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JP4882328B2 - Optical laminate - Google Patents
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JP4882328B2 - Optical laminate - Google Patents

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JP4882328B2 JP2005284376A JP2005284376A JP4882328B2 JP 4882328 B2 JP4882328 B2 JP 4882328B2 JP 2005284376 A JP2005284376 A JP 2005284376A JP 2005284376 A JP2005284376 A JP 2005284376A JP 4882328 B2 JP4882328 B2 JP 4882328B2
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Description

本発明は、界面反射と干渉縞が防止され、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体に関する。   The present invention relates to an optical laminate in which interface reflection and interference fringes are prevented, surface mechanical strength is excellent, and adhesion between a light-transmitting substrate and a hard coat layer is good.

液晶ディスプレイ(LCD)又は陰極管表示装置(CRT)等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、防眩層または反射防止層を形成させた光学積層体(例えば、反射防止積層体)を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。   An image display surface in an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) is required to reduce reflection due to light rays emitted from an external light source and to improve its visibility. On the other hand, by using an optical laminate (for example, an antireflection laminate) in which an antiglare layer or an antireflection layer is formed on a light transmissive substrate, reflection of the image display surface of the image display device can be achieved. It is common to reduce and improve visibility.

しかしながら、屈折率の差が大きい層を積層させた光学積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射及び干渉縞が生じることがしばしば見受けられた。特に、画面表示装置の画像表示面において黒色を再現した際に、干渉縞が顕著に発生し、その結果、画像の視認性を低下させ、また画像表示面の美観を損ねるとの指摘がなされている。特に、光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率が相違する場合、干渉縞の発生が生じ易いとされている。   However, in an optical laminated body in which layers having a large difference in refractive index are laminated, it has often been observed that interface reflection and interference fringes occur at the interface between the layers that overlap each other. In particular, it has been pointed out that when black is reproduced on the image display surface of the screen display device, interference fringes are conspicuously generated, and as a result, the visibility of the image is lowered and the aesthetic appearance of the image display surface is impaired. Yes. In particular, when the refractive index of the light-transmitting substrate is different from the refractive index of the hard coat layer, interference fringes are likely to occur.

また、ハードコート層は、通常、熱硬化型樹脂、或いは紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂を用いて、透明基材フィルム上に薄い塗膜を形成してなるが、その塗膜厚みが薄いため下地の基材の変形による影響で機械的強度(鉛筆硬度)が十分に高いものではなかった。
ハードコート層の厚みを厚くすれば、硬度は向上するものの、ハードコート層の割れや剥がれが生じやすくなると同時に、ハードコート層の硬化収縮によるカールが大きくなり、実用上使用できるものにはならなかった。
The hard coat layer is usually formed by forming a thin coating film on a transparent substrate film using an ionizing radiation curable resin such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin. Therefore, the mechanical strength (pencil hardness) was not sufficiently high due to the influence of the deformation of the underlying base material.
If the thickness of the hard coat layer is increased, the hardness will improve, but the hard coat layer will be easily cracked and peeled off, and at the same time, the curl due to curing shrinkage of the hard coat layer will increase, and it will not be usable practically. It was.

これに対して、特許文献1では、透明基材フィルム上に、屈折率が1.5〜1.7の中屈折率層、屈折率が1.6〜1.8の高屈折率層、更に高屈折率層より低い屈折率材料よりなる低屈折率層を、この順で透明基材フィルム側から積層した反射防止ハードコートシートを使用することにより、界面反射及び干渉縞等を解消することができるとの提案がなされている。この先行技術は各層の屈折率に着目してなされたものといえる。また、特許文献2によれば、基材の上に、基材を溶解する溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を形成する方法が提案されている。
一方、特許文献3では、ハードコート層形成材料中に無機微粒子を一定量含有させることで、ハードコート層全体の厚みを10〜50μmとしても、従来技術の如きハードコート層の割れや剥がれ、及びカールを防止しながら、優れた硬度を有するハードコートフィルムが提案されている。
On the other hand, in Patent Document 1, on the transparent substrate film, a medium refractive index layer having a refractive index of 1.5 to 1.7, a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 to 1.8, By using an antireflection hard coat sheet in which a low refractive index layer made of a lower refractive index material than a high refractive index layer is laminated in this order from the transparent substrate film side, interfacial reflection and interference fringes can be eliminated. Proposals have been made to do this. This prior art can be said to have been made by paying attention to the refractive index of each layer. Patent Document 2 proposes a method of forming a hard coat layer on a base material using a resin containing a solvent that dissolves the base material.
On the other hand, in Patent Document 3, even if the thickness of the entire hard coat layer is 10 to 50 μm by containing a certain amount of inorganic fine particles in the hard coat layer forming material, the hard coat layer is cracked or peeled off as in the prior art, and A hard coat film having excellent hardness while preventing curling has been proposed.

特開2003−75605号公報JP 2003-75605 A 特開2003−205563号公報JP 2003-205563 A 特開2000−112379号公報JP 2000-112379 A

本発明は、光透過性基材−ハードコート層間における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性に優れ、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体の提供を目的とするものである。   The present invention effectively prevents the occurrence of interfacial reflection and interference fringes between a light-transmitting substrate and a hard coat layer, has excellent visibility, excellent surface mechanical strength, and light-transmitting substrate-hard coat layer. The object of the present invention is to provide an optical laminate having good adhesion.

本発明者等は、光透過性基材とハードコート層の界面に、特定の物性を有する樹脂を用いて薄層を形成し、また、ハードコート層に特定の平均粒子径を有する微粒子を特定量含有させることにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性に優れ、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体を得ることができるとの知見を得て、本発明の完成に至った。   The present inventors form a thin layer using a resin having specific physical properties at the interface between the light-transmitting substrate and the hard coat layer, and specify fine particles having a specific average particle size in the hard coat layer. The optical lamination effectively prevents the occurrence of interface reflection and interference fringes, and has excellent visibility, excellent surface mechanical strength, and good adhesion between the light-transmitting substrate and the hard coat layer. The knowledge that a body can be obtained was obtained, and the present invention was completed.

本発明に係る光学積層体は、セルローストリアセテート基材の上に、重量平均分子量が200以上1000以下であり、かつ、2以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂(A)を含有する薄層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなる薄層と、前記薄層の上に、少なくとも分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを含有する電離放射線硬化性組成物である樹脂(B)及び平均粒子径が10〜40nmのシリカ微粒子を含有するハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなり、当該シリカ微粒子が当該樹脂(B)100重量部に対して20〜60重量部含有されたハードコート層が少なくとも積層されてなる、画像表示装置用の光学積層体である。 The optical layered body according to the present invention is a thin layer formation containing a resin (A) having a weight average molecular weight of 200 or more and 1000 or less and having two or more (meth) acryl groups on a cellulose triacetate substrate. A thin layer formed by forming a coating film of the composition for use and cured with ultraviolet rays or ionizing radiation, and a prepolymer, an oligomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group at least in the molecule on the thin layer , And / or a resin (B) which is an ionizing radiation curable composition containing a monomer and a hard coat layer-forming composition coating film containing silica fine particles having an average particle size of 10 to 40 nm, and ultraviolet or ionized it was cured at a radiation hard coat layer containing 20 to 60 parts by weight the silica microparticles relative to the resin (B) 100 parts by weight is formed by at least laminated, image It shows an optical stack for the device.

このような光学積層体は、上記薄層の存在によって、光透過性基材−ハードコート層間の屈折率がコントロールされることにより、界面反射及び干渉縞の発生を防止することができる。更にまた、ハードコート層が上記構成を有することにより、該ハードコート層全体の厚みを10〜100μm程度に厚くしても、ハードコート層の割れ、剥がれを防止することができ、優れた耐擦傷性、機械的強度及び光透過性基材−ハードコート層間の密着性を有する光学積層体を実現することができる。   Such an optical layered body can prevent the occurrence of interface reflection and interference fringes by controlling the refractive index between the light-transmitting substrate and the hard coat layer due to the presence of the thin layer. Furthermore, since the hard coat layer has the above-described configuration, even if the entire thickness of the hard coat layer is increased to about 10 to 100 μm, the hard coat layer can be prevented from cracking and peeling, and excellent scratch resistance. An optical layered body that has adhesiveness, mechanical strength, and adhesion between a light-transmitting substrate and a hard coat layer can be realized.

本発明に係る光学積層体は、前記樹脂(B)が、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物からなる群から選択される一種または二種以上を含むものであることが好ましい。
また、本発明に係る光学積層体は、前記樹脂(B)が、少なくともウレタン(メタ)アクリレートを30〜70重量%含むものであることが好ましい。この場合、ハードコート層の弾性と塑性のバランスが良くなり、且つ硬度が高いことにより、製造の際、搬送・加工時にハードコート層が傷つき難く、割れ難くなる。
In the optical layered body according to the present invention, the resin (B) contains an unsaturated dicarboxylic acid and a polyhydric alcohol condensate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meta). ), Acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and one or two or more selected from the group consisting of cationic polymerization type epoxy compounds are preferred.
In the optical layered body according to the present invention, the resin (B) preferably contains at least 30 to 70% by weight of urethane (meth) acrylate. In this case, the balance between elasticity and plasticity of the hard coat layer is improved, and the hardness is high, so that the hard coat layer is hardly damaged or broken during transportation and processing during production.

また、本発明に係る光学積層体は、前記樹脂(A)が、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFEO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAEO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートからなる群から選択される一種または二種以上の混合物であることが好ましい。 Further, in the optical laminate according to the present invention, the resin (A) is ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth). Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) ) Acrylate, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, bisphenol FEO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, bisphenol AEO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, 3 One selected from the group consisting of methylpentanediol di (meth) acrylate, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β-acryloyloxypropinate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate Or it is preferable that it is a mixture of 2 or more types.

また、本発明に係る光学積層体は、前記ハードコート層が帯電防止剤及び/又は防眩剤を含んでなることができる。
また、本発明に係る光学積層体は、前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、またはこれらの二種以上の層を形成してなることができる。
また、本発明に係る光学積層体は、反射防止積層体として好ましく利用される。
In the optical laminate according to the present invention, the hard coat layer may contain an antistatic agent and / or an antiglare agent.
The optical layered body according to the present invention can be formed by forming an antistatic layer, an antiglare layer, a low refractive index layer, or two or more of these layers on the hard coat layer.
The optical laminate according to the present invention is preferably used as an antireflection laminate.

本発明によれば、光透過性基材−ハードコート層間における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性に優れ、表面の機械的強度に優れ、且つ光透過性基材−ハードコート層間の密着性が良好な光学積層体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to effectively prevent the occurrence of interface reflection and interference fringes between a light-transmitting substrate and a hard coat layer, excellent visibility, excellent surface mechanical strength, and light-transmitting substrate-hard. An optical laminate having good adhesion between the coat layers can be provided.

本発明に係る光学積層体は、光透過性基材の上に、重量平均分子量が200以上1000以下であり、かつ、2以上の官能基を有する樹脂(A)により形成されてなる薄層と、前記薄層の上に、少なくとも樹脂(B)及び平均粒子径が10〜40nmのシリカ微粒子により形成されてなり、当該シリカ微粒子が当該樹脂(B)100重量部に対して20〜60重量部含有されたハードコート層が少なくとも積層されてなるものである。
このような光学積層体は、上記薄層の存在によって、光透過性基材−ハードコート層間の屈折率がコントロールされることにより、界面反射及び干渉縞の発生を防止することができる。更にまた、ハードコート層が特定の平均粒子径を有するシリカ微粒子を特定量含有することにより、該ハードコート層全体の厚みを10〜100μm程度に厚くしても、ハードコート層の割れ、剥がれを防止することができ、優れた耐擦傷性、機械的強度及び光透過性基材−ハードコート層間の密着性を有する光学積層体を実現することができる。
The optical layered body according to the present invention comprises a thin layer formed of a resin (A) having a weight average molecular weight of 200 or more and 1000 or less and having two or more functional groups on a light-transmitting substrate. On the thin layer, at least the resin (B) and silica fine particles having an average particle diameter of 10 to 40 nm are formed. The silica fine particles are 20 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin (B). The contained hard coat layer is at least laminated.
Such an optical layered body can prevent the occurrence of interface reflection and interference fringes by controlling the refractive index between the light-transmitting substrate and the hard coat layer due to the presence of the thin layer. Furthermore, even if the hard coat layer contains a specific amount of silica fine particles having a specific average particle diameter, the hard coat layer is cracked and peeled even if the entire thickness of the hard coat layer is increased to about 10 to 100 μm. Thus, an optical laminate having excellent scratch resistance, mechanical strength, and adhesion between the light-transmitting substrate and the hard coat layer can be realized.

図1に本発明の光学積層体の基本的な層構成を示す。光透過性基材2とその上に薄層3とハードコート層4により光学積層体1が形成されてなることを特徴とする。更に、光学積層体としての機能又は用途を加味して、ハードコート層の上にその他の層、例えば、帯電防止層、防眩層、低屈折率層等を1層又は2層以上形成しても良い。以下、本発明の光学積層体を構成する各層について順に説明する。   FIG. 1 shows the basic layer structure of the optical laminate of the present invention. The optical laminate 1 is formed of a light-transmitting substrate 2, a thin layer 3 and a hard coat layer 4 thereon. Furthermore, in consideration of the function or application as an optical laminate, other layers such as an antistatic layer, an antiglare layer, a low refractive index layer, etc. are formed on the hard coat layer, or two or more layers. Also good. Hereafter, each layer which comprises the optical laminated body of this invention is demonstrated in order.

1.光学積層体
〔薄層〕
本発明による光学積層体は、前記光透過性基材の上に、重量平均分子量が200以上1000以下であり、かつ、2以上の官能基を有する樹脂(A)により薄層を形成する。この薄層が形成されることにより、光透過性基材に対し直接ハードコート層を設けた積層体の場合には光透過性基材とハードコート層との界面に生じた、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止することが可能となる。本発明にあっては、この「薄層」は薄膜、薄い塗膜等の概念を包含するものである。本発明の好ましい態様によれば、薄層の層厚は、0.001μm以上、50μm以下であり、好ましくは下限が0.01μm以上であり、上限が20μm以下である。
1. Optical laminate (thin layer)
In the optical layered body according to the present invention, a thin layer is formed on the light transmissive substrate with a resin (A) having a weight average molecular weight of 200 or more and 1000 or less and having two or more functional groups. By forming this thin layer, in the case of a laminate in which a hard coat layer is provided directly on a light transmissive substrate, interfacial reflection and interference occurred at the interface between the light transmissive substrate and the hard coat layer. It is possible to effectively prevent the generation of fringes. In the present invention, the “thin layer” includes concepts such as a thin film and a thin coating film. According to a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the thin layer is 0.001 μm or more and 50 μm or less, preferably the lower limit is 0.01 μm or more and the upper limit is 20 μm or less.

1)樹脂(A)
薄膜形成に使用する樹脂(A)は、2以上の官能基を有し、その重量平均分子量が200以上1000以下であり、好ましくは下限が220以上であり、上限が900以下のものである。
このような樹脂(A)の具体例としては、(メタ)アクリル樹脂(本明細書においては、アクリル及び/又はメタクリルを(メタ)アクリルと記載する)、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコール(メタ)アクリレート(本明細書においては、アクリレート及び/又はメタクリレートを(メタ)アクリレートと記載する)、及びペンタエリスリトール(メタ)アクリレートモノステアレート等の(メタ)アクリレート樹脂からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられ、好ましくは、ウレタン樹脂が挙げられる。
1) Resin (A)
The resin (A) used for forming the thin film has two or more functional groups and has a weight average molecular weight of 200 or more and 1000 or less, preferably a lower limit of 220 or more and an upper limit of 900 or less.
Specific examples of such a resin (A) include (meth) acrylic resin (in this specification, acrylic and / or methacryl is described as (meth) acrylic), polyester resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polyamide. Resin, polyether resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyether resin, polyhydric alcohol, ethylene glycol (meth) acrylate (in this specification, acrylate and / or methacrylate 1 or a mixture of two or more selected from the group consisting of (meth) acrylate resins such as (meth) acrylate) and pentaerythritol (meth) acrylate monostearate, preferably ureta Resins.

これらに属する樹脂(A)の具体例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFEO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAEO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、等の(メタ)アクリル酸エステル類、及びトリレンジイソシアネート、4−4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、3−イソプロフェニル−ジメチルベンジルイソシアネートヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等のウレタン樹脂、及びこれらの混合物が挙げられる。   Specific examples of the resin (A) belonging to these include ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6 -Compounds such as hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate , Isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, bisphenol FEO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, bisphenol AEO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, -(Meth) acrylic such as methylpentanediol di (meth) acrylate, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β-acryloyloxypropinate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. Acid esters, and urethane resins such as tolylene diisocyanate, 4-4′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 3-isopropylene-dimethylbenzyl isocyanate hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and mixtures thereof Is mentioned.

樹脂は2以上の官能基を有するものであるが、このような「官能基」の具体例としては、(メタ)アクリレート系の官能基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、アルコキシル基等及びこれらの混合物が挙げられ、好ましくは(メタ)アクリレート系の官能基が挙げられる。   The resin has two or more functional groups. Specific examples of such “functional groups” include (meth) acrylate functional groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, epoxy groups, amino groups, vinyl groups, An alkoxyl group etc. and a mixture thereof are mentioned, Preferably (meth) acrylate type functional groups are mentioned.

このような官能基は、互いに塗膜形成後電離放射線及び/又は熱により硬化反応を起こすような組み合わせで用いられることが好ましい。硬化反応が行われた薄層である場合は、完成された光学積層体の薄層において樹脂(A)は硬化反応生成物が含有される。樹脂(A)の硬化反応生成物は、通常、用いられた樹脂(A)よりも分子量が高くなっている。   Such functional groups are preferably used in such a combination as to cause a curing reaction by ionizing radiation and / or heat after the formation of the coating film. In the case of a thin layer subjected to a curing reaction, the resin (A) contains a curing reaction product in the thin layer of the completed optical laminate. The curing reaction product of the resin (A) usually has a higher molecular weight than the resin (A) used.

2)溶剤
薄膜を形成する際に、樹脂は溶剤と混合して使用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物が挙げられる。より具体的な溶剤の例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン、N―メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブが挙げられ、より好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。これらの溶剤は、干渉縞を防止するのに効果的である。
2) Solvent When forming the thin film, the resin can be used by mixing with a solvent. Specific examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; Aromatic hydrocarbons such as xylene; or mixtures thereof. Examples of more specific solvents include acetone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, chloroform, methylene chloride, trichloroethane, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, nitromethane, 1,4-dioxane, dioxolane, N- Examples include methyl pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, diisopropyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, more preferably methyl acetate, ethyl acetate, and acetic acid. Examples include butyl and methyl ethyl ketone. These solvents are effective in preventing interference fringes.

〔光透過性基材〕
光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、好ましくは無色透明のものがよい。光透過性基材の具体例としては、ガラス板;トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートプロピオネートセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、(メタ)アクリル系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリエステル;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテル;トリメチルペンテン;ポリエーテルケトン;(メタ)アクリロニトリル等により形成した薄膜等が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、トリアセテートセルロース(TAC)が好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚さは、30μm〜200μm程度であり、好ましくは40μm〜200μmである。
(Light transmissive substrate)
The light-transmitting substrate may be transparent, translucent, colorless, or colored as long as it transmits light, but is preferably colorless and transparent. Specific examples of the light-transmitting substrate include glass plates; triacetate cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), diacetyl cellulose, acetate propionate cellulose, acetate butyrate cellulose, polyethersulfone, (meth) acrylic Examples include a resin, a polyurethane resin, a polyester, a polycarbonate, a polysulfone, a polyether, a trimethylpentene, a polyether ketone, and a thin film formed of (meth) acrylonitrile. According to a preferred embodiment of the present invention, triacetate cellulose (TAC) is preferably mentioned. The thickness of the light-transmitting substrate is about 30 μm to 200 μm, preferably 40 μm to 200 μm.

〔ハードコート層〕
「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は、樹脂、シリカ微粒子、及び任意成分により形成されてなるハードコート層形成用組成物を、前記薄層上に積層させ、乾燥させ、更に必要に応じて電離放射線及び/又は熱により硬化させて得られる。
[Hard coat layer]
The “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified by JIS 5600-5-4 (1999). The thickness of the hard coat layer (during curing) is in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. The hard coat layer is formed by laminating a composition for forming a hard coat layer formed of resin, silica fine particles, and optional components on the thin layer, followed by drying, and if necessary by ionizing radiation and / or heat. Obtained by curing.

1)樹脂(B)
樹脂(B)としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線又は電子線により硬化する電離放射線硬化型樹脂、若しくは電離放射線硬化性化合物、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、又は熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
1) Resin (B)
The resin (B) is preferably transparent, and specific examples thereof include ionizing radiation curable resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams, or ionizing radiation curable compounds, ionizing radiation curable resins, and solvent-drying resins. And an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound.

電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に混合したものが挙げられる。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。   Examples of the ionizing radiation curable composition include those obtained by appropriately mixing a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer having an epoxy group, an oligomer, and / or a monomer in the molecule. Here, the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.

電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。中でも、ウレタン(メタ)アクリレートを必須成分として用い、更にポリエステル(メタ)アクリレートと組み合わせることが好ましい。   Examples of prepolymers and oligomers in ionizing radiation curable compositions include unsaturated polyesters such as unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol condensates, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meta ) Acrylates, polyether (meth) acrylates, polyol (meth) acrylates, (meth) acrylates such as melamine (meth) acrylates, and cationically polymerizable epoxy compounds. Among these, urethane (meth) acrylate is preferably used as an essential component, and further combined with polyester (meth) acrylate.

前記ポリエステル(メタ)アクリレートは、ポリエステル系ポリオールのオリゴマーを(メタ)アクリレート化したもの、或いはその混合物から構成される。また、前記ウレタン(メタ)アクリレートは、ポリオール化合物とジイソシアネート化合物からなるオリゴマーを(メタ)アクリレート化したものから構成される。
上記(メタ)アクリレート化に用いる単量体は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート等がある。
The polyester (meth) acrylate is composed of a polyester polyol oligomer (meth) acrylate or a mixture thereof. Further, the urethane (meth) acrylate is constituted by (meth) acrylate of an oligomer composed of a polyol compound and a diisocyanate compound.
The monomers used for the above (meth) acrylate formation are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) ) Acrylate, phenyl (meth) acrylate, and the like.

又、(メタ)アクリレート化する際に、塗膜に更に硬度を付与するときは多官能モノマーを併用することができる。例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等がある。   In addition, a polyfunctional monomer can be used in combination when further imparting hardness to the coating film during the (meth) acrylate conversion. For example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like.

ポリエステル系オリゴマーは、アジピン酸とグリコール(エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリブチレングリコール等)やトリオール(グリセリン、トリメチロールプロパン等)、セバシン酸とグリコールやトリオールとの縮合生成物であるポリアジペートポリオールや、ポリセバシエートポリオール等がある。又、上記脂肪族のジカルボン酸の一部又は全てを他の有機酸で置換することができる。例えば、イソフタル酸、テレフタル酸、無水フタル酸等がハードコート層により優れた硬度を与えるための構成成分として使用できる。   Polyester oligomers are a condensation of adipic acid and glycol (ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, polybutylene glycol, etc.) and triol (glycerin, trimethylolpropane, etc.), sebacic acid and glycol or triol. There are polyadipate polyol and polysebacate polyol as products. In addition, some or all of the aliphatic dicarboxylic acids can be replaced with other organic acids. For example, isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic anhydride, or the like can be used as a component for imparting excellent hardness to the hard coat layer.

ポリウレタン系オリゴマーは、ポリイソシアネートとポリオールとの付加生成物から得ることができる。例えば、メチレン・ビス(p−フェニレンジイソシアネート)、ヘキサメチレンジイソシアネート・ヘキサントリオールの付加体、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート・トリメチロールプロパンのアダクト体、1,5−ナフチレンジイソシアネート、チオプロピルジイソシアネート、エチルベンゼン−2,4−ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート二量体、水添化キシリレンジイソシアネート、トリス(4−フェニルイソシアネート)チオフォスフェート等から選択したものと、次のポリオールとの反応によって得られるものである。   The polyurethane-based oligomer can be obtained from an addition product of a polyisocyanate and a polyol. For example, adducts of methylene bis (p-phenylene diisocyanate), hexamethylene diisocyanate hexanetriol, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate / trimethylolpropane, 1,5-naphthylene diisocyanate, thio Selected from propyl diisocyanate, ethylbenzene-2,4-diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate dimer, hydrogenated xylylene diisocyanate, tris (4-phenylisocyanate) thiophosphate, and the following polyols: It is obtained by reaction.

ポリオールの例としては、ポリオキシテトラメチレングリコール等のポリエーテル系ポリオール、ポリアジペートポリオール、ポリカーボネートポリオール等のポリエステル系ポリオール、(メタ)アクリル酸エステル類とヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとのコポリマー等がある。   Examples of polyols include polyether polyols such as polyoxytetramethylene glycol, polyester polyols such as polyadipate polyol and polycarbonate polyol, copolymers of (meth) acrylic acid esters and hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like. .

ウレタン(メタ)アクリレートの市販品としては、紫光UV−1700B、紫光UV−6300B、紫光UV−7600B(日本合成化学(株)製)が好適に用いられる。   As commercially available products of urethane (meth) acrylate, purple light UV-1700B, purple light UV-6300B, and purple light UV-7600B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) are preferably used.

ハードコート層中に含まれる全樹脂(B)のうち、ウレタン(メタ)アクリレートの重量比は30〜70重量%、更に50〜70重量%であることが好ましい。この場合、ハードコート層の弾性と塑性のバランスが良くなり、且つ硬度が高いことにより、製造の際、搬送・加工時にハードコート層が傷つき難く、割れ難くなる。   Of all the resins (B) contained in the hard coat layer, the weight ratio of urethane (meth) acrylate is preferably 30 to 70% by weight, more preferably 50 to 70% by weight. In this case, the balance between elasticity and plasticity of the hard coat layer is improved, and the hardness is high, so that the hard coat layer is hardly damaged or broken during transportation and processing during production.

電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸ブトキシエチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ラウリル等の(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、(メタ)アクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)メタクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能性化合物、分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等が挙げられる。   Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and methoxyethyl (meth) acrylate. (Meth) acrylate esters such as butoxyethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, methoxybutyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, (meth) Acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, (meth) acrylic acid-2- (N, N-dimethylamino) ethyl, (meth) acrylic acid-2- (N, N-dibenzylamino) methyl Unsaturated substituted alcohol alcohol esters such as (meth) acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) propyl, ( T) Unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene Compounds such as glycol di (meth) acrylate, polyfunctional compounds such as dipropylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) methacrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, in the molecule A polythiol compound having two or more thiol groups, such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycolate And the like.

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミントリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   When using an ionizing radiation curable resin as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, and thioxanthones. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine and triethylamine tri-n-butylphosphine.

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がTAC等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。   The solvent-drying resin used by mixing with the ionizing radiation curable resin mainly includes a thermoplastic resin. As the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. According to a preferred embodiment of the present invention, when the material of the transparent substrate is a cellulose resin such as TAC, as a preferred specific example of the thermoplastic resin, a cellulose resin such as nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, Examples thereof include ethyl hydroxyethyl cellulose.

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。   Specific examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin. And polysiloxane resin. When a thermosetting resin is used, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be further added as necessary.

2)シリカ微粒子
シリカ微粒子としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子シリカを用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点からシリカ微粒子をコロイド溶液としたコロイダルシリカを用いることが好ましい。シリカの平均粒子径は硬度の点から10〜40nmであるが、更に好ましくは10〜30nmであり、特に好ましくは10〜20nmである。使用する分散媒は特に限定されるものではないが、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−プロパノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールの誘導体、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルアセトアミド等のアミド類、等が挙げられる。中でもアルコール類又はケトン類が好ましい。該シリカ微粒子は該分散媒に対し、10〜60重量%、更に30〜50重量%の割合で分散させることが好ましい。
2) Silica fine particles As the silica fine particles, powdered fine particle silica that does not contain a dispersion medium may be used. However, the dispersion step can be omitted, and colloidal silica using silica fine particles as a colloidal solution is used from the viewpoint of high productivity. Is preferred. The average particle diameter of silica is 10 to 40 nm from the viewpoint of hardness, more preferably 10 to 30 nm, and particularly preferably 10 to 20 nm. Although the dispersion medium to be used is not particularly limited, for example, alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and n-propanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol, ethylene glycol monomethyl, etc. Polyethers such as ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and diacetone alcohol , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, amides such as dimethylacetamide, and the like. Of these, alcohols or ketones are preferable. The silica fine particles are preferably dispersed in a proportion of 10 to 60% by weight, more preferably 30 to 50% by weight, with respect to the dispersion medium.

シリカ微粒子の含有量は樹脂100重量部に対し、20重量部超、60重量部未満、更に25重量部以上、40重量部以下であることが好ましい。20重量部以下の場合、ハードコート層表面の硬度が不十分となる恐れがあり、60重量部以上の場合、ハードコート層と薄層の界面の密着性が不十分となる恐れがある。   The content of silica fine particles is preferably more than 20 parts by weight and less than 60 parts by weight, and further 25 parts by weight or more and 40 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin. If it is 20 parts by weight or less, the hardness of the hard coat layer surface may be insufficient, and if it is 60 parts by weight or more, the adhesion at the interface between the hard coat layer and the thin layer may be insufficient.

3)帯電防止剤及び/又は防眩剤
本発明によるハードコート層は、帯電防止剤及び/又は防眩剤を含んでなるものが好ましい。
3) Antistatic agent and / or antiglare agent The hard coat layer according to the present invention preferably comprises an antistatic agent and / or an antiglare agent.

(帯電防止剤(導電剤))
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
(Antistatic agent (conductive agent))
Specific examples of the antistatic agent that forms the antistatic layer include quaternary ammonium salts, pyridinium salts, various cationic compounds having a cationic group such as first to third amino groups, sulfonate groups, and sulfate esters. Anionic compounds having anionic groups such as bases, phosphate ester bases, phosphonate bases, amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters, nonionic compounds such as amino alcohols, glycerols, and polyethylene glycols, tin And organic metal compounds such as alkoxides of titanium and metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof, and compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above. Coupling having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, or a metal chelate moiety, and a monomer or oligomer polymerizable by ionizing radiation, or a polymerizable functional group polymerizable by ionizing radiation Polymerizable compounds such as organometallic compounds such as agents can also be used as antistatic agents.

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO(1.95)、Sb(1.71)、SnO(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In(2.00)、Al(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒子径が0.1nm〜0.1μmのものである。 Moreover, electroconductive ultrafine particles are mentioned. Specific examples of the conductive fine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, the numerical value in parentheses below represents the refractive index), CeO 2 (1.95), Sb 2 O 2 (1.71), SnO. 2 (1.997), indium tin oxide (1.95) often referred to as ITO, In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation) ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like. The fine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm.

(防眩剤)
防眩剤としては、後記する防眩層の項で説明する防眩剤と同様のものを、上記樹脂100重量部に対し、20〜30重量部、好ましくは10〜25重量部含有させることができる。
(Anti-glare agent)
As the anti-glare agent, the same anti-glare agent as described in the item of the anti-glare layer described later is contained in an amount of 20 to 30 parts by weight, preferably 10 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin. it can.

4)溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
4) Solvent To form the hard coat layer, a hard coat layer composition in which the above components are mixed with a solvent is used. Specific examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; toluene, xylene and the like Aromatic hydrocarbons; or a mixture thereof, preferably ketones and esters.

〔その他の層〕
本発明による光学積層体は、上記した通り光透過性基材とその上に形成されてなる薄層とハードコート層とにより基本的には構成されてなる。しかしながら、光学積層体としての機能または用途を加味してハードコート層の上に、下記する一又は二以上の層を形成してもよい。また更に、中屈折率層や高屈折率層を含んで形成しても良い。
[Other layers]
The optical layered body according to the present invention is basically composed of a light-transmitting substrate, a thin layer formed thereon, and a hard coat layer as described above. However, one or two or more layers described below may be formed on the hard coat layer in consideration of the function or application as an optical laminate. Furthermore, you may form including a middle refractive index layer and a high refractive index layer.

[帯電防止層]
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とを含んでなるものである。帯電防止剤と溶剤はハードコート層で説明したのと同様であって良い。
[Antistatic layer]
The antistatic layer comprises an antistatic agent and a resin. The antistatic agent and the solvent may be the same as described in the hard coat layer.

(樹脂)
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、より好ましくは、電離放射線硬化性樹脂または電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に混合したものである。
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマー、及びモノマーの例としては、前記ハードコート層で挙げたのと同様のものを用いることができる。
(resin)
As specific examples of the resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound (including an organic reactive silicon compound) can be used. Although a thermoplastic resin can be used as the resin, it is more preferable to use a thermosetting resin, and more preferably an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound. .
The ionizing radiation curable composition is a mixture of a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer, an oligomer, and / or a monomer having an epoxy group in a molecule.
Examples of the prepolymer, oligomer, and monomer in the ionizing radiation curable composition may be the same as those mentioned for the hard coat layer.

通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、必要に応じて、1種若しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。   Usually, as the monomer in the ionizing radiation curable composition, one or two or more kinds are mixed and used as necessary. In order to give the ionizing radiation curable composition normal application suitability, The prepolymer or oligomer is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が1又は2の(メタ)アクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が3つ以上の(メタ)アクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が1のものとして、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   When flexibility is required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, it is preferable to reduce the amount of monomer or use a (meth) acrylate monomer having 1 or 2 functional groups. When wear resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, a (meth) acrylate monomer having three or more functional groups is used. An ionizing radiation curable composition can be designed. Here, 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, and phenoxyethyl acrylate are exemplified as those having one functional group. Examples of those having 2 functional groups include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of the functional group having 3 or more include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。   In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, a resin that is not cured by ionizing radiation irradiation can be added to the ionizing radiation curable composition. . Specific examples of the resin include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Among these, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin, or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.

電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100重量部に対し、0.1〜10重量部である。   When hardening after application | coating of an ionizing radiation curable composition is performed by ultraviolet irradiation, a photoinitiator and a photoinitiator are added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are used alone or in combination. In the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonic acid ester or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. . The addition amount of a photoinitiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of ionizing radiation-curable compositions.

電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
有機ケイ素化合物の1は、一般式RSi(OR')で表せるもので、R及びR'は炭素数1〜10のアルキル基を表し、Rの添え字mとOR'の添え字nとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数である。
In the ionizing radiation curable composition, the following organic reactive silicon compound may be used in combination.
1 of the organosilicon compound can be represented by the general formula R m Si (OR ′) n , R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a subscript m of R and a subscript n of OR ′. Each is an integer satisfying the relationship m + n = 4.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri Butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyl Silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.

電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
帯電防止層の厚さは、30nm〜1μm程度であることが好ましい。
The organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition is a silane coupling agent. Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methyl Methoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.
The thickness of the antistatic layer is preferably about 30 nm to 1 μm.

[防眩層]
防眩層は、透過性基材とハードコート層または低屈折率層との間に形成されてよい。防眩層は樹脂と防眩剤とにより形成されてよく、樹脂は、ハードコート層の項で説明したのと同様であってよい。
[Anti-glare layer]
The antiglare layer may be formed between the transparent substrate and the hard coat layer or the low refractive index layer. The antiglare layer may be formed of a resin and an antiglare agent, and the resin may be the same as described in the section of the hard coat layer.

本発明の好ましい態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒子径をR(μm)とし、防眩層の凹凸の凸部分の鉛直方向での基材面からの最大値をHmax(μm)とし、防眩層の凹凸平均間隔をSm(μm)とし、凹凸部の平均傾斜角をθaとした場合に、下記式:
8R≦Sm≦30R
R<Hmax<3R
1.3≦θa≦2.5
1≦R≦8
全てを同時に満たすものが好ましい。
According to a preferred aspect of the present invention, the antiglare layer has an average particle diameter of R (μm), and the maximum value from the substrate surface in the vertical direction of the convex and concave portions of the antiglare layer is Hmax (μm). And the average interval between the irregularities of the antiglare layer is Sm (μm), and the average inclination angle of the irregularities is θa, the following formula:
8R ≦ Sm ≦ 30R
R <Hmax <3R
1.3 ≦ θa ≦ 2.5
1 ≦ R ≦ 8
What satisfies all simultaneously is preferable.

また、本発明の別の好ましい様態によれば、微粒子と透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、n1、n2とした場合に、Δn=│n1−n2│<0.1を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が55%以下である防眩層が好ましい。   According to another preferred embodiment of the present invention, when the refractive indexes of the fine particles and the transparent resin composition are n1 and n2, respectively, Δn = | n1−n2 | <0.1 is satisfied. And the glare-proof layer whose haze value inside a glare-proof layer is 55% or less is preferable.

(防眩剤)
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.59)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物100重量部に対し、2〜30重量部、好ましくは10〜25重量部程度である。
(Anti-glare agent)
Examples of the antiglare agent include fine particles, and the shape of the fine particles may be a true sphere or an ellipse, and preferably a true sphere. The fine particles may be inorganic or organic, but those formed of an organic material are preferred. The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include plastic beads, and more preferably those having transparency. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads. The addition amount of the fine particles is about 2 to 30 parts by weight, preferably about 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin composition.

防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、防眩剤の沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、平均粒子径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズが挙げられる。
防眩層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
It is preferable to add an antisettling agent when adjusting the composition for the antiglare layer. This is because, by adding an anti-settling agent, precipitation of the anti-glare agent can be suppressed and the anti-glare agent can be uniformly dispersed in the solvent. Specific examples of the anti-settling agent include silica beads having an average particle size of 0.5 μm or less, preferably about 0.1 to 0.25 μm.
The film thickness (when cured) of the antiglare layer is 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.

[低屈折率層]
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が1.46以下の、やはり30nm〜1μm程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer is composed of a resin containing silica or magnesium fluoride, a fluorine resin as a low refractive index resin, silica or a fluorine resin containing magnesium fluoride, and a refractive index of 1.46 or less. The film can also be composed of a thin film of about 30 nm to 1 μm, or a thin film of silica or magnesium fluoride by chemical vapor deposition or physical vapor deposition. The resin other than the fluororesin is the same as the resin used for constituting the antistatic layer.

低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが30〜90%、ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%(以降も含め、百分率は、いずれも質量基準)を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が60〜70%であるフッ素含有共重合体100部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物80〜150部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚200nm以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率1.60未満(好ましくは1.46以下)の低屈折率層を形成する。   More preferably, the low refractive index layer can be composed of a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer. Specifically, this silicone-containing vinylidene fluoride copolymer is a monomer containing 30 to 90% vinylidene fluoride and 5 to 50% hexafluoropropylene (including percentages below, all in terms of mass). It is obtained by copolymerization using the composition as a raw material, and comprises 100 parts of a fluorine-containing copolymer having a fluorine content of 60 to 70% and 80 to 150 parts of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. A low refractive index having a refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) which is a thin film having a film thickness of 200 nm or less and is provided with scratch resistance by using this resin composition. Form a layer.

低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが30〜90%、好ましくは40〜80%、特に好ましくは40〜70%であり、又ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%、好ましくは10〜50%、特に好ましくは15〜45%である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを0〜40%、好ましくは0〜35%、特に好ましくは10〜30%含有するものであってもよい。   In the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer constituting the low refractive index layer, the proportion of each component in the monomer composition is such that the vinylidene fluoride is 30 to 90%, preferably 40 to 80%, particularly preferably 40 to 40%. 70% and hexafluoropropylene is 5 to 50%, preferably 10 to 50%, particularly preferably 15 to 45%. This monomer composition may further contain 0 to 40%, preferably 0 to 35%, particularly preferably 10 to 30% of tetrafluoroethylene.

上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的及び効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、20%以下、好ましくは10%以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、1,2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエチレン、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロエチレン、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。   In the above monomer composition, other copolymer components are, for example, in the range of 20% or less, preferably in the range of 10% or less, as long as the intended purpose and effect of the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer are not impaired. Specific examples of such other copolymerization components are fluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 1,2-dichloro-1,2-difluoroethylene, 2-bromo-3,3,3-trifluoroethylene, 3-bromo-3,3-difluoropropylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-tri Examples thereof include polymerizable monomers having fluorine atoms such as fluoropropylene and α-trifluoromethacrylic acid.

以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が60〜70%であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は62〜70%、特に好ましくは64〜68%である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。   The fluorine-containing copolymer obtained from the monomer composition as described above needs to have a fluorine content of 60 to 70%, preferably a fluorine content of 62 to 70%, particularly preferably 64 to 68. %. When the fluorine content is in such a specific range, the fluorine-containing polymer has good solubility in a solvent, and contains such a fluorine-containing polymer as a component. Since it has excellent adhesion to various substrates, it forms a thin film with high transparency and low refractive index and sufficiently excellent mechanical strength, so the scratch resistance of the surface on which the thin film is formed The mechanical properties such as the above can be made sufficiently high, which is extremely suitable.

このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で5,000〜200,000、特に10,000〜100,000であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が1.45以下、特に1.42以下、更に1.40以下であるものが好ましい。屈折率が1.45を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。   The fluorine-containing copolymer preferably has a molecular weight of 5,000 to 200,000, particularly 10,000 to 100,000 in terms of polystyrene-equivalent number average molecular weight. By using a fluorine-containing copolymer having such a molecular weight, the viscosity of the resulting fluorine-based resin composition becomes a suitable size, and therefore surely has a suitable coating property. It can be. The fluorine-containing copolymer preferably has a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less, more preferably 1.40 or less. When a fluorine-containing copolymer having a refractive index exceeding 1.45 is used, a thin film formed from the obtained fluorine-based paint may have a small antireflection effect.

このほか、低屈折率層は、SiOからなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマCVD法等により、又はSiOゾルを含むゾル液からSiOゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、SiO以外にも、MgFの薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、SiO薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマCVD法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。 In addition, the low refractive index layer also can be formed of a thin film made of SiO 2, an evaporation method, a sputtering method, or a plasma CVD method or the like, or to form a SiO 2 gel film from the sol solution containing SiO 2 sol It may be formed by a method. The low refractive index layer, in addition to SiO 2 also, the or a thin film MgF 2, but may be configured in other materials, in terms of high adhesion to the lower layer, it is preferable to use a SiO 2 thin film. Among the above methods, when the plasma CVD method is used, it is preferable to use organosiloxane as a raw material gas under the condition that there is no other inorganic vapor deposition source, and to maintain the deposition target as low as possible. It is preferable.

2.光学積層体の製造方法
1)液体組成物の調整
薄層、ハードコート層、帯電防止層等の各層形成用組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。
2. Manufacturing method of optical laminate 1) Preparation of liquid composition Compositions for forming each layer such as a thin layer, a hard coat layer, and an antistatic layer are mixed and dispersed according to a general preparation method. May be adjusted accordingly. For mixing and dispersing, it is possible to appropriately disperse with a paint shaker or a bead mill.

2)塗工
光透過性基材表面等、各層の表面への各層形成用組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
2) Coating As specific examples of the coating method of the composition for forming each layer on the surface of each layer, such as the surface of the light transmissive substrate, spin coating method, dipping method, spray method, slide coating method, bar coating method, roll Various methods such as a coater method, a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method can be used.

3.光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。
3. Use of optical laminate The optical laminate according to the present invention is used as a hard coat laminate, preferably as an antireflection laminate. The optical laminate according to the present invention is used for a transmissive display device. In particular, it is used for display displays of televisions, computers, word processors and the like. In particular, it is used on the surface of displays such as CRTs and liquid crystal panels.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention. In the examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.

後述する実施例において行った評価方法は以下のとおりである。
(1)鉛筆硬度
得られた光学積層体のハードコート層表面の鉛筆硬度をJIS K5400に準じて評価した。試験は5回行ない、1回以上傷等の外観異常が認められなかった場合に使用していた鉛筆の硬度で表わした。例えば、3Hの鉛筆を用いて5回試験を行ない、1回以上傷が生じなければ、その硬度は3Hと表示した。
The evaluation method performed in the Example mentioned later is as follows.
(1) Pencil hardness The pencil hardness of the surface of the hard coat layer of the obtained optical laminate was evaluated according to JIS K5400. The test was conducted 5 times, and the hardness of the pencil used when the appearance abnormality such as scratches was not recognized once or more was expressed. For example, the test was conducted 5 times using a 3H pencil, and if the scratch did not occur once or more, the hardness was indicated as 3H.

(2)干渉縞
光学積層体のハードコート層と反対面の面をサンドペーパーで擦り、その後つや消しのために黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
<評価基準>
評価○:干渉縞の発生はなかった。
評価×:干渉縞の発生があった。
(2) Interference fringes The surface opposite to the hard coat layer of the optical laminate is rubbed with sandpaper, then black tape is applied for matting, and the optical laminate is visually observed from the surface of the hard coat layer. Evaluation was made based on evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
Evaluation ○: No interference fringes were generated.
Evaluation x: Interference fringes were generated.

(3)密着性
得られたハードコートフィルムの密着性の評価を、碁盤目試験(JIS K5400)の方法を用いて行った。切傷の交点にわずかな剥離があって、正方形の一目一目に剥がれが無く、欠損部の面積が全正方形面積の5%以内であるものを○、5%を超えるものを×とした。
(3) Adhesiveness The adhesiveness of the obtained hard coat film was evaluated using the method of a cross cut test (JIS K5400). A case where there was a slight peeling at the intersection of the cuts, there was no peeling at a glance at a square, and the area of the defect portion was within 5% of the total square area, and a case where it exceeded 5% was rated as x.

製造例1:薄層形成用組成物の調製
下記表1の組成表に従って混合し濾過して調製した薄層形成用組成物を調製した。
Production Example 1: Preparation of thin layer forming composition A thin layer forming composition prepared by mixing and filtering in accordance with the composition table of Table 1 below was prepared.

Figure 0004882328
(実施例1)
透明基材フィルムとして、80μmセルローストリアセテートフィルム(TF80UF:商品名、富士写真フィルム(株)製)を用い、基材上に製造例1で調整した薄層形成用組成物を、乾燥厚みで10μmとなるように塗工し、90mJの紫外線にて硬化させた。その後、ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「IPA−ST」)をシリカ微粒子として25重量部含有するように混合して得られたハードコート層形成用組成物を、乾燥膜厚で10μmとなるように薄層上に塗工し、90mJの紫外線にて硬化させることにより本発明の光学積層体を得た。
Figure 0004882328
Example 1
Using a 80 μm cellulose triacetate film (TF80UF: trade name, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as the transparent substrate film, the composition for forming a thin layer prepared in Production Example 1 on the substrate was 10 μm in dry thickness. It was coated so that it was, and cured with 90 mJ ultraviolet rays. Thereafter, the weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. 100 parts by weight of the resin prepared as described above was mixed so that 25 parts by weight of colloidal silica having an average particle size of 10 to 20 nm (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “IPA-ST”) was contained as silica fine particles. The optical layered product of the present invention was obtained by applying the hard coat layer-forming composition obtained in this way onto a thin layer so as to have a dry film thickness of 10 μm and curing it with 90 mJ of ultraviolet light.

(実施例2)
樹脂(B)としてポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が75:25となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「MEK−ST」)をシリカ微粒子として25重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例1と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。
(Example 2)
As a resin (B), the weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 75: 25 parts by weight of colloidal silica having an average particle size of 10 to 20 nm (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “MEK-ST”) as silica fine particles is contained with respect to 100 parts by weight of the resin prepared to be 25. The optical layered body of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a hard coat layer was obtained by mixing with the above.

(実施例3)
樹脂(B)としてポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が25:75となるように調製した樹脂を用いてハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例2と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。
(Example 3)
As a resin (B), a weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 25: The optical laminate of the present invention was obtained in the same manner as in Example 2 except that the hard coat layer-forming composition was obtained using the resin prepared to be 75.

(実施例4)
ハードコート層形成用組成物中に、シリカ微粒子として平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(三菱レイヨン株式会社製、商品名「ダイヤビームUK−3901T」)を25重量部含有するように混合し、得られたハードコート層形成用組成物を乾燥膜厚で20μmとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例1と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。
Example 4
In the composition for forming the hard coat layer, mixed so as to contain 25 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name “Diabeam UK-3901T”) having an average particle size of 10 to 20 nm as silica fine particles, The optical layered body of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained composition for forming a hard coat layer was coated on a thin layer so as to have a dry film thickness of 20 μm.

(実施例5)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(三菱レイヨン株式会社製、商品名「ダイヤビームRQ−5001」)をシリカ微粒子として45重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例1と同様の方法で本発明の光学積層体を得た。
(Example 5)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. To 100 parts by weight of the prepared resin, a colloidal silica having an average particle diameter of 10 to 20 nm (trade name “Diabeam RQ-5001” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is mixed so as to contain 45 parts by weight as silica fine particles. An optical laminate of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a hard coat layer was obtained.

(実施例6)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が25:75となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「MIBK−ST」)をシリカ微粒子として45重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと、及び乾燥膜厚で15μmとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Example 6)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 25:75. Hardened by mixing 45 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “MIBK-ST”) having an average particle diameter of 10 to 20 nm with respect to 100 parts by weight of the prepared resin. An optical layered body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a coat layer was obtained and coating was performed on a thin layer so that the dry film thickness was 15 μm.

(比較例1)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部をハードコート層形成用組成物とし、コロイダルシリカを用いなかったこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 1)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that 100 parts by weight of the prepared resin was used as the composition for forming a hard coat layer, and colloidal silica was not used.

(比較例2)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が80:20となるように調製した樹脂100重量部をハードコート層形成用組成物とし、コロイダルシリカを用いなかったこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 2)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 80:20. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that 100 parts by weight of the prepared resin was used as the composition for forming a hard coat layer, and colloidal silica was not used.

(比較例3)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「IPA−ST」)をシリカ微粒子として10重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 3)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. Hardened by mixing 10 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “IPA-ST”) having an average particle diameter of 10 to 20 nm with respect to 100 parts by weight of the prepared resin. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a coat layer was obtained.

(比較例4)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径50nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「スノーテックス 20L」)をシリカ微粒子として25重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 4)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. Hard coat layer by mixing 25 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “Snowtex 20L”) having an average particle diameter of 50 nm with 100 parts by weight of the prepared resin. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the forming composition was obtained.

(比較例5)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径50nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「スノーテックス 20L」)をシリカ微粒子として45重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと、及び乾燥膜厚で20μmとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 5)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. Hard coat layer by mixing 45 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “Snowtex 20L”) with an average particle diameter of 50 nm as silica fine particles with respect to 100 parts by weight of the prepared resin An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for formation was obtained and coating was performed on a thin layer so as to have a dry film thickness of 20 μm.

(比較例6)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「MIBK−ST」)をシリカ微粒子として70重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと、及び乾燥膜厚で20μmとなるように薄層上に塗工しこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 6)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. Hardened by mixing 70 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “MIBK-ST”) having an average particle diameter of 10 to 20 nm with 100 parts by weight of the prepared resin. An optical layered body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a coat layer was obtained and coating was performed on a thin layer so that the dry film thickness was 20 μm.

(比較例7)
ポリエステルアクリレート(アロニックスM−9050:商品名、東亜合成(株)製)とウレタンアクリレートオリゴマー(紫光UV−1700B:商品名、日本合成化学(株)製)の重量比が50:50となるように調製した樹脂100重量部に対して、平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「MIBK−ST」)をシリカ微粒子として70重量部含有するように混合してハードコート層形成用組成物を得たこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 7)
The weight ratio of polyester acrylate (Aronix M-9050: trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (purple UV-1700B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is 50:50. Hardened by mixing 70 parts by weight of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “MIBK-ST”) having an average particle diameter of 10 to 20 nm with 100 parts by weight of the prepared resin. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a coat layer was obtained.

(比較例8)
透明基材に薄層を形成せず、ハードコート層形成用組成物中に、シリカ微粒子として平均粒子径10〜20nmのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名「IPA−ST」)を25重量部含有するように混合し、得られたハードコート層形成用組成物を透明基材フィルム上に塗工したこと以外は、前記実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Comparative Example 8)
Without forming a thin layer on the transparent substrate, colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name “IPA-ST”) having an average particle size of 10 to 20 nm as silica fine particles in the hard coat layer forming composition. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a hard coat layer was mixed so as to contain 25 parts by weight and the obtained composition for forming a hard coat layer was coated on a transparent substrate film.

<結果のまとめ>
上記実施例及び比較例で得られた光学積層体を、上記評価方法にて評価した。評価結果を表2に示す。
<Summary of results>
The optical laminates obtained in the above examples and comparative examples were evaluated by the above evaluation methods. The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 0004882328
Figure 0004882328

実施例1〜6で得られた本発明の光学積層体は、干渉縞がなく、ハードコート層表面の硬度、密着性も十分な結果となった。
一方、ハードコート層の材料としてコロイダルシリカの含有量が本発明よりも少ない比較例1〜3で得られた光学積層体は、干渉縞がなく、密着性も十分であったが、硬度が不十分だった。特にハードコート層中のウレタンアクリレートの含有量が好ましい範囲よりも少ない比較例2の光学積層体は、ハードコート層表面の硬度が低かった。
The optical laminates of the present invention obtained in Examples 1 to 6 had no interference fringes, and the hard coat layer surface had sufficient hardness and adhesion.
On the other hand, the optical laminates obtained in Comparative Examples 1 to 3 having a colloidal silica content less than that of the present invention as a material for the hard coat layer had no interference fringes and sufficient adhesion, but had insufficient hardness. It was enough. In particular, the optical layered body of Comparative Example 2 in which the content of urethane acrylate in the hard coat layer was less than the preferred range had low hardness on the surface of the hard coat layer.

また、ハードコート層の材料としてコロイダルシリカの平均粒子径が本発明の範囲を超える比較例4及び5で得られた光学積層体は、干渉縞がなく、密着性も十分だったが、ハードコート層表面の硬度は不十分だった。   Further, the optical laminates obtained in Comparative Examples 4 and 5 in which the average particle size of colloidal silica as the material of the hard coat layer exceeded the range of the present invention had no interference fringes and sufficient adhesion, The hardness of the layer surface was insufficient.

また、コロイダルシリカの含有量が本発明を超える比較例6及び7で得られた光学積層体は、干渉縞がなく、ハードコート層表面の硬度も十分だったが、密着性は不十分だった。
また、薄層を介さずに透明基材上にハードコート層を直接積層させた比較例8で得られた光学積層体は、ハードコート層表面の硬度及び密着性は十分だったが、干渉縞が発生した。
Further, the optical laminates obtained in Comparative Examples 6 and 7 in which the content of colloidal silica exceeded the present invention had no interference fringes and had sufficient hardness on the surface of the hard coat layer, but the adhesion was insufficient. .
In addition, the optical laminate obtained in Comparative Example 8 in which the hard coat layer was directly laminated on the transparent base material without using a thin layer had sufficient hardness and adhesion on the surface of the hard coat layer. There has occurred.

本発明に係る光学積層体の基本的な層構成を示す図である。It is a figure which shows the basic layer structure of the optical laminated body which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 光学積層体
2 光透過性基材
3 薄層
4 ハードコート層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical laminated body 2 Light transmissive base material 3 Thin layer 4 Hard-coat layer

Claims (7)

セルローストリアセテート基材の上に、重量平均分子量が200以上1000以下であり、かつ、2以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂(A)を含有する薄層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなる薄層と、前記薄層の上に、少なくとも分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを含有する電離放射線硬化性組成物である樹脂(B)及び平均粒子径が10〜40nmのシリカ微粒子を含有するハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、紫外線又は電離放射線にて硬化してなり、当該シリカ微粒子が当該樹脂(B)100重量部に対して20〜60重量部含有されたハードコート層が少なくとも積層されてなる、画像表示装置用の光学積層体。 On the cellulose triacetate substrate , a coating film of a composition for forming a thin layer containing a resin (A) having a weight average molecular weight of 200 or more and 1000 or less and having two or more (meth) acryl groups is formed. A thin layer formed by curing with ultraviolet rays or ionizing radiation , and an ionizing radiation containing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule at least on the thin layer. Forming a coating film of a composition for forming a hard coat layer containing a resin (B) that is a curable composition and silica fine particles having an average particle size of 10 to 40 nm, and cured by ultraviolet rays or ionizing radiation, An optical laminate for an image display device , comprising at least a hard coat layer containing 20 to 60 parts by weight of silica fine particles based on 100 parts by weight of the resin (B). 前記樹脂(B)が、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物からなる群から選択される一種または二種以上を含むものである、請求項1に記載の光学積層体。The resin (B) is a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, The optical laminated body of Claim 1 containing 1 type, or 2 or more types selected from the group which consists of a melamine (meth) acrylate and a cationic polymerization type epoxy compound. 前記樹脂(B)が、少なくともウレタン(メタ)アクリレートを30〜70重量%含むものである、請求項2に記載の光学積層体。The optical laminate according to claim 2, wherein the resin (B) contains at least 30 to 70% by weight of urethane (meth) acrylate. 前記樹脂(A)が、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFEO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAEO(エチレンオキシド)変性ジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートからなる群から選択される一種または二種以上の混合物である、請求項1乃至3のいずれかに記載の光学積層体。The resin (A) is ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth). ) Acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified di (Meth) acrylate, bisphenol FEO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, bisphenol AEO (ethylene oxide) modified di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meta) One or a mixture of two or more selected from the group consisting of acrylate, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β-acryloyloxypropionate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate The optical laminated body according to any one of claims 1 to 3. 前記ハードコート層が帯電防止剤及び/又は防眩剤を含んでなる、請求項1乃至4のいずれかに記載の光学積層体。   The optical laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the hard coat layer comprises an antistatic agent and / or an antiglare agent. 前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、またはこれらの二種以上の層を形成してなる、請求項1乃至5のいずれかに記載の光学積層体。   The optical laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein an antistatic layer, an antiglare layer, a low refractive index layer, or two or more of these layers are formed on the hard coat layer. 反射防止積層体として利用される、請求項1乃至6のいずれかに記載の光学積層体。   The optical laminate according to any one of claims 1 to 6, which is used as an antireflection laminate.
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