JP4865367B2 - Semiconductor integrated circuit, display device, and electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、電源電圧をもとに電源電圧より低い負電圧を発生させる負電圧昇圧回路と、電源電圧をもとに電源電圧より高い正電圧を発生させる正電圧昇圧回路を有する半導体集積回路装置、該装置を有する表示装置、該表示装置を有する電子機器に関する。特に負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路を安定的に起動させる技術に関する。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having a negative voltage booster circuit that generates a negative voltage lower than the power supply voltage based on the power supply voltage, and a positive voltage booster circuit that generates a positive voltage higher than the power supply voltage based on the power supply voltage. The present invention relates to a display device including the device and an electronic apparatus including the display device. In particular, the present invention relates to a technique for stably starting a negative voltage booster circuit and a positive voltage booster circuit.
電源電圧の低電圧化が進む中で、液晶パネルを表示させるために使用される半導体集積回路装置では液晶を駆動するための高電圧を発生する昇圧回路を内蔵したものが求められている。内蔵される従来の昇圧回路としては、コンデンサを用いてその充放電を利用して外部より印加される電源電圧を昇圧する手段がよく知られている。(特許文献1参照)。特に液晶パネルを表示させるために使用される半導体集積回路装置では、外部より印加される電源電圧より低い負電圧を発生する負電圧昇圧回路と、電源電圧より大きい正電圧を発生する正電圧昇圧回路を共に内蔵する構成が広く知られている。
前述のような、外部より印加される電源電圧より低い負電圧を発生する負電圧昇圧回路と、電源電圧より大きい正電圧を発生する正電圧昇圧回路を共に内蔵する半導体集積回路装置においては、発生した負電圧を半導体集積回路の基板へと接続し半導体集積回路の基板へ負電圧昇圧回路から発生した電圧を供給する構成が取られる。 In a semiconductor integrated circuit device that incorporates both a negative voltage booster circuit that generates a negative voltage lower than a power supply voltage applied from the outside and a positive voltage booster circuit that generates a positive voltage higher than the power supply voltage, as described above. The negative voltage is connected to the substrate of the semiconductor integrated circuit and the voltage generated from the negative voltage booster circuit is supplied to the substrate of the semiconductor integrated circuit.
特に液晶パネルを表示させるための液晶駆動用半導体集積回路装置においては電源電圧を整数倍する負電圧昇圧回路を内蔵し、電源電圧を整数倍して極性を反転させた負電圧を発生させ基板へと供給している。また正電圧昇圧回路は、負電圧昇圧回路から発生した負電圧と電源電圧との間で任意に発生した電圧と接地電位を基準として電源電圧より高い正電圧を発生している。 In particular, a liquid crystal driving semiconductor integrated circuit device for displaying a liquid crystal panel has a built-in negative voltage booster circuit that multiplies the power supply voltage by an integer, and generates a negative voltage whose polarity is inverted by multiplying the power supply voltage by an integer. And supply. The positive voltage booster circuit generates a positive voltage higher than the power supply voltage with reference to a voltage arbitrarily generated between the negative voltage generated from the negative voltage booster circuit and the power supply voltage and the ground potential.
正電圧昇圧回路が昇圧を開始する課程において、昇圧用容量に電荷を蓄積するために発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加され、その過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力の電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題がある。 In the process in which the positive voltage booster circuit starts boosting, an excessive current generated to accumulate charges in the boosting capacitor is instantaneously applied to the boosted output of the negative voltage booster circuit. There is a problem that the voltage of the boost output of the circuit fluctuates, and the negative voltage boost circuit and the positive voltage boost circuit cannot be normally started.
また正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始する際に、寄生的に存在する寄生バイポーラトランジスタがオンしてしまうことにより発生する過大電流が、負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力の電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題がある。 In addition, when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, an excessive current generated by turning on the parasitic bipolar transistor that is parasitically present is instantaneously applied to the boosted output of the negative voltage booster circuit, and the excessive voltage is increased. There is a problem that the voltage of the boost output of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the generation of current, and the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be started up normally.
図7を用いて、従来技術である、外部より印加させる電源電圧より低い負電圧を発生する負電圧昇圧回路と、電源電圧より高い正電圧を発生する正電圧昇圧回路の構成及び動作について説明する。 The configuration and operation of a conventional negative voltage booster circuit that generates a negative voltage lower than a power supply voltage applied from the outside and a positive voltage booster circuit that generates a positive voltage higher than the power supply voltage will be described with reference to FIG. .
図7において、GNDは接地電位、VDDは外部から印加される電源電圧である。負電圧昇圧回路11はこの図の例では電源電圧VDDを2倍して極性反転した電圧VSUBを発生する回路である。 In FIG. 7, GND is a ground potential, and VDD is a power supply voltage applied from the outside. In the example of this figure, the negative voltage booster circuit 11 is a circuit that generates a voltage VSUB whose polarity is inverted by doubling the power supply voltage VDD.
負電圧昇圧回路11は、電源電圧VDD、接地電位GNDとの間で構成されたインバータ111とインバータ112、及びMOSトランジスタQ1、Q2、Q3、昇圧用容量C1、C2、C3により構成される。昇圧動作を制御するクロック信号CLK1、CLK2、CLK3、CLK4、CLK5は半導体集積回路装置に内蔵された図示しない回路により生成され、それぞれインバータ111の入力端子、インバータ112の入力端子、MOSトランジスタQ1のゲート電極、Q2のゲート電極、Q3のゲート電極へと入力される。MOSトランジスタのソース電極は接地電位GNDに接続されている。インバータ111の出力端子は昇圧用容量C1の片側電極(ノードn1)へ接続されC1の他方の電極(ノードn2)はトランジスタQ1のドレイン電極とトランジスタQ2のソース電極へと接続される。インバータ112の出力端子は昇圧用容量C2の片側電極(ノードn3)へ接続され昇圧用容量C2の他方の電極(ノードn4)はトランジスタQ2のドレイン電極とトランジスタQ3のドレイン電極へと接続される。トランジスタQ3のソース電極(ノードn5)は昇圧用容量C3の片側電極へと接続され、昇圧用容量C3の他方の電極は接地電位GNDへと接続されている。ノードn5は負電圧昇圧回路の昇圧出力信号であり、これは図示はしていないが負電圧昇圧回路を内蔵する半導体集積回路装置の基板(ここではP基板)へと接続されている。
The negative voltage booster circuit 11 includes an inverter 111 and an
また、正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12は、電源電圧VDDと負電圧昇圧回路の昇圧出力信号(ノードn5)の電圧VSUBとの間に配置された回路であり接地電位GNDを基準とした基準電圧信号(ノードn6)を発生する。
The reference
正電圧昇圧回路13は、基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFを接地電位GNDを基準として電圧の極性を反転した昇圧出力信号(ノードn9)を発生させる。
The positive
正電圧昇圧回路13は、MOSトランジスタQ4、Q5、Q6、Q7と昇圧用容量C4、C5により構成される。昇圧動作を制御するクロック信号CLK6、CLK7、CLK8、CLK9は半導体集積回路装置に内蔵された図示しない回路により生成され、それぞれMOSトランジスタQ4のゲート電極、Q5のゲート電極、Q6のゲート電極、Q7のゲート電極へと入力される。
The positive
昇圧容量C4の片側電極(ノードn7)はMOSトランジスタQ4のドレイン電極とMOSトランジスタQ5のソース電極へ接続され、C4の他方の電極(ノードn8)はMOSトランジスタQ6のドレイン電極とMOSトランジスタQ7のドレイン電極へと接続されている。MOSトランジスタQ5のドレイン電極およびMOSトランジスタQ6のソース電極は接地電位GNDへと接続される。MOSトランジスタQ4のソース電極(ノードn9)は昇圧用容量C5の片側電極へと接続される。昇圧容量C5の他方の電極は接地電位GNDへ接続されている。MOSトランジスタQ7のドレイン電極は、正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12で生成された基準電圧信号(ノードn6)へと接続される。ノードn9は正電圧昇圧回路の昇圧出力信号であり電圧VCHが出力される。
One side electrode (node n7) of boost capacitor C4 is connected to the drain electrode of MOS transistor Q4 and the source electrode of MOS transistor Q5, and the other electrode (node n8) of C4 is the drain electrode of MOS transistor Q6 and the drain electrode of MOS transistor Q7. Connected to the electrode. The drain electrode of MOS transistor Q5 and the source electrode of MOS transistor Q6 are connected to ground potential GND. The source electrode (node n9) of MOS transistor Q4 is connected to one side electrode of boosting capacitor C5. The other electrode of the boost capacitor C5 is connected to the ground potential GND. The drain electrode of the MOS transistor Q7 is connected to the reference voltage signal (node n6) generated by the positive voltage booster circuit reference
ここで図8のタイミング図を用いて、負電圧昇圧回路11と正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12、及び正電圧昇圧回路13が動作を開始する時の動きについて説明する。図8に示すタイミングt1でクロック信号CLK1〜CLK5が動作を開始すると負電圧昇圧回路11は昇圧動作を開始する。図8ではクロック信号CLK1〜CLK5の中で代表的な信号CLK1を図示してある。
Here, the operation when the negative voltage booster circuit 11, the positive voltage booster circuit reference
負電圧昇圧回路11はクロック信号CLK1〜CLK5により、インバータ111の出力(ノードn1)の論理がH(ハイ)で、かつインバータ112の出力(ノードn3)の論理がL(ロー)、かつMOSトランジスタQ1、Q3がオン、かつMOSトランジスタQ2がオフとなる位相と、インバータ111の出力(ノードn1)の論理がL(ロー)で、かつインバータ112の出力(ノードn3)の論理がH(ハイ)、かつMOSトランジスタQ1、Q3がオフ、かつMOSトランジスタQ2がオンとなる位相を交互に繰り返すことで昇圧動作を開始し負電圧昇圧出力信号(ノードn6)には電圧VSUBが発生する。ここで負電圧昇圧出力信号(ノードn6)は図示していないが負電圧昇圧回路を内蔵する半導体集積回路装置の基板(ここではP基板)へと接続されているため基板電位は電圧VSUBへとバイアスされる。負電圧昇圧出力信号(ノードn6)が電圧VSUBを発生すると電源電圧VDDと電圧VSUBとの間で構成された正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12は接地電位GNDを基準とした基準電圧信号(ノードn6)を発生しノードn6には電圧VREFが発生する。
In the negative voltage booster circuit 11, the logic of the output (node n1) of the inverter 111 is H (high), the logic of the output (node n3) of the
図8に示すタイミングt2でクロック信号CLK6〜CLK9が動作を開始すると正電圧昇圧回路13は昇圧動作を開始する。図8ではクロック信号CLK6〜CLK9中で代表的な信号CLK6を図示してある。
When the clock signals CLK6 to CLK9 start operating at timing t2 shown in FIG. 8, the positive
正電圧昇圧回路13はクロック信号CLK6〜CLK9により、MOSトランジスタQ5、Q7がオンとなる位相と、MOSトランジスタQ4、Q6がオンとなる位相とを交互に繰り返すことで昇圧動作を開始し正電圧昇圧出力信号(ノードn9)は電圧VCHを発生する。電圧VCHが定常値になるまで、電圧VREF、VSUBは一時的に変動してしまう。
The positive
ここで図9及び図10を用いて図8に示したタイミングt2において正電圧昇圧回路13が動作を開始したときに半導体集積回路装置内に寄生的に存在するバイポーラトランジスタがONしてしまうことにより正電圧昇圧回路13および電圧昇圧回路11が正常に起動できなくなる課題について説明する。
Here, when the positive
図9は、タイミングt2において正昇圧昇圧回路13が動作をスタートしたときのタイミング図である。図10は、MOSトランジスタQ6のデバイス構造を表す図である。
FIG. 9 is a timing chart when the positive
図9に示す期間T1は、MOSトランジスタQ5、Q7がオンした状態であり、ノードn7と接地電位GNDは電気的にショートされ、かつノードn8とノードn6は電気的にショートされている。従って昇圧用容量C4のそれぞれの電極の電圧はGNDと電圧VREFに設定され昇圧用容量C4には容量値と電圧VREFで決定される電荷がチャージされている。 In a period T1 shown in FIG. 9, the MOS transistors Q5 and Q7 are turned on, the node n7 and the ground potential GND are electrically short-circuited, and the node n8 and the node n6 are electrically short-circuited. Accordingly, the voltage of each electrode of the boosting capacitor C4 is set to GND and the voltage VREF, and the boosting capacitor C4 is charged with a charge determined by the capacitance value and the voltage VREF.
図9に示す期間T2は、MOSトランジスタQ4、Q6がオンした状態であり、ノードn7とノードn9は電気的にショートされ、かつノードn8とGNDは電気的にショートされる。従って昇圧用容量C4のそれぞれの電極の電圧は電圧VCHとGNDに設定され期間T1で昇圧用容量C4にチャージされた電荷の一部は容量C5へと受け渡され正電圧昇圧回路13の出力信号電圧VCHは上昇する。
In a period T2 shown in FIG. 9, the MOS transistors Q4 and Q6 are turned on, the node n7 and the node n9 are electrically short-circuited, and the node n8 and GND are electrically short-circuited. Accordingly, the voltage of each electrode of the boosting capacitor C4 is set to the voltages VCH and GND, and a part of the charge charged in the boosting capacitor C4 in the period T1 is transferred to the capacitor C5, and the output signal of the positive
図9に示す期間T3では、期間T1と同様の状態へと設定され、期間T2において昇圧用容量C4が容量C5へと受け渡した電荷を補充する動作を行う。 In a period T3 shown in FIG. 9, the state is set to the same state as in the period T1, and the boosting capacitor C4 performs an operation of replenishing the charge delivered to the capacitor C5 in the period T2.
図9に示す期間T4においては、期間T2と同様の状態へと設定され、期間T3において昇圧用容量C4にチャージされた電荷の一部を容量C5へと受け渡す動作を行う。 In a period T4 shown in FIG. 9, the state is set to be the same as that in the period T2, and an operation of transferring a part of the charge charged in the boosting capacitor C4 to the capacitor C5 in the period T3 is performed.
前述の動作を順次繰り返すことで正電圧昇圧動作が実現され理想的には、基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFを極性反転した電圧を出力して安定する。 By repeating the above-described operations sequentially, a positive voltage boosting operation is realized, and ideally, a voltage obtained by inverting the polarity of the voltage VREF of the reference voltage signal (node n6) is output and stabilized.
期間T1、期間T3では、昇圧用容量C4のそれぞれの電極の電圧はGNDと電圧VREFに設定され、昇圧用容量C4には電荷がチャージされるがこのチャージ電流はノードn6を介して負電圧昇圧回路11の昇圧出力信号ノードn5から供給される。 In the period T1 and the period T3, the voltage of each electrode of the boosting capacitor C4 is set to GND and the voltage VREF, and the boosting capacitor C4 is charged, but this charge current is negative voltage boosted via the node n6. It is supplied from the boosted output signal node n5 of the circuit 11.
期間T3から期間T4へ切り換わったタイミングでは、MOSトランジスタQ6のON抵抗と容量C4からC5への電荷の移動によって発生する電流によりMOSトランジスタQ6のソース電極(GND)とドレイン電極(ノードn8)との間には電圧が発生し、ノードn8はGND電位より高い電圧となってしまう。 At the timing when the period T3 is switched to the period T4, the source electrode (GND) and the drain electrode (node n8) of the MOS transistor Q6 are caused by the ON resistance of the MOS transistor Q6 and the current generated by the movement of charges from the capacitors C4 to C5. A voltage is generated between the node n8 and the node n8 is higher than the GND potential.
このときの動作を図10に示したPチャンネルMOSトランジスタQ6のデバイス構造図を用いて説明する。PチャンネルMOSトランジスタQ6のドレイン電極(ノードn8)はP+拡散へと接続され、PチャンネルMOSトランジスタQ6のバルク電極Nウェル201はPチャンネルMOSトランジスタQ6のソース電極とショートされGND電圧が印加されている。Nウェル201は半導体集積回路装置のP基板上に製造されているためPチャンネルMOSトランジスタQ6のドレイン電極(ノードn8)とNウェル201とP基板とでP−N−P接続のトランジスタが寄生的に構成されている。 The operation at this time will be described with reference to the device structure diagram of P channel MOS transistor Q6 shown in FIG. The drain electrode (node n8) of the P channel MOS transistor Q6 is connected to P + diffusion, the bulk electrode N well 201 of the P channel MOS transistor Q6 is short-circuited with the source electrode of the P channel MOS transistor Q6, and the GND voltage is applied. . Since N well 201 is manufactured on a P substrate of a semiconductor integrated circuit device, a P-N-P connection transistor is parasitic between drain electrode (node n8) of P channel MOS transistor Q6, N well 201 and P substrate. It is configured.
前述の動作においてPチャンネルMOSトランジスタQ6のドレイン電極(ノードn8)がGND電位より高くなってしまうと、このP−N−P接続の寄生トランジスタがオンしてしまいノードn8からP基板へ過大な電流が流れる現象が発生する。 In the above operation, if the drain electrode (node n8) of the P-channel MOS transistor Q6 becomes higher than the GND potential, the parasitic transistor connected to the PNP connection is turned on, and an excessive current flows from the node n8 to the P substrate. Occurs.
半導体集積回路装置のP基板は負電圧昇圧回路11の昇圧出力信号(ノードn5)に接続され、電圧VSUBにバイアスされているがP基板への過大な電流が発生することでP基板の電圧VSUBは大きく変動し、条件によっては接地電位GNDより高くなってしまい負電圧昇圧回路11、正電圧昇圧回路13が正常に起動しない事態に至ってしまう課題があった。
The P substrate of the semiconductor integrated circuit device is connected to the boosted output signal (node n5) of the negative voltage booster circuit 11 and is biased to the voltage VSUB, but an excessive current to the P substrate is generated, so that the voltage VSUB of the P substrate is generated. There is a problem that the voltage of the negative voltage booster circuit 11 and the positive
また、正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始したときに、容量C4を介して負電圧昇圧回路11により昇圧用容量C3へチャージされた電荷を容量C5へ受け渡す動作を順次繰り返すが、このとき正電圧昇圧回路13により大きな電圧をノードn9へ発生しようとした場合、チャージのための過大電流が発生し負電圧昇圧回路11の出力信号ノードn5の電圧VSUBが大きく変動し条件によっては接地電位GNDより高くなってしまい、負電圧昇圧回路11、正電圧昇圧回路13が正常に起動しない事態に至ってしまう課題があった。
Further, when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, the operation of transferring the charge charged to the boosting capacitor C3 by the negative voltage booster circuit 11 through the capacitor C4 to the capacitor C5 is sequentially repeated. When the
本発明はかかる課題に鑑みてなされたものであり、電源電圧をもとに電源電圧より低い負電圧を基板またはウェル領域に発生させる負電圧昇圧回路を有しており、さらに電源電圧をもとに電源電圧より高い正電圧をウェル領域に発生させる正電圧昇圧回路を有している半導体集積回路において、負電圧昇圧回路あるいは正電圧昇圧回路を安定的に起動させることを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and has a negative voltage booster circuit for generating a negative voltage lower than the power supply voltage in the substrate or well region based on the power supply voltage. An object of the present invention is to stably start a negative voltage booster circuit or a positive voltage booster circuit in a semiconductor integrated circuit having a positive voltage booster circuit for generating a positive voltage higher than a power supply voltage in a well region.
上述目的を達成するため、本発明の半導体集積回路装置は、電源電圧をもとに電源電圧より低い負電圧を基板またはウェル領域に発生させる負電圧昇圧回路と、正電圧昇圧回路に供給する基準電圧を発生する正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路と、電源電圧をもとに電源電圧より高い正電圧をウェル領域に発生させる正電圧昇圧回路とを備えた半導体集積回路装置であって、前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路は回路を初期化するためのリセット信号と内部に設けたnビットのカウンター回路(1または複数ビットのカウンター回路)をカウントアップするクロック信号が入力され、前記正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始した後、前記リセット信号と前記クロック信号を制御し前記カウンター回路をカウントアップすることで、前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路の出力電圧および前記正電圧昇圧回路の出力電圧を段階的に絶対値として大きくしていき、前記nビットのカウンター回路の出力信号の論理が回路的に設定された論理となることを検出し、前記カウンター回路のカウントアップを停止し、前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路の出力電圧および前記正電圧昇圧回路の出力電圧を安定させるようにした。 In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a negative voltage booster circuit that generates a negative voltage lower than the power supply voltage in the substrate or well region based on the power supply voltage, and a reference supplied to the positive voltage booster circuit. A semiconductor integrated circuit device comprising: a reference voltage generation circuit for a positive voltage booster circuit for generating a voltage; and a positive voltage booster circuit for generating a positive voltage higher than the power supply voltage in a well region based on the power supply voltage, The reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit receives a reset signal for initializing the circuit and a clock signal for counting up an n-bit counter circuit (one or a plurality of bit counter circuits) provided therein, and After the voltage booster circuit starts the boosting operation, the counter signal is counted up by controlling the reset signal and the clock signal, so that the positive voltage The output voltage of the booster circuit reference voltage generation circuit and the output voltage of the positive voltage booster circuit are gradually increased as absolute values, and the logic of the output signal of the n-bit counter circuit is set in a circuit The counter circuit is stopped from counting up, and the output voltage of the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit and the output voltage of the positive voltage booster circuit are stabilized.
また、前記nビットのカウンター回路をカウントアップするクロック信号は、前記正電圧昇圧回路を動作させるクロック信号を分周した信号から作成するようにした。 The clock signal for counting up the n-bit counter circuit is generated from a signal obtained by dividing the clock signal for operating the positive voltage booster circuit.
上記に示した手段によれば、前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路へクロック信号を入力し前記入力信号をあるタイミングでパルス駆動させ正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路の出力電圧および前記正電圧昇圧回路の出力電圧を絶対値として段階的に大きくしていく機能を備えたことで、正電圧昇圧回路が昇圧を開始する時に昇圧用容量に電荷を蓄積するために発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力の電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を未然に防ぐことが可能となる。さらには正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始する際に、寄生的に存在する寄生バイポーラトランジスタがオンしてしまうことにより発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力の電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を未然に防ぐことが可能となる。 According to the means described above, a clock signal is input to the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit, and the input signal is pulse-driven at a certain timing to output the output voltage of the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit and the positive voltage. With the function to increase the output voltage of the voltage booster circuit as an absolute value in steps, the overcurrent generated to accumulate charge in the booster capacitor when the positive voltage booster circuit starts boosting is negative. The problem that the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be started normally is prevented before the voltage booster output of the voltage booster circuit is instantaneously applied to the booster output of the voltage booster circuit and the voltage of the booster output of the negative voltage booster circuit fluctuates. It becomes possible. Further, when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, an excessive current generated by turning on the parasitic bipolar transistor that is parasitically present is instantaneously applied to the boosted output of the negative voltage booster circuit, and the excessive voltage is increased. It is possible to prevent the problem that the voltage of the boost output of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the generation of current, and the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be normally started.
上述の目的を達成するため、本発明の半導体集積回路装置は電源電圧をもとに電源電圧より低い負電圧を基板またはウェル領域に発生させる負電圧昇圧回路と、正電圧昇圧回路に供給する基準電圧を発生する正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路と、電源電圧をもとに電源電圧より高い正電圧をウェル領域に発生させる正電圧昇圧回路とを備えた半導体集積回路装置であって、前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路は回路を初期化するためのリセット信号と内部に設けたnビットのカウンター回路(1または複数ビットのカウンター回路)をカウントアップするクロック信号と正電圧昇圧回路の出力電圧を所定の電圧へと設定するnビットの選択信号が入力され、前記正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始した後、前記リセット信号と前記クロック信号を制御し、前記カウンター回路をカウントアップすることで前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路の出力電圧および前記正電圧昇圧回路の出力電圧を段階的に絶対値として大きくしていき、前記nビットのカウンター回路の出力信号の論理が前記nビットの選択信号の論理と一致することを検出し前記カウンター回路のカウントアップを停止し、前記正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路の出力電圧および前記正電圧昇圧回路の出力電圧を安定させるようにした。 In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a negative voltage booster circuit that generates a negative voltage lower than the power supply voltage in the substrate or well region based on the power supply voltage, and a reference supplied to the positive voltage booster circuit. A semiconductor integrated circuit device comprising: a reference voltage generation circuit for a positive voltage booster circuit for generating a voltage; and a positive voltage booster circuit for generating a positive voltage higher than the power supply voltage in a well region based on the power supply voltage, The reference voltage generation circuit for the positive voltage booster circuit includes a reset signal for initializing the circuit, a clock signal for counting up an n-bit counter circuit (one or a plurality of bit counter circuits) provided therein, and a positive voltage booster circuit. After an n-bit selection signal for setting the output voltage to a predetermined voltage is input and the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, the reset signal and the clock are set. By controlling the signal and counting up the counter circuit, the output voltage of the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit and the output voltage of the positive voltage booster circuit are gradually increased as absolute values, and the n Detecting that the logic of the output signal of the bit counter circuit coincides with the logic of the n-bit selection signal, stopping counting up of the counter circuit, and outputting the output voltage of the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit and the The output voltage of the positive voltage booster circuit was stabilized.
前記nビットのカウンター回路をカウントアップするクロック信号は、前記正電圧昇圧回路を動作させるクロック信号を分周した信号から作成するようにした。 The clock signal for counting up the n-bit counter circuit is generated from a signal obtained by dividing the clock signal for operating the positive voltage booster circuit.
また、本発明の半導体集積回路装置は、電源電圧を入力して昇圧し、出力する第一の昇圧回路と、前記第一の昇圧回路の出力に基づいて前記第一の昇圧回路の出力とは基準電圧に対して逆の極性の出力をする第二の昇圧回路と、を有する半導体集積回路装置であって、前記第一の昇圧回路の昇圧電圧を入力し、接地電位から前記昇圧電圧までの範囲において段階的に順次出力電圧を制御しながら前記第二の昇圧回路へ出力する基準電圧発生回路を有することをを特徴とする半導体集積回路装置である。 The semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a first booster circuit that inputs and boosts and outputs a power supply voltage, and an output of the first booster circuit based on an output of the first booster circuit. A second booster circuit that outputs an opposite polarity to a reference voltage, and inputs a boosted voltage of the first booster circuit from a ground potential to the boosted voltage. A semiconductor integrated circuit device comprising a reference voltage generation circuit for outputting to the second booster circuit while controlling the output voltage stepwise in a range.
さらに、前記基準電圧発生回路は、クロックをカウントしカウント値を出力するカウンタと、複数の基準電圧を発生する基準電圧発生回路と、前記カウント値に対応して前記複数の基準電圧から前記カウント値に対応する基準電圧を選択する選択回路と、を有し、前記選択回路で選択された基準電圧に基づく電圧を出力する構成とすることができる。 Further, the reference voltage generation circuit includes a counter that counts a clock and outputs a count value, a reference voltage generation circuit that generates a plurality of reference voltages, and the count value from the plurality of reference voltages corresponding to the count value. And a selection circuit that selects a reference voltage corresponding to the reference voltage, and outputs a voltage based on the reference voltage selected by the selection circuit.
さらに、前記選択回路は、予め設定した値をセットすることにより、所定のカウント値とそれに対応する所定の基準電圧を選択し、前記基準電圧発生回路は前記基準電圧に基づく出力をする構成とすることができる。 Further, the selection circuit sets a preset value to select a predetermined count value and a predetermined reference voltage corresponding thereto, and the reference voltage generation circuit outputs based on the reference voltage. be able to.
上述の半導体集積回路装置を有する表示装置を構成することができる。 A display device including the above-described semiconductor integrated circuit device can be configured.
上述の表示装置を有する電子機器を構成することができる。 An electronic device including the above display device can be formed.
本発明によれば、正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路へクロック信号を入力し、入力信号をあるタイミングでパルス駆動させ正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路の出力電圧および正電圧昇圧回路の出力電圧を絶対値として段階的に大きくしていく機能を備えたことで、正電圧昇圧回路が昇圧を開始するときに昇圧用容量に電荷を蓄積するために発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力の電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防止することが可能となる。さらには正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始するときに、寄生的に存在する寄生バイポーラトランジスタがオンしてしまうことにより発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力の電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防止することが可能となる。 According to the present invention, the clock signal is input to the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit, and the input signal is pulse-driven at a certain timing to output the output voltage of the reference voltage generating circuit for the positive voltage booster circuit and the output of the positive voltage booster circuit. With the function to increase the voltage step by step as an absolute value, an excessive current generated to accumulate electric charge in the boosting capacitor when the positive voltage boosting circuit starts boosting will cause the negative voltage boosting circuit to It is possible to prevent a problem in which the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be started normally because the voltage of the booster output of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the occurrence of an excessive current that is instantaneously applied to the booster output. . Furthermore, when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, an excessive current generated by turning on the parasitic bipolar transistor that is parasitically present is instantaneously applied to the boosted output of the negative voltage booster circuit and the excessive voltage is increased. It is possible to prevent a problem that the voltage of the boost output of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the current generation, and the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be normally started.
また、本願の半導体集積回路装置を、例えば薄膜トランジスタThin Film Transistor(TFT)を用いた液晶パネルを駆動する液晶駆動表示用LSIへ適用した場合には、正電圧昇圧回路の出力電圧を所定の電圧へと設定する選択信号を、使用するパネルのTFTの特性に合わせて所定の値に設定することが可能であり、かつTFTの特性に合わせて昇圧出力VCHを高電圧に設定することが必要とされる場合でも、正電圧昇圧回路は絶対値として比較的小さな電圧をまず昇圧出力し、その後、段階的に昇圧電圧が大きくなっていく動作をとるため安定して昇圧動作を起動させることができる。また、この表示装置を搭載した電子機器においても電子機器の動作が安定する。 Further, when the semiconductor integrated circuit device of the present application is applied to a liquid crystal drive display LSI that drives a liquid crystal panel using, for example, a thin film transistor (Thin Film Transistor), the output voltage of the positive voltage booster circuit is set to a predetermined voltage. The selection signal to be set can be set to a predetermined value according to the TFT characteristics of the panel to be used, and the boost output VCH must be set to a high voltage according to the TFT characteristics. Even in this case, the positive voltage booster circuit first boosts and outputs a relatively small voltage as an absolute value, and then performs an operation in which the boosted voltage gradually increases, so that the boosting operation can be started stably. In addition, even in an electronic device equipped with this display device, the operation of the electronic device is stabilized.
また、本発明において得られる効果は以下のものもある。本発明にかかる半導体集積回路装置は電源電圧をもとに電源電圧より低い負電圧を基板またはウェル領域に発生させる負電圧昇圧回路と、電源電圧をもとに電源電圧より高い正電圧をウェル領域に発生させる正電圧昇圧回路と正電圧昇圧回路に供給する基準電圧を発生する正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路とを備えた半導体集積回路装置であって、正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路は正電圧昇圧回路が動作を開始した後、段階的に正電圧昇圧回路用基準電圧信号の電圧を変化させる機能を有するようにしたものであるので、正電圧昇圧回路が昇圧を開始するときに昇圧用容量に電荷を蓄積するために発生する過大電流や正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始する際に、寄生的に存在する寄生バイポーラトランジスタがオンしてしまうことにより発生する過大電流によって負電圧昇圧回路の昇圧出力電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防止できる。 The effects obtained in the present invention include the following. A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a negative voltage booster circuit for generating a negative voltage lower than a power supply voltage in a substrate or a well region based on a power supply voltage, and a positive voltage higher than the power supply voltage based on the power supply voltage in a well region A semiconductor integrated circuit device comprising a positive voltage booster circuit for generating a positive voltage and a reference voltage generator circuit for a positive voltage booster circuit for generating a reference voltage to be supplied to the positive voltage booster circuit, the reference voltage generator circuit for a positive voltage booster circuit Since the positive voltage booster circuit has a function of changing the voltage of the reference voltage signal for the positive voltage booster circuit step by step after the operation of the positive voltage booster circuit, when the positive voltage booster circuit starts boosting, When the overcurrent generated to accumulate charges in the boosting capacitor or when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, the parasitic bipolar transistor that exists parasitically turns on. Boosting the output voltage of the negative voltage booster circuit is varied by excessive current generated can be prevented problems that the negative voltage booster circuit and a positive voltage booster circuit can not be started properly.
(実施の形態1)
本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置を図面に基づいて説明する。図1は本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置の概略ブロック図である。
(Embodiment 1)
A semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic block diagram of a semiconductor integrated circuit device according to Embodiment 1 of the present invention.
GNDは接地電位、VDDは外部から印加される電源電圧である。負電圧昇圧回路11はこの図の例では電源電圧VDDを2倍して極性反転した電圧VSUBを発生する回路である。 GND is a ground potential, and VDD is a power supply voltage applied from the outside. In the example of this figure, the negative voltage booster circuit 11 is a circuit that generates a voltage VSUB whose polarity is inverted by doubling the power supply voltage VDD.
正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12は、電源電圧VDDと負電圧昇圧回路の昇圧出力信号(ノードn5)の電圧VSUBとの間で構成された回路であり、図示していないが本半導体集積回路装置に内蔵された定電圧発生回路によって発生した定電圧信号Vconstが入力され、また、正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12の内部を初期化する信号RESETと内部のカウンター回路をカウントアップするクロック信号CLK10が入力される。
The reference
定電圧信号Vconstと、リセット信号RESET、クロック信号CLK10を入力とした論理回路により接地電位GNDを基準とした基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFが設定される。 A voltage VREF of a reference voltage signal (node n6) with reference to the ground potential GND is set by a logic circuit having the constant voltage signal Vconst, the reset signal RESET, and the clock signal CLK10 as inputs.
正電圧昇圧回路13は基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFを接地電位GNDを基準として電圧の極性を反転した昇圧出力信号(ノードn9)に電圧VCHを発生させる。
The positive
図2は図1に示した正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12の具体的な回路例を示している。正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12はブリーダー抵抗13、オペアンプAMP1で構成されるインピーダンス変換器、オペアンプAMP2と抵抗R101、R102で構成される反転増幅回路、nビットカウンター回路16、任意データ検出回路17、デコーダー回路20から構成される。
FIG. 2 shows a specific circuit example of the reference
以下に本発明の実施の形態1による正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12の構成と動作について説明する。
The configuration and operation of the positive voltage booster reference
図2において、抵抗R1〜R(m)は接地電位GNDと定電圧信号Vconstとの間に構成されたブリーダー抵抗13を構成している。定電圧信号Vconst及びブリーダー抵抗13により分圧された各信号は各々MOSスイッチSW1〜SW(m)の片側電極へと接続されている。MOSスイッチSW1〜SW(m)の他方の電極は全てノードn10に接続される。ノードn10を入力とするAMP1はノードn10の信号をインピーダンス変換する機能を持ちノードn10をインピーダンス変換した信号(ノードn11)を出力する。AMP2と抵抗R101、R102は反転増幅回路を構成しAMP2の入力信号(ノードn11)の電圧VOUT1を接地電位GNDを基準に抵抗R101、R102の比で決まる係数倍し、かつ極性反転した信号をノードn6へと出力する。このときノードn6の電圧VREFは、VREF=−(R102/R101)×(VOUT1)の電圧値となる。
In FIG. 2, resistors R1 to R (m) constitute a
基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFを制御するカウンター回路16は、カウンターリセット信号RESETとカウントアップするためのクロック信号CLK10が入力され、クロック信号CLK10が変化するとカウントアップ動作を行いnビットの出力信号CNT1〜CNT(n)を出力する。
The
データ一致検出回路17は、nビットのカウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)を入力とするNAND回路18およびNAND回路18の出力信号n12を入力とする2入力のAND回路19から構成される。AND回路19の他方の入力にはクロック信号CLK10が入力されている。
The data match
本発明の実施の形態1の具体的な回路例を表す図2では、カウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)の論理が全てH(ハイ)となることを検出する回路を例として取り上げている。データ一致検出回路17はカウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)を入力とする論理回路で設定された所定の入力値となることを検出する回路でありこの所定の論理値を変更することは、NAND回路18で示した論理回路を変更することで実現することができる。
In FIG. 2 showing a specific circuit example of the first embodiment of the present invention, a circuit that detects that all the logics of the output signals CNT1 to CNT (n) of the
カウンター回路16は、クロック信号CLK10が変化するとカウントアップ動作を行い、nビットの出力信号CNT1〜CNT(n)のカウンタト値を出力する。出力信号CNT1〜CNT(n)が論理回路で設定された所定の値と一致するとNAND回路18の出力信号ノードn12の論理はL(ロー)となり、AND回路19の出力信号n13はクロック信号CLK10の変化に関係なくローレベルに固定されカウンター回路16はカウントアップ動作を停止する。
The
デコーダー回路20は、カウンター回路16のnビットの出力信号CNT1〜CNT(n)が入力され、信号CNT1〜CNT(n)をデコードしたmビットの信号DEC1〜DEC(m)を出力する。
The
デコーダー回路20のmビットの出力信号DEC1〜DEC(m)はMOSスイッチSW1〜SW(m)へと各々接続され、カウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)を入力し、mビットの出力信号DEC1〜DEC(m)の値が変化しMOSスイッチSW1〜SW(m)の内1つだけをオンさせる。
The m-bit output signals DEC1 to DEC (m) of the
図3は本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置の動作タイミングを表すタイミングチャート図である。図3においては正電圧昇圧回路用基準電圧の電圧VREFを制御するnビットのカウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)はn=2、デコーダー回路20のmビットの信号DEC1〜DEC(m)はm=4の場合の動作について表している。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation timing of the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 3, the output signals CNT1 to CNT (n) of the n-
図3に示すタイミングt1において、負電圧昇圧回路11を動作させるクロック信号CLK1〜CLK5が動作を開始すると負電圧昇圧回路11は昇圧動作を開始し、ある期間経過後、接地電位GNDより電圧レベルとして低い安定した電圧VSUBをノードn5へと出力する。図3ではクロック信号CLK1〜CLK5の中で代表的な信号CLK1を図示してある。タイミングt1ではリセット信号RESETの論理はH(ハイ)に設定されておりカウンター回路16は初期化され、2ビットのカウンター回路16の出力信号はCNT1=L(ロー)、CNT2=L(ロー)に設定されデコーダー回路20の4ビットの出力信号DEC1〜DEC4はMOSスイッチSW1のみをオンさせ、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFは絶対値として比較的小さな電圧が発生される。
When the clock signals CLK1 to CLK5 for operating the negative voltage booster circuit 11 start operating at the timing t1 shown in FIG. 3, the negative voltage booster circuit 11 starts the boost operation, and after a certain period, the voltage level is set to the level from the ground potential GND. A low stable voltage VSUB is output to the node n5. FIG. 3 shows a representative signal CLK1 among the clock signals CLK1 to CLK5. At timing t1, the logic of the reset signal RESET is set to H (high), the
図3に示すタイミングt2において、正電圧昇圧回路13を動作させるクロック信号CLK6〜CLK9が動作を開始すると正電圧昇圧回路13は昇圧動作を開始する。図3ではクロック信号CLK6〜CLK9の中で代表的な信号CLK6を図示してある。またタイミングt2においてリセット信号RESETの論理はH(ハイ)からL(ロー)へと変化するが、クロック信号CLK10が動作を開始するまではノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFは絶対値として比較的小さな電圧が発生されている。正電圧昇圧回路13はノードn6の絶対値として比較的小さな電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始し、ある期間経過後に絶対値として比較的小さな安定した電圧VCHをノードn9へと出力する。
At timing t2 shown in FIG. 3, when the clock signals CLK6 to CLK9 for operating the positive
図3に示すタイミングt3において、クロック信号CLK10が動作をするとカウンター回路16がカウントアップ動作をして2ビットのカウンター回路16の出力信号はCNT1=H(ハイ)、CNT2=L(ロー)に設定されデコーダー回路20の4ビットの出力信号DEC1〜DEC4はMOSスイッチSW2のみをオンさせ、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFにはタイミングt2での電圧に対して絶対値として大きくなる電圧が発生されるようになり、正電圧昇圧回路13は絶対値として大きくなったノードn6の電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始し、ある期間経過後にタイミングt2での電圧に対して絶対値として大きくなった安定した電圧VCHをノードn9へと出力する。
When the clock signal CLK10 operates at the timing t3 shown in FIG. 3, the
またこのとき、任意データ検出回路17は出力信号CNT1〜CNT2と回路的に設定された所定の論理値とが一致していないためカウンター回路16のカウントアップ動作を停止する信号ノードn12をH(ハイ)に設定しているためカウントアップ動作は停止しない。
At this time, the arbitrary
図3に示すタイミングt4における動作は、タイミングt3における動作と同様である。 The operation at the timing t4 shown in FIG. 3 is the same as the operation at the timing t3.
図3に示すタイミングt5においては、クロック信号CLK10が動作をするとカウンター回路16がカウントアップ動作をして2ビットのカウンター回路16の出力信号はCNT1=H(ハイ)、CNT2=H(ハイ)に設定されデコーダー回路20の4ビットの出力信号DEC1〜DEC4はMOSスイッチSW4のみをオンさせ、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFにはタイミングt4での電圧に対して絶対値として大きくなる電圧が発生されるようになり、正電圧昇圧回路13は絶対値として大きくなったノードn6の電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始し、ある期間経過後に、タイミングt4での電圧に対して絶対値として大きくなった安定した電圧VCHをノードn9へと出力する。
At timing t5 shown in FIG. 3, when the clock signal CLK10 operates, the
ただしこのとき任意データ検出回路17は出力信号CNT1〜CNT2と回路的に設定された値(図2の回路例ではCNT1=H(ハイ)かつCNT2=H(ハイ))となったことを検出してカウンター回路16のカウントアップ動作を停止する信号ノードn12をL(ロー)に変化させる。
However, at this time, the arbitrary
従って、図3に示すタイミングt6においては、クロック信号CLK10が動作をしてもデータ一致回路17のカウントアップ動作を停止する信号ノードn12がL(ロー)に設定されているためカウンター回路16はカウントアップ動作をせずに、リセット信号RESETがH(ハイ)となるまで出力信号CNT1〜CNT2は回路的に設定された値で固定される。
Therefore, at the timing t6 shown in FIG. 3, since the signal node n12 for stopping the count-up operation of the
上述したように、正電圧昇圧回路13は、絶対値として比較的小さな電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始しその条件で昇圧出力VCHが安定し、その後、ある時間経過する毎に電圧VREFが段階的に絶対値として大きくなる動作をとり、電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を再度開始することを繰り返す。
As described above, the positive
本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置においては、回路的に設定された値にカウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)が等しくなったところで電圧VREFは安定し、電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作をする正電圧昇圧回路13の出力VCHも安定する。
In the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention, the voltage VREF becomes stable when the output signals CNT1 to CNT (n) of the
また、本発明の実施の形態1による半導体集積回路装置において、正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12へと入力されるカウントアップ用のクロック信号CLK10は、正電圧昇圧回路13へと入力される昇圧動作用のクロック信号CLK6〜9を図示しない分周回路によって分周した信号で構成しても良い。
In the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention, the count-up clock signal CLK10 input to the positive voltage booster circuit reference
このように本実施の形態1による半導体集積回路装置は正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路へ正電圧昇圧回路用基準電圧の電圧VREFを制御するためのクロック信号CLK10を入力し、入力信号をあるタイミングでパルス駆動させ正電圧昇圧回路用基準電圧を絶対値として段階的に大きくしていく機能を備えたことで、正電圧昇圧回路が昇圧を開始する時に昇圧用容量に電荷を蓄積するために発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防止することが可能となる。さらには正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始する際に、寄生的に存在する寄生バイポーラトランジスタがオンしてしまうことにより発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防ぐことが可能となる。 As described above, in the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment, the clock signal CLK10 for controlling the voltage VREF of the reference voltage for the positive voltage booster circuit is input to the reference voltage generation circuit for the positive voltage booster circuit, and the input signal is provided. In order to accumulate charges in the boosting capacitor when the positive voltage boosting circuit starts boosting by providing a function to increase the reference voltage for the positive voltage boosting circuit stepwise as an absolute value by pulse driving at the timing The generated excessive current is instantaneously applied to the boost output of the negative voltage booster circuit, and the boost output voltage of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the generation of the excessive current, and the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be started normally. The problem can be prevented. Further, when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, an excessive current generated by turning on the parasitic bipolar transistor that is parasitically present is instantaneously applied to the boosted output of the negative voltage booster circuit, and the excessive voltage is increased. The boosted output voltage of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the generation of current, and it is possible to prevent a problem that the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be started normally.
(実施の形態2)
本発明の実施の形態2による半導体集積回路装置を図面に基づいて説明する。図4は本発明の実施の形態2による半導体集積回路装置の概略ブロック図である。
(Embodiment 2)
A semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic block diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention.
GNDは接地電位、VDDは外部から印加される電源電圧である。負電圧昇圧回路11はこの図の例では電源電圧VDDを2倍して極性反転した電圧VSUBを発生する回路である。 GND is a ground potential, and VDD is a power supply voltage applied from the outside. In the example of this figure, the negative voltage booster circuit 11 is a circuit that generates a voltage VSUB whose polarity is inverted by doubling the power supply voltage VDD.
正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12は、電源電圧VDDと負電圧昇圧回路の昇圧出力信号(ノードn5)の電圧VSUBとの間で構成された回路であり、図示していないが本半導体集積回路装置に内蔵された定電圧発生回路によって発生した定電圧信号Vconstが入力され、またVconstを抵抗分圧した複数の電圧のうちいずれかの電圧を選択するnビットの選択信号ASEL1〜ASEL(n)が入力される。また正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12の内部を初期化する信号RESETと内部のカウンター回路をカウントアップするクロック信号CLK10が入力される。
The reference
電圧Vconstと選択信号ASEL1〜ASEL(n)、リセット信号RESET、クロック信号CLK10の論理により接地電位GNDを基準とした基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFが設定される。正電圧昇圧回路13は基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFを接地電位GNDを基準として電圧の極性を反転した昇圧出力信号(ノードn9)に電圧VCHを発生させる。
The voltage VREF of the reference voltage signal (node n6) with reference to the ground potential GND is set by the logic of the voltage Vconst, the selection signals ASEL1 to ASEL (n), the reset signal RESET, and the clock signal CLK10. The positive
図5は図4に示した正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12の具体的な回路例を示している。正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12はブリーダー抵抗13、オペアンプAMP1で構成されるインピーダンス変換器、オペアンプAMP2と抵抗R101、R102で構成される反転増幅回路、nビットカウンター回路16、データ一致検出回路17、デコーダー回路20から構成される。
FIG. 5 shows a specific circuit example of the reference
以下に本発明の実施の形態2による正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12の構成と動作について説明する。
The configuration and operation of the positive voltage booster reference
図5において、抵抗R1〜R(m)は接地電位GNDと電圧Vconstとの間に直列に接続されたブリーダー抵抗13を構成している。ブリーダー抵抗13により分圧された各信号は各々MOSスイッチSW1〜SW(m)の片側電極へと接続されている。MOSスイッチSW1〜SW(m)の他方の電極は全てノードn10に接続されノードn10を入力とするオペアンプAMP1はノードn10の信号をインピーダンス変換する機能を持ちノードn10の信号をインピーダンス変換した信号(ノードn11)に電圧VOUT1を出力する。オペアンプAMP2と抵抗R101、R102は反転増幅回路を構成しノードn11の電圧VOUT1を接地電位GNDを基準に抵抗R101、R102の比で決まる係数倍し、かつ極性反転した信号をノードn6へと出力する。ノードn6の電圧VREFは、VREF=−(R102/R101)×VOUT1の電圧値となる。
In FIG. 5, resistors R1 to R (m) constitute a
基準電圧信号(ノードn6)の電圧VREFを制御するカウンター回路16は、カウンターリセット信号RESETと、カウントアップするためのクロック信号CLK10が入力され、クロック信号CLK10が変化するとカウントアップ動作を行いnビットの出力信号CNT1〜CNT(n)を出力する。出力信号CNT1〜CNT(n)の取る組み合わせが電圧Vconstを抵抗分圧した複数の電圧のうちいずれかの電圧を選択するnビットの選択信号ASEL1〜ASEL(n)の組み合わせと一致することを検出するデータ一致検出回路17はn個のEXNOR回路と、nビットのEXNOR回路の出力信号COMP1〜COMP(n)を入力とするNAND回路18およびNAND回路18の出力信号n12を入力とする2入力のAND回路19から構成される。AND回路19の他方の入力にはクロック信号CLK10が入力されている。
The
クロック信号CLK10が変化すると、カウンター回路16は、カウントアップ動作を行いnビットの出力信号CNT1〜CNT(n)のカウント値を出力する。出力信号CNT1〜CNT(n)と選択信号ASEL1〜ASEL(n)の組み合わせが一致するとEXNOR回路の出力信号COMP1〜COMP(n)は全てH(ハイ)となりAND回路19の出力信号n13はクロック信号CLK10の変化に関係なくローレベルに固定されカウンター回路16はカウントアップ動作を停止する。デコーダー回路20はカウンター回路16のnビットの出力信号CNT1〜CNT(n)が入力され、信号CNT1〜CNT(n)をデコードしたmビットの信号DEC1〜DEC(m)を出力する。
When the clock signal CLK10 changes, the
デコーダー回路20のmビットの出力信号DEC1〜DEC(m)はMOSスイッチSW1〜SW(m)へと各々接続され、カウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)の組み合わせにより、mビットの出力信号DEC1〜DEC(m)の組み合わせが変化し、MOSスイッチSW1〜SW(m)の内1つだけをオンさせる。
The m-bit output signals DEC1 to DEC (m) of the
図6は本発明の実施の形態2による半導体集積回路装置の動作タイミングを表すタイミングチャート図である。図6においては正電圧昇圧回路用基準電圧の電圧VREFを制御するnビットのカウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)はn=3、デコーダー回路20のmビットの信号DEC1〜DEC(m)はm=8の場合の動作について表している。
FIG. 6 is a timing chart showing the operation timing of the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 6, the output signals CNT1 to CNT (n) of the n-
また、図6においてはnビットの選択信号ASEL1〜ASEL(n)は、ASEL1=H(ハイ)、ASEL2=H(ハイ)、ASEL3=L(ロー)に固定されている場合の動作について表している。図6に示すタイミングt1で負電圧昇圧回路11を動作させるクロック信号CLK1〜CLK5が動作を開始すると負電圧昇圧回路11は昇圧動作を開始し、ある期間経過後、接地電位GNDより電圧レベルとして低い安定した電圧VSUBをノードn5へと出力する。 In FIG. 6, n-bit selection signals ASEL1 to ASEL (n) represent operations when ASEL1 = H (high), ASEL2 = H (high), and ASEL3 = L (low). Yes. When the clock signals CLK1 to CLK5 for operating the negative voltage booster circuit 11 start operation at the timing t1 shown in FIG. 6, the negative voltage booster circuit 11 starts the boost operation, and after a certain period, the voltage level is lower than the ground potential GND. A stable voltage VSUB is output to node n5.
図6ではクロック信号CLK1〜CLK5の中で代表的な信号CLK1を図示してある。タイミングt1ではリセット信号RESETの論理はH(ハイ)に設定されておりカウンター回路16は初期化され、3ビットのカウンター回路16の出力信号はCNT1=L(ロー)、CNT2=L(ロー)、CNT3=L(ロー)に設定されデコーダー回路20の8ビットの出力信号DEC1〜DEC8はMOSスイッチSW1のみをオンさせ、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFは絶対値として比較的小さな電圧が発生される。
FIG. 6 shows a representative signal CLK1 among the clock signals CLK1 to CLK5. At timing t1, the logic of the reset signal RESET is set to H (high), the
図6に示すタイミングt2で正電圧昇圧回路13を動作させるクロック信号CLK6〜CLK9が動作を開始すると正電圧昇圧回路13は昇圧動作を開始する。図6ではクロック信号CLK6〜CLK9の中で代表的な信号CLK6を図示してある。またタイミングt2においてリセット信号RESETの論理はH(ハイ)からL(ロー)へと変化するがクロック信号CLK10が動作を開始するまでは、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFは絶対値として比較的小さな電圧が発生されている。
When the clock signals CLK6 to CLK9 for operating the positive
正電圧昇圧回路13はノードn6の絶対値として比較的小さな電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始し、ある期間経過後、絶対値として比較的小さな安定した電圧VCHをノードn9へと出力する。
The positive
図6に示すタイミングt3においてクロック信号CLK10が動作をするとカウンター回路16がカウントアップ動作をして3ビットのカウンター回路16の出力信号はCNT1=H(ハイ)、CNT2=L(ロー)、CNT3=L(ロー)に設定されデコーダー回路20の8ビットの出力信号DEC1〜DEC8はMOSスイッチSW2のみをオンさせ、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFにはタイミングt2での電圧に対して絶対値として大きくなる電圧が発生されるようになり、正電圧昇圧回路13は絶対値として大きくなったノードn6の電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始し、ある期間経過後、タイミングt2での電圧に対して絶対値として大きくなった安定した電圧VCHをノードn9へと出力する。また、このときデータ一致検出回路17は出力信号CNT1〜CNT3と選択信号ASEL1〜ASEL3の組み合わせがが一致していないためカウンター回路16のカウントアップ動作を停止する信号はノードn12をH(ハイ)に設定しているためカウントアップ動作は停止しない。
When the clock signal CLK10 operates at the timing t3 shown in FIG. 6, the
図6に示すタイミングt4における動作はタイミングt3における動作と同様である。図6に示すタイミングt5においてはクロック信号CLK10が動作をするとカウンター回路16がカウントアップ動作をして3ビットのカウンター回路16の出力信号はCNT1=H(ハイ)、CNT2=H(ハイ)、CNT3=L(ロー)に設定されデコーダー回路20の8ビットの出力信号DEC1〜DEC8はMOSスイッチSW4のみをオンさせ、ノードn11の電圧VOUT1及びノードn6の電圧VREFにはタイミングt4での電圧に対して絶対値として大きくなる電圧が発生されるようになり、正電圧昇圧回路13は絶対値として大きくなったノードn6の電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始し、ある期間経過後、タイミングt4での電圧に対して絶対値として大きくなった安定した電圧VCHをノードn9へと出力する。ただし、このときデータ一致検出回路17は出力信号CNT1〜CNT3と選択信号ASEL1〜ASEL3の組み合わせ一致したことを検出してカウンター回路16のカウントアップ動作を停止する信号をノードn12をL(ロー)に変化させる。従って図6に示すタイミングt6においてはクロック信号CLK10が動作をしてもデータ一致検出回路17のカウントアップ動作を停止する信号ノードn12がL(ロー)に設定されているためカウンター回路16はカウントアップ動作をせずに、リセット信号RESETがH(ハイ)となるまで出力信号CNT1〜CNT3は、選択信号ASEL1〜ASEL3と同じ値で固定される。
The operation at timing t4 shown in FIG. 6 is the same as the operation at timing t3. At timing t5 shown in FIG. 6, when the clock signal CLK10 operates, the
上述したように、正電圧昇圧回路13は、絶対値として比較的小さな電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を開始しその条件で昇圧出力VCHが安定し、その後ある時間経過する毎に電圧VREFが段階的に絶対値として大きくなる動作をとり、電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作を再度開始することを繰り返す。本発明の実施の形態2による半導体集積回路装置においては、入力される抵抗分圧した複数の電圧のうちいずれかの電圧を選択するnビットの選択信号ASEL1〜ASEL(n)にカウンター回路16の出力信号CNT1〜CNT(n)が等しくなったところで電圧VREFは安定し、電圧VREFをもとに接地電位GNDを基準として昇圧動作をする正電圧昇圧回路13の出力VCHも安定する。
As described above, the positive
また本発明の実施の形態2による半導体集積回路装置において正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路12へと入力されるカウントアップ用のクロック信号CLK10は、正電圧昇圧回路13へと入力される昇圧動作用のクロック信号CLK6〜9を図示しない分周回路によって分周した信号で構成しても良い。
In the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention, the count-up clock signal CLK10 input to the positive voltage booster reference
本実施の形態2による半導体集積回路装置を例えば薄膜トランジスタThin Film Transistor(TFT)を用いた液晶パネルを駆動する液晶駆動表示用LSIへ適用した場合について以下に説明する。正電圧昇圧回路13の昇圧出力VCHをTFTパネルのTFTのゲート電圧とした場合、電圧VCHは、使用されるTFTの特性に合わせた電圧に設定することが必要となる。電圧VCHとして例えば+15Vという高電圧を必要とする場合、従来の技術では、正電圧昇圧回路13が昇圧動作を開始するときに過大電流が発生し負電圧昇圧回路11の昇圧出力電圧が変動し、負電圧昇圧回路11および正電圧昇圧回路13が正常に起動できない課題があった。しかし本実施の形態2による半導体集積回路装置を用いれば選択信号ASEL1〜ASEL(n)を使用するパネルのTFTの特性に合わせた所定の値に設定することが可能であり、かつTFTの特性に合わせて昇圧出力VCHを高電圧に設定することが必要とされる場合でも正電圧昇圧回路13は絶対値として比較的小さな電圧をまず昇圧出力し、その後、段階的に昇圧電圧が大きくなっていく動作をとるため安定して昇圧動作を起動させることができる。
The case where the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment is applied to a liquid crystal display LSI for driving a liquid crystal panel using, for example, a thin film transistor (TFT) will be described below. When the boosted output VCH of the positive
このように本実施の形態2による半導体集積回路装置は正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路へ正電圧昇圧回路用基準電圧の電圧VREFを制御するためのクロック信号CLK10を入力し入力信号をあるタイミングでパルス駆動させ正電圧昇圧回路用基準電圧を絶対値として段階的に大きくしていく機能を備えたことで、正電圧昇圧回路が昇圧を開始するときに昇圧用容量に電荷を蓄積するために発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防止可能となる。さらには正電圧昇圧回路が昇圧動作を開始する際に、寄生的に存在する寄生バイポーラトランジスタがオンしてしまうことにより発生する過大電流が負電圧昇圧回路の昇圧出力に瞬間的に印加されその過大電流の発生により負電圧昇圧回路の昇圧出力電圧が変動し、負電圧昇圧回路および正電圧昇圧回路が正常に起動できない課題を防止可能となる。 As described above, in the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment, the clock signal CLK10 for controlling the voltage VREF of the reference voltage for the positive voltage booster circuit is input to the reference voltage generation circuit for the positive voltage booster circuit, and the input signal is given timing. In order to accumulate charges in the boosting capacitor when the positive voltage boosting circuit starts boosting, it has the function of increasing the reference voltage for the positive voltage boosting circuit stepwise as an absolute value. The generated excessive current is instantaneously applied to the boost output of the negative voltage booster circuit, and the boost output voltage of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the generation of the excessive current, and the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be started normally. The problem can be prevented. Further, when the positive voltage booster circuit starts the boosting operation, an excessive current generated by turning on the parasitic bipolar transistor that is parasitically present is instantaneously applied to the boosted output of the negative voltage booster circuit, and the excessive voltage is increased. It is possible to prevent a problem in which the boosted output voltage of the negative voltage booster circuit fluctuates due to the generation of current and the negative voltage booster circuit and the positive voltage booster circuit cannot be normally started.
11 負電圧昇圧回路
12 正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路
13 正電圧昇圧回路
16 カウンター回路
17 データ一致検出回路
20 デコーダー回路
CLK1、CLK2、CLK3、CLK4 負電圧昇圧回路のクロック
CLK5、CLK6、CLK7、CLK8 正電圧昇圧回路のクロック
CLK10 正電圧昇圧回路用基準電圧発生回路のクロック
RESET リセット信号
R1〜R(m) 抵抗
SW1〜SW(m) スイッチ回路
AMP1、AMP2 オペアンプ回路
11 Negative
Claims (9)
前記第一の昇圧回路の負電圧を入力し、前記接地電位から前記負電圧までの範囲において段階的に低くなる基準電圧を出力する基準電圧回路と、
前記基準電圧に基づいて、前記接地電位を基準に反転昇圧した正電圧を出力する第二の昇圧回路と、を備え、
前記基準電圧回路は、前記第二の昇圧回路が昇圧動作を開始してから、前記基準電圧を段階的に低くすることによって、前記第二の昇圧回路を確実に起動させる、
ことを特徴とする半導体集積回路装置。 A first booster circuit that inputs a power supply voltage and outputs a negative voltage lower than the ground potential;
A reference voltage circuit that inputs a negative voltage of the first booster circuit and outputs a reference voltage that gradually decreases in a range from the ground potential to the negative voltage;
A second booster circuit that outputs a positive voltage obtained by inverting and boosting with reference to the ground potential based on the reference voltage;
The reference voltage circuit reliably starts the second booster circuit by gradually decreasing the reference voltage after the second booster circuit starts the boosting operation.
The semiconductor integrated circuit device, characterized in that.
クロックをカウントしカウント値を出力するカウンタと、
複数の基準電圧を発生する基準電圧発生回路と、
前記カウント値に対応して前記複数の基準電圧から前記カウント値に対応する基準電圧
を選択する選択回路と、を有し、
前記選択回路で選択された基準電圧に基づく電圧を出力することを特徴とする請求項5に記載の半導体集積回路装置。 The reference voltage circuit is
A counter that counts the clock and outputs a count value;
A reference voltage generating circuit for generating a plurality of reference voltages;
A selection circuit that selects a reference voltage corresponding to the count value from the plurality of reference voltages corresponding to the count value;
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein a voltage based on a reference voltage selected by the selection circuit is output.
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