩耗部2cが形成される。このとき、搬送装置1の設置環境は、前述したように、高温雰囲気であるとともに、水分が少ない高純度のアルゴンガスなどで充填された環境であるので、より摩耗しやすい。このように、下地板2の下面が第1搬送レール31との接触位置において摩耗して摩耗部2cが形成されると、下地板2は、その摩耗量に対応した長さYだけ鉛直方向下方にずれた位置で、第1搬送レール31に支持されることになる。このように摩耗部2cが形成された下地板2は、第2搬送レール32に向けて搬送される。   FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which the base plate 2 is supported by the transport rail 3 and travels along the extending direction of the transport rail 3 in the transport device 1. FIG. 2A is a view of the base plate 2 traveling from the side, and FIG. 2B is a view from the front. The bottom surface of the base plate 2 that is transported while being supported by the first transport rail 31 is worn at the contact position with the first transport rail 31 due to friction generated between the base plate 2 and the first transport rail 31 during traveling. The wear part 2c is formed. At this time, as described above, the installation environment of the transfer apparatus 1 is an environment filled with high-purity argon gas or the like having a high temperature atmosphere and a low water content, and thus is more easily worn. Thus, when the lower surface of the base plate 2 is worn at the contact position with the first transport rail 31 to form the wear portion 2c, the base plate 2 is vertically lowered by a length Y corresponding to the wear amount. The first transport rail 31 is supported at a position deviated. The base plate 2 on which the wear part 2 c is formed in this way is transported toward the second transport rail 32.

第2搬送レール32は、第1搬送レール31に対して下地板2が搬送される搬送方向Aの下流側に配設されて、受渡し部4に向けて延びる。搬送装置1においては、第2搬送レール32の下地板2を支持する支持面の幅W2は、第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面の幅W1よりも大きくなるように設定されている。これによって、第2搬送レール32は、第1搬送レール31に対して、下地板2の幅手方向にずれた位置で下地板2を支持可能となる。そのため、第2搬送レール32は、第1搬送レール31上を走行時に摩耗部2cが形成された下地板2を、摩耗部2cとは異なる位置で支持することができ、摩耗量に対応した位置ずれを解消して搬送することができる。このとき、第2搬送レール32は、第1搬送レール31に対して下地板2の幅手方向にずれた位置に配設してもよく、ずれていない位置に配設してもよい。   The second transport rail 32 is disposed on the downstream side in the transport direction A in which the base plate 2 is transported with respect to the first transport rail 31 and extends toward the delivery unit 4. In the transport device 1, the width W2 of the support surface that supports the base plate 2 of the second transport rail 32 is set to be larger than the width W1 of the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31. ing. Thus, the second transport rail 32 can support the base plate 2 at a position shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail 31. Therefore, the second transport rail 32 can support the base plate 2 on which the wear portion 2c is formed when traveling on the first transport rail 31 at a position different from the wear portion 2c, and a position corresponding to the wear amount. Displacement can be eliminated and transported. At this time, the second transport rail 32 may be disposed at a position shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail 31 or may be disposed at a position not shifted.

また、第2搬送レール32は、斜面部32aと平坦部32bとを有する。斜面部32aは、第1搬送レール31と第2搬送レール32とが接続される接続位置で低く、搬送方向Aに向って第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有するように形成される。斜面部32aは、傾斜下端部から傾斜上端部までの水平方向の長さL1と、鉛直方向の長さL2とにおいて、長さL1に対する長さL2の割合(L2/L1)が、1/2以下、好ましくは1/200〜1/2の範囲となるように設定される。これによって、第1搬送レール31上を走行時に摩耗部2cが形成された下地板2は、摩耗部2cに対して幅手方向にずれた位置で斜面部32aに支持されながら案内されて、第2搬送レール32が有する平坦部32bに向けてスムーズに移動することができる。   Moreover, the 2nd conveyance rail 32 has the slope part 32a and the flat part 32b. The inclined surface portion 32a is low at the connection position where the first transport rail 31 and the second transport rail 32 are connected, and extends in the transport direction A to the same position as the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31. It is formed so as to have an inclined surface extending with a predetermined length. In the slope portion 32a, the ratio (L2 / L1) of the length L2 to the length L1 in the horizontal length L1 from the lower end to the upper end and the vertical length L2 is 1/2. Hereinafter, it is preferably set to be in a range of 1/200 to 1/2. Accordingly, the base plate 2 on which the wear portion 2c is formed when traveling on the first transport rail 31 is guided while being supported by the slope portion 32a at a position shifted in the width direction with respect to the wear portion 2c. The two transport rails 32 can move smoothly toward the flat portion 32b.

平坦部32bは、斜面部32aの傾斜上端部から搬送方向Aに向って第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有するように形成される。平坦部32bは、斜面部32aに支持されながら案内された下地板2を、摩耗部2cに対して幅手方向にずれた位置で支持する。また、平坦部32bの下地板2を支持する支持面が、第1搬送レール31および受渡し部4が有する支持部4aの下地板2を支持する支持面に対して、鉛直方向にずれることがないように配置されている。そのため、平坦部32bで支持された下地板2は、摩耗量に対応した鉛直方向の位置ずれが解消された状態で、受渡し部4に向けて搬送されることになる。このように、位置ずれが解消された状態で受渡し部4に下地板2が搬送されると、下地板2の突出部2bと、受渡し部4のあり溝部4bとが正確に嵌合することができる。   The flat portion 32b is formed to have a flat surface extending from the inclined upper end portion of the inclined surface portion 32a toward the transport direction A at a position equivalent to the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31 by a predetermined length. Is done. The flat portion 32b supports the base plate 2 guided while being supported by the slope portion 32a at a position shifted in the width direction with respect to the wear portion 2c. Further, the support surface that supports the base plate 2 of the flat portion 32b does not shift in the vertical direction with respect to the support surface that supports the base plate 2 of the support portion 4a of the first transport rail 31 and the delivery unit 4. Are arranged as follows. Therefore, the base plate 2 supported by the flat part 32b is conveyed toward the delivery part 4 in a state in which the positional deviation in the vertical direction corresponding to the wear amount is eliminated. As described above, when the base plate 2 is transported to the delivery unit 4 in a state in which the positional deviation is eliminated, the protruding portion 2b of the base plate 2 and the groove portion 4b of the delivery unit 4 can be accurately fitted. it can.

以上のように、搬送装置1では、摩耗量に対応した位置ずれを解消するような複雑な制御機構を用いない簡易な構成で、位置ずれを解消する。また、搬送装置1においては、下地板2が繰返し搬送レール3上を走行される場合であっても、下地板2を搬送レール3上を走行させて搬送する毎に、毎回位置ずれが解消するように制御する必要がなく、搬送効率が低下することを抑制することができる。   As described above, the transport device 1 eliminates misalignment with a simple configuration that does not use a complicated control mechanism that eliminates misalignment corresponding to the amount of wear. Further, in the transport device 1, even when the base plate 2 is repeatedly traveled on the transport rail 3, every time the base plate 2 travels on the transport rail 3 and is transported, the positional deviation is resolved each time. Thus, it is not necessary to perform control, and it is possible to suppress a decrease in conveyance efficiency.

また、第2搬送レール32上を受渡し部4に向けて走行することで、下地板2の下面が第2搬送レール32との接触位置で摩耗してしまい、第2搬送レール32上でも鉛直方向の位置ずれが発生してしまう可能性がある。このような第2搬送レール32上での位置ずれを防止するために、第2搬送レール32の搬送方向Aに延びる長さX3を、第1搬送レール31の搬送方向Aに延びる長さX2よりも短く設定し、第2搬送レール32による摩耗を減らす。このとき、下地板2の摩耗を考慮すると、第2搬送レール32の長さX3は、できる限り短く設定するのがよいが、搬送装置1では、下地板2の搬送方向Aに延びる長さX1とほぼ同じになるように設定する。これは、斜面部32aに支持されながら案内されて移動してきた下地板2が、平坦部32bにおいて確実に、水平方向に平行な状態で支持されるようにするためである。 Further, by traveling on the second conveyance rail 32 toward the delivery unit 4, the lower surface of the base plate 2 is worn at the contact position with the second conveyance rail 32, and also on the second conveyance rail 32 in the vertical direction. May be misaligned. In order to prevent such a position shift on the second transport rail 32, the length X <b> 3 extending in the transport direction A of the second transport rail 32 is made longer than the length X <b> 2 extending in the transport direction A of the first transport rail 31. Also, the wear by the second transport rail 32 is reduced. At this time, considering the wear of the base plate 2, the length X3 of the second transport rail 32 is preferably set as short as possible. However, in the transport device 1 , the length X1 extending in the transport direction A of the base plate 2 Set to be almost the same. This is to ensure that the base plate 2 that has been guided and moved while being supported by the slope portion 32a is supported in a state parallel to the horizontal direction at the flat portion 32b.

図3は、搬送装置10の構成を示す図である。搬送装置10は、前述した搬送装置1に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。搬送装置10においては、搬送レール30が有する第2搬送レール33が特徴的である。第2搬送レール33は、搬送装置1が有する第2搬送レール32と同様に、斜面部33aと平坦部33bとを有するが、第2搬送レール33においては、第2搬送レール33の下地板2を支持する支持面の幅は、第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面の幅と同じになるように設定されている。そして、第2搬送レール33は、第1搬送レール31に対して、下地板2の幅手方向にずれた位置に配設される。そのため、第2搬送レール33は、第1搬送レール31に対して、下地板2の幅手方向にずれた位置で下地板2を支持可能となる。したがって、第1搬送レール31の延在方向に沿って下地板2を走行させて搬送するときに下地板2が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レール33は、第1搬送レール31に対して下地板2の幅手方向にずれた位置であり、摩耗していない位置で下地板2を支持することができる。 Figure 3 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 10. The transfer device 10 is similar to the transfer device 1 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the conveyance apparatus 10, the 2nd conveyance rail 33 which the conveyance rail 30 has is characteristic. Similarly to the second transport rail 32 included in the transport device 1, the second transport rail 33 includes a slope portion 33 a and a flat portion 33 b, but the second transport rail 33 has a base plate 2 for the second transport rail 33. The width of the support surface that supports is set to be the same as the width of the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31. The second transport rail 33 is disposed at a position shifted from the first transport rail 31 in the width direction of the base plate 2. Therefore, the second transport rail 33 can support the base plate 2 at a position shifted from the first transport rail 31 in the width direction of the base plate 2. Therefore, even when the base plate 2 is worn and transported along the extending direction of the first transport rail 31, the base plate 2 is worn and a positional shift corresponding to the wear amount occurs. The second transport rail 33 is a position shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail 31 and can support the base plate 2 at a position where it is not worn.

図4は、搬送装置11の構成を示す図である。搬送装置11は、前述した搬送装置1に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。搬送装置11においては、搬送レール34が有する第2搬送レール38が特徴的である。第2搬送レール38は、搬送装置1が有する第2搬送レール32のような斜面部を有さない。そして、第2搬送レール38は、下地板2を支持する支持面の幅が、第1搬送レール31と接続される接続位置で第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面の幅と同等で、搬送方向Aに向って第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面の幅に対して連続的に変化するように形成される幅変化部38aを有する。搬送装置11では、幅変化部38aは、搬送方向Aに向って第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面の幅に対して連続的に大きくなるように形成されている。 Figure 4 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 11. The transport device 11 is similar to the transport device 1 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the conveying apparatus 11, the 2nd conveyance rail 38 which the conveyance rail 34 has is characteristic. The 2nd conveyance rail 38 does not have a slope part like the 2nd conveyance rail 32 which the conveyance apparatus 1 has. The width of the support surface that supports the base plate 2 is equal to the width of the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31 at the connection position connected to the first transport rail 31. It has the width change part 38a formed so that it may change with respect to the width | variety of the support surface which supports the base plate 2 of the 1st conveyance rail 31 toward the conveyance direction A similarly. In the transport device 11 , the width changing portion 38 a is formed to continuously increase in the transport direction A with respect to the width of the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31.

そのため、第1搬送レール31の延在方向に沿って下地板2を走行させて搬送するときに下地板2が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レール38の幅変化部38a上を走行する下地板2は、第1搬送レール31に対して下地板2の幅手方向に連続的にスムーズにずれた位置で支持されながら移動することができる。   For this reason, even when the base plate 2 is worn and transported along the extending direction of the first transport rail 31, the base plate 2 is worn and a positional shift corresponding to the wear amount occurs. The base plate 2 traveling on the width changing portion 38a of the second transport rail 38 moves while being supported at a position that is continuously and smoothly shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail 31. Can do.

図5は、搬送装置12の構成を示す図である。搬送装置12は、前述した搬送装置10に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。搬送装置12においては、搬送レール35が有する第2搬送レール39が特徴的である。第2搬送レール39は、搬送装置10が有する第2搬送レール33のような斜面部を有さない。そして、第2搬送レール39は、下地板2を支持する支持面の幅が、第1搬送レール31の下地板2を支持する支持面の幅と同じになるように形成され、第1搬送レール31に対して、下地板2の幅手方向に連続的にずれた位置となるように形成される位置変化部39aを有する。 Figure 5 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 12. The transport device 12 is similar to the transport device 10 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. The transport device 12 is characterized by the second transport rail 39 included in the transport rail 35. The 2nd conveyance rail 39 does not have a slope part like the 2nd conveyance rail 33 which conveyance device 10 has. The second transport rail 39 is formed such that the width of the support surface that supports the base plate 2 is the same as the width of the support surface that supports the base plate 2 of the first transport rail 31. 31 has a position changing portion 39 a formed so as to be continuously shifted in the width direction of the base plate 2.

そのため、第1搬送レール31の延在方向に沿って下地板2を走行させて搬送するときに下地板2が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レール39の位置変化部39a上を走行する下地板2は、第1搬送レール31に対して下地板2の幅手方向に連続的にスムーズにずれた位置で支持されながら移動することができる。   For this reason, even when the base plate 2 is worn and transported along the extending direction of the first transport rail 31, the base plate 2 is worn and a positional shift corresponding to the wear amount occurs. The base plate 2 traveling on the position changing portion 39a of the second transport rail 39 moves while being supported at a position that is continuously and smoothly shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail 31. Can do.

図6は、搬送装置13の構成を示す図である。搬送装置13は、前述した搬送装置1に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。搬送装置13においては、搬送レール36が有する第2搬送レール40および下地板20が特徴的である。第2搬送レール40は、斜面部を有さない以外は、搬送装置1が有する第2搬送レール32と同様である。そして、下地板20は、板状に形成される板状部20aと、断面が台形に形成される突出部20bとを有する。ここで、下地板20は、板状部20aに傾斜部20cが形成されている以外は、搬送装置1が有する下地板2と同様である。傾斜部20cは、板状部20aの周縁部のうち搬送方向先端部に位置する部分である。そして、傾斜部20cは、第1搬送レール31および第2搬送レール40に支持される支持面が、上方に向って傾斜するように形成されている。このとき、傾斜部20cにおいては、傾斜下端部から傾斜上端部までの水平方向の長さと鉛直方向の長さとは、搬送装置1が有する第2搬送レール32の斜面部32aと同様にして設定される。 Figure 6 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 13. The transport device 13 is similar to the transport device 1 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. The transport device 13 is characterized by the second transport rail 40 and the base plate 20 that the transport rail 36 has. The 2nd conveyance rail 40 is the same as that of the 2nd conveyance rail 32 which the conveying apparatus 1 has except having no slope part. And the base plate 20 has the plate-shaped part 20a formed in plate shape, and the protrusion part 20b in which a cross section is formed in a trapezoid. Here, the base plate 20 is the same as the base plate 2 of the transport device 1 except that the inclined portion 20c is formed in the plate-like portion 20a. The inclination part 20c is a part located in the conveyance direction front-end | tip part among the peripheral parts of the plate-shaped part 20a. The inclined portion 20c is formed such that the support surface supported by the first conveyance rail 31 and the second conveyance rail 40 is inclined upward. At this time, in the inclined portion 20c, the horizontal length from the inclined lower end portion to the inclined upper end portion and the vertical length are set in the same manner as the inclined portion 32a of the second conveying rail 32 included in the conveying device 1. The

そのため、第1搬送レール31の延在方向に沿って下地板20を走行させて搬送するときに下地板20が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、下地板20は、傾斜部20cに案内されて第1搬送レール31から第2搬送レール40に向けてスムーズに移動することができる。   Therefore, when the base plate 20 is worn and transported along the extending direction of the first transport rail 31, the base plate 20 is worn, and even when a positional shift corresponding to the amount of wear occurs, The base plate 20 can be smoothly moved from the first transport rail 31 toward the second transport rail 40 while being guided by the inclined portion 20c.

図7は、搬送装置14の構成を示す図である。搬送装置14は、前述した搬送装置1に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。搬送装置14の第2搬送レール40は、斜面部を有さない以外は、搬送装置1が有する第2搬送レール32と同様である。そして、搬送装置14においては、第1搬送レール31と第2搬送レール40とが接続される接続位置には、下地板2を第1搬送レール31から第2搬送レール40に向けて案内する案内部材41が配置される。案内部材41は、第1搬送レール31に対して下地板2の幅手方向にずれた位置に配置され、搬送方向Aに延びて第2搬送レール40に接続される。そして、案内部材41は、部材斜面部41aと部材平坦部41bとを有する。 Figure 7 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 14. The transport device 14 is similar to the transport device 1 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. The 2nd conveyance rail 40 of the conveying apparatus 14 is the same as the 2nd conveying rail 32 which the conveying apparatus 1 has except having no slope part. In the transport device 14, a guide for guiding the base plate 2 from the first transport rail 31 toward the second transport rail 40 at a connection position where the first transport rail 31 and the second transport rail 40 are connected. A member 41 is arranged. The guide member 41 is disposed at a position shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail 31, extends in the transport direction A, and is connected to the second transport rail 40. And the guide member 41 has the member slope part 41a and the member flat part 41b.

部材斜面部41aは、搬送方向後端部で低く、搬送方向に向って第2搬送レール40の下地板2を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有するように形成される。このとき、部材斜面部41aにおいては、傾斜下端部から傾斜上端部までの水平方向の長さと鉛直方向の長さとは、搬送装置1が有する第2搬送レール32の斜面部32aと同様にして設定される。そのため、第1搬送レール31の延在方向に沿って下地板2を走行させて搬送するときに下地板2が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、下地板2は、部材斜面部41aの傾斜面に案内されて、部材平坦部41bに向けてスムーズに移動することができる。   The member slope portion 41a is formed so as to have an inclined surface that is low at the rear end portion in the transport direction and extends in a predetermined length to a position equivalent to the support surface that supports the base plate 2 of the second transport rail 40 in the transport direction. Is done. At this time, in the member inclined surface portion 41a, the horizontal length and the vertical length from the inclined lower end portion to the inclined upper end portion are set in the same manner as the inclined surface portion 32a of the second conveying rail 32 included in the conveying device 1. Is done. For this reason, even when the base plate 2 is worn and transported along the extending direction of the first transport rail 31, the base plate 2 is worn and a positional shift corresponding to the wear amount occurs. The base plate 2 is guided by the inclined surface of the member inclined surface portion 41a and can move smoothly toward the member flat portion 41b.

部材平坦部41bは、部材斜面部41aの傾斜上端部から搬送方向に向って第2搬送レール40の下地板2を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有するように形成されて、第2搬送レール40に接続される。そのため、部材斜面部41aに案内されて部材平坦部41bに移動してきた下地板2は、第2搬送レール40の支持面と同等位置で、部材平坦部41bによって支持される。したがって、下地板2は、部材平坦部41bから第2搬送レール40に向けてスムーズに移動するとともに、第2搬送レール40から所定の受渡し部4に向けてスムーズに移動することができる。   The member flat portion 41b has a flat surface extending from the inclined upper end portion of the member inclined surface portion 41a toward the transport direction by a predetermined length at a position equivalent to the support surface that supports the base plate 2 of the second transport rail 40. It is formed and connected to the second transport rail 40. Therefore, the base plate 2 guided to the member inclined surface portion 41 a and moved to the member flat portion 41 b is supported by the member flat portion 41 b at the same position as the support surface of the second transport rail 40. Therefore, the base plate 2 can smoothly move from the member flat portion 41 b toward the second transport rail 40 and can smoothly move from the second transport rail 40 toward the predetermined delivery portion 4.

図8は、搬送装置15の構成を示す図である。搬送装置15は、前述した搬送装置11に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。搬送装置15においては、搬送レール42が特徴的である。搬送レール42は、搬送装置11が有する搬送レール34のように2つの搬送レールに分割されていない。搬送レール42は、搬送方向A上流側の領域に位置する第1搬送レール部43と、搬送方向A下流側の領域に位置する第2搬送レール部44とを有する。そして、第2搬送レール部44は、第1搬送レール部43に対して、下地板2の幅手方向にずれた位置で下地板2を支持可能に構成されている。搬送装置15においては、第1搬送レール部43が搬送装置11における第1搬送レール31の役割を担い、第2搬送レール部44が搬送装置11における第2搬送レール38の役割を担う。 Figure 8 is a diagram showing a configuration of a conveyance device 15. The transport device 15 is similar to the transport device 11 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the transport device 15, the transport rail 42 is characteristic. The transport rail 42 is not divided into two transport rails like the transport rail 34 of the transport device 11. The transport rail 42 includes a first transport rail portion 43 located in a region upstream in the transport direction A, and a second transport rail portion 44 located in a region downstream in the transport direction A. And the 2nd conveyance rail part 44 is comprised so that the base plate 2 can be supported in the position which shifted | deviated to the width direction of the base plate 2 with respect to the 1st conveyance rail part 43. FIG. In the transport device 15, the first transport rail unit 43 serves as the first transport rail 31 in the transport device 11, and the second transport rail unit 44 serves as the second transport rail 38 in the transport device 11.

搬送装置15では、第2搬送レール部44は、下地板2を支持する支持面の幅が、第1搬送レール部43と接続される接続位置で第1搬送レール部43の下地板2を支持する支持面の幅と同等で、搬送方向Aに向って第1搬送レール部43の下地板2を支持する支持面の幅に対して連続的に大きくなるように形成される幅変化部位44aを有する。そのため、第1搬送レール部43の延在方向に沿って下地板2を走行させて搬送するときに下地板2が摩耗して、その摩耗量に対応した位置ずれが発生した場合であっても、第2搬送レール部44の幅変化部位44a上を走行する下地板2は、第1搬送レール部43に対して下地板2の幅手方向に連続的にスムーズにずれた位置で支持されながら移動することができる。 In the transport device 15 , the second transport rail unit 44 supports the base plate 2 of the first transport rail unit 43 at a connection position where the width of the support surface that supports the base plate 2 is connected to the first transport rail unit 43. A width changing portion 44a formed so as to be continuously larger than the width of the support surface supporting the base plate 2 of the first transport rail portion 43 in the transport direction A. Have. For this reason, even when the base plate 2 is worn and transported along the extending direction of the first transport rail portion 43, the base plate 2 is worn, and a position shift corresponding to the wear amount occurs. The base plate 2 traveling on the width changing portion 44a of the second transport rail portion 44 is supported at a position that is continuously and smoothly shifted in the width direction of the base plate 2 with respect to the first transport rail portion 43. Can move.

以上のような本実施の形態は、発明の例示に過ぎず、発明の範囲内において構成を変更することができる。たとえば、下地板を支持する先端部における搬送レールの形状を、第1搬送レールと第2搬送レールとの下地板を支持する支持面がそれぞれ異なる形状となるように構成して、第2搬送レールが第1搬送レールに対して下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成してもよい。   The present embodiment as described above is merely an example of the invention, and the configuration can be changed within the scope of the invention. For example, the shape of the transport rail at the tip portion supporting the base plate is configured such that the support surfaces supporting the base plate of the first transport rail and the second transport rail have different shapes, and the second transport rail However, the base plate may be configured to be supported at a position shifted in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail.

また、第1搬送レールと第2搬送レールとが接続される接続位置において、第2搬送レールに斜面部を設ける例を示したが、必要に応じて、たとえば、第2搬送レールと受渡し部との接続位置近傍などに、斜面部を設けてもよい。   Moreover, although the example which provides a slope part in a 2nd conveyance rail in the connection position where a 1st conveyance rail and a 2nd conveyance rail are connected was shown, for example, a 2nd conveyance rail and a delivery part are shown. A slope portion may be provided in the vicinity of the connection position.

送装置1の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 1. 搬送装置1において、下地板2を搬送レール3で支持した状態で、搬送レール3の延在方向に沿って走行させる様子を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a state in which the base plate 2 is supported by the transport rail 3 and travels along the extending direction of the transport rail 3 in the transport device 1. 送装置10の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 10. 送装置11の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 11. 送装置12の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 12. 送装置13の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 13. 送装置14の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 14. 送装置15の構成を示す図である。It is a diagram showing a configuration of a conveyance device 15. 従来技術の搬送装置51において、下地板52を搬送レール53で支持した状態で、搬送レール53の延在方向に沿って走行させる様子を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a state in which the base plate 52 is supported by the transport rail 53 and travels along the extending direction of the transport rail 53 in the transport device 51 of the conventional technology.

符号の説明Explanation of symbols

1,10,11,12,13,14,15,51 搬送装置
2,20,52 下地板
3,30,34,35,36,37,42,53 搬送レール
31 第1搬送レール
32,33,38,39,40 第2搬送レール
41 案内部材
1, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 51 Transport device 2, 20, 52 Base plate 3, 30, 34, 35, 36, 37, 42, 53 Transport rail 31 First transport rail 32, 33, 38, 39, 40 Second transport rail 41 Guide member

Claims (3)

板状に形成される下地板と、下地板の厚み方向一方の面を支持する搬送レールと下地板を搬送レールで支持した状態で、下地板の受渡しが行われる受渡し部とを有し、搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送する搬送装置であって、
前記搬送レールは、下地板を搬送する搬送方向上流側に配設される第1搬送レールと、搬送方向下流側に配設され、前記第1搬送レールに対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成される第2搬送レールとで構成され、
前記第2搬送レールは、
前記第1搬送レールと接続される接続位置で低く、搬送方向に向って前記第1搬送レールの下地板を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有する斜面部と、
前記斜面部の傾斜上端部から搬送方向に向って前記第1搬送レールの下地板を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有する平坦部とを含んで構成され、
前記受渡し部は、
下地板を支持する支持面が、前記第2搬送レールの前記平坦部の下地板を支持する支持面に対して、前記搬送レールの延在方向に直交する方向である鉛直方向にずれることなく配置されることを特徴とする搬送装置。
Yes and base plate which is formed in a plate shape, a transport rail which supports the thickness direction one side of the base plate, while supporting the base plate in the transport rail, and a receiving passing portion passing underlying plate Ru performed And a transport device that transports the base plate along the extending direction of the transport rail,
The transport rail is disposed on the upstream side in the transport direction for transporting the base plate and on the downstream side in the transport direction, and in the width direction of the base plate with respect to the first transport rail. is composed of a Ru supported configured to be able to base plate at a position displaced a second transfer rail,
The second transport rail is
A slope portion having an inclined surface that is low at a connection position connected to the first transport rail and extends in a predetermined length to a position equivalent to a support surface that supports a base plate of the first transport rail in the transport direction;
A flat portion having a flat surface extending in a predetermined length at a position equivalent to a support surface supporting the base plate of the first transport rail from the inclined upper end portion of the slope portion toward the transport direction;
The delivery unit
The support surface that supports the base plate is arranged without being shifted in the vertical direction that is perpendicular to the extending direction of the transport rail with respect to the support surface that supports the base plate of the flat portion of the second transport rail. It is conveyed and wherein the Rukoto.
前記第2搬送レールの下地板を支持する支持面の幅が、前記第1搬送レールの下地板を支持する支持面の幅よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。   The transport apparatus according to claim 1, wherein a width of a support surface that supports the base plate of the second transport rail is larger than a width of a support surface that supports the base plate of the first transport rail. 板状に形成される下地板と、下地板の厚み方向一方の面を支持する搬送レールと、下地板を搬送レールで支持した状態で、下地板の受渡しが行われる受渡し部とを有し、搬送レールの延在方向に沿って下地板を走行させて搬送する搬送装置であって、
前記搬送レールは、下地板を搬送する搬送方向上流側の領域に位置する第1搬送レール部と、搬送方向下流側の領域に位置し、前記第1搬送レール部に対して、下地板の幅手方向にずれた位置で下地板を支持可能に構成される第2搬送レール部とで構成され、
前記第2搬送レール部は、
前記第1搬送レール部と接続される接続位置で低く、搬送方向に向って前記第1搬送レール部の下地板を支持する支持面と同等位置まで所定の長さで延びる傾斜面を有する斜面部と、
前記斜面部の傾斜上端部から搬送方向に向って前記第1搬送レール部の下地板を支持する支持面と同等位置で所定の長さで延びる平坦面を有する平坦部とを含んで構成され、
前記受渡し部は、
下地板を支持する支持面が、前記第2搬送レール部の前記平坦部の下地板を支持する支持面に対して、前記搬送レールの延在方向に直交する方向である鉛直方向にずれることなく配置されることを特徴とする搬送装置。
Yes and base plate which is formed in a plate shape, a transport rail which supports the thickness direction one side of the base plate, while supporting the base plate in the transport rail, and a receiving passing portion passing underlying plate Ru performed And a transport device that transports the base plate along the extending direction of the transport rail,
The transport rail is positioned in a region on the upstream side in the transport direction for transporting the base plate and in a region on the downstream side in the transport direction, and the width of the base plate with respect to the first transport rail portion It is composed of a second transport rail portion configured to be able to support the base plate at a position shifted in the hand direction ,
The second transport rail portion is
A slope portion having an inclined surface that is low at a connection position connected to the first transport rail portion and extends by a predetermined length to a position equivalent to a support surface that supports a base plate of the first transport rail portion in the transport direction. When,
A flat portion having a flat surface extending at a predetermined length at a position equivalent to a support surface supporting the base plate of the first transport rail portion from the inclined upper end portion of the slope portion toward the transport direction;
The delivery unit
The support surface that supports the base plate does not deviate in the vertical direction, which is a direction orthogonal to the extending direction of the transport rail, with respect to the support surface that supports the base plate of the flat portion of the second transport rail portion. disposed conveying apparatus according to claim Rukoto.
JP2008027050A 2008-02-06 2008-02-06 Transport device Expired - Fee Related JP4805286B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008027050A JP4805286B2 (en) 2008-02-06 2008-02-06 Transport device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008027050A JP4805286B2 (en) 2008-02-06 2008-02-06 Transport device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009184788A JP2009184788A (en) 2009-08-20
JP4805286B2 true JP4805286B2 (en) 2011-11-02

Family

ID=41068445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008027050A Expired - Fee Related JP4805286B2 (en) 2008-02-06 2008-02-06 Transport device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4805286B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020195240A1 (en) * 2019-03-22 2020-10-01 村田機械株式会社 Transport vehicle system

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5616620A (en) * 1979-07-17 1981-02-17 Kawasaki Steel Corp Skid arranging structure
JPH01106554U (en) * 1987-12-29 1989-07-18
JPH0459919A (en) * 1990-06-27 1992-02-26 Hitachi Metals Ltd Pusher type heating furnace
JP4165940B2 (en) * 1998-10-13 2008-10-15 松下電器産業株式会社 Processing equipment
JP4155056B2 (en) * 2003-02-20 2008-09-24 神鋼電機株式会社 Precipitation plate manufacturing equipment
US7455735B2 (en) * 2005-09-28 2008-11-25 Nordson Corporation Width adjustable substrate support for plasma processing

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009184788A (en) 2009-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101164487B1 (en) Scribing device and scribing method
CN103946968B (en) The deflection correction mechanism of carrying workpiece and the deflection modification method of carrying workpiece
WO2015037162A1 (en) Laser blanking device and machining method using same
US11661370B2 (en) Method for manufacturing belt-shaped glass and device for manufacturing belt-shaped glass
CN104428260A (en) Sheet glass manufacturing apparatus and sheet glass manufacturing method
JP4805286B2 (en) Transport device
CN101842302B (en) Substrate transport device
KR101606705B1 (en) Substrate Transfer Apparatus
CN208577042U (en) It is a kind of for transporting the belt conveyer of support plate
US8950061B2 (en) Electronic component mounting device
CN105621863B (en) Float glass manufacturing device and float glass making process
JP5151276B2 (en) Transport system
KR101495958B1 (en) Robot hand and robot
KR20070108596A (en) Scribing device using multi-axis synchronous control and its method
JP5873418B2 (en) Transition board device between conveyors
JP2006327819A (en) Transfer device and transfer method for glass pane
JP2010070372A (en) Rail connecting mechanism
JP4854337B2 (en) Board processing equipment and processing equipment equipped with it
JP5832960B2 (en) Idle device
JP2007284203A (en) Conveying facility
KR101216250B1 (en) Actuating device of handler for semiconductor manufacturing process
JP2011219246A (en) Cassette carrying device and carrying method for cassette
JP2018145468A (en) Automatic transportation apparatus and automatic transportation method of copper electrolytic anode
JP5308647B2 (en) Levitation transfer coating device
TW588429B (en) Apparatus for transporting substrates in an oven

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110421

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110510

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110628

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110719

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110810

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140819

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees