JP4815288B2 - プラスチックレンズ - Google Patents
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- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims description 34
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims description 34
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 79
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 63
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 57
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 31
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 22
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 13
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 claims description 13
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 9
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- YYTSFVYFRFGQTJ-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ti+4].[Sn+2]=O.[Si+2]=O Chemical compound [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ti+4].[Sn+2]=O.[Si+2]=O YYTSFVYFRFGQTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 2-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)thiirane Chemical compound C1SC1CSCC1CS1 MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VBARRRGZGXTTTI-UHFFFAOYSA-N 2-[[bis(sulfanyl)-(sulfanylmethyl)-$l^{4}-sulfanyl]disulfanyl]nonane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCC(CS)SSS(S)(S)CS VBARRRGZGXTTTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OFKJCZJIKCKMDU-UHFFFAOYSA-N SCC1(SSCCC1)CCCCCCCC(S)S Chemical compound SCC1(SSCCC1)CCCCCCCC(S)S OFKJCZJIKCKMDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- JRKRMWWBDZSDMT-UHFFFAOYSA-N 2-[(thiiran-2-ylmethyldisulfanyl)methyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSSCC1CS1 JRKRMWWBDZSDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 44
- -1 glycidoxymethyl group Chemical group 0.000 description 32
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 27
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 5
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 5
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 5
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 5
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 4
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- GOCRPOKWZIVUQG-UHFFFAOYSA-N 3-(diethoxymethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CCCN GOCRPOKWZIVUQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ROSGJZYJHLVCJU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethoxymethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCN ROSGJZYJHLVCJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tripropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOCC1CO1 DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)[Si](OCC)(OCC)OCC FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-trimethoxysilylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC[Si](OC)(OC)OC JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- YCLSOMLVSHPPFV-UHFFFAOYSA-N 3-(2-carboxyethyldisulfanyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSSCCC(O)=O YCLSOMLVSHPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(CC)OCC1CO1 FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 2
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQZZXAMBSZVALH-UHFFFAOYSA-N dioxosilane methanol Chemical compound [Si](=O)=O.CO VQZZXAMBSZVALH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N methanedithiol Chemical compound SCS INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)CCCOCC1CO1 VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)OCC1CO1 KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)OCC1CO1 ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOPKHMOZQMJDRR-UHFFFAOYSA-N 1-(isocyanatomethyl)-1-[1-(isocyanatomethyl)cycloheptyl]cycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1(CN=C=O)C1(CN=C=O)CCCCCC1 QOPKHMOZQMJDRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMRGAXDRIMOHPO-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(isocyanatomethyl)-1,4-dithiane Chemical compound O=C=NCC1(CN=C=O)CSCCS1 KMRGAXDRIMOHPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOSJLAVLYJUGJO-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(sulfanyl)propan-2-ylsulfanyl]propane-1,3-dithiol Chemical group SCC(CS)SC(CS)CS LOSJLAVLYJUGJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-triphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)CCCOCC1CO1 GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- 229910004803 Na2 WO4.2H2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGDDNZPCGLMOMQ-UHFFFAOYSA-N [2-(sulfanylmethyl)-1,4-dithian-2-yl]methanethiol Chemical compound SCC1(CS)CSCCS1 RGDDNZPCGLMOMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIUDFADZBIAYKH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ti+4].[Si+2]=O Chemical class [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ti+4].[Si+2]=O SIUDFADZBIAYKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHGFRCLDPHKRBS-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[Zr+4].[O-2].[O-2] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[Zr+4].[O-2].[O-2] JHGFRCLDPHKRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STWBBMAVGPQSFG-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[Zr+4].[O-2].[Ti+4] Chemical class [Sn+2]=O.[O-2].[Zr+4].[O-2].[Ti+4] STWBBMAVGPQSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K antimonic acid Chemical compound O[Sb](O)(O)=O AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical class OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Chemical class 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Chemical class O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002354 daily effect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COCC1CO1 UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(C)OCC1CO1 NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCOCC1CO1 FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUYOHNUMSAGWQZ-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(oxo)tin Chemical compound O[Sn](O)=O AUYOHNUMSAGWQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VDCSZEZNBODVRT-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 VDCSZEZNBODVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OC)OC FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)COCC1CO1 CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)OCC1CO1 RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(CC)OCC1CO1 KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUXKJPGDMGSMGW-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethyl(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCN=C=O RUXKJPGDMGSMGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N disodium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Sn]([O-])=O TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical class C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- VFHDWENBWYCAIB-UHFFFAOYSA-M hydrogen carbonate;tetramethylazanium Chemical compound OC([O-])=O.C[N+](C)(C)C VFHDWENBWYCAIB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical class ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- GNARHXWTMJZNTP-UHFFFAOYSA-N methoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[SiH2]CCCOCC1CO1 GNARHXWTMJZNTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)CCCOCC1CO1 CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYWQEZDJQWQJBK-UHFFFAOYSA-N n-[3-(dimethoxymethylsilyl)propyl]aniline Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCNC1=CC=CC=C1 FYWQEZDJQWQJBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- NCNISYUOWMIOPI-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-dithiol Chemical compound CCC(S)S NCNISYUOWMIOPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229940000207 selenious acid Drugs 0.000 description 1
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-N selenous acid Chemical compound O[Se](O)=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079864 sodium stannate Drugs 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- TWXMZYPORGXIFB-UHFFFAOYSA-N thiophene-3,4-dithiol Chemical compound SC1=CSC=C1S TWXMZYPORGXIFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- OSAJVUUALHWJEM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(8-triethoxysilyloctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OSAJVUUALHWJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COCC1CO1 UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N triethoxy(triethoxysilylmethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C[Si](OCC)(OCC)OCC NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CC)OCC1CO1 NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(CC)OCC1CO1 FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOCC1CO1 RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCOCC1CO1 GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBYXACURRYATNJ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(1-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CCCCCC([Si](OC)(OC)OC)[Si](OC)(OC)OC JBYXACURRYATNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COCC1CO1 LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCCC([Si](OC)(OC)OC)OCC1CO1 FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)OCC1CO1 DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(CC)OCC1CO1 FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(CC)OCC1CO1 KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCOCC1CO1 GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
これらのプラスチックレンズ基材について、眼鏡レンズとして提供する場合、ハードコートと呼ばれる硬化膜が施されるのが一般的である。かかるハードコートをこれらのプラスチックレンズ基材に塗布硬化した場合、耐候性、美観性、耐擦傷性及び密着性などの特性を充分に兼ね備えるプラスチックレンズを提供するには至っていなかった。
即ち、一般的に前述の高屈折率系のレンズは日常の装用状態での太陽光の暴露の環境下では、年月が経過するとアリル系のレンズに比べ経時変化を受けやすいといわれ、干渉縞が緩和された耐摩耗性機能を付与した高屈折率系のハードコート膜でも、特にチタン系ハードコートはチタンゾルの光活性作用により被膜の青色変色が見られ、その程度によっては眼鏡レンズとしては好ましくない状況になる場合がある。
また、経時変化によるハードコート膜と基材との密着性の低下は避けて通れない技術的課題として残されていた。
このようにこれらの高屈折率系のハードコート膜は特に総合的な膜物性において耐候性着色変化や密着性について課題を有していた。
すなわち、本発明は、キシリレンジイソシアネートとポリチオールとを反応して得られるポリチオウレタンレンズ、又はエピチオ基を有する化合物を必須成分するレンズ原料モノマーを反応して得られる硫黄含有レンズを基材とし、この基材上に、直接又は間接的に下記(イ)成分、(ロ)成分及び(ハ)成分の有機ケイ素化合物と、(ニ)成分及び(ホ)成分のコロイド状金属酸化物を含有するコーティング組成物を塗布硬化させてなる硬化膜を施したプラスチックレンズを提供するものである。
(イ)成分
下記一般式(1)で表されるグリシド基を有する有機ケイ素化合物、下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種
R1 nSi(OR2)4-n ・・・(1)
(式中、R1はグリシド基を有する1価の炭素数3〜20の炭化水素基、R2は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基、nは1又は2の整数を示し、R1が複数ある場合には複数のR1はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR2はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
(ロ)成分
下記一般式(3)で表されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種
R7 nSi(OR8)4-n ・・・(3)
(式中、R7はアミノ基を有する1価の炭素数1〜20の炭化水素基、R8は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基、nは1又は2の整数を示し、R7が複数ある場合には複数のR7はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR8はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
(ハ)成分
下記一般式(4)で表されるイソシアネート基を有する有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種
R9 nSi(OR10)4-n ・・・(4)
(式中、R9はイソシアネート基を有する1価の炭素数1〜20の炭化水素基、R10は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基、nは1又は2の整数を示し、R9が複数ある場合には複数のR9はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR10はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
酸化ジルコニウムのコロイド粒子と酸化第二スズのコロイド粒子とがこれらの酸化物のモル比に基づいてSnO2/ZrO2として0.02〜0.4の比率に結合した構造と2.5〜100nmの粒子径を有する、アミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズの複合体コロイド粒子(A2)を核としてその表面が、0.1〜100のWO3/SnO2質量比と、0.1〜100のSiO2/SnO2質量比と2〜7nmの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)で被覆され、且つ(B2)/(A2)の質量比がそれらの金属酸化物の質量比に基づき0.02〜1の割合であり、2.5〜100nmの粒子径を有する変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズの複合体コロイド粒子(C)
(ホ)成分
酸化チタンコロイド粒子及び/又は酸化チタンを含む複合体コロイド粒子
特に、高屈折率プラスチックレンズ基材との密着性ではプライマーを使用せずその効果を奏する。また、本発明で用いられる複合コロイドゾルは、耐光性がよく、膜劣化が少ないZrリッチの(ニ)成分に、基材の紫外線からのプロテクト性のあるチタン系の複合ゾルの(ホ)成分を加えた相乗効果により、日常の眼鏡の装用状態で晒される環境下において、チタン系ハードコートが受ける青色変色作用を受けながらもその基材とのバランスを保ちながら、眼鏡レンズのトータルとしての色変化を最小限に抑制させることができる。
以下、(イ)成分、(ロ)成分及び(ハ)成分について説明する。
本発明における(イ)成分は、下記一般式(1)で表されるグリシド基を有する有機ケイ素化合物、下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種である。
R1 nSi(OR2)4-n ・・・(1)
一般式(1)において、R1はグリシド基を有する1価の炭素数3〜20の炭化水素基であり、例えば、グリシドキシメチル基、α−グリシドキシエチル基、β−グリシドキシエチル基、α−グリシドキシプロピル基、β−グリシドキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、α−グリシドキシブチル基、β−グリシドキシブチル基、γ−グリシドキシブチル基、δ−グリシドキシブチル基などが挙げられる。
一般式(1)において、R2は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基である。
前記R2の炭素数1〜8のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基などが挙げられ、アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられ、アシル基としては、例えばアセチル基などが挙げられる。
一般式(1)において、nは1又は2の整数であり、R1が複数ある場合、複数のR1はたがいに同一でも異なっていてもよく、また、複数のOR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。
これらの中でも、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシランが好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシランのγ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランがさらに好ましい。
前記R3及びR4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられ、炭素数2〜4のアシル基としては、例えばアセチル基などが挙げられる。
R5及びR6の炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜5のアルキル基及び炭素数2〜5のアルケニル基などが挙げられる。これらは直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基などが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基などが挙げられる。
前記炭化水素基の官能基としては、例えば、ハロゲン原子、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、(メタ)アクリロイルオキシ基などが挙げられる。
一般式(2)において、a及びbは、それぞれ0又は1の整数を示し、複数のOR3はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のOR4はたがいに同一でも異なっていてもよい。
一般式(2)で表される有機ケイ素化合物の具体例としては、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリメトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、ビス(トリエトキシシリル)オクタンなどが挙げられ、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリメトキシシリル)エタンが好ましい。
本発明における(ロ)成分は、下記一般式(3)で表されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種である。
R7 nSi(OR8)4-n ・・・(3)
一般式(3)において、R7はアミノ基を有する1価の炭素数1〜20の炭化水素基であり、例えば、γ−アミノプロピル基、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル基、N−フェニル−γ−アミノプロピル基などが挙げられる。
一般式(3)において、R8は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基であり、これら各基の例としては、前記R2と同様の例が挙げられる。
一般式(3)において、nは1又は2の整数を示し、R7が複数ある場合には複数のR7はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR8はたがいに同一でも異なっていてもよい。
これらの中でも、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルジメトキシメチルシラン、γ−アミノプロピルジエトキシメチルシランが好ましく、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシランがさらに好ましい。
本発明における(ハ)成分は、下記一般式(4)で表されるイソシアネート基を有する有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種である。
R9 nSi(OR10)4-n ・・・(4)
一般式(4)において、R9はイソシアネート基を有する1価の炭素数1〜20の炭化水素基であり、例えば、イソシアネートメチル基、α−イソシアネートエチル基、β−イソシアネートエチル基、α−イソシアネートプロピル基、β−イソシアネートプロピル基、γ−イソシアネートプロピル基などが挙げられる。
一般式(4)において、R10は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基であり、これら各基の例としては、前記R2と同様の例が挙げられる。
一般式(4)において、nは1又は2の整数を示し、R9が複数ある場合には複数のR9はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR10はたがいに同一でも異なっていてもよい。
一般式(4)で表される化合物の例としては、γ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルジメトキシメチルシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルジエトキシメチルシランなどが挙げられ、γ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシランのγ−イソシアナトプロピルトリアルコキシシランが好ましい。
このような3成分の有機ケイ素化合物をコーティング組成物に混合することにより本発明で目的とする効果を得ることが可能になる。
本発明の(ニ)成分は、酸化ジルコニウムのコロイド粒子と酸化第二スズのコロイド粒子とがこれらの酸化物のモル比に基づいてSnO2/ZrO2として0.02〜0.4の比率に結合した構造と2.5〜100nmの粒子径を有する、アミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズの複合体コロイド粒子(A2)を核としてその表面が、0.1〜100のWO3/SnO2質量比と、0.1〜100のSiO2/SnO2質量比と2〜7nmの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)で被覆され、且つ(B2)/(A2)の質量比がそれらの金属酸化物の質量比に基づき0.02〜1の割合であり、2.5〜100nmの粒子径を有する変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズの複合体コロイド粒子(C)である。
(ニ)成分のコロイド粒子を用いることにより、本発明で用いるレンズを基材にコーティング膜を施した場合、良好な耐光性を有する。
(a)工程:第4級アンモニウムの炭酸塩を含む水性媒体中で、SnO2/ZrO2モル比に換算して0.02〜0.4の比率のジルコニウム化合物とスズ化合物を60〜110℃で加熱し、得られた水性媒体を110〜300℃で水熱処理を行い酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子(A)を含むゾルを生成する工程、
(b)工程:(a)工程で得られた酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド粒子(A)を含むゾルの粒子表面を、0.02〜4.00のM/Sb2O5のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアミン含有Sb2O5コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B1)で、その金属酸化物に換算した(B1)/(A)の質量比に基づいて、0.01〜0.50の割合に被覆し、得られた水性媒体を20〜100℃で0.1〜50時間熟成し、アミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子(A1)を含むゾルを得る工程、
(c)工程:(b)工程で得られたアミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子(A1)を含むゾルを、200〜350℃の温度で0.1〜50時間の水熱処理を行い、アミン含有Sb2O5が被覆された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子(A2)を含むゾルを得る工程、
(d)工程:タングステン酸塩、スズ酸塩及び珪酸塩をWO3/SnO2質量比として0.1〜100、SiO2/SnO2質量比として0.1〜100の比率に含む水溶液を調製し、その水溶液中に存在する陽イオンを除去して得られる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)を含むゾルを準備する工程、
(e)工程:(c)工程で得られたアミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子(A2)を含むゾルと、(d)工程で得られた酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)を含むゾルとを、その金属酸化物に換算した(B2)/(A2)の質量比で0.02〜1の比率に混合し、得られた水性媒体を20〜100℃で0.1〜50時間の熟成を行う工程を含む製造方法。
本発明の(ホ)成分は、酸化チタンコロイド粒子及び/又は酸化チタンを含む複合体コロイド粒子である。
(ホ)成分として酸化チタンを用い、前記(ニ)成分と混合させることにより良好な美観性、耐擦傷性を有するプラスチックレンズを得ることができる。(ホ)成分の具体的なコロイド粒子として、特開平8-113760号公報、特開平7-168002号公報、特開平11-310755号公報、特開平4-214028号公報に開示された酸化チタンコロイド粒子を用いた複合体コロイド粒子が挙げられる。
前記(ニ)及び(ホ)成分の重量比は、前記(ニ)成分及び(ホ)成分の合計の重量を1としたとき、0.01〜0.99が好ましい。
本発明のプラスチックレンズの基材は、キシリレンジイソシアネートとポリチオールとを反応して得られるポリチオウレタンレンズ、又はエピチオ基を有する化合物を含有するレンズ原料モノマーを反応して得られる硫黄含有レンズからなる。
前記キシリレンジイソシアネートとポリチオールとを反応して得られるポリチオウレタンレンズは、例えば屈折率(nd又はne:ndは測定基準波長がヘリウム、neは測定基準波長が水銀による屈折率)が1.65〜1.69程度のものが好ましく用いられ、ポリチオール化合物として、メルカプトメチル−ジチアン−オクタンジチオール及び/又はビス(メルカプトメチル)−トリチアウンデカンジチオールを成分として用いられることが好ましい。
前記キシリレンジイソシアネートの他に、他の物性を損なわない程度において、他のポリイソシアネート化合物(例えば、ジ(イソシアナトメチル) ビシクロヘプタン、ビス(イソシアナトメチル) −1,4−ジチアン及びジシクロヘキシルメタンジイソシアナ−ト等)を添加することができる。ポリイソシアネートの化合物全体におけるキシリレンジイソシアネートの含有モル率は、50モル%以上が好ましい。
また、ポリチオール化合物においても、レンズの物性を損なわない範囲において、メルカプトメチル−ジチアン−オクタンジチオール及び/又はビス(メルカプトメチル)−トリチアウンデカンジチオールの他に、他のポリチオール化合物(例えば、メタンジチオール、1,2−エタンジチオール、1,1−プロパンジチオール等の脂肪族チオール、ジチオジグリコール酸ビス(2,3−ジメルカプトプロピルエステル)、ジチオジプロピオン酸(2,3−ジメルカプトプロピルエステル)、ビス(1,3−ジメルカプト−2−プロピル)スルフィド等のメルカプト基以外に硫黄原子を含有する脂肪族チオール、3,4−チオフェンジチオール、テトラヒドロチオフェン−2,5−ジメルカプトメチル等のメルカプト基以外に硫黄原子を含有する複素環化合物等)を添加することができる。
また、前記硫黄含有レンズにおいて、エピチオ基を有する化合物が、前記レンズ原料モノマー全量を基準にして60重量%〜90重量%であると好ましい。
本発明において、前記コーティング組成物の反応、硬化は、通常熱風乾燥又は活性エネルギー線照射によって行われ、硬化条件としては、通常70〜200℃の熱風中にて行い、90〜150℃が好ましい。なお活性エネルギー線としては遠赤外線などが挙げられ、熱による損傷を低く抑えることができる。
また、前記コーティング組成物をレンズ基材に塗布して、硬化膜を形成した後、硬化膜の上に真空蒸着法やスパッタリングなどの物理気相蒸着法等にて、無機酸化物、有機化合物を原料とした反射防止膜を施すことができる。また、例えば、更に反射防止膜上に、例えば撥水性、帯電防止性、防曇性等の種々の機能性膜を間接的、直接的に、また組み合わせて付与することもできる。
本発明におけるプラスチックレンズは、眼鏡レンズとして好ましく用いられる。
また、その場合には、レンズ基材と硬化膜との屈折率差を調整することが好ましく、その屈折率差は好ましくは±0.3以内で±0.5以上は超えないことが望ましい。
なお、実施例及び比較例の物性評価は以下のようにした。
<評価方法>
(1)密着性の評価
硬化膜又は反射防止膜に1.5mm間隔で100目クロスカットし、このクロスカットしたところに粘着テープ(商品名:セロファンテープ ニチバン(株)製品)を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。判断基準は以下の通りである。
◎・・・剥離無し
○・・・剥離数1〜10目
△・・・剥離数11〜50目
×・・・剥離数51〜100目
(2)耐擦傷性の評価
スチールウール#0000で硬化膜又は反射防止膜の表面を2kgの荷重をかけて前後に20往復擦り、傷のつきにくさを目視で判断した。判断基準は以下の通りである。
◎・・・ほとんど傷がつかない
○・・・5本未満の傷が入る
△・・・5本以上10本未満の傷が入る
×・・・10本以上〜光学基盤と同等の傷が入る
(3)クラックの評価
蛍光灯下で硬化膜を有する光学部材を目視で判断した。判断基準は以下の通りである。
◎・・・クラックの発生が無い
○・・・レンズの端より、1mm未満の短いクラックが1もしくは2本ある。
△・・・レンズの端もしくは中央部より、1mm以上のクラックが5本未満ある。
×・・・レンズの端もしくは中央部より、1mm以上のクラックが5本以上ある。
暗室内、蛍光灯下で硬化膜に曇りがあるかどうかを目視で調べた。判断基準は以下の通りである。
◎・・・・・・曇りが見えない
○・・・・・・曇りがほとんど見えない
△・・・・・・曇りが少し見える
×・・・・・・曇りがかなり見える
(5)干渉縞の評価
蛍光灯下で硬化膜を有する光学部材を目視で判断した。判断基準は以下の通りである。
◎・・・・・・干渉縞が見えない
○・・・・・・干渉縞がほとんど見えない
△・・・・・・干渉縞が少し見える
×・・・・・・干渉縞がかなり見える
(6)耐候性色変化の評価
硬化膜を有する光学部材をキセノンロングライフウエザーメーター(スガ試験機(株)製)中にて200時間照射を行い、分光光度計((株)日立製作所製)にてYellow
ness Index(YI値)を投入前と投入後で測定し色変化の程度を調べた。判断基準は以下の通りである。
◎・・・・・・YI値の変化が0〜0.5未満
○・・・・・・YI値の変化が0.5以上1.0未満
△・・・・・・YI値の変化が1.0以上1.5未満
×・・・・・・YI値の変化が1.5以上
(a)工程:1m3のベッセルに、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して42.4質量%を含有する。)水溶液251.85kgと、純水95.6kgとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、AMR製、ZrO2として40.11質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、トータル491.85kg投入した。添加終了後、85℃に加温後、メタスズ酸8.23kg(昭和化工(株)製、SnO2として7.08kg含有する。)を徐々に添加し、105℃にて5時間加温熟成を行った。この加熱熟成終了時点では混合液はゾル状であった。
更に145℃にて5時間の水熱処理を行った。水熱処理後に得られたものは、酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子(A)を含有するゾルであり、(ZrO2+SnO2)濃度として12.86質量%、比重1.180、pH10.62であった。
ついでこのゾルを限外ろ過装置にて純水を添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、濃度6.03質量%の比重1.052、pH9.43の酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体コロイド(A)を含むゾル1040kgが得られた。得られた酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド(A)は、電子顕微鏡観察による粒子径が5〜15nmであった。
得られたアンチモン酸カリウムの水溶液を2.4質量%に希釈し、カチオン型イオン交換樹脂を充填したカラムに通液した。イオン交換後のアンチモン酸の溶液にジイソプロピルアミンを攪拌下で14.9kg添加し、アミン含有五酸化アンチモンコロイド(B1)の溶液を得た。濃度はSb2O5として1.58質量%、ジイソプロピルアミンとして0.90質量%、透過型電子顕微鏡観察された粒子径は1〜10nmであった。
アミン含有五酸化アンチモンコロイド(B1)のゾル384kg(Sb2O5として6.05kg)に、攪拌下に得られた酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド粒子(A)のゾルを922kg(ZrO2+SnO2として55.0kg)を純水で738gに希釈した後、(Sb2O5/ZrO2+SnO2)質量比が0.11の割合で添加混合し、ついで95℃にて2時間加温熟成を行った。そして、アミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド粒子(A1)を含むゾルを得た。得られたアミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド粒子(A1)は電子顕微鏡観察された粒子径が5〜20nmであった。
(d)工程:珪酸ナトリウム水溶液(SiO2として14.6質量%含有する。)20.68kgを水157kgに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムNa2WO4・2H2O(WO3として69.5質量%含有する)2.17kgおよびスズ酸ナトリウムNaSnO3・H2O(SnO2として55.6質量%含有する)2.72kgを溶解する。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂(IR−120B)のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)を含むゾル(pH2.1、WO3として0.6質量%、SnO2として0.6質量%、SiO2として1.2質量%を含有し、WO3/SnO2質量比1.0、SiO2/SnO2質量比2.0)249kgを得た。得られた酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)は電子顕微鏡観察された粒子径は2〜7nmであった。
上記高濃度の変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド粒子(C)を含む水性ゾル約205kgに、メタノール約5000リットルを連続的に加えながら水を留去することにより水性ゾルをメタノールで置換した変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体コロイド粒子(C)を含むメタノールゾル120kgを得た。この変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体のメタノールゾルは、動的光散乱法による粒子径は25nm、電子顕微鏡観察された粒子径は5〜20nm、(WO3+SnO2+SiO2)/(ZrO2+SnO2+Sb2O5)質量比が0.1であり、比重1.221、粘度5.1mPa・s、pH7.2(水との等質量混合物)、金属酸化物に換算した濃度は40.1質量%、水分0.49質量%であった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、冷蔵(約7℃)で3ヶ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘等の異常は認められず安定であった。
(1)コーティング組成物の製造
5℃雰囲気下、溶媒として、ダイアセトンアルコール(DAA)30質量部と(ロ)成分であるγ−アミノプロピルトリエトキシシラン2.7質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)を混合した。この混合液に(ハ)成分であるγ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン3.0質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)を攪拌しながら滴下し、4時間攪拌させた。ついで(イ)成分であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン69.8質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中92.4mol%)を混合した後、0.01mol/リットル濃度の塩酸を攪拌しながら滴下し、1昼夜攪拌した。これによりシランカップリング剤加水分解品を得た。
5℃雰囲気下、製造例1で作製した変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合メタノールゾル(日産化学工業株式会社製)180質量部を攪拌しながら、ダイアセトンアルコール(DAA)20質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)80質量部を混合した。ついで、攪拌しながら変性酸化チタン−酸化スズ−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オプトレイク1120Z(商品名))62.5質量部を混合し、一時間攪拌した。その後、攪拌しながら先に作製したシランカップリング剤を滴下し、一昼夜攪拌した。ついで、シリコン系界面活性剤(東レ ダウコーニング株式会社製 Y−7006(商品名))0.25質量部及びアルミニウムトリスアセチルアセトネート5質量部を順次添加し、150時間攪拌した。得られた溶液を0.5μmのフィルターでろ過したものをコーティング組成物とした。尚、本実施例では基材との屈折率差の調整を行い、干渉縞を防止するようにした。
(2)硬化膜の形成
キシリレンジイソシアネートと、ビス(メルカプトメチル)−トリチアウンデカン−ジチオールを反応して得られるレンズ基材(屈折率(ne)1.67、−NCO/−SHのモル比(1:1)以下、「レンズ基材A」と記す)を60℃、10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に300秒間浸漬し、その後、超音波28kHz印加の下イオン交換水を用いて300秒間洗浄した。最後に、70℃雰囲気下、乾燥させる一連の工程を基材前処理とした。
前処理を施したレンズ基材Aをディッピング法にてコーティング組成物に30秒間浸漬し、30cm/分にて引き上げた基材を110℃、60分間の条件にて硬化膜(屈折率(ne)1.65)を形成した。
その物性評価結果を表1に示す。
(3)反射防止膜の形成
硬化膜を施したプラスチックレンズ基材を蒸着装置に入れ、排気しながら65℃に加熱し、2.7mPaまで排気した後、電子ビーム加熱法にて蒸着原料を蒸着させて、ハードコート側よりSiO2からなるnd=1.46、nλ=0.08の第1層、Nb2O5、ZrO2、Y2O3からなるnd=2.21、nλ=0.04の第2層、SiO2からなるnd=1.46、nλ=0.55の第3層、Nb2O5、ZrO2、Y2O3からなるnd=2.21、nλ=0.12の第4層、SiO2からなるnd=1.46、nλ=0.09の第5層、Nb2O5、ZrO2、Y2O3からなるnd=2.21、nλ=0.17の第6層、SiO2からなるnd=1.46、nλ=0.28の第7層を形成して反射防止膜を施した。なお、ndは屈折率、nλは膜厚である。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、変性酸化チタン−酸化スズ−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オプトレイク1120Z(商品名))の代わりに、変性酸化チタン−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オプトレイク1130Z(商品名))を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例3
実施例1において、変性酸化チタン−酸化スズ−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オプトレイク1120Z(商品名))の代わりに、変性酸化スズ−酸化チタン−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(日産化学工業株式会社製 HITシリーズ(商品名))を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン2.7質量部(イロハ成分中3.8mol%)の代わりにγ−アミノプロピルトリメトキシシラン2.9質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中5.0mol%)を用い、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン3.0質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)を4.1質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中5mol%)とした以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例5
実施例1において、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン3.0質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)の代わりにγ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン2.6質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中4mol%)を用い、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン2.7質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)を2.8質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中4mol%)とした以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン2.7質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)の代わりにγ−アミノプロピルトリメトキシシラン1.7質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.0mol%)を用い、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン3.0質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.8mol%)の代わりにγ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン1.9質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.0mol%)を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例7
実施例1において、溶媒としてPGMの代わりにイソプロパノール(IPA)を用いた以外は同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、溶媒としてPGMの代わりに1−ブタノールを用いた以外は同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例9
実施例1において、レンズ基材として、レンズ基材Aの代わりに、特開2001−330701号公報段落番号[0013]〜[0014]に記載されている要領で、ビス(イソシアナトメチル)−1,4−ジチアン9.30重量部、ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン25.70重量部、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド65.0重量部を反応させて得られるプラスチックレンズ基材(屈折率(ne)1.70、以下、「レンズ基材B」と記載する)を用いた以外は、全て同様にして硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例10
実施例1において、レンズ基材として、レンズ基材Aの代わりに、キシリレンジイソシアネートと、メルカプトメチル−ジチアン−オクタンジチオールを反応して得られるレンズ基材(屈折率(ne)1.67、以下、「レンズ基材C」と記載する)を用いた以外は全て同様にして硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、(イ)成分として一般式(1)で表されるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン66.45質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中89.4mol%)に加え、(イ)成分として一般式(2)で表されるビス(トリエトキシシリル)エタン3.35質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中3.0mol%)の2種を用いた以外は同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例12
実施例1において、(イ)成分として一般式(1)で表されるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン66.36質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中88.4mol%)に加え、(イ)成分として一般式(2)で表されるビス(トリメトキシシリル)エタン3.44質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中4.0mol%)の2種を用いた以外は同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合メタノールゾル(日産化学工業株式会社製)の代わりに二酸化ケイ素メタノールゾル(日産化学工業株式会社 オルガノシリカゾル Snoetexシリーズ(商品名))を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
比較例2
実施例1において、変性酸化チタン−酸化スズ−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製)の代わりに二酸化ケイ素メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オルガノシリカゾル OSCALシリーズ(商品名))を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、製造例1で作製した変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合メタノールゾルを使用せず、変性酸化チタン−酸化スズ−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オプトレイク1120Z(商品名))242.5質量部を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
比較例4
実施例1において、変性酸化チタン−酸化スズ−酸化ケイ素−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(触媒化成工業株式会社製 オプトレイク1120Z(商品名))を使用せず、製造例1で作製した変性酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合メタノールゾル242.5質量部を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
実施例1において、γ−アミノプロピルトリエトキシシランとγ−イソシアナトプロピルトリエトキシシランを使用せず、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン75.5質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中100mol%)を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
比較例6
実施例1において、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを使用せず、シランカップリング剤としてγ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン5.7質量部((イ)(ロ)及び(ハ)成分中7.2mol%)及びγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン69.8質量部(イロハ成分中92.8mol%)を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
比較例7
実施例1において、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシランを使用せず、シランカップリング剤としてγ−アミノプロピルトリエトキシシラン5.7質量部(イロハ成分中8.0mol%)及びγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン69.8質量部(イロハ成分中92.0mol%)を用いた以外は、同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材Aに硬化膜及び反射防止膜を形成した。物性評価結果を表1に示す。
Claims (11)
- キシリレンジイソシアネートとポリチオールとを反応して得られるポリチオウレタンレンズ、又はエピチオ基を有する化合物を必須成分するレンズ原料モノマーを反応して得られる硫黄含有レンズを基材とし、この基材上に、直接又は間接的に下記(イ)成分、(ロ)成分及び(ハ)成分の有機ケイ素化合物と、(ニ)成分及び(ホ)成分のコロイド状金属酸化物を含有するコーティング組成物を塗布硬化させてなる硬化膜を施したプラスチックレンズ。
(イ)成分
下記一般式(1)で表されるグリシド基を有する有機ケイ素化合物及びその加水分解物、又は、下記一般式(1)で表されるグリシド基を有する有機ケイ素化合物と下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物
R1 nSi(OR2)4-n ・・・(1)
(式中、R1はグリシド基を有する1価の炭素数3〜20の炭化水素基、R2は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基、nは1又は2の整数を示し、R1が複数ある場合には複数のR1はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR2はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
(式中、R3及びR4は、それぞれ炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数2〜4のアシル基であり同一でも異なっていてもよく、R5及びR6は、それぞれ官能基を有するもしくは有しない炭素数1〜5の1価の炭化水素基であり同一でも異なっていてもよく、Yは炭素数2〜20の2価の炭化水素基、a及びbは、それぞれ0又は1の整数を示し、複数のOR3はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のOR4はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
(ロ)成分
下記一般式(3)で表されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種
R7 nSi(OR8)4-n ・・・(3)
(式中、R7はアミノ基を有する1価の炭素数1〜20の炭化水素基、R8は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基、nは1又は2の整数を示し、R7が複数ある場合には複数のR7はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR8はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
(ハ)成分
下記一般式(4)で表されるイソシアネート基を有する有機ケイ素化合物及びそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも1種
R9 nSi(OR10)4-n ・・・(4)
(式中、R9はイソシアネート基を有する1価の炭素数1〜20の炭化水素基、R10は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基、nは1又は2の整数を示し、R9が複数ある場合には複数のR9はたがいに同一でも異なっていてもよく、複数のOR10はたがいに同一でも異なっていてもよい。)
(ニ)成分
酸化ジルコニウムのコロイド粒子と酸化第二スズのコロイド粒子とがこれらの酸化物のモル比に基づいてSnO2/ZrO2として0.02〜0.4の比率に結合した構造と2.5〜100nmの粒子径を有する、アミン含有Sb2O5を含む酸化ジルコニウム−酸化第二スズの複合体コロイド粒子(A2)を核としてその表面が、0.1〜100のWO3/SnO2質量比と、0.1〜100のSiO2/SnO2質量比と2〜7nmの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化ケイ素複合体のコロイド粒子(B2)で被覆され、且つ(B2)/(A2)の質量比がそれらの金属酸化物の質量比に基づき0.02〜1の割合であり、2.5〜100nmの粒子径を有する変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズの複合体コロイド粒子(C)
(ホ)成分
酸化チタンコロイド粒子及び/又は酸化チタンを含む複合体コロイド粒子 - (イ)成分の一般式(1)で表される有機ケイ素化合物が、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランである請求項1記載のプラスチックレンズ。
- (ロ)成分の一般式(3)で表される有機ケイ素化合物が、γ−アミノプロピルトリアルコキシシランである請求項1記載のプラスチックレンズ。
- (ハ)成分の一般式(4)で表される有機ケイ素化合物が、γ−イソシアナトプロピルトリアルコキシシランである請求項1記載のプラスチックレンズ。
- 前記有機ケイ素化合物のモル比割合は、有機ケイ素化合物の全量を基準にして(イ)成分:(ロ)成分:(ハ)成分=99:0.5:0.5〜10:45:45である請求項1記載のプラスックレンズ。
- 前記(ホ)成分である酸化チタンコロイド粒子を含む複合体コロイド粒子が、酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化ケイ素−酸化スズの複合コロイド粒子である請求項1〜5のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
- 前記(ニ)成分の重量比が、前記(ニ)成分及び(ホ)成分の合計の重量を1としたとき、0.01〜0.99である請求項1〜6のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
- 前記硫黄含有レンズにおいて、エピチオ基を有する化合物が、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド及び/又はビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィドである請求項1〜7のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
- 前記硫黄含有レンズにおいて、エピチオ基を有する化合物が、前記レンズ原料モノマー全量を基準にして60重量%〜90重量%である請求項1〜8のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
- キシリレンジイソシアネートとポリチオールとを反応して得られるポリチオウレタンレンズにおいて、ポリチオールとして、メルカプトメチル−ジチアン−オクタンジチオール及び/又はビス(メルカプトメチル)−トリチア−ウンデカンジチオールを成分として用いる請求項1〜9のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
- 前記ポリチオウレタンレンズの屈折率が1.65〜1.69、及び/又は前記硫黄含有レンズの屈折率が1.69〜1.72である請求項1〜10のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006193565A JP4815288B2 (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | プラスチックレンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006193565A JP4815288B2 (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | プラスチックレンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008020756A JP2008020756A (ja) | 2008-01-31 |
| JP4815288B2 true JP4815288B2 (ja) | 2011-11-16 |
Family
ID=39076708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006193565A Active JP4815288B2 (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | プラスチックレンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4815288B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4996152B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2012-08-08 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズの製造方法 |
| EP2128657A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-02 | Hoya Corporation | Plastic lens, manufacturing method thereof, and manufacturing method of hard coat liquid |
| JP2010033021A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-02-12 | Hoya Corp | プラスチックレンズ及びその製造方法 |
| WO2013042278A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2013-03-28 | パナソニック株式会社 | コーティング組成物及び塗装品 |
| JP5751164B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2015-07-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 太陽電池表面保護シート用易接着剤、太陽電池表面保護シート、ならびに太陽電池モジュール |
| EP3793750A4 (en) * | 2018-05-14 | 2022-06-22 | NBD Nanotechnologies, Inc. | ORGANOSILANE COATING COMPOSITIONS |
| WO2020162592A1 (ja) * | 2019-02-08 | 2020-08-13 | 三井化学株式会社 | 光学材料用重合性組成物、光学材料およびその用途 |
| US11370937B2 (en) * | 2019-03-04 | 2022-06-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Protective coating composition and coated metallic substrate comprising same |
| JP7410949B2 (ja) * | 2019-06-18 | 2024-01-10 | 日本精化株式会社 | 樹脂基材のハードコート形成用組成物およびそれを用いた積層体 |
| JP2025128868A (ja) * | 2024-02-22 | 2025-09-03 | 東海光学ホールディングス株式会社 | 眼鏡レンズ及び眼鏡 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09208651A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ウレタン系プラスチックレンズの製造方法及び該方法にて得られるウレタン系プラスチックレンズ |
| JPH11310755A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-09 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及び積層体 |
| JP3706036B2 (ja) * | 2000-03-15 | 2005-10-12 | Hoya株式会社 | 眼鏡用プラスチックレンズ |
| JP2005084520A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ |
| JP4707656B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2011-06-22 | Hoya株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
| WO2005097497A1 (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-20 | Tokuyama Corporation | 積層体 |
| JP2006176392A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-07-06 | Nissan Chem Ind Ltd | 変性された酸化第二スズゾルおよび酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの製造方法 |
-
2006
- 2006-07-14 JP JP2006193565A patent/JP4815288B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008020756A (ja) | 2008-01-31 |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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