JP4861163B2 - 3−カルボニルアミノチオフェン及び殺真菌剤としてのそれらの使用 - Google Patents
3−カルボニルアミノチオフェン及び殺真菌剤としてのそれらの使用 Download PDFInfo
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Description
R3は、チオフェン環の2位にあるかあるいは4位のいずれかであり、そして3〜13個の炭素原子及び1個以上のケイ素原子を、そして任意に酸素、窒素及びイオウから独立して選択された1〜3個のヘテロ原子を含む有機基であり、そして独立して選択された1〜4個のハロゲン原子によって任意に置換されており;
各R4は、独立してハロゲン、C1〜3アルキル、C1〜3ハロアルキル、C1〜3アルコキシ(C1〜3)アルキル又はシアノであり;
rは0、1又は2であり;そして
XはO又はSである)
の化合物又はそのN-酸化物を提供する。
のチオフェンは、式(I)の化合物の調製における中間体であるとして有用である。
(式中、R3はSiMe2Et、SiMe2CHMe2、SiMe2CH2CHMe2、SiMe2CH2CMe3、CH=CHSiMe3、(CH2)2SiMe3、(CH2)2SiMe2Et、(CH2)2SiMe2CHMe2、(CH2)2SiMe2CMe3、(CH2)2SiMe2CH2CHMe2、CHMeCH2SiMe3、CHMeCH2SiMe2Et、CH2CHMeSiMe3、CMe2CH2SiMe3又は(CH2)3SiMe3であり;そしてAは上に定義した通りである[但し、R3がSiMe3である場合、Aはハロゲンではない])の化合物は、新規であり且つ式(I)の化合物の調製のための中間体として好適である。式(IIa)及び(IIb)(式中、R3はSiMe3であり且つAがハロゲンである)
の化合物は既に知られている。
m.p.=融点 b.p.=沸点
s=シングレット br=ブロード
d=ダブレット dd=2組のダブレット
t=トリプレット q=クオタレット
m=マルチプレット ppm=百万分率
qd=4組のダブレット sext=セクステット
式(I)の化合物は、式(IIa)又は(IIb)[式中、AはNH2、NHCH(O)、任意に置換された(C1〜4)アルキルC(=O)NH又は任意に置換された(C1〜4)アルキルOC(=O)NHである]の化合物と式Het-C(=O)OR'[式中、R’はC1〜5アルキルである]の化合物を強塩基[例えば、NaH又はナトリウムヘキサメチルジシルアザン]を極性溶媒[好適にはTHF]の存在下で温度-10℃且つ当該溶媒の沸点[好適には周囲温度]で反応させることによって調製されて良い。J. Wangらによる記事[Synlett 2001,1485]は類似物調製の詳細を供する。AがNHCH(O)である場合、任意に置換された(C1〜4)アルキルC(=O)NH又は任意に置換された(C1〜4)アルキルOC(=O)NH;及び式(I)(式中、R1はHであるのが望ましい)の化合物は次いで、下の方法Eに従い加水分解されなければならない。
式(I)の化合物は、式(IIa)又は(IIb)[式中、Aは上記方法Aにおいて定義したとおりである]の化合物と式Het-C(=O)R''[式中、R"はOH であるかあるいは脱離基の例えば、Cl、Br、F又はOC(=O) C1〜4アルキルである)を不活性有機溶媒[例えば、酢酸エチル、ジクロロメタン、ジオキサン、THF又はDMF]の存在下で温度-10℃且つ溶媒の沸点[好適には、周囲温度]で反応させることによって調製されて良い。もし、R"がOHであれば、反応は活性剤[例えばBOP-Cl]及び2当量の塩基[例えば、第三アミン、無機炭酸塩又は炭酸水素]の存在下で行われる。代わりに、もしR"が脱離基であれば、反応は1当量以上の塩基[例えば、ピリジン、第三アミン、有機炭酸塩又は炭酸水素;AがNHCH(O)、任意に置換された(C1〜4)アルキルC(=O)NH又は任意に置換された(C1〜4)アルキルOC(=O)NHである場合、より強力な塩基の例えば、NaH又はナトリウムヘキサメチルジシラザンが使用されている]の存在下で行われている。もし、式(I)(式中、R'がHである)の化合物が所望されている場合、方法Eに従う加水分解が続かなければならない。
式(I)[式中、R1は上に規定された通りであるが、水素ではない]は、式(I)[式中、R1は水素である]の化合物と式R1-L1[式中、R1は上に規定した通りであるが水素ではなく;そしてL1は脱離基であり、例えばCl、Br、I、スルホネート(例えば、メシレート又はトシレート)又はOC(O)C1〜4アルキルである]の化合物を溶媒[例えば、ハロゲン化溶媒(例えば、ジクロロメタン)、エーテル、酢酸エチル、DMF又は水(二層混合物として、任意に相転移触媒の例えば、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの存在下)]中且つ塩基[例えば、第三アミン、アルカリ炭酸塩、アルカリ重炭酸塩、アルカリ水酸化物又はNaH; L1がO(CO)C1〜4アルキルである場合は、塩基を伴わずに単に加熱することで可能である]の存在下で反応させることによって調製されて良い。
式(I)の化合物は式(IIa)又は(IIb)[式中、Aはハロゲン、好適にブロモ又はヨードである]の化合物と式Het-C(=O)NH2の化合物をCu(I)化合物及び極性溶媒[例えば、環状エーテルの例えば、ジオキサン]の存在下で高温で、そして好適には還流温度で反応させることによって調製されて良い。CuIが、リガンド形成物質として1,2-ジアミン(例えば、1,2-ジアミノシクロヘキサン又はエチレンジアミン)及び1当量以上の塩基(例えば、アルカリ炭酸塩又はアルカリリン酸塩)の存在下、式(IIb)の化合物に対して2%〜100%(mol/mol)で使用されることが好適である。A. Klaparsら. J. Am. Chem. Soc. 123,7727 (2001)による記事は、類似調製物の詳細を提供する。
式(I)[式中、R'はHである]の化合物は、上に規定するように、式(I)[式中、R1は上に規定したとおりであるが、Hではない]の化合物から、酸性加水分解又はアルカリ加水分解によって調製されて良い。この目的のために、化合物は水性酸又は塩基の例えば、HCl、HBr又は有機水酸化物[例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム又は水酸化バリウム]と、周囲温度又は高温において、水と混合可能である適切な溶媒[例えば、THF、ジオキサン、低級アルコール又は水自身]で処理されることによって調製されて良い。
式(I)[R1はHである]の化合物は、式(IIa)又は(IIb)[式中、AはN=C(C6H5)2である]から、例えば、J. Ahmanら. Tetrahedron Letters 38,6363 (1997)による記事及び先に記載の方法A又はBに従い、好適には中間体の単離又は精製を伴わずに、AをNH2に転換することによって調製されて良い。
もし必要であれば、導入された「Si」基は更に操作されて式(V)の化合物における所望置換基R3が形成される。
置換基Aを生じさせるためにもし前駆体置換基のもし必要であれば脱保護又は転換により、式(IIa)又は(IIb)の化合物が生じる。
この例は、化合物No.27.2及び1.14の調製を説明する。
段階A
4-ブロモ-3-チオフェンカルボン酸(J. Heterocyclic Chem.1999,36,761に従って調製した)(2g)、トリエチルアミン(1.5g)及びアセトン(15ml)を−10℃に冷却してギ酸クロロエチレン(ethylchloroformiate)(1.15g)をこの温度で加えた。反応混合物を室温で2時間に渡り撹拌し、0℃に冷却して水(5ml)に溶かしたアジ化ナトリウム(0.97g)を序々に加えた。2時間に渡り室温で撹拌した後、この混合物をろ過し、アセトンを蒸発させて残留物をジクロロメタンで希釈し、水で洗浄し硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒の蒸発により、1.7gのオフホワイトの粉末を獲得し、その粉末を次の段階で直接使用した。
ギ酸(30ml)を還流まで加熱し、そしてギ酸(10ml)に溶かした段階Aの産物を滴下して加えた。この混合物を、ガスの発生が止まるまで30分に渡り加熱した。ギ酸を真空下で除去して残留物を酢酸エチルで洗浄し、そして飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄した。乾燥して溶媒を除去した後、産物をシリカゲル上でクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル2:1)に掛けて1.1gの産物(m.p.108〜110℃)を獲得した。
段階Bに由来する産物(1g)、トリブチルスタニル(トリメチルシリル)アセチレン(2.16g)及びパラジウム(テトラキス)トリフェニルフォスフィン(0.28g)を脱気したトルエン(20ml)中に配置し、そしてこの混合物を窒素の雰囲気下で窒素雰囲気下16時間に渡り、還流下で加熱した。冷却後、溶媒を除去して残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル3:1)に掛けた。ヘキサンから3つの連続する結晶化後、0.3gの4-(トリメチルシリル)エチニル-3-チオフェンホルムアミドを獲得した(m.p. 90〜94℃)。
段階Cから獲得した産物をTHF中で、水素吸収が止まるまでチャーコール上Pd(0.3g)(10%)により水素化した。溶媒の蒸留により化合物No.27.2(0.28g)を獲得した。
水素化ナトリウム(0.06g)をTHF(10ml)中に分散させて混合物を氷浴により冷却した。THF(5ml)中に溶かした化合物No.27.2(0.14g)を加えて懸濁を0〜5℃で30分に渡り撹拌した。N-メチル-3-トリフルオロメチル-4-クロロカルボニルピラゾール(0.2g)をこの温度で加え、そして反応混合物を室温で一晩撹拌した。この反応混合物を水に注ぎそして酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させて溶媒を蒸発させた。残留物をメタノール中過剰のメチラートナトリウムで処理し、次いで室温で15分後、この混合物をHClで酸性化し、そして酢酸エチルで抽出した。飽和重炭酸ナトリウムで洗浄後、硫酸ナトリウム上で乾燥させて溶媒を除去した後、残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル1:1)で洗浄し、そしてヘキサンから再結晶化し、化合物No.1.14(0.072g)を獲得した。
この例は、化合物No.28.2、2.85及び2.16の調製を説明する。
段階A:2-ヨード-3-ホルミルアミノチオフェン
3-ホルミルアミノ-チオフェン(21g)、N-ヨードスクシンイミド(37.2g)及びテトラクロロメタン(200ml)を一緒に3時間に渡り還流した。この反応混合物を0〜5℃に冷却してろ過した。この固体を酢酸エチルに溶かし、水酸化ナトリウム(10%溶液)で洗浄し、塩水で洗浄して硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒の蒸発及び残留物のシリカゲル上でのクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル2:1)により37.8gの産物(m.p.100〜107℃)を獲得し、それを段階Bにおいて直接使用した。
段階Aに由来する産物(37.8g)をDMF(500ml)とトリエチルアミン(150ml)の混合物中に溶かした。CuI(1.4g)及びビス(トリフェニルフォスフィノ)パラジウムクロリド(5.2g)を窒素の下で加えて15分後、エチニルトリメチルシラン(22g)を滴下して加えた。6時間後、溶媒を真空下で除去して残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル2:1)に掛け、2-(トリメチルシリルエチニル)-3-ホルムアミド-チオフェン(31.78g)(m.p.87〜93℃)を獲得した。
例1の段階Dにおける化合物No.27.2に記載したとおり、チャコール上Pd(30g)上のTHF中で段階Bに由来する産物(31.78g)の水素化により、化合物No.28.2 (26.3g)を獲得した。
例1の段階Eに記載のように、化合物28.2(23.4g)を水素化ナトリウム(7.4g)及びN-メチル-3-ジフルオロメチル-4-クロロカルボニルピラゾール(30g)で処理して反応混合物を形成させた。
この例は、化合物No.6.1の調製を説明する。
段階A
無水THF(20ml)中に溶かした3-ホルミルアミノチオフェン(Bull. Soc. Chim. Fr. 1976,151)(2g)を、THF(35ml)中リチウムジイソプロピルアミン(0.035mol)の新に調製した溶液に−70℃で溶かした。この溶液を−20℃へと加熱して30分に渡り撹拌し、次いで−70℃に再度冷却し、そしてすぐにトリメチルシリルクロリド(5ml)を加えた。この温度で更なる1時間に渡り撹拌した後、混合物を序々に加熱し、そして4時間に渡り撹拌した。塩化アンモニウム飽和溶液による冷却、酢酸エチルでの抽出、硫酸ナトリウム上での乾燥、溶媒の除去及びシリカゲル上でのクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル2:1)により、2-トリメチルシリル-3-ホルミルアミノチオフェン(1.2g)(m.p.74〜76℃)を獲得した。
化合物No.6.1の調製を、例2の段階Dに従って、段階Aに由来する上記中間体(0.4g)、水素化ナトリウム(0.13g)、2-メチル-4-トリフルオロメチル-5-クロロカルボニルチアゾール(0.69g)及び水酸化ナトリウム(2Mの溶液1.5ml)を使用して行った。シリカゲル上でのクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル4:1)により化合物No.6.1(0.29g)を獲得した。
式Iの化合物の例えば、エマルション化可能濃縮物、溶液、顆粒、ダスト及び可湿粉末を調製するための作業手順はWO97/33890に記載されている。
実施例B-1:プッシニア・レコンジタ(Puccinia recondita)/コムギ(コムギ上での茶色化(Brownnist))に対する作用
1週齢コムギ植物cv.アリーナ(Arina)をスプレーチャンバー中、処方した試験化合物(0.02%活性成分)で処理した。適用の1日後、コムギ植物に、試験植物上へ胞子懸濁(1×105夏胞子/ml)をスプレーすることによって接種した。20℃且つ95%r.h.で2日のインキュベーション期間後、植物を温室において8日に渡り20℃且つ60%r.hで維持した。疾患の発生を接種の10日後に評価した。
5週例リンゴ苗cv.マッキントッシュを、スプレーチャンバー中、処方した試験化合物(0.002%活性成分)で処理した。適用の1日後、リンゴ植物を、上記試験植物とリンゴウドンコ病を感染させた植物を振とうすることによって接種させた。22℃且つ60%のr.h.、14/10時間(明期/暗期)の光計画の下、適用の12日後、疾患の発生率を評価した。
4週齢リンゴ苗cv.マッキントッシュを、スプレーチャンバー中、処方した試験化合物(0.02%活性成分)で処理した。適用の1日後、リンゴ植物を、試験植物上に胞子懸濁(4×105分生子/ml)をスプレーすることによって処理した。21℃且つ95%r.h.で4日のインキュベーション期間の後、植物を温室中21℃且つ60%r.h.で4日に渡り置いた。21℃且つ95%r.h.での更に4日のインキュベーション後、疾患の発生率を評価した。
1週齢植物cv.エクスプレスをスプレーチャンバー中、処方した試験化合物(0.02%活性成分)で処理した。適用の1日後、オオムギ植物を、ウドンコ病に感染した植物と上記試験植物を振とうすることによって接種させた。温室中、20℃/18℃(昼/夜)且つ60%r.h.で6日に渡るインキュベーション期間後、疾患発生率を評価した。
4週齢トマト植物cv.ローター・グノムをスプレーチャンバー中、処方した試験化合物(0.02%活性成分)で処理した。適用の2日後、トマト植物を、胞子懸濁(1×105分生子/ml)を試験植物上にスプレーすることによって接種させた。成長チャンバー中、20℃且つ95%r.h.で4日のインキュベーション期間後、疾患の発生率を評価した。
1週齢コムギ植物cv.アリーナをスプレーチャンバー中、処方した試験化合物(0.02%活性成分)で処理した。適用の1日後、コムギ植物を、試験植物上に胞子懸濁(5×105分生子/ml)をスプレーすることによって接種させた。20℃且つ95%r.h.で1日のインキュベーション期間後、植物を温室中20℃且つ60%r.h.において10日に渡り維持した。疾患の発生を接種の11日後に評価した。
Claims (9)
- 式(I):
(式中、Hetは、酸素、窒素及びイオウから各々独立して選択された1〜3個のヘテロ原子を含む5-又は6-員複素環であり、当該環は、1〜3個の基R4により置換されており;
nR1は水素、任意に置換された(C1〜4)アルキル、ホルミル、任意に置換された(C1〜4)アルキルC(=O)、任意に置換された(C1〜4)アルキルC(=O)O、任意に置換された(C1〜4)アルコキシ(C1〜4)アルキル、任意に置換されたアリル、任意に置換されたプロパルギル又は任意に置換されたアレニルであり;当該任意の置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メトキシ、エトキシ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ及びトリフルオロチオメトキシから独立して選択され;
各R2は独立してハロゲン、任意に置換された(C1〜4)アルキル、任意に置換された(C1〜4)アルコキシ又は任意に置換された(C1〜4)アルコキシ(C1〜4)アルキルであり;当該任意の置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メトキシ、エトキシ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ及びトリフルオロチオメトキシから独立して選択され;
R3は、チオフェン環の2位又は3位のいずれかにあり、そして3〜13個の炭素原子及び1個以上のケイ素原子を、そして任意に酸素、窒素及びイオウから各々独立して選択された1〜3個のヘテロ原子を含む脂肪族の、飽和又は不飽和基であり、そして独立して選択された1〜4個のハロゲン原子により任意に置換されており;
各R4は、独立して、ハロゲン、C1〜3アルキル、C1〜3ハロアルキル、C1〜3アルコキシ(C1〜3)アルキル又はシアノであり;rは0、1又は2であり;そしてXはO又はSである)
の化合物;又はそのN-酸化物。 - XがOである場合に前記Het環が1,2,3-トリアゾールではない、請求項1に記載の式(I)の化合物。
- R1が水素、プロパルギル、アレニル、ホルミル、CH3C(=O)、C2H5C(=O)又はCH3OCH2C(=O)である請求項1又は2に記載の式(I)の化合物。
- 各R2が独立してハロゲン、メチル、トリフルオロメチル及びトリフルオロメトキシから選択されている、請求項1、2又は3のいずれか1項に記載の式(I)の化合物。
- Hetが、各々1〜3個の基R4によって置換されている、ピラゾリル、ピロリル、チオフェニル、フリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、ピリジニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、5.6-ジヒドロピラニル又は5.6-ジヒドロ-1.4-オキサチイニルである、請求項1、2、3又は4のいずれか1項に記載の式(I)の化合物。
- Xが酸素である、請求項1、2、3、4又は5のいずれか1項に記載の式(I)の化合物。
- 式(IIa)又は(IIb):
(式中、R3はSiMe2Et、SiMe2CHMe2、SiMe2CH2CHMe2、SiMe2CH2CMe3、CH=CHSiMe3、(CH2)2SiMe3、(CH2)2SiMe2Et、(CH2)2SiMe2CHMe2、(CH2)2SiMe2CMe3、(CH2)2SiMe2CH2CHMe2、CHMeCH2SiMe3、CHMeCH2SiMe2Et、CH2CHMeSiMe3、CMe2CH2SiMe3、(CH2)3SiMe3であり;そしてAがNH2、NHCH(O)、任意に置換された(C1〜4)アルキルC(=O)NH、任意に置換された(C1〜4)アルキルOC(=O)NH、ハロゲン又はN=C(C6H5)2であり;当該任意の置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メトキシ、エトキシ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ及びトリフルオロチオメトキシから独立して選択され;但し、Aは、R3がSiMe3である場合にハロゲンではない)
の化合物。 - 微生物をコントロールし且つそれらによる植物への攻撃及び感染を予防するための組成物であって、当該活性成分が、適切な担体と一緒の請求項1記載の式(I)の化合物(但し、Hetが、1〜3個のR 4 基で置換されたチアゾール又はピラゾールである)である組成物。
- 請求項1記載の式(I)の化合物(但し、Hetが、1〜3個のR 4 基で置換されたチアゾール又はピラゾールである)化合物又は請求項8に記載の組成物を植物、それらの部分又はそれらがある場所に対して適用することにより植物病原性微生物による栽培植物の感染症をコントロール又は予防する方法。
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