JP4878124B2 - Films and sheets formed from an antistatic acrylic resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、帯電防止性能を有するアクリル系樹脂組成物及び該アクリル系樹脂組成物より形成されるフィルム、シートに関するものである。 The present invention relates to an acrylic resin composition having antistatic performance, and a film and a sheet formed from the acrylic resin composition.
各種高分子材料は一般的に高い電気絶縁性を有するために帯電しやすく、ほこりの付着などの問題があることから、界面活性剤等の低分子量型の帯電防止剤が添加され、帯電によるほこりの付着を防止している。 Since various polymer materials generally have high electrical insulation properties and are easily charged and have problems such as dust adhesion, low molecular weight type antistatic agents such as surfactants are added, and dust caused by charging Prevents the adhesion of.
しかし、低分子量型の帯電防止剤は表面に滲出することによってその帯電防止効果を発揮しているが、そのために永続的に帯電防止性能が要求される用途や滲出する低分子量帯電防止剤による被接着体への汚染が嫌われる用途では、低分子型帯電防止剤を使用することはできない。 However, the low molecular weight type antistatic agent exerts its antistatic effect by leaching to the surface, but for that purpose, it is required to have a permanent antistatic performance, or the low molecular weight antistatic agent is covered by the leaching low molecular weight antistatic agent. In applications where contamination of the adhesive is disliked, the low molecular weight antistatic agent cannot be used.
このような低分子量型帯電防止剤による汚染が嫌われる用途して半導体製造プロセス用粘着テープなどが挙げられる。
一方、近年高性能半導体チップでは、消費電力の低減や高速動作が図られているが、そのために駆動電圧の低減や保護回路の省略などにより、静電気破壊を受けやすくなってきている。そのため、従来の各種イオナイザーなどの静電対策設備では十分な信頼性が得られにくくなってきており、粘着テープ自体への帯電防止性能が求められてきている。
As an application in which contamination by such a low molecular weight type antistatic agent is disliked, an adhesive tape for semiconductor manufacturing process and the like can be mentioned.
On the other hand, in recent years, high-performance semiconductor chips have been designed to reduce power consumption and to operate at high speed. However, due to the reduction in driving voltage and the omission of protection circuits, they are more susceptible to electrostatic breakdown. For this reason, it has become difficult to obtain sufficient reliability with conventional electrostatic countermeasure equipment such as various ionizers, and antistatic performance to the adhesive tape itself has been required.
半導体製造プロセス用の粘着テープとしては、ダイシング用粘着テープやバックグラインド用粘着テープなどがある。ダイシングテープとは、薄い円盤状に形成された半導体ウエハを小片のチップに切断分離する(これを「ダイシング」と称する。)際に、半導体ウエハを固定するために用いられるものである。バックグラインド用粘着テープとは、パターンを形成した半導体ウエハを研磨するバックグラインド工程において、パターン面を保護し、同時に研磨により薄肉化した半導体ウエハを保持するためものである。 Examples of adhesive tapes for semiconductor manufacturing processes include dicing adhesive tapes and back grind adhesive tapes. The dicing tape is used to fix a semiconductor wafer when the semiconductor wafer formed in a thin disk shape is cut and separated into small chips (this is referred to as “dicing”). The backgrinding adhesive tape is for protecting the pattern surface and holding the semiconductor wafer thinned by polishing in the backgrinding process for polishing the semiconductor wafer on which the pattern is formed.
ダイシング粘着テープ用基材フィルムやバックグラインド粘着テープ用基材フィルムのように被着体への汚染が問題となる半導体製造プロセス用フィルムや永続的な帯電防止機能を求められる用途においては、低分子型帯電防止剤の滲出による汚染や帯電防止性能の減衰が起こらないことが要求されている。 Low molecular weight in semiconductor manufacturing process films where permanent contamination is a problem, such as substrate films for dicing adhesive tapes and backgrind adhesive tapes, and applications that require permanent antistatic functions It is required that contamination due to leaching of the mold antistatic agent and attenuation of antistatic performance do not occur.
上記の要求を満足させる方法して、オレフィンなどの熱可塑性合成樹脂に高分子型帯電防止剤を添加する方法が採用され、高分子型帯電防止剤としてポリエーテルエステルアミドなどが使用されている(特許文献1および2を参照)。しかし、オレフィンなどの熱可塑性合成樹脂とポリエーテルエステルアミドとの相溶性が悪いために、酸変性ポリオレフィンを併用する方法が知られている。しかしこの方法では、ポリエーテルエステルアミドが配向しにくく、効果的に通電回路を形成することが出来ず少量の添加では十分な帯電防止効果が得られなかった。そのため、ポリエーテルエステルアミド等の高分子型帯電防止剤を多量に添加する必要があった。その結果、加工時のロール粘着などの成形加工性の悪化や仕上がったフィルム、シートの機械物性の低下などの問題を招いていた。 As a method of satisfying the above requirements, a method of adding a polymer antistatic agent to a thermoplastic synthetic resin such as olefin is adopted, and polyether ester amide or the like is used as the polymer antistatic agent ( (See Patent Documents 1 and 2). However, since the compatibility between the thermoplastic synthetic resin such as olefin and the polyether ester amide is poor, a method of using an acid-modified polyolefin in combination is known. However, in this method, the polyether ester amide is difficult to be oriented, so that an energization circuit cannot be formed effectively, and a sufficient antistatic effect cannot be obtained with a small amount of addition. Therefore, it is necessary to add a large amount of a polymer type antistatic agent such as polyether ester amide. As a result, problems such as deterioration of molding processability such as roll adhesion during processing and deterioration of mechanical properties of finished films and sheets have been caused.
特にカレンダー法にてフィルムおよびシートを成形する際には、カレンダーロールからの剥離性が成形加工上重要となるが、帯電防止効果が得られる程度の帯電防止剤を添加した組成物をカレンダー法にて成形加工するとカレンダーロール等に粘着し成形加工できないといった致命的な問題がある。 In particular, when molding films and sheets by the calendering method, the peelability from the calender roll is important for the molding process, but a composition to which an antistatic agent having an antistatic effect is obtained is added to the calendering method. If it is molded, there is a fatal problem that it cannot adhere to the calendar roll and cannot be molded.
また、ダイシング用粘着テープでは、チッピング性やエキスパンド性といった性能が要求されるために、多量の高分子量帯電防止剤を添加することでこれらの特性が低下するといった問題があり一般的には使用されていない。 In addition, since dicing adhesive tapes require performance such as chipping and expandability, there is a problem that these properties are reduced by adding a large amount of a high molecular weight antistatic agent, and it is generally used. Not.
ダイシングでは、回転するブレードと呼ばれる丸刃を高速回転させることによって、ウエハを所定のサイズに切断している。しかしこのようにウエハをダイシングした際に、振動や衝撃によってウエハの裏面にチッピング言われるクラックを生じる。近年、ウエハの薄膜化が進んでおり、チッピングは半導体チップの大きな強度低下を招き、その歩留まりを大きく低下させると言った問題が発生してきている。そのため、粘着テープの基材フィルムには、ダイシング時の振動や衝撃を吸収しチッピングを防止することが求められている。 In dicing, a wafer is cut into a predetermined size by rotating a round blade called a rotating blade at high speed. However, when the wafer is diced in this way, a crack called chipping occurs on the back surface of the wafer due to vibration or impact. In recent years, thinning of wafers has progressed, and chipping has caused a problem that the strength of semiconductor chips is greatly reduced and the yield is greatly reduced. Therefore, the base film of the adhesive tape is required to absorb chipping and vibration and impact during dicing.
さらに、ダイシングの後にエキスパンド工程があり、切断されたチップに貼着されている粘着テープを延伸することが行なわれ、チップ間の間隔を広げてチップのピックアップを容易にしている。従って、このエキスパンド工程において粘着テープが均一に延伸されないと、チップをピックアップする際のピックアップミスにつながり、半導体素子の製造における歩留まり率が低下する。そのため、粘着テープの基材フィルムには、均一に延伸することが求められている。 Further, there is an expanding step after dicing, and the adhesive tape attached to the cut chips is stretched to widen the distance between the chips to facilitate chip pickup. Therefore, if the pressure-sensitive adhesive tape is not uniformly stretched in this expanding step, it will lead to a pick-up mistake when picking up the chip, and the yield rate in the manufacture of semiconductor elements will be reduced. Therefore, the base film of the adhesive tape is required to be stretched uniformly.
このようにダイシング粘着テープには、チッピングを防止するための適度な振動および衝撃吸収性とエキスパンドするときの均一な延伸性が求められ、さらに半導体チップへの汚染の少ない高分子型帯電防止剤を使用した基材フィルムが求められている。 In this way, dicing adhesive tape is required to have moderate vibration and shock absorption to prevent chipping and uniform stretchability when expanding, and furthermore, a polymer type antistatic agent with little contamination to the semiconductor chip is required. There is a need for a substrate film used.
また、バックグラインド工程においては、シリコン、ガリウム、砒素などからなるウエハが元来脆いものであることに加えて、それが薄肉に研磨され、さらに片面にパターンを形成していることによる凹凸があることから、ウエハの研磨時に加えられる外力によって、ウエハが破損するという問題がしばしば発生する。 In addition, in the back grinding process, in addition to the fact that a wafer made of silicon, gallium, arsenic or the like is originally brittle, there is unevenness due to the fact that it is thinly polished and further has a pattern formed on one side. As a result, the problem that the wafer is damaged due to an external force applied during polishing of the wafer often occurs.
このようにバックグラインド用粘着テープには研磨時の振動及び衝撃吸収性と半導体チップへの汚染の少ない高分子型帯電防止剤を使用した基材フィルムが求められている。 Thus, there is a demand for a base film using a polymer-type antistatic agent with less vibration and shock absorption during polishing and less contamination of the semiconductor chip for the backgrind adhesive tape.
本発明は上述のような課題を解決しようとするものであって、帯電防止剤の滲出による被着体の汚染や帯電防止効果の減衰が少なく、物性や成形加工性の優れた帯電防止アクリル系樹脂組成物及びフィルム、シートを提供することを目的とする。 The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and is an antistatic acrylic type which is less contaminated on the adherend due to leaching of the antistatic agent and less attenuated in the antistatic effect, and has excellent physical properties and molding processability. It aims at providing a resin composition, a film, and a sheet | seat.
10〜60重量%のアクリル樹脂(a1)と90〜40重量%のアクリル系ゴム状粒子(a2)とからなるアクリル系ポリマー混合物(A)に高分子型帯電防止剤(B)を添加してなるとともに界面活性剤である帯電防止剤を添加しないことを特徴とする帯電防止性アクリル系樹脂組成物、また本発明のフィルムおよびシートが前記帯電防止性アクリル系樹脂組成物より形成されることを特徴とし、また、さらに本発明のダイシング用粘着テープの基材フィルムまたは本発明のバックグラインド用粘着テープの基材フィルムが前記帯電防止性アクリル系樹脂組成物より形成されることを特徴とする。
A polymer antistatic agent (B) is added to an acrylic polymer mixture (A) composed of 10 to 60% by weight of acrylic resin (a1) and 90 to 40% by weight of acrylic rubbery particles (a2). antistatic acrylic resin composition characterized in that it does not add an antistatic agent is a surfactant with made and that the films and sheets of the present invention is formed from the antistatic acrylic resin composition characterized, also, be characterized by further base film of back grinding adhesive tape for dicing adhesive tape of the substrate film or the invention of the present invention is formed from the antistatic acrylic resin composition The
本発明の帯電防止性アクリル樹脂組成物によれば、高分子型帯電防止剤の少量添加でも十分な帯電防止性能が得られ、低分子量型帯電防止剤のように滲出による経時での帯電防止性能の低下や、被着体への汚染も防止することができる。 According to the antistatic acrylic resin composition of the present invention, sufficient antistatic performance can be obtained even by adding a small amount of a high molecular weight antistatic agent, and antistatic performance over time due to leaching like a low molecular weight antistatic agent. Can be prevented and contamination of the adherend can also be prevented.
さらに、本発明のフィルムやシートは、上記帯電防止性アクリル樹脂組成物から形成されるため、物性、成形加工性に優れており、安価に生産することができる。
また、本発明のダイシング用粘着テープやバックグラインド用粘着テープ用の基材フィルムは、上記帯電防止アクリル樹脂組成物から形成されているため、十分な帯電防止性能、低汚染性を有する上に、振動及び衝撃吸収性、均一延伸性を併せ持つフィルムとなる。
Furthermore, since the film or sheet of the present invention is formed from the above antistatic acrylic resin composition, it has excellent physical properties and molding processability, and can be produced at low cost.
Moreover, since the base film for the adhesive tape for dicing and the adhesive tape for back grinding of the present invention is formed from the antistatic acrylic resin composition, it has sufficient antistatic performance and low contamination, The film has both vibration and shock absorption and uniform stretchability.
以下、本発明の好適実施の態様について詳細に説明する。
本発明で使用するアクリル樹脂(a1)とアクリル系ゴム状粒子(a2)の比率は、10〜80重量%のアクリル樹脂(a1)と90〜20重量%のアクリル系ゴム状粒子(a2)からなることが必要で、より少量の帯電防止剤の添加で帯電防止性能が得られるようにするには、10〜50重量%のアクリル樹脂(a1)と90〜50重量%のアクリル系ゴム状粒子(a2)であることがより好ましい。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
The ratio of the acrylic resin (a1) and acrylic rubber-like particles (a2) used in the present invention is from 10 to 80% by weight of acrylic resin (a1) and 90 to 20% by weight of acrylic rubber-like particles (a2). In order to obtain antistatic performance with the addition of a smaller amount of antistatic agent, 10 to 50% by weight of acrylic resin (a1) and 90 to 50% by weight of acrylic rubbery particles More preferably (a2).
アクリル系樹脂(a1)が80重量%より大きい場合、少量の添加で帯電防止効果が得られにくくなり、アクリル樹脂(a1)が10重量%未満の場合、成形加工性の低下や仕上ったフィルム、シートの剛性が不足することになる。 When the acrylic resin (a1) is larger than 80% by weight, it becomes difficult to obtain an antistatic effect by adding a small amount, and when the acrylic resin (a1) is less than 10% by weight, the molding processability is deteriorated or the finished film, The rigidity of the sheet will be insufficient.
アクリル系ポリマー混合物(A)と高分子型帯電防止剤(B)の比率は、特に限定されないが、帯電防止性アクリル系組成物100重量%中に高分子型帯電防止剤(B)が5重量%以上となるように添加すれば帯電防止性能が十分に得られ、25重量%以下であれば加工性および機械物性への影響も少ないために5重量%以上25重量%以下が好ましく、より好ましくは7重量%以上20重量%以下である。 The ratio of the acrylic polymer mixture (A) to the polymer antistatic agent (B) is not particularly limited, but the polymer antistatic agent (B) is 5% in 100% by weight of the antistatic acrylic composition. %, The antistatic performance is sufficiently obtained, and if it is 25% by weight or less, there is little influence on the workability and mechanical properties, so 5% by weight or more and 25% by weight or less are preferable, and more preferable. Is 7 wt% or more and 20 wt% or less.
本発明で用いられるアクリル系ポリマー混合物(A)中のアクリル樹脂(a1)は、特に限定されないがポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等が挙げられる。またアクリル系ゴム状粒子(a2)は、特に限定されないがアクリル酸エステルとこれと共重合可能な多官能性単量体および他の単官能性単量体からなる単量体混合物によって形成されるゴム弾性を有する層を含む樹脂組成物等が挙げられる。 The acrylic resin (a1) in the acrylic polymer mixture (A) used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include polymethyl methacrylate and methyl methacrylate-styrene copolymer. The acrylic rubber-like particles (a2) are not particularly limited, but are formed from a monomer mixture comprising an acrylic ester, a polyfunctional monomer copolymerizable therewith, and other monofunctional monomers. Examples thereof include a resin composition including a layer having rubber elasticity.
前記アクリル系ゴム状粒子(a2)を形成するアクリル酸エステルの具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート等のアクリル酸とC1〜C18の飽和脂肪族アルコールとのエステル; シクロヘキシルアクリレート等のアクリル酸とC5又はC6の脂環式アルコールとのエステル;フェニルアクリレート等のアクリル酸とフェノール類とのエステル;ベンジルアクリレート等のアクリル酸と芳香族アルコールとのエステルなどが挙げられる。 Specific examples of the acrylate ester forming the acrylic rubber-like particles (a2) include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, s-butyl acrylate, t- Esters of acrylic acid such as butyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, octadecyl acrylate and the like and a C1-C18 saturated aliphatic alcohol; acrylic acid such as cyclohexyl acrylate and C5 or C6 Esters with alicyclic alcohols; Esters with acrylic acids such as phenyl acrylate and phenols; Acrylic acids such as benzyl acrylate and aromatic acids Examples include esters with lecol.
前記アクリル系ゴム状粒子 (a2)を形成するために用いられる多官能性単量体は、分子内に炭素−炭素二重結合を2個以上有する単量体であり、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸等の不飽和モノカルボン酸とアリルアルコール、メタリルアルコール等の不飽和アルコールとのエステル;前記の不飽和モノカルボン酸とエチレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール等のグリコールとのジエステル;フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、マレイン酸等のジカルボン酸と前記の不飽和アルコールとのエステル等が包含され、具体的には、アクリル酸アリル、アクリル酸メタリル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸メタリル、桂皮酸アリル、桂皮酸メタリル、マレイン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの多官能性単量体の中でも、メタクリル酸アリルが特に好ましい。なお、前記の「ジ(メタ)アクリレート」は、「ジアクリレート」と「ジメタクリレート」との総称を意味する。 The polyfunctional monomer used to form the acrylic rubber-like particle (a2) is a monomer having two or more carbon-carbon double bonds in the molecule. For example, acrylic acid, methacrylic acid, Ester of unsaturated monocarboxylic acid such as acid and cinnamic acid and unsaturated alcohol such as allyl alcohol and methallyl alcohol; diester of unsaturated monocarboxylic acid and glycol such as ethylene glycol, butanediol and hexanediol; Examples include esters of dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, maleic acid and the above-mentioned unsaturated alcohols. Specifically, allyl acrylate, methallyl acrylate, allyl methacrylate, methallyl methacrylate, Allyl cinnamate, methallyl cinnamate, diallyl maleate, diallyl phthalate, di-terephthalate Examples include allyl, diallyl isophthalate, divinylbenzene, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, and hexanediol di (meth) acrylate. Of these polyfunctional monomers, allyl methacrylate is particularly preferred. The “di (meth) acrylate” means a generic name of “diacrylate” and “dimethacrylate”.
前記アクリル系ゴム状粒子(a2)を形成する、アクリル酸エステル及び多官能性単量体以外に、アクリル酸エステルと共重合可能な他の単官能性単量体を併用することができる。該他の単官能性単量体としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ペンチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、ミリスチルメタクリレート、パルミチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベヘニルメタクリレート等のメタクリル酸とC1〜C22の飽和脂肪族アルコールとのエステル;シクロヘキシルメタクリレート等のメタクリル酸とC5又はC6の脂環式アルコールとのエステル;フェニルメタクリレート等のメタクリル酸とフェノール類とのエステル、ベンジルメタクリレート等のメタクリル酸と芳香族アルコールとのエステルなどのメタクリル酸エステルが代表的であるが、他にも、スチレン、α−メチルスチレン、1−ビニルナフタレン、3−メチルスチレン、4−プロピルスチレン、4−シクロヘキシルスチレン、4−ドデシルスチレン、2−エチル−4−ベンジルスチレン、4−(フェニルブチル)スチレン、ハロゲン化スチレン等の芳香族ビニル系単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体;ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチルブタジエン、2−メチル−3−エチルブタジエン、1,3−ペンタジエン、3−メチル−1,3−ペンタジエン、2−エチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン、2−メチル−1,3−ヘキサジエン、3,4−ジメチル−1,3−ヘキサジエン、1,3−ヘプタジエン、3−メチル−1,3−ヘプタジエン、1,3−オクタジエン、シクロペンタジエン、クロロプレン、ミルセン等の共役ジエン系単量体等が挙げられる。 In addition to the acrylic ester and polyfunctional monomer that form the acrylic rubber-like particles (a2), other monofunctional monomers copolymerizable with the acrylic ester can be used in combination. Examples of the other monofunctional monomers include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, pentyl methacrylate, hexyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, and dodecyl methacrylate. , Esters of methacrylic acid such as myristyl methacrylate, palmityl methacrylate, stearyl methacrylate, and behenyl methacrylate with C1-C22 saturated aliphatic alcohols; esters of methacrylic acid such as cyclohexyl methacrylate with C5 or C6 alicyclic alcohols; phenyl Esters of methacrylic acid such as methacrylate and phenols, such as benzyl methacrylate Typical examples include methacrylic acid esters such as esters of phosphoric acid and aromatic alcohol, but also styrene, α-methylstyrene, 1-vinylnaphthalene, 3-methylstyrene, 4-propylstyrene, 4-cyclohexyl. Aromatic vinyl monomers such as styrene, 4-dodecylstyrene, 2-ethyl-4-benzylstyrene, 4- (phenylbutyl) styrene, and halogenated styrene; vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile Body; butadiene, isoprene, 2,3-dimethylbutadiene, 2-methyl-3-ethylbutadiene, 1,3-pentadiene, 3-methyl-1,3-pentadiene, 2-ethyl-1,3-pentadiene, 1, 3-hexadiene, 2-methyl-1,3-hexadiene, 3,4-dimethyl-1,3-hex Examples thereof include conjugated diene monomers such as sadiene, 1,3-heptadiene, 3-methyl-1,3-heptadiene, 1,3-octadiene, cyclopentadiene, chloroprene, and myrcene.
本発明におけるアクリル系ポリマー混合物(A)のアクリル系ゴム状粒子(a2)の平均粒子径は特には限定されないが、透明性やフィルムの製造時の成形加工性の点から150nm以下が好ましく、さらに好ましくは80nm〜120nmの範囲である。 The average particle diameter of the acrylic rubber-like particles (a2) of the acrylic polymer mixture (A) in the present invention is not particularly limited, but is preferably 150 nm or less from the viewpoint of transparency and moldability during film production. Preferably it is the range of 80 nm-120 nm.
本発明で使用される高分子型帯電防止剤(B)としては、特に限定されないが、少量添加で帯電防止性能を得るという点では、親水性ブロックと疎水性ブロックからなるブロック共重合体が好ましい。 The polymer-type antistatic agent (B) used in the present invention is not particularly limited, but a block copolymer comprising a hydrophilic block and a hydrophobic block is preferable in that antistatic performance can be obtained by adding a small amount. .
親水性ブロックと疎水性ブロックからなるブロック共重合体は、親水性ブロックと疎水性ブロックがエステル結合、イミド結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合などの結合を介して繰り返し交互に結合したものであり、疎水性ブロックとしては、ポリオレフィンなどが挙げられ、親水性ブロックとしては、ポリエーテル、ポリエーテル含有親水性ポリマー、カチオン性ポリマーおよびアニオン性ポリマーなどが挙げられる。 A block copolymer consisting of a hydrophilic block and a hydrophobic block is a block copolymer in which a hydrophilic block and a hydrophobic block are alternately and repeatedly bonded through bonds such as ester bonds, imide bonds, amide bonds, ether bonds, and urethane bonds. Yes, examples of the hydrophobic block include polyolefin, and examples of the hydrophilic block include polyether, polyether-containing hydrophilic polymer, cationic polymer, and anionic polymer.
前記ポリエーテルとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルジアミン、およびこれらの変性物が使用できる。前記ポリエーテル含有親水ポリマーとしては、ポリエーテルセグメント形成成分としてポリエーテルジオールのセグメントを有するポリエーテルエステルアミド、同じくポリエーテルジオールのセグメントを有するポリエーテルアミドイミド、同じくポリエーテルジオールのセグメントを有するポリエーテルエステル、同じくポリエーテルジアミンのセグメントを有するポリエーテルアミド、同じくポリエーテルジオールまたはポリエーテルジアミンのセグメントを有するポリエーテルウレタンが使用できる。前記カチオン性ポリマーとして、カチオン性基を分子内に有するカチオン性ポリマーが使用できる。前記カチオン性基としては、4級アンモニウム塩およびホスホニウム塩を有する基が挙げられる。前記アニオン性ポリマーとしては、スルホン酸基を有するジカルボン酸とジオールまたはポリエーテルとを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個のスルホン酸基を有するアニオン性ポリマーなどが使用できる。 As the polyether, polyether diol, polyether diamine, and modified products thereof can be used. The polyether-containing hydrophilic polymer includes a polyether ester amide having a polyether diol segment as a polyether segment forming component, a polyether amide imide having a polyether diol segment, and a polyether having a polyether diol segment. Ester, polyether amides having the same polyether diamine segment, and polyether urethanes having the same polyether diol or polyether diamine segment can be used. As the cationic polymer, a cationic polymer having a cationic group in the molecule can be used. Examples of the cationic group include groups having a quaternary ammonium salt and a phosphonium salt. As the anionic polymer, an anionic polymer having a dicarboxylic acid having a sulfonic acid group and a diol or polyether as essential constituent units and having 2 to 80 sulfonic acid groups in the molecule can be used.
更に、本発明の帯電防止性アクリル系樹脂組成物には、目的を損なわない範囲で、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ヒンダードアミン系などの従来公知の紫外線吸収剤、シリカ、クレー、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ガラスビーズ、タルクなどの充填剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤などを適宜配合することができる。 Furthermore, in the antistatic acrylic resin composition of the present invention, conventionally known ultraviolet absorbers such as benzophenone, benzoate, benzotriazole, cyanoacrylate, hindered amine, silica, Fillers such as clay, calcium carbonate, barium sulfate, glass beads, and talc, flame retardants, antibacterial agents, fungicides, and the like can be appropriately blended.
また、本発明の帯電防止性アクリル系樹脂組成物はフィルムやシートのなどの形で使用できる。本発明のアクリル系ポリマー混合物のアクリル樹脂(a1)とアクリル系ゴム粒子(a2)の比率を変えることで様々な硬さに対応することが可能である。さらに、帯電防止性アクリル系樹脂組成物は透明性を有しているために、透明性を要求される用途にも好適に使用できる。 The antistatic acrylic resin composition of the present invention can be used in the form of a film or a sheet. It is possible to cope with various hardnesses by changing the ratio of the acrylic resin (a1) and the acrylic rubber particles (a2) of the acrylic polymer mixture of the present invention. Furthermore, since the antistatic acrylic resin composition has transparency, it can be suitably used for applications requiring transparency.
本発明の帯電防止性アクリル系樹脂組成物より形成されるフィルムやシートは、マスキングテープやマーキングフィルムなどの産業用途、ダイシング用粘着テープ、バックグラインド用粘着テープなど半導体製造用途、保護フィルムなどの基材フィルムやシートに広く使用することができ、衝撃及び振動吸収性、均一延伸性を有し、低分子量化合物による汚染の少ない高分子型帯電防止剤を少量添加することで十分な帯電防止効果が得られるため、半導体製造用途に好適に使用できる。 Films and sheets formed from the antistatic acrylic resin composition of the present invention are based on industrial applications such as masking tapes and marking films, semiconductor manufacturing applications such as dicing adhesive tapes and backgrinding adhesive tapes, and protective films. It can be widely used for material films and sheets, and has a sufficient antistatic effect by adding a small amount of a polymeric antistatic agent that has impact and vibration absorption, uniform stretchability, and is less contaminated by low molecular weight compounds. Since it is obtained, it can be suitably used for semiconductor manufacturing applications.
ここで、ダイシング用粘着テープの基材フィルムとしては、アクリル系ポリマー混合物については、アクリル樹脂(a1)10〜40重量%とアクリル系ゴム状粒子(a2)90〜60重量%とすることが好ましく、加えて、tanδの10℃以上40℃以下での値を0.1以上にすることが好ましい。上記の範囲を選定することにより、より効率的に振動を吸収することができ、かつフィルムの引張試験における応力−ひずみ曲線での任意の点においてその傾きが負ならならず、より均一に延伸することができるようになる。 Here, as the base film of the adhesive tape for dicing, the acrylic polymer mixture is preferably 10 to 40% by weight of acrylic resin (a1) and 90 to 60% by weight of acrylic rubbery particles (a2). In addition, the value of tan δ at 10 ° C. or more and 40 ° C. or less is preferably set to 0.1 or more. By selecting the above range, vibration can be absorbed more efficiently, and the slope does not become negative at any point on the stress-strain curve in the tensile test of the film, and the film is stretched more uniformly. Will be able to.
バックグラインド用粘着テープの基材フィルムとしては、アクリル樹脂(a1)10〜60重量%とアクリル系ゴム状粒子(a2)90〜40重量%とすることが好ましく、加わえて、衝撃や振動吸収の指標として使用されるtanδの10℃以上40℃以下での値を0.1以上にすることが好ましい。上記の範囲を選定することにより、効果的に振動及び衝撃を吸収することができるようになる。 The base film of the adhesive tape for back grinding is preferably 10 to 60% by weight of acrylic resin (a1) and 90 to 40% by weight of acrylic rubber-like particles (a2). The value of tan δ used as an index at 10 ° C. or more and 40 ° C. or less is preferably 0.1 or more. By selecting the above range, vibration and impact can be effectively absorbed.
上記tanδは、固体動的粘弾性測定装置により周波数10Hz、昇温速度4℃/minで貯蔵弾性率(E‘)と損失弾性率(E“)の温度依存性を測定し、式tanδ=E”/E’で規定される。tanδは材料に力が加えられた時に材料がどのくらいエネルギーを吸収するかを示しており、tanδの値が大きいほどエネルギーをより吸収し、衝撃に対する反発が小さくなる。 The above tan δ measures the temperature dependence of the storage elastic modulus (E ′) and the loss elastic modulus (E ″) at a frequency of 10 Hz and a heating rate of 4 ° C./min using a solid dynamic viscoelasticity measuring device. ”/ E ′. tan δ indicates how much energy the material absorbs when a force is applied to the material, and the larger the value of tan δ, the more energy is absorbed and the repulsion against impact becomes smaller.
上記基材フィルムの引張試験における応力−ひずみ曲線は、基材フィルムを幅19mm長さ150mmに打ち抜いて試験片とし、チャック間50mm、引張速度200mm/minで試験を行うことで作成できる。 The stress-strain curve in the tensile test of the base film can be created by punching the base film to a width of 19 mm and a length of 150 mm to obtain a test piece, and performing the test at a chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 200 mm / min.
また本発明の帯電防止性アクリル系樹脂組成物より形成されるフィルムやシートは、単層および多層で使用することができる。単層で要求特性が満足されれば、単層で使用することで製造コストを抑えられ好ましい。単層では要求性能を満足できない時は、多層で使用することも出来る。具体的には帯電防止性アクリル系樹脂組成物からなる層と合成樹脂組成物からなる層との2層構造や、帯電防止性アクリル系樹脂組成物からなる層の上下に、1種類以上の合成樹脂組成物からなる層を積層してなる3層構造や帯電防止性アクリル系樹脂組成物からなる層に異なる2種類の合成樹脂組成物からなら層を積層する3層構造でも使用できる。さらに、これらの3層構造にさらに積層し4層以上の層構造を持つようにしてもよい。 Moreover, the film and sheet | seat formed from the antistatic acrylic resin composition of this invention can be used by a single layer and a multilayer. If the required characteristics are satisfied with a single layer, the use of a single layer is preferable because the manufacturing cost can be reduced. When the required performance cannot be satisfied with a single layer, it can be used with multiple layers. Specifically, two or more layers of a layer made of an antistatic acrylic resin composition and a layer made of a synthetic resin composition, or one or more types of synthesis above and below a layer made of an antistatic acrylic resin composition A three-layer structure in which layers composed of a resin composition are laminated, or a three-layer structure in which layers are laminated from two different synthetic resin compositions on a layer composed of an antistatic acrylic resin composition can also be used. Further, these three-layer structures may be further laminated to have a layer structure of four or more layers.
ここで使用する上記合成樹脂組成物は特には限定されないが、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ABS、MBS、ポリウレタン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、天然ゴム、合成ゴムなどが挙げられる。 The synthetic resin composition used here is not particularly limited, and examples thereof include olefin resins, styrene resins, acrylic resins, ABS, MBS, polyurethane, polyester, polyimide, polyamide, natural rubber, and synthetic rubber.
また本発明の帯電防止性アクリル系樹脂組成物からなるフィルムやシートの成形は、特に限定されないが、押出成形法、カレンダー成形法、インフレーション成形法などの方法が利用できる。 The molding of the film or sheet comprising the antistatic acrylic resin composition of the present invention is not particularly limited, but methods such as an extrusion molding method, a calendar molding method, and an inflation molding method can be used.
多層化フィルムやシートを製造する場合、成形法としては多層のTダイ押出法が利用される。しかし、単層のフィルムやシートで、要求性能が満足できれば、一般的なTダイ押出成形法やカレンダー成形法が適用でき、その中でも、カレンダー成形で生産することができれば、高速生産のメリットを生かし、コスト面でさらに優位となる。カレンダー成形は、溶融樹脂を加熱した金属ロール(カレンダーロール)で圧延することによって所望の厚さのシートやフィルムを作製する成形方法であり、押出成形におけるダイス近傍で発生するトラブルがなく、成形されるフィルムやシートの厚み精度が良好で品質的に優れたものが比較的容易に作製できる。加えて、成形速度が速く生産性に優れているので、同じ規格の製品を多量に生産するのに適した成形法である。 When a multilayer film or sheet is produced, a multilayer T-die extrusion method is used as a molding method. However, if the required performance is satisfied with a single-layer film or sheet, general T-die extrusion molding or calendering can be applied. Among them, if production can be performed by calendering, the advantages of high-speed production can be utilized. , It becomes more advantageous in terms of cost. Calender molding is a molding method in which a molten resin is rolled with a heated metal roll (calendar roll) to produce a sheet or film of a desired thickness. Films and sheets having good thickness accuracy and excellent quality can be produced relatively easily. In addition, since the molding speed is fast and the productivity is excellent, it is a molding method suitable for producing a large amount of products of the same standard.
また、特にカレンダー成形法でフィルムやシートを作製する場合、酸化防止剤や金属ロールから溶融樹脂が剥離するための離型剤(滑剤)等の添加剤を樹脂に配合すること好ましい。添加する滑剤として特に限定されないが、金属石鹸系化合物、アミド系化合物、エチレンビスアマイド系化合物、ポリエチレンワックスなどが使用できる。好適には、より剥離性が優れるという観点から、例えば、ベヘン酸やモンタン酸などの炭素数が21以上の脂肪酸、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミドなどのアミド系化合物、エチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスオレイン酸アマイド、エチレンビスエルカ酸アマイドなどのエチレンビスアマイド系化合物、モンタン酸とエチレングリコールのジエステル、高分子複合エステルなどのエステル系化合物、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウムなどの金属石鹸、ポリエチレンワックスなどが挙げられる。 In particular, when a film or sheet is produced by a calendar molding method, it is preferable to add an additive such as an antioxidant or a release agent (lubricant) for peeling the molten resin from the metal roll to the resin. Although it does not specifically limit as a lubricant to add, A metal soap type compound, an amide type compound, an ethylenebisamide type compound, a polyethylene wax, etc. can be used. Preferably, from the viewpoint of more excellent releasability, for example, fatty acids having 21 or more carbon atoms such as behenic acid and montanic acid, amide compounds such as stearic acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, ethylene bisstearin Ethylene bisamide compounds such as acid amide, ethylene bisoleic acid amide, ethylene biserucic acid amide, diesters of montanic acid and ethylene glycol, ester compounds such as polymer composite esters, zinc stearate, zinc behenate, behenic acid Examples thereof include metal soaps such as magnesium and polyethylene waxes.
一方、基材フィルムがウエハダイシング用粘着テープおよびバックグラインド用粘着テープなどの用途に使用される場合には、配合できる添加剤の種類や量が限定される。具体的には、リンを含む化合物や金属および金属イオンが遊離する物質は、それらが基材フィルムから移行してウエハ表面を汚染することが懸念されるので、基本的には配合しないことが望ましく、添加する場合にはある抽出条件で抽出される量に限定される。好適な滑剤としては、高温の金属ロールから剥離できるという点を考慮すると、例えば、ベヘン酸やモンタン酸などの炭素数が21以上の脂肪酸、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミドなどのアミド系化合物、エチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスオレイン酸アマイド、エチレンビスエルカ酸アマイドなどのエチレンビスアマイド系化合物、モンタン酸とエチレングリコールのジエステル、高分子複合エステルなどのエステル系化合物、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウムなどの金属石鹸、ポリエチレンワックスなどが挙げられる。また、好適な酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、チオエーテル系化合物、アミン系化合物、ラクトン系化合物などが挙げられる。 On the other hand, when the base film is used for applications such as an adhesive tape for wafer dicing and an adhesive tape for back grinding, the types and amounts of additives that can be blended are limited. Specifically, phosphorus-containing compounds and substances from which metals and metal ions are liberated are not recommended because they are likely to migrate from the base film and contaminate the wafer surface. When added, it is limited to the amount extracted under certain extraction conditions. Suitable lubricants include, for example, fatty acids having 21 or more carbon atoms such as behenic acid and montanic acid, stearic acid amides, oleic acid amides, erucic acid amides and other amides in view of the fact that they can be peeled off from a high-temperature metal roll. Compounds, ethylene bis stearic acid amide, ethylene bis oleic acid amide, ethylene bis amide acid compounds such as ethylene bis erucic acid amide, diesters of montanic acid and ethylene glycol, ester compounds such as polymer composite esters, zinc stearate, Examples thereof include metal soaps such as zinc behenate and magnesium behenate, and polyethylene wax. Examples of suitable antioxidants include hindered phenol compounds, thioether compounds, amine compounds, and lactone compounds.
また、フィルムやシートを押出成形法により作製する場合、カレンダー成形法に比べて、高温の溶融樹脂が外気に触れることが少なく、しかも溶融樹脂が高温の金属ロールと接触することもないことから、一般には、樹脂ペレットに既に添加されている以上に酸化防止剤を添加することはなく、滑剤を添加することもない。従って、フィルム、シート加工の面ではカレンダー成形法より容易であるが、生産速度がカレンダー成形法に比べて遅くなる。 In addition, when producing a film or sheet by an extrusion molding method, compared to the calendar molding method, the high temperature molten resin is less likely to come into contact with the outside air, and the molten resin does not come into contact with the high temperature metal roll. In general, an antioxidant is not added more than that already added to the resin pellet, and no lubricant is added. Therefore, although it is easier than the calendar molding method in terms of film and sheet processing, the production speed is slower than that of the calendar molding method.
フィルムやシートをカレンダー成形法または押出成形法のいずれで作製する場合でもその厚さについては特に限定されないが、用途に応じた厚みを適時選択すればよいが、20μm〜2000μmの厚さが好適である。20μm未満や2000μmより厚くなると加工が困難となるため好ましくない。
ダイシング用粘着テープの基材フィルムやバックグラインド用粘着テープの基材フィルムでは、70μm〜500μmの厚さが好適である。厚さが70μmより薄いと、剛性がなく当該基材フィルムに粘着剤を塗布する際やウエハに貼着する際の作業性に劣る。かといって、500μmより厚くすると透明性が低下してダイシング状態の視認性が悪くなるだけでなく、材料コストがアップしてしまう。
When the film or sheet is produced by either the calendar molding method or the extrusion molding method, the thickness is not particularly limited, but a thickness according to the use may be selected as appropriate, but a thickness of 20 μm to 2000 μm is suitable. is there. If it is less than 20 μm or thicker than 2000 μm, processing becomes difficult, which is not preferable.
In the base film of the pressure-sensitive adhesive tape for dicing and the base film of the pressure-sensitive adhesive tape for back grinding, a thickness of 70 μm to 500 μm is suitable. When the thickness is less than 70 μm, there is no rigidity, and workability when applying an adhesive to the base film or sticking to a wafer is inferior. However, if it is thicker than 500 μm, the transparency is lowered and the visibility of the dicing state is deteriorated, and the material cost is increased.
また、本発明のフィルムやシートを作製する際には、樹脂ペレットおよび添加剤を単純に混ぜ合わせたものを材料として用いてもよく、予め混練機で溶融混練したものでもよい。更に、添加剤を樹脂に高濃度で配合した通常、マスターバッチと称される材料を前もって調整し、これらを単純に混合するか、または樹脂ペレットとマスターバッチを溶融混練したものを用いてもよい。ここで使用される混練機としては公知の装置が使用できるが、取り扱いが容易で均一な分散が可能であるロール、1軸または2軸押出機、ニーダー、コニーダー、プラネタリーミキサー、バンバリーミキサーなどが好ましく用いられる。 Moreover, when producing the film or sheet of the present invention, a simple mixture of resin pellets and additives may be used as a material, or a material previously melt-kneaded by a kneader. Furthermore, the additive is blended with the resin at a high concentration. Usually, a material called a master batch is prepared in advance, and these may be simply mixed, or a resin pellet and a master batch may be melt-kneaded. . As a kneading machine used here, a known apparatus can be used, but a roll that can be easily handled and uniformly dispersed, a single or twin screw extruder, a kneader, a kneader, a planetary mixer, a Banbury mixer, etc. Preferably used.
次に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Next, the present invention will be described in more detail with specific examples, but the present invention is not limited to these examples.
<実施例1>
アクリル系ポリマー混合物(A)として、アクリル系樹脂(a1)20重量%とアクリル系ゴム粒子(a2)80重量%であるパラペットSA−FW001(クラレ社製)(以下、これを[A1]と記す。)を64重量部と、アクリル系樹脂(a1)50重量%とアクリル系ゴム粒子(a2)50重量%であるパラペットGR−F(クラレ社製)(以下、これを[A2]と記す。)16重量部と、高分子型帯電防止剤としてペレスタット300(三洋化成工業社製)(以下これを[B1]と記す)を20重量部とに、酸化防止剤AO−60(旭電化社製)0.1重量部および滑剤としてモンタン酸エステルであるリコワックスE(クラリアントジャパン社製)0.3重量部をドライブレンドした後に、バンバリーミキサーで混練し180℃に設定したカレンダー成形機にて厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に記す。
表1から明らかなように、実施例1は、帯電防止性能、成形性、引張試験による評価、tanδによる評価が共に優れており、マスキングテープ、マーキングフィルムなどの産業用途、ダイシング用粘着テープ、バックグラインド用粘着テープなど半導体製造用途、保護フィルムなどの基材フィルム、シートに使用することができる。
<Example 1>
As the acrylic polymer mixture (A), Parapet SA-FW001 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) comprising 20% by weight of acrylic resin (a1) and 80% by weight of acrylic rubber particles (a2) (hereinafter referred to as [A1]) .) Is 64 parts by weight, 50% by weight of acrylic resin (a1) and 50% by weight of acrylic rubber particles (a2) Parapet GR-F (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) (hereinafter referred to as [A2]. ) 16 parts by weight, 20 parts by weight of Pelestat 300 (manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) (hereinafter referred to as [B1]) as a polymer type antistatic agent, and antioxidant AO-60 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) ) 0.1 parts by weight and 0.3 parts by weight of lycowax E (manufactured by Clariant Japan), which is a montanic acid ester as a lubricant, were dry blended and then kneaded with a Banbury mixer and set at 180 ° C. To obtain a film having a thickness of 100μm at Nda molding machine. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, Example 1 has excellent antistatic performance, moldability, evaluation by tensile test, and evaluation by tan δ, and industrial uses such as masking tape and marking film, adhesive tape for dicing, back It can be used for semiconductor manufacturing applications such as grinding adhesive tapes, base films such as protective films, and sheets.
<実施例2>
アクリル系ポリマー混合物(A)として、 [A1]72重量部と[A2]18重量部にし、高分子型帯電防止剤としてペレスタット303(三洋化成工業社製)(以下これを[B2]と記す。)を10重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に記す。
表1から明らかなように、実施例2も、帯電防止性能、成形性、引張試験による評価、tanδによる評価が共に優れており、マスキングテープ、マーキングフィルムなどの産業用途、ダイシング用粘着テープ、バックグラインド用粘着テープなど半導体製造用途、保護フィルムなどの基材フィルム、シートに使用することができる。
<Example 2>
As an acrylic polymer mixture (A), [A1] is 72 parts by weight and [A2] is 18 parts by weight. As a polymer-type antistatic agent, Pelestat 303 (manufactured by Sanyo Chemical Industries) (hereinafter referred to as [B2]). ) Was 10 parts by weight, and a film having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Example 1. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, Example 2 also has excellent antistatic performance, moldability, evaluation by tensile test, and evaluation by tan δ. Industrial applications such as masking tape and marking film, adhesive tape for dicing, back It can be used for semiconductor manufacturing applications such as grinding adhesive tapes, base films such as protective films, and sheets.
<実施例3>
アクリル系ポリマー混合物(A)として、 [A1]89.5重量部とアクリル系樹脂100重量%のGF(クラレ社製)(以下、これを[A3]と記す。)9.5重量部にし、高分子型帯電防止剤としてペレスタット230(三洋化成工業社製)(以下これを[B3]と記す。)を5重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に記す。
表1から明らかなように、実施例3も、帯電防止性能、成形性、引張試験による評価、tanδによる評価が共に優れており、マスキングテープ、マーキングフィルムなどの産業用途、ダイシング用粘着テープ、バックグラインド用粘着テープなど半導体製造用途、保護フィルムなどの基材フィルム、シートに使用することができる。
<Example 3>
As the acrylic polymer mixture (A), [A1] 89.5 parts by weight and acrylic resin 100% by weight GF (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) (hereinafter referred to as [A3]) 9.5 parts by weight, A film having a thickness of 100 μm was formed in the same manner as in Example 1 except that 5 parts by weight of perestat 230 (manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) (hereinafter referred to as [B3]) was used as the polymer antistatic agent. Obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, Example 3 also has excellent antistatic performance, moldability, evaluation by tensile test, and evaluation by tan δ, and industrial applications such as masking tape and marking film, adhesive tape for dicing, back It can be used for semiconductor manufacturing applications such as grinding adhesive tapes, base films such as protective films, and sheets.
<実施例4>
アクリル系ポリマー混合物(A)として、 [A1]72重量部と[A3]18重量部にし、高分子型帯電防止剤として[B1]10重量部とすること以外は実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に記す。
表1から明らかなように、実施例4は、引張試験による評価の点で劣り、半導体製造用途のダイシング用粘着テープには不向きであるが、他の評価項目の帯電防止性能、成形性、tanδによる評価は優れており、マスキングテープ、マーキングフィルムなどの産業用途、バックグラインド用粘着テープなど半導体製造用途、保護フィルムなどの基材フィルム、シートに使用することができる。
<Example 4>
The thickness of the acrylic polymer mixture (A) was the same as in Example 1, except that [A1] was 72 parts by weight and [A3] was 18 parts by weight, and the polymer type antistatic agent was [B1] 10 parts by weight. A film having a thickness of 100 μm was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, Example 4 is inferior in terms of evaluation by a tensile test and unsuitable for a dicing adhesive tape for use in semiconductor manufacturing, but antistatic performance, moldability, and tan δ of other evaluation items. Is excellent, and can be used for industrial applications such as masking tapes and marking films, semiconductor manufacturing applications such as pressure-sensitive adhesive tapes for backgrinding, substrate films such as protective films, and sheets.
<実施例5>
アクリル系ポリマー混合物(A)として、 [A1]36重量部と[A3]54重量部にし、高分子型帯電防止剤として[B1]10重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に記す。
表1から明らかなように、実施例5は、引張試験による評価、tanδによる評価の点で劣り、半導体製造用途のダイシング用粘着テープ、バックグラインド用粘着テープには不向きであるが、他の評価項目の帯電防止性能、成形性は優れており、マスキングテープ、マーキングフィルムなどの産業用途、保護フィルムなどの基材フィルム、シートに使用することができる。
<Example 5>
As in Example 1, except that the acrylic polymer mixture (A) is [A1] 36 parts by weight and [A3] 54 parts by weight and the polymer antistatic agent is [B1] 10 parts by weight. A film having a thickness of 100 μm was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, Example 5 is inferior in terms of evaluation by a tensile test and evaluation by tan δ, and is not suitable for a dicing adhesive tape or a back grind adhesive tape for use in semiconductor manufacturing. The antistatic performance and formability of the items are excellent, and it can be used for industrial films such as masking tapes and marking films, and base films and sheets such as protective films.
各評価項目の良否に関する判定は下記の基準に従った。
[帯電防止性能の評価]
フィルム、シートを100mm角にカットして、温度20℃で63%RHの恒温室にて、超高抵抗計(アドバンテスト社製 R8340A)を用いて、表面固有抵抗値の測定を行い以下の基準にて評価した。
評価基準
◎:表面固有抵抗値が1010Ω未満
○:表面固有抵抗値が1011以上〜1014Ω未満
×:表面固有抵抗値が1014Ω以上
[成形性の評価]
カレンダーロールでの加工において、ロールへの粘着性を以下の基準にて評価した。
評価基準
○:容易に剥離できる。
×:ロールに粘着し剥離できない。
[引張試験による評価]
フィルム、シートを幅19mm、長さ150mmの試験片を作成し、引張速度200mm/minで試験を行い、得られた応力−ひずみ曲線から任意の点における傾きについて評価した。
評価基準
○:応力−ひずみ曲線おいて、任意の点における傾きが負にならない。
×:応力−ひずみ曲線おいて、その傾きが負になる点がある。
[tanδによる評価]
tanδは、固体動的粘弾性測定装置により周波数10Hz、昇温速度4℃/minで貯蔵弾性率(E‘)と損失弾性率(E“)の温度依存性を測定し、式tanδ=E“/E‘で規定される。10℃以上40℃以下のtanδについて以下の基準にて評価した。
評価基準
◎:10℃以上40℃以下の範囲のtanδが0.2以上
○:10℃以上40℃以下の範囲のtanδが0.1以上
×:10℃以上40℃以下の範囲のtanδが0.1未満
Judgment on the quality of each evaluation item was in accordance with the following criteria.
[Evaluation of antistatic performance]
Cut the film and sheet into 100mm squares, measure the surface resistivity using a super high resistance meter (Advantest R8340A) at a constant temperature of 63% RH at a temperature of 20 ° C. And evaluated.
Evaluation criteria A: Surface specific resistance value is less than 10 10 Ω ○: Surface specific resistance value is 10 11 or more and less than 10 14 Ω ×: Surface specific resistance value is 10 14 Ω or more
[Evaluation of formability]
In processing with a calendar roll, the adhesiveness to the roll was evaluated according to the following criteria.
Evaluation criteria ○: Easy peeling.
X: Adhered to the roll and cannot be peeled off.
[Evaluation by tensile test]
A test piece having a width of 19 mm and a length of 150 mm was prepared for the film and sheet, the test was performed at a tensile speed of 200 mm / min, and the inclination at an arbitrary point was evaluated from the obtained stress-strain curve.
Evaluation criteria ○: In the stress-strain curve, the slope at an arbitrary point does not become negative.
X: In the stress-strain curve, there is a point where the slope becomes negative.
[Evaluation by tan δ]
tan δ measures the temperature dependence of the storage elastic modulus (E ′) and loss elastic modulus (E “) at a frequency of 10 Hz and a heating rate of 4 ° C./min using a solid dynamic viscoelasticity measuring device, and the equation tan δ = E“ / E '. The tan δ from 10 ° C. to 40 ° C. was evaluated according to the following criteria.
Evaluation criteria A: tan δ in the range of 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower is 0.2 or higher ○: tan δ in the range of 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower is 0.1 or higher X: tan δ in the range of 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower is 0 Less than 1
<比較例1>
アクリル系ポリマー混合物(A)として [A3]90重量部と高分子型帯電防止剤として[B1]10重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に記す。
比較例1では十分な帯電防止性能が得られていないことがわかる。
<Comparative Example 1>
A film having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Example 1, except that [A3] was 90 parts by weight as the acrylic polymer mixture (A) and [B1] was 10 parts by weight as the polymer antistatic agent. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
It can be seen that Comparative Example 1 does not provide sufficient antistatic performance.
<比較例2>
アクリル系ポリマー混合物(A)として [A3]70重量部と高分子型帯電防止剤として[B1]30重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に記す。
比較例2では十分な帯電防止性能は得られているが、ロールに粘着して成形性に問題があった。
<Comparative example 2>
A film having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that 70 parts by weight of [A3] as the acrylic polymer mixture (A) and 30 parts by weight of [B1] as the polymer antistatic agent were used. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
In Comparative Example 2, sufficient antistatic performance was obtained, but there was a problem in moldability due to adhesion to the roll.
<比較例3>
アクリル系ポリマー混合物(A)として [A1]19.8重量部と[A2]79.2重量部にし、高分子型帯電防止剤として[B1]1重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に記す。
比較例3では十分な帯電防止性能が得られていないことがわかる。
<Comparative Example 3>
Example 1 except that [A1] is 19.8 parts by weight and [A2] is 79.2 parts by weight as the acrylic polymer mixture (A), and [B1] is 1 part by weight as the polymer antistatic agent. Similarly, a film having a thickness of 100 μm was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
It can be seen that Comparative Example 3 does not provide sufficient antistatic performance.
<比較例4>
アクリル系ポリマー混合物(A)の替わりにオレフィン系樹脂であるEG8003(ダウケミカル社製)(以下、これを[C1]と記す。)90重量部と高分子型帯電防止剤として [B1]10重量とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に記す。
比較例4では十分な帯電防止性能が得られていないことがわかる。
<Comparative example 4>
EG8003 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) (hereinafter referred to as [C1]), which is an olefin resin, instead of the acrylic polymer mixture (A) (90 parts by weight) and 10% by weight as a polymer type antistatic agent [B1] A film having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
It can be seen that Comparative Example 4 does not provide sufficient antistatic performance.
<比較例5>
アクリル系ポリマー混合物(A)の替わりに [C1]70重量部と高分子型帯電防止剤として[B1]30重量部とすること以外は、実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に記す。
比較例5では十分な帯電防止性能は得られているが、ロールに粘着して成形性に問題があった。
<Comparative Example 5>
A film having a thickness of 100 μm is obtained in the same manner as in Example 1 except that [C1] is 70 parts by weight and [B1] is 30 parts by weight as a polymer type antistatic agent instead of the acrylic polymer mixture (A). It was. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
In Comparative Example 5, sufficient antistatic performance was obtained, but there was a problem in moldability due to adhesion to the roll.
本発明による帯電防止性アクリル系樹脂組成物は、高分子型帯電防止剤の少量添加で十分な帯電防止性能が得られ、さらに帯電防止剤の滲出による帯電防止性能の低下や被着体への汚染がなく、さらに成形性、物性に優れるため、フィルムおよびシート分野に広く利用することができる。
The antistatic acrylic resin composition according to the present invention can provide sufficient antistatic performance by adding a small amount of a polymeric antistatic agent, and further, the antistatic performance can be reduced due to leaching of the antistatic agent. Since there is no contamination and it is excellent in moldability and physical properties, it can be widely used in the film and sheet fields.
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