JP4853836B2 - 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ - Google Patents
精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4853836B2 JP4853836B2 JP2007241759A JP2007241759A JP4853836B2 JP 4853836 B2 JP4853836 B2 JP 4853836B2 JP 2007241759 A JP2007241759 A JP 2007241759A JP 2007241759 A JP2007241759 A JP 2007241759A JP 4853836 B2 JP4853836 B2 JP 4853836B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable
- stage
- base
- precision fine
- shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
図10および図11は特許文献1の装置を説明する図である。ステージベース21はその中央に可動ステージ22を設置できるよう凹形状になっており、可動ステージ22はステージベース21の凹部の内壁に支持部材30で少なくともX軸、Y軸、Z軸の3軸方向に移動可能に支持されている。ステージベース21にはアクチュエータ4の一端が固定され、アクチュエータ4の他端は可動ステージ22に当接している。このようなアクチュエータ4は可動ステージ22のX軸方向、Y軸方向、およびZ軸方向に平行に少なくとも1個ずつ設けられている
このように構成される精密位置決め装置においてアクチュエータ4に電圧を印加して伸縮させると、ステージベース21に対して可動ステージ22は支持部材30を変形させながら移動する。
図12は特許文献2の装置を説明する図である。圧電素子31の上下に下板32と上板33が取り付けられており、下板32と上板33の間には、圧電素子31を包囲・密封するベローズ10がある。この装置において電極34に電圧を印加すると、圧電素子31が伸縮するが、この際、下板32・上板33およびベローズ10により圧電素子31が外気雰囲気と遮断された状態で推力を発生するものである。
一方前記特許文献2は、もともと圧電素子31を外気と遮断することを目的としたものであるが、下板32・上板33およびベローズ10を組み合わせたものを支持部材と見なすと、ベローズ10内部にアクチュエータとしての圧電素子31を配置したことから、精密位置決め装置を小型にできるという効果もある。しかし特許文献2の構成においてベローズ10は圧電素子31の推力発生方向のみに伸縮するだけで、推力発生方向と直交する方向および推力発生方向と直交する軸まわりに回転する方向には変形できないため、精密微動位置決め装置としては自由度が制限されるという問題がある。
そこで、本発明は小型で多自由度を有する精密微動位置決め装置を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、固定ベースと、前記固定ベースに立設された一対の固定子と、前記一対の固定子に対してそれぞれ一定の空隙を介して対向し、前記固定子に対して上下に移動可能な可動子と、からなる電磁アクチュエータと、ベローズと、前記ベローズの上端及び下端をそれぞれ封止する上端及び下端フランジと、前記ベローズの内部に充填される所定圧力の作動流体と、からなり、前記下端フランジが前記固定ベースに取り付けられる弾性支持機構と、前記可動子と前記上端フランジとによって支持される可動ベースと、を備えた精密微動位置決め装置において、前記弾性支持機構が、前記ベローズ内に収容されるように前記下端フランジに設けられた変位センサと、前記上端フランジに設けられ、前記ベローズ内部へ貫通するネジ穴と、前記ネジ穴に挿入されるシャフトと、前記変位センサが検知可能なように前記シャフトに設けられた変位センサ検出体と、前記ネジ穴と前記シャフトとの隙間を塞ぐシール手段と、を備え、前記可動ベースには、前記シャフトに対応する位置に貫通穴が設けられたこと、を特徴とする精密微動位置決め装置とするものである。
請求項2に記載の発明は、前記シャフトにロックナットが設けられ、前記ロックナットによって前記シャフトが前記上端フランジに対して固定されること、を特徴とする請求項1記載の精密微動位置決め装置とするものである。
請求項3に記載の発明は、前記電磁アクチュエータにおける前記可動子と前記固定子との位置関係が逆になっていること、を特徴とする請求項1または2記載の精密微動位置決め装置とするものである。
請求項4に記載の発明は、少なくとも3台の請求項1または2または3記載の精密微動位置決め装置と、前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記固定ベースを支持するステージベースと、前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースによって支持される可動ステージと、を備え、前記可動ステージには、前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記シャフトに対応する位置に設けられた前記貫通穴に対応した位置にさらに貫通穴が設けられたこと、を特徴とする微動位置決めステージとするものである。
請求項5に記載の発明は、前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースが、上下に段差を有する板状のベースであって、前記段差の下段の下面に前記弾性支持機構の前記上端フランジが固定され、前記段差の上段の下面に前記可動子が固定され、前記段差の下段の上面で前記可動ステージが支持されたこと、を特徴とする請求項4記載の微動位置決めステージとするものである。
請求項6に記載の発明は、前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースと、前記可動ステージとの間に、球面支持部を設けたこと、を特徴とする請求項4または5記載の微動位置決めステージとするものである。
請求項7に記載の発明は、前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースと、前記可動ステージとの間に、金属丸棒の一部の直径が細くされた棒状の部材で形成された撓み支持部を設けたこと、を特徴とする請求項4または5記載の微動位置決めステージとするものである。
本発明によれば、作動流体の圧力によってベローズを任意の位置に調節でき、弾性支持機構によって可動ベースを確実に支持するので電磁アクチュエータを小型にすることができる。
本発明によれば、固定側となる下端のフランジに作動流体供給口が設けられるので、供給口が可動しないので継ぎ手から流体が漏れる恐れを軽減できる。
本発明によれば、一般的な流体によって弾性支持機構を調節できる。
本発明によれば、一般的な変位センサによってセンサ部を構成できる。
本発明によれば、弾性支持機構の内部にあるにもかかわらず、センサ部の調整を行うことができ、かつ弾性支持機構の気密も保持できる。
本発明によれば、センサ部の調整後にシャフトを固定することができる。
本発明によれば、可動ベースの上からもセンサ部の調整ができる。
本発明によれば、可動ステージの重量は弾性支持機構により支持されるので、アクチュエータは可動ステージに加速度を発生し得るだけの推力を発生すればよく、またベローズ内部に変位センサを内蔵したので、コンパクトな微動位置決めステージが構成できる。
本発明によれば、ステージにアクチュエータの推力発生方向と直交する方向に外力を加えれば弾性支持機構のベローズが撓むので6自由度を有する微動位置決めステージが構成できる。
本発明によれば、Z軸アクチュエータの可動ベースが段差になっていて、その下段で可動ステージに潜り込んでこれを支持するので、コンパクトな微動位置決めステージが構成できる。
本発明によれば、X軸、Y軸方向に可動ステージを駆動する電磁アクチュエータも、その可動子と固定子との間に空隙があるものなので、可動ステージは電磁アクチュエータの推力発生方向と直交する方向に移動することができ、可動ステージは6自由度を有しながら電磁アクチュエータによって位置・姿勢が制御できる。
本発明によれば、コンパクトな微動位置決めステージが構成できる。
本発明によれば、作動流体の圧力によってベローズを任意の位置に調節でき、弾性支持機構によって可動ステージを確実に支持するので電磁アクチュエータを小型にすることができ、コンパクトな微動位置決めステージが構成できる。
本発明によれば、一般的な変位センサによってセンサ部を構成できる。
本発明によれば、弾性支持機構の内部にあるにもかかわらず、センサ部の調整を行うことができ、かつ弾性支持機構の気密も保持できる。
本発明によれば、可動ステージの上からもセンサ部の調整ができる。
本発明によれば、可動ステージの6自由度の姿勢を算出することができ、コンパクトな微動位置決めステージが構成できる。
本発明によれば、一般的な変位センサによってセンサ部を構成できる。
本発明によれば、弾性支持機構のベローズが撓んで可動ベースが傾いても、球面支持部または撓み支持部の作用により可動ステージを水平に保つことができる。
本発明によれば、コンパクトな半導体製造又は液晶製造の露光装置又は検査装置とすることができる。
可動ベース2は、上下に段差のある板状のベースであって、その下段の下面が、後述する弾性支持機構3の上固定フランジ9に締結され支持されている。また、可動ベース2の上段の下面にはアクチュエータ4の可動子6の一端が固定されていて、可動子6は可動ベース2の下面から下垂するようになっている。アクチュエータ4の固定子5は、複数のマグネット5bが一方の面に貼り付けられた板状のヨーク5aが2枚あって、これらがマグネット5bが貼り付けられた面側で対向するよう構成されている。一方、可動子6は板状のコイルベース6aの両面にコイル6bを貼り付けた構造で、空隙m7を介して、コイル6bが固定子5のマグネット5bと対向するように配置されている。
作動流体によって可動ベース2を任意の位置に調整した時に、変位センサ11と変位センサ検出体12との距離が変位センサ11の検出範囲をはずれるなど適正でない場合には、変位センサ検出体12の位置を調整する必要がある。この場合は、シャフト13を回転させ、位置調整ネジ13aにより変位センサ検出体12の上下位置を調整する。なお、シャフト13の位置に対応する箇所に、可動ベース2には貫通穴が設けてあり、この貫通穴からシャフト13にアクセスできるようになっていて、ここでシャフト13を回転できるようになっている。この際、案内部13bの作用により変位センサ11と変位センサ検出体12を平行に保つことができる。またOリング15がシャフト13に勘合しているのでベローズ10内部の気密を保つことができ、作動流体が流出するのを防ぐ。
次に、アクチュエータ4のコイル6bに通電すると可動子6を上下方向に動作させる力が発生する。弾性支持機構3は可動ベース2を支持するとともに、作動流体の圧縮性とベローズ10の弾性により、上下方向に変位することもできるので、アクチュエータ4の推力により可動ベース2を上下動させることが可能になる。この時、可動ベース2の重量は弾性支持機構3により支持されているので、アクチュエータ4は可動ベース2が加速度を発生し得る推力のみ発生すれば良い。よって弾性支持機構3が無く可動ベース2の重量もアクチュエータ4の推力で支持する従来の場合と比較してアクチュエータ4を小型にすることができる。また、変位センサ11の情報を、図示しない精密微動位置決め装置のコントローラにフィードバックすることにより可動ベース2の位置および速度を制御することができる。
図において、微動位置決めステージは、X軸27、Y軸28およびZ軸29の各方向へ並進する自由度と、前記3軸の軸まわりに回転する自由度との合計6自由度を有するものである。板状のステージベース21の上に、第1実施例で説明した精密微動位置決め装置3台を、その推力発生方向をZ軸29方向と一致するよう配置している。そして、3台の精密微動位置決め装置のそれぞれの可動ベースに搭載されているのが板状の可動ステージ22である。3台の精密微動位置決め装置は、図6のように上から見て矩形の可動ステージ22の周辺において、一辺の略中央に1台の精密微動位置決め装置が配置され、これに対向する辺に2台の精密微動位置決め装置が配置されている。以下、説明の便宜上、一辺に1台配置されている精密微動位置決め装置を第1の精密微動位置決め装置40、これと対向する2台の精密微動位置決め装置をそれぞれ第2、第3の精密微動位置決め装置41、42とする。
図4が精密微動位置決め装置と可動ステージとの接触部分を示す側面図である。図4が示す接触部は、精密微動位置決め装置の可動ベース2の上に球面支持部18を固定し、球面支持部18の上側に台座20を取り付けたものである。そして台座20の上面に可動ステージ22の下面が固定されている。球面支持部18は上方に突出する棒の先端が球面状に加工されている。一方これと接触する台座20の下面も、球面支持部18の先端を包むように球面状に凹加工されている。
接触部分をこのような構成にすると台座20は球面支持部18の作用により可動ベース2に対して回転自在に動くことができる。
また、可動ステージ22の側面には、可動ステージ22をX軸27方向に駆動することができるX軸アクチュエータ23が1台と、Y軸28方向に駆動することができるY軸アクチュエータ24が2台取り付けられている。X軸アクチュエータ23は上記で説明した第2、第3の精密微動位置決め装置が取り付けられている辺であって、これら2台の間に位置するよう配置されている。また、Y軸アクチュエータ24は、X軸アクチュエータ23及び精密微動位置決め装置らが配置されていない辺に2台配置されている。このように配置すれば、上記で説明した6軸駆動を実現できると共に、微動位置決めステージ全体の構成が小さくできる。
ここで、X軸アクチュエータ23とY軸アクチュエータ24の構成は、第1実施例で説明したアクチュエータ4と同様な電磁アクチュエータを有するものであって、固定子と可動子との間に空隙mを有するものである。ただし、X軸、Y軸アクチュエータには弾性支持機構3のように可動ステージ22を弾性的に支持する部分は特に必要が無い。これは、Z軸アクチュエータとして機能する3台の精密微動位置決め装置の弾性支持機構3らが可動ステージ22を重力方向に支持するとともに、XYZの各方向に弾性的に支持しているからである。
なお、X、Y軸アクチュエータ及びZ軸方向から可動ステージ22を支持する精密微動位置決め装置らのアクチュエータ4は、当然ながら可動子と固定子の位置関係が逆になってもよい。
また、可動ステージ22の側面には、X軸27方向の変位を計測するX軸変位センサ25が2台と、Y軸28方向の変位を計測するY軸変位センサ26が1台取り付けられている。X軸変位センサ25はX軸アクチュエータ23を狭むように配置されている。Y軸変位センサ26は2台のY軸アクチュエータ24に挟まれるよう、辺の中央付近に配置されている。ここで、X軸変位センサ25とY軸変位センサ26の種類としては静電容量式、渦電流式、レーザ干渉計などが適用できる。
また、図7で示すように、上記で説明したシャフト13を調節するための可動ベース2の穴に対応した穴が可動ステージ22にも設けられている。
次に3台の精密微動位置決め装置に内蔵される3台のアクチュエータ4を、同じ方向に同じ変位量だけ駆動すると可動ステージ22をZ軸29の並進方向に移動・位置決めすることができる。
また、例えば、第1の精密微動位置決め装置40の可動ベースを下方に、第2及び第3の精密微動位置決め装置の可動ベースを上方に、それぞれ駆動させると、可動ステージ22をY軸28まわりに回転させることができる。図8は可動ステージ22がY軸28まわりに回転した状態を示す図である。このようにベローズ10はその軸線方向すなわちZ軸29方向に伸縮するだけではなく、ベローズの軸線と直交する軸まわりに撓むことができるので、3台の微動位置決め装置の移動量を調整することにより可動ステージ22をX軸27およびY軸28まわりの回転方向に位置決めをすることもできる。この場合の可動ステージ22の回転角度は3台の変位センサ11の計測値と変位センサ11相互の距離とから算出することができる。
同様にして、X軸アクチュエータ23およびY軸アクチュエータ24の推力により可動ステージ22を、X軸27およびY軸28方向へ動作させることと、Z軸29まわりに回転させることが可能になる。
図9はX軸アクチュエータ23によって可動ステージ22をX軸27方向に移動させた状態を示す図である。X軸アクチュエータ23の推力により可動ステージ22がX軸27方向に移動するとベローズ10がX軸27方向に撓んでしまい、可動ステージ22の高さが変化したり傾いたりするが、アクチュエータ4を動作させZ軸29方向の位置を制御することにより、球面支持部18で可動ステージ22が回転自在に支持されているので、その位置を一定にかつ水平に保つことができる。
図5は図4と同様、精密微動位置決め装置と可動ステージとの接触部分を示す側面図である。図5が示す接触部は、精密微動位置決め装置の可動ベース2の上に、撓み支持部19を固定し、撓み支持部19の上側に台座20を取り付けたものである。そして台座20の上面に可動ステージ22の下面が固定されている。撓み支持部19は、金属丸棒の一部の直径を細くしたものであって、その細くした部分が撓み、また捩れやすいように形成したものである。
このような構成にすると台座20は撓み支持部19が変形することにより可動ベース2に対して回転自在に動くことができる。上記微動位置決めステージの実施例では図4で説明した接触部を使って微動位置決めステージを構成した例を説明したが、図5で説明した接触部を使っても同様な効果がある。
2 可動ベース
3 弾性支持機構
4 アクチュエータ
5 固定子
5a ヨーク
5b マグネット
6 可動子
6a コイルベース
6b コイル
7 空隙m
8 下固定フランジ
9 上固定フランジ
10 ベローズ
11 変位センサ
12 変位センサ検出体
13 シャフト
13a 位置調整ネジ
13b 案内部
14 ロックナット
15 Oリング
16 継手
17 空隙s
18 球面支持部
19 撓み支持部
20 台座
21 ステージベース
22 可動ステージ
23 X軸アクチュエータ
24 Y軸アクチュエータ
25 X軸変位センサ
26 Y軸変位センサ
27 X軸
28 Y軸
29 Z軸
30 支持部材(弾性体)
31 圧電素子
32 下板
33 上板
34 電極
40 第1の精密微動位置決め装置
41 第2の精密微動位置決め装置
42 第3の精密微動位置決め装置
Claims (7)
- 固定ベースと、
前記固定ベースに立設された一対の固定子と、前記一対の固定子に対してそれぞれ一定の空隙を介して対向し、前記固定子に対して上下に移動可能な可動子と、からなる電磁アクチュエータと、
ベローズと、前記ベローズの上端及び下端をそれぞれ封止する上端及び下端フランジと、前記ベローズの内部に充填される所定圧力の作動流体と、からなり、前記下端フランジが前記固定ベースに取り付けられる弾性支持機構と、
前記可動子と前記上端フランジとによって支持される可動ベースと、
を備えた精密微動位置決め装置において、
前記弾性支持機構が、
前記ベローズ内に収容されるように前記下端フランジに設けられた変位センサと、
前記上端フランジに設けられ、前記ベローズ内部へ貫通するネジ穴と、
前記ネジ穴に挿入されるシャフトと、
前記変位センサが検知可能なように前記シャフトに設けられた変位センサ検出体と、
前記ネジ穴と前記シャフトとの隙間を塞ぐシール手段と、
を備え、
前記可動ベースには、
前記シャフトに対応する位置に貫通穴が設けられたこと、
を特徴とする精密微動位置決め装置。 - 前記シャフトにロックナットが設けられ、前記ロックナットによって前記シャフトが前記上端フランジに対して固定されること、
を特徴とする請求項1記載の精密微動位置決め装置。 - 前記電磁アクチュエータにおける前記可動子と前記固定子との位置関係が逆になっていること、
を特徴とする請求項1または2記載の精密微動位置決め装置。 - 少なくとも3台の請求項1または2または3記載の精密微動位置決め装置と、
前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記固定ベースを支持するステージベースと、
前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースによって支持される可動ステージと、
を備え、
前記可動ステージには、
前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記シャフトに対応する位置に設けられた前記貫通穴に対応した位置にさらに貫通穴が設けられたこと、
を特徴とする微動位置決めステージ。 - 前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースが、
上下に段差を有する板状のベースであって、前記段差の下段の下面に前記弾性支持機構の前記上端フランジが固定され、前記段差の上段の下面に前記可動子が固定され、前記段差の下段の上面で前記可動ステージが支持されたこと、
を特徴とする請求項4記載の微動位置決めステージ。 - 前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースと、前記可動ステージとの間に、球面支持部を設けたこと、
を特徴とする請求項4または5記載の微動位置決めステージ。 - 前記少なくとも3台の精密微動位置決め装置の各々の前記可動ベースと、前記可動ステージとの間に、金属丸棒の一部の直径が細くされた棒状の部材で形成された撓み支持部を設けたこと、
を特徴とする請求項4または5記載の微動位置決めステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007241759A JP4853836B2 (ja) | 2007-09-19 | 2007-09-19 | 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007241759A JP4853836B2 (ja) | 2007-09-19 | 2007-09-19 | 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009076521A JP2009076521A (ja) | 2009-04-09 |
| JP4853836B2 true JP4853836B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=40611252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007241759A Expired - Fee Related JP4853836B2 (ja) | 2007-09-19 | 2007-09-19 | 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4853836B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020057058A1 (zh) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | 武汉华星光电技术有限公司 | 承载装置及承载装置的固定方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102782806A (zh) | 2010-03-04 | 2012-11-14 | 株式会社安川电机 | 工作台装置 |
| CN102001617B (zh) * | 2010-09-28 | 2012-07-25 | 清华大学 | 一种柔性电子器件位移加载装置及方法 |
| US9279445B2 (en) * | 2011-12-16 | 2016-03-08 | Asml Netherlands B.V. | Droplet generator steering system |
| US10361099B2 (en) * | 2017-06-23 | 2019-07-23 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods of gap calibration via direct component contact in electronic device manufacturing systems |
| CN110006993A (zh) * | 2019-04-03 | 2019-07-12 | 安徽见行科技有限公司 | 可连续微调的涡流传感器探头装置 |
| JP7563933B2 (ja) * | 2020-10-07 | 2024-10-08 | 株式会社ディスコ | 微調整装置、加工装置及び被加工物の加工方法 |
| CN115841936B (zh) * | 2023-02-16 | 2023-04-25 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 运动平台用限位装置、运动平台及电子束检测装置 |
| US12601590B2 (en) * | 2023-06-21 | 2026-04-14 | Honeywell International Inc. | Method to control gap for sheet manufacturing measurement processes |
| CN118438178B (zh) * | 2024-05-08 | 2026-04-14 | 成都飞机工业(集团)有限责任公司 | 一种基于力与位移控制的自适应微动调整定位器及其实施方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6016392A (ja) * | 1983-07-07 | 1985-01-28 | 三菱電機株式会社 | ロボツトのカバ−装置 |
| JPH0769443B2 (ja) * | 1987-02-06 | 1995-07-31 | 株式会社日立製作所 | 6自由度微動装置 |
| JPH01292288A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Fujitsu Ltd | 縦型ステージ |
| JPH029550A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-01-12 | Hitachi Ltd | 6自由度微動ステージの駆動装置 |
| JPH0466895A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 6自由度微動ステージ |
| JPH11154698A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Nikon Corp | テーブル支持装置 |
| JP2000346009A (ja) * | 1999-06-03 | 2000-12-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 一軸アクチュエータ |
| JP4458322B2 (ja) * | 2003-01-14 | 2010-04-28 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP2004363554A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-12-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 微動ステージ装置 |
| JP4307288B2 (ja) * | 2004-02-25 | 2009-08-05 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
| US20060178009A1 (en) * | 2004-11-26 | 2006-08-10 | Nikon Corporation | Wafer stage with wafer positioning and alignment |
| JP2006211812A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2007049057A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
| JP4697424B2 (ja) * | 2005-10-27 | 2011-06-08 | 株式会社安川電機 | 精密位置決め装置 |
| JP4477573B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2010-06-09 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | 基板検査装置 |
| JP4702083B2 (ja) * | 2006-02-10 | 2011-06-15 | ウシオ電機株式会社 | XYθ移動ステージ |
| JP4569492B2 (ja) * | 2006-02-17 | 2010-10-27 | ウシオ電機株式会社 | 平面板の保持体 |
-
2007
- 2007-09-19 JP JP2007241759A patent/JP4853836B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020057058A1 (zh) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | 武汉华星光电技术有限公司 | 承载装置及承载装置的固定方法 |
| US11306788B2 (en) * | 2018-09-19 | 2022-04-19 | Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Carrying device and fixing method of carrying device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009076521A (ja) | 2009-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4853836B2 (ja) | 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ | |
| JP3182158B2 (ja) | 露光装置用のステージ支持装置 | |
| KR0166987B1 (ko) | 자중지지장치 | |
| JP5776812B1 (ja) | テーブル装置、及び搬送装置 | |
| US6920696B2 (en) | Microscopic positioning device and tool position/orientation compensating method | |
| US11417496B2 (en) | Stage device, charged particle beam apparatus, and vacuum apparatus | |
| CN104981891A (zh) | 工作台装置及输送装置 | |
| TWI616725B (zh) | 位置測量設備,圖案轉移設備及製造一裝置的方法 | |
| JP2009260138A (ja) | ステージ装置 | |
| JPWO2008108148A1 (ja) | 精密位置決め装置 | |
| CN120846180A (zh) | 一种基于波纹结构的可变方向电容位移传感器 | |
| US10153128B2 (en) | Charged particle beam apparatus and sample elevating apparatus | |
| JP7537392B2 (ja) | 材料試験機 | |
| JP2003028973A (ja) | ステージ装置 | |
| JP2001116867A (ja) | Xyステージ | |
| US20240186278A1 (en) | Mounting device and mounting method | |
| KR20220078695A (ko) | 전기 액추에이터 | |
| JP7723534B2 (ja) | 駆動装置、露光装置および物品製造方法 | |
| JP2005195606A (ja) | X−yステージ装置 | |
| CN118139404A (zh) | 安装装置和安装方法 | |
| JP4489639B2 (ja) | Z軸調整機構及び微動ステージ装置 | |
| JP4535991B2 (ja) | 静圧スライダ | |
| JP6063233B2 (ja) | 測定子支持機構及びプローブ | |
| KR100434975B1 (ko) | 범용 나노 스테이지의 구동장치 및 그 방법 | |
| JP2005217303A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091120 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110125 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110202 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111003 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141104 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111016 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |