JP4842370B2 - 真空装置、基板搬送方法 - Google Patents

Description

本発明は、真空装置の技術分野にかかり、特に、基板を鉛直に近い角度に立てて搬送する装置を有する真空装置に関する。

従来では、基板搬送ロボットのハンド上に水平姿勢の基板を乗せ、ハンドを伸縮させて水平姿勢のまま基板を搬送したり、回転軸線を水平に配置した複数のローラ上に水平姿勢の基板を乗せ、ローラを回転させて基板の水平姿勢を維持しながら搬送していた。
しかし、このような真空装置では、基板が大型化すると大きな設置面積が必要となる。

そこで近年では、基板を水平姿勢にせずに搬送する真空装置が提案されており、例えば枠体に嵌め込んで鉛直姿勢にして搬送したり、真空槽底壁上に搬送ローラを一列に配置し、搬送ローラ上に基板を立てて乗せ、搬送ローラを回転させてほぼ鉛直姿勢で基板を搬送する技術が提案されている。

しかし、基板を鉛直姿勢で搬送する際、搬送ローラから脱落する虞がある。脱落防止のために、搬送ローラの側面に凹溝を設けることも考案されているが、凹溝を設けると、搬送中の基板が凹溝の壁部に衝突し、基板が破損する虞がある。
特開平１０−２６５０１８号公報

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板を略鉛直姿勢で搬送できる搬送装置を提供することにある。
特に、大型で薄い基板を搬送する際に、基板を破損させずに略鉛直姿勢で搬送できる搬送装置を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明は、真空槽と、前記真空槽内の底壁側に位置し、一の搬送直線が伸びる方向に沿って配置された複数の搬送ローラと、前記真空槽内の天井側に位置し、前記搬送直線が伸びる方向に沿って配置された複数の上部ローラと、前記搬送ローラを回転軸線を中心にそれぞれ回転させる回転装置とを有し、前記搬送ローラは、前記回転軸線が互いに平行に配置され、側面が同一の前記搬送直線と接触するように配置され、基板が、鉛直軸線から所定の傾き角度傾けられ、前記搬送直線に沿った方向に向けられた搬送姿勢で、前記搬送ローラの側面上に乗せられたときに、前記上部ローラは、前記基板の表面のうち、下方を向く下表面に側面が接触する位置に配置され、前記搬送ローラが回転し、前記搬送ローラ上の前記基板が前記搬送姿勢を維持しながら前記搬送直線に沿った方向に移動する際に、前記上部ローラは、前記基板の前記下表面の上部と接触しながら回転するように構成された真空装置であって、複数の下部ローラと、複数の押圧ローラと、バネから成る押圧機構とを有し、前記下部ローラの回転軸線の位置は、前記真空槽に対して静止され、前記押圧ローラは、前記押圧機構によって押し戻し可能に前記下部ローラに押圧され、前記下部ローラは、側面が、前記搬送ローラ上で前記搬送姿勢の前記基板の前記下表面の下部と接触可能な位置に配置され、前記基板が前記搬送姿勢で前記搬送ローラ上を移動すると、前記基板は前記押圧ローラを押し戻して前記下部ローラと前記押圧ローラの間に挿入され、前記基板は前記下部ローラと前記押圧ローラで挟まれ、前記下部ローラと前記押圧ローラを回転させながら移動するように構成された真空装置である。
また、本発明は、前記搬送ローラの前記回転軸線は水平面から所定の傾き角度傾けられ、前記下部ローラの側面と前記上部ローラの側面は、前記搬送直線を含み、前記傾き角度傾いた一の平面と接触する位置に配置された真空装置である。
また、本発明は、前記上部ローラは、該上部ローラの回転軸線が鉛直軸線から前記傾き角度傾けられ、前記搬送ローラは、該搬送ローラの回転軸線が、水平面から前記傾き角度傾けられた真空装置である。
また、本発明は、前記搬送ローラ上の前記基板の前記下表面と対向する位置には、前記基板を加熱する加熱装置が設けられた真空装置である。
また、本発明は、前記搬送ローラ上の前記基板の上方を向いた上表面と対向する位置にはターゲットが配置された真空装置である。
また、本発明は、前記真空槽には、スパッタリングガス供給系が接続され、前記ターゲットにはスパッタ電源が接続された真空装置である。
また、本発明は、回転軸線が水平面から所定の傾き角度傾けられた搬送ローラを一の搬送直線が伸びる方向に沿って複数個配置し、前記搬送ローラよりも上方位置に、複数の上部ローラを配置し、少なくとも二個以上の前記搬送ローラの側面に基板の下端の一辺を接触させ、前記基板を鉛直方向から所定の傾き角度傾いた搬送姿勢で配置し、前記搬送姿勢の前記基板の下方向を向く下表面の上部を、前記上部ローラの側面と接触させ、前記搬送ローラと前記上部ローラが回転しながら前記基板が前記搬送姿勢で搬送されるようにする基板搬送方法であって、前記搬送ローラ上で前記搬送姿勢にある前記基板の前記下表面の下部と接触可能な位置に、前記搬送直線が伸びる方向に沿って複数の下部ローラを配置し、前記基板の前記下表面を、上方を向いた前記基板の上表面よりも高温に加熱し、前記下表面が凸、反対側の面が凹になるようにし、前記基板の前記上表面の下部と接触可能な位置に、前記下部ローラ方向に付勢力が与えられた押圧ローラを配置し、前記搬送ローラ上を移動する前記基板の下部を前記押圧ローラと接触させ、前記基板が前記下部ローラと前記押圧ローラの間に入り込む際に、前記基板の前記上表面の下部を前記押圧ローラで前記下部ローラ方向に押圧し、前記基板の下端を前記下部ローラと前記押圧ローラとで挟みながら前記基板を移動させる基板搬送方法である。

本発明は上記のように構成されており、搬送ローラの回転軸線が鉛直であると基板を乗せることができないから、回転軸と水平面との成す角度は、０°以上であって最大でも９０°未満である。搬送ローラの回転軸線と水平面とのなる角度は、基板の傾き角度θ(一例として、２°〜５°の角度)と同じ角度にすることができる。
搬送ローラ上の基板が下部ローラの側面と接触していないときには、下部ローラの側面と押圧ローラの側面とは接触しており、その状態から、搬送ローラ上で傾き角度傾いた基板が近づき、基板の下表面が下部ローラの側面と接する際には、基板は押圧ローラの側面の外周付近と衝突し、押圧ローラを押しのけ、下部ローラの側面と押圧ローラの側面の間に挿入される。
この状態では、基板は下部ローラと押圧ローラに挟まれた状態になる。

押圧ローラには、押圧ローラを下部ローラに押しつける力が押圧機構によって印加されており、押圧ローラは、基板を下部ローラ方向に押圧し、基板を下部ローラ側面に押しつける。
この基板は上部ローラの側面にも接触しており、基板が上部ローラの側面と下部ローラの側面と接触していれば、基板は鉛直方向から傾き角度θ傾いて搬送ローラの側面上に乗っている状態が維持されるので、基板が搬送ローラ上から滑り落ちることがない。

基板が鉛直方向から傾き角度θ傾いて搬送ローラの側面上に乗り、搬送ローラの回転によって、その状態で移動するときに、基板の移動に伴って、上部ローラと、下部ローラと、押圧ローラが、基板表面と摺動せずに回転するように、上部ローラと下部ローラと押圧ローラは配置されている。これにより、基板が傷ついたり、ダストが生じない。

搬送ローラ上で傾き角度θ傾いた基板が、同一平面内に位置する状態で水平方向に移動する場合、上部ローラと下部ローラと押圧ローラの回転軸線は、基板の移動方向と垂直な方向に沿って、且つ、鉛直方向から傾き角度θ傾いた方向に配置しておくと、ローラと基板表面が摺動しない。
上部ローラの回転軸線の伸びる方向と、下部ローラの回転軸線の伸びる方向は、搬送ローラの回転軸線が伸びる方向と垂直である。

水平搬送ではなく、鉛直に近い姿勢で基板を搬送するため、大型基板を搬送する場合であっても真空装置の設置スペースが少なくてすむ。押圧ローラと下部ローラで基板を挟んで押さえるから、基板が搬送ローラから脱落しない。基板は下部ローラに衝突しないので破損しない。キャリアを用いなくても基板を搬送可能である。

真空装置を説明するための内部概略斜視図 基板を搬送ローラに乗せた状態を示す内部概略斜視図 基板を搬送ローラに乗せた状態を示す断面図 （ａ）、（ｂ）：搬送ローラと、上部ローラと、基板との位置関係を説明する側面図 脱落防止装置と、上部ローラの位置関係を説明する側面図 （ａ）、（ｂ）：脱落防止装置を説明する側面図 脱落防止装置で位置決めされた状態を示す拡大側面図 真空装置を説明するためのブロック図 （ａ）従来の搬送ローラを説明するための断面図、（ｂ）本願に用いる搬送ローラを説明するための断面図 基板の曲がり方を説明するための図

符号の説明

７……基板 ２０……真空装置 ２１……真空槽 ２３……搬送ローラ ２５……回転装置 ３３……下部ローラ ３７……押圧機構 ３８……押圧ローラ ４５……上部ローラ ｃ……搬送直線 ｄ……回転軸線

図８は、真空装置１のブロック図である。
この真空装置１は、搬入室１１と、加熱室１２と、真空装置２０と、搬出室１４とを有している。搬入室１１と、加熱室１２と、真空装置２０と、搬出室１４には、それぞれ真空排気系１９ａ〜１９ｄが接続されており、個別に真空排気できるように構成されている。

搬入室１１と、加熱室１２と、真空装置２０と、搬出室１４はこの順序で接続されており、搬入室１１内に配置された基板は、加熱され、真空装置２０内で処理された後、搬出室１４から搬出されるように構成されている。

図１は、真空装置２０を説明するための内部概略斜視図である。
この真空装置２０は真空槽２１を有しており、真空槽２１の底壁上には、複数の搬送ローラ２３が配置され、搬送ローラ２３間には、脱落防止装置３０が配置されている。

搬送ローラ２３を含む各ローラは、略円盤状であるか、又は略円筒形状であり、円盤又は円筒の底面の中心を通る回転軸線を中心に回転し、側面が円運動するように構成されている。円筒形状が二底面と、該二底面の外周に接続されているリング状の側面で構成されているものとすると、本発明では、搬送ローラ２３等のローラの側面はリング状の円周側面を指している。

各搬送ローラ２３の回転軸線ｄは、水平面ｈから所定の傾き角度θだけ傾いて、互いに平行に配置されている（図４（ａ））。
各搬送ローラ２３の中心は同一の直線上に配置されている。各搬送ローラ２３は、同じ直径、同じ厚みの円盤で構成されており、従って、各搬送ローラ２３の側面の上部は、同じ直線と接するようになっている。

この直線を搬送直線と呼ぶと、図１の符号ｃはその搬送直線を示しており、搬送直線ｃの方向は、各搬送ローラ２３の回転軸線ｄが伸びる方向と直交している。
この真空装置２０で処理する基板は長方形又は正方形等の四辺形状であり、基板の表面は、基板の両面(表の面と裏の面)の他、基板の厚みを構成する四個の側面の合計六面を有している。

鉛直軸線から傾き角度θだけ搬送ローラ２３と同じ方向に傾けられ、搬送直線に沿った方向に向けられた基板７の姿勢を、搬送姿勢と呼ぶと、搬送姿勢の基板７は、四側面のうちの一側面を下方に向けて搬送直線と一致させ、搬送ローラ２３の上端と接触させることができる。

図２は、搬送姿勢の基板７が搬送ローラ２３上に乗せられた状態を示しており、搬送ローラ２３は、搬送姿勢の基板７が複数の搬送ローラ２３の側面と接触し、搬送ローラ２３上から脱落しないように構成されている。
搬送ローラ２３の上方位置には、上下方向に向けられた上部主柱４１が配置されている。上部主柱４１の上端は、真空槽２１の天井に固定されており、下端には、上部ローラ４５が回転可能に取り付けられている。

搬送姿勢の基板７の両面(六面から四側面を除いた二面)のうち、下方(真空槽２１底面方向)を向く表面を下表面４７、上方(真空槽天井方向)を向く表面を上表面４８とすると、上部ローラ４５は、その側面が、搬送ローラ２３上で搬送姿勢にある基板７の下表面４７の上部縁付近と接触するように配置されている（図３）。

上部主柱４１の上端は、真空槽２１に固定されている。従って、図３に示すように、搬送ローラ２３上に搬送姿勢で乗せられ、上部ローラ４５の側面と接触する基板７は上部ローラ４５に寄りかかり、上部ローラ４５によって転倒しないように支持されている。

搬送ローラ２３には、回転装置２５が接続されており、搬送姿勢の基板７を乗せた状態で、同じ方向に回転すると、基板７は搬送直線ｃに沿った方向(搬送直線と平行な方向)に移動される。
ここでは、上部ローラ４５の回転軸線ｅと上部主柱４１の中心軸線とは一致するように配置されている（図４（ａ））。

また、上部ローラ４５の回転軸線ｅ(及び上部支柱の中心軸線)は、搬送ローラ２３の水平面ｈからの傾きと同じ傾き角度θだけ鉛直軸線ｖから傾けられ、且つ、上部ローラ４５(及び後述する下部ローラ)の回転軸線ｅが伸びる方向は、搬送ローラ２３の回転軸線ｄが伸びる方向と垂直にされ、搬送直線ｃが伸びる方向とも垂直にされている(上部ローラ４５及び後述の下部ローラの回転軸線ｅと、搬送ローラ２３の回転軸線ｄと、搬送直線ｃとが伸びる方向は、それぞれ垂直である)。
基板７が搬送姿勢で搬送直線ｃに沿った方向に移動すると、基板７の下表面４７は、同一平面に位置する状態で移動する。

図４（ａ）の符号αは基板７の下表面が位置する下平面を示しており、下平面αは搬送ローラ２３の円周側面と交差している。上部ローラ４５はその側面が下平面αと接触するように位置している。従って、基板７が搬送姿勢で搬送直線ｃに沿った方向に移動すると、図４（ｂ）に示すように、基板７の表面のうち、下表面４７が上部ローラ４５の側面と接触し、上部ローラ４５は、摺動せずに、基板７の移動に伴って回転する。

なお、搬送ローラ２３と搬送ローラ２３の間隔と、上部ローラ４５と上部ローラ４５の間隔は、基板７が移動する際に、少なくとも二個以上の搬送ローラ２３と、少なくとも二個以上の上部ローラ４５が、移動中の基板７に接触するように構成されており、従って、基板７が搬送ローラ２３と搬送ローラ２３の間に落下したり、上部ローラ４５の背面に転倒しないようになっている。

ここで、基板７はガラス製であり、撓んだり、移動方向がずれたりすると、基板７は搬送ローラ２３上から脱落し、落下してしまう。本発明の真空装置２０では、搬送ローラ２３と搬送ローラ２３の間に脱落防止装置３０が配置され、搬送ローラ２３上の基板７は、脱落防止装置３０によって搬送ローラ２３から脱落しないように構成されている。

次に、脱落防止装置３０について説明する。脱落防止装置３０は、図５、図６（ａ）、（ｂ）に示すように、下部主柱３１と、下部ローラ３３を有している。
下部主柱３１は上下方向に向けられ、下端が真空槽２１の底壁上に固定されており、上端には下部ローラ３３が回転可能に設けられている。

下部ローラ３３の回転軸線ｆは、鉛直軸線ｖから傾き角度θ(搬送ローラ２３の水平線ｈからの傾き角度θと同じ値)だけ傾けられている（図５）。
下部主柱３１と下部ローラ３３は、搬送姿勢の基板７の下表面４７の側に配置されている。下部主柱３１には、腕部材３５を介して、支柱３７が設けられている。

腕部材３５は、搬送ローラ２３上の搬送姿勢の基板７の上方(天井方向)を向く上表面４８側にまで突き出されおり、その先端には、下部主柱３１と略平行に、支柱３７が立設されている。
腕部材３５は、搬送ローラ２３上の基板７よりも下方に位置しており、腕部材３５と支柱３７は搬送ローラ２３上を搬送姿勢で移動する基板７とは衝突しないように構成されている。
支柱３７の上端には、押圧ローラ３８が回転可能に設けられている。
腕部材３５には、ばね等の押圧機構（不図示）が設けられている。押圧ローラ３８には、押圧機構によって下部ローラ３３が位置する方向に向いた力が加えられている。

下部ローラ３３は、その側面が基板７の下表面４７が位置する平面（下平面α）と接するように配置されており、押圧ローラ３８には、押圧機構によって、下部ローラ３３の側面の、基板７と接触する部分の方向に向けて押圧されている。
下部ローラ３３が基板７と接触していない状態では、図６(ａ)に示すように、押圧ローラ３８の側面は押圧されて下部ローラ３３の側面と接触しているか、又は、押圧ローラ３８の側面と下部ローラ３３の側面は、基板７の厚みよりも狭い間隔で離間していてもよい。

搬送ローラ２３上で搬送姿勢の基板７が上部ローラ３３に寄りかかって、搬送直線ｃに沿った方向に移動し、下部ローラ３３に押しつけられた押圧ローラ３８に近づくと、基板７の先端の側面は、先ず、押圧ローラ３８に衝突し、更に移動すると、押圧ローラ３８に、押圧機構から印加されている力と反対向きの力を与え、押圧ローラ３８を基板７の厚み分だけ押し戻し、押圧ローラ３８と下部ローラ３３の間に入り込む（図７）。

この状態では、基板７は下部ローラ３３と押圧ローラ３８によって挟まれ、基板７の下表面４７は下部ローラ３３と接触しており、その接触部分の基板７の真裏位置に、押圧ローラ３８の側面が押しつけられており、従って、押圧ローラ３８が元の位置に戻ろうとする復元力によって、基板７は下部ローラ３３に押しつけられている。

基板７が下部ローラ３３と押圧ローラ３８で挟まれた状態では、押圧ローラ３８の回転軸線ｇは、下部ローラ３３の回転軸線ｆと平行になるように構成されており（図６（ｂ））、従って、搬送ローラ２３上に乗った搬送姿勢の基板７が、上部ローラ４５に寄りかかりながら搬送直線ｃ方向に移動すると、下部ローラ３３と押圧ローラ３８は、基板７の下表面４７と上表面４８にそれぞれ接触しながら摺動せずに回転し、これにより、基板７の下部は、下部ローラ３３との接触が維持され、基板７が搬送ローラ２３上から脱落しない。
上記各ローラ(搬送、上部、下部、押圧ローラ)と押圧機構は、加熱室１２内にも設けられており、搬入室１１内に配置された基板７は、搬送姿勢で加熱室１２内に移動される。

図１０に示すように、加熱室１２には、加熱装置２２が配置されており、搬送姿勢の基板７の下平面に赤外線を放射し、基板７を、搬送ローラ２３に乗った状態で加熱するように構成されている。
この加熱により、基板７は、下表面４７が上表面４８よりも高温に加熱され、基板７表面の伸び量の差により、下表面４７側が凸、上表面４８側が凹になるように少し曲げられる。

曲げられた搬送姿勢の基板７が、搬送ローラ２３上を走行し、真空槽２１内で基板７の移動方向先端部分が押圧ローラ３８と衝突するとき、基板７の曲がりによって、先端部分は下部ローラ３３とは接触せず、押圧ローラ３８が基板７の先端部分の上表面４８と接触し、押圧ローラ３８が押し戻されるときに押圧ローラ３８に付勢力が与えられ、押圧ローラ３８によって基板７の先端部分が下部ローラ３３方向に押圧され、曲げが解消されて下部ローラ３３と接触するようになっている。

ここでは、真空装置２０はスパッタリング装置であり、図３に示すように、真空槽２１の内部に搬送姿勢で搬入された基板７の上表面４８側にはターゲット２８が配置されており、下表面４７側には加熱装置２６が配置されている。ターゲット２８は、バッキングプレート２８ａ上に板状のターゲット材料２８ｂが配置されて構成されている。基板７の成膜面は、上表面４８であり、成膜面はターゲット２８のターゲット材料２８ｂの表面と平行になっている。

真空槽２１にはガス供給系２７が接続され、ターゲット２８のバッキングプレート２８ａにはスパッタ電源２９が接続されている。
真空槽２１内を真空排気し、ガス供給系２７からＡｒガス等のスパッタリングガスを導入し、真空槽２１内を所定圧力にし、スパッタ電源２９によってターゲット２８に電圧を印加すると、ターゲット２８表面近傍にプラズマが形成され、ターゲット材料２８ｂの表面がスパッタリングされる。

基板７を搬送姿勢にし、各ローラと回転装置２５、及び脱落防止装置３０により、成膜面をターゲット２８と平行にしながら移動させると、基板７の成膜面に薄膜が成長される。
基板７は搬送姿勢の状態で、搬出室１４内に移動され、大気に取り出される。

以上説明したように、本発明の真空装置２０では、搬送ローラ２３上の基板７は、脱落防止装置３０によって搬送ローラ２３上に保持されているので、従来技術では、図９(ａ)に示すように、搬送ローラ１２３の側面に凹溝１２５を形成し、凹溝１２５底面上に基板１０７を乗せ、脱落を防止していたが、本発明では、同図(ｂ)に示すように、搬送ローラ２３に凹溝１２５を形成する必要が無いので、基板７が凹溝１２５の壁部１２９に衝突する虞がない。

また、本発明の真空装置２０の搬送ローラ２３に、図９（ａ）に示したような凹溝１２５を設けることもできる。
基板７が搬送ローラ１２３の厚み方向中央に乗るように、搬送ローラ１２３に対する上部ローラ４５の相対的な位置関係を決めておけば、その位置から基板７がずれないように脱落防止装置３０で位置決めされるから、基板７が凹溝１２５の壁部１２９にぶつかることがない。

Claims (7)

1. 真空槽と、
   前記真空槽内の底壁側に位置し、一の搬送直線が伸びる方向に沿って配置された複数の搬送ローラと、
   前記真空槽内の天井側に位置し、前記搬送直線が伸びる方向に沿って配置された複数の上部ローラと、
   前記搬送ローラを回転軸線を中心にそれぞれ回転させる回転装置とを有し、
   前記搬送ローラは、前記回転軸線が互いに平行に配置され、側面が同一の前記搬送直線と接触するように配置され、
   基板が、鉛直軸線から所定の傾き角度傾けられ、前記搬送直線に沿った方向に向けられた搬送姿勢で、前記搬送ローラの側面上に乗せられたときに、前記上部ローラは、前記基板の表面のうち、下方を向く下表面に側面が接触する位置に配置され、
   前記搬送ローラが回転し、前記搬送ローラ上の前記基板が前記搬送姿勢を維持しながら前記搬送直線に沿った方向に移動する際に、前記上部ローラは、前記基板の前記下表面の上部と接触しながら回転するように構成された真空装置であって、
   複数の下部ローラと、複数の押圧ローラと、バネから成る押圧機構とを有し、
   前記下部ローラの回転軸線の位置は、前記真空槽に対して静止され、
   前記押圧ローラは、前記押圧機構によって押し戻し可能に前記下部ローラに押圧され、
   前記下部ローラは、側面が、前記搬送ローラ上で前記搬送姿勢の前記基板の前記下表面の下部と接触可能な位置に配置され、前記基板が前記搬送姿勢で前記搬送ローラ上を移動すると、前記基板は前記押圧ローラを押し戻して前記下部ローラと前記押圧ローラの間に挿入され、前記基板は前記下部ローラと前記押圧ローラで挟まれ、前記下部ローラと前記押圧ローラを回転させながら移動するように構成された真空装置。
2. 前記搬送ローラの前記回転軸線は水平面から所定の傾き角度傾けられ、
   前記下部ローラの側面と前記上部ローラの側面は、前記搬送直線を含み、前記傾き角度傾いた一の平面と接触する位置に配置された請求項１記載の真空装置。
3. 前記上部ローラは、該上部ローラの回転軸線が鉛直軸線から前記傾き角度傾けられ、
   前記搬送ローラは、該搬送ローラの回転軸線が、水平面から前記傾き角度傾けられた請求項１記載の真空装置。
4. 前記搬送ローラ上の前記基板の前記下表面と対向する位置には、前記基板を加熱する加熱装置が設けられた請求項１記載の真空装置。
5. 前記搬送ローラ上の前記基板の上方を向いた上表面と対向する位置にはターゲットが配置された請求項１記載の真空装置。
6. 前記真空槽には、スパッタリングガス供給系が接続され、前記ターゲットにはスパッタ電源が接続された請求項５記載の真空装置。
7. 回転軸線が水平面から所定の傾き角度傾けられた搬送ローラを一の搬送直線が伸びる方向に沿って複数個配置し、
   前記搬送ローラよりも上方位置に、複数の上部ローラを配置し、
   少なくとも二個以上の前記搬送ローラの側面に基板の下端の一辺を接触させ、前記基板を鉛直方向から所定の傾き角度傾いた搬送姿勢で配置し、
   前記搬送姿勢の前記基板の下方向を向く下表面の上部を、前記上部ローラの側面と接触させ、
   前記搬送ローラと前記上部ローラが回転しながら前記基板が前記搬送姿勢で搬送されるようにする基板搬送方法であって、
   前記搬送ローラ上で前記搬送姿勢にある前記基板の前記下表面の下部と接触可能な位置に、前記搬送直線が伸びる方向に沿って複数の下部ローラを配置し、前記基板の前記下表面を、上方を向いた前記基板の上表面よりも高温に加熱し、前記下表面が凸、反対側の面が凹になるようにし、
   前記基板の前記上表面の下部と接触可能な位置に、前記下部ローラ方向に付勢力が与えられた押圧ローラを配置し、前記搬送ローラ上を移動する前記基板の下部を前記押圧ローラと接触させ、前記基板が前記下部ローラと前記押圧ローラの間に入り込む際に、前記基板の前記上表面の下部を前記押圧ローラで前記下部ローラ方向に押圧し、前記基板の下端を前記下部ローラと前記押圧ローラとで挟みながら前記基板を移動させる基板搬送方法。

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