JP4860176B2 - Method for producing Ni (PF3) 4 - Google Patents
Method for producing Ni (PF3) 4 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4860176B2 JP4860176B2 JP2005133859A JP2005133859A JP4860176B2 JP 4860176 B2 JP4860176 B2 JP 4860176B2 JP 2005133859 A JP2005133859 A JP 2005133859A JP 2005133859 A JP2005133859 A JP 2005133859A JP 4860176 B2 JP4860176 B2 JP 4860176B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mixing
- producing
- boiling point
- solvent
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
本発明はＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing Ni (PF 3 ) 4 .
Ｎｉ（ＰＦ3）4は、Ｎｉ系金属、特に、Ｎｉ系薄膜形成用の原料として有望視されている。そして、Ｎｉ（ＰＦ3）4が大量に、かつ、高い収率で得られたならば、高機能、高被覆性を奏するＮｉ系薄膜を形成する為の工業的手法に、Ｎｉ（ＰＦ3）4が用いられると予想される。 Ni (PF 3 ) 4 is promising as a raw material for forming Ni-based metals, particularly Ni-based thin films. If a large amount of Ni (PF 3 ) 4 is obtained in a high yield, Ni (PF 3 ) is an industrial method for forming a Ni-based thin film having high functionality and high coverage. 4 is expected to be used.
しかしながら、Ｎｉ（ＰＦ3）4の工業的な製法が確立されていない。
尚、実験室レベルでは、ビスシクロペンタジエニルニッケル［Ｃ５Ｈ５］２ＮｉとＰＦ3とを反応させる手法が提案されている。
［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉ＋ＰＦ3→Ｎｉ（ＰＦ3）4
However, an industrial production method for Ni (PF 3 ) 4 has not been established.
At the laboratory level, a method of reacting biscyclopentadienyl nickel [C 5 H 5 ] 2 Ni with PF 3 has been proposed.
[C 5 H 5 ] 2 Ni + PF 3 → Ni (PF 3 ) 4
しかしながら、この反応式で示される手法によるＮｉ（ＰＦ3）4の収率は低い。例えば、数％の程度である。従って、この方法は、コストが高く付き、大量生産に適した工業的製法では無い。 However, the yield of Ni (PF 3 ) 4 by the method shown in this reaction formula is low. For example, it is about several percent. Therefore, this method is expensive and is not an industrial method suitable for mass production.
又、純度が高いＮｉ膜を形成しようとしたならば、Ｎｉ（ＰＦ3）4の純度も高くなければならない。
しかしながら、上記の方法では、原料の［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉに由来する有機物が混入している問題点が有る。
If an Ni film having a high purity is to be formed, the purity of Ni (PF 3 ) 4 must be high.
However, in the above method, there is a problem that organic substances derived from [C 5 H 5 ] 2 Ni as a raw material are mixed.
従って、本発明が解決しようとする第１の課題は、収率が高く、大量生産が可能なＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法を提供することである。 Therefore, the first problem to be solved by the present invention is to provide a method for producing Ni (PF 3 ) 4 that has a high yield and can be mass-produced.
本発明が解決しようとする第２の課題は、純度の高いＮｉ（ＰＦ3）4が得られる製造方法を提供することである。 The second problem to be solved by the present invention is to provide a production method for obtaining highly pure Ni (PF 3 ) 4 .
前記の課題を解決する為の研究を鋭意押し進めて行く中に、本発明者は、アルキルシクロペンタジエニルニッケルを沸点が１００℃以上の溶媒に溶かしてから、前記アルキルシクロペンタジエニルニッケルとＰＦ3とを反応させると、収率が向上することを見出すに至った。 While eagerly pursuing research to solve the above-mentioned problems, the present inventor has dissolved alkylcyclopentadienyl nickel in a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher, and then has said alkylcyclopentadienyl nickel and PF. The reaction with 3 led to the finding that the yield was improved.
そして、更なる研究を続行して行った結果、炭化水素に代表される無極性溶媒を用いると、シクロペンタジエニルニッケル［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉに由来する有機物の混入が極めて少ないことがも判って来た。 As a result of continuing further research, when nonpolar solvents such as hydrocarbons are used, organic substances derived from cyclopentadienylnickel [C 5 H 5 ] 2 Ni are very rarely mixed. I understand.
更には、有機系の不純物を含む粗製Ｎｉ（ＰＦ3）4を炭化水素に代表される無極性溶媒によって洗浄することによって、有機不純物が除去できることも判って来た。 Furthermore, it has been found that organic impurities can be removed by washing crude Ni (PF 3 ) 4 containing organic impurities with a nonpolar solvent typified by hydrocarbon.
このような知見を基にして本発明が達成されたものである。
すなわち、前記の課題は、Ｎｉ（ＰＦ3）4の製造方法であって、
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物の群の中から選ばれる一つ又は二つ以上の化合物と、沸点が１００℃以上の溶媒とを混合する混合工程と、
前記混合工程の後、該混合物とＰＦ3とを混合し、反応させる反応工程と、
前記反応工程の後、生成したＮｉ（ＰＦ3）4を単離する単離工程
とを具備することを特徴とするＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法によって解決される。
一般式［Ｉ］
［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉ
（但し、ＲはＨ又は炭化水素基であって、ｎは０〜５の整数である。二つ以上のＲが有る場合、全てのＲは同一でも、異なっていても良い。）
The present invention has been achieved based on such knowledge.
That is, the subject is a method for producing Ni (PF 3 ) 4 ,
A mixing step of mixing one or two or more compounds selected from the group of compounds represented by the following general formula [I] with a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher;
A reaction step of mixing and reacting the mixture and PF 3 after the mixing step;
After the reaction step, is solved generated Ni a (PF 3) 4 by the manufacturing method of Ni (PF 3) 4, characterized in that comprises the isolation step of isolating.
Formula [I]
[(R) n C 5 H 5-n ] 2 Ni
(However, R is H or a hydrocarbon group, and n is an integer of 0 to 5. When there are two or more Rs, all Rs may be the same or different.)
特に、Ｎｉ（ＰＦ3）4の製造方法であって、
下記の一般式［Ｉａ］で表される化合物の群の中から選ばれる一つ又は二つ以上の化合物と、沸点が１００℃以上の溶媒とを混合する混合工程と、
前記混合工程の後、該混合物とＰＦ3とを混合し、反応させる反応工程と、
前記反応工程の後、生成したＮｉ（ＰＦ3）4を単離する単離工程
とを具備することを特徴とするＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法によって解決される。
一般式［Ｉａ］
［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉ
（但し、ＲはＨ又はアルキル基であって、ｎは０〜５の整数である。二つ以上のＲが有る場合、全てのＲは同一でも、異なっていても良い。）
In particular, a method for producing Ni (PF 3 ) 4 , comprising:
A mixing step of mixing one or two or more compounds selected from the group of compounds represented by the following general formula [Ia] with a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher;
A reaction step of mixing and reacting the mixture and PF 3 after the mixing step;
After the reaction step, is solved generated Ni a (PF 3) 4 by the manufacturing method of Ni (PF 3) 4, characterized in that comprises the isolation step of isolating.
Formula [Ia]
[(R) n C 5 H 5-n ] 2 Ni
(However, R is H or an alkyl group, and n is an integer of 0 to 5. When there are two or more Rs, all Rs may be the same or different.)
更には、Ｎｉ（ＰＦ3）4の製造方法であって、
下記の一般式［Ｉｂ］で表される化合物の群の中から選ばれる一つ又は二つ以上の化合物と、沸点が１００℃以上の溶媒とを混合する混合工程と、
前記混合工程の後、該混合物とＰＦ3とを混合し、反応させる反応工程と、
前記反応工程の後、生成したＮｉ（ＰＦ3）4を単離する単離工程
とを具備することを特徴とするＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法によって解決される。
一般式［Ｉｂ］
［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉ
（但し、ＲはＨ又はアルキル基であって、ｎは０又は１である。）
Furthermore, a method for producing Ni (PF 3 ) 4 , comprising:
A mixing step of mixing one or two or more compounds selected from the group of compounds represented by the following general formula [Ib] with a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher;
A reaction step of mixing and reacting the mixture and PF 3 after the mixing step;
After the reaction step, is solved generated Ni a (PF 3) 4 by the manufacturing method of Ni (PF 3) 4, characterized in that comprises the isolation step of isolating.
Formula [Ib]
[(R) n C 5 H 5-n ] 2 Ni
(However, R is H or an alkyl group, and n is 0 or 1.)
特に、Ｎｉ（ＰＦ3）4の製造方法であって、
下記の一般式［Ｉｃ］で表される化合物の群の中から選ばれる一つ又は二つ以上の化合物と、沸点が１００℃以上の溶媒とを混合する混合工程と、
前記混合工程の後、該混合物とＰＦ3とを混合し、反応させる反応工程と、
前記反応工程の後、生成したＮｉ（ＰＦ3）4を単離する単離工程
とを具備することを特徴とするＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法によって解決される。
一般式［Ｉｃ］
［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉ
（但し、ＲはＨ又は炭素数が７以下のアルキル基であって、ｎは０又は１である。）
In particular, a method for producing Ni (PF 3 ) 4 , comprising:
A mixing step of mixing one or two or more compounds selected from the group of compounds represented by the following general formula [Ic] with a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher;
A reaction step of mixing and reacting the mixture and PF 3 after the mixing step;
After the reaction step, is solved generated Ni a (PF 3) 4 by the manufacturing method of Ni (PF 3) 4, characterized in that comprises the isolation step of isolating.
Formula [Ic]
[(R) n C 5 H 5-n ] 2 Ni
(However, R is H or an alkyl group having 7 or less carbon atoms, and n is 0 or 1.)
上記本発明において、［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉの中でも、［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉ，［（ＣＨ３）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ，［（Ｃ２Ｈ５）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ，［（ｉ−Ｃ３Ｈ７）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ，［（ｎ−Ｃ４Ｈ９）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉが特に好ましいものである。
In the present invention, among the [(R) n C 5 H 5-n] 2 Ni, [C 5 H 5] 2 Ni, [(CH 3) C 5 H 4] 2 Ni, [(C 2
上記本発明において、溶媒は無極性溶媒が好ましい。中でも、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンの群の中から選ばれる一つ又は二つ以上の化合物（溶媒）が好ましい。 In the present invention, the solvent is preferably a nonpolar solvent. Among these, one or more compounds (solvents) selected from the group consisting of nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, and hexadecane are preferable.
上記本発明において、単離工程は、常圧蒸留または減圧蒸留によって行われる。このような蒸留操作によって、Ｎｉ（ＰＦ3）4と、溶媒、原料、及び反応副生物とが効率良く分離される。 In the present invention, the isolation step is performed by atmospheric distillation or vacuum distillation. By such a distillation operation, Ni (PF 3 ) 4 is efficiently separated from the solvent, the raw material, and the reaction by-product.
本発明にあっては、上記単離工程（蒸留工程）に先立って、沸点が１００℃以上の無極性溶媒で粗製Ｎｉ（ＰＦ3）4を分別しておくことが好ましい。すなわち、沸点が１００℃以上の無極性溶媒で粗製Ｎｉ（ＰＦ3）4を洗浄することによって、Ｎｉ（ＰＦ3）4と、溶媒、原料、及び反応副生物とが分離される。従って、このような分別操作を行うことによって、その後の蒸留・精製が効率良く行われる。 In the present invention, prior to the isolation step (distillation step), it is preferable to separate crude Ni (PF 3 ) 4 with a nonpolar solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher. That is, by washing crude Ni (PF 3 ) 4 with a nonpolar solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher, Ni (PF 3 ) 4 is separated from the solvent, raw materials, and reaction byproducts. Therefore, by performing such a fractionation operation, subsequent distillation and purification can be performed efficiently.
本発明にあっては、反応工程と単離工程とは同時に平行して行われることが好ましい。すなわち、斯くの如くすることにより、単離工程後の未反応ＰＦ3を反応工程に循環供給することが出来、原料の効率的な使用が可能になる。 In the present invention, it is preferable that the reaction step and the isolation step are performed simultaneously in parallel. That is, by doing so, the unreacted PF 3 after the isolation step can be circulated and supplied to the reaction step, and the raw materials can be used efficiently.
Ｎｉ（ＰＦ3）4が高収率で得られる。そして、大量に、かつ、簡単に、しかも低廉なコストで得られる。更には、純度の高いＮｉ（ＰＦ3）4が得られる。 Ni (PF 3 ) 4 is obtained in high yield. And it can be obtained in large quantities, easily and at a low cost. Furthermore, highly pure Ni (PF 3 ) 4 is obtained.
本発明は、Ｎｉ（ＰＦ3）4の製造方法である。そして、下記の一般式［Ｉ］で表される化合物と、１気圧下での沸点が１００℃以上の溶媒とを混合する混合工程を有する。かつ、前記混合工程の後、該混合物とＰＦ3とを混合し、反応させる反応工程を有する。更に、前記反応工程の後、生成したＮｉ（ＰＦ3）4を単離する単離工程を有する。
一般式［Ｉ］
［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉ
（但し、Ｒは水素または炭化水素基であって、ｎは０〜５の整数である。二つ以上のＲが有る場合、全てのＲは同一でも、異なっていても良い。）
The present invention is a method for producing Ni (PF 3 ) 4 . And it has the mixing process which mixes the compound represented with the following general formula [I], and the solvent whose boiling point under 1 atmosphere is 100 degreeC or more. And, after the mixing step, mixing the mixture with PF 3, having a reaction step of reacting. Further, after the reaction step, with the resulting Ni (PF 3) 4 the isolation step of isolating.
Formula [I]
[(R) n C 5 H 5-n ] 2 Ni
(However, R is hydrogen or a hydrocarbon group, and n is an integer of 0 to 5. When there are two or more Rs, all Rs may be the same or different.)
上記一般式において、Ｒがアルキル基（中でも、炭素数が７以下のアルキル基）の化合物が好ましい。ｎは０又は１の化合物が好ましい。これらの化合物の中でも、特に好ましい化合物は次の化合物である。［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉ，［（ＣＨ３）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ，［（Ｃ２Ｈ５）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ，［（ｉ−Ｃ３Ｈ７）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ，［（ｎ−Ｃ４Ｈ９）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉ。 In the above general formula, a compound in which R is an alkyl group (in particular, an alkyl group having 7 or less carbon atoms) is preferable. n is preferably a compound of 0 or 1. Among these compounds, particularly preferred compounds are the following compounds. [C 5 H 5] 2 Ni , [(CH 3) C 5 H 4] 2 Ni, [(C 2 H 5) C 5 H 4] 2 Ni, [(i-C 3 H 7) C 5 H 4 ] 2 Ni, [(n- C 4 H 9) C 5 H 4] 2 Ni.
本発明で用いられる溶媒は、沸点が１００℃以上のものであるが、好ましくは沸点が１１０℃以上のものである。更には沸点が１２３℃以上のものである。特に、沸点が１３５℃以上、中でも１４０℃以上のものである。沸点の上限には格別な制約は無く、即ち、常圧下において液体であれば良が、通常では、４００℃以下である。
又、本発明で用いられる好ましい溶媒は無極性溶媒である。
そして、本発明で用いられる溶媒として中でも好ましい溶媒は次の化合物である。ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン。
The solvent used in the present invention has a boiling point of 100 ° C. or higher, but preferably has a boiling point of 110 ° C. or higher. Further, the boiling point is 123 ° C. or higher. In particular, it has a boiling point of 135 ° C. or higher, particularly 140 ° C. or higher. There is no particular restriction on the upper limit of the boiling point, that is, it can be a liquid under normal pressure, but is usually 400 ° C. or lower.
The preferred solvent used in the present invention is a nonpolar solvent.
Among the solvents used in the present invention, preferred solvents are the following compounds. Nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane.
本発明の単離工程は、常圧蒸留または減圧蒸留によって行われる。
本発明にあっては、上記単離工程（蒸留工程）に先立って、沸点が１００℃以上の無極性溶媒で粗製Ｎｉ（ＰＦ3）4の分別が行われる。すなわち、１気圧下での沸点が１００℃以上の無極性溶媒で粗製Ｎｉ（ＰＦ3）4を洗浄することによって、Ｎｉ（ＰＦ3）4と、溶媒、原料、及び反応副生物とが分離される。
The isolation step of the present invention is performed by atmospheric distillation or vacuum distillation.
In the present invention, prior to the isolation step (distillation step), fractionation of crude Ni (PF 3 ) 4 is performed with a nonpolar solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher. That is, by washing crude Ni (PF 3 ) 4 with a nonpolar solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher under 1 atm, Ni (PF 3 ) 4 is separated from the solvent, raw material, and reaction by-product. The
本発明にあっては、反応工程と単離工程とは同時に平行して行われる。すなわち、斯くの如くすることにより、単離工程後の未反応ＰＦ3を反応工程に循環供給することが出来、原料の効率的な使用が可能になる。 In the present invention, the reaction step and the isolation step are simultaneously performed in parallel. That is, by doing so, the unreacted PF 3 after the isolation step can be circulated and supplied to the reaction step, and the raw materials can be used efficiently.
以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
［実施例１］
図１はＮｉ（ＰＦ３）4製造装置の概略図である。同図中、１はＰＦ３ボンベ、２はアルキルシクロペンタジエニルニッケルと溶媒との混合液、３はＰＦ３の吹き込み口、４は撹拌子、５は反応温度調節器、６は冷却器、７はＮｉ（ＰＦ3）4捕集用冷却トラップ、８はＰＦ３回収用冷却トラップ、９は圧力調節器である。
そして、図１の装置を用いてＮｉ（ＰＦ3）4の製造が行われた。尚、製造は全て窒素雰囲気下で行われた。
Hereinafter, specific examples will be described.
[Example 1]
FIG. 1 is a schematic view of a Ni (PF 3 ) 4 manufacturing apparatus. In the figure, 1 is a PF 3 cylinder, 2 is a mixture of an alkylcyclopentadienyl nickel and a solvent, 3 is a PF 3 inlet, 4 is a stirrer, 5 is a reaction temperature controller, 6 is a cooler, 7 is a cooling trap for collecting Ni (PF 3 ) 4 , 8 is a cooling trap for recovering PF 3 , and 9 is a pressure regulator.
Then, the production of Ni (PF 3) 4 using the apparatus of FIG. 1 were made. All the production was performed under a nitrogen atmosphere.
先ず、脱水・脱気されたテトラデカン８００ｍｌ中に、ビスシクロペンタジエニルニッケル［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉの９５g（０.５mol）を一部溶解、一部分散させ、撹拌しながら９０℃に保った。 First, 95 g (0.5 mol) of biscyclopentadienyl nickel [C 5 H 5 ] 2 Ni is partially dissolved and partially dispersed in 800 ml of dehydrated and degassed tetradecane, and kept at 90 ° C. with stirring. It was.
そして、装置内を負圧にした後、反応系内圧力が大気圧近傍になるまでＰＦ３ガスを混合液中に吹き込んだ。暫くすると、ＰＦ３は反応によって消費され、系内の圧力は再び負圧になった。 Then, after the inside of the apparatus to a negative pressure was blown PF 3 gas in the mixture until the reaction system internal pressure is near atmospheric pressure. After a while, PF 3 was consumed by the reaction, and the pressure in the system became negative again.
そこで、反応系内圧力が大気圧近傍になるまで、再度、ＰＦ３ガスを混合液中に吹き込んだ。このような過程を数回繰り返して行った。 Therefore, PF 3 gas was blown into the mixed solution again until the internal pressure of the reaction system became close to atmospheric pressure. Such a process was repeated several times.
この後、反応容器を室温まで冷却した。そして、系内を圧力調整装置９によって減圧した。減圧蒸留されたＮｉ（ＰＦ3）4は、捕集用冷却トラップ７によって捕集された。又、ＰＦ３が冷却トラップ８によって回収された。この回収されたＰＦ３を、ボンベ１に供給し、再使用した。そして、［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉが消費されるまで同じ操作を行った。
After this, the reaction vessel was cooled to room temperature. The system was depressurized by the
捕集されたＮｉ（ＰＦ3）4を分液ロートに移し、これにテトラデカンを入れた。そうすると、上層（テトラデカン層）と下層（Ｎｉ（ＰＦ3）4）とに分かれた。 The collected Ni (PF 3 ) 4 was transferred to a separatory funnel, and tetradecane was added thereto. Then, it was divided into an upper layer (tetradecane layer) and a lower layer (Ni (PF 3 ) 4 ).
下層をテトラデカンによって５回洗浄した。
洗浄後、常圧蒸留装置により精製した。
The lower layer was washed 5 times with tetradecane.
After washing, the product was purified by an atmospheric distillation device.
この精製物の沸点は６８℃であった。又、この精製物を燃焼−赤外線吸収法に提供した処、Ｃは検出されなかった。尚、検出精度を考慮すると、Ｃは含まれていても、０．０１ｗｔ％以下である。
そして、本実施例での収量は１６５．８gであった。従って、収率は８１％である。
The boiling point of this purified product was 68 ° C. In addition, C was not detected when this purified product was provided to the combustion-infrared absorption method. In consideration of detection accuracy, even if C is included, it is 0.01 wt% or less.
The yield in this example was 165.8 g. Therefore, the yield is 81%.
このようにして得られたＮｉ（ＰＦ3）4を用いて化学気層成長方法によりニッケル薄膜を作成した。そして、このようにして得られたＮｉ膜をＳＩＭＳ分析によって分析した処、Ｃは検出されなかった。又、このＮｉ膜の比抵抗を調べた処、１３μΩ・ｃｍであった。 A nickel thin film was prepared by the chemical vapor deposition method using Ni (PF 3 ) 4 thus obtained. When the Ni film thus obtained was analyzed by SIMS analysis, C was not detected. Further, when the specific resistance of this Ni film was examined, it was 13 μΩ · cm.
［実施例２］
実施例１において、［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉの代わりに、［（ＣＨ３）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉを用い、同様に行った。
その結果、実施例１と同様な結果が得られた。
[Example 2]
In Example 1, instead of [C 5 H 5 ] 2 Ni, [(CH 3 ) C 5 H 4 ] 2 Ni was used in the same manner.
As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
［実施例３］
実施例１において、［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉの代わりに、［（Ｃ２Ｈ５）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉを用い、同様に行った。
その結果、実施例１と同様な結果が得られた。
[Example 3]
In Example 1, instead of [C 5 H 5 ] 2 Ni, [(C 2 H 5 ) C 5 H 4 ] 2 Ni was used in the same manner.
As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
［実施例４］
実施例１において、［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉの代わりに、［（ｉ−Ｃ３Ｈ７）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉを用い、同様に行った。
その結果、実施例１と同様な結果が得られた。
[Example 4]
In Example 1, in place of the [C 5 H 5] 2 Ni , using the [(i-C 3 H 7 ) C 5 H 4] 2 Ni, it was the same.
As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
［実施例５］
実施例１において、［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉの代わりに、［（ｎ−Ｃ４Ｈ９）Ｃ５Ｈ４］２Ｎｉを用い、同様に行った。
その結果、実施例１と同様な結果が得られた。
[Example 5]
In Example 1, instead of [C 5 H 5 ] 2 Ni, [(n—C 4 H 9 ) C 5 H 4 ] 2 Ni was used in the same manner.
As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
［実施例６〜１３］
実施例１において、テトラデカンの代わりに、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを用い、同様に行った。
その結果、実施例１と同様な結果が得られた。
[Examples 6 to 13]
In Example 1, in place of tetradecane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, pentadecane, and hexadecane were used in the same manner.
As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
［比較例１］
実施例１において、テトラデカンの代わりに、ジエチルエーテル(沸点３４.６℃)を用い、同様に行った。
得られたＮｉ（ＰＦ3）4の収率は１０％であった。
又、本比較例で得たＮｉ（ＰＦ3）4を用いて化学気層成長方法によりニッケル薄膜を作成した。そして、このようにして得られたＮｉ膜をＳＩＭＳ分析によって分析した処、４％程度のＣが検出された。又、本比較例のＮｉ膜は、実施例１のＮｉ膜に比べて純度が劣ることから、その比抵抗も実施例１のものに比べて劣るものであった。
[Comparative Example 1]
In Example 1, diethyl ether (boiling point: 34.6 ° C.) was used in the same manner instead of tetradecane.
The yield of the obtained Ni (PF 3 ) 4 was 10%.
Further, a nickel thin film was prepared by the chemical vapor deposition method using Ni (PF 3 ) 4 obtained in this comparative example. When the Ni film thus obtained was analyzed by SIMS analysis, about 4% of C was detected. Further, since the Ni film of this comparative example was inferior in purity as compared with the Ni film of Example 1, its specific resistance was also inferior to that of Example 1.
［比較例２］
実施例１において、テトラデカンの代わりに、ヘプタン(沸点９８℃)を用い、同様に行った。
しかしながら、溶媒との分離は困難であり、純粋なＮｉ（ＰＦ3）4は得られなかった。
[Comparative Example 2]
In Example 1, heptane (boiling point 98 ° C.) was used in the same manner instead of tetradecane.
However, separation from the solvent was difficult, and pure Ni (PF 3 ) 4 could not be obtained.
１ ＰＦ３ボンベ
２ ［Ｃ５Ｈ５］２Ｎｉとテトラデカンとの混合溶液
３ ＰＦ３吹き込み口
４ 撹拌子
５ 反応温度調節器
６ 冷却器
７ Ｎｉ（ＰＦ3）4捕集用冷却トラップ
８ ＰＦ３回収用冷却トラップ
９ 圧力調節器
代 理 人 宇 高 克 己
1 PF 3 cylinder 2 [C 5 H 5 ] 2 Mixed solution of Ni and
Representative Katsumi Udaka
Claims (5)
下記の一般式［Ｉ］で表される化合物の群の中から選ばれる一つ又は二つ以上の化合物と、沸点が１２３℃〜４００℃の無極性溶媒とを混合する混合工程と、
前記混合工程の後、該混合物とＰＦ3とを混合し、反応させる反応工程と、
前記反応工程の後、沸点が１２３℃〜４００℃の無極性溶媒で粗製Ｎｉ（ＰＦ3）4を分別する分別工程と、
前記分別工程の後、常圧または減圧蒸留による蒸留工程
とを具備することを特徴とするＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法。
一般式［Ｉ］
［（Ｒ）ｎＣ５Ｈ５−ｎ］２Ｎｉ
（但し、ＲはＨ又は炭化水素基であって、ｎは０〜５の整数である。二つ以上のＲが有る場合、全てのＲは同一でも、異なっていても良い。） A method for producing Ni (PF 3 ) 4 , comprising:
A mixing step of mixing one or two or more compounds selected from the group of compounds represented by the following general formula [I] with a nonpolar solvent having a boiling point of 123 ° C. to 400 ° C .;
A reaction step of mixing and reacting the mixture and PF 3 after the mixing step;
A fractionation step of fractionating crude Ni (PF 3 ) 4 with a nonpolar solvent having a boiling point of 123 ° C. to 400 ° C. after the reaction step;
A method for producing Ni (PF 3 ) 4 comprising a distillation step by atmospheric pressure or vacuum distillation after the fractionation step.
Formula [I]
[(R) n C 5 H 5-n ] 2 Ni
(However, R is H or a hydrocarbon group, and n is an integer of 0 to 5. When there are two or more Rs, all Rs may be the same or different.)
ことを特徴とする請求項１のＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法。 The compound represented by the general formula [I] is [C 5 H 5 ] 2 Ni, [(CH 3 ) C 5 H 4 ] 2 Ni, [(C 2 H 5 ) C 5 H 4 ] 2 Ni, [ Ni (PF 3 ) 4 according to claim 1, characterized in that it is (i-C 3 H 7 ) C 5 H 4 ] 2 Ni, [(n-C 4 H 9 ) C 5 H 4 ] 2 Ni. Production method.
ことを特徴とする請求項１のＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法。 The method for producing Ni (PF 3 ) 4 according to claim 1, wherein the fractionation step comprises a washing step with a nonpolar solvent.
ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかのＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法。 The solvent is one or two or more compounds selected from the group consisting of nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, and hexadecane. A method for producing Ni (PF 3 ) 4 .
ことを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかのＮｉ（ＰＦ3）4の製造方法。 The method for producing Ni (PF 3 ) 4 according to any one of claims 1 to 4, wherein unreacted PF 3 is supplied to the reaction step.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005133859A JP4860176B2 (en) | 2005-05-02 | 2005-05-02 | Method for producing Ni (PF3) 4 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005133859A JP4860176B2 (en) | 2005-05-02 | 2005-05-02 | Method for producing Ni (PF3) 4 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006306682A JP2006306682A (en) | 2006-11-09 |
| JP4860176B2 true JP4860176B2 (en) | 2012-01-25 |
Family
ID=37473999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005133859A Expired - Lifetime JP4860176B2 (en) | 2005-05-02 | 2005-05-02 | Method for producing Ni (PF3) 4 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4860176B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5088773B2 (en) * | 2007-03-19 | 2012-12-05 | 株式会社トリケミカル研究所 | Film forming method and film forming material |
| RU2650955C1 (en) * | 2017-05-23 | 2018-04-18 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Горно-химический комбинат" (ФГУП "ГХК") | Method for obtaining tetrakis- (trifluorophosphin) of nickel |
| RU2750621C1 (en) * | 2020-11-27 | 2021-06-30 | Лев Эдуардович Барышников | Method for tetrakis-(trifluorophosphine) nickel production |
| US11673904B1 (en) | 2021-12-09 | 2023-06-13 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Low pressure process for synthesis of Pt(PF3)4 involving a soluble intermediate and storage of obtained Pt(PF3)4 |
| CN117228643B (en) * | 2023-09-19 | 2025-11-07 | 南通艾佩科半导体材料有限公司 | Preparation method of electronic grade phosphorus trifluoride |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1900119B2 (en) * | 1969-01-02 | 1977-06-30 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | PROCESS FOR DEPOSITING HIGH-MELTING CONTACT METAL LAYERS AT LOW TEMPERATURES |
| DE4023883A1 (en) * | 1990-07-27 | 1992-01-30 | Kali Chemie Ag | METHOD FOR DEPOSITING LAYERS CONTAINING TRANSITION METAL |
| JP4353371B2 (en) * | 2004-08-06 | 2009-10-28 | 株式会社トリケミカル研究所 | Film formation method |
-
2005
- 2005-05-02 JP JP2005133859A patent/JP4860176B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2006306682A (en) | 2006-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Curran et al. | Fluorous techniques for the synthesis and separation of organic molecules | |
| JP2001010999A (en) | Process for producing tricyclodecane dimethanol and / or pentacyclopentadecane dimethanol | |
| JP4860176B2 (en) | Method for producing Ni (PF3) 4 | |
| TWI331152B (en) | ||
| Periasamy et al. | Synthesis of Amines by Reduction of Imines with the MCl2/NaBH4 (M= Co, Ni) System | |
| WO2008062553A1 (en) | Process for production of cyclic olefin | |
| US4277414A (en) | Process for producing catalyst | |
| TWI865978B (en) | Storage | |
| WO2008075672A1 (en) | Method for producing tris(perfluoroalkanesulfonyl)methide acid salt | |
| JP5876108B2 (en) | Method for purifying dodecacarbonyltriruthenium | |
| CN101602772B (en) | High-purity low-oxygen trialkyl gallium organometallics purification method | |
| US6753437B1 (en) | CVD material compound and method for manufacturing the same, and CVD method of iridium or iridium compound thin film | |
| CN116547257A (en) | Method for recovering and reusing selective homogeneous hydrogenation catalyst | |
| US7319158B2 (en) | Process for producing high-purity hafnium amide | |
| Massad et al. | London dispersion governs stereochemistry, stability, and self-sorting in a system of M4L4 cages | |
| JPWO2016104518A1 (en) | Olefin production method | |
| CN117843430B (en) | A method for synthesizing tetrabenzodiindoperylene with near-infrared absorption | |
| CN113582891B (en) | H catalysis with ionic liquid as catalyst2Method for preparing mercaptoalcohol with high additional value by reacting S with epoxy and enol | |
| CN118416967A (en) | Rhodium catalyst separation and recovery method and application thereof | |
| CN120897923A (en) | Diphosphine-diborane complex and its preparation method | |
| CN113845530A (en) | A Facile Michal Addition of 2-phenylbenzimidazo[2,1-b]thiazole | |
| CN118406027A (en) | Preparation method of trans-2, 5-dimethyl tetrahydrofuran | |
| CN104059094A (en) | Synthesis method of 9-borabicyclo[3.3.1]nonane dimer | |
| CN120441415A (en) | A method for selectively synthesizing trans-olefins by semi-reduction of diaryl alkynes catalyzed by elemental sulfur | |
| CN120664947A (en) | Preparation method of deuterated tertiary butanol |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071126 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091110 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100428 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100601 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101201 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101210 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111019 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111102 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4860176 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |