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JP4862379B2 - Plastic lens and method for manufacturing plastic lens - Google Patents
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Description

本発明は、プラスチック製の基板に光透過層を形成してなるプラスチックレンズ等の光学製品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical product such as a plastic lens formed by forming a light transmission layer on a plastic substrate and a method for manufacturing the same.

従来、眼鏡レンズ等の光学部品の基材(基板)として、プラスチック製の基板が使用されている。プラスチック製の基板は、ガラス製の基板に比べ、軽量であり、成形性にも優れるものの、表面が非常に傷つきやすい。そこで、プラスチック製の基板上にハードコート層を形成し、耐擦傷性の向上を図っている。
このハードコート層の形成は、一般に、二酸化ケイ素微粒子とシランカップリング剤を含有するハードコート液を用いてプラスチックレンズ基板に含浸、スプレー、スピンコートまたはディッピングで塗膜を形成し、その後、塗膜を乾燥、硬化させる湿式法で行われている。
Conventionally, a plastic substrate is used as a base material (substrate) of an optical component such as an eyeglass lens. A plastic substrate is lighter and more moldable than a glass substrate, but its surface is very fragile. Therefore, a hard coat layer is formed on a plastic substrate to improve the scratch resistance.
This hard coat layer is generally formed by impregnating a plastic lens substrate with a hard coat liquid containing silicon dioxide fine particles and a silane coupling agent, spraying, spin coating or dipping, and then coating the film. Is performed by a wet method of drying and curing.

一方、プラスチックレンズを構成する素材(レンズ基板、ハードコート層及び反射防止膜 等)の持つ熱膨張率はそれぞれ異なっている。そのため、耐熱性の観点から見た場合、熱膨張率の差異によって物理的にクラック等の破損、破断を生じることがある。しかし、眼鏡レンズを構成するレンズ基板と反射防止膜の層はそれらの材質を大きく変えることができない。何故なら、レンズ基板は、プラスチックレンズであるための基本構成であり、反射防止膜は、耐久性や硬度を保つため一般に無機膜であることから、有機物で構成されるレンズ基板と無機物で構成される反射防止膜の熱膨張率の差は必然的に大きくならざるを得ない。そして、レンズ基板と反射防止膜との中間層であるハードコート層を含浸式の湿式法で形成すると、この層の成分は一様であり、有機物で構成されるので熱膨張率がレンズ基板と近く、反射防止膜との差が大きい。この差により、耐熱性という観点からは物理的にクラック等の破損、破断を生じ易く問題となっている。   On the other hand, the coefficients of thermal expansion of the materials (lens substrate, hard coat layer, antireflection film, etc.) constituting the plastic lens are different. For this reason, when viewed from the viewpoint of heat resistance, physical damage such as cracks or breakage may occur due to differences in thermal expansion coefficients. However, the material of the lens substrate and the antireflection film constituting the spectacle lens cannot be changed greatly. This is because the lens substrate is a basic structure for being a plastic lens, and the antireflection film is generally an inorganic film in order to maintain durability and hardness. Therefore, the lens substrate is composed of a lens substrate made of an organic material and an inorganic material. The difference in the coefficient of thermal expansion between the antireflection films is inevitably large. When a hard coat layer, which is an intermediate layer between the lens substrate and the antireflection film, is formed by an impregnation type wet method, the components of this layer are uniform and are composed of organic matter, so that the coefficient of thermal expansion is There is a large difference from the antireflection film. Due to this difference, from the viewpoint of heat resistance, there is a problem that breakage such as cracks and breakage are easily caused physically.

そこで、乾式法によりハードコート層を形成することも試みられている。例えば、真空蒸着法で二酸化ケイ素膜を形成する方法が知られている。また、近年では、シリカ系有機金属を用いるプラズマCVD法によるハードコート層の形成が提案されている(例えば、特許文献1、2)。このようなハードコート層は、一般的な湿式法で得られたハードコート層とほぼ同等の耐擦傷性特性を示す。   Therefore, it has been attempted to form a hard coat layer by a dry method. For example, a method of forming a silicon dioxide film by a vacuum deposition method is known. In recent years, formation of a hard coat layer by a plasma CVD method using a silica-based organic metal has been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2). Such a hard coat layer exhibits almost the same scratch resistance characteristics as a hard coat layer obtained by a general wet method.

特開平9−68601号公報JP-A-9-68601 特開平8−190002号公報JP-A-8-190002

しかしながら、乾式法によるハードコート層は、前記した湿式法のような問題点はないが、別の問題がある。即ち、真空蒸着法により形成された二酸化ケイ素膜は、膜厚1μm前後から優れた耐擦傷性を示すものの、1μmを越えると二酸化ケイ素膜の圧縮応力によりプラスチック製のレンズ基板との密着性が低下し、十分な膜厚で成膜できず、そのため、耐擦傷性を十分に満足できず、現在ではほとんど用いられていない。
このような欠点は、特許文献1、2に記載されたようなシリカ系有機金属を用いるプラズマCVD法により克服することが可能である。しかし、一般に、レンズ基板表面にはレンズ研磨の際に微細なキズが発生していることが多く、湿式法によればハードコート層形成時にそのキズを覆う効果があった。特許文献1、2に記載のプラズマCVD法によっては、表面に膜が一様に形成されるため湿式法独特のいわゆるキズ消失効果はなく、それ故、レンズの光学的性質や耐熱性(クラックの発生)には問題があった。
そこで、本発明の目的は、耐熱性に優れるとともに、レンズ基板に生じた微細なキズを消失させる構造を持った光学製品及びその製造方法を提供することにある。
However, the hard coat layer by the dry method does not have the problems as the wet method described above, but has another problem. That is, the silicon dioxide film formed by the vacuum evaporation method shows excellent scratch resistance from a film thickness of about 1 μm, but if it exceeds 1 μm, the adhesion to the plastic lens substrate is reduced due to the compressive stress of the silicon dioxide film. However, the film cannot be formed with a sufficient film thickness, and therefore, the scratch resistance cannot be sufficiently satisfied, and it is hardly used at present.
Such drawbacks can be overcome by a plasma CVD method using a silica-based organic metal as described in Patent Documents 1 and 2. However, in general, fine scratches are often generated on the lens substrate surface during lens polishing, and the wet method has an effect of covering the scratches when the hard coat layer is formed. According to the plasma CVD methods described in Patent Documents 1 and 2, since a film is uniformly formed on the surface, there is no so-called scratch disappearance effect peculiar to the wet method. Therefore, the optical properties and heat resistance of the lens (cracking) There was a problem.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical product having a structure excellent in heat resistance and capable of eliminating fine scratches generated on a lens substrate, and a method for manufacturing the same.

本発明は、基板と、前記基板上に形成されたプライマー層と、プライマー層上に形成されたハードコート層と、ハードコート層上に形成された反射防止膜とを有する光学製品であって、前記プライマー層は、湿式法により形成され、前記ハードコート層は、その内部の熱膨張率が前記基板側から前記反射防止膜側に向かって小さくなるように変化していることを特徴とする。
本発明の光学製品によれば、プライマー層が湿式法により形成されているので、基板にキズが生じていてもそのキズを効果的に覆うことができる。さらに、ハードコート層内部の熱膨張率が基板側から反射防止膜側に向かって小さくなるように変化しているので、基板と反射防止膜との熱膨張率の差が大きくとも、中間に位置するハードコート層がその差を緩和することで光学製品全体の耐熱性を高めることができる。
The present invention is an optical product comprising a substrate, a primer layer formed on the substrate, a hard coat layer formed on the primer layer, and an antireflection film formed on the hard coat layer, The primer layer is formed by a wet method, and the hard coat layer has a coefficient of thermal expansion that changes so as to decrease from the substrate side toward the antireflection film side.
According to the optical product of the present invention, since the primer layer is formed by a wet method, even if a scratch is generated on the substrate, the scratch can be effectively covered. Furthermore, since the coefficient of thermal expansion inside the hard coat layer changes so as to decrease from the substrate side toward the antireflection film side, it is positioned in the middle even if the difference in the coefficient of thermal expansion between the substrate and the antireflection film is large. The hard coat layer to be made can alleviate the difference, thereby improving the heat resistance of the entire optical product.

なお、プライマー層は、基板とハードコート層双方の界面に存在して、双方への密着性を両立する性質を有している。加えて外部からの衝撃吸収層としての性質も併せ持ち、耐衝撃性を向上させる性質も有する。このようなプライマー層は、例えば、極性基を有する有機樹脂ポリマーや酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。   The primer layer is present at the interface between both the substrate and the hard coat layer, and has the property of achieving both adhesion to both. In addition, it also has properties as an external shock absorbing layer, and has the property of improving impact resistance. Such a primer layer may contain, for example, an organic resin polymer having a polar group or metal oxide fine particles containing titanium oxide.

本発明では、前記ハードコート層の形成法が乾式法であることが好ましい。
この発明によれば、ハードコート層の形成法が乾式法であるので、その内部の熱膨張率を容易に変化させることが可能となる。乾式法としては、例えば真空蒸着法、化学気相成長法(以下、「CVD法」ともいう)あるいはスパッタリング法などが採用できる。
In the present invention, the hard coat layer is preferably formed by a dry method.
According to this invention, since the hard coat layer is formed by a dry method, the coefficient of thermal expansion inside the hard coat layer can be easily changed. As the dry method, for example, a vacuum deposition method, a chemical vapor deposition method (hereinafter also referred to as “CVD method”), a sputtering method, or the like can be employed.

本発明では、該光学製品がプラスチックレンズであることが好ましい。
この発明によれば、光学製品がプラスチックレンズであるので熱膨張率が大きく、それ故、反射防止膜との熱膨張率の差が大きいため、本発明の効果がより強く発揮される。このようなプラスチックレンズは、眼鏡用に好適に使用できる。
In the present invention, the optical product is preferably a plastic lens.
According to the present invention, since the optical product is a plastic lens, the coefficient of thermal expansion is large. Therefore, the difference in the coefficient of thermal expansion from that of the antireflection film is large, so that the effect of the present invention is exerted more strongly. Such a plastic lens can be suitably used for spectacles.

本発明の光学製品の製造方法は、基板上にプライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜とをこの順に形成する光学製品の製造方法であって、前記プライマー層を、湿式法により形成し、前記ハードコート層を、その内部の熱膨張率が前記基板側から前記反射防止膜側に向かって小さくなるように形成することを特徴とする。
この発明によれば、プライマー層を、湿式法により形成し、ハードコート層を、その内部の熱膨張率を基板側から反射防止膜側に向かって小さくなるように形成するので、基板にキズがほとんど存在しない、耐熱性にもすぐれた光学製品を製造することができる。
The method for manufacturing an optical product of the present invention is a method for manufacturing an optical product in which a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection film are formed in this order on a substrate, and the primer layer is formed by a wet method. The hard coat layer is formed so that the coefficient of thermal expansion therein decreases from the substrate side toward the antireflection film side.
According to this invention, the primer layer is formed by a wet method, and the hard coat layer is formed so that the coefficient of thermal expansion inside the primer layer decreases from the substrate side toward the antireflection film side. It is possible to produce optical products that hardly exist and have excellent heat resistance.

本発明では、前記ハードコート層を乾式法により形成することが好ましく、特にCVD法であることがより好ましい。
この発明によれば、ハードコート層の形成を乾式法で行っているので、その内部の熱膨張率の制御が容易である。乾式法としては、例えば真空蒸着法、化学気相成長法(以下、「CVD法」ともいう)あるいはスパッタリング法などが採用できる。この中では、CVD法が好ましい。CVD法としては、低温で成膜ができ、耐熱性の低いプラスチック基板にも適用できるプラズマCVD法が特に好ましい。
プラズマCVD法は、減圧下のプラズマ放電によって原料ガスを化学的に活性化し、通常の熱励起では困難な化学反応によって膜を堆積させるものである。電界によって加速された電子とガス分子が非弾性衝突して、分子がイオン化、解離乃至励起されて化学活性種ができる。非平衡反応であるので、種々の組成の膜が、熱CVD法に比べてかなり低温で堆積でき、耐熱性が低いプラスチック基板の成膜により好適である。また、プラズマの発生には高周波がよく利用されるが、直流電圧を印加する方法もある。また、磁界を利用して発生したプラズマを拡散することも行われる。
プラズマCVD法では、扱いやすく、安定して生産できるTEOS(テトラエトキシシラン)などのSi系有機金属を用いることができる。
ここで、ハードコート層の熱膨張率は、例えば、原料ガスの処方を変え、あるいは組成を変化させることで制御することができる。
In the present invention, the hard coat layer is preferably formed by a dry method, and more preferably a CVD method.
According to the present invention, since the hard coat layer is formed by a dry method, the thermal expansion coefficient inside thereof can be easily controlled. As the dry method, for example, a vacuum deposition method, a chemical vapor deposition method (hereinafter also referred to as “CVD method”), a sputtering method, or the like can be employed. Among these, the CVD method is preferable. As the CVD method, a plasma CVD method which can form a film at a low temperature and can be applied to a plastic substrate having low heat resistance is particularly preferable.
In the plasma CVD method, a raw material gas is chemically activated by plasma discharge under reduced pressure, and a film is deposited by a chemical reaction that is difficult by normal thermal excitation. Electrons and gas molecules accelerated by the electric field collide inelastically, and the molecules are ionized, dissociated or excited to form chemically active species. Since it is a non-equilibrium reaction, films having various compositions can be deposited at a considerably lower temperature than thermal CVD, and are more suitable for forming a plastic substrate having low heat resistance. In addition, a high frequency is often used for generating plasma, but there is also a method of applying a DC voltage. In addition, plasma generated using a magnetic field is diffused.
In the plasma CVD method, a Si-based organic metal such as TEOS (tetraethoxysilane) that is easy to handle and can be stably produced can be used.
Here, the coefficient of thermal expansion of the hard coat layer can be controlled, for example, by changing the formulation of the source gas or changing the composition.

本発明では、前記CVD法における出力を変化させることで前記熱膨張率を制御することが好ましい。
この発明によれば、CVD法において出力を変化させることで熱膨張率を制御しているので、ハードコート層内部の熱膨張率を高い精度で容易に変化させることが可能となる。具体的には、ハードコート層の内部を、基板側の組成が有機物リッチとなるように、反射防止膜側の組成が無機物リッチとなるように構成することで、ハードコート層内部の熱膨張率を大きな値から小さな値に連続的あるいは段階的に制御することができる。
In the present invention, it is preferable to control the coefficient of thermal expansion by changing the output in the CVD method.
According to this invention, since the thermal expansion coefficient is controlled by changing the output in the CVD method, the thermal expansion coefficient inside the hard coat layer can be easily changed with high accuracy. Specifically, by configuring the inside of the hard coat layer so that the composition on the substrate side is rich in organic matter and the composition on the antireflection film side is rich in inorganic matter, the coefficient of thermal expansion inside the hard coat layer Can be controlled continuously or stepwise from a large value to a small value.

以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は、下記の実施の形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following embodiments.

図1は、本発明の光学製品である眼鏡用プラスチックレンズ(以下、「レンズ」ともいう)100の断面を模式的に示した図である。
レンズ100は、基板1と、その上に形成されたプライマー層2と、その上に形成されたハードコート層3と、その上に形成された反射防止膜4とを含んで構成される。ここで、プライマー層2は、湿式法により形成され、ハードコート層3は、その内部の熱膨張率が基板1側から反射防止膜4側に向かって小さくなるように変化している。
以下、レンズ100の構成について詳述する。
FIG. 1 is a view schematically showing a cross section of a plastic lens for spectacles (hereinafter also referred to as “lens”) 100 which is an optical product of the present invention.
The lens 100 includes a substrate 1, a primer layer 2 formed thereon, a hard coat layer 3 formed thereon, and an antireflection film 4 formed thereon. Here, the primer layer 2 is formed by a wet method, and the hard coat layer 3 is changed so that the coefficient of thermal expansion therein decreases from the substrate 1 side toward the antireflection film 4 side.
Hereinafter, the configuration of the lens 100 will be described in detail.

(1.基板)
レンズ100の基板1としては、特に制限は無いが、素材としては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート重合体、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン等のプラスチックが好適に挙げられる。
ただし、基板の軽量化、薄型化を図るためには、高屈折率の材料を用いることが好ましい。屈折率としては1.6以上の素材を使用することが好ましく、例えば、イソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物を反応させることによって製造されるポリチオウレタン系プラスチック、エピスルフィド基を持つ化合物を含む原料モノマーを、重合硬化して製造される、エピスルフィド系プラスチックを基板1の素材として好適に使用することができる。
(1. Substrate)
Although there is no restriction | limiting in particular as the board | substrate 1 of the lens 100, As a raw material, plastics, such as a diethylene glycol bisallyl carbonate polymer, a polyurethane resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polystyrene, are mentioned suitably.
However, in order to reduce the weight and thickness of the substrate, it is preferable to use a material having a high refractive index. It is preferable to use a material having a refractive index of 1.6 or more. For example, a polythiourethane plastic produced by reacting a compound having an isocyanate group or an isothiocyanate group with a compound having a mercapto group, episulfide An episulfide-based plastic produced by polymerizing and curing a raw material monomer containing a compound having a group can be suitably used as the material for the substrate 1.

ポリチオウレタン系プラスチックの主成分となるイソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物としては、公知の化合物が何ら制限なく使用できる。
イソシアネート基を持つ化合物の具体例としては、エチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
また、メルカプト基を持つ化合物としても、公知の物を用いることができる。例えば、1,2−エタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,1−シクロヘキサンジチオール等の脂肪族ポリチオール、1,2−ジメルカプトベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン等の芳香族ポリチオールが挙げられる。また、プラスチックレンズの高屈折率化のためには、メルカプト基以外にも、硫黄原子を含むポリチオールがより好ましく用いられ、その具体例としては、1,2−ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2−ビス((2−メルカプトエチル)チオ)−3−メルカプトプロパン等が挙げられる。
As the compound having an isocyanate group or an isothiocyanate group as a main component of the polythiourethane plastic, a known compound can be used without any limitation.
Specific examples of the compound having an isocyanate group include ethylene diisocyanate, trimethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and m-xylylene diisocyanate.
Moreover, a well-known thing can be used also as a compound which has a mercapto group. For example, 1,2-ethanedithiol, 1,6-hexanedithiol, aliphatic polythiol such as 1,1-cyclohexanedithiol, 1,2-dimercaptobenzene, 1,2,3-tris (mercaptomethyl) benzene, etc. Aromatic polythiols are mentioned. In addition to the mercapto group, polythiol containing a sulfur atom is more preferably used to increase the refractive index of the plastic lens. Specific examples thereof include 1,2-bis (mercaptomethylthio) benzene, 1, Examples include 2,3-tris (mercaptoethylthio) benzene and 1,2-bis ((2-mercaptoethyl) thio) -3-mercaptopropane.

本発明における基板の素材を得るための重合方法としては、特に限定される物ではなく、一般的な重合方法が、何ら制限なく使用される。例えば、ビニル系モノマーを用いる場合には、有機過酸化物等の熱重合開始剤を用いて、熱硬化を行い、素材を製造することができる。また、ベンゾフェノン等の光重合開始剤を用いて、紫外線を照射することによってモノマーを硬化させ、素材を製造することもできる。   The polymerization method for obtaining the substrate material in the present invention is not particularly limited, and a general polymerization method can be used without any limitation. For example, when using a vinyl-type monomer, a raw material can be manufactured by thermosetting using thermal polymerization initiators, such as an organic peroxide. Moreover, a monomer can be hardened by irradiating with ultraviolet rays using a photopolymerization initiator such as benzophenone to produce a material.

イソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物を反応させることによって製造されるポリチオウレタン系プラスチックを、基板の素材として使用する場合には、イソシアネート基または、イソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物を混合した後、ウレタン樹脂用の硬化触媒を添加、混合し、加熱硬化することによって製造できる。
硬化触媒の具体例としては、エチルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のアミン化合物、ジブチル錫ジクロライド、ジメチル錫ジクロライド等が挙げられる。
When a polythiourethane plastic produced by reacting a compound having an isocyanate group or isothiocyanate group with a compound having a mercapto group is used as a material for a substrate, it has an isocyanate group or an isothiocyanate group. It can be produced by mixing a compound and a compound having a mercapto group, and then adding and mixing a curing catalyst for urethane resin, followed by heat curing.
Specific examples of the curing catalyst include amine compounds such as ethylamine, ethylenediamine, triethylamine, and tributylamine, dibutyltin dichloride, dimethyltin dichloride, and the like.

エピスルフィド基を持つ化合物を含む原料モノマーを重合させることによって得られる、エピスルフィド系のプラスチックを基板の素材として使用する場合には、エピスルフィド基を持つ化合物を単独で、または、エピスルフィド基と共重合可能な他のモノマーと混合した後、エポキシ樹脂用の硬化触媒を添加、混合し、加熱により重合硬化を行うことによって製造できる。
エポキシ樹脂用の硬化触媒は特に制限はないが、具体例としては、ジメチルベンジルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルエタノールアミン、ジブチルエタノールアミン、トリジメチルアミノメチルフェノール等の3級アミン、エチルメチルイミダゾール等のイミダゾール類、などが挙げられる。
また、エピスルフィド基を持つ化合物と共重合可能な他のモノマーとしては、水酸基を持つ化合物、メルカプト基を持つ化合物、1級または2級アミン、カルボキシル基を持つ化合物などが挙げられる。
水酸基を持つ化合物の具体例としては、イソプロピルアルコール、n−ヘキシルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート等の多価アルコール類が挙げられる。メルカプト基を持つ化合物の具体例としては、チオフェノール、エチルチオグリコレート、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、2,5−ジメルカプトメチル−1,4−ジチアン等が挙げられる。
When an episulfide-based plastic obtained by polymerizing a raw material monomer containing a compound having an episulfide group is used as a substrate material, the compound having an episulfide group can be copolymerized alone or with an episulfide group. After mixing with another monomer, it can be produced by adding and mixing a curing catalyst for epoxy resin and performing polymerization and curing by heating.
There are no particular limitations on the curing catalyst for the epoxy resin, but specific examples include tertiary amines such as dimethylbenzylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylethanolamine, dibutylethanolamine, tridimethylaminomethylphenol, and ethylmethylimidazole. And imidazoles.
Examples of other monomers copolymerizable with a compound having an episulfide group include a compound having a hydroxyl group, a compound having a mercapto group, a primary or secondary amine, and a compound having a carboxyl group.
Specific examples of the compound having a hydroxyl group include alcohols such as isopropyl alcohol and n-hexyl alcohol, and polyhydric alcohols such as ethylene glycol, 1,6-hexanediol, pentaerythritol dimethacrylate, and pentaerythritol diacrylate. . Specific examples of the compound having a mercapto group include thiophenol, ethylthioglycolate, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 2,5-dimercaptomethyl-1,4-dithiane, and the like.

(2.プライマー層)
プライマー層2は、一般にレンズ100の基板1とハードコート層3との密着性の向上、耐衝撃性の向上、染色性の改善等の目的で設けられるが、本発明においては、基板1の表面に生じているキズを消失させる効果をも有する。すなわち、基板1は通常研磨工程を経て供されるが、いわゆる研磨キズが生じており、そのままでは、機械的特性・光学特性が劣った状態の基板1となっている。本発明では、このプライマー層2が湿式法で形成されており、この研磨キズを埋めることができる。
(2. Primer layer)
The primer layer 2 is generally provided for the purpose of improving the adhesion between the substrate 1 of the lens 100 and the hard coat layer 3, improving the impact resistance, improving the dyeing property, etc. In the present invention, the surface of the substrate 1 is provided. It also has the effect of eliminating scratches occurring in the surface. That is, the substrate 1 is usually subjected to a polishing process, but so-called polishing scratches are generated, and the substrate 1 is in a state in which mechanical characteristics and optical characteristics are inferior as it is. In the present invention, the primer layer 2 is formed by a wet method, and this polishing flaw can be filled.

このようなプライマー層2は、例えば、極性基を有する有機樹脂ポリマーや酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
極性基を有する有機樹脂ポリマーとしては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の各種樹脂を使用することが可能である。この内、硫黄原子を含むレンズ基板に対する密着性とフィラーとなる金属酸化物微粒子の分散性の点から、ポリエステル樹脂を好ましく用いることができる。
Such a primer layer 2 may include, for example, an organic resin polymer having a polar group or metal oxide fine particles containing titanium oxide.
As the organic resin polymer having a polar group, various resins such as a polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, a polyolefin resin, a urethane acrylate resin, and an epoxy acrylate resin can be used. Among these, a polyester resin can be preferably used from the viewpoint of adhesion to a lens substrate containing sulfur atoms and dispersibility of metal oxide fine particles serving as a filler.

ポリエステル樹脂では、樹脂中のエステル結合および側鎖に付いたヒドロキシル基やエポキシ基がプラスチックレンズ基板表面分子と相互作用を生じ易く、高い密着性を発現する。一方、ポリエステル樹脂のpHは弱酸性を示す場合が多く、フィラーとなる金属酸化物微粒子が安定に存在できるpHと合致する場合が多い。よってプライマー樹脂中に金属酸化物微粒子が局在化せずに均質に分散した状態となり、プライマー層の架橋密度を安定化もしくは向上させ、耐水性および耐光性が向上する。   In the polyester resin, the hydroxyl group or epoxy group attached to the ester bond and the side chain in the resin is likely to interact with the plastic lens substrate surface molecule, and exhibits high adhesion. On the other hand, the pH of the polyester resin often shows weak acidity and often coincides with the pH at which the metal oxide fine particles serving as the filler can stably exist. Therefore, the metal oxide fine particles are uniformly dispersed in the primer resin without being localized, and the crosslinking density of the primer layer is stabilized or improved, thereby improving water resistance and light resistance.

プライマー層2を構成する組成物には、樹脂材料、硬化触媒、溶媒、金属微粒子のコロイド状分散体、およびその他の添加物が含まれている。プライマー層2用組成物は溶媒により希釈して使用することが一般的であるが、希釈溶媒としては、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類等が挙げられ、その他の溶媒も使用可能である。特に好ましくは、ジアセトンアルコール、酢酸エチル、メチルエチルケトンであるがこれらは単独で用いてもよいし、2種以上の混合溶媒としてもよい。   The composition constituting the primer layer 2 includes a resin material, a curing catalyst, a solvent, a colloidal dispersion of fine metal particles, and other additives. The primer layer 2 composition is generally used after being diluted with a solvent. Examples of the dilution solvent include alcohols, ketones, esters, ethers, and the like, and other solvents can also be used. is there. Particularly preferred are diacetone alcohol, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone, which may be used alone or as a mixed solvent of two or more.

さらに、プライマー層2用組成物には、塗布性を改善するためのレベリング剤や耐候性向上のための紫外線吸収剤や酸化防止剤を添加してもよい。
プライマー層2用組成物の塗布方法は、スプレー法、スピンコート法、ディッピング法等の公知の方法が用いられる。また、必要に応じて、プラスチックレンズの基板をアルカリ処理、プラズマ処理、紫外線処理、無機微粒子による表面研磨処理等によって前処理してもよい。
Further, the primer layer 2 composition may contain a leveling agent for improving applicability, an ultraviolet absorber for improving weather resistance, and an antioxidant.
As a method for applying the composition for the primer layer 2, known methods such as a spray method, a spin coating method, and a dipping method are used. If necessary, the plastic lens substrate may be pretreated by alkali treatment, plasma treatment, ultraviolet treatment, surface polishing treatment with inorganic fine particles, or the like.

プライマー層2は、プライマー層2用組成物を前記した方法でプラスチックレンズの基板に塗布した後、硬化することによって得られる。これらの硬化には、硬化触媒が必要である。硬化触媒としては、第三級アミン化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物、過塩素酸アンモニウム、カチオン光重合開始剤、ラジカル光重合開始剤が用いられる。
プライマー層2を形成するには、プライマー層用組成物をレンズに塗布した後、70℃〜180℃、好ましくは100〜130℃で加熱する。70℃より低い温度では、硬化反応が進行しにくい。また、180℃より高い温度では、プラスチックレンズの基板が変形する。硬化に必要な時間は、加熱する温度によって異なるが、15〜90分である。
また、プライマー層2としての必要な膜厚は、0.05〜5μmであり、好ましくは0.1〜1μmである。0.05μmより薄いとプライマー層2を設けて得られるキズ消失効果が十分発現せず、5μmよりも厚いと面精度が低下する。
The primer layer 2 is obtained by applying the composition for the primer layer 2 to a plastic lens substrate by the method described above and then curing the composition. These curings require a curing catalyst. As the curing catalyst, a tertiary amine compound, an organic tin compound, an organic zinc compound, ammonium perchlorate, a cationic photopolymerization initiator, or a radical photopolymerization initiator is used.
In order to form the primer layer 2, the primer layer composition is applied to the lens and then heated at 70 to 180 ° C., preferably 100 to 130 ° C. At temperatures lower than 70 ° C., the curing reaction hardly proceeds. At a temperature higher than 180 ° C., the plastic lens substrate is deformed. The time required for curing varies depending on the heating temperature, but is 15 to 90 minutes.
Moreover, the required film thickness as the primer layer 2 is 0.05-5 micrometers, Preferably it is 0.1-1 micrometer. If it is thinner than 0.05 μm, the scratch disappearance effect obtained by providing the primer layer 2 is not sufficiently exhibited, and if it is thicker than 5 μm, the surface accuracy is lowered.

(3.ハードコート層)
ハードコート層3は、層内部の熱膨張率を容易に変化させることのできる乾式法、特に出力を容易に変えることができるCVD法を用いることが好ましい。特に、低温で成膜ができ、耐熱性の低いプラスチック基板(プライマー層構成樹脂)にも適用できるプラズマCVD法が好ましい。CVD法において出力を変化させることでハードコート層3内部の熱膨張率を高い精度で容易に変化させることが可能となる。具体的には、ハードコート層の内部を、基板側の組成が有機物リッチとなるように、反射防止膜側の組成が無機物リッチとなるように構成することで、ハードコート層内部の熱膨張率を大きな値から小さな値に連続的あるいは段階的に制御することができる。
プラズマCVD法は、減圧下のプラズマ放電によって原料ガスを化学的に活性化し、通常の熱励起では困難な化学反応によって膜を堆積させるものである。電界によって加速された電子とガス分子が非弾性衝突して、分子がイオン化、解離乃至励起されて化学活性種ができる。非平衡反応であるので、種々の組成の膜が、熱CVD法に比べてかなり低温で堆積でき、耐熱性が低い樹脂基板の成膜に好適である。プラズマの発生には高周波がよく利用されるが、直流電圧を印加する方法もある。また、磁界を利用して発生したプラズマを拡散することも行われる。
(3. Hard coat layer)
For the hard coat layer 3, it is preferable to use a dry method capable of easily changing the thermal expansion coefficient inside the layer, particularly a CVD method capable of easily changing the output. In particular, a plasma CVD method which can be formed at a low temperature and can be applied to a plastic substrate (primer layer constituting resin) having low heat resistance is preferable. By changing the output in the CVD method, the thermal expansion coefficient inside the hard coat layer 3 can be easily changed with high accuracy. Specifically, by configuring the inside of the hard coat layer so that the composition on the substrate side is rich in organic matter and the composition on the antireflection film side is rich in inorganic matter, the coefficient of thermal expansion inside the hard coat layer Can be controlled continuously or stepwise from a large value to a small value.
In the plasma CVD method, a raw material gas is chemically activated by plasma discharge under reduced pressure, and a film is deposited by a chemical reaction that is difficult by normal thermal excitation. Electrons and gas molecules accelerated by the electric field collide inelastically, and the molecules are ionized, dissociated or excited to form chemically active species. Since it is a non-equilibrium reaction, films having various compositions can be deposited at a considerably lower temperature than the thermal CVD method and are suitable for forming a resin substrate having low heat resistance. A high frequency is often used to generate plasma, but there is also a method of applying a DC voltage. In addition, plasma generated using a magnetic field is diffused.

プラズマCVD法では、扱いやすく、安定して生産できるSi系有機金属を用いることができる。
Si系有機金属としては、例えば、テトラメチルジシラザン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリメチルシラン、アリルトリメチルシラン、イソプロポキシトリメチルシラン、メチルトリビニルシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラン、1,3−ジメトキシテトラメチルジシロキサン、ジメチルトリメチルシリルアミン、アセトキシメチルトリメチルシラン、アリルジメチルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、t−エトキシトリメチルシラン、ジビニルジメチルシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、トリメチルシリルイソシアネート、ビニル−t−ブチルジメチルシラン等を挙げることができる。
In the plasma CVD method, Si-based organic metal that is easy to handle and can be stably produced can be used.
Examples of the Si-based organic metal include tetramethyldisilazane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetramethylsilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, Dimethyldiethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, ethyltrimethylsilane, allyltrimethylsilane, isopropoxytrimethylsilane, methyltrivinylsilane, hexamethyldisiloxane, hexamethyldisilane, 1,3-dimethoxy Tetramethyldisiloxane, dimethyltrimethylsilylamine, acetoxymethyltrimethylsilane, allyldimethylsilane, bis (dimethylamino) methylsilane , T-ethoxytrimethylsilane, divinyldimethylsilane, hexamethylcyclotrisiloxane, hexamethyldisilazane, 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane, trimethylsilyl isocyanate, vinyl-t-butyldimethylsilane Etc.

(4.反射防止膜)
ハードコート層3の上には、無機物からなる単層、多層の反射防止膜4が設けられており、光線反射率の低減、光線透過率の向上が図られる。無機物質としては、SiO、SiO、Si、TiO、ZrO、Al、MgF、Ta、Nb 等を用いてよく知られた真空蒸着法等の薄膜形成法により反射防止膜4を形成することができる。
(4. Antireflection film)
On the hard coat layer 3, a single-layered and multilayered antireflection film 4 made of an inorganic material is provided, and the light reflectance can be reduced and the light transmittance can be improved. Examples of the inorganic substances, SiO, SiO 2, Si 3 N 4, TiO 2, ZrO 2, Al 2 O 3, MgF 2, Ta 2 O 5, Nb 2 O 5 vacuum evaporation method well known with such like The antireflection film 4 can be formed by this thin film formation method.

このような本発明によれば、光学製品としてのレンズ100が基板1と、基板1上に形成されたプライマー層2と、プライマー層2上に形成されたハードコート層3と、ハードコート層3上に形成された反射防止膜4とを有しているとともに、プライマー2層が湿式法により形成されているので、基板1にキズが生じていてもそのキズを効果的に覆うことができる(キズ消失効果)。また、ハードコート層3が、その内部の熱膨張率が基板1側から反射防止膜4側に向かって小さくなるように変化しているので、基板1と反射防止膜4との熱膨張率の差が大きくとも、中間に位置するハードコート層3がその差を緩和することで光学製品(レンズ100)全体の耐熱性を高めることができる。   According to the present invention, the lens 100 as an optical product includes the substrate 1, the primer layer 2 formed on the substrate 1, the hard coat layer 3 formed on the primer layer 2, and the hard coat layer 3. Since it has the antireflection film 4 formed on the top and the two primer layers are formed by a wet method, even if the substrate 1 has scratches, the scratches can be effectively covered ( Scratch disappearance effect). Further, since the thermal expansion coefficient of the hard coat layer 3 changes so as to decrease from the substrate 1 side toward the antireflection film 4 side, the thermal expansion coefficient of the substrate 1 and the antireflection film 4 is reduced. Even if the difference is large, the heat resistance of the entire optical product (lens 100) can be enhanced by the hard coat layer 3 positioned in the middle mitigating the difference.

なお、以上説明した態様は、本発明の一態様を示したものであって、本発明は、前記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的および効果を達成できる範囲内での変形や改良が、本発明の内容に含まれるものであることはいうまでもない。また、本発明を実施する際における具体的な構造および形状などは、本発明の目的および効果を達成できる範囲内において、他の構造や形状などとしても問題はない。
例えば、プラズマCVD法において、ハードコート層の内部構造を変えて熱膨張率を変化させるためには、必ずしも出力だけではなく、例えば、プラズマ処理を行う際の原料処方を変えたり、原料組成を変化させることでも制御することができる。
The aspect described above shows one aspect of the present invention, and the present invention is not limited to the above-described embodiment, and is within a range in which the object and effect of the present invention can be achieved. Needless to say, modifications and improvements are included in the content of the present invention. In addition, the specific structure and shape in carrying out the present invention may be used as other structures and shapes within the scope of achieving the object and effect of the present invention.
For example, in the plasma CVD method, in order to change the thermal expansion coefficient by changing the internal structure of the hard coat layer, not only the output, but also, for example, the raw material prescription at the time of performing the plasma treatment or the raw material composition is changed. Can also be controlled.

また、ハードコート層を形成する乾式法としては、真空蒸着法でもよい。真空蒸着法は、高真空中で薄膜材料を加熱蒸発させ、この蒸発粒子を基板上(含プライマー層)に堆積させて薄膜を形成する方法である。薄膜材料の加熱方法には、抵抗加熱、電子ビーム加熱、アーク加熱等がある。基板に対する真空蒸着法では、基板の耐熱性から用いることができる無機物が限られ、例えば、SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti23、Ti25、Al23、Ta25、Nb、CeO2、MgO、Y23、SnO2、MgF2、WO3、Crなどを挙げることができ、これらの無機物を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。特に、プラスチックを素材とする基板用としては、蒸着温度を低くすることができるSiO、SiO2、ZrO2、TiO2、Nb、Ti25、Crの使用が好ましい。 Moreover, as a dry method for forming the hard coat layer, a vacuum deposition method may be used. The vacuum evaporation method is a method in which a thin film material is heated and evaporated in a high vacuum, and the evaporated particles are deposited on a substrate (primer-containing layer) to form a thin film. Thin film material heating methods include resistance heating, electron beam heating, and arc heating. In the vacuum vapor deposition method for a substrate, inorganic materials that can be used are limited due to the heat resistance of the substrate. For example, SiO 2 , SiO, ZrO 2 , TiO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 , CeO 2 , MgO, Y 2 O 3 , SnO 2 , MgF 2 , WO 3 , Cr, etc. can be mentioned. These inorganic substances can be used alone or in combination of two or more. Can be used. In particular, for a substrate made of plastic, it is preferable to use SiO, SiO 2 , ZrO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , Ti 2 O 5 , or Cr that can lower the deposition temperature.

以下、本発明の光学製品及びその製造方法について、実施例により詳細に説明する。ただし、本発明はこれらの例によって何等限定されるものではない。
〔実施例1〕
本実施例は、光学製品として、図1に示す眼鏡用プラスチックレンズ100に適用した一例である。以下のようにして眼鏡用プラスチックレンズ100を製造した後、レンズ基板1表面のキズ消失効果(外観)及び耐熱性を評価した。
Hereinafter, the optical product of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[Example 1]
The present embodiment is an example applied as an optical product to the plastic lens 100 for spectacles shown in FIG. After manufacturing the plastic lens 100 for spectacles as follows, the scratch disappearance effect (appearance) and heat resistance of the surface of the lens substrate 1 were evaluated.

(プライマー層2の形成) 研磨後のレンズ基板1上にポリエステル系化合物からなるプライマー層(キズ消失層)2を、浸漬法によって膜厚が0.3μmになるように塗布し、加熱して(90℃、5分間)硬化させた。   (Formation of primer layer 2) A primer layer (scratch disappearance layer) 2 made of a polyester-based compound is applied on the polished lens substrate 1 so as to have a film thickness of 0.3 μm by an immersion method, and heated ( Cured at 90 ° C. for 5 minutes.

(ハードコート層3の形成)
プライマー層2を形成した後のレンズ基板1に、プラズマCVD法によりハードコート膜を形成した。原料としては、有機シラン化合物(C618OSi2)と酸素ガス(O2)を用いた。ハードコート層3の膜厚が2.5μmとなるように処理時間を調節した。なお、ハードコート層3を形成(成膜)する際は成膜開始時の高周波出力を100ワットとして、成膜終了時には300ワットになるように変化させることで、ハードコート層3内部の物質組成が有機物リッチの状態から無機物リッチの状態となるように制御しながら成膜を行った。
(Formation of hard coat layer 3)
A hard coat film was formed on the lens substrate 1 after the primer layer 2 was formed by a plasma CVD method. As raw materials, an organic silane compound (C 6 H 18 OSi 2 ) and oxygen gas (O 2 ) were used. The processing time was adjusted so that the film thickness of the hard coat layer 3 was 2.5 μm. When the hard coat layer 3 is formed (film formation), the high-frequency output at the start of film formation is set to 100 watts, and is changed to 300 watts at the end of film formation, whereby the material composition inside the hard coat layer 3 is changed. The film was formed while controlling from an organic material rich state to an inorganic material rich state.

(反射防止膜4の形成)
反射防止膜4はレンズ基板1側から順に、SiO層とTiO層を交互に積層させ、7層の反射防止多層膜を形成した。SiO層の成膜は、通常の真空蒸着法で行った。TiO層の成膜は、イオンアシスト蒸着法で行った。本実施例では、レンズ基板1側から数えて、第1層は0.083λの光学膜厚を持つSiO層、第2層は0.07λの光学膜厚を持つTiO層、第3層は0.10λの光学膜厚を持つSiO層、第4層は0.18λの光学膜厚を持つTiO層、第5層は0.065λの光学膜厚を持つSiO2層、第6層は0.14λの光学膜厚を持つTiO層、第7層は0.26λの光学膜厚を持つSiO層を順次積層して反射防止膜とした。
(Formation of antireflection film 4)
The antireflection film 4 was formed by alternately laminating SiO 2 layers and TiO 2 layers in order from the lens substrate 1 side to form a seven-layer antireflection multilayer film. The SiO 2 layer was formed by a normal vacuum evaporation method. The TiO 2 layer was formed by ion-assisted vapor deposition. In the present embodiment, counting from the lens substrate 1 side, the first layer is an SiO 2 layer having an optical film thickness of 0.083λ, the second layer is a TiO 2 layer having an optical film thickness of 0.07λ, and the third layer. Is an SiO 2 layer having an optical thickness of 0.10λ, a fourth layer is a TiO 2 layer having an optical thickness of 0.18λ, a fifth layer is an SiO 2 layer having an optical thickness of 0.065λ, and a sixth layer Is an TiO 2 layer having an optical film thickness of 0.14λ, and an SiO 2 layer having an optical film thickness of 0.26λ is sequentially laminated to form an antireflection film.

〔比較例1〕
研磨後のレンズ基板1上にプライマー層を形成しないことを除いて、実施例1と同様にハードコート層3及び反射防止膜4を形成して、図2に示すような眼鏡用プラスチックレンズ200を製造した。評価は実施例1と同様に行った。
[Comparative Example 1]
Except that the primer layer is not formed on the lens substrate 1 after polishing, the hard coat layer 3 and the antireflection film 4 are formed in the same manner as in Example 1, and the plastic lens 200 for spectacles as shown in FIG. Manufactured. Evaluation was performed in the same manner as in Example 1.

〔比較例2〕
研磨後のレンズ基板1上に、実施例1と同様にしてプライマー層2を形成した。その後、以下のような方法で図3に示すようなハードコート層3’を形成した。反射防止膜4は、実施例1と同様にして形成した。
[Comparative Example 2]
A primer layer 2 was formed on the polished lens substrate 1 in the same manner as in Example 1. Thereafter, a hard coat layer 3 ′ as shown in FIG. 3 was formed by the following method. The antireflection film 4 was formed in the same manner as in Example 1.

(ハードコート層3’の形成)
プライマー層2の表面に、有機シリコン系の化合物を含浸させ、成膜を行った。ハードコート層3の膜厚は2.5μmとした
前記のハードコート層3に使用する有機シリコン系の化合物は以下の様に作製した。攪拌装置を備えたフラスコ中に、エチルセロソルブ100g、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン100gを攪拌しつつ順に加え、その後0.1規定塩酸水42.7gを加え4時間攪拌した。続いてシリコン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名“L−7001”)を0.3gさらにメタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル(TiO2/ZrO2/SiO2=68/17/15(重量比)、固形分濃度20.5重量%、TiO2とZrO2の固溶体を核としてSiO2で被覆された微粒子構造をもつ複合微粒子)698.2gを添加し充分攪拌した後、0℃で24時間放置し熟成を行いハードコート層3に使用される有機シリコン系の化合物を得た。
(Formation of hard coat layer 3 ')
The surface of the primer layer 2 was impregnated with an organic silicon compound to form a film. The thickness of the hard coat layer 3 was 2.5 μm. The organic silicon compound used for the hard coat layer 3 was prepared as follows. In a flask equipped with a stirrer, 100 g of ethyl cellosolve and 100 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were sequentially added with stirring, and then 42.7 g of 0.1N hydrochloric acid was added and stirred for 4 hours. Subsequently, 0.3 g of a silicon-based surfactant (trade name “L-7001” manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and methanol-dispersed titanium dioxide-zirconium dioxide-silicon dioxide composite fine particle sol (TiO 2 / ZrO 2 / SiO 2) = 68/17/15 (weight ratio), solid content concentration 20.5% by weight, 698.2 g of composite fine particles having a fine particle structure coated with SiO 2 using a solid solution of TiO 2 and ZrO 2 as a core After stirring, the mixture was allowed to stand at 0 ° C. for 24 hours for aging to obtain an organosilicon compound used for the hard coat layer 3.

〔評価方法〕
(外観評価)
前記の各工程で得られたサンプル(眼鏡用プラスチックレンズ100、200、300)について、外観評価試験を行った。外観評価試験は、図4に示すような透過検査法により行った。具体的には、まず反射の少ない黒色の背景(床、壁)Fを持つ検査室内で、照度を200〜250ルクス、試験位置における照度を350〜500ルクスとし、肉眼により明視できる環境とした(JIS T7313〜T7315に準拠)。また、蛍光灯Lは3波長域発光形昼白色タイプを使用した。そして、レンズ100、200、300を上下させ、レンズ100、200、300に残存しているキズを観察した後、さらに45〜90度回転して、レンズ100、200、300を上下させ再度キズを観察した。
評価基準は、レンズ100、200、300に残存しているキズの程度を3段階にランク付けし、以下の基準で評価した。各々10個のサンプルについて評価を行った(n=10)。
A:極薄浅いキズ
B:薄浅いキズ
C:濃いキズ
また、キズの発生面積を3段階にランク付けし、以下の基準でキズの大きさを評価した。
1:サンプル面積の1/4未満
2:サンプル面積の1/4以上〜1/2未満
3:サンプル面積の1/2以上
〔Evaluation methods〕
(Appearance evaluation)
An appearance evaluation test was performed on the samples (plastic lens 100, 200, 300 for spectacles) obtained in each of the above steps. The appearance evaluation test was conducted by a transmission inspection method as shown in FIG. Specifically, first, in an examination room having a black background (floor, wall) F with little reflection, the illuminance is 200 to 250 lux, the illuminance at the test position is 350 to 500 lux, and the environment can be clearly seen with the naked eye. (Conforms to JIS T7313 to T7315). The fluorescent lamp L used was a three-wavelength light emitting daylight white type. Then, after raising and lowering the lenses 100, 200, and 300 and observing scratches remaining on the lenses 100, 200, and 300, the lens 100, 200, and 300 are further rotated by 45 to 90 degrees to raise and lower the scratches again. Observed.
As evaluation criteria, the degree of scratches remaining in the lenses 100, 200, and 300 was ranked in three stages, and evaluation was performed according to the following criteria. Each of 10 samples was evaluated (n = 10).
A: Ultra-thin and shallow scratches B: Thin and shallow scratches C: Deep scratches The scratch generation areas were ranked in three stages, and the size of the scratches was evaluated according to the following criteria.
1: Less than 1/4 of the sample area 2: 1/4 or more to less than 1/2 of the sample area 3: 1/2 or more of the sample area

なお、外観評価試験は、図5に示すような反射検査法により行ってもよく、また両者を併用してもよい。図5の反射検査法においては、検査室内の環境は図4の透過検査法と同様であるが、レンズ100等の傾斜角を変えて評価を行う。具体的には、いったんレンズ100等のキズの程度を観察した後、レンズ100等を45〜90度回転して再度同様に評価を行う。   The appearance evaluation test may be performed by a reflection inspection method as shown in FIG. 5, or both may be used in combination. In the reflection inspection method of FIG. 5, the environment in the inspection room is the same as the transmission inspection method of FIG. 4, but the evaluation is performed by changing the inclination angle of the lens 100 and the like. Specifically, after observing the degree of scratches of the lens 100 or the like once, the lens 100 or the like is rotated by 45 to 90 degrees and evaluated in the same manner again.

(耐熱性評価)
反射防止膜4を形成後にレンズ100、200、300を、所定温度のオーブン内で30分間加熱した後、クラックの有無を肉眼で観察し、クラックが発生したときの温度をそのサンプルの耐熱温度とした。オーブンの温度は40℃より開始して、5℃ずつ上げて評価を行った。クラックが発生する温度が高い程、耐熱性が良い。
(Heat resistance evaluation)
After the antireflection film 4 is formed, the lenses 100, 200, and 300 are heated in an oven at a predetermined temperature for 30 minutes, and then the presence or absence of cracks is observed with the naked eye. The temperature at which the cracks are generated is defined as the heat resistant temperature of the sample. did. The temperature of the oven started from 40 ° C. and increased by 5 ° C. for evaluation. The higher the temperature at which cracks occur, the better the heat resistance.

〔結 果〕
表1に実施例1、比較例1、2で製造されたサンプルの評価結果を示す。
また、ハードコート層3の内部の膨張率が基板1側から反射防止膜4側にかけて実際に変化(傾斜)していることの確認も併せて行った。測定は島津製作所熱機械器機会分析装置(TMA−60)を用いた。成膜時(ハードコート層3形成時)の条件は、高周波出力を100ワット、200ワット、300ワットの成膜サンプルの熱膨張係数をそれぞれ測定した。その結果を表2に示す。
[Result]
Table 1 shows the evaluation results of the samples manufactured in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2.
It was also confirmed that the expansion coefficient inside the hard coat layer 3 actually changed (inclined) from the substrate 1 side to the antireflection film 4 side. The measurement used Shimadzu Corporation thermomechanical machine opportunity analyzer (TMA-60). The conditions at the time of film formation (when the hard coat layer 3 was formed) were measured for the thermal expansion coefficients of film formation samples having high-frequency outputs of 100 watts, 200 watts, and 300 watts, respectively. The results are shown in Table 2.

Figure 0004862379
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Figure 0004862379
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表1の結果より、実施例1のレンズ100では、湿式法によるプライマー層2のない比較例1のレンズ200に比べてキズ消失効果に優れ、また、ハードコート層3’が湿式法で形成されている比較例2のレンズ300に比べて耐熱性に優れていることが認められた。
なお、表2の結果より、プラズマCVD法において高周波出力を変化させることにより、ハードコート層における熱膨張係数が、実際に基板1側から反射防止膜3側に向かって小さくなるように変化していることも確認できた。
From the results shown in Table 1, in the lens 100 of Example 1, the scratch removal effect is excellent compared to the lens 200 of Comparative Example 1 without the primer layer 2 by the wet method, and the hard coat layer 3 ′ is formed by the wet method. It was confirmed that the lens 300 of Comparative Example 2 is superior in heat resistance.
From the results shown in Table 2, by changing the high frequency output in the plasma CVD method, the thermal expansion coefficient in the hard coat layer actually changes so as to decrease from the substrate 1 side toward the antireflection film 3 side. I was able to confirm.

本発明は、耐熱性に優れるとともに、レンズ基板に生じた微細なキズを消失させる構造を持った眼鏡用プラスチックレンズとして利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICATION While this invention is excellent in heat resistance, it can be utilized as a plastic lens for spectacles with the structure which eliminate | eliminates the fine crack produced on the lens board | substrate.

本発明の眼鏡用プラスチックレンズ(実施例1)の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the plastic lens for eyeglasses (Example 1) of this invention. 比較例1の眼鏡用プラスチックレンズの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the plastic lens for spectacles of the comparative example 1. FIG. 比較例2の眼鏡用プラスチックレンズの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the plastic lens for spectacles of the comparative example 2. FIG. 眼鏡用プラスチックレンズの評価方法を示す模式図。The schematic diagram which shows the evaluation method of the plastic lens for spectacles. 眼鏡用プラスチックレンズの他の評価方法を示す模式図。The schematic diagram which shows the other evaluation method of the plastic lens for spectacles.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板(プラスチックレンズ基板)、2…プライマー層、3、3’…ハードコート層、4…反射防止膜、100、200、300…眼鏡用プラスチックレンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate (plastic lens board | substrate), 2 ... Primer layer 3, 3 '... Hard-coat layer, 4 ... Antireflection film, 100, 200, 300 ... Plastic lens for spectacles

Claims (2)

プラスチックからなる基板と、
前記基板上に湿式法によって形成されたプライマー層と
前記プライマー層上に化学気相成長法によって形成されたハードコート層と
前記ハードコート層上に形成された無機物質からなる反射防止膜と、
を有するプラスチックレンズであって
前記ハードコート層の熱膨張率は、前記基板側から前記反射防止膜側に向かって小さくなるように変化している
ことを特徴とするプラスチックレンズ
A substrate made of plastic ,
A primer layer formed on the substrate by a wet method ;
And the hard coat layer formed by chemical vapor deposition on said primer layer,
An antireflection film made of an inorganic material formed on the hard coat layer;
A plastic lens having,
The thermal expansion coefficient of the hard coat layer is changed from the substrate side so as to decrease toward the antireflection film side,
A plastic lens characterized by that.
プラスチックからなる基板上に湿式法によってプライマー層を形成し、前記プライマー層上に、化学気相成長法によりハードコート層を形成し、前記ハードコート層上に、無機物質からなる反射防止膜を形成するプラスチックレンズの製造方法であって、
前記ハードコート層を形成する際に、化学気相成長法における出力を強めるように変化させてハードコート層を形成する
ことを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。
A primer layer is formed on a substrate made of plastic by a wet method, a hard coat layer is formed on the primer layer by a chemical vapor deposition method, and an antireflection film made of an inorganic substance is formed on the hard coat layer. A method of manufacturing a plastic lens ,
A method for producing a plastic lens , wherein when forming the hard coat layer, the hard coat layer is formed by changing so as to increase the output in the chemical vapor deposition method.
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