JP4872184B2 - ネマティック液晶表示素子の表示不良解決方法 - Google Patents
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A及びBはそれぞれ独立して、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、トランス-1,4-シクロヘキセニレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、3,3'-スピロビシクロブチレン基又はビシクロ[2.2.2]オクタン-1,4-ジイル基を表し、
Z1及びZ2はそれぞれ独立して単結合、炭素原子数2から12の直鎖状又は分岐状アルキレン基、−CH=CH−又は−C≡C−を表し、
nは1から3の整数を表し、B及びZ2が複数存在する場合は同一であっても異なっていても良い。)で表される化合物であることが好ましい。
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリジノン(NMP)、γ―ブチロラクトン(GBL)、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、アセトン等の極性溶媒とベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、2−メチルへキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、ドデカン、石油ベンジン、リグロイン、石油エーテル、ガソリン又はケロシン等の炭化水素系有機溶媒を混合した溶媒は、炭化水素系有機溶媒のみで使用するよりも引火性が低く好ましい。
スピンコートにより透明電極面に垂直配向膜を約100nmの厚さで塗布した。塗布した配向膜は80℃で5分焼成した後、さらに220℃で2時間焼成した。
非極性有機化合物として式(2)
作製した液晶表示素子1の印加電圧を変化させ、液晶表示素子1を直交ニコル下で観察した。作成した液晶表示素子1は表示不良が無く均一な配向を有していた。
(比較例1)
実施例2において非極性有機化合物を、式(14)
スピンコートにより透明電極面にTN用ポリイミド配向膜を塗布した。塗布した配向膜は80℃で5分焼成した後、さらに180℃で1時間焼成した(ガラス基板ATN、ガラス基板BTN)。
ガラス基板BTNを、表示不良防止剤1を用いて実施例1と同様で配向膜表面処理した(ガラス基板BTN1')。ガラス基板BTN1'に、下記に示すTN用ネマティック液晶組成物D
(比較例2)
焼き付き測定用液晶セルの注入口から、TFT液晶組成物Eを真空注入して焼き付き測定用液晶セル2を作製し、焼き付き測定を行った(autronic LCCS107; 駆動波形設定:電圧:2.06V、オフセット電圧:0.5V、周波数:30Hz、電圧印加時間:120分、透過セル設定項目:電圧:50V、電圧印加セル:1、測定温度70℃)。比較例2の表示素子は焼き付き値が0.972であり、実施例8の表示素子の0.992に較べて焼き付きによる表示不良を抑制する効果が劣ることが解る。
(比較例3)
保持率測定用液晶セルの注入口から、TFT液晶組成物Eを真空注入し、保持率測定用液晶セル2を作製し、保持率測定を行った(東陽テクニカ VHR-1A、80℃)。比較例3の表示素子の保持率は82.6%であり実施例9の90.1%に較べ悪化してしまった。さらに、比較例3の表示素子は保持率低下による表示不良が観察された。
作製した液晶表示素子1の印加電圧を変化させ、液晶表示素子20及び21を直交ニコル下で観察した。作成した液晶表示素子20及び21は表示不良が無く均一な配向を有していた。
Claims (18)
- 透明電極を有する一対の基板に液晶を狭持した構造を有し、対向する一対の基板の対向面の少なくとも一方に配向膜を有するネマチック液晶表示素子の製造において、該液晶を注入する前に該配向膜に有機溶媒に溶解させた一般式(I)
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して、炭素原子数1から18のアルキル基又は炭素原子数2から18のアルケニル基を表し、これらの置換基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、
A及びBはそれぞれ独立して、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキセニレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、3,3’-スピロビシクロブチレン基又はビシクロ[2.2.2]オクタン-1,4-ジイル基を表し、
Z1及びZ2はそれぞれ独立して単結合、炭素原子数2から12の直鎖状又は分岐状アルキレン基、−CH=CH−又は−C≡C−を表し、
nは1から3の整数を表し、B及びZ2が複数存在する場合は同一であっても異なっていても良い。)で表される化合物を塗布する工程を有することを特徴とする当該製造方法。 - 請求項1記載の配向膜に一般式(I)で表される化合物を有機溶媒に溶解した状態で付着させた後に該有機溶媒を除去することによるネマチック液晶表示素子の表示不良解決方法。
- 一般式(I)で表される化合物の分子量が180から500である請求項3記載の方法。
- 一般式(I)で表される化合物の20℃における比誘電率の絶対値が10以下の範囲である請求項1記載の方法。
- 一般式(I)においてnが1を表す請求項1〜4記載の方法。
- 一般式(I)で表される化合物の付着方法が、浸漬、スピンコート、噴霧、蒸着又は印刷である請求項1記載の方法。
- 浸漬、スピンコート又は噴霧において、一般式(I)で表される化合物の有機溶媒溶液を用いる請求項6記載の方法。
- 有機溶媒が炭化水素系有機溶媒である請求項7記載の方法。
- 有機溶媒溶液中の非極性有機化合物の濃度が10質量%以下である請求項8記載の方法。
- 配向膜が有機物、無機物又は有機物及び無機物の複合材である請求項1記載の方法。
- 配向膜による液晶分子の配向方向が、基板面に対し垂直方向である請求項1記載の方法。
- 配向膜による液晶分子の配向方向が、基板面に対し水平方向である請求項1記載の方法。
- ネマチック液晶表示素子の液晶材料注入方法が滴下工法である請求項1記載の方法。
- ネマチック液晶表示素子がTN方式、STN方式、IPS方式又はVA方式である請求項1記載の方法。
- 透明電極を有する一対の基板に液晶を狭持した構造を有し、対向する一対の基板の対向面の少なくとも一方に配向膜を有するネマチック液晶表示素子の製造において、該液晶を注入する前に該配向膜に有機溶媒に溶解させた一般式(I)
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して、炭素原子数1から18のアルキル基又は炭素原子数2から18のアルケニル基を表し、これらの置換基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、
A及びBはそれぞれ独立して、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキセニレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、3,3’-スピロビシクロブチレン基又はビシクロ[2.2.2]オクタン-1,4-ジイル基を表し、
Z1及びZ2はそれぞれ独立して単結合、炭素原子数2から12の直鎖状又は分岐状アルキレン基、−CH=CH−又は−C≡C−を表し、
nは1から3の整数を表し、B及びZ2が複数存在する場合は同一であっても異なっていても良い。)で表される化合物を塗布する工程を有する製造方法に使用する一般式(I)で表される化合物を有機溶媒に溶解させた溶液からなるネマティック液晶表示素子の表示不良防止剤。 - 一般式(I)で表される化合物の分子量が180から500である請求項15記載の表示不良防止剤。
- 有機溶媒溶液中の非極性有機化合物の20℃における比誘電率の絶対値が10以下の範囲である請求項15記載の表示不良防止剤。
- 有機溶媒溶液中の非極性有機化合物濃度が10質量%以下である請求項15記載の表示不良防止剤。
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