JP4856882B2 - 1,3,5−トリアジン誘導体,その製法およびそれから成る薄膜 - Google Patents
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2,6−ナフタレンジカルボン酸ジクロリド253mgとp−tert−ブチルベンゾニトリル637mgを80mLのジクロロメタンにアルゴン下で溶解した。得られた溶液に、5塩化アンチモン598mgを0℃で滴下した。混合物を室温で1時間攪拌後、12時間還流した。室温まで冷却後、減圧下で低沸点成分を除去し、2,2’−(2,6−ナフチレン)−ビス(4,6−ジ−tert−ブチル−1,3,5−オキサジアジニウム)−ビス[ヘキサクロロアンチモン(V)酸]を、黄色固体として得た。得られた黄色固体をアルゴン気流中で粉砕し、これを0℃で28%アンモニア水溶液にゆっくりと加えた。得られた懸濁液を室温でさらに1時間攪拌した。析出した固体をろ取し、水,メタノ−ルで順次洗浄し、シリカゲルカラム(溶離液ジクロロメタン−ヘキサン)を通し、さらにトルエン溶液から再結晶して2,6−ビス[4,6−ビス(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]ナフタレンの白色粉末(収量310mg、収率38%)を得た。
δ1.36(s,36H),7.57(d,J=8.5Hz,8H),8.19(d,J=8.6Hz,2H),8.68(d,J=8.5Hz,8H),8.79−8.87(m,2H),9.32(brs,2H).
13C−NMR(CDCl3,ppm)
δ31.3(CH3×12),35.1(q.×4),125.7(CH×10),128.9(CH×8),129.6(CH×2),129.8(CH×2),133.6(q.×4),135.3(q.×2),135.6(q.×2),156.1(q.×4),171.2(q.×2),171.7(q.×4).
融点を表1に示した。また、明確なガラス転移点は観測されなかった。
実施例1と同様にして、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジクロリド506mgとp−ブチルベンゾニトリル1.27gから目的物である2,6−ビス[4,6−ビス(4−ブチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]ナフタレンの白色粉末(収量944mg、収率58%)を得た。
δ0.91(t,J=7.3Hz,12H),1.27−1.43(m,8H),1.56−1.71(m,8H),2.67(t,J=7.7Hz,8H),7.32(d,J=8.2Hz,8H),8.11(d,J=8.6Hz,2H),8.63(d,J=8.2Hz,8H),8.75−8.79(m,2H),9.21(brs,2H).
13C−NMR(CDCl3,ppm)
δ14.0(CH3×4),22.4(CH2×4),33.4(CH2×4),35.8(CH2×4),125.6(CH×2),128.7(CH×8),129.0(CH×8),129.5(CH×2),129.7(CH×2),133.8(q.×4),135.2(q.×2),135.4(q.×2),148.0(q.×4),171.1(q.×2),171.5(q.×4).
融点を表1に示した。また、明確なガラス転移点は観測されなかった。
実施例1と同様にして、1,4−ナフタレンジカルボン酸ジクロリド506mgとp−tert−ブチルベンゾニトリル1.27gから目的物である1,4−ビス[4,6−ビス(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]ナフタレンの白色粉末(収量746mg、収率46%)を得た。
δ1.35(s,36H),7.55(d,J=8.6Hz,8H),7.61(dd,J=6.7,3.4Hz,2H),8.50(s,2H),8.65(d,J=8.6Hz,8H),9.05(dd,J=6.7,3.4Hz,2H).
13C−NMR(CDCl3,ppm)
δ31.2(CH3×12),35.1(q.×4),125.7(CH×8),126.6(CH×2),126.9(CH×2),128.9(CH×8),129.3(CH×2),132.0(q.×2),133.5(q.×4),137.5(q.×2),156.3(q.×4),171.5(q.×4),174.2(q.×2).
融点およびガラス転移点を表1に示した。
実施例1と同様にして、1,4−ナフタレンジカルボン酸ジクロリド506mgとp−ブチルベンゾニトリル1.27gから目的物である1,4−ビス[4,6−ビス(4−ブチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]ナフタレンの白色粉末(収量401mg、収率25%)を得た。
δ0.90(t,J=7.3Hz,12H),1.27−1.43(m,8H),1.55−1.70(m,8H),2.68(t,J=7.6Hz,8H),7.33(d,J=8.3Hz,8H),7.61(dd,J=6.7,3.4Hz,2H),8.49(s,2H)8.63(d,J=8.3Hz,8H),9.04(dd,J=6.7,3.4Hz,2H)
13C−NMR(CDCl3,ppm).
δ14.0(CH3×4),22.4(CH2×4),33.4(CH2×4),35.8(CH2×4),126.6(CH×2),126.9(CH×2),128.9(CH×8),129.1(CH×8),129.3(CH×2),132.0(q.×2),133.7(q.×4),137.5(q.×2),148.3(q.×4),171.5(q.×4),174.2(q.×2).
融点を表1に示した。また、明確なガラス転移点は観測されなかった。
抵抗加熱用タングステンフィラメントに装着されたアルミナルツボ内に実施例2で合成した2,6−ビス[4,6−ビス(4−ブチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]ナフタレンを入れて、真空槽を1.4×10−6torrまで減圧した後ルツボを加熱して真空蒸着を行った。基板は25mm角の石英ガラスを用い、表面をイソプロピルアルコ−ル、UV/オゾンで順次洗浄した。蒸着速度は0.05〜0.1nm/秒とした。触針式膜厚測定装置で測定した結果、蒸着膜の膜厚は120.2nmであった。このように作製した薄膜を、室温にて1×10−1torr程度の真空下で10〜20日間保管した。その後、原子間力顕微鏡(Digital Instrument社製NanoscopeIIIa、タッピングモ−ド測定)で表面平滑性を評価した。二乗平均粗さおよび算術平均粗さは、薄膜の平均的な表面形状と判断した5μm×5μmの視野範囲で得た。測定写真を図1に示す。図1より明らかなように、極めてアモルファス性の高い膜であった。二乗平均粗さおよび算術平均粗さの値を表2に示す。
実施例4で合成した1,4−ビス[4,6−ビス(4−ブチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]ナフタレンを実施例5と同様の方法で真空蒸着を行った。触針式膜厚測定装置で測定した結果、蒸着膜の膜厚は122.1nmであった。このように作製した薄膜を、室温にて1×10−1torr程度の真空下で10〜20日間保管した。その後、実施例5と同様の方法で表面平滑性を評価した。原子間力顕微鏡の測定写真を図2に示す。図2より明らかなように、極めてアモルファス性の高い膜であった。二乗平均粗さおよび算術平均粗さの値を表2に示す。
Claims (9)
- 一般式(1)
[式中、nは0又は1から3の整数を示し、Xは置換されていてもよい炭素数1から4のアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、又はハロゲン原子を示し、nが2又は3の時はXは同一又は相異なっていてもよく、mは1から5の整数を示し、Yは炭素数1から8の置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又はシアノ基を示し、mが2から5の整数を示す時はYは同一又は相異なっていてもよい。]、又は一般式(2)
[式中、pは0又は1から4の整数を示し、qは0、1、又は2を示し、X、m、Yは前述と同様の意味を示す。pが2から4の整数を示すとき及び/又はqが2を示すときは、Xは同一又は相異なっていてもよい。]で表される1,3,5−トリアジン誘導体。 - n=0又はp=q=0である請求項1に記載の1,3,5−トリアジン誘導体。
- Yが炭素数1〜8のアルキル基である請求項1又は2に記載の1,3,5−トリアジン誘導体。
- 一般式(3)
[式中、mは1から5の整数を示し、Yは炭素数1から8の置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又はシアノ基を示し、mが2から5の整数を示す時はYは同一又は相異なっていてもよい。]で表される置換ベンゾニトリル類と、一般式(4)
[式中、nは0又は1から3の整数を示し、Xは置換されていてもよい炭素数1から4のアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、又はハロゲン原子を示し、nが2又は3の時はXは同一又は相異なっていてもよい。]、又は一般式(5)
[式中、pは0又は1から4の整数を示し、qは0、1、又は2を示し、Xは前述と同様の意味を示す。pが2から4の整数を示すとき及び/又はqが2を示すときは、Xは同一又は相異なっていてもよい。]で表される置換ナフタレンジカルボン酸ジクロリド類とを、ルイス酸の存在下で反応させることにより、一般式(6)
[式中、n、X、m、Yは前述と同様の意味を示し、Zは陰イオンを示す。]、又は一般式(7)
[式中、p、q、X、m、Y、Zは前述と同様の意味を示す。]で表される1,3,5−オキサジアジニウム塩又はその溶液を得、次いでこれとアンモニア水を反応させる請求項1に記載の一般式(1)
[式中、n、X、m、Yは前述と同様の意味を示す。]、又は一般式(2)
[式中、p、q、X、m、Yは前述と同様の意味を示す。]で表される1,3,5−トリアジン誘導体の製造方法。 - n=0又はp=q=0である請求項4に記載の1,3,5−トリアジン誘導体の製造方法。
- Yが炭素数1〜8のアルキル基である請求項4又は5に記載の1,3,5−トリアジン誘導体の製造方法。
- 一般式(1)
[式中、nは0又は1から3の整数を示し、Xは置換していてもよい炭素数1から4のアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、又はハロゲン原子を示し、nが2又は3の時はXは同一又は相異なっていてもよく、mは1から5の整数を示し、Yは炭素数1から8の置換していてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又はシアノ基を示し、mが2から5の整数を示す時はYは同一又は相異なっていてもよい。]、又は一般式(2)
[式中、pは0又は1〜4の整数を示し、qは0、1、又は2を示し、X、m、Yは前述と同様の意味を示す。pが2から4の整数を示すとき及び/又はqが2を示すときは、Xは同一又は相異なっていてもよい。]で表される1,3,5−トリアジン誘導体から成る薄膜。 - n=0又はp=q=0である請求項7に記載の1,3,5−トリアジン誘導体から成る薄膜。
- Yが炭素数1〜8のアルキル基である請求項7又は8に記載の1,3,5−トリアジン誘導体から成る薄膜。
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