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JP4844256B2 - Organic electroluminescence device - Google Patents
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Description

本発明は、情報表示端末などのディスプレイとして幅広い用途が期待される有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子とする)基板とその製造方法に関する。特に、光の取り出し方向が基板と反対側であるトップエミッション型の有機EL素子とその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element (hereinafter, referred to as organic EL element) substrate that is expected to be widely used as a display such as an information display terminal, and a method for manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a top emission type organic EL element having a light extraction direction opposite to a substrate and a manufacturing method thereof.

有機EL素子は、発光物質を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、前記薄膜に電子および正孔(ホール)を注入して再結合させることにより励起子(エキシトン)を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・燐光)を利用して発光させる素子である。   An organic EL device has a structure in which a thin film containing a luminescent material is sandwiched between a cathode and an anode, and excitons (excitons) are generated by injecting electrons and holes into the thin film and recombining them. The device emits light by utilizing light emission (fluorescence / phosphorescence) when the exciton is deactivated.

この有機EL素子の特徴は、10V以下の低電圧で100〜100000cd/m程度の高輝度の面発光が可能であり、また発光物質の種類を選択することにより青色から赤色までの発光が可能なことである。 The characteristics of this organic EL element are that it can emit surface light with a high luminance of about 100 to 100,000 cd / m 2 at a low voltage of 10 V or less, and can emit light from blue to red by selecting the type of luminescent material. It is a thing.

有機EL素子は、安価な大面積フルカラー表示素子を実現するものとして注目を集めている(非特許文献1)。報告によると、強い蛍光を発する有機色素を発光層に使用し、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の明るい発光を得ている。これは、薄膜状で強い蛍光を発し、ピンホール欠陥の少ない有機色素を用いたことで、高輝度なフルカラー表示を実現できたと考えられている。   Organic EL elements are attracting attention as a means for realizing inexpensive large-area full-color display elements (Non-Patent Document 1). According to reports, organic dyes that emit strong fluorescence are used in the light emitting layer, and bright red (R), green (G), and blue (B) light emission is obtained. This is considered to have realized a high-luminance full-color display by using an organic dye that emits strong fluorescence in a thin film state and has few pinhole defects.

さらに特許文献1には、有機発光層の成分が有機電荷材料と有機発光材料の混合物からなる薄膜層を設け、濃度消光を防止して発光材料の選択幅を広げ、高輝度なフルカラー素子とする旨が提案されている。   Further, Patent Document 1 provides a thin film layer in which a component of the organic light emitting layer is a mixture of an organic charge material and an organic light emitting material, prevents concentration quenching, widens the selection range of the light emitting material, and provides a high-luminance full-color element. The effect is proposed.

有機EL材料は大きく分けて、低分子系材料と高分子材料の2種類が挙げられ、低分子系材料は一般的に蒸着法によって積層されるが、大型基板に対応した蒸着装置やアライメント精度の点から、大型化は困難である。   Organic EL materials can be broadly divided into two types: low molecular weight materials and high molecular weight materials. Low molecular weight materials are generally deposited by vapor deposition, but the vapor deposition equipment and alignment accuracy for large substrates are used. In terms of size, it is difficult to increase the size.

そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に溶かしてインクとし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、有機EL素子をディスプレイとして使用するべく、高精細にパターニングしたりRGB3色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分けパターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。実際にこれらの印刷法の試みとして、インクジェット印刷による方法(特許文献2)、凸版印刷による方法(特許文献3)などが提唱されている。   Therefore, recently, a method of using a polymer material as an organic light emitting material, dissolving the organic light emitting material in a solvent to form an ink, and forming a thin film by a wet coating method has been tried. As the wet coating method for forming a thin film, there are a spin coating method, a bar coating method, a protruding coating method, a dip coating method, etc., but in order to use an organic EL element as a display, it is patterned with high definition or RGB three colors. In order to paint differently, these wet coating methods are difficult, and it is considered most effective to form a thin film by a printing method that is good at painting patterning. Actually, as a trial of these printing methods, a method using ink jet printing (Patent Document 2), a method using letterpress printing (Patent Document 3), and the like have been proposed.

また、有機EL素子は光の取出し方向により、ボトムエミッション型とトップエミッション型に分けられる。ボトムエミッション型は基板側から光を取り出すのに対し、トップエミッション型は基板と反対側から光を取り出す方式である。
特開平5−78655号公報 特開平10−012377号公報 特開2001−155858号公報 電子情報通信学会技術報告、第89巻、NO.106、49ページ、1989年
The organic EL element is classified into a bottom emission type and a top emission type depending on the light extraction direction. The bottom emission type takes out light from the substrate side, whereas the top emission type takes out light from the side opposite to the substrate.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-78655 JP-A-10-012377 JP 2001-155858 A IEICE Technical Report, Volume 89, NO. 106, 49 pages, 1989

有機発光材料をインキ化し、各画素ごとに異なる色に発光する有機発光層を形成する場合、異なる色のインキ同士が混ざらないようにすること、ショート抑制のため陽極端部を被覆することを目的として画素電極間に隔壁を設ける必要がある。一般的に有機発光材料は溶剤に対して溶解性が悪く、有機発光材料を溶剤に溶解又は分散させた有機発光インキの濃度は1〜5wt%程度と低い。このような低濃度の有機発光インキを用いて隔壁によって区画された画素領域へインキを配置する場合、各画素に必要な量の有機発光材料を供給するためには、インキを区画された画素領域内に大量に供給する必要がある。したがって、隔壁を低くした場合には、隔壁をまたいで異なる発光色を有する画素領域にインキが侵入し、混色が発生してしまい、有機EL素子のディスプレイとしての品質を低下してしまう。区画された画素領域に大量のインキを供給しても隣接する画素へインキが侵入するのを防ぐために隔壁の高さを十分に高くする必要があった。   When organic light-emitting materials are converted into ink and organic light-emitting layers that emit light in different colors are formed for each pixel, the purpose is to prevent inks of different colors from mixing with each other and to cover the anode end to prevent short circuits. It is necessary to provide a partition between the pixel electrodes. Generally, the organic light emitting material has poor solubility in a solvent, and the concentration of the organic light emitting ink obtained by dissolving or dispersing the organic light emitting material in the solvent is as low as about 1 to 5 wt%. In order to supply the necessary amount of organic light-emitting material to each pixel, when the ink is arranged in the pixel area partitioned by the partition using such a low concentration organic light-emitting ink, the pixel area partitioned by the ink is used. It is necessary to supply a large amount inside. Therefore, when the partition walls are lowered, ink enters pixel regions having different emission colors across the partition walls, color mixing occurs, and the quality of the organic EL element as a display is degraded. Even when a large amount of ink is supplied to the partitioned pixel area, it is necessary to sufficiently increase the height of the partition wall in order to prevent ink from entering the adjacent pixels.

また、基板と、当該基板上に少なくとも画素電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、対向電極が形成された有機EL素子基板においては、素子基板内部、特に有機発光層への水分および酸素の侵入を防ぐため封止がおこなわれる。光の取出し方向が基板側であるボトムエミッション型の有機EL素子の場合、ディスプレイとして表示に用いる有効画素部分に合わせて凹部を設けたガラスまたは金属キャップ(封止キャップ)を用い、有機EL素子基板に形成された有効画素の周辺部と接着剤を介して貼りあわせることにより封止をおこない有機EL素子を形成していた。また、封止キャップ内部には乾燥剤、酸素吸収剤などが設けられていた。   Further, in an organic EL element substrate in which a substrate, an organic light emitting medium layer including at least a pixel electrode, an organic light emitting layer, and a counter electrode are formed on the substrate, moisture and oxygen inside the element substrate, in particular, the organic light emitting layer Sealing is performed to prevent intrusion. In the case of a bottom emission type organic EL element in which the light extraction direction is the substrate side, an organic EL element substrate using a glass or metal cap (sealing cap) provided with a recess in accordance with an effective pixel portion used for display as a display The organic EL element was formed by sealing by bonding the peripheral portion of the effective pixel formed in the above through an adhesive. In addition, a desiccant, an oxygen absorbent, and the like were provided inside the sealing cap.

これに対し、光の取出し方向が基板と反対側であるトップエミッション方式の場合、透光性を有する封止基材を用いて封止される。この場合、透光性を有する接着剤を使用すれば、透光性を有する封止基材と、有機EL素子基板の対向電極形成面の全面とを貼り合わせることができ、封止をより確実に行うことができる。また、必要に応じて、水分の素子基板内部への侵入を防ぐことを目的として、有機EL素子基板の対向電極形成面の全面、または封止基材全面に水蒸気バリア層として無機薄膜を蒸着などの真空成膜法で設けることができる。   On the other hand, in the case of the top emission method in which the light extraction direction is opposite to the substrate, sealing is performed using a sealing base material having translucency. In this case, if a light-transmitting adhesive is used, the light-transmitting sealing substrate and the entire surface of the organic EL element substrate on which the counter electrode is formed can be bonded together, and sealing is more reliably performed. Can be done. In addition, if necessary, an inorganic thin film is deposited as a water vapor barrier layer on the entire surface of the organic EL element substrate on which the counter electrode is formed or on the entire surface of the sealing substrate for the purpose of preventing moisture from entering the element substrate. The vacuum film forming method can be used.

このように有機EL素子基板の対向電極形成面の全面に、接着剤を介して封止基材を貼りあわせる場合、有機EL素子基板表面の凹凸によって、接着時に空気が混入するといった問題があった。この問題は特に有機EL素子基板が隔壁を備えた構造である場合に発生することになった。さらに、隔壁は通常画素を区画するために形成されるので、空気の混入はディスプレイとしての表示に寄与する画素の付近に発生しやすく、視認性に影響を与えたり、経時的には発光特性を落とすといった問題が生じることとなる。このような課題は接着剤や水蒸気バリア層を厚くすることによって、空気が混入するのをある程度防ぐことは可能である。しかし、トップエミッション方式の有機EL素子においては、その明るさを向上させるために、接着剤や水蒸気バリア層をできるだけ薄くし、これらの層による光の透過率の減少をできるだけ防ぎたいという要求があり、この解決手段ではその要求に反する。   As described above, when the sealing base material is bonded to the entire surface of the counter electrode forming surface of the organic EL element substrate through an adhesive, there is a problem that air is mixed during bonding due to the unevenness of the surface of the organic EL element substrate. . This problem has occurred particularly when the organic EL element substrate has a structure including partition walls. Furthermore, since the partition walls are usually formed to partition the pixels, air contamination is likely to occur in the vicinity of the pixels that contribute to display as a display, affecting the visibility, and improving the light emission characteristics over time. The problem of dropping will occur. Such a problem can be prevented to some extent from air mixing by increasing the thickness of the adhesive or the water vapor barrier layer. However, in order to improve the brightness of top emission type organic EL elements, there is a demand to make the adhesive and the water vapor barrier layer as thin as possible and to prevent the light transmittance from being reduced by these layers as much as possible. This solution is against that requirement.

また、有機EL素子基板の対向電極全面に水蒸気バリア層を有機EL素子基板の凹凸をカバーするように形成する場合、水蒸気バリア層の膜厚が大きい場合には凹凸の段差部分において水蒸気バリア層にクラックが入りやすいという問題がある。水蒸気バリア層にクラックが発生した場合には、クラック部分から水分が浸入することによって有機EL素子の寿命は低下する。   Further, when the water vapor barrier layer is formed on the entire surface of the counter electrode of the organic EL element substrate so as to cover the unevenness of the organic EL element substrate, when the thickness of the water vapor barrier layer is large, the water vapor barrier layer is formed at the step portion of the unevenness. There is a problem that cracks are easily generated. When a crack occurs in the water vapor barrier layer, moisture enters from the cracked portion, thereby reducing the lifetime of the organic EL element.

以上より、本発明は有機EL素子基板に対し有効画素全面に接着剤を介して封止基材を貼りあわせる際に、空気が混入することなく、良好な表示特性を示す有機EL素子を提供することを目的とする。   As described above, the present invention provides an organic EL element that exhibits good display characteristics without air mixing when the sealing substrate is bonded to the entire surface of the effective pixel through an adhesive to the organic EL element substrate. For the purpose.

上記課題を解決するために請求項1に係る発明は、基板と、この基板上に設けられた画素電極と、該画素電極上に異なる発光色を有する有機発光層を含む有機発光媒体層が設けられ、該有機発光媒体層を挟んで画素電極に対向する対向電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子基板と、該有機エレクトロルミネッセンス素子基板上に形成された水蒸気バリア層と、該有機エレクトロルミネッセンス素子基板と封止基材とを接着剤を介して張り合わせてなる有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機エレクトロルミネッセンス素子基板が隔壁を有し、且つ、前記対向電極が形成された有機エレクトロルミネッセンス素子基板の有効画素内における高低差が1μm以下であり、かつ、前記隔壁の高さは画素電極から1.5μm以内であり、該有機エレクトロルミネッセンス素子基板はさらに、前記対向電極上で、前記有効画素全面に前記対向電極に積層して形成された水蒸気バリア層と、該水蒸気バリア層上で、前記有効画素全面に形成された接着剤層と、該接着剤層上に形成された封止基材と、を具備していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素とした。 In order to solve the above-mentioned problems, an invention according to claim 1 is provided with an organic light emitting medium layer including a substrate, a pixel electrode provided on the substrate, and an organic light emitting layer having different emission colors on the pixel electrode. An organic electroluminescent element substrate comprising a counter electrode facing the pixel electrode across the organic light emitting medium layer, a water vapor barrier layer formed on the organic electroluminescent element substrate, and the organic electroluminescent element substrate, In an organic electroluminescence element formed by bonding a sealing base material via an adhesive , the organic electroluminescence element substrate has a partition wall, and the inside of the effective pixel of the organic electroluminescence element substrate on which the counter electrode is formed And the height of the partition wall is 1.5 μm or less from the pixel electrode. The organic electroluminescence element substrate further includes a water vapor barrier layer formed on the counter electrode on the entire surface of the effective pixel, the water vapor barrier layer formed on the counter electrode, and the water vapor barrier layer on the surface of the effective pixel. an adhesive layer formed on, and the organic electroluminescent element, characterized in that it comprises a sealing base material formed on the adhesive layer, the.

また、請求項2に係る発明は、前記水蒸気バリア層が窒化シリコン又は酸化窒化シリコンからなることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
The invention according to claim 2 is the organic electroluminescence device according to claim 1 , wherein the water vapor barrier layer is made of silicon nitride or silicon oxynitride .

また、請求項3に係る発明は、前記水蒸気バリア層の厚みが、0.02μm以上0.3μm以下であることを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
The invention according to claim 3 provides the organic electroluminescent element according to claim 2 , wherein the water vapor barrier layer has a thickness of 0.02 μm to 0.3 μm .

また、請求項4に係る発明は、前記基板と前記封止材料が可撓性を有するフィルム材料からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
The invention according to claim 4 is the organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 3 , wherein the substrate and the sealing material are made of a flexible film material.

本発明によって、有機EL素子基板の高低差を1μm以下とすることにより、有機EL素子基板の有効画素全面に接着剤を介して封止基材を貼りあわせる際に、空気が混入しない有機EL素子を得ることができた。本発明の有機EL素子基板を用いた有機EL素子は、接着剤層や水蒸気バリア層を厚く形成しなくても、ディスプレイとして表示に寄与する画素の周囲に空気が入り込まずに封止されるため、トップエミッション型の有機EL素子とした際に特に良好な表示特性を示すことができる。また、大気圧下で封止を行っても空気が入り込まずに封止できるため、有機EL素子の製造工程を簡略化し、コストを下げることができる。さらに、空気が表示素子内部に入りこむこともないため、有機EL素子の発光特性の劣化を抑えることができる。   According to the present invention, when the height difference of the organic EL element substrate is set to 1 μm or less, the organic EL element in which air is not mixed when the sealing substrate is bonded to the entire effective pixel of the organic EL element substrate through the adhesive. Could get. Since the organic EL element using the organic EL element substrate of the present invention is sealed without forming air around the pixels that contribute to display as a display without forming an adhesive layer or a water vapor barrier layer thickly. When the top emission type organic EL element is used, particularly good display characteristics can be exhibited. Moreover, even if it seals under atmospheric pressure, since it can seal without entering air, the manufacturing process of an organic EL element can be simplified and cost can be reduced. Furthermore, since air does not enter the display element, it is possible to suppress deterioration of the light emission characteristics of the organic EL element.

本発明の有機EL素子について説明する。なお、本発明に係る有機EL素子及びその製造方法は、以下に説明する実施に限定されるものではない。また、以下、本実施の形態をパッシブマトリックス駆動型の有機ELディスプレイパネルに適用した例について説明する。有機EL素子の駆動方法としては、パッシブマトリックスとアクティブマトリックスがあるが、本実施の形態における有機EL素子は、パッシブマトリックス方式またはアクティブマトリックス方式の有機EL素子のどちらにも適用可能である。   The organic EL element of the present invention will be described. In addition, the organic EL element which concerns on this invention, and its manufacturing method are not limited to implementation demonstrated below. Hereinafter, an example in which the present embodiment is applied to a passive matrix driving type organic EL display panel will be described. As a driving method of the organic EL element, there are a passive matrix and an active matrix. However, the organic EL element in this embodiment can be applied to either a passive matrix type or an active matrix type organic EL element.

また、本発明の有機EL素子は光の取り出し方向についても、基板側、封止側のどちらにも適用可能である。すなわち、本発明の有機EL素子は、基板側から発光した光を取り出すボトムエミッション方式の有機EL素子、基板の反対側から発光した光を取り出すトップエミッション方式の有機EL素子のいずれにも適用可能である。さらに、本発明の有機EL素子は、両側から発光した光を取り出す透明有機EL素子にも適用可能である。   Moreover, the organic EL element of the present invention can be applied to both the substrate side and the sealing side in the light extraction direction. That is, the organic EL element of the present invention can be applied to both a bottom emission type organic EL element that extracts light emitted from the substrate side and a top emission type organic EL element that extracts light emitted from the opposite side of the substrate. is there. Furthermore, the organic EL element of the present invention can also be applied to a transparent organic EL element that extracts light emitted from both sides.

本発明では、基板と、基板上に画素電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、対向電極を設けたものを有機EL素子基板とする。また、該有機EL素子基板上に必要に応じて水蒸気バリア層等を設け、接着剤を介して封止基材と有機EL素子基板を張り合わせることによって封止をおこなったものを有機EL素子とする。図1に本発明の有機EL素子基板の説明断面図を示した。   In the present invention, an organic EL element substrate is provided with a substrate, a pixel electrode, an organic light emitting medium layer including an organic light emitting layer, and a counter electrode on the substrate. Moreover, what was sealed by providing a water vapor | steam barrier layer etc. on this organic EL element board | substrate as needed, and sticking the sealing base material and the organic EL element board | substrate through the adhesive agent with an organic EL element. To do. FIG. 1 shows an explanatory cross-sectional view of the organic EL element substrate of the present invention.

また、本発明で有効画素とは、有機EL素子基板上の、対向する電極と、両電極の間に挟まれた有機発光媒体層(この有機発光媒体層とは少なくとも有機発光層を含む)とが形成された領域と、これらを区画する隔壁が形成された領域を指し、有機EL素子として製造された後に表示装置として情報の表示や発光に寄与することになる部分を指す。   In the present invention, an effective pixel means an opposing electrode on an organic EL element substrate, and an organic light emitting medium layer sandwiched between both electrodes (this organic light emitting medium layer includes at least an organic light emitting layer). Refers to a region in which a barrier rib is formed, and a region that contributes to information display and light emission as a display device after being manufactured as an organic EL element.

本発明の有機EL素子は、基板1上に画素電極2を有し、画素電極間には隔壁6が設けられている。また、隔壁6で仕切られた画素電極内には有機発光層(41、42、43)を含む有機発光媒体層が形成されている。そして、有機発光媒体層の上に対向電極5が形成されている。なお、対向電極は図1では有機発光媒体層形成面の全面に、パターニングされることなく積層されているため、隔壁上にも形成されているが、必要に応じて、パターニングされ、隔壁上には形成されない場合もある。   The organic EL element of the present invention has a pixel electrode 2 on a substrate 1, and a partition wall 6 is provided between the pixel electrodes. An organic light emitting medium layer including organic light emitting layers (41, 42, 43) is formed in the pixel electrode partitioned by the partition walls 6. A counter electrode 5 is formed on the organic light emitting medium layer. In FIG. 1, since the counter electrode is laminated on the entire surface of the organic light emitting medium layer forming layer without being patterned, it is also formed on the partition wall. However, the counter electrode is patterned on the partition wall as necessary. May not be formed.

有機発光媒体層は有機発光層の単層から構成されても構わないが、有機発光層の他に有機発光層での発光を補助する目的で、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層が適宜設けられる。図1では有機発光媒体層を正孔輸送層3と有機発光層(41、42、43)の2層構成とした。そして、各画素ごとにRGBといった異なる色に発光する有機発光材料を含む有機発光層が配置される。図1は、赤色有機発光層(41)、緑色有機発光層(42)、青色有機発光層(43)の三色がストライプ状に形成された有機EL素子基板をストライプを横断するように切断した断面図である。   The organic light emitting medium layer may be composed of a single layer of an organic light emitting layer, but in addition to the organic light emitting layer, for the purpose of assisting light emission in the organic light emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport A layer and an electron injection layer are provided as appropriate. In FIG. 1, the organic light emitting medium layer has a two-layer structure of a hole transport layer 3 and organic light emitting layers (41, 42, 43). An organic light emitting layer including an organic light emitting material that emits light of different colors such as RGB is disposed for each pixel. In FIG. 1, an organic EL element substrate in which three colors of a red organic light emitting layer (41), a green organic light emitting layer (42), and a blue organic light emitting layer (43) are formed in a stripe shape is cut so as to cross the stripe. It is sectional drawing.

本発明において、有機EL素子基板とは、画素電極、隔壁、少なくとも有機発光層を含む有機発光媒体層、対向電極を具備する基板を指す。そして、本発明において、有機EL素子基板の有効画素内における高低差とは、有機EL素子基板において、表示装置として情報の表示に寄与することになる画素が備わった部分の高低差を指し、実際的には、隔壁が設けられている部分の高さ(H1)と隔壁で仕切られた画素電極内の高さ(H2)(すなわち各画素領域内(画素電極形成部分)の高さ)の差である。本発明の有機EL素子基板では、各画素を区画しインキの混色を防ぐ隔壁の高さを画素電極と有機発光媒体層との厚みを足した高さと同等とすることで、有効画素内における高低差を1μm以下とするものである。なお、好ましくは、有効画素内における高低差は0.3μm以下である。有機EL素子基板の有効画素内における高低差が1μmを超える場合、封止基板との接着時において有機EL素子基板の凹凸により、有機EL素子内に空気が混入してするといった問題が発生する。   In the present invention, the organic EL element substrate refers to a substrate including a pixel electrode, a partition, an organic light emitting medium layer including at least an organic light emitting layer, and a counter electrode. In the present invention, the difference in height within the effective pixels of the organic EL element substrate refers to the difference in height of the portion of the organic EL element substrate that has pixels that will contribute to the display of information as a display device. Specifically, the difference between the height (H1) of the portion where the partition is provided and the height (H2) in the pixel electrode partitioned by the partition (that is, the height in each pixel region (pixel electrode formation portion)). It is. In the organic EL element substrate of the present invention, the height of the partition wall that partitions each pixel and prevents color mixing of inks is equal to the height obtained by adding the thicknesses of the pixel electrode and the organic light emitting medium layer. The difference is 1 μm or less. Note that the height difference in the effective pixel is preferably 0.3 μm or less. When the height difference in the effective pixel of the organic EL element substrate exceeds 1 μm, there arises a problem that air is mixed into the organic EL element due to the unevenness of the organic EL element substrate when bonded to the sealing substrate.

図2に本発明の有機EL素子の説明断面図を示した。基板上に画素電極、有機発光媒体層、対向電極が形成された有機EL素子基板には水蒸気バリア層が設けられる。このとき、有機EL素子基板の備える有効画素は少なくともその全面が水蒸気バリア層で覆われ、封止基材と接着される。そして、封止基材と有機EL素子基板は接着剤を介して貼りあわされる。このとき、有機EL素子基板の備える有効画素は少なくともその全面が接着剤で覆われ、封止基材と接着される。なお、封止基材にプラスチック基材等を用いた場合には封止基材側に水蒸気バリア層を設けてもよい。なお、水蒸気バリア層は、酸素バリア機能を有しているほうが好ましく、また、水蒸気バリア層は多層構成であってもよい。   FIG. 2 shows an explanatory cross-sectional view of the organic EL device of the present invention. A water vapor barrier layer is provided on an organic EL element substrate in which a pixel electrode, an organic light emitting medium layer, and a counter electrode are formed on a substrate. At this time, at least the entire surface of the effective pixels included in the organic EL element substrate is covered with the water vapor barrier layer and bonded to the sealing base material. Then, the sealing substrate and the organic EL element substrate are pasted together with an adhesive. At this time, at least the entire surface of the effective pixels included in the organic EL element substrate is covered with the adhesive and is bonded to the sealing substrate. In addition, when a plastic base material etc. are used for the sealing base material, you may provide a water vapor | steam barrier layer in the sealing base material side. The water vapor barrier layer preferably has an oxygen barrier function, and the water vapor barrier layer may have a multilayer structure.

次に、本発明の有機EL素子基板及び有機EL素子の製造方法について説明する。   Next, an organic EL element substrate and an organic EL element manufacturing method of the present invention will be described.

本発明における基板としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板を使用することもできる。また、基板上に設けられる画素電極、有機発光媒体層、対向電極を支持することができる程度の強度を有することが好ましい。この基板側から光を取り出すボトムエミッション方式の有機EL素子に用いる場合には、基板として透明なものを使用する必要がある。例えば、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。可撓性のあるプラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取り法による有機EL素子の製造が可能となり、安価に素子を提供できる。フィルム状基板として用いることのできるプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。   As the substrate in the present invention, any substrate can be used as long as it is an insulating substrate. Moreover, it is preferable to have a strength that can support the pixel electrode, the organic light emitting medium layer, and the counter electrode provided on the substrate. When used in a bottom emission type organic EL element that extracts light from the substrate side, it is necessary to use a transparent substrate. For example, a glass substrate or a plastic film or sheet can be used. If a flexible plastic film is used, an organic EL element can be manufactured by a winding method, and the element can be provided at low cost. Examples of the plastic that can be used as the film-like substrate include polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, and polycarbonate.

また、これらの基板は、あらかじめ加熱処理をおこなうことにより、基板内部や表面に吸着した水分を極力低減することが好ましい。また、基板上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、UVオゾン処理などの表面処理を施してから使用することが好ましい。また、これらの基板には薄膜トランジスタ(TFT)を形成して、アクティブマトリックス方式の駆動用基板としても良い。TFTの材料としては、ポリチオフェンやポリアニリン、銅フタロシアニンやペリレン誘導体等の有機TFTでもよく、また、アモルファスシリコンやポリシリコンTFTでもよい。   Moreover, it is preferable to reduce the water | moisture content adsorb | sucked in the board | substrate inside or the surface as much as possible by heat-processing these board | substrates beforehand. Further, in order to improve the adhesion depending on the material to be laminated on the substrate, it is preferable to use after performing surface treatment such as ultrasonic cleaning treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, UV ozone treatment. In addition, a thin film transistor (TFT) may be formed on these substrates to form an active matrix driving substrate. The TFT material may be an organic TFT such as polythiophene, polyaniline, copper phthalocyanine or perylene derivative, or may be amorphous silicon or polysilicon TFT.

本発明はパッシブマトリックス方式の有機EL表示素子、アクティブマトリックス方式の有機EL素子のどちらの有機EL表示素子にも適用可能である。パッシブマトリックス方式とは画素電極と対向電極をそれぞれストライプ状に形成し、対向する電極を直交させるよう配置し、その各交点を発光させる方式である。また、アクティブマトリックス方式は画素電極毎にトランジスタを形成した、いわゆる薄膜トランジスタ(TFT)基板を用いることにより、各画素毎に独立して発光させる方式である。また、アクティブマトリックス方式の中でも特異的なデルタ配列にも適用可能である。   The present invention can be applied to both an organic EL display element of a passive matrix type organic EL display element and an active matrix type organic EL display element. The passive matrix method is a method in which pixel electrodes and counter electrodes are formed in stripes, the opposing electrodes are arranged so as to be orthogonal, and light is emitted from each intersection. The active matrix method is a method in which light is emitted independently for each pixel by using a so-called thin film transistor (TFT) substrate in which a transistor is formed for each pixel electrode. In addition, it can be applied to a specific delta arrangement in the active matrix system.

この基板上に、画素電極を形成する。画素電極を陽極とする場合、この材料として、ITO(インジウムスズ複合酸化物)、IZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物や、クロム、金、白金などの金属材料や、これら金属酸化物や金属材料の微粒子をエポキシ樹脂やアクリル樹脂などに分散した微粒子分散膜を単層若しくは積層したものをいずれも使用することができる。有機EL素子をトップエミッション方式とする場合、光を反射する材料が主に用いられる。画素電極の形成方法としてはドライコーティング方式が利用できる。例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等である。   A pixel electrode is formed on this substrate. When the pixel electrode is used as an anode, this material may be a metal composite oxide such as ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), zinc aluminum composite oxide, chromium, gold, platinum, etc. Either a single layer or a laminate of a metal material or a fine particle dispersion film in which fine particles of these metal oxides or metal materials are dispersed in an epoxy resin or an acrylic resin can be used. When the organic EL element is a top emission type, a material that reflects light is mainly used. A dry coating method can be used as a method for forming the pixel electrode. For example, resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, reactive vapor deposition, ion plating, and sputtering.

例えば、真空製膜された金属酸化物皮膜にフォトレジストを塗布して露光・現像し、ウェットエッチング又はドライエッチングして、パターン状に加工して画素電極とすることができる。なお、電気抵抗を下げるために画素電極には銅、クロム、アルミニウム、チタン等の金属もしくはこれらの積層物を補助電極として部分的に併設することができる。なお、パッシブマトリックス方式の有機EL素子を製造する場合、画素電極はストライプ状に形成され、アクティブマトリックス方式の有機EL素子を製造する場合、画素電極は基板に設けられたトランジスタに対応して各画素ごとに形成される。   For example, it is possible to form a pixel electrode by applying a photoresist to a vacuum-formed metal oxide film, exposing / developing, processing by wet etching or dry etching, and processing into a pattern. In order to lower the electric resistance, a metal such as copper, chromium, aluminum, titanium, or a laminate thereof can be partially provided on the pixel electrode as an auxiliary electrode. When manufacturing a passive matrix type organic EL element, the pixel electrode is formed in a stripe shape, and when manufacturing an active matrix type organic EL element, the pixel electrode corresponds to a transistor provided on the substrate. Each is formed.

次に、画素電極間に隔壁を形成する。隔壁形成材料としては感光性樹脂が挙げられ、ポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。隔壁が絶縁性を有さない場合には隔壁を通じで隣り合う画素電極に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。具体的にはポリイミド系やアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系といったものが挙げられる。また、有機EL素子の表示品位を上げる目的で、カーボン粒子など光遮光性の材料を含有させてもよい。
隔壁の高さは、本発明の有機EL素子基板の有効画素内における高低差を決定する要因である。有機EL素子基板の有効画素内における最も高い部分と最も低い部分との差を1μm以下とするためには、隔壁の高さを低く設定するとともに隔壁上に不要な層を積層しない必要がある。また、隔壁で区画された各画素上に形成される層も、薄く均一に形成されているのが好ましい。そのため、各画素電極と隔壁の高さとの差は、後から形成する有機発光媒体層及び対向電極の厚みを考慮すると1.5μm以下であることが好ましい。
Next, a partition is formed between the pixel electrodes. Examples of the partition wall forming material include a photosensitive resin, which may be either a positive type resist or a negative type resist, and may be a commercially available one, but must have insulating properties. In the case where the partition has no insulating property, a current flows through the partition to the adjacent pixel electrode, resulting in a display defect. Specific examples include polyimide, acrylic resin, and novolac resin. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL element, a light shielding material such as carbon particles may be contained.
The height of the partition wall is a factor that determines the height difference in the effective pixels of the organic EL element substrate of the present invention. In order to set the difference between the highest portion and the lowest portion in the effective pixel of the organic EL element substrate to 1 μm or less, it is necessary to set the height of the partition wall low and not to stack unnecessary layers on the partition wall. In addition, it is preferable that the layer formed on each pixel partitioned by the partition wall is also formed thinly and uniformly. Therefore, the difference between each pixel electrode and the height of the partition wall is preferably 1.5 μm or less in consideration of the thickness of the organic light emitting medium layer and the counter electrode to be formed later.

次に、有機発光媒体層を形成する。有機発光媒体層は、有機発光層単独から構成されたものでもよいし、有機発光層と、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層といった発光を補助するための層とを組み合わせて積層構造としてもよい。なお、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層などの発光を補助する層は適宜選択される。   Next, an organic light emitting medium layer is formed. The organic light emitting medium layer may be composed of an organic light emitting layer alone, an organic light emitting layer, and a layer for assisting light emission such as a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. May be combined to form a laminated structure. Note that a layer that assists light emission, such as a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, is appropriately selected.

有機発光層は電流が流れることにより発光する有機発光材料を含む層である。有機発光材料としては、9,10−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、1,1,4,4−テトラフェニルブタジエン、トリス(8−キノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノラート)アルミニウム錯体、ビス(8−キノラート)亜鉛錯体、トリス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−5−シアノ−8−キノラート)アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラート]アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラート]アルミニウム錯体、トリス(8−キノリノラート)スカンジウム錯体、ビス[8−(パラートシル)アミノキノリン]亜鉛錯体及びカドミウム錯体、1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジエン、ポリ−2,5−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレンなどの低分子系発光材料が使用できる。   The organic light emitting layer is a layer containing an organic light emitting material that emits light when a current flows. As organic light-emitting materials, 9,10-diarylanthracene derivatives, pyrene, coronene, perylene, rubrene, 1,1,4,4-tetraphenylbutadiene, tris (8-quinolato) aluminum complex, tris (4-methyl-8) -Quinolate) aluminum complex, bis (8-quinolate) zinc complex, tris (4-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolate) aluminum complex, tris (4-methyl-5-cyano-8-quinolate) aluminum complex Bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) [4- (4-cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) [4- (4 -Cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, tris (8-quinolino) ) Scandium complex, bis [8- (paratosyl) aminoquinoline] zinc complex and cadmium complex, 1,2,3,4-tetraphenylcyclopentadiene, poly-2,5-diheptyloxy-para-phenylene vinylene, etc. The low molecular weight light emitting material can be used.

また、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポリフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ir錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料を、高分子中に分散させたものが使用できる。発光材料の分散に用いる高分子としてはポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等が使用できる。また、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系、ポリフルオレン、ポリフェニレンビニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子発光材料であってもよい。また、これら高分子材料に前記低分子材料の分散又は共重合した材料や、その他既存の発光材料を用いることもできる。   Also, coumarin phosphors, perylene phosphors, pyran phosphors, anthrone phosphors, porphyrin phosphors, quinacridone phosphors, N, N′-dialkyl-substituted quinacridone phosphors, naphthalimide phosphors, A material obtained by dispersing a low molecular weight light emitting material such as an N, N′-diaryl-substituted pyrrolopyrrole fluorescent material or a phosphorescent light emitting material such as an Ir complex in a polymer can be used. As the polymer used for dispersing the light emitting material, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, or the like can be used. Further, it may be a polymer light emitting material such as polyarylene, polyarylene vinylene, polyfluorene, polyphenylene vinylene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene or polyspiro. In addition, a material obtained by dispersing or copolymerizing the low molecular material in these high molecular materials, or other existing light emitting materials can be used.

正孔輸送層は有機発光層に正孔(ホール)を輸送する正孔輸送材料を含む層である。正孔輸送材料としては、銅フタロシアニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。   The hole transport layer is a layer containing a hole transport material that transports holes to the organic light emitting layer. As a hole transport material, copper phthalocyanine, metal phthalocyanines such as tetra (t-butyl) copper phthalocyanine and metal-free phthalocyanines, quinacridone compounds, 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine, N, N′-di (1-naphthyl) -N, N ′ -Aromatic amine-based low molecular hole injection and transport materials such as diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, polyaniline, polythiophene, polyvinylcarbazole, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) Among polymer hole transport materials such as blends with polystyrene sulfonic acid, polythiophene oligomer materials, and other existing hole transport materials It can be selected.

電子輸送層は有機発光層に電子を輸送する電子輸送材料を含む層である。電子輸送材料としては、2−(4−ビフィニルイル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体やビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム錯体、トリアゾール化合物等を用いることができる。   The electron transport layer is a layer containing an electron transport material that transports electrons to the organic light emitting layer. As an electron transport material, 2- (4-bifinylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3, 4-oxadiazole, an oxadiazole derivative, a bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinolato) beryllium complex, a triazole compound, or the like can be used.

これら各層に含まれる機能性材料に、溶剤と必要な添加剤を添加することでインキとすることができる。機能性材料を分散又は溶解する溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジクロロメタンジクロロエタン、クロロホルム、エチルアセテート、エタノール、メタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−エチルエトキシアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−メトキシエチルエーテル、2−エトキシエチルエーテル、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール、2−(2’エトキシエトキシ)エチルアセテート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアセテート、グリコール、エチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、水等を用いることができる。これら溶剤単独で用いてもよいし、混合して使用してもよい。中でも、発光材料をインキとする場合、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が発光材料の溶解性の面から好適である。   An ink can be obtained by adding a solvent and necessary additives to the functional material contained in each layer. Examples of the solvent for dispersing or dissolving the functional material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, dichloromethane dichloroethane, chloroform, ethyl acetate, ethanol, methanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxy. Ethanol, 2-butoxyethanol, 2-ethylethoxyacetate, 2-butoxyethyl acetate, 2-methoxyethyl ether, 2-ethoxyethyl ether, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2-butoxyethoxy) ethanol , 2- (2′ethoxyethoxy) ethyl acetate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate, glycol, ethylene glycol, propylene glycol monomethyl acetate Le, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, and water. These solvents may be used alone or in combination. In particular, when the light emitting material is ink, an aromatic organic solvent such as toluene, xylene, and anisole is preferable from the viewpoint of solubility of the light emitting material.

本発明の有機EL素子基板では、封止の際に空気の混入を防ぐために、その有効画素内における高低差は1μm以内に抑えられている。このような有機EL素子基板が隔壁を備えている場合、その隔壁の高さは画素電極から1.5μm以内の高さであることが好ましい。これ以上の高さで形成されていると、その後各画素内に有機発光層や対向電極を形成しても、隔壁上部との高低差を1μm以内に縮めるのは難しいからである。   In the organic EL element substrate of the present invention, the height difference in the effective pixel is suppressed to within 1 μm in order to prevent air from being mixed during sealing. When such an organic EL element substrate includes a partition wall, the height of the partition wall is preferably 1.5 μm or less from the pixel electrode. If it is formed at a height higher than this, it is difficult to reduce the height difference from the upper part of the partition wall to within 1 μm even if an organic light emitting layer and a counter electrode are subsequently formed in each pixel.

ここで要求される隔壁の高さは、例えばインキジェット法で有機発光層を形成する場合に、画素電極を区画する隔壁の高さと比較するとかなり低い。そのため、インキジェット法では、インキをヘッドから吐出し、基板に滴下するプロセスであるために、インキの広がりや位置精度の誤差やインキの跳ね返りなどが起こり得る。そのため、各画素領域内に有機発光層を形成すると、インキが隔壁を飛び越え、隣接する画素との混色が起こってしまう。   The height of the partition required here is considerably lower than the height of the partition defining the pixel electrode when the organic light emitting layer is formed by, for example, an ink jet method. Therefore, since the ink jet method is a process in which ink is ejected from the head and dropped onto the substrate, ink spreading, positional accuracy error, ink rebound, and the like may occur. Therefore, when an organic light emitting layer is formed in each pixel region, the ink jumps over the partition wall and color mixing with adjacent pixels occurs.

そこで、本発明の有機EL素子基板に有機発光層を形成するためには、印刷法によることが好ましい。有機発光層の形成方法としてはオフセット印刷法や凸版印刷法を好適に用いることができる。   Therefore, in order to form the organic light emitting layer on the organic EL element substrate of the present invention, it is preferable to use a printing method. As a method for forming the organic light emitting layer, an offset printing method or a relief printing method can be suitably used.

オフセット印刷法はブランケットと呼ばれる易剥離性のゴムなどで構成される転写用支持体上に一旦インキパターンを形成し、そのインキパターンを被印刷基板に対して転写させるものである。ブランケット上に形成されたインキパターンはブランケットにインキ溶媒の一部が吸収され半乾燥状態となるため、インキのパターン形状及び膜厚が制御しやすいという利点がある。このようなオフセット印刷法としてはブランケット上へのインキパターンの形成方法の違いにより、凹版オフセット印刷法、凸版反転オフセット印刷法などを挙げることができる。 In the offset printing method, an ink pattern is once formed on a transfer support composed of an easily peelable rubber called a blanket, and the ink pattern is transferred to a substrate to be printed. The ink pattern formed on the blanket has an advantage that the ink pattern shape and film thickness can be easily controlled because a part of the ink solvent is absorbed by the blanket and becomes a semi-dry state. Examples of such an offset printing method include an intaglio offset printing method and a relief reversal offset printing method depending on the difference in the method of forming an ink pattern on a blanket.

凸版印刷法は、インキチャンバーからアニロックスロールへインキを供給し、ドクターで余分なインキを取り除いた後、アニロックスとゴム版または樹脂版からなる凸版を接触させる。その場合に所望の量のインキがアニロックスロールから凸版に移動し、その後、凸版から被印刷基板に対して転写させるものである。このとき、凸版と被印刷基板間の印圧を小さく調整することで、隔壁を低くしても隔壁を跨いでのインキの飛び越えを防止することができ、隣接する画素とのの混色を防止できる。   In the relief printing method, ink is supplied from an ink chamber to an anilox roll, excess ink is removed by a doctor, and then an anilox and a relief plate made of a rubber plate or a resin plate are brought into contact with each other. In this case, a desired amount of ink is transferred from the anilox roll to the relief plate, and then transferred from the relief plate to the printing substrate. At this time, by adjusting the printing pressure between the relief plate and the printing substrate to be small, it is possible to prevent the ink from jumping across the partition even if the partition is lowered, and to prevent color mixing with adjacent pixels. .

このようにオフセット印刷法、凸版印刷法による製造方法によって、有機EL素子基板が備えた隔壁の高さを非常に低く設定しても、被印刷基板にインキが転写された際にインキが広がることがなく、隣接する画素との混色を防止できる。   In this way, even if the height of the partition provided on the organic EL element substrate is set very low, the ink spreads when the ink is transferred to the substrate to be printed by the offset printing method and the relief printing method. Therefore, color mixing with adjacent pixels can be prevented.

本発明で用いることのできる印刷法の第一の例として、凹版オフセット印刷装置による印刷方法について図3を用いて詳細に説明する。
図3(a)から(d)は、本発明の凹版オフセット印刷装置および凹版オフセット印刷工程を示した模式図である。図3において本体フレーム11上方にあるブラン胴12の周囲にはブランケット13が装着してある。また、14は印刷ステージであり、印刷時には原版である凹版15または画素電極等が形成された被印刷基板16を固定する。ブラン胴12は回転可能に設置され、ブランケット13と凹版15、ブランケット13と被印刷基板16はそれぞれ一定の圧力で接触可能になっている。また、印刷ステージ14は一軸方向に移動可能になっている。また図3中に示す17は有機発光インキ(以降、インキとする)であり、18は凹版15から余分なインキを掻き取るドクターブレードである。
As a first example of a printing method that can be used in the present invention, a printing method using an intaglio offset printing apparatus will be described in detail with reference to FIG.
FIGS. 3A to 3D are schematic views showing the intaglio offset printing apparatus and the intaglio offset printing process of the present invention. In FIG. 3, a blanket 13 is mounted around a blanket cylinder 12 above the main body frame 11. Reference numeral 14 denotes a printing stage, which fixes a printing substrate 16 on which an intaglio 15 serving as an original plate or a pixel electrode is formed during printing. The blank cylinder 12 is rotatably installed, and the blanket 13 and the intaglio 15 and the blanket 13 and the substrate to be printed 16 can be brought into contact with each other with a constant pressure. Further, the printing stage 14 is movable in the uniaxial direction. 3 is an organic light-emitting ink (hereinafter referred to as ink), and 18 is a doctor blade that scrapes off excess ink from the intaglio plate 15.

印刷ステージ14上には凹版15が固定されている。図示しないインキ供給手段により凹版15上にインキ17が供給され、印刷ステージ14の移動につれてドクターブレードにより余分なインキは除去され、凹版15のパターン部にインキ17が充填される(図3(a))。さらに印刷ステージ14が移動しブラン胴12を回転させることで、凹版15のパターン部に充填されたインキがブランケット13上に受理され、ブランケット上にインキパターンを得る(図3(b))。ついで、印刷ステージ14が移動しブラン胴12を回転させることでと被印刷基板16上にブランケット上のインキパターンが転移し、印刷工程を終了する(図3(c)、(d))。   An intaglio 15 is fixed on the printing stage 14. Ink 17 is supplied onto the intaglio 15 by an ink supply means (not shown), excess ink is removed by the doctor blade as the printing stage 14 moves, and the ink 17 is filled in the pattern portion of the intaglio 15 (FIG. 3A). ). Further, the printing stage 14 is moved and the blank cylinder 12 is rotated, whereby the ink filled in the pattern portion of the intaglio 15 is received on the blanket 13 and an ink pattern is obtained on the blanket (FIG. 3B). Next, when the printing stage 14 is moved and the blanket cylinder 12 is rotated, the ink pattern on the blanket is transferred onto the substrate 16 to be printed, and the printing process is finished (FIGS. 3C and 3D).

次に、本発明で用いることのできる印刷法の第二の例として、凸版反転方式によるオフセット印刷装置による印刷方法について図4を用いて詳細に説明する。   Next, as a second example of a printing method that can be used in the present invention, a printing method by an offset printing apparatus using a relief reversing method will be described in detail with reference to FIG.

図4(a)から(d)は、本発明の凸版反転オフセット印刷装置および凸版反転オフセット印刷工程を示した模式図である。図4において本体フレーム11上方にあるブラン胴12の周囲にはブランケット13が装着してある。また、14は印刷ステージであり、印刷時には原版である凸版19または画素電極等が形成された被印刷基板16を固定する。ブラン胴12は回転可能に設置され、ブランケット13と凸版19、ブランケット13と被印刷基板16はそれぞれ一定の圧力で接触可能になっている。また、印刷ステージ14は一軸方向に移動可能になっている。また、図4中に示す17はインキである。   4 (a) to 4 (d) are schematic views showing the relief reversal offset printing apparatus and relief reversal offset printing process of the present invention. In FIG. 4, a blanket 13 is mounted around a blanket cylinder 12 above the main body frame 11. Reference numeral 14 denotes a printing stage, which fixes a printing substrate 16 on which a relief plate 19 that is an original plate or a pixel electrode is formed during printing. The blanket cylinder 12 is rotatably installed, and the blanket 13 and the relief plate 19, and the blanket 13 and the substrate to be printed 16 can be brought into contact with each other with a constant pressure. Further, the printing stage 14 is movable in the uniaxial direction. Also, 17 shown in FIG. 4 is ink.

印刷ステージ14上には凸版19が固定されており、ブランケット13には予めインキ17の膜が図示しないインキ供給手段により、カーテンコート法、バーコート法、ワイヤーコート法、スリットコート法等のコーティングを用いて均一に塗布されている。(図4(a))印刷ステージ14が移動しブラン胴を回転させることにより、ブランケット13上のインキ膜に所望のパターンのネガパターンである凸版19のパターン部が接触し、パターン部に対応する不要部が除去され、ブランケット上には所望のパターンにパターン化されたインキが残される(図4(b))。ついで、印刷ステージ14が移動しブラン胴を回転させることにより、被印刷基板16上にブランケット上に残されたインキパターンが転移し、印刷工程を終了する(図4(c)、(d))。   A relief plate 19 is fixed on the printing stage 14, and a film of ink 17 is previously coated on the blanket 13 by an ink supply means (not shown) such as a curtain coating method, a bar coating method, a wire coating method, and a slit coating method. Applied uniformly. (FIG. 4A) When the printing stage 14 moves and rotates the blanket cylinder, the pattern portion of the relief plate 19 which is a negative pattern of the desired pattern comes into contact with the ink film on the blanket 13 and corresponds to the pattern portion. Unnecessary portions are removed, and the ink patterned in a desired pattern is left on the blanket (FIG. 4B). Next, the printing stage 14 is moved and the blanket cylinder is rotated, whereby the ink pattern left on the blanket is transferred onto the substrate 16 to be printed, and the printing process is completed (FIGS. 4C and 4D). .

次に、本発明で用いることのできる印刷法の第三の例として、凸版印刷装置による印刷方法について図5を用いて詳細に説明する。   Next, as a third example of a printing method that can be used in the present invention, a printing method using a relief printing apparatus will be described in detail with reference to FIG.

図5(a)から(d)は、本発明の凸版印刷装置および凸版印刷工程を示した模式図である。図5において本体フレーム11上方にはアニロックスロール21と版胴22が備えられている。版胴22の周囲には凸状のパターンを備えた刷版23(凸刷版)が装着してある。アニロックスロール21へは、インキ供給手段24によって一定量のインキが供給される。このアニロックスロール21は、版胴23と回転しながら接触可能に設置され、刷版23に一定量でインキを供給することができる。また、14は印刷ステージであり、印刷時には画素電極等が形成された被印刷基板16を固定する。版胴22は回転可能に設置され刷版23と被印刷基板16は一定の圧力で接触可能になっている。また、印刷ステージ14は一軸方向に移動可能になっている。   FIGS. 5A to 5D are schematic views showing the relief printing apparatus and relief printing process of the present invention. In FIG. 5, an anilox roll 21 and a plate cylinder 22 are provided above the main body frame 11. A printing plate 23 (convex printing plate) having a convex pattern is mounted around the plate cylinder 22. A certain amount of ink is supplied to the anilox roll 21 by the ink supply means 24. The anilox roll 21 is installed so as to be able to come into contact with the plate cylinder 23 while rotating, and can supply the printing plate 23 with a certain amount of ink. Reference numeral 14 denotes a printing stage, which fixes a printed substrate 16 on which pixel electrodes and the like are formed during printing. The plate cylinder 22 is rotatably installed so that the printing plate 23 and the substrate 16 to be printed can contact with each other with a constant pressure. Further, the printing stage 14 is movable in the uniaxial direction.

アニロックスロール21には、インキ供給手段24からインキ17が供給される。不要なインキは図示しないドクターブレードで掻き取られて、アニロックスロール上には一定量のインキが残る(図5(a))。インキ17を供給されたアニロックスロール21と版胴22が回転しながら接触することで、刷版23のパターン部である凸部上にインキが転移する(図5(b))。ついで、印刷ステージ14が移動し版胴22を回転させることにより、被印刷基板16上に刷版23の凸部からインキパターンが転移し、印刷工程を終了する(図5(c)、(d))。   The ink 17 is supplied from the ink supply means 24 to the anilox roll 21. Unnecessary ink is scraped off by a doctor blade (not shown), and a certain amount of ink remains on the anilox roll (FIG. 5A). When the anilox roll 21 supplied with the ink 17 and the plate cylinder 22 are in contact with each other while rotating, the ink is transferred onto the convex portion which is the pattern portion of the printing plate 23 (FIG. 5B). Next, when the printing stage 14 moves and the plate cylinder 22 is rotated, the ink pattern is transferred from the convex portion of the printing plate 23 onto the substrate 16 to be printed, and the printing process is completed (FIGS. 5C and 5D). )).

以上の工程を、必要な色の数だけ繰り返す。必要な種類の有機発光層を印刷法によって形成することにより、本発明の有機EL素子基板に有機発光層を形成することができる。   The above steps are repeated as many times as necessary. An organic light emitting layer can be formed on the organic EL element substrate of the present invention by forming a necessary type of organic light emitting layer by a printing method.

また、正孔輸送層、電子輸送層等発光を補助する層の形成方法としては、ウェットコート法が挙げられる。ウェットコート法としては、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、プレコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗布方式や、凸版印刷法、インクジェット印刷法の印刷方式が挙げられる。また、本発明のオフセット印刷法を用いてもよい。   In addition, as a method for forming a layer that assists light emission, such as a hole transport layer and an electron transport layer, a wet coating method may be used. Examples of the wet coating method include spin coating method, die coating method, dip coating method, discharge coating method, pre-coating method, roll coating method, bar coating method and the like, as well as letterpress printing method and inkjet printing method printing method. . Moreover, you may use the offset printing method of this invention.

しかし、スピンコート法やダイコート法など、基板全面に途切れなく成膜する方法では、隔壁によって区画された領域を埋め尽くして必要以上に厚く形成されてしまう恐れがある。また、本発明の有機EL素子基板では隔壁の高さが低いため、隔壁によって発光を補助する層が区画されることなく、隔壁上にも形成されてしまい、隣接する画素とショートしクロストークを起こす恐れがある。従って、正孔輸送層など、有機発光媒体層を構成する有機発光層以外の層も、パターニング可能な凸版印刷法やオフセット印刷法によって形成するのが望ましい。   However, in a method of forming a film on the entire surface of the substrate, such as a spin coating method or a die coating method, there is a possibility that the region partitioned by the partition wall is filled and formed to be thicker than necessary. Further, in the organic EL element substrate of the present invention, the height of the partition wall is low, so that the layer for assisting light emission is not partitioned by the partition wall, and it is also formed on the partition wall, shorting adjacent pixels and causing crosstalk. There is a risk of waking up. Accordingly, it is desirable to form layers other than the organic light emitting layer constituting the organic light emitting medium layer, such as a hole transport layer, by a patterning printing method or an offset printing method.

次に、対向電極を形成する。対向電極を陰極とする場合には、電子注入効率の高い物質を用いる。具体的にはMg、AL、Yb等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にLiや酸化Li、LiF等の化合物を1nm程度挟んで、安定性・導電性の高いAlやCuを積層して用いる。または電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数の低いLi、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb等の金属1種以上と、安定なAg、Al、Cu等のの金属元素との合金系が用いられる。具体的にはMgAg、AlLi,CuLi等の合金が使用できる。なお、有機EL素子の対向電極形成側から光を取り出すトップエミッション方式の場合は対向電極は透明性を有する必要がある。例えば、これら金属または金属合金材料による層とITO等の透明導電材料との組み合わせで透明性を得ることができる。   Next, a counter electrode is formed. When the counter electrode is a cathode, a substance having a high electron injection efficiency is used. Specifically, a single metal such as Mg, AL, or Yb is used, or a compound such as Li, oxidized Li, or LiF is sandwiched by about 1 nm at the interface in contact with the light emitting medium, and Al or Cu having high stability and conductivity is laminated. And use. Alternatively, in order to achieve both electron injection efficiency and stability, one or more metals such as Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y, and Yb having a low work function and stable Ag, Al An alloy system with a metal element such as Cu is used. Specifically, alloys such as MgAg, AlLi, and CuLi can be used. In the case of the top emission method in which light is extracted from the counter electrode forming side of the organic EL element, the counter electrode needs to have transparency. For example, transparency can be obtained by a combination of a layer made of these metals or metal alloy materials and a transparent conductive material such as ITO.

対向電極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。対向電極の厚みとしては、厚さは10nm〜1μm程度が望ましい。必要に応じてパターニングすることもできる。例えば、パッシブマトリックス方式の有機EL素子を製造する場合、画素電極とともに対向電極もストライプ状に形成し、画素電極と直交するようにする。アクティブマトリックス方式の有機EL素子を製造する場合、対向電極は有効画素全面に形成される。また、本発明では画素電極を陽極、対向電極を陰極としたが、画素電極を陰極、対向電極を陽極としても構わない。   As a method for forming the counter electrode, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method can be used depending on the material. The thickness of the counter electrode is preferably about 10 nm to 1 μm. Patterning can also be performed as necessary. For example, when manufacturing a passive matrix organic EL element, the counter electrode is formed in a stripe shape together with the pixel electrode so as to be orthogonal to the pixel electrode. In the case of manufacturing an active matrix organic EL element, the counter electrode is formed on the entire effective pixel. In the present invention, the pixel electrode is an anode and the counter electrode is a cathode. However, the pixel electrode may be a cathode and the counter electrode may be an anode.

次に、水蒸気バリア層を設ける。これらの形成材料としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等の金属酸化物、金属窒化物が使用できる。これらの材料は、水蒸気バリア機能のほかに酸素バリア機能も有する。特にバリアー性、耐溶剤性、透明性が良好な窒化シリコン、酸化窒化シリコンが好ましい。本発明の有機EL素子をトップエミッション方式の有機EL素子とするにあっては、対向電極とあわせて、水蒸気バリア層、接着剤層、封止基材を透明とする必要がある。また、バリア層は必要に応じて多層構成とすることも可能である。水蒸気バリア層の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。   Next, a water vapor barrier layer is provided. As these forming materials, metal oxides such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum nitride, and aluminum oxide, and metal nitrides can be used. These materials have an oxygen barrier function in addition to a water vapor barrier function. In particular, silicon nitride and silicon oxynitride having favorable barrier properties, solvent resistance, and transparency are preferable. In order to make the organic EL element of the present invention a top emission type organic EL element, it is necessary to make the water vapor barrier layer, the adhesive layer and the sealing substrate transparent together with the counter electrode. In addition, the barrier layer may have a multilayer structure as necessary. As a method for forming the water vapor barrier layer, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method can be used depending on the material.

本発明の有機EL素子基板は、有効画素内における高低差が1μm以下であるため、水蒸気バリア層を設ける際に該バリア層によって凹凸をカバーする必要がなく、バリア層の膜厚を0.3μm以下にすることができる。本発明の有機EL素子にあっては、水蒸気バリア層の膜厚は、0.02μm以上0.3μm以下であることが好ましい。水蒸気バリア層が0.02μm以下の場合、水蒸気バリア機能を十分に果たすことができなくなってしまう。また、水蒸気バリア層が0.3μmを超えるような場合には、水蒸気バリア層に膜はがれやクラックが発生してしまう。   Since the organic EL element substrate of the present invention has an elevation difference of 1 μm or less in the effective pixel, it is not necessary to cover the unevenness by the barrier layer when the water vapor barrier layer is provided, and the film thickness of the barrier layer is 0.3 μm. It can be: In the organic EL device of the present invention, the water vapor barrier layer preferably has a thickness of 0.02 μm or more and 0.3 μm or less. When the water vapor barrier layer is 0.02 μm or less, the water vapor barrier function cannot be sufficiently achieved. Moreover, when the water vapor barrier layer exceeds 0.3 μm, the film peels off or cracks in the water vapor barrier layer.

通常、バリア層を厚膜化すると、水蒸気バリア性は向上する一方で、膜内部の応力が積算され増大することにより、バリア層のはがれやクラックが発生することにより有機EL素子基板内部に水分が侵入し、有機発光媒体層の劣化や素子の低寿命化の原因になる。しかし、本発明によりバリア層の膜厚を150nm以下に薄膜化することで応力を緩和することができるため、これまで問題となっていたバリア層のはがれやクラックによる有機発光媒体層の劣化や素子の低寿命化を解消することができる。   Normally, when the barrier layer is made thicker, the water vapor barrier property is improved. On the other hand, the stress inside the film is integrated and increased. As a result, the barrier layer is peeled off and cracks are generated. It penetrates and causes deterioration of the organic light emitting medium layer and shortening of the life of the device. However, since the stress can be relieved by reducing the thickness of the barrier layer to 150 nm or less according to the present invention, deterioration of the organic light-emitting medium layer due to peeling or cracking of the barrier layer, which has been a problem, and the element Can be reduced.

次に接着剤を介して封止基材と有機EL素子基板を有効画素全面で全面で貼りあわせる。用いられる封止基材としては有機EL素子基板の積層面を保護することができ、透明性を有していれば良く、例えば、ガラス基板やガラスフィルム、プラスチックフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用い、巻き取りにより方式とした場合、安価に素子を提供できる。プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。水蒸気や酸素の透過を防ぐバリア層を封止基材側に形成してもよい。特に、水蒸気や酸素を透過するプラスチック系の材料を封止基材とする場合、バリア層を形成することが好ましい。   Next, the sealing base material and the organic EL element substrate are bonded to the entire surface of the effective pixel through an adhesive. As the sealing substrate used, the laminated surface of the organic EL element substrate can be protected and has only to be transparent. For example, a glass substrate, a glass film, a plastic film or a sheet can be used. In the case where a plastic film is used and winding is used, the device can be provided at low cost. As the plastic, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate and the like can be used. A barrier layer that prevents permeation of water vapor or oxygen may be formed on the sealing substrate side. In particular, when a sealing material is a plastic material that transmits water vapor or oxygen, it is preferable to form a barrier layer.

ボトムエミッションタイプの有機EL素子とする場合には、必ずしも封止基材に透光性は必要とされないが、有機EL素子基板との張り合わせに用いる接着剤が光照射で硬化する感光性タイプである場合は透光性を有する材料を選択する。   In the case of a bottom emission type organic EL element, the sealing substrate does not necessarily require translucency, but the adhesive used for bonding to the organic EL element substrate is a photosensitive type that is cured by light irradiation. In that case, a light-transmitting material is selected.

封止基材と有機EL素子基板を貼り合わせる接着剤としては透明性を有していれば、公知のもので良く、例えば熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が挙げられる。例えば、熱硬化樹脂としては、メラミン系、アクリル系、O−クレゾールノボラック型、ビスフェノール型のエポキシ系、ウレタン系などが使用できる。また、本発明の接着剤は液状であっても、シート状であってもよく、液状であればスピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等により、有機EL素子基板の有効画素全面に塗布され、封止基材と貼りあわされる。また、接着剤がシート状であればラミネーターによって封止基材と貼りあわされる。接着剤は熱硬化型、光硬化型いずれも選択することができるが、有機発光層の劣化を防ぐため、光硬化型の接着剤を選択することが好ましい。また、接着剤中には接着剤層からの水分の浸入を防ぐため、防湿剤や吸湿剤を含むこともできる。   The adhesive that bonds the sealing substrate and the organic EL element substrate may be a known one as long as it has transparency, and examples thereof include a thermosetting resin and a photocurable resin. For example, as the thermosetting resin, melamine type, acrylic type, O-cresol novolac type, bisphenol type epoxy type, urethane type and the like can be used. Further, the adhesive of the present invention may be liquid or sheet-like, and if it is liquid, the organic EL element substrate is effective by spin coating, bar coating, protruding coating, dip coating, etc. It is applied to the entire surface of the pixel and pasted with a sealing substrate. Moreover, if an adhesive agent is a sheet form, it will be pasted with a sealing base material with a laminator. The adhesive can be selected from either a thermosetting type or a photocurable type, but it is preferable to select a photocurable adhesive in order to prevent deterioration of the organic light emitting layer. Further, in order to prevent moisture from entering from the adhesive layer, the adhesive may contain a moisture-proofing agent or a hygroscopic agent.

また、本発明の有機EL素子は、基板及び封止基材に可撓性を有するフィルム材料を用いることによりフレキシブル基板とすることができる。本発明の有機EL素子では、接着剤層の膜厚を小さくすることができるため、十分な可撓性を有するフレキシブル有機EL素子とすることができる。また、水蒸気バリア層の膜厚を小さくすることができるために、水蒸気バリア層を厚く形成した場合と比較して、得られたフレキシブル有機EL素子を撓ませた際に水蒸気バリア層にクラックが入りにくくなるため、フレキシブル有機EL素子の局率限界を大きくすることができる。なお、基板及び封止基材に用いられるフィルム材料としては、先ほど示したようなプラスチックフィルムを好適に使用することができる。   Moreover, the organic EL element of this invention can be made into a flexible substrate by using the film material which has flexibility for a board | substrate and a sealing base material. In the organic EL element of the present invention, since the thickness of the adhesive layer can be reduced, a flexible organic EL element having sufficient flexibility can be obtained. In addition, since the thickness of the water vapor barrier layer can be reduced, the water vapor barrier layer is cracked when the obtained flexible organic EL element is bent as compared with the case where the water vapor barrier layer is formed thick. Since it becomes difficult, the locality limit of a flexible organic EL element can be enlarged. In addition, as a film material used for a board | substrate and a sealing base material, the plastic film as shown previously can be used conveniently.

まず、各画素に対応する薄膜トランジスタが形成されたガラス基板を用意した。
このガラス基板の薄膜トランジスタ形成側にITOをスパッタリング法で0.1μmの厚さで形成した。全面に形成されたITO上にフォトレジストを塗布し、所定のマスクを介して露光・現像をおこない、続いて、ウェットエッチングをおこなうことにより、薄膜トランジスタに対応する画素電極を形成した。
First, a glass substrate on which a thin film transistor corresponding to each pixel was formed was prepared.
ITO was formed to a thickness of 0.1 μm on the thin film transistor forming side of this glass substrate by sputtering. A photoresist was applied on the ITO formed on the entire surface, exposed and developed through a predetermined mask, and then wet-etched to form a pixel electrode corresponding to the thin film transistor.

次いで、画素電極間に高さ1.0μmの隔壁を形成した。隔壁は隣接する画素を区画するとともに、薄膜トランジスタに対応してパターニングされた各画素電極の端部を覆うように形成されている。隔壁材料としては、感光性樹脂である、ノボラック樹脂を用い、画素電極上に一面に塗布の後、所定のマスクを介して露光し、次いで現像することによりパターン形成をおこなった。   Next, a partition wall having a height of 1.0 μm was formed between the pixel electrodes. The partition wall divides adjacent pixels and is formed so as to cover the end of each pixel electrode patterned corresponding to the thin film transistor. As a partition wall material, a novolak resin, which is a photosensitive resin, was used. After coating on one surface of the pixel electrode, patterning was performed by exposing through a predetermined mask and then developing.

隔壁によって区画された画素電極上に有機発光媒体層を形成した。ここで有機発光媒体層は、すべての画素に共通する正孔輸送層と、所定の色に発光する有機発光層から構成されている。
正孔注入材料としてポリマー前駆体であるポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンを用い、これの水溶液をスピンコート法で隔壁によって区画された画素電極上に一面に塗布した。加熱により、前駆体はポリフェニレンビニレンとなり、各画素電極上に厚さ0.05μmの正孔注入層が形成された。
An organic light emitting medium layer was formed on the pixel electrode partitioned by the partition walls. Here, the organic light emitting medium layer includes a hole transport layer common to all pixels and an organic light emitting layer that emits light of a predetermined color.
Polytetrahydrothiophenylphenylene, which is a polymer precursor, was used as the hole injection material, and an aqueous solution of the polymer precursor was applied on the entire surface of the pixel electrode partitioned by the partition by spin coating. By heating, the precursor became polyphenylene vinylene, and a hole injection layer having a thickness of 0.05 μm was formed on each pixel electrode.

つぎに、赤色発光材料としてシアノポリフェニレンビニレン、緑色発光材料としてポリフェニレンビニレン、青色発光材料としてポリフェニレンビニレンを用い、これらの有機発光材料をトルエンに溶解し、各色の発光材料インキとした。続いて、凸版反転オフセット印刷法により赤、緑、青色の発光材料インキを正孔輸送層上に印刷し、厚さ0.05μmの有機発光層を形成した。なお、ここで形成された画素の配列は、同じ色に発光する画素を直線状に配列したストライプ配列である。   Next, cyanopolyphenylene vinylene was used as a red light emitting material, polyphenylene vinylene was used as a green light emitting material, polyphenylene vinylene was used as a blue light emitting material, and these organic light emitting materials were dissolved in toluene to obtain light emitting material inks of respective colors. Subsequently, red, green, and blue light emitting material inks were printed on the hole transport layer by a letterpress reverse offset printing method to form an organic light emitting layer having a thickness of 0.05 μm. The pixel array formed here is a stripe array in which pixels emitting light of the same color are arranged in a straight line.

次に、対向電極としてMgAgを0.01μmの厚さで蒸着法により有機発光媒体層上の全面に形成し、更にITOをスパッタ法により0.1μmの厚みで形成し、有機EL素子基板とした。こうして得られた有機EL素子基板の有効画素内の凹凸は約0.7μmであった。   Next, MgAg was formed as a counter electrode with a thickness of 0.01 μm on the entire surface of the organic light-emitting medium layer by vapor deposition, and ITO was further formed with a thickness of 0.1 μm by sputtering to form an organic EL element substrate. . The unevenness in the effective pixels of the organic EL element substrate thus obtained was about 0.7 μm.

次に、有機EL素子基板上に酸化ケイ素を水蒸気のバリア層として1.0μmの厚みで蒸着法で形成した。その上に、厚さ30μmのシート状のエポキシ系接着剤をラミネーターを用い、ガラス板と貼りあわせ、加熱し、アクティブマトリックス方式のトップエミッション型有機EL素子を得た。得られた有機EL素子を顕微鏡で観察したが、有機EL素子の有効画素領域に空気が混入している様子は確認されなかった。また、隣接する画素との混色は観察されなかった。   Next, silicon oxide was formed on the organic EL element substrate as a water vapor barrier layer with a thickness of 1.0 μm by a vapor deposition method. On top of that, a sheet-like epoxy adhesive having a thickness of 30 μm was attached to a glass plate using a laminator and heated to obtain an active matrix top emission type organic EL device. When the obtained organic EL element was observed with a microscope, it was not confirmed that air was mixed in the effective pixel region of the organic EL element. Further, no color mixture with adjacent pixels was observed.

予め酸化ケイ素膜が積層されてなるポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上の酸化ケイ素膜表面に、ITOをスパッタリング法で0.1μmの厚さで形成し、フォトレジストを塗布し、露光・現像をおこない、続いて、ウェットエッチングをおこなうことにより、ストライプ状の画素電極を形成した。このとき画素電極であるITOのラインパターンは、線幅100μm、スペース50μmで、ラインが192ラインで形成されるパターンとした。   On the surface of the silicon oxide film on the polyethylene terephthalate (PET) film on which a silicon oxide film is laminated in advance, ITO is formed with a thickness of 0.1 μm by sputtering, a photoresist is applied, exposure and development are performed, Subsequently, stripe-like pixel electrodes were formed by performing wet etching. At this time, the line pattern of ITO which is the pixel electrode was a pattern in which the line width was 100 μm, the space was 50 μm, and the line was formed with 192 lines.

次いで、画素電極間に隔壁をライン状の画素電極の端部を覆うように、第一電極と平行にライン状に形成した。このときの隔壁高さは0.8μmであり、隔壁材料としては、感光性樹脂であるノボラック樹脂を用い、露光現像によりパターン形成をおこなった。   Next, a partition wall was formed between the pixel electrodes in a line shape parallel to the first electrode so as to cover an end portion of the line-shaped pixel electrode. At this time, the height of the partition wall was 0.8 μm, and a novolac resin, which is a photosensitive resin, was used as the partition wall material, and pattern formation was performed by exposure and development.

次に、正孔注入材料としてポリマー前駆体であるポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンをスピンコート法で形成した。加熱により、前駆体はポリフェニレンビニレンとなり、厚さ0.05μmの正孔注入層が形成された。   Next, polytetrahydrothiophenylphenylene, which is a polymer precursor, was formed by a spin coating method as a hole injection material. By heating, the precursor became polyphenylene vinylene, and a hole injection layer having a thickness of 0.05 μm was formed.

つぎに、赤色発光材料としてシアノポリフェニレンビニレン、緑色発光材料としてポリフェニレンビニレン、青色発光材料としてポリフェニレンビニレンおよびポリアルキルフェニレンを用い、これらの有機発光材料はトルエンに溶解し、各色のインキとした。続いて、凸版印刷法により赤、緑、青色のインキをライン状の画素電極上に印刷し、厚さ0.05μmの有機発光層を形成した。   Next, cyanopolyphenylene vinylene was used as the red light-emitting material, polyphenylene vinylene was used as the green light-emitting material, polyphenylene vinylene and polyalkylphenylene were used as the blue light-emitting materials, and these organic light-emitting materials were dissolved in toluene to obtain inks of various colors. Subsequently, red, green and blue inks were printed on the line-shaped pixel electrodes by a relief printing method to form an organic light emitting layer having a thickness of 0.05 μm.

次に、対向電極としてMgAgを0.01μmの厚さで蒸着法によりマスクを用いてパターン形成し、更にMgAg上にITOをスパッタ法により0.1μmの厚みでマスクを用いてパターン形成した。このときのMgAgとITOからなる対向電極は、ライン状の画素電極と直交するように形成した。有効画素内の凹凸は約0.5μmであった。   Next, MgAg was patterned as a counter electrode with a thickness of 0.01 μm by a vapor deposition method using a mask, and ITO was patterned on the MgAg with a thickness of 0.1 μm by a sputtering method. The counter electrode made of MgAg and ITO at this time was formed to be orthogonal to the line-shaped pixel electrode. The unevenness in the effective pixel was about 0.5 μm.

次に、有機EL素子基板上に酸化ケイ素を水蒸気バリア層として0.1μmの厚みで蒸着法で形成した。その上に、厚さ30μmのシート状のエポキシ系接着剤をラミネーターを用い、ポリエチレンテレフタレート(PET)フォルムと貼りあわせ、加熱し、パッシブマトリックス方式のトップエミッション型フレキシブル有機EL素子を得た。得られた有機EL素子を顕微鏡で観察したが、有機EL素子内に空気が混入している様子は確認されなかった。また、得られた有機EL素子を発光させたところ良好な発光が得られ、また、得られた有機EL素子は可撓性を有するものであった。   Next, silicon oxide was formed as a water vapor barrier layer with a thickness of 0.1 μm on the organic EL element substrate by a vapor deposition method. On top of that, a sheet-like epoxy adhesive having a thickness of 30 μm was laminated with a polyethylene terephthalate (PET) form using a laminator and heated to obtain a passive matrix top emission type flexible organic EL element. When the obtained organic EL element was observed with a microscope, it was not confirmed that air was mixed in the organic EL element. Moreover, when the obtained organic EL element was made to light-emit, favorable light emission was obtained, and the obtained organic EL element was flexible.

(比較例)
隔壁の高さを2.0μmとして、実施例2と同様に素子を作製すると画素内高低差は約1.7μmとなった。得られた有機EL素子を顕微鏡で観察したが、有機EL素子内に気泡が混入している様子が確認された。
(Comparative example)
When the height of the partition wall was 2.0 μm and the device was fabricated in the same manner as in Example 2, the height difference in the pixel was about 1.7 μm. When the obtained organic EL element was observed with a microscope, it was confirmed that bubbles were mixed in the organic EL element.

本発明の有機EL素子の断面説明図である。It is sectional explanatory drawing of the organic EL element of this invention. 本発明の有機EL素子基板の断面説明図である。It is a section explanatory view of the organic EL element substrate of the present invention. 本発明の凹版オフセット印刷装置および凹版オフセット印刷工程を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the intaglio offset printing apparatus and intaglio offset printing process of this invention. 本発明の凸版反転オフセット印刷装置および凸版反転オフセット印刷工程を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the letterpress reverse offset printing apparatus and letterpress reverse offset printing process of this invention. 本発明の凸版印刷装置および凸版印刷工程を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the relief printing apparatus and relief printing process of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 画素電極
3 正孔輸送層
41 赤色有機発光層
42 緑色有機発光層
43 青色有機発光層
5 対向電極
6 バリア層
7 接着剤
8 封止基材
11 本体フレーム
12 ブラン胴
13 ブランケット
14 印刷ステージ
15 凹版
16 被印刷基板
17 インキ
18 ドクターブレード
19 凸版
21 アニロックスロール
22 版胴
23 刷版
24 インキ供給手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Pixel electrode 3 Hole transport layer 41 Red organic light emitting layer 42 Green organic light emitting layer 43 Blue organic light emitting layer 5 Counter electrode 6 Barrier layer 7 Adhesive 8 Sealing base material 11 Main body frame 12 Blanket cylinder 13 Blanket 14 Printing stage 15 Intaglio 16 Printed substrate 17 Ink 18 Doctor blade 19 Top plate 21 Anilox roll 22 Plate cylinder 23 Plate 24 Ink supply means

Claims (4)

基板と、この基板上に設けられた画素電極と、該画素電極上に異なる発光色を有する有機発光層を含む有機発光媒体層が設けられ、該有機発光媒体層を挟んで画素電極に対向する対向電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子基板と、
該有機エレクトロルミネッセンス素子基板上に形成された水蒸気バリア層と、該有機エレクトロルミネッセンス素子基板と封止基材とを接着剤を介して張り合わせてなる有機エレクトロルミネッセンス素子において、
該有機エレクトロルミネッセンス素子基板が隔壁を有し、且つ、前記対向電極が形成された有機エレクトロルミネッセンス素子基板の有効画素内における高低差が1μm以下であり、かつ、前記隔壁の高さは画素電極から1.5μm以内であり、
該有機エレクトロルミネッセンス素子基板はさらに、
前記対向電極上で、前記有効画素全面に前記対向電極に積層して形成された水蒸気バリア層と、
該水蒸気バリア層上で、前記有効画素全面に形成された接着剤層と、
該接着剤層上に形成された封止基材と、を具備していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
A substrate, a pixel electrode provided on the substrate, and an organic light-emitting medium layer including an organic light-emitting layer having a different emission color are provided on the pixel electrode, and face the pixel electrode with the organic light-emitting medium layer interposed therebetween An organic electroluminescence element substrate comprising a counter electrode ;
In the organic electroluminescence element formed by bonding the water vapor barrier layer formed on the organic electroluminescence element substrate, the organic electroluminescence element substrate and the sealing base material through an adhesive ,
The organic electroluminescence element substrate has a partition, and the height difference in the effective pixel of the organic electroluminescence element substrate on which the counter electrode is formed is 1 μm or less, and the height of the partition is from the pixel electrode. Within 1.5 μm,
The organic electroluminescence element substrate further includes:
On the counter electrode, a water vapor barrier layer formed by laminating the counter electrode over the entire effective pixel;
An adhesive layer formed on the entire surface of the effective pixel on the water vapor barrier layer;
The organic electroluminescence element of the sealing base material formed on the adhesive layer, characterized in that it comprises a.
前記水蒸気バリア層が窒化シリコン又は酸化窒化シリコンからなることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the water vapor barrier layer is made of silicon nitride or silicon oxynitride. 前記水蒸気バリア層の厚みが、0.02μm以上0.3μm以下であることを特徴とする請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 2 , wherein the water vapor barrier layer has a thickness of 0.02 µm to 0.3 µm. 前記基板と前記封止材料が可撓性を有するフィルム材料からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
The organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it consists of a film material the sealing material and the substrate has flexibility.
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