JP4821444B2 - バイオアッセイ用高分子化合物およびこれを用いたバイオアッセイ用基材 - Google Patents
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(1)少なくとも、ホスホリルコリン基を有するユニット、疎水性基を有するユニット及び一級アミノ基を有するユニットを含むバイオアッセイ用高分子化合物であって、
該バイオアッセイ用高分子化合物が、下記一般式[1](式中R1R2、R3は水素原子ま
たはメチル基を、R4は疎水性基を示す。Xは炭素数1〜10のアルキレンオキシ基を示し、pは1〜20の整数を示す。pが2以上20以下の整数である場合、繰り返されるXは、同一であっても、または異なっていてもよい。Yはアルキレングリコール残基を含むスペーサーであり、Z は酸素原子またはNHである。l、m、nは自然数である。)で
表され、
前記一般式[1]において、Yが下記一般式[2]または[3](式中q、rは1〜20の整数である。)であり、疎水性基がアルキル基であることを
特徴とするバイオアッセイ用高分子化合物、
(2)前記一級アミノ基がオキシルアミノ基及び/ またはヒドラジド基である(1)記
載のバイオアッセイ用高分子化合物、
(3)高分子化合物の主鎖が(メタ)アクリル骨格である(1)又は(2)記載のバイオアッセイ用高分子化合物、
(4)前記一般式[1]において、Xがエチレンオキシ基である(1)記載のバイオアッセイ用高分子化合物、
(5)前記一般式[1]において、R4がアルキル基である(1)又は(4)記載のバイオアッセイ用高分子化合物、
(6)前記アルキル基の炭素数が2〜10である(5)記載のバイオアッセイ用高分子化合物、
(7)(1)〜(6)いずれか記載のバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法であって、少なくとも、ホスホリルコリン基を有するモノマー、疎水性基を有するモノマー、及び一級アミノ基を予め保護基にて保護したモノマーとをラジカル共重合する工程、該工程により得られた高分子化合物から前記保護基を除去する工程、を含むことを特徴とするバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法、
(8)(1)〜(7)いずれか記載のバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法であって、少なくとも、ホスホリルコリン基を有するモノマー、疎水性基を有するモノマー、及び一級アミノ基を導入しうる官能基を有するモノマーをラジカル共重合する工程、該工程により得られた高分子化合物の前記官能基に一級アミノ基を導入する工程、を含むバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法、
(9)(1)〜(5)いずれか記載のバイオアッセイ用高分子化合物を含む表面コーティング材料、
(10)(9)記載の表面コーティング材料を含む層を基材の表面に形成したバイオアッセイ用基材、
(11)前記基材の形状が、スライド形状基板、96穴プレート、容器、マイクロフルイディスク基板のいずれかである(10)記載のバイオアッセイ用基材、
(12)前記基材の材質がプラスチック製である(10)または(11)記載のバイオアッセイ用基材、
(13)前記プラスチックが飽和環状ポリオレフィンまたはポリスチレンを含むものである(12)記載のバイオアッセイ用基材、
(14)(10)〜(13)いずれか記載のバイオアッセイ用基材に生理活性物質を固定化したバイオアッセイ用基材、
(15)前記生理活性物質が糖、糖鎖、及びこれらを有する生理活性物質から選ばれる少なくとも一つである(14)記載のバイオアッセイ用基材、
(16)前記生理活性物質が糖ペプチド又はまたは抗体である(15)記載のバイオアッセイ用基材、
である。
2’−アゾビスイソブチルニトリル(以下「AIBN」という)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1 −カルボニトリル)等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル等の有機過酸化物等を挙げることができる。
2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(MPC)、n−ブチルメタクリレート(BMA)、N−[2−[2−[2−(t−ブトキシカルボニルアミノオキシアセチルアミノ)エトキシ]エトキシ]エチル]−メタクリルアミド(OA、式[5]で示した化合物)をそれぞれ順に0.25mol/L、0.55mol/L、0.20mol/Lになるようにエタノールに溶解させ、モノマー混合溶液を作製した。そこにさらにAIBNを0.01mol/Lになるように添加し、均一になるまで撹拌した。その後、アルゴンガス雰囲気下、60℃で6時間反応させた後、反応溶液をジエチルエーテル中に滴下し、沈殿を回収した。得られた高分子化合物を1H―NMRで測定し、この高分子化合物の組成比を算出した。表1に結果を示した。
前記高分子化合物を2NのHCl−ジオキサン−エタノール溶液で室温4時間処理することにより、BOC基の除去を行った。脱保護後の高分子化合物の1H―NMR測定を行い、BOC基のトリメチルに起因するピークが消失していることより脱保護を確認した。
MPC、BMA、p−ニトロフェニルオキシカルボニル−4.5−エチレングリコールメタクリレート(MEO4.5NP)、をそれぞれ順に0.25mol/L、0.60mol/L、0.15mol/Lになるようにエタノールに溶解させ、モノマー混合溶液を作製した。そこにさらに0.01mol/LのAIBNを添加し、均一になるまで撹拌した。その後、アルゴンガス雰囲気下、60℃で4時間反応させた後、反応溶液をジエチルエーテルとクロロホルムの混合溶媒中に滴下し、沈殿を回収した。得られた高分子化合物を1H―NMRで測定し、この高分子化合物の組成比を算出した。表2に結果を示した。
飽和環状ポリオレフィン樹脂(5−メチル−2ノルボルネンの開環重合体の水素添加物、MFR(Melt flow rate):21g/10分、水素添加率:実質的に100%、熱変形温度123℃)をスライドガラス形状(寸法:76mm×26mm×1mm)に加工して固相基板を作成した。この固相基板を高分子化合物の合成例1にて得られた高分子化合物の0.3重量%エタノール溶液に浸漬、乾燥することにより、基板表面に合成例1のポリマーを含む層を導入した。
飽和環状ポリオレフィン樹脂(5−メチル−2ノルボルネンの開環重合体の水素添加物、MFR(Melt flow rate):21g/10分、水素添加率:実質的に100%、熱変形温度123℃)をスライドガラス形状(寸法:76mm×26mm×1mm)に加工して固相基板を作成した。この固相基板を高分子化合物の合成例2にて得られた高分子化合物の0.3重量%エタノール溶液に浸漬、乾燥することにより、基板表面に合成例2のポリマーを含む層を導入した。
工程1(1次抗体の固定化)
実施例で得られた基板上でサンドイッチ法を実施した。詳細はまず、一次抗体である抗マウスIgG2a(5mg)を、0.1M過ヨウ素酸ナトリウム(和光純薬製:199−08062)および0.1M重炭酸ナトリウムを含む水溶液(pH8.1)(和光純薬製:197−01302)1mlに溶解して30分静値した。次いで反応溶液をPIERCE社製脱遠プラスチック製カラム(商品コード:20439)に掛けることで塩を除去した。該基板に自動スポッターによりPBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を純水1リットル中に9.6gを溶解したバッファ)pH7.4)で1mg/mlに調製された該酸化済み抗マウスIgG2aをスポット後、室温の環境下に24時間静置することにより一次抗体を固定化した。
次に比較例で得られた基板上でサンドイッチ法を実施した。詳細はまず、該基板に自動スポッターにより炭酸バッファ(和光純薬製pH9.5)で1mg/mlに調製された一次抗体である抗マウスIgG2aをスポット後、室温の環境下に24時間静置することにより一次抗体を固定化した。
その後、実施例の基板は10mg/mlの無水コハク酸(和光純薬製:194−04352)水溶液に1時間処理することにより残りのオキシルアミンを失活させた。
比較例の基板は0.1mol/リットルのエタノールアミン(和光純薬製、鹿特級)、0.1mol/リットルのトリスバッファ(SIGMA製)水溶液(pH9.5)に1時間浸漬することにより残りの活性エステル部を失活させた。
その後、PBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を純水1リットル中に9.6gを溶解したバッファ)で10%に希釈したFBS(子牛血清)溶液を作製した。この溶液中に抗原であるマウス IgG2aを添加し20nmol/リットルとした溶液を作製した。この溶液を37℃にて2時間、各基板と接触させることにより抗原抗体反応を実施した。抗原抗体反応後0.05wt%の非イオン性界面活性剤Tween20(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製)を添加した1×SSCバッファ(Zymed Laboratories, Inc.製SSC20×Bufferを希釈して使用)で室温にて5分間洗浄した。
洗浄後、二次抗体であるビオチン標識抗マウスIgG2aをPBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を純水1リットル中に9.6gを溶解したバッファ)に添加することにより20nmol/リットルの溶液を作製した。この溶液と各基板とを37℃にて2時間、抗原抗体反応を実施した。抗原抗体反応後0.05wt%の非イオン性界面活性剤Tween20(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製)を添加した1×SSCバッファ(Zymed Laboratories, Inc.製SSC20×Bufferを希釈して使用)で室温にて5分間洗浄した。
最後にCy5標識されたストレプトアビジンをPBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を純水1リットル中に9.6gを溶解したバッファ)に添加することにより20nmol/リットルの溶液を作製した。この溶液と基板とを37℃にて30分反応させた後、0.05wt%の非イオン性界面活性剤Tween20(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製)を添加した1×SSCバッファ(Zymed Laboratories, Inc.製SSC20×Bufferを希釈して使用)で室温にて5分間洗浄することにより標識化をした。
実施例は、いずれの比較例よりもスポットシグナル値が強く、S/N比が大きい結果になった。
Claims (16)
- 少なくとも、ホスホリルコリン基を有するユニット、疎水性基を有するユニット及び一級アミノ基を有するユニットを含むバイオアッセイ用高分子化合物であって、
該バイオアッセイ用高分子化合物が、下記一般式[1](式中R1R2、R3は水素原子ま
たはメチル基を、R4は疎水性基を示す。Xは炭素数1〜10のアルキレンオキシ基を示し、pは1〜20の整数を示す。pが2以上20以下の整数である場合、繰り返されるXは、同一であっても、または異なっていてもよい。Yはアルキレングリコール残基を含むスペーサーであり、Z は酸素原子またはNHである。l、m、nは自然数である。)で
表され、
前記一般式[1]において、Yが下記一般式[2]または[3](式中q、rは1〜20の整数である。)であり、疎水性基がアルキル基であることを
特徴とするバイオアッセイ用高分子化合物。
- 前記一級アミノ基がオキシルアミノ基及び/ またはヒドラジド基である請求項1記載の
バイオアッセイ用高分子化合物。 - 高分子化合物の主鎖が(メタ)アクリル骨格である請求項1又は2記載のバイオアッセイ用高分子化合物。
- 前記一般式[1]において、Xがエチレンオキシ基である請求項1記載のバイオアッセイ用高分子化合物。
- 前記一般式[1]において、R4がアルキル基である請求項1又は4記載のバイオアッセイ用高分子化合物。
- 前記アルキル基の炭素数が2〜10である請求項5記載のバイオアッセイ用高分子化合物。
- 請求項1〜6いずれか記載のバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法であって、少なくとも、ホスホリルコリン基を有するモノマー、疎水性基を有するモノマー、及び一級アミノ基を予め保護基にて保護したモノマーとをラジカル共重合する工程、該工程により得られた高分子化合物から前記保護基を除去する工程、を含むことを特徴とするバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法。
- 請求項1〜7いずれか記載のバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法であって、少なくとも、ホスホリルコリン基を有するモノマー、疎水性基を有するモノマー、及び一級アミノ基を導入しうる官能基を有するモノマーをラジカル共重合する工程、該工程により得られた高分子化合物の前記官能基に一級アミノ基を導入する工程、を含むバイオアッセイ用高分子化合物の製造方法。
- 請求項1〜5いずれか記載のバイオアッセイ用高分子化合物を含む表面コーティング材料。
- 請求項9記載の表面コーティング材料を含む層を基材の表面に形成したバイオアッセイ用基材。
- 前記基材の形状が、スライド形状基板、96穴プレート、容器、マイクロフルイディスク基板のいずれかである請求項10記載のバイオアッセイ用基材。
- 前記基材の材質がプラスチック製である請求項10または11記載のバイオアッセイ用基材。
- 前記プラスチックが飽和環状ポリオレフィンまたはポリスチレンを含むものである請求項12記載のバイオアッセイ用基材。
- 請求項10〜13いずれか記載のバイオアッセイ用基材に生理活性物質を固定化したバイ
オアッセイ用基材。 - 前記生理活性物質が糖、糖鎖、及びこれらを有する生理活性物質から選ばれる少なくとも一つである請求項14記載のバイオアッセイ用基材。
- 前記生理活性物質が糖ペプチド又はまたは抗体である請求項15記載のバイオアッセイ用基材。
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