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JP4853775B2 - Method for producing plated film with patterned metal film using reducing polymer fine particles - Google Patents
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JP4853775B2 - Method for producing plated film with patterned metal film using reducing polymer fine particles - Google Patents

Method for producing plated film with patterned metal film using reducing polymer fine particles Download PDF

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Description

本発明は、基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムを簡便にかつ経済的に製造する方法に関するものであり、特に、特定の還元性ポリマー微粒子を用いる事により、基材フィルム上にパターン化された金属膜を、無電解めっきにより容易に形成することを可能とする製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for easily and economically producing a plated film in which a patterned metal film is formed on a substrate film, and in particular, by using specific reducing polymer fine particles, The present invention relates to a manufacturing method that makes it possible to easily form a patterned metal film on a material film by electroless plating.

フィルム上にパターン化されためっきを付ける技術は、印刷配線基板などの電気回路の作製等に応用されている。古くから知られている印刷回路配線基板などの電気回路は、1.銅、金、酸化すずなどの金属材料で被覆された絶縁性基板(シート)に、2,感光性樹脂などのフォトレジスト材料を塗工し、3,所望するパターンを持ったフォトマスクをかけて紫外線等を照射して、照射部のみにフォトレジスト剤を硬化させ、4,未硬化のレジスト剤を除いた後に、化学エッチングにより不要な銅箔部分を除去して回路を形成するものであった。これらの方法は、工程が非常に複雑である上、レジスト剤の除去や大部分の金属をエッチングにより溶解除去しなければならない等、資源やエネルギーの無駄な消費の他、環境的にも極めて負荷が高いといった問題があった。
この様な問題点を解決する方法として、基材フィルム上にパターン化された導電性高分子層を形成し、該導電性高分子層上にめっきを施すことにより電気回路を作製する方法が幾つか提案されている。
The technique of attaching a patterned plating on a film is applied to the production of an electric circuit such as a printed wiring board. Electrical circuits such as printed circuit wiring boards, which have been known for a long time, are: 2. Insulating substrate (sheet) covered with metal material such as copper, gold, tin oxide, etc. 2. Photo-resist material such as photosensitive resin is applied, 3, and a photomask with the desired pattern is applied. After irradiating ultraviolet rays and the like, the photoresist agent was cured only in the irradiated portion, and after removing the uncured resist agent 4, unnecessary copper foil portions were removed by chemical etching to form a circuit. . These methods are extremely complicated in process, and wasteful consumption of resources and energy, such as removal of resist agent and dissolution and removal of most metals by etching. There was a problem that was high.
As a method for solving such a problem, there are several methods for forming an electric circuit by forming a patterned conductive polymer layer on a base film and plating the conductive polymer layer. Or has been proposed.

特許文献1には、基板上に光照射によりモノマーの酸化重合性が消失または減少する性質を持つ触媒を含む触媒層を形成し、マスクパターンを介して光を照射する工程、該触媒層の光非照射部に導電性高分子の回路パターンを形成する工程、該導電性高分子の回路パターン上に無電解めっき液から金属膜を化学めっきする工程からなる電気回路基板の製法が開示されている。   Patent Document 1 discloses a step of forming a catalyst layer containing a catalyst having a property that the oxidative polymerization property of a monomer disappears or decreases by light irradiation on a substrate and irradiating light through a mask pattern, and light from the catalyst layer. A method for producing an electric circuit board comprising a step of forming a conductive polymer circuit pattern on a non-irradiated portion, and a step of chemically plating a metal film from an electroless plating solution on the conductive polymer circuit pattern is disclosed. .

特許文献2には、基板上に、モノマー重合能を有する触媒層からなる所望のパターンを、インクジェット方式等を用いて直接形成し、次いで該触媒により重合され重合後に導電性高分子を生成するモノマー成分を接触させて該触媒層のパターンに対応するパターン状導電性高分子層を得た後、該パターン状導電性高分子層の上に金属めっきを施すことにより金属回路パターンを形成することを特徴とする電気回路基板の製造方法が開示されている。   Patent Document 2 discloses a monomer in which a desired pattern composed of a catalyst layer having a monomer polymerization ability is directly formed on a substrate using an inkjet method or the like, and then polymerized by the catalyst to form a conductive polymer after polymerization. After contacting the components to obtain a patterned conductive polymer layer corresponding to the pattern of the catalyst layer, a metal circuit pattern is formed by performing metal plating on the patterned conductive polymer layer. A featured electrical circuit board manufacturing method is disclosed.

特許文献3には、金属化される物質がポリアニリンを含有する被覆を施され、ポリアニリンが還元により活性化され、及び、被覆を施された物質を金属のイオン含有溶液と接触せしめることにより、非電気化学的方法で金属が物質に付着されることを特徴とする金属化物質の製造方法が開示されている。
特許第3069942号明細書 特開2004−31392号公報 特許第3208735号明細書
Patent Document 3 discloses that a metallized substance is coated with polyaniline, the polyaniline is activated by reduction, and the coated substance is brought into contact with a metal ion-containing solution. Disclosed is a method for producing a metallized material characterized in that a metal is attached to the material by an electrochemical method.
Japanese Patent No. 3069942 JP 2004-31392 A Japanese Patent No. 3208735

特許文献1に開示されている電気回路の製造方法においては、得られた電気回路には、酸化剤を含む触媒層が残留することとなるが、この残留した触媒層中の酸化剤は、めっきされた金属を酸化するため、得られた金属めっき膜は、酸化による腐食が激しく中〜長期
の実用には耐え得ないものであった。
更に、得られた金属めっき膜は、その下に、触媒層及び導電性高分子層を有する多層構造となることより、基材に対する密着性が不十分となり、そのため、該金属めっき膜は基材層から剥離され易くなることが懸念される。
加えて、上記製造方法においては、モノマーを重合する際に、専用の装置が必要となり、例えば、気相で重合する場合には、モノマー蒸気が飛散しないような密閉系を保持できる装置が必要であり、液相で重合する場合には、モノマー液が浸漬できる槽及び基材フィルムを乾燥するオーブンが必要となるといった問題があった。
In the method of manufacturing an electric circuit disclosed in Patent Document 1, a catalyst layer containing an oxidant remains in the obtained electric circuit, and the oxidant in the remaining catalyst layer is plated. In order to oxidize the deposited metal, the obtained metal plating film was severely corroded by oxidation and could not withstand medium to long-term practical use.
Furthermore, since the obtained metal plating film has a multilayer structure having a catalyst layer and a conductive polymer layer underneath, the adhesion to the substrate is insufficient, and therefore the metal plating film is a base material. We are anxious about becoming easy to peel from a layer.
In addition, the above production method requires a dedicated device for polymerizing the monomer. For example, when polymerizing in the gas phase, a device capable of maintaining a closed system in which the monomer vapor is not scattered is necessary. In the case of polymerization in the liquid phase, there is a problem that a tank in which the monomer liquid can be immersed and an oven for drying the substrate film are required.

特許文献2には、インクジェットを用いることによる電気回路の製造方法が開示されている。この方法は、インクジェットを用いてパターン化を行うため、特許文献1のように光によるパターン化を必要としない点で簡便な方法といえるが、一方で、触媒層をインクジェットでパターン化して形成する際、触媒として使用する酸化剤が、ジェットノズルの腐食や付随する装置の腐食を引き起こすという新たな問題を生じる。
更に、特許文献1と同様の問題、即ち、残留した酸化剤による金属めっき膜の腐食の問題、多層構造による金属めっき膜の密着性不足による易剥離性の問題及びモノマーを重合する際に、専用の装置を必要とするという問題が依然存在する。
Patent Document 2 discloses a method of manufacturing an electric circuit by using an ink jet. Since this method performs patterning using an inkjet, it can be said that it is a simple method in that it does not require patterning with light as in Patent Document 1, but on the other hand, the catalyst layer is formed by patterning with an inkjet. In this case, the oxidizing agent used as a catalyst causes a new problem that the corrosion of the jet nozzle and the accompanying equipment are caused.
Furthermore, the same problems as in Patent Document 1, that is, the problem of corrosion of the metal plating film due to the remaining oxidant, the problem of easy peelability due to insufficient adhesion of the metal plating film due to the multilayer structure, and the polymerization of the monomer There still remains the problem of requiring a lot of equipment.

特許文献3は、特許文献1及び2のように基材上でモノマーを重合して導電性高分子層を形成するのではなく、ポリアニリン等の既に重合された導電性高分子を用いる金属化物質の製造方法を開示する。該製造方法は、既に重合された導電性高分子を用いるため酸化触媒を使用せず、従って、特許文献1及び2での問題、即ち、残留した酸化剤による金属めっき膜の腐食の問題、多層構造による金属めっき膜の密着性不足による易剥離性の問題及びモノマーを重合する際に、専用の装置を必要とするという問題が生じないという点で優れた方法といえる。
しかし、特許文献3に記載の製造方法においては、非電気化学的方法(=無電解)で導電性高分子層上にめっきを行って金属を付着させる前に、該導電性高分子をヒドラジン等の化学的還元剤で還元(=脱ドープ)して活性化する必要があり、該ヒドラジン等による還元(=脱ドープ)は、アルカリ条件下による長時間の処理により行われるため、使用する基材が該アルカリ条件に耐えられるものに限定されてしまうこと、また、該処理によりポリアニリン自身の塗膜の強度が低下すること等の新たな問題が生じる。更には、特許文献3に記載の製造方法においては、形成する導電性高分子層をパターン化する方法が何ら記載されておらず、従って、どのようにして導電性高分子層をパターン化するかが不明であった。
Patent Document 3 does not form a conductive polymer layer by polymerizing monomers on a substrate as in Patent Documents 1 and 2, but uses a metallized substance that uses an already polymerized conductive polymer such as polyaniline. The manufacturing method is disclosed. The manufacturing method uses an already polymerized conductive polymer and thus does not use an oxidation catalyst. Therefore, the problems in Patent Documents 1 and 2, that is, the problem of corrosion of the metal plating film due to the remaining oxidizing agent, the multilayer This can be said to be an excellent method in that the problem of easy peelability due to insufficient adhesion of the metal plating film due to the structure and the problem that a dedicated device is not required when polymerizing the monomer do not occur.
However, in the production method described in Patent Document 3, before conducting plating on the conductive polymer layer by a non-electrochemical method (= electroless) and attaching the metal, the conductive polymer is added to hydrazine or the like. It is necessary to activate by reducing (= de-doping) with a chemical reducing agent of the above, and the reduction (= de-doping) with hydrazine or the like is performed by a long-time treatment under alkaline conditions. Are limited to those that can withstand the alkaline conditions, and the treatment causes new problems such as a decrease in the strength of the coating film of the polyaniline itself. Furthermore, the manufacturing method described in Patent Document 3 does not describe any method for patterning the conductive polymer layer to be formed, and therefore, how to pattern the conductive polymer layer. Was unknown.

本発明は、上記特許文献における問題、即ち、1)酸化剤等により引き起こされる各種の腐食の問題、2)導電性高分子を重合するための専用施設の問題、3)強アルカリ等で脱ドープする工程を必要とする問題等を解決しうる、基材フィルム上へ思い通りにパターン化でき且つ基材フィルムとの密着性が高い金属めっき膜を極めて簡略化された工程で得ることができる製造方法の提供を課題とする。   The present invention has the problems in the above-mentioned patent documents, that is, 1) problems of various corrosions caused by oxidizing agents, 2) problems of dedicated facilities for polymerizing conductive polymers, 3) dedoping with strong alkalis, etc. The manufacturing method which can obtain the metal plating film which can be patterned as desired on the base film and has high adhesion to the base film in a very simplified process, which can solve the problems that require the process to be performed The issue is to provide

本発明者らは、特許文献1ないし3における上記の問題を回避するために、ピロール及び/又はピロール誘導体のポリマー微粒子からなる塗料を採用し、基材フィルム上に該塗料をインクジェット方式でパターン化して印刷して導電ポリマー層を形成し、該導電ポリマー層上に非電気化学的方法(=無電解)でめっきを施して金属を付着させる試みを行ったが、めっきの形成は不十分であった。そこで種々検討した結果、ポリマー微粒子の導電率を0.01S/cm未満とすると、脱ドープの処理を行わなくても非電気化学的方法(=無電解)で該ポリマー層上にめっきを行って金属を付着させることが可能であることを見出し、本発明を完成させた。   In order to avoid the above-described problems in Patent Documents 1 to 3, the present inventors employ a coating material composed of polymer fine particles of pyrrole and / or a pyrrole derivative, and pattern the coating material on a base film by an inkjet method. An attempt was made to deposit a metal by applying a non-electrochemical method (= electroless) to form a conductive polymer layer on the conductive polymer layer, but the formation of the plating was insufficient. It was. As a result of various studies, if the electrical conductivity of the polymer fine particles is less than 0.01 S / cm, the polymer layer is plated by a non-electrochemical method (= electroless) without performing a dedope treatment. The inventors have found that it is possible to deposit metal and have completed the present invention.

即ち、本発明は、
1.基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法であって、
1)有機溶媒と、水と、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより、有機溶媒に分散した導電率が0.01S/cm未満である微粒子を得る工程、
2)前記微粒子が分散された塗料を基材フィルム上に印刷してパターン化されたポリマー層を形成する工程、
3)前記ポリマー層に無電解めっき液から金属膜を化学めっきする工程、
よりなる製造方法、
2.前記基材フィルムへの印刷としてインクジェット方式の印刷を用いる前記1.記載の製造方法、
に関するものである。
That is, the present invention
1. A method for producing a plated film in which a patterned metal film is formed on a base film,
1) A monomer of pyrrole and / or a pyrrole derivative is added to an O / W emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, an anionic surfactant and a nonionic surfactant, and the monomer. A step of obtaining fine particles having an electrical conductivity dispersed in an organic solvent of less than 0.01 S / cm by oxidative polymerization of
2) A step of printing a paint in which the fine particles are dispersed on a base film to form a patterned polymer layer;
3) a step of chemically plating a metal film from an electroless plating solution on the polymer layer;
A manufacturing method comprising:
2. The above-mentioned 1. using ink jet printing as the printing on the base film. Described manufacturing method,
It is about.

本発明の製造方法により、簡便な方法で基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムを製造することができ、腐食等を引き起こさないものである。
更に、本発明の製造方法は、脱ドープの処理を行わなくても非電気化学的方法(=無電解)で該ポリマー層上にめっきを行って金属を付着させることが可能であり、これにより、操作を簡素化できると同時に、長時間のアルカリ処理によるポリマー層の密着性の低下を防止でき、結果として金属めっき膜の密着強度の低下を防止できる。
そして、本発明において、ポリマー層のパターン化は、インクジェット等の印刷技術を用いて容易に行うことができる。この場合、特許文献2とは異なり、印刷する塗料中には酸化剤等のジェットノズルを腐食させるような物質が含まれていないため、前記のような腐食が問題となることはない。
According to the production method of the present invention, a plated film in which a patterned metal film is formed on a base film can be produced by a simple method and does not cause corrosion or the like.
Furthermore, the production method of the present invention can deposit a metal by plating on the polymer layer by a non-electrochemical method (= electroless) without performing a dedoping treatment. The operation can be simplified, and at the same time, a decrease in the adhesion of the polymer layer due to a long-time alkali treatment can be prevented, and as a result, a decrease in the adhesion strength of the metal plating film can be prevented.
And in this invention, patterning of a polymer layer can be easily performed using printing techniques, such as an inkjet. In this case, unlike Patent Document 2, the coating material to be printed does not contain a substance that corrodes the jet nozzle, such as an oxidizer, so that the above-described corrosion does not become a problem.

本発明の基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法においては、基材フィルム上に導電性のポリマー層を形成するのではなく、殆ど導電性を有さないポリマー層を形成させる。該ポリマー層は、既に脱ドープされた状態、即ち、還元性能力を有しており、これにより、特許文献3に記載の製造方法のように、無電解めっきを施す前に、還元(=脱ドープ)処理を行うことを不要とするものである。   In the manufacturing method of the plating film in which the patterned metal film was formed on the base film of the present invention, the conductive polymer layer is not formed on the base film, but has almost no conductivity. A polymer layer is formed. The polymer layer is already in a dedoped state, that is, has a reducing ability. Thus, like the manufacturing method described in Patent Document 3, the polymer layer is reduced (= desorbed) before electroless plating is performed. Doping) is unnecessary.

例えば、導電性を有するポリピロールは式(1)で表されるようにドーパントアニオンとイオン結合を形成していると考えられ、そのため、ポリピロールが還元性を有するためには、還元等によりドーパントアニオンを除去して式(2)で表される還元状態とする必要がある。
一方、本発明におけるポリマー層は、殆ど導電性を有さないものであり、従って、ポリピロールは初めから式(2)で表される還元状態にあると考えられ、そのため、その後の塩化パラジウム処理によりパラジウムイオンを還元して金属パラジウムにすると考えられる。そして生成した金属パラジウムはポリピロール表面に吸着して式(3)で表される状態となり、吸着された金属パラジウムが無電解めっきの活性化触媒として働き、ポリピロール表面上に金属膜が形成されることになると考えられる。

Figure 0004853775
このように、殆ど導電性を有さないポリマー層を形成する本発明の製造方法は、導電性高分子層が電気を通す性質を利用して、該導電性高分子層に電極を設けて直接電解めっきをかけるか、又は該導電性高分子層を脱ドープし、還元性を有する状態にしてから無電解めっきを行う方法とは明らかに異なるものである。 For example, polypyrrole having conductivity is considered to form an ionic bond with a dopant anion as represented by the formula (1). Therefore, in order for polypyrrole to have a reducing property, the dopant anion is reduced by reduction or the like. It is necessary to remove and make it the reduced state represented by Formula (2).
On the other hand, the polymer layer in the present invention has almost no conductivity. Therefore, it is considered that polypyrrole is in a reduced state represented by the formula (2) from the beginning, and therefore, by subsequent palladium chloride treatment. It is thought that palladium ions are reduced to metallic palladium. Then, the produced metal palladium is adsorbed on the polypyrrole surface and becomes a state represented by the formula (3), and the adsorbed metal palladium acts as an activation catalyst for electroless plating, and a metal film is formed on the polypyrrole surface. It is thought that it becomes.
Figure 0004853775
As described above, the manufacturing method of the present invention for forming a polymer layer having almost no electrical conductivity uses the property that the conductive polymer layer conducts electricity, and directly provides an electrode on the conductive polymer layer. This is clearly different from the method in which electroless plating is applied or the electroconductive polymer layer is dedoped and brought into a reducing state before electroless plating.

本発明の基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法に使用するピロール及び/又はピロール誘導体のポリマー微粒子は、有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより製造される。   The polymer fine particles of pyrrole and / or pyrrole derivatives used in the method for producing a plated film in which a patterned metal film is formed on the base film of the present invention are organic solvent, water, anionic surfactant and nonionic type. It is produced by adding a monomer of pyrrole and / or a pyrrole derivative to an O / W type emulsion obtained by mixing and stirring with a surfactant and subjecting the monomer to oxidative polymerization.

前記製造で使用可能なピロールおよびその誘導体としては、ピロール、N−メチルピロール、N−エチルピロール、N−フェニルピロール、N−ナフチルピロール、N−メチル−3−メチルピロール、N−メチル−3−エチルピロール、N−フェニル−3−メチルピロール、N−フェニル−3−エチルピロール、3−メチルピロール、3−エチルピロール、3−n−ブチルピロール、3−メトキシピロール、3−エトキシピロール、3−n−プロポキシピロール、3−n−ブトキシピロール、3−フェニルピロール、3−トルイルピロール、3−ナフチルピロール、3−フェノキシピロール、3−メチルフェノキシピロール、3−アミノピロール、3−ジメチルアミノピロール、3−ジエチルアミノピロール、3−ジフェニルアミノピロール、3−メチルフェニルアミノピロール、3−フェニルナフチルアミノピロール等が挙げられる。特に好ましいのはピロールである。   Examples of pyrrole and derivatives thereof that can be used in the production include pyrrole, N-methylpyrrole, N-ethylpyrrole, N-phenylpyrrole, N-naphthylpyrrole, N-methyl-3-methylpyrrole, N-methyl-3-pyrrole. Ethyl pyrrole, N-phenyl-3-methyl pyrrole, N-phenyl-3-ethyl pyrrole, 3-methyl pyrrole, 3-ethyl pyrrole, 3-n-butyl pyrrole, 3-methoxy pyrrole, 3-ethoxy pyrrole, 3- n-propoxypyrrole, 3-n-butoxypyrrole, 3-phenylpyrrole, 3-toluylpyrrole, 3-naphthylpyrrole, 3-phenoxypyrrole, 3-methylphenoxypyrrole, 3-aminopyrrole, 3-dimethylaminopyrrole, 3 -Diethylaminopyrrole, 3-diphenylaminopyrrole 3-methylphenylamino pyrrole, 3-phenyl naphthyl amino pyrrole, and the like. Particularly preferred is pyrrole.

また前記製造に用いるアニオン系界面活性剤としては、種々のものが使用できるが、疎水性末端を複数有するもの(例えば、疎水基に分岐構造を有するものや、疎水基を複数有するもの)が好ましい。このような疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤を使用することにより、安定したミセルを形成させることができ、重合後において水相と有機溶媒相との分離がスムーズであり、有機溶媒相に分散したポリピロール及び/ポリピロール誘導体微粒子が入手し易い。
疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤の中でも、スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルナトリウム(疎水性末端4つ)、スルホコハク酸ジ−2−エチルオクチルナトリウム(疎水性末端4つ)および分岐鎖型アルキルベンゼンスルホン酸塩(疎水性末端2つ)が好適に使用できる。
Various anionic surfactants used in the production can be used, but those having a plurality of hydrophobic ends (for example, those having a branched structure in a hydrophobic group or those having a plurality of hydrophobic groups) are preferred. . By using such an anionic surfactant having a plurality of hydrophobic ends, stable micelles can be formed, and separation between the aqueous phase and the organic solvent phase is smooth after the polymerization. Polypyrrole and / or polypyrrole derivative fine particles dispersed in are easily available.
Among anionic surfactants having multiple hydrophobic ends, di-2-ethylhexyl sodium sulfosuccinate (4 hydrophobic ends), di-2-ethyloctyl sodium sulfosuccinate (4 hydrophobic ends) and branched type Alkyl benzene sulfonate (two hydrophobic ends) can be preferably used.

反応系中でのアニオン系界面活性剤の量は、ピロールおよび/ピロール誘導体のモノマー1molに対し0.05mol未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.005mol〜0.03molである。0.05mol以上では添加したアニオン性界面活性剤がドーパントとして作用し、得られる微粒子は導電性を発現するため、これを用いて無電解めっきを行うためには脱ドープの工程が必要となる。   The amount of the anionic surfactant in the reaction system is preferably less than 0.05 mol, more preferably 0.005 mol to 0.03 mol, relative to 1 mol of the monomer of pyrrole and / or a pyrrole derivative. When the amount is 0.05 mol or more, the added anionic surfactant acts as a dopant, and the resulting fine particles exhibit conductivity. Therefore, in order to perform electroless plating using this, a dedoping step is required.

ノニオン界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、アルキルグルコシド類、グリセリン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビダン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類が挙げられる。これらを一種類または複数混ぜて使用してもよい。特に安定的にO/W型エマルションを形成するものが好ましい。   Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ethers, alkyl glucosides, glycerin fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbidic fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, fatty acid alkanolamides, polyoxy Examples include ethylene alkyl phenyl ethers. These may be used alone or in combination. In particular, those that stably form an O / W emulsion are preferred.

反応系中でのノニオン系界面活性剤の量は、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマー1molに対し、アニオン性界面活性剤と足して0.2mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.15molである。0.05mol未満では収率や分散安定性が低下し、一方、0.2mol以上では合後において、水相と有機溶媒相との分離が困難になり、有機溶媒相にある還元性微粒子を得る事ができなくなる事から好ましくない。 The amount of the nonionic surfactant in the reaction system is preferably 0.2 mol or less, more preferably 0.05 mol, based on 1 mol of the monomer of pyrrole and / or pyrrole derivative, in addition to the anionic surfactant. ~ 0.15 mol. If it is less than 0.05mol decreases the yield and dispersion stability, whereas, after Polymerization at least 0.2 mol, separation of the aqueous and organic solvent phases becomes difficult, reducing fine particles in the organic solvent phase It is not preferable because it cannot be obtained.

前記製造において乳化液の有機相を形成する有機溶媒は疎水性であることが好ましい。なかでも、芳香族系の有機溶媒であるトルエンやキシレンは、O/W型エマルションの安定性およびピロールモノマーとの親和性の観点から好ましい。両性溶媒でもポリピロールの重合を行うことはできるが、生成したポリマー微粒子を回収する際の有機相と水相との分離が困難になる。   In the production, the organic solvent forming the organic phase of the emulsion is preferably hydrophobic. Especially, toluene and xylene which are aromatic organic solvents are preferable from the viewpoint of the stability of the O / W emulsion and the affinity with the pyrrole monomer. Although the polypyrrole can be polymerized with an amphoteric solvent, it becomes difficult to separate the organic phase and the aqueous phase when the produced polymer fine particles are recovered.

乳化液における有機相と水相との割合は、水相が75体積%以上であることが好ましい。水相が20体積%以下ではピロールモノマーの溶解量が少なくなり、生産効率が悪くなる。   The ratio of the organic phase to the aqueous phase in the emulsion is preferably 75% by volume or more in the aqueous phase. When the water phase is 20% by volume or less, the amount of pyrrole monomer dissolved is reduced and the production efficiency is deteriorated.

前記製造で使用する酸化剤としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸およびクロロスルホン酸のような無機酸、アルキルベンゼンスルホン酸およびアルキルナフタレンスルホン酸のような有機酸、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムおよび過酸化水素のような過酸化物が使用できる。これらは単独で使用しても、二種類以上を併用してもよい。塩化第二鉄等のルイス酸でもポリピロールを重合できるが、生成した粒子が凝集し、ポリピロールを微分散できない場合がある。特に好ましい酸化剤は、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩である。   Examples of the oxidizing agent used in the production include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and chlorosulfonic acid, organic acids such as alkylbenzenesulfonic acid and alkylnaphthalenesulfonic acid, potassium persulfate, ammonium persulfate and peroxidation. Peroxides such as hydrogen can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Polypyrrole can be polymerized even with a Lewis acid such as ferric chloride, but the produced particles may aggregate and the polypyrrole may not be finely dispersed. Particularly preferred oxidizing agents are persulfates such as ammonium persulfate.

反応系中での酸化剤の量は、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマー1molに
対して0.1mol以上、0.8mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜0.6molである。0.1mol未満ではモノマーの重合度が低下し、ポリマー微粒子を分液回収することが困難になり、一方、0.8mol以上ではポリピロールが凝集してポリマー微粒子の粒径が大きくなり、分散安定性が悪化する。
The amount of the oxidizing agent in the reaction system is preferably 0.1 mol or more and 0.8 mol or less, more preferably 0.2 to 0.6 mol with respect to 1 mol of the monomer of pyrrole and / or pyrrole derivative. . If the amount is less than 0.1 mol, the degree of polymerization of the monomer decreases, making it difficult to separate and recover the polymer fine particles. On the other hand, if it exceeds 0.8 mol, the polypyrrole aggregates to increase the particle size of the polymer fine particles, and dispersion stability Gets worse.

前記ポリマー微粒子の製造方法は、例えば以下のような工程で行われる:
(a)アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、有機溶媒および水を混合攪拌し乳化液を調製する工程、
(b)ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを乳化液中に分散させる工程、
(c)モノマーを酸化重合させる工程、
(d)有機相を分液しポリマー微粒子を回収する工程。
The polymer fine particle production method is performed, for example, in the following steps:
(A) a step of preparing an emulsion by mixing and stirring an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an organic solvent and water;
(B) a step of dispersing a monomer of pyrrole and / or a pyrrole derivative in an emulsion,
(C) oxidative polymerization of the monomer,
(D) A step of separating the organic phase and collecting the polymer fine particles.

前記各工程は、当業者に既知である手段を利用して行うことができる。例えば、乳化液の調製時に行う混合攪拌は、特に限定されないが、例えばマグネットスターラー、攪拌機、ホモジナイザー等を適宜選択して行うことができる。また重合温度は0〜25℃で、好ましくは20℃以下である。重合温度が25℃を越えると副反応が起こるので好ましくない。   Each of the above steps can be performed using means known to those skilled in the art. For example, the mixing and stirring performed at the time of preparing the emulsion is not particularly limited. For example, a magnetic stirrer, a stirrer, a homogenizer, or the like can be selected as appropriate. The polymerization temperature is 0 to 25 ° C, preferably 20 ° C or less. If the polymerization temperature exceeds 25 ° C., side reactions occur, which is not preferable.

酸化重合反応が停止されると、反応系は有機相と水相の二相に分かれるが、この際に未反応のモノマー、酸化剤および塩は水相中に溶解して残存する。ここで有機相を分液回収し、イオン交換水で数回洗浄すると、有機溶媒に分散したポリピロール微粒子を入手することができる。   When the oxidative polymerization reaction is stopped, the reaction system is divided into an organic phase and an aqueous phase. At this time, unreacted monomers, oxidizing agents and salts remain dissolved in the aqueous phase. When the organic phase is separated and recovered and washed several times with ion exchange water, polypyrrole fine particles dispersed in an organic solvent can be obtained.

上記の製造法により得られるポリマー微粒子は、主としてピロール及び/又はピロール誘導体のポリマーよりなり、そしてアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を含む微粒子である。そしてその特徴は、微細な粒径を有し、有機溶媒中で分散可能であることである。
尚、ポリマー微粒子が有する粒径は、通常、10〜100nmサイズの球形の微粒子となる。
得られたポリマー微粒子の導電率は0.01S/cm未満であり、好ましくは、0.005S/cm以下である。
The polymer fine particles obtained by the above production method are fine particles mainly composed of a polymer of pyrrole and / or a pyrrole derivative and containing an anionic surfactant and a nonionic surfactant. And the characteristic is that it has a fine particle size and is dispersible in an organic solvent.
The particle size of the polymer fine particles is usually spherical fine particles having a size of 10 to 100 nm.
The conductivity of the obtained polymer fine particles is less than 0.01 S / cm, and preferably 0.005 S / cm or less.

上記に記載した方法により得られたポリマー微粒子が有機溶媒に分散した塗料を基材上に印刷してパターン化されたポリマー層を形成する。
上記印刷の方法としては、インクジェット方式、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷などの一般的に使用される印刷技術を用いることができるが、好ましくは、インクジェット方式のような、電子機器からの直接の出力により印刷が可能な方法が挙げられる。インクジェット方式とは、インクを微小液滴化し吐出制御を行うことにより印刷物を得る方式をいい、例えば、特開2001−191517号公報に記載されているような振動板による圧力変動を利用してインクを吐出する方法や、特開2001−191531号公報に記載されているようなインクを加熱により蒸発膨張させた時の圧力変動を利用しインクを吐出する方法などが挙げられる。
基材上に印刷した後は、必要に応じて加熱を行って、乾燥させることによって容易に基材フィルム上にパターン化されたポリマー層を形成させることができる。
使用する有機溶媒は、ポリマー微粒子に損傷を与えず、ポリマー微粒子を分散させうるものであれば特に限定はしないが、好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。
A patterned polymer layer is formed by printing on a substrate a paint in which polymer fine particles obtained by the method described above are dispersed in an organic solvent.
As the printing method, generally used printing techniques such as an inkjet method, gravure printing, gravure offset printing, flexographic printing, and screen printing can be used. Preferably, an electronic device such as an inkjet method is used. A method capable of printing by direct output from is provided. The ink jet method refers to a method of obtaining a printed matter by controlling ink droplets and performing ejection control. For example, ink is utilized by utilizing pressure fluctuations caused by a diaphragm as described in JP-A-2001-191517. And a method of ejecting ink using pressure fluctuation when the ink is evaporated and expanded by heating as described in JP-A-2001-191531.
After printing on the substrate, a patterned polymer layer can be easily formed on the substrate film by heating as necessary and drying.
The organic solvent to be used is not particularly limited as long as it does not damage the polymer fine particles and can disperse the polymer fine particles, and preferably includes aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and the like.

上記塗料は、基材フィルムとの密着性を向上させるためにバインダーを添加してもよい。
添加するバインダーとしては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェ
ノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂
、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。
添加するバインダー量は、ポリピロール1質量部に対して100質量部以下が好ましく、より好ましくは10質量部以下である。100質量部以上添加すると、ポリピロールの還元性が損なわれる場合がある。
The coating material may be added with a binder in order to improve adhesion to the base film.
Examples of the binder to be added include polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, poly (N-vinylcarbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, and ethyl cellulose. , Vinyl acetate, ABS resin, polyurethane resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, silicon resin and the like.
The amount of the binder to be added is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of polypyrrole. If added in an amount of 100 parts by mass or more, the reducibility of polypyrrole may be impaired.

基材フィルムとしては、ポリイミド、ポリエステル、ガラスエポキシの他、ポリマー、セラミック、金属、紙、布などあらゆる固体材料が挙げられる。   As a base film, all solid materials, such as a polymer, a ceramic, a metal, paper, cloth other than polyimide, polyester, glass epoxy, are mentioned.

ポリピロールパターンが形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液に浸漬した後、水洗等を行い、無電解めっき浴に浸漬することにより、ポリピロールパターン部分がめっきされてパターン化されたフィルムを得ることができる。   After immersing the film on which the polypyrrole pattern is formed in a palladium chloride solution, washing with water, etc., and immersing in an electroless plating bath, a polypyrrole pattern portion is plated and a patterned film can be obtained.

尚、上記非電気化学的方法(=無電解)によるめっきに使用できる金属としては、銅、金、銀、ニッケル、クロム等、通常の無電解めっきできる金属は全て適用することができる。   In addition, as a metal which can be used for the plating by the non-electrochemical method (= electroless), all metals which can be electrolessly plated such as copper, gold, silver, nickel and chromium can be applied.

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
実施例1
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社)0.42mmol、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系ノニオン界面活性剤エマルゲン409P(花王株式会社)2.1mmol、トルエン50mL、イオン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にピロールモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム6mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機相を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有するポリピロール微粒子を得た。尚、ポリピロール微粒子の導電率は0.001S/cmであった。
上記で得られたトルエン分散液中のポリピロールの固形分は、約1.3%であったが、ここに、バインダーとしてスーパーベッカミンJ-820(大日本インキ化学工業)を加え、ポリピロール:バインダー樹脂=1:3、固形分約5%となる還元性を有したポリピロール塗料を調製した。得られた塗料の分散安定性は良好であった。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにインクジェット印
刷機により印刷し、120℃で5分乾燥し印刷膜を作成した。この乾燥後の印刷膜の厚みは、150nmの極めて薄い膜であった。
このパターン化された印刷膜(ポリマー層)が形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液中に室温で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴に浸漬すると、およそ10分程度で印刷膜(ポリマー層)が形成された部分にのみ銅めっきが施されたポリエステルフィルムが得られた。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to an Example.
Example 1
Anionic surfactant Perex OT-P (Kao Corporation) 0.42 mmol, polyoxyethylene alkyl ether nonionic surfactant Emulgen 409P (Kao Corporation) 2.1 mmol, toluene 50 mL, ion-exchanged water 100 mL 20 It stirred until it emulsified, hold | maintaining at degreeC. To the obtained emulsion, 21.2 mmol of pyrrole monomer was added and stirred for 1 hour, and then 6 mmol of ammonium persulfate was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours. After completion of the reaction, the organic phase was recovered and washed several times with ion exchange water to obtain polypyrrole fine particles having reducing performance dispersed in toluene. The electrical conductivity of the polypyrrole fine particles was 0.001 S / cm.
The solid content of polypyrrole in the toluene dispersion obtained above was about 1.3%. Superbecamine J-820 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was added as a binder to polypyrrole: binder. A polypyrrole paint having a reducing property of resin = 1: 3 and a solid content of about 5% was prepared. The dispersion stability of the obtained paint was good.
The paint prepared above was printed on a polyester film having a thickness of 100 μm by an ink jet printer, and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a printed film. The thickness of the printed film after drying was a very thin film of 150 nm.
The film on which the patterned printed film (polymer layer) was formed was immersed in a palladium chloride solution at room temperature for 5 minutes and then washed with tap water. Next, when the film was immersed in an electroless copper plating bath, a polyester film in which copper plating was applied only to the portion where the printed film (polymer layer) was formed in about 10 minutes was obtained.

実施例2
実施例1のノニオン界面活性剤をソルビダン脂肪酸エステル系ノニオン界面活性剤レオドールSP-O30V(花王株式会社)0.64mmolとポリオキシエチレンソルビダン脂肪酸エステル レオドールTW−O120V(花王株式会社)2.1mmolの二種を混合したものに変えた以外は実施例1と同様に塗料を調製した。得られた塗料の分散安定性は
良好であった。尚、ポリマー微粒子の導電率は0.005S/cmであった。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにインクジェット印
刷機により印刷し、120℃で5分乾燥し印刷膜を作成した。この乾燥後の印刷膜の厚みは、150nmの極めて薄い膜であった。
この薄膜に、実施例1と同様の操作(無電解めっき)を行うことにより、印刷膜(ポリマー層)が形成された部分にのみ銅めっきが施されたポリエステルフィルムを得た。
Example 2
Nonionic surfactant of Example 1 was sorbidic fatty acid ester-based nonionic surfactant Leodol SP-O30V (Kao Corporation) 0.64 mmol and polyoxyethylene sorbidic fatty acid ester Leodol TW-O120V (Kao Corporation) 2.1 mmol A coating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the two were mixed. The dispersion stability of the obtained paint was good. The electrical conductivity of the polymer fine particles was 0.005 S / cm.
The paint prepared above was printed on a polyester film having a thickness of 100 μm by an ink jet printer, and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a printed film. The thickness of the printed film after drying was a very thin film of 150 nm.
By performing the same operation (electroless plating) as that of Example 1 on this thin film, a polyester film in which copper plating was applied only to the portion where the printed film (polymer layer) was formed was obtained.

実施例3
実施例1のバインダーをポリエステル系ポリウレタン架橋剤ニッポラン2301(日本ポリウレタン工業株式会社)に変えた以外は実施例1と同様にして塗料を調製した。得られた塗料の分散安定性は良好であった。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにインクジェット印
刷機により印刷し、120℃で5分乾燥し印刷膜を作成した。この乾燥後の印刷膜の厚みは、150nmの極めて薄い膜であった。
この薄膜に、実施例1と同様の操作(無電解めっき)を行うことにより、印刷膜(ポリマー層)が形成された部分にのみ銅めっきが施されたポリエステルフィルムを得た。
Example 3
A coating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the binder of Example 1 was changed to the polyester-based polyurethane crosslinking agent NIPPOLAN 2301 (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.). The dispersion stability of the obtained paint was good.
The paint prepared above was printed on a polyester film having a thickness of 100 μm by an ink jet printer, and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a printed film. The thickness of the printed film after drying was a very thin film of 150 nm.
By performing the same operation (electroless plating) as that of Example 1 on this thin film, a polyester film in which copper plating was applied only to the portion where the printed film (polymer layer) was formed was obtained.

実施例4
実施例1において調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにグラビア印刷し、120℃で5分乾燥し、印刷膜を作成した。この乾燥後の印刷膜の厚みは、150nmの極めて薄い膜であった。
この薄膜に、実施例1と同様の操作(無電解めっき)を行うことにより、印刷膜(ポリマー層)が形成された部分にのみ銅めっきが施されたポリエステルフィルムを得た。
Example 4
The paint prepared in Example 1 was gravure-printed on a 100 μm thick polyester film and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a printed film. The thickness of the printed film after drying was a very thin film of 150 nm.
By performing the same operation (electroless plating) as that of Example 1 on this thin film, a polyester film in which copper plating was applied only to the portion where the printed film (polymer layer) was formed was obtained.

比較例1
実施例1のノニオン界面活性剤を除き、アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社)を1.5mmol使用した以外は実施例1と同様に塗料を調製した。得られた塗料の分散安定性は良好であった。尚、塗料の導電率は0.05S/cmであった。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにインクジェット印
刷機により印刷し、120℃で5分乾燥し印刷膜を作成した。この乾燥後の印刷膜の厚みは、150nmの極めて薄い膜であった。
この薄膜に、実施例1と同様の操作(無電解めっき)を行ったが、めっきは形成されなかった。
Comparative Example 1
A coating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the nonionic surfactant in Example 1 was used and 1.5 mmol of the anionic surfactant PELEX OT-P (Kao Corporation) was used. The dispersion stability of the obtained paint was good. The electrical conductivity of the paint was 0.05 S / cm.
The paint prepared above was printed on a polyester film having a thickness of 100 μm by an ink jet printer, and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a printed film. The thickness of the printed film after drying was a very thin film of 150 nm.
This thin film was subjected to the same operation (electroless plating) as in Example 1, but no plating was formed.

比較例2
ポリ酢酸ビニル2部を酢酸エチル20部に溶解し、この溶液に無水塩化鉄(III)を固形分中の質量比で30%となるように加え、完全に溶解した。この溶液を、100μm
の厚みのポリエステルフィルムにインクジェット印刷機により印刷し、70℃で15分乾燥し印刷膜を作成した。この乾燥後の塗工膜厚みは、10μmの均一な膜であった。得られたフィルムに密閉容器中、室温で5分間ピロールを気相重合し、印刷膜部分にポリピロールを生成させ、ポリピロールパターンを作成した。このポリピロールパターンが形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液中に室温で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴に浸漬したが、めっきは形成されなかった。
Comparative Example 2
2 parts of polyvinyl acetate was dissolved in 20 parts of ethyl acetate, and anhydrous iron (III) chloride was added to this solution so that the mass ratio in the solid content was 30%, and completely dissolved. This solution was added to 100 μm
A polyester film having a thickness of 10 mm was printed by an inkjet printer and dried at 70 ° C. for 15 minutes to form a printed film. The coating film thickness after drying was a uniform film of 10 μm. The resulting film was subjected to gas phase polymerization of pyrrole in a sealed container at room temperature for 5 minutes to produce polypyrrole on the printed film portion, thereby creating a polypyrrole pattern. The film on which the polypyrrole pattern was formed was immersed in a palladium chloride solution at room temperature for 5 minutes and then washed with tap water. The film was then immersed in an electroless copper plating bath, but no plating was formed.

比較例3
比較例2で得られたポリピロールパターンが形成されたフィルムを、1M水酸化ナトリウム溶液中に24時間浸漬して、脱ドープ状態とした後、塩化パラジウム溶液中に室温で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴に浸漬すると、およそ10分程度でポリピロールパターン部にのみ銅めっきが施されたポリエステルフィルムが得られた。
Comparative Example 3
The film on which the polypyrrole pattern obtained in Comparative Example 2 was formed was immersed in a 1M sodium hydroxide solution for 24 hours to be in a dedope state, then immersed in a palladium chloride solution at room temperature for 5 minutes, and then tap water Washed with water. Next, when the film was immersed in an electroless copper plating bath, a polyester film in which copper plating was applied only to the polypyrrole pattern portion was obtained in about 10 minutes.

比較例4
実施例1で使用した塗料に代えて、市販のポリピロール導電性塗料である、SSPY(三谷産業)を用い、100μmの厚みのポリエステルフィルムにインクジェット印刷機に
より印刷し、120℃で5分乾燥し印刷膜を作成した。
この薄膜に、実施例1と同様の操作(無電解めっき)を行ったが、めっきは全く形成されなかった。
Comparative Example 4
Instead of the paint used in Example 1, a commercially available polypyrrole conductive paint, SSPY (Mitani Sangyo), was used to print on a polyester film with a thickness of 100 μm with an ink jet printer, dried at 120 ° C. for 5 minutes, and printed. A membrane was created.
This thin film was subjected to the same operation (electroless plating) as in Example 1, but no plating was formed.

比較例5
比較例4で用いたポリピロール塗料を100μmの厚みのポリエステルフィルムにイン
クジェット印刷機により印刷し、120℃で5分乾燥し印刷膜を作成し、1M水酸化ナトリウム溶液中に24時間浸漬して、脱ドープ状態とした。脱ドープされたポリピロール膜は手でこすると落ちる程度に強度が低下していたが、実施例1と同様な無電解めっきを行った。めっきは形成されたものの、該めっき部は手でこすると簡単にポリエステルフィルムから脱落した。
Comparative Example 5
The polypyrrole paint used in Comparative Example 4 was printed on a polyester film having a thickness of 100 μm by an inkjet printer, dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a printed film, immersed in 1M sodium hydroxide solution for 24 hours, and removed. It was set as the dope state. Although the strength of the dedoped polypyrrole film was reduced to such an extent that it could be removed by hand, electroless plating similar to that in Example 1 was performed. Although the plating was formed, the plating part was easily detached from the polyester film by rubbing by hand.

試験例
実施例1〜3及び比較例1〜5で作成したポリエステルフィルムのめっき状態、密着性及び腐食性を評価して表1に示した。
尚、評価方法は以下に示した通りである。
評価
めっき状態
めっき皮膜の状態を目視で観察し、基材露出面積を測定した。
尚、評価基準は以下の通りとした。
○:完全に被覆され、基材露出無し。
△:50%程度基材の露出あり
×:100%基材露出
密着性
JIS H 8504に基づいて、テープ試験により引き剥がし試験を実施した。
尚、評価基準は以下の通りとした。
○:剥離無し
△:50%程度剥離あり
×:100%剥離
腐食性
めっきが施されたフィルムを湿度95%×70℃の環境下に8時間放置して、銅めっき部の変色等を観察することにより腐食性の試験を行った。
尚、評価基準は以下通りとした。
○:腐食無し
△:若干腐食あり
×:激しい腐食あり
表1

Figure 0004853775
Test Example Table 1 shows the evaluation of the plating state, adhesion and corrosivity of the polyester films prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5.
The evaluation method is as shown below.
Evaluation Plating State The state of the plating film was visually observed to measure the substrate exposed area.
The evaluation criteria were as follows.
○: Completely coated, no substrate exposure.
Δ: Substrate exposed to about 50% ×: 100% substrate exposed adhesiveness Based on JIS H 8504, a peeling test was performed by a tape test.
The evaluation criteria were as follows.
○: No peeling Δ: About 50% peeling ×: 100% peeling corrosiveness The plated film is allowed to stand in an environment of 95% humidity x 70 ° C for 8 hours, and the discoloration of the copper plating part is observed. The corrosivity test was performed.
The evaluation criteria were as follows.
○: No corrosion △: Slight corrosion ×: Severe corrosion Table 1
Figure 0004853775

Claims (2)

基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法であって、
1)有機溶媒と、水と、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより、有機溶媒に分散した導電率が0.01S/cm未満である微粒子を得る工程、
2)前記微粒子が分散された塗料を基材フィルム上に印刷してパターン化されたポリマー層を形成する工程、
3)前記ポリマー層に無電解めっき液から金属膜を化学めっきする工程、
よりなる製造方法。
A method for producing a plated film in which a patterned metal film is formed on a base film,
1) A monomer of pyrrole and / or a pyrrole derivative is added to an O / W emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, an anionic surfactant and a nonionic surfactant, and the monomer. A step of obtaining fine particles having an electrical conductivity dispersed in an organic solvent of less than 0.01 S / cm by oxidative polymerization of
2) A step of printing a paint in which the fine particles are dispersed on a base film to form a patterned polymer layer;
3) a step of chemically plating a metal film from an electroless plating solution on the polymer layer;
The manufacturing method which consists of.
前記基材フィルムへの印刷としてインクジェット方式の印刷を用いる請求項1記載の製造方法。

The manufacturing method according to claim 1, wherein inkjet printing is used as printing on the base film.

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