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JP4846496B2 - Cross-linked polytetrafluoroethylene resin and method for producing the same - Google Patents
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Cross-linked polytetrafluoroethylene resin and method for producing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a crosslinked polytetrafluoroethylene resin having a powdery amorphous crosslinked structure, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The amorphous crosslinked polytetrafluoroethylene resin is characterized in that the crystal melting heat amount in the state of no thermal history after polymerization is less than 55 J/g and a crystal melting temperature is lower than 327&deg;C. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、特別の工程が不要であり、粒径の細かい樹脂粉末のものとすることが可能で、更には特に溶媒の除去が不要である架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂及び該架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂の製造方法に関する。   The present invention does not require a special step, can be made of a resin powder having a small particle diameter, and in particular, a cross-linked polytetrafluoroethylene resin and a cross-linked polytetrafluoroethylene that do not require removal of a solvent. The present invention relates to a method for producing a resin.

ポリテトラフルオロエチレン(以下、PTFEとする)は、その分子量および粒径を調節することにより、産業界に幅広く利用されている。技術の高度化、製品の高付加価値化が求められる今日、増々需要の増加が見込まれているエンジニアリングプラスチック樹脂である。具体的にはPTFEの優れた特徴(耐薬品性、耐熱性、低摩擦性、低い誘電率など)を生かしてPTFE成形品として化学装置配管材料、電気絶縁材料、軸受け、摺動材、低溶出の高性能フィルター材など種々な製品として使用されている。また特にPTFE粉末は、塗料、インク、潤滑剤などへの添加剤として利用されている。   Polytetrafluoroethylene (hereinafter referred to as PTFE) is widely used in the industry by adjusting its molecular weight and particle size. This is an engineering plastic resin for which demand is expected to increase more and more today, where technological sophistication and high added value of products are required. Specifically, taking advantage of the excellent features of PTFE (chemical resistance, heat resistance, low friction, low dielectric constant, etc.) as PTFE molded products, chemical equipment piping materials, electrical insulation materials, bearings, sliding materials, low elution It is used as various products such as high performance filter materials. In particular, PTFE powder is used as an additive to paints, inks, lubricants and the like.

現在、PTFE成形品の原料粉体はテトラフルオロエチレンモノマー(以下、TFEとする)を化学触媒法により重合し、製造されている。得られるPTFEの分子鎖は、直鎖状で分岐はほとんどなく、結晶化度の高いものである。乳化重合あるいは懸濁重合により製造される市販のPTFE原料粉体は分子量に左右されるが重合した後に熱履歴を経ていない状態の結晶化度はどちらの重合方法によっても90%を越え、昇温速度10℃/minでの示差走査熱分析機による測定ではその結晶融解温度は340℃以上で、結晶融解熱量は55J/gを越える。これらの重合法により得られるPTFEは、一度、結晶融解温度以上の温度で焼成(シンター)させることにより、融点は327℃にシフトし、結晶化熱量は30J/g以下に低下する。焼成により結晶化度は90%を越える値から、数十%へと低下する。   Currently, the raw material powder for PTFE molded products is produced by polymerizing tetrafluoroethylene monomer (hereinafter referred to as TFE) by a chemical catalyst method. The obtained PTFE molecular chain is linear, has almost no branching, and has high crystallinity. Commercially available PTFE raw material powder produced by emulsion polymerization or suspension polymerization is affected by molecular weight, but the degree of crystallinity in the state of not undergoing thermal history after polymerization exceeds 90% by either polymerization method. When measured with a differential scanning calorimeter at a rate of 10 ° C / min, the crystal melting temperature is 340 ° C or higher and the heat of crystal melting exceeds 55 J / g. PTFE obtained by these polymerization methods is fired (sintered) once at a temperature equal to or higher than the crystal melting temperature, whereby the melting point is shifted to 327 ° C. and the crystallization heat amount is reduced to 30 J / g or less. The degree of crystallinity decreases from a value exceeding 90% to several tens of% by firing.

また得られる原料粉体の一次粒子の平均粒径は1μmを下回るものもあるが、それらが二次凝集した製品として粉体の平均粒径は懸濁重合により製造されるモールディングパウダーで約数十μm、乳化重合により製造されるファインパウダーにおいては数百μmである。   In addition, the average particle size of the primary particles of the obtained raw material powder is less than 1 μm, but the average particle size of the powder as a product of secondary agglomeration is about several tens of molding powders produced by suspension polymerization. In the fine powder produced by emulsion polymerization by emulsion polymerization, it is several hundred μm.

さらに一部の低分子量PTFE粉体は、高分子量のPTFE原料粉体に空気中(酸素存在下)において放射線を照射し、放射線分解による分子鎖切断によって分子量を低下させて、低分子量PTFE粉体を得ているものもある。当然ながら、これら低分子量PTFEは架橋構造を持たない直鎖状分子構造をとっている。   In addition, some low molecular weight PTFE powders are irradiated with radiation in the air (in the presence of oxygen) to high molecular weight PTFE raw material powder, and the molecular weight is reduced by molecular chain scission by radiolysis, resulting in low molecular weight PTFE powder. Some have obtained. Of course, these low molecular weight PTFEs have a linear molecular structure without a cross-linked structure.

これらの架橋構造を持たないPTFEは、上述のPTFEの優れた特徴(耐薬品性、耐熱性、低摩擦性、低い誘電率など)は有するものの、空気中で放射線照射するため酸化反応が生じるため分子鎖中への酸素の混入は避けられないという問題があった。   PTFE that does not have these cross-linked structures has the excellent characteristics of the above-mentioned PTFE (chemical resistance, heat resistance, low friction, low dielectric constant, etc.), but an oxidation reaction occurs due to radiation irradiation in the air. There was a problem that oxygen was unavoidable in the molecular chain.

そこで、本発明者らは、電離性放射線(以下、放射線とする)をPTFE樹脂の結晶融点以上の温度で且つ酸素不在下で照射してなる架橋構造を有するPTFE樹脂を提案している(特許文献1)。かかる架橋構造を有するPTFE樹脂により、その特性を大きく変化させることに成功した。かかる提案のPTFE樹脂は、一般に重合されたPTFE樹脂を原料として、架橋処理を行うものである。   Therefore, the present inventors have proposed a PTFE resin having a cross-linked structure formed by irradiating ionizing radiation (hereinafter referred to as radiation) at a temperature equal to or higher than the crystalline melting point of PTFE resin and in the absence of oxygen (patent). Reference 1). The PTFE resin having such a crosslinked structure has succeeded in greatly changing the characteristics. Such proposed PTFE resins are generally subjected to a crosslinking treatment using a polymerized PTFE resin as a raw material.

またさらにテトラフルオロエチレン(TFE)をアセトン溶媒中において、放射線を照射することにより得られる、粉体粒径が1μmm以下の超微粉末状ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)も提案している(特許文献2)。かかる提案によれば、条件を制御することにより分子量の制御が可能であり、低分子量から高分子量まで種々の分子量のもので且つ架橋構造を有する超微粉末状PTFEを、製造することを可能にしている。   Furthermore, ultrafine powdered polytetrafluoroethylene (PTFE) having a particle size of 1 μm or less obtained by irradiating tetrafluoroethylene (TFE) in an acetone solvent is also proposed (patent document). 2). According to such a proposal, the molecular weight can be controlled by controlling the conditions, and it is possible to produce ultrafine powdered PTFE having various molecular weights from low molecular weight to high molecular weight and having a crosslinked structure. ing.

現在、原料モノマーから直接、架橋構造を有するPTFEを製造する手法は存在せず、市販もされていない。このことはPTFEに限らずその他のパーフルオロ樹脂(PFA、FEP)についても同様である。   At present, there is no method for producing PTFE having a crosslinked structure directly from raw material monomers, and it is not commercially available. The same applies to other perfluororesins (PFA, FEP) as well as PTFE.

架橋フッ素樹脂粉体を製造する方法は、数少ないが、架橋させたフッ素樹脂を機械的に粉砕して、架橋フッ素樹脂粉体を製造する方法などがある(特許文献3、特許文献4等)。
特許第3317452号公報 特開平2000-26614号公報 特開平9-278907号公報 特開2000-129019号公報
Although there are few methods for producing a crosslinked fluororesin powder, there are methods for mechanically pulverizing a crosslinked fluororesin to produce a crosslinked fluororesin powder (Patent Document 3, Patent Document 4, etc.).
Japanese Patent No. 3374552 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-26614 JP-A-9-278907 JP 2000-129019

しかし、上述の従来の架橋されたPTFE樹脂では、原料樹脂同士が融着してしまい、粉体を得るためには別途機械的粉砕工程という特別の工程を設ける必要があり、製造が煩雑になるという問題があった。しかも、これらの手法で得られる樹脂粉体の平均粒径は20μm程度に止まっており、現在では更に粒径の細かい樹脂粉末の開発が要望されている。またTFEをアセトン溶媒中において放射線を照射することにより架橋化してなる超微粉末状PTFE(上記特許文献2)では、最終的に溶媒であるアセトンを除去する必要があり、アセトンの除去が不十分であるとPTFEの特長である純粋性を保証できない等の問題が生じる。   However, in the conventional cross-linked PTFE resin described above, the raw material resins are fused with each other, and it is necessary to provide a special process called a mechanical pulverization process in order to obtain a powder, which makes the manufacturing complicated. There was a problem. Moreover, the average particle size of the resin powder obtained by these methods is only about 20 μm, and at present, development of a resin powder having a smaller particle size is desired. In addition, in the ultrafine powdered PTFE obtained by crosslinking TFE by irradiating radiation in an acetone solvent (the above-mentioned Patent Document 2), it is necessary to finally remove acetone as a solvent, and the removal of acetone is insufficient. If so, problems such as inability to guarantee the purity, which is a feature of PTFE, arise.

本発明は、かかる欠点を解消することが目的であり、詳細には特別の工程が不要であり、粒径の細かい樹脂粉末のものとすることが可能で、更には特に溶媒の除去が不要であるポリテトラフルオロエチレンの製造方法及び架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂を提供することを目的とする。   The object of the present invention is to eliminate such drawbacks, and in particular, no special process is required, and it is possible to use a resin powder having a fine particle diameter, and further, it is not particularly necessary to remove the solvent. An object of the present invention is to provide a method for producing a certain polytetrafluoroethylene and a crosslinked polytetrafluoroethylene resin.

本発明者らは、このようなPTFEの問題点を解決するために鋭意研究した結果、モノマーを固相状態で重合する方法、及びかかる方法により得られる特定の結晶融解熱量及び結晶融解温度を有するPTFE樹脂が上記目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve such problems of PTFE, the present inventors have obtained a method for polymerizing monomers in a solid phase and a specific heat of crystal melting and a crystal melting temperature obtained by such a method. The inventors have found that PTFE resin can achieve the above object, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、昇温速度10℃/minでの示差熱走査系分析(DSC)により測定した、重合した後に熱履歴を経ていない状態での結晶融解熱量が55J/g未満であり、かつ結晶融解温度が327℃未満であることを特徴とする非晶性の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂を提供するものである。   That is, the present invention has a crystal melting calorific value of less than 55 J / g after polymerization without undergoing a thermal history as measured by differential thermal scanning system analysis (DSC) at a heating rate of 10 ° C./min, and The present invention provides an amorphous cross-linked polytetrafluoroethylene resin having a crystal melting temperature of less than 327 ° C.

結晶融解温度および結晶化熱量は、熱分析装置(パーキンエルマー製のDiamond DSC)により昇温速度:10℃/min、サンプル採取量:5〜10mg窒素雰囲気中において得られた一回目(1st run)の昇温過程の結晶融解曲線のピーク温度を結晶融解温度、同じく昇温過程の結晶融解曲線のピーク面積を結晶融解熱量とした。   Crystal melting temperature and crystallization calorie were obtained by thermal analysis (Diamond DSC manufactured by PerkinElmer) at a rate of temperature increase of 10 ° C / min and sampled amount of 5-10 mg in a nitrogen atmosphere (1st run) The peak temperature of the crystal melting curve during the temperature rising process was defined as the crystal melting temperature, and the peak area of the crystal melting curve during the temperature rising process was defined as the heat of crystal melting.

また、本発明は、テトラフルオロエチレンモノマーを融点以下の温度における固相状態とし、固相状態の該テトラフルオロエチレンモノマーに電離性放射線を照射する放射線照射工程を行うことを特徴とする上記架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂の製造方法を提供するものである。   Further, the present invention provides the above-mentioned cross-linked polycrystal characterized by performing a radiation irradiation step in which tetrafluoroethylene monomer is brought into a solid phase at a temperature below the melting point, and the tetrafluoroethylene monomer in the solid phase is irradiated with ionizing radiation. A method for producing a tetrafluoroethylene resin is provided.

上述のように、本発明は、結晶融解熱量が55J/g未満で、なおかつ結晶融解温度が327℃未満であることを特長とする非晶性の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂に関するものである。また、本発明の製造方法により、化学触媒重合法では不可能であった、架橋構造を有する低結晶性の架橋PTFEを、TFEを原料として直接製造するプロセスを見出したことに重要な意義がある。本発明の製造方法における架橋プロセスは、架橋したPTFE樹脂を粉砕する必要もなく、PTFEの結晶化融点以上の温度に昇温することなく、アセトン等の溶媒を共存させる必要もなく、架橋構造を付与することができるものであり、従来の概念には無かったものである。   As described above, the present invention relates to an amorphous crosslinked polytetrafluoroethylene resin characterized in that the heat of crystal fusion is less than 55 J / g and the crystal melting temperature is less than 327 ° C. In addition, the production method of the present invention has an important significance in finding a process for directly producing a low-crystalline crosslinked PTFE having a crosslinked structure, which is impossible with the chemical catalyst polymerization method, using TFE as a raw material. . The cross-linking process in the production method of the present invention does not require pulverization of the cross-linked PTFE resin, does not increase the temperature above the crystallization melting point of PTFE, does not require the presence of a solvent such as acetone, and provides a cross-linked structure. It can be given, and is not in the conventional concept.

本発明の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂は、上述の課題がなく、特別の工程が不
要であり、粒径の細かい樹脂粉末のものとすることが可能で、更には特に溶媒の除去が不
要なものである。
The crosslinked polytetrafluoroethylene resin of the present invention does not have the above-mentioned problems, does not require a special process, can be made of a resin powder having a fine particle size , and further does not particularly require removal of a solvent. It is.

また、本発明の製造方法によれば、上記の本発明の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹
脂を、原料であるTFEから直接、前述のPTFE粉体を生成させることができ、温度の制御を行いながらTFE原料のみを放射線照射するだけで得ることができ、特別の工程が不要で、粒径の細かい樹脂粉末のものとすることが可能で、更には特に溶媒の除去が不要である。また、得られたPTFE粉体を一旦、取り出して原料モノマーであるTFEと分離し、得られたPTFEに対して再び酸素不在下でなおかつTFEの融点以上の温度の条件で照射することにより、架橋の進行を早めることも可能である。
In addition, according to the production method of the present invention, the above-mentioned crosslinked polytetrafluoroethylene resin of the present invention can be directly produced from the raw material TFE, and the above-mentioned PTFE powder can be produced, while the temperature is controlled while the TFE It can be obtained only by irradiating only the raw material, does not require a special process, can be made of a resin powder with a small particle size , and further does not require removal of the solvent. In addition, once the obtained PTFE powder is taken out and separated from TFE which is a raw material monomer, the obtained PTFE is again irradiated in the absence of oxygen and at a temperature equal to or higher than the melting point of TFE, thereby crosslinking. It is also possible to speed up the progress.

発明の実施の形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂は、テトラフルオロエチレンモノマーを重合して得られるポリテトラフルオロエチレンに架橋構造を付与してなるものである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The crosslinked polytetrafluoroethylene resin of the present invention is obtained by imparting a crosslinked structure to polytetrafluoroethylene obtained by polymerizing a tetrafluoroethylene monomer.

そして、本発明の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂は、非晶性であり、重合した後に熱履歴を経ていない状態の結晶融解熱量が55J/g未満、好ましくは40〜0J/gであり、かつ結晶融解温度が327℃未満、好ましくは320℃以下であることを特徴とする。   The crosslinked polytetrafluoroethylene resin of the present invention is amorphous, has a heat of crystal fusion of less than 55 J / g, preferably 40 to 0 J / g, in a state where it has not undergone a thermal history after polymerization, The melting temperature is less than 327 ° C, preferably 320 ° C or less.

上記結晶融解熱量は、示差走査熱分析装置(DSC)により昇温過程(昇温速度10℃/min)における結晶融解ピーク面積を計算することにより測定できる。また、上記結晶融解温度は示差走査熱分析装置(DSC)により昇温過程(昇温速度10℃/min)における結晶融解ピークの温度を計測することにより測定できる。   The amount of heat of crystal melting can be measured by calculating the crystal melting peak area in the temperature rising process (temperature rising rate 10 ° C./min) using a differential scanning calorimeter (DSC). The crystal melting temperature can be measured by measuring the temperature of the crystal melting peak in the temperature rising process (temperature rising rate 10 ° C./min) with a differential scanning calorimeter (DSC).

本発明において「非晶性」とは、結晶性と相反する特長であって、分子鎖が規則性を持たずランダムに並んでいる状態を意味する。
また、前記架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂が、Y字型の分岐を持つ高分子鎖による網目構造を有するのが好ましい。Y字型の分岐を持つ高分子鎖の詳細は、以下のとおりである。
In the present invention, “amorphous” is a feature contrary to crystallinity, and means a state in which molecular chains are not regularly arranged but are randomly arranged.
The crosslinked polytetrafluoroethylene resin preferably has a network structure with polymer chains having Y-shaped branches. Details of the polymer chain having a Y-shaped branch are as follows.

なお、本発明の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン分子のすべてが架橋している必要はなく、樹脂を構成するポリテトラフルオロエチレンの最大2.5%が架橋構造を有していれば良い。   The cross-linked polytetrafluoroethylene resin of the present invention does not have to be cross-linked all of the polytetrafluoroethylene molecules, and up to 2.5% of the polytetrafluoroethylene constituting the resin has a cross-linked structure. good.

前記架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂は、添加材としての利用を考慮した場合、分散性や添加した製品の外観、質感を保持する目的からは平均粒径が20μm以下、更に望ましくは10μm以下の粉末状の粒子であるのが好ましい。   In consideration of utilization as an additive, the crosslinked polytetrafluoroethylene resin has a mean particle size of 20 μm or less, more preferably 10 μm or less for the purpose of maintaining the dispersibility and the appearance and texture of the added product. Of these particles, it is preferable.

上述のような特徴を有する本発明の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂は、後述する本発明の製造方法により製造することにより得ることができる。
そして、本発明の架橋PTFE樹脂は、新規なパーフルオロ樹脂として成形加工品原料としての利用や、添加剤としての利用が期待される。またその他のフッ素樹脂や多種多様な高分子樹脂と混合することにより、新規な成形加工品原料として利用されることも期待される。
The crosslinked polytetrafluoroethylene resin of the present invention having the characteristics as described above can be obtained by producing it by the production method of the present invention described later.
The crosslinked PTFE resin of the present invention is expected to be used as a raw material for molded products as a novel perfluoro resin and as an additive. It is also expected to be used as a raw material for new molded products by mixing with other fluororesins and various polymer resins.

以下に、本発明の製造方法を説明する。
本発明の製造方法は、テトラフルオロエチレンモノマーを融点以下の温度における固相状態とし、固相状態のテトラフルオロエチレンモノマーに電離性放射線を照射する放射線照射工程を行うことを特徴とする。
〔放射線照射工程〕
放射線は、照射時の酸化を防止するため酸索不在下すなわち真空中もしくは不活性ガス雰囲気(窒案、アルゴン、ヘリウムなど)においてTFEに照射するのが好ましい。また、放射線の照射は、この種の放射線による重合に際して用いられる手法を特に制限なく用いて行うことができる。用いられる放射線としては、電子線、X線、中性子、高エネルギーイオンなどが挙げられる。
Below, the manufacturing method of this invention is demonstrated.
The production method of the present invention is characterized by performing a radiation irradiation step in which a tetrafluoroethylene monomer is brought into a solid phase at a temperature below the melting point, and ionizing radiation is irradiated to the tetrafluoroethylene monomer in the solid phase.
[Radiation irradiation process]
In order to prevent oxidation during irradiation, it is preferable to irradiate TFE in the absence of an acid cord, that is, in a vacuum or in an inert gas atmosphere (nitrogen, argon, helium, etc.). Further, the irradiation of radiation can be carried out without particular limitation using a technique used for polymerization by this type of radiation. Examples of radiation used include electron beams, X-rays, neutrons, and high-energy ions.

上記放射線照射工程における放射線を照射する際の温度は、-142.5℃以下であるのがTFEモノマーを固相状態に保持する点で好ましく、更に好ましくは-142.5〜-160℃である。
上記放射線照射工程における放射線の線量は、10〜1000kGyであるのが、十分に架橋構造による特長を発現させるためには20kGy以上とするのが好ましい。
The temperature during irradiation with radiation in the radiation irradiation step is preferably −142.5 ° C. or less from the viewpoint of maintaining the TFE monomer in a solid state, and more preferably −142.5 to −160 ° C.
The dose of radiation in the radiation irradiation step is 10 to 1000 kGy, but it is preferably 20 kGy or more in order to fully develop the characteristics of the crosslinked structure.

また、上記放射線照射を行う際の酸素濃度は、10-2torr以下とするのが、反応過程における酸素の影響を除去する点で好ましく、比較的平易な真空装置によって十分に酸素の影響を排除するためには10-2〜10-5torrとするのが更に好ましい。 In addition, the oxygen concentration when performing the above irradiation is preferably 10 -2 torr or less in order to eliminate the influence of oxygen in the reaction process, and the influence of oxygen is sufficiently eliminated by a relatively simple vacuum device. In order to achieve this, it is more preferably 10 −2 to 10 −5 torr.

上記放射線照射工程を行うことにより、反応生成物として、最終目的物である本発明の非晶性の架橋PTFE樹脂が得られる。
次に、上記放射線照射工程以外に行うことができる工程について説明する。
〔再照射工程〕
本発明においては、上記放射線照射工程以外の工程として、上記放射線照射工程の後、未反応のテトラフルオロエチレンモノマーを分離・除去した後に、分離されたポリテトラフルオロエチレンにテトラフルオロエチレンモノマーの融点以上の温度、望ましくは-78〜30℃(室温)で、かつ酸素濃度10-2torr以下、望ましくは10-2〜10-5torrとした状態において再び電離性放射線を照射する、再照射工程を行うのが好ましい。
By performing the radiation irradiation step, the amorphous crosslinked PTFE resin of the present invention, which is the final target product, is obtained as a reaction product.
Next, steps that can be performed other than the radiation irradiation step will be described.
[Re-irradiation process]
In the present invention, as a step other than the radiation irradiation step, after separating and removing unreacted tetrafluoroethylene monomer after the radiation irradiation step, the separated polytetrafluoroethylene has a melting point equal to or higher than the melting point of the tetrafluoroethylene monomer. A re-irradiation step of irradiating with ionizing radiation again at a temperature of −78 to 30 ° C. (room temperature) and an oxygen concentration of 10 −2 torr or less, preferably 10 −2 to 10 −5 torr It is preferred to do so.

上記再照射工程を行うことにより、架橋の進行を促進でき、より架橋率の向上された架橋PTFE樹脂を得ることができる。
上記「分離されたポリテトラフルオロエチレン」には、放射線照射工程により架橋されたものと架橋されていないものとの両者を含む。
By performing the re-irradiation step, the progress of crosslinking can be promoted, and a crosslinked PTFE resin having a further improved crosslinking rate can be obtained.
The “isolated polytetrafluoroethylene” includes both those crosslinked by the radiation irradiation step and those not crosslinked.

上記再照射工程における放射線の線量は、10〜1000kGyであるのが、架橋の進行を促進でき、より架橋率の向上を図るためには10〜400kGyとするのが好ましい。
〔前処理工程・後処理工程〕
本発明においては、上記放射線照射工程の前に、TFEの固相化等の前処理工程を行うことができる。また、上記放射線照射工程又は上記再照射工程の後に、精製工程などの後処理工程を行うこともできる。
The dose of radiation in the re-irradiation step is 10 to 1000 kGy, but it is preferably 10 to 400 kGy in order to promote the progress of crosslinking and to further improve the crosslinking rate.
[Pre-treatment process / Post-treatment process]
In the present invention, a pretreatment step such as TFE solid phase can be performed before the radiation irradiation step. Moreover, after the said radiation irradiation process or the said re-irradiation process, post-processing processes, such as a refinement | purification process, can also be performed.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。
[実施例1]
真空ラインに接続したTFEボンベから、同真空ラインに接続して液体窒素により-196℃に冷却したガラスアンプルに約2mlのTFEを導入し、その後、10-4torrまで十分に凍結脱気を行い、ガラスアンプルを封じ切った。同様の操作を数回行い複数のTFEが封入されたガラスアンプルを得た。これらのガラスアンプルを液体窒素で-196℃に冷却しTFEを固相状態に保持した状態で、コバルト60によるガンマ線を10、20、104、182、400、700および1000kGyそれぞれ照射した。ガンマ線の照射線量率は2.6kGy/hで行った。照射が終了し、ガラスアンプルをTFEの融点直上まで昇温してTFEを取り除き、重合した後に熱履歴を経ていない状態の架橋PTFE樹脂の粉体の熱特性を調べた。熱特性の分析にはパーキンエルマー製のDiamond DSCを使用し、窒素雰囲気中で昇温速度:10℃/minにより行った。結晶融解温度および結晶化熱量は、DSC(熱分析装置)による一回目の測定結果(1st run)により評価した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not restrict | limited to a following example.
[Example 1]
About 2 ml of TFE was introduced from a TFE cylinder connected to the vacuum line into a glass ampoule connected to the same vacuum line and cooled to -196 ° C with liquid nitrogen, and then sufficiently frozen and degassed to 10 -4 torr. And sealed the glass ampoule. The same operation was performed several times to obtain a glass ampoule in which a plurality of TFEs were enclosed. These glass ampoules were cooled to −196 ° C. with liquid nitrogen and TFE was kept in a solid state, and irradiated with gamma rays of cobalt 60 at 10, 20, 104, 182, 400, 700 and 1000 kGy, respectively. The irradiation dose rate of gamma rays was 2.6 kGy / h. After the irradiation was completed, the glass ampule was heated to just above the melting point of TFE to remove TFE, and the thermal characteristics of the crosslinked PTFE resin powder that had not undergone a thermal history after polymerization were examined. For analysis of thermal characteristics, Diamond DSC manufactured by PerkinElmer was used, and the temperature was increased in a nitrogen atmosphere at a rate of temperature increase of 10 ° C./min. The crystal melting temperature and the heat of crystallization were evaluated by the first measurement result (1st run) by DSC (thermal analyzer).

[実施例2]
TFEが封入されたガラスアンプルを-158℃に冷却し、コバルト60によるガンマ線を20、104、182、400および700kGyそれぞれ照射した以外は、実施例1と同様にして、架橋PTFE樹脂を得、得られた架橋PTFE樹脂の粉体について実施例1と同様に熱分析を行った。
[Example 2]
A glass ampoule containing TFE was cooled to −158 ° C., and gamma rays from cobalt 60 were irradiated to 20, 104, 182, 400, and 700 kGy, respectively, to obtain a crosslinked PTFE resin in the same manner as in Example 1. The obtained crosslinked PTFE resin powder was subjected to thermal analysis in the same manner as in Example 1.

[比較例1]
TFEが封入されたガラスアンプルをドライアイスとメタノールの混合冷媒で-78℃に冷却しTFEを液相状態とし、コバルト60によるガンマ線を20、104および182kGyそれぞれ照射した以外は、実施例1と同様にして、架橋PTFE樹脂を得、得られた架橋PTFE樹脂の粉体について実施例1と同様に熱分析を行った。
[Comparative Example 1]
Except that the glass ampule filled with TFE was cooled to -78 ° C with a mixed refrigerant of dry ice and methanol to bring the TFE into a liquid phase and irradiated with gamma rays of cobalt 60 at 20, 104 and 182 kGy, respectively. Thus, a crosslinked PTFE resin was obtained, and the obtained crosslinked PTFE resin powder was subjected to thermal analysis in the same manner as in Example 1.

[比較例2]
TFEが封入されたガラスアンプルを25℃において液相状態とし、コバルト60によるガンマ線を20、104および182kGyそれぞれ照射した以外は、実施例1と同様にして、架橋PTFE樹脂を得、得られた架橋PTFE樹脂の粉体について実施例1と同様に熱分析を行った。
[Comparative Example 2]
A cross-linked PTFE resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass ampule filled with TFE was put into a liquid phase state at 25 ° C. and irradiated with gamma rays of cobalt 60 at 20, 104 and 182 kGy, respectively. The PTFE resin powder was subjected to thermal analysis in the same manner as in Example 1.

実施例1及び2、比較例1及び2で得られたPTFE粉体の示差走査熱分析による結晶融解温度および結晶融解熱量の測定結果を表1および2、図4および5にそれぞれ示す。   Tables 1 and 2 and FIGS. 4 and 5 show the results of measurement of the crystal melting temperature and the amount of heat of crystal melting of the PTFE powders obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, respectively, by differential scanning calorimetry.

[実施例3(再照射工程を行う実施例)]
実施例1で20、および182kGy照射して得たPTFEを未反応のTFEと分離し、未反応のTFEを除去した。分離して得られたPTFEを再びガラスアンプルに入れ、10-4torrまで十分に脱気した後ガラスアンプルを封じ切った。同様の操作を数回行い、複数の試料が封入されたガラスアンプルを得た。ここでTFEの分離は、TFEの融点直上の温度で行った。TFEの融点直上の温度でTFEを分離する理由は、照射後の重合(ポストポリメリゼーション)を抑制するためである。その後、25℃、-78℃および-196℃の各温度条件下においてコバルト60によるガンマ線を20、182および400kGyそれぞれ照射し(再照射工程)、架橋PTFE樹脂を得た。
[Example 3 (Example in which re-irradiation step is performed)]
PTFE obtained by irradiation with 20 and 182 kGy in Example 1 was separated from unreacted TFE, and unreacted TFE was removed. The PTFE obtained by separation was again put into a glass ampule, and after sufficiently deaerated to 10 −4 torr, the glass ampule was sealed. The same operation was performed several times to obtain a glass ampoule in which a plurality of samples were enclosed. Here, the separation of TFE was performed at a temperature just above the melting point of TFE. The reason for separating TFE at a temperature just above the melting point of TFE is to suppress polymerization (post polymerization) after irradiation. Thereafter, gamma rays with cobalt 60 were irradiated at 20, 182, and 400 kGy under the temperature conditions of 25 ° C., −78 ° C., and −196 ° C., respectively (re-irradiation step) to obtain a crosslinked PTFE resin.

実施例3で得られたPTFE粉体の示差走査熱分析により得られた結晶融解温度および結晶融解熱量の測定結果を表3及び表4、図6〜9にそれぞれ示す。また比較のため各図には実施例1の結果を加えて示す。   Tables 3 and 4 and FIGS. 6 to 9 show the measurement results of the crystal melting temperature and the crystal melting heat quantity obtained by differential scanning calorimetry of the PTFE powder obtained in Example 3, respectively. For comparison, the results of Example 1 are also shown in each figure.

〔評価〕
(1)実施例1で-196℃においてガンマ線を700kGy照射して得られたPTFE粉体を走査型電子顕微鏡により観察した。観測写真を図1に示す。測定はJEOL JSM-6700Fにより加速電圧10kVで行った。観察の結果、得られたPTFE粉体の平均粒径は1〜10μm程度であり、大部分は2〜5μm程度であった。
(2)実施例1で-196℃の固相状態において700kGy照射して得られたPTFEと市販のPTFE粉体の19F HS MAS NMRによる解析結果を図2に示す。市販のPTFEにおいては-CF2-CF 2 -CF2-(下線のあるフッ素原子が観測対象。以下、同じ)に帰属される-121.9ppmが唯一のピークである(90.5、15.7、-228.1および334.1は同ピークのスピニングサイドバンド)。
[Evaluation]
(1) The PTFE powder obtained by irradiating 700 kGy of gamma rays at -196 ° C. in Example 1 was observed with a scanning electron microscope. An observation photograph is shown in FIG. The measurement was performed with a JEOL JSM-6700F at an acceleration voltage of 10 kV. As a result of observation, the average particle size of the obtained PTFE powder was about 1 to 10 μm, and most of the average particle size was about 2 to 5 μm.
(2) 19 F HS MAS NMR analysis results of PTFE obtained by irradiation with 700 kGy in the solid state at −196 ° C. in Example 1 and commercially available PTFE powder are shown in FIG. In the commercially available PTFE, -121.9ppm attributed to -CF 2 -C F 2 -CF 2- (underlined fluorine atoms are observed, the same applies hereinafter) is the only peak (90.5, 15.7, -228.1) And 334.1 are spinning sidebands of the same peak).

一方、-196℃において照射して得られたPTFEには>CF-に帰属される-184.5ppmのシグナル(-3.4および-215.8ppmは同ピークのスピニングサイドバンド)あるいは-CF 2 -CF(CF 2 -)-CF 2 -に帰属される-109.2ppmのシグナルが観測された。いずれのシグナルも三級炭素の存在を示すものである。三級炭素による分岐は、直鎖上である市販のPTFEには決して観られない部位である。この点が、TFEを固相状態で照射して得られた本発明の架橋PTFE樹脂に特有のPTFEにおける架橋点(ブランチ)であり、架橋構造を形成している証拠である。 On the other hand, PTFE obtained by irradiation at -196 ° C has a signal of -184.5ppm attributed to> C F -(-3.4 and -215.8ppm are the spinning sidebands of the same peak) or -C F 2 -CF A signal of −109.2 ppm attributed to (C F 2 −) — C F 2 − was observed. Both signals indicate the presence of tertiary carbon. Tertiary carbon branching is a site never seen in commercial PTFE on a straight chain. This point is a cross-linking point (branch) in PTFE unique to the cross-linked PTFE resin of the present invention obtained by irradiating TFE in a solid phase, and is evidence that a cross-linked structure is formed.

また-CF2-CF 3 に帰属されるシグナルが-82.2ppm(24.1は同ピークのスピニングサイドバンド)に、-CF 2 -CF3に帰属されるシグナルが-126.4ppm(-20.4および-232.5は同ピークのスピニングサイドバンド)に、さらにCF2-CF(CF 3 )-CF2-の非晶部に帰属されるシグナルが-66.8ppmに、同結晶部に帰属されるシグナルが-70.3ppmに観測された。いずれも末端基に属するシグナルでありTFHを固相状態で照射して得られたPTFEには分子鎖末端が多いことを示している。その他に、-90.7ppmのシグナルがCF 2 =CF−CF2−に、-157.7ppmのシグナルがRf-CF=CF-Rfに帰属される。TFEを固相状態で照射して得られたPTFEには架橋構造の他に多種の二重結合も形成されている。 The signal attributed to -CF 2 -C F 3 is -82.2 ppm (24.1 is the spinning sideband of the same peak), and the signal attributed to -C F 2 -CF 3 is -126.4 ppm (-20.4 and- 232.5 is the spinning sideband of the same peak), and the signal attributed to the amorphous part of CF 2 -CF (C F 3 ) -CF 2- is -66.8 ppm, and the signal attributed to the same crystal part is- It was observed at 70.3 ppm. All are signals belonging to the end group, indicating that PTFE obtained by irradiating TFH in a solid phase has many molecular chain ends. In addition, a signal of -90.7 ppm is assigned to C F 2 = CF-CF 2- , and a signal of -157.7 ppm is assigned to Rf-C F = C F -Rf. In addition to the crosslinked structure, various double bonds are formed in PTFE obtained by irradiating TFE in the solid state.

また架橋点の数については以下のように算出した。NMRスペクトルの全てのシグナルについて帰属を行い、それぞれのシグナルのピーク面積を求めた。さらに各構造式中のシグナルに起因するフッ素(F)原子数でピーク面積を割り、各シグナルを規格化した。規格化した値の総数に対する各シグナルの割合を百分率で算出し、それぞれのシグナル(構造式)の存在比を求めた。分岐構造を有するシグナルの存在比を表5に示した。   The number of crosslinking points was calculated as follows. All signals in the NMR spectrum were assigned and the peak area of each signal was determined. Further, each signal was normalized by dividing the peak area by the number of fluorine (F) atoms resulting from the signal in each structural formula. The ratio of each signal to the total number of normalized values was calculated as a percentage, and the abundance ratio of each signal (structural formula) was determined. Table 5 shows the abundance ratio of signals having a branched structure.

表5より、CF3のブランチング含まない架橋点の存在比は約1%であり(ピーク番号4)、CF3のブランチングを含めるとその存在比は約2.5%となる(ピーク番号2,3および4の和)。よって-196℃の固相状態において700kGy照射して得られたPTFEにおける架橋点(ブランチング点)の総数は約2.5%である。 From Table 5, the abundance ratio of the crosslinking points not containing CF 3 branching is about 1% (peak number 4), and the inclusion ratio of CF 3 branching is about 2.5% (peak number 2, 3 and 4). Therefore, the total number of crosslinking points (branching points) in PTFE obtained by irradiation with 700 kGy in the solid state at -196 ° C. is about 2.5%.

また19F HS MAS NMRスペクトルデータから架橋点数を求める方法については、“Radiochemical Yields for Cross-Links and Branches in Radiation-Modified Poly(tetrafluoroethylene)”Macromolecules 2002, 35, 9079-9082にも記されている。
(3)実施例1および2において得られたPTFE粉体の収率(仕込みモノマーに対するPTFE粉体の生成量)を図3に示す。なお収率は次式により求めた。
収率=(生成したPTFE粉体の重量)/(仕込みモノマーの重量)×100
(4)実施例1および2の結果から、本発明の製造方法における上記放射線照射工程を行うと、放射線線量の増加に伴い、結晶融解温度が低下しなおかつ結晶化熱量も減少する。つまり固相状態での照射により架橋構造が形成され、PTFEの結晶化度が低下し、低結晶性のPTFEが得られることを示している。
A method for obtaining the number of crosslinking points from 19 F HS MAS NMR spectrum data is also described in “Radiochemical Yields for Cross-Links and Branches in Radiation-Modified Poly (tetrafluoroethylene)” Macromolecules 2002, 35, 9079-9082.
(3) The yield of the PTFE powder obtained in Examples 1 and 2 (the amount of PTFE powder produced relative to the charged monomer) is shown in FIG. The yield was determined by the following formula.
Yield = (weight of produced PTFE powder) / (weight of charged monomer) × 100
(4) From the results of Examples 1 and 2, when the radiation irradiation step in the production method of the present invention is performed, the crystal melting temperature is lowered and the crystallization heat quantity is also reduced as the radiation dose increases. That is, it is shown that a crosslinked structure is formed by irradiation in a solid phase, the crystallinity of PTFE is lowered, and low crystalline PTFE can be obtained.

また同じ固相状態でも-158℃の方が-196℃よりも早く架橋が進行し、その収率も高くなり、TFE融点である-142.5℃に近い温度の方が、収率を高めるのに有利であることがわかる。   Even in the same solid state, -158 ° C crosslinks faster than -196 ° C, and the yield increases. A temperature close to the TFE melting point of -142.5 ° C increases the yield. It turns out to be advantageous.

一方、比較例1,2のように、液相状態(-78℃および25℃)における照射では、結晶融解温度の低下は見られず、結晶化熱量も大きな値を示しており、結晶性の低下は見られない。つまりこれらの温度条件で照射を行っても、非晶性の架橋PTFEは得られないことを示している。   On the other hand, as in Comparative Examples 1 and 2, the irradiation in the liquid phase state (−78 ° C. and 25 ° C.) showed no decrease in the crystal melting temperature, and the crystallization heat amount showed a large value. There is no decline. That is, it is shown that amorphous crosslinked PTFE cannot be obtained even when irradiation is performed under these temperature conditions.

以上の結果からTFEモノマーと重合生成したPTFEを分離して、PTFEのみを酸素不在下で照射しても架橋反応が進行することがわかる。さらにTFEモノマーと重合生成したPTFEを分離した後の照射(再照射工程)においては、TFEの融点よりも高い温度で照射を行っても、架橋反応が進行する。さらに実施例1の温度条件-196℃で照射をして重合させる条件よりも、TFEモノマーと分離したPTFEのみを照射する場合は、-196℃よりもより高い温度で照射した方が、架橋が効率的に進行することがわかる。   From the above results, it can be seen that the cross-linking reaction proceeds even when the TFE monomer is separated from the polymerized PTFE and only PTFE is irradiated in the absence of oxygen. Further, in the irradiation (re-irradiation step) after separating the TFE monomer and the polymerized PTFE, the crosslinking reaction proceeds even if irradiation is performed at a temperature higher than the melting point of TFE. Furthermore, in the case of irradiating only the PTFE separated from the TFE monomer, compared with the temperature condition of Example 1 at −196 ° C. for the polymerization, the cross-linking is caused by irradiation at a temperature higher than −196 ° C. It turns out that it progresses efficiently.

実施例1で、-196℃においてガンマ線を700kGy照射して得られたPTFEの走査型電子顕微鏡による観測写真である。FIG. 3 is an observation photograph of PTFE obtained by irradiating gamma rays at 700 kGy at −196 ° C. with a scanning electron microscope in Example 1. FIG. 実施例1で、-196℃においてガンマ線を700kGy照射して得られたPTFEの19F HS MAS NMRによる構造解析結果である。It is a structural analysis result by 19 F HS MAS NMR of PTFE obtained in Example 1 by irradiating 700 kGy with gamma rays at -196 ° C. 実施例1および2における-196℃と-158℃において、ガンマ線を照射して得られたPTFEの仕込みTFE量に対する収率である。This is the yield of PTFE obtained by irradiating gamma rays at −196 ° C. and −158 ° C. in Examples 1 and 2 with respect to the charged TFE amount. 実施例1及び2、比較例1及び2でTFEにガンマ線を照射して得られたPTFEの結晶融解温度である。It is the crystal melting temperature of PTFE obtained by irradiating TFE with gamma rays in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2. 実施例1及び2、比較例1及び2でTFEにガンマ線を照射して得られたPTFEの結晶融解熱量である。This is the heat of crystal melting of PTFE obtained by irradiating TFE with gamma rays in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2. 実施例3で-196℃でTFEにガンマ線20kGyを照射し、その後TFEと分離して得られたPTFEを再び照射したPTFEの結晶融解温度である。This is the crystal melting temperature of PTFE irradiated with 20 gGy of gamma rays at −196 ° C. in Example 3 and then irradiated again with PTFE obtained by separation from TFE. 実施例3で-196℃でTFEにガンマ線20kGyを照射し、その後TFEと分離して得られたPTFEを再び照射したPTFEの結晶融解熱量である。This is the amount of heat of crystal melting of PTFE that was irradiated with 20 kGy of gamma rays at −196 ° C. in Example 3 and then irradiated again with PTFE obtained by separation from TFE. 実施例3で-196℃でTFEにガンマ線182kGyを照射し、その後TFEと分離して得られたPTFEを再び照射したPTFEの結晶融解温度である。This is the crystal melting temperature of PTFE that was irradiated with gamma ray 182 kGy at −196 ° C. in Example 3 and then irradiated again with PTFE obtained by separation from TFE. 実施例3で-196℃でTFEにガンマ線182kGyを照射し、その後TFEと分離して得られたPTFEを再び照射したPTFEの結晶融解熱量である。This is the amount of heat of crystal melting of PTFE irradiated with PTFE obtained by irradiating TFE with gamma ray 182 kGy at −196 ° C. in Example 3 and then separating from TFE.

Claims (7)

テトラフルオロエチレンモノマーを融点以下の温度における固相状態とし、固相状態の該テトラフルオロエチレンモノマーに電離性放射線を照射する放射線照射工程を行うことを特徴とする架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂の製造方法A method for producing a crosslinked polytetrafluoroethylene resin, comprising: performing a radiation irradiation step of irradiating ionizable radiation to the tetrafluoroethylene monomer in a solid phase state, wherein the tetrafluoroethylene monomer is in a solid phase state at a temperature below the melting point. . 上記放射線照射工程の後、未反応のテトラフルオロエチレンモノマーを分離・除去し、得られたポリテトラフルオロエチレンにテトラフルオロエチレンモノマーの融点以上の温度でかつ酸素濃度10-2torr以下とした状態において再び電離性放射線を照射する、再照射工程を行うことを特徴とする請求項1記載の架橋ポリテトラフルオロエチレン樹脂の製造方法。 After the radiation irradiation step, unreacted tetrafluoroethylene monomer is separated and removed, and the resulting polytetrafluoroethylene is in a state where the temperature is not less than the melting point of the tetrafluoroethylene monomer and the oxygen concentration is not more than 10 −2 torr. The method for producing a crosslinked polytetrafluoroethylene resin according to claim 1, wherein a re-irradiation step of irradiating ionizing radiation is performed again. 上記放射線照射工程における放射線を照射する際の温度が-142.5℃以下である請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein a temperature at the time of irradiation with radiation in the radiation irradiation step is −142.5 ° C. or lower. 上記放射線照射工程における放射線の線量が10〜1000kGyである請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the radiation dose in the radiation irradiation step is 10 to 1000 kGy. 上記再照射工程における放射線の線量が10〜1000kGyである請求項2に記載の方法。 The method according to claim 2, wherein the radiation dose in the re-irradiation step is 10 to 1000 kGy. 前記樹脂の平均粒径が10μm以下の粉末状であることを特徴とする諸求項1あるいは2に記載の方法。 3. The method according to claim 1 or 2, wherein the resin is in the form of a powder having an average particle size of 10 μm or less. 前記架橋構造は、
























で示されるいずれか1種以上のY字型の分岐を持つ高分子鎖による網目構造である、請求項1あるいは2に記載の方法。
The crosslinked structure is
























The method according to claim 1 or 2, which is a network structure of polymer chains having at least one Y-shaped branch represented by the following formula.
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