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JP4895267B2 - Method for producing 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative - Google Patents
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JP4895267B2 - Method for producing 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative - Google Patents

Method for producing 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative Download PDF

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JP4895267B2 JP2006043652A JP2006043652A JP4895267B2 JP 4895267 B2 JP4895267 B2 JP 4895267B2 JP 2006043652 A JP2006043652 A JP 2006043652A JP 2006043652 A JP2006043652 A JP 2006043652A JP 4895267 B2 JP4895267 B2 JP 4895267B2
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Description

本発明は、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative.

近年、脂環骨格とラクトン骨格の両者を有する(メタ)アクリル酸エステルがレジスト樹脂用モノマーとして使用されている(例えば、特許文献1参照)。この脂環骨格とラクトン骨格の両者を有する(メタ)アクリル酸エステルの合成中間体としては、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体が有用である。
この3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体の製造法として、例えば、特許文献2には、適当な溶媒中でフランと無水マレイン酸とをディールズアルダー反応させる方法が記載されている。
WO02/046179号国際公開パンフレット 特表2002−520415号公報
In recent years, (meth) acrylic acid esters having both an alicyclic skeleton and a lactone skeleton have been used as monomers for resist resins (see, for example, Patent Document 1). A 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative is useful as a synthetic intermediate of (meth) acrylic acid ester having both alicyclic skeleton and lactone skeleton.
As a method for producing this 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative, for example, Patent Document 2 discloses a Diels-Alder reaction of furan and maleic anhydride in an appropriate solvent. Is described.
WO02 / 046179 International Publication Pamphlet Special table 2002-520415 gazette

しかしながら、特許文献2に記載された方法では、高温で反応させた場合、レトロディールズアルダー反応を引き起こすため、室温で反応させる必要があった。また室温で反応させた場合は、反応時間が2日間も要するといった問題があった。
本発明の目的は、この3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体を、温和な条件で短時間で収率良く、製造可能な方法を提供することである。
However, in the method described in Patent Document 2, when the reaction is performed at a high temperature, a Retro Diels-Alder reaction is caused, so that the reaction must be performed at room temperature. Moreover, when it was made to react at room temperature, there existed a problem that reaction time required 2 days.
An object of the present invention is to provide a process capable of producing the 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative in a short time and with good yield under mild conditions. .

本発明は、有機溶媒中、下記式(1)で示されるフラン誘導体と、
(式(1)中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、有機スルフィニル基、有機スルホニル基を表す。)
下記式(2)で示される無水マレイン酸とを、
ホウ素原子を有するルイス酸の存在下で反応させて、
下記式(3)で表される3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体を製造する方法に関する。
(式(3)において、R1、R2、R3およびR4は、式(1)と同義である。)
The present invention provides a furan derivative represented by the following formula (1) in an organic solvent,
(In formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a formyl group, a cyano group, a carboxyl group, or an alkyl optionally having a substituent. A group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an organic sulfinyl group, or an organic sulfonyl group.)
Maleic anhydride represented by the following formula (2):
Reacting in the presence of a Lewis acid having a boron atom ,
The present invention relates to a method for producing a 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative represented by the following formula (3).
(In formula (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as in formula (1).)

本発明の製造方法によれば、温和な条件下で短時間で収率良くレジスト材料のモノマー原料として有用である3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体を製造することができる。   According to the production method of the present invention, a 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative that is useful as a monomer raw material for a resist material in a short time and in a high yield under mild conditions. Can be manufactured.

まず最初に、本発明において用いる有機溶媒について説明する。
有機溶媒は、反応に悪影響を与えない限り特に制限されるものではないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテルなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、1,4−ジオキサンなどのエーテル;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素;またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。
First, the organic solvent used in the present invention will be described.
The organic solvent is not particularly limited as long as it does not adversely influence the reaction. For example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, petroleum ether; benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, etc. Aromatic hydrocarbons; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, diisopropyl ether, dimethoxyethane, dibutyl ether, 1,4-dioxane; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, trichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene Or a mixed solvent thereof.

これらの中では、収率の点から、テトラヒドロフラン、トルエン、ジイソプロピルエーテルまたはヘキサンが好ましい。テトラヒドロフラン、トルエン、ジイソプロピルエーテル、またはヘキサンを用いた場合に、レトロディールズアルダー反応が抑制される傾向にある。
有機溶媒の使用量は、特に制限されないが、後述するフラン誘導体100質量部に対して10〜10000質量部の範囲であるのが好ましい。有機溶媒の使用量が、10質量部以上の場合に収率が向上する傾向にあり、10000質量部以下の場合に反応時間を短くすることができる傾向にある。有機溶媒の使用量の下限値は、100質量部以上がより好ましく、また、上限値は1000質量部以下が好ましい。
Among these, tetrahydrofuran, toluene, diisopropyl ether or hexane is preferable from the viewpoint of yield. When tetrahydrofuran, toluene, diisopropyl ether, or hexane is used, the Retro Diels-Alder reaction tends to be suppressed.
Although the usage-amount of an organic solvent is not restrict | limited in particular, It is preferable that it is the range of 10-10000 mass parts with respect to 100 mass parts of furan derivatives mentioned later. When the amount of the organic solvent used is 10 parts by mass or more, the yield tends to be improved, and when it is 10000 parts by mass or less, the reaction time tends to be shortened. The lower limit of the amount of the organic solvent used is more preferably 100 parts by mass or more, and the upper limit is preferably 1000 parts by mass or less.

次に、下記一般式(1)について説明する。
Next, the following general formula (1) will be described.

一般式(1)であらわされるフラン誘導体中において、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、有機スルフィニル基、有機スルホニル基を表す。
以下、このR1〜R4について説明する。
ハロゲン原子としては、特に制限されず、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In the furan derivative represented by the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, a formyl group, a cyano group, a carboxyl group or a substituent. And an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an organic sulfinyl group, and an organic sulfonyl group, which may be present.
Hereinafter, R 1 to R 4 will be described.
The halogen atom is not particularly limited, and examples thereof include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換基を有してもよいアルキル基のアルキル基としては、特に制限されないが、分岐状または直鎖状の炭素数1〜10のアルキル基が好ましい。置換基を有してもよいアルキル基のアルキル基は炭素数としては1〜6が特に好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基などが挙げられる。
置換基を有してもよいアルキル基の置換基としては、特に制限されず、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基;tert−ブチルジメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ基などが挙げられる。ここで、アルキル基の置換基としてのアルコキシ基の炭素数は、特に制限されないが、1〜6が好ましい。また、シリルオキシ基におけるアルキル基の炭素数は、特に制限されないが、1〜6が好ましい。なお、三置換シリルオキシ基とは、アルキル基およびフェニル基から選ばれる3個の置換基で置換されたシリルオキシ基をいう。
Although it does not restrict | limit especially as an alkyl group of the alkyl group which may have a substituent, A branched or linear C1-C10 alkyl group is preferable. The alkyl group of the alkyl group which may have a substituent particularly preferably has 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, A hexyl group etc. are mentioned.
The substituent of the alkyl group which may have a substituent is not particularly limited, and examples thereof include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group And alkoxy groups such as tert-butyldimethylsilyloxy group and tert-butyldiphenylsilyloxy group. Here, the carbon number of the alkoxy group as a substituent of the alkyl group is not particularly limited, but 1 to 6 is preferable. Moreover, the carbon number of the alkyl group in the silyloxy group is not particularly limited, but 1 to 6 is preferable. The trisubstituted silyloxy group refers to a silyloxy group substituted with three substituents selected from an alkyl group and a phenyl group.

アルコキシ基としては、特に制限されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などの直鎖状または分岐状のアルコキシ基が挙げられる。このアルコキシ基の炭素数は、特に制限されないが、1〜10が好ましく、1〜6が特に好ましい。
アルキルチオ基としては、特に制限されず、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基などの直鎖状または分岐状アルキルチオ基が挙げられる。このアルキルチオ基の炭素数は、特に制限されないが、1〜10が好ましく、1〜6が特に好ましい。
The alkoxy group is not particularly limited, and examples thereof include linear or branched alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, and butoxy group. The number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, but 1 to 10 is preferable and 1 to 6 is particularly preferable.
The alkylthio group is not particularly limited, and examples thereof include linear or branched alkylthio groups such as a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, and a butylthio group. The number of carbon atoms of the alkylthio group is not particularly limited, but 1 to 10 is preferable, and 1 to 6 is particularly preferable.

アルコキシカルボニル基としては、特に制限されず、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基が挙げられる。このアルコキシカルボニル基の炭素数は、特に制限されないが、1〜10が好ましく、1〜6が特に好ましい。
アシル基としては、特に制限されず、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ピバロイル基などのアルカノイル基;ベンゾイル基などのアロイル基が挙げられる。このアルカノイル基の炭素数は、特に制限されないが、2〜10が好ましく、2〜6が特に好ましい。
アシルオキシ基としては、特に制限されず、例えば、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基などのアルカノイルオキシ基;ベンゾイルオキシ基などのアロイルオキシ基が挙げられる。このアルカノイルオキシ基の炭素数は、特に制限されないが、2〜10が好ましく、2〜6が特に好ましい。
The alkoxycarbonyl group is not particularly limited, and examples thereof include alkoxycarbonyl groups such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a tert-butoxycarbonyl group. The number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is not particularly limited, but 1 to 10 is preferable, and 1 to 6 is particularly preferable.
The acyl group is not particularly limited, and examples thereof include alkanoyl groups such as acetyl group, propanoyl group, butanoyl group and pivaloyl group; and aroyl groups such as benzoyl group. The number of carbon atoms of the alkanoyl group is not particularly limited, but is preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The acyloxy group is not particularly limited, and examples thereof include alkanoyloxy groups such as acetoxy group, propanoyloxy group, butanoyloxy group and pivaloyloxy group; and aroyloxy groups such as benzoyloxy group. The number of carbon atoms of the alkanoyloxy group is not particularly limited, but is preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 6.

有機スルフィニル基は、有機基が結合したスルフィニル基であり、置換基を有していてもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有していてもよいアリールスルフィニル基などが含まれる。アルキルスルフィニル基のアルキル部分は特に制限されないが、炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。アリールスルフィニル基のアリール部分としては、例えばフェニル基が挙げられる。
アルキルスルフィニル基が有していてもよい置換基としては特に制限されないが、例えばアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基)、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。アリールスルフィニル基が芳香族環上に有していてもよい置換基としては、例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜6のアルキル基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基)、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。
有機スルフィニル基の具体例としては、例えば、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基、p−トルエンスルフィニル基などが挙げられる。
The organic sulfinyl group is a sulfinyl group to which an organic group is bonded, and includes an alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, and the like. The alkyl part of the alkylsulfinyl group is not particularly limited, but an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. Examples of the aryl moiety of the arylsulfinyl group include a phenyl group.
The substituent that the alkylsulfinyl group may have is not particularly limited, and examples thereof include an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms), a halogen atom, a cyano group, and a nitro group. Examples of the substituent that the arylsulfinyl group may have on the aromatic ring include an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) and an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms). , Halogen atom, cyano group, nitro group and the like.
Specific examples of the organic sulfinyl group include a methanesulfinyl group, an ethanesulfinyl group, a benzenesulfinyl group, and a p-toluenesulfinyl group.

有機スルホニル基は、有機基が結合したスルホニル基であり、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基、ハロスルホニル基、置換基を有していてもよいアルコキシスルホニル基などが含まれる。アルキルスルホニル基のアルキル部分は好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、アルコキシスルホニル基のアルコキシ部分は好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基である。アリールスルホニル基のアリール部分としては、例えばフェニル基が挙げられる。
アルキルスルホニル基およびアルコキシスルホニル基が有していてもよい置換基としては、例えばアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基)、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。アリールスルホニル基が芳香族環上に有していてもよい置換基としては、例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜6のアルキル基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基)、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。ハロスルホニル基が有するハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
The organic sulfonyl group is a sulfonyl group to which an organic group is bonded, and has an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, a halosulfonyl group, and a substituent. And an alkoxysulfonyl group which may be present. The alkyl part of the alkylsulfonyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the alkoxy part of the alkoxysulfonyl group is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl moiety of the arylsulfonyl group include a phenyl group.
Examples of the substituent that the alkylsulfonyl group and alkoxysulfonyl group may have include an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms), a halogen atom, a cyano group, and a nitro group. Examples of the substituent that the arylsulfonyl group may have on the aromatic ring include an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) and an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms). , Halogen atom, cyano group, nitro group and the like. As a halogen atom which a halosulfonyl group has, a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned, for example.

有機スルホニル基の具体例としては、例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、クロロスルホニル基、ブロモスルホニル基、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、トリフルオロメトキシスルホニル基などが挙げられる。
以上、R1〜R4について説明したが、上述した基の中では、入手のしやすさの点で、水素原子が好ましい。
Specific examples of the organic sulfonyl group include, for example, a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, a benzenesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a chlorosulfonyl group, a bromosulfonyl group, a methoxysulfonyl group, an ethoxysulfonyl group, and a trifluoromethoxysulfonyl group. Etc.
Having described R 1 to R 4, in the groups described above, in terms of ease of availability, hydrogen atom is preferable.

次に、下記式(2)で表される無類マレイン酸について説明する。
Next, the non-maleic acid represented by the following formula (2) will be described.

式(2)で表される無水マレイン酸は、市販されているものを使用することができる。
無水マレイン酸の使用量は、特に限定されないが、式(1)で表されるフラン誘導体100モル部に対し、5〜2000モル部の範囲が好ましい。無水マレイン酸の使用量が、5モル部以上の場合に収率および反応時間を短くすることができる傾向にあり、2000モル部以下の場合に、反応時間を短くすることができる傾向にある。無水マレイン酸の使用量の下限値は、15モル部以上がより好ましく、またこの上限値は、500モル部以下がより好ましい。
A commercially available maleic anhydride represented by the formula (2) can be used.
Although the usage-amount of maleic anhydride is not specifically limited, The range of 5-2000 mol part is preferable with respect to 100 mol part of furan derivatives represented by Formula (1). When the amount of maleic anhydride used is 5 mol parts or more, the yield and reaction time tend to be shortened, and when it is 2000 mol parts or less, the reaction time tends to be shortened. The lower limit of the amount of maleic anhydride used is more preferably 15 parts by mole or more, and the upper limit is more preferably 500 parts by mole or less.

次に、ルイス酸について説明する。
本発明に使用できるルイス酸としては、特に制限されないが、例えば、無水塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム等のアルミニウム化合物;臭化ガリウム、ヨウ化ガリウム、無水塩化第二鉄、無水臭化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化チタン、ヨウ化チタン、無水塩化第一スズ、臭化第一スズ、無水塩化第二スズ等の4族および5族に属する金属を含有する化合物;ヒドロフラン錯塩(BH3・THF)、ボラン−ジメチルスルフィド錯塩(BH3・(CH32S)、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯塩(BF3・(C252O)、クロロボラン−ジエチルエーテル錯塩(BH2Cl・(C252O)、クロロボラン−ジメチルスルフィド錯塩(BH2Cl・(CH32S)、ジクロロボラン−ジメチルスルフィド錯塩(BHCl2・(CH32S)、ブロモボラン−ジメチルスルフィド錯塩(BH2Br・(CH32S)、ジブロモボラン−ジメチルスルフィド錯塩(BHBr2・(CH32S)等のボラン化合物;4,6−トリメチルベンゾイルオキシ)ボラン、ビス(クロロアセトキシ)ボラン、トリアセトキシボラン、トリ(フルオロアセトキシ)ボラン、トリプロピオニルオキシボラン、トリアクリロイルオキシボラン、トリメタクリロイルオキシボランなどのアシルオキシボラン化合物;α−[2,6−ビス(イソプロポキシ)ベンゾイル]オキシ−5−オキソ−1,3,2−ジオキサボランなどのジオキソボラン化合物;4−イソプロピル−3−パラトルエンスルホニル−1,3,2−オキサザボリジン−5−オン、4−t−ブチル−3−パラトルエンスルホニル−1,3,2−オキサザボリジン−5−オンなどのオキサザボリジン化合物などが挙げられる。
Next, the Lewis acid will be described.
The Lewis acid that can be used in the present invention is not particularly limited, but examples thereof include aluminum compounds such as anhydrous aluminum chloride, aluminum bromide, diethylaluminum chloride; gallium bromide, gallium iodide, anhydrous ferric chloride, anhydrous bromide Metals belonging to Group 4 and Group 5 such as ferric, zinc chloride, zinc bromide, zinc iodide, titanium chloride, titanium iodide, anhydrous stannous chloride, stannous bromide, anhydrous stannic chloride Compounds contained: Hydrofuran complex salt (BH 3 .THF), borane-dimethyl sulfide complex salt (BH 3. (CH 3 ) 2 S), boron trichloride, boron tribromide, boron trifluoride-diethyl ether complex salt (BF 3 · (C 2 H 5) 2 O), chloroborane - diethyl ether complex (BH 2 Cl · (C 2 H 5) 2 O), chloroborane - dimethyl sulfide complex (BH 2 Cl (CH 3) 2 S), dichloroborane - dimethyl sulfide complex (BHCl 2 · (CH 3) 2 S), Buromoboran - dimethyl sulfide complex (BH 2 Br · (CH 3 ) 2 S), dibromo borane - dimethyl sulfide complex Borane compounds such as (BHBr 2. (CH 3 ) 2 S); 4,6-trimethylbenzoyloxy) borane, bis (chloroacetoxy) borane, triacetoxyborane, tri (fluoroacetoxy) borane, tripropionyloxyborane, tri Acyloxyborane compounds such as acryloyloxyborane and trimethacryloyloxyborane; Dioxoborane compounds such as α- [2,6-bis (isopropoxy) benzoyl] oxy-5-oxo-1,3,2-dioxaborane; 4-isopropyl- 3-paratoluenesulfonyl-1 3,2 Okisazaborijin 5-one, and the like Okisazaborijin compounds such as 4-t-butyl-3-p-toluenesulfonyl-1,3,2 Okisazaborijin 5-one.

これらの中でも、無水塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄、塩化亜鉛、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩、ボラン−ジメチルスルフィド錯塩、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯塩、クロロボラン−ジエチルエーテル錯塩、クロロボラン−ジメチルスルフィド錯塩、ジクロロボラン−ジメチルスルフィド錯塩、ブロモボラン−ジメチルスルフィド錯塩、ジブロモボラン−ジメチルスルフィド錯塩、上記したアシルオキシボラン化合物、上記したジオキソボラン化合物または上記したオキサザボリジン化合物などのホウ素化合物を用いるのが好ましく、後処理操作の容易性と目的化合物を高い選択性で得られる点から、ホウ素化合物を用いるのが特に好ましい。   Among these, anhydrous aluminum chloride, anhydrous ferric chloride, zinc chloride, borane-tetrahydrofuran complex, borane-dimethyl sulfide complex, boron trichloride, boron tribromide, boron trifluoride-diethyl ether complex, chloroborane-diethyl ether Using boron compounds such as complex salts, chloroborane-dimethylsulfide complex salts, dichloroborane-dimethylsulfide complex salts, bromoborane-dimethylsulfide complex salts, dibromoborane-dimethylsulfide complex salts, the above acyloxyborane compounds, the above dioxoborane compounds or the above oxazaboridine compounds. It is particularly preferable to use a boron compound from the viewpoint of ease of post-treatment operation and obtaining a target compound with high selectivity.

ルイス酸の使用量は、特に制限されないが、式(1)で表されるフラン誘導体100モル部に対して0.1〜100モル部の範囲であるのが好ましい。ルイス酸の使用量が、0.1モル部以上の場合に反応時間が短縮され、収率が向上する傾向にあり、100モル部以下の場合に、副生成物の生成が少なくなる傾向にある。ルイス酸の使用量の下限値は、0.5モル部以上がより好ましく、また、この下限値は20モル部以下がより好ましい。   Although the usage-amount of a Lewis' acid is not restrict | limited in particular, It is preferable that it is the range of 0.1-100 mol part with respect to 100 mol part of furan derivatives represented by Formula (1). When the amount of Lewis acid used is 0.1 mol part or more, the reaction time tends to be shortened and the yield tends to improve, and when it is 100 mol part or less, the production of by-products tends to decrease. . The lower limit of the amount of Lewis acid used is more preferably 0.5 mol parts or more, and the lower limit is more preferably 20 mol parts or less.

本発明において、反応温度は、特に制限されないが、−80℃〜80℃の範囲であるのが好ましい。反応温度が−80℃以上の場合に反応時間が短縮され、収率が向上する傾向にあり、80℃以下の場合に、レトロディールズアルダー反応がを抑制できる傾向にあり、収率が向上する傾向にある。反応時間の下限値は、−20℃以上がより好ましく、また、この上限値は30℃以下がより好ましい。   In the present invention, the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably in the range of -80 ° C to 80 ° C. When the reaction temperature is -80 ° C or higher, the reaction time is shortened and the yield tends to be improved. When the reaction temperature is 80 ° C or lower, the Retro Diels-Alder reaction tends to be suppressed and the yield is improved. There is a tendency. The lower limit of the reaction time is more preferably −20 ° C. or higher, and the upper limit is more preferably 30 ° C. or lower.

本発明においては、前記式(1)で示されるフラン誘導体と、前記式(2)で示される無水マレイン酸とを、ルイス酸の存在下で反応させて、下記式(3)で表される3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体を得る。
式(3)において、R1、R2、R3およびR4は、前記式(1)と同義である。
In the present invention, the furan derivative represented by the above formula (1) and the maleic anhydride represented by the above formula (2) are reacted in the presence of a Lewis acid, and represented by the following formula (3). 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative is obtained.
In the formula (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as in the formula (1).

このようにして得られた3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体は、通常の有機化合物の単離・精製に用いられる方法により単離・精製することができる。
例えば、反応混合物に水を加え、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルムなどの有機溶媒を加えて抽出し、無水硫酸ナトリウムなどで乾燥後、濃縮し、得られる粗生成物を必要に応じて再結晶、蒸留、クロマトグラフィーなどにより精製する。また、反応条件によっては、反応の進行に伴って反応系中に生成物が析出するので、反応後の反応液をそのまま濾別することもできるし、反応液を冷却することによって生成物を析出させ、得られた結晶を濾別することにより単離することもできる。
The 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative thus obtained can be isolated and purified by a method used for usual isolation and purification of organic compounds. it can.
For example, water is added to the reaction mixture, extraction is performed by adding an organic solvent such as pentane, hexane, petroleum ether, benzene, toluene, diethyl ether, diisopropyl ether, ethyl acetate, dichloromethane, chloroform, etc. Concentrate and purify the resulting crude product by recrystallization, distillation, chromatography or the like, if necessary. Depending on the reaction conditions, the product precipitates in the reaction system as the reaction proceeds, so the reaction solution after the reaction can be filtered off as it is, or the product is precipitated by cooling the reaction solution. And the obtained crystals can be isolated by filtration.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
実施例1
温度計およびメカニカルスターラを装備した内容積3000mlの3口フラスコの内部を窒素置換し、ここにトルエン500ml、蒸留したフラン132g(2mol)および無水マレイン酸981g(10.0mol)を入れ、内温を0℃まで冷却した。この混合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩(BH3・THF)の0.93Mテトラヒドロフラン溶液0.108ml(0.10mol)を、内温を2℃以下に保ちながら20分間で滴下し、滴下終了後、同温度0℃で10時間攪拌して、反応を行った。その後、トルエンおよびテトラヒドロフランを減圧除去し、生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、5℃以下に冷却したヘキサン300mlで洗浄後、減圧下で2時間乾燥し、無色の結晶として、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物を282.4g(収率85%)を得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not restrict | limited at all by these Examples.
Example 1
The inside of a 3000 ml three-necked flask equipped with a thermometer and a mechanical stirrer was purged with nitrogen, and 500 ml of toluene, 132 g (2 mol) of distilled furan and 981 g (10.0 mol) of maleic anhydride were placed therein. Cooled to 0 ° C. To this mixed solution, 0.108 ml (0.10 mol) of a 0.93M tetrahydrofuran solution of borane-tetrahydrofuran complex salt (BH 3 .THF) was added dropwise over 20 minutes while maintaining the internal temperature at 2 ° C. or lower. The reaction was carried out by stirring at the same temperature of 0 ° C. for 10 hours. Thereafter, toluene and tetrahydrofuran were removed under reduced pressure, and the produced crystals were filtered off with a glass filter, washed with 300 ml of hexane cooled to 5 ° C. or lower, dried for 2 hours under reduced pressure, and 3,6- 282.4 g (yield 85%) of epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was obtained.

実施例2
有機溶媒として、トルエンの代わりにテトラヒドロフランを用いること以外は、実施例1と同様の方法で、反応を行った。
その後、テトラヒドロフランを減圧除去し、生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、5℃以下に冷却したヘキサン300mlで洗浄後、減圧下で2時間乾燥し、無色の結晶として、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物を286.1g(収率86%)を得た。
Example 2
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that tetrahydrofuran was used instead of toluene as the organic solvent.
Thereafter, tetrahydrofuran was removed under reduced pressure, and the resulting crystals were filtered off with a glass filter, washed with 300 ml of hexane cooled to 5 ° C. or lower, dried under reduced pressure for 2 hours, and 3,6-epoxy- 286.1 g (yield 86%) of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was obtained.

実施例3
有機溶媒として、トルエンの代わりにジイソプロピルエーテルを用いること以外は、実施例1と同様の方法で、反応を行った。
その後、ジイソプロピルエーテルおよびテトラヒドロフランを減圧除去し、生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、5℃以下に冷却したヘキサン300mlで洗浄後、減圧下で2時間乾燥し、無色の結晶として、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物を289.1g(収率87%)を得た。
Example 3
The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that diisopropyl ether was used instead of toluene as the organic solvent.
Thereafter, diisopropyl ether and tetrahydrofuran were removed under reduced pressure, and the resulting crystals were filtered off with a glass filter, washed with 300 ml of hexane cooled to 5 ° C. or lower, and then dried under reduced pressure for 2 hours to obtain 3, 6 as colorless crystals. -289.1 g (yield 87%) of epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was obtained.

実施例4
有機溶媒として、トルエンの代わりにヘキサンを用いること以外は、実施例1と同様の方法で、反応を行った。
その後、ヘキサンおよびテトラヒドロフランを減圧除去し、生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、5℃以下に冷却したヘキサン300mlで洗浄後、減圧下で2時間乾燥し、無色の結晶として、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物を265.8g(収率80%)を得た。
Example 4
The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that hexane was used instead of toluene as the organic solvent.
Thereafter, hexane and tetrahydrofuran were removed under reduced pressure, and the produced crystals were separated by filtration with a glass filter, washed with 300 ml of hexane cooled to 5 ° C. or lower, and then dried under reduced pressure for 2 hours to give 3,6- 265.8 g (yield 80%) of epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was obtained.

実施例5
有機溶媒として、トルエンの代わりにジエチルエーテルを用いること以外は、実施例1と同様の方法で、反応を行った。
その後、ジエチルエーテルおよびテトラヒドロフランを減圧除去し、生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、5℃以下に冷却したヘキサン300mlで洗浄後、減圧下で2時間乾燥し、無色の結晶として、3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物を232.4g(収率70%)を得た。
Example 5
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that diethyl ether was used instead of toluene as the organic solvent.
Thereafter, diethyl ether and tetrahydrofuran were removed under reduced pressure, and the resulting crystals were separated by filtration with a glass filter, washed with 300 ml of hexane cooled to 5 ° C. or lower, and then dried under reduced pressure for 2 hours. -232.4 g (yield 70%) of epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was obtained.

比較例1
温度計およびメカニカルスターラを装備した内容積3000mlの3口フラスコの内部を窒素置換し、ここにトルエン500ml、蒸留したフラン132g(2mol)および無水マレイン酸981g(10.0mol)を入れ、内温40℃まで昇温した。同温度で48時間攪拌して、反応を行った。
その後、トルエンを減圧除去し、生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、5℃以下に冷却したヘキサン300mlで洗浄後、減圧下で2時間乾燥し、無色の結晶として、3,6エポキシ−1,2,3,6テトラヒドロフタル酸無水物を99.7g(収率30%)を得た。
このように、ルイス酸を用いない反応では、収率が低かった。
Comparative Example 1
The inside of a 3000 ml three-necked flask equipped with a thermometer and a mechanical stirrer was purged with nitrogen, and 500 ml of toluene, 132 g (2 mol) of distilled furan and 981 g (10.0 mol) of maleic anhydride were placed therein. The temperature was raised to ° C. The reaction was carried out with stirring at the same temperature for 48 hours.
Thereafter, toluene was removed under reduced pressure, and the produced crystals were filtered off with a glass filter, washed with 300 ml of hexane cooled to 5 ° C. or lower, and then dried under reduced pressure for 2 hours to obtain 3,6 epoxy-1 as colorless crystals. , 2,3,6 Tetrahydrophthalic anhydride was obtained 99.7 g (yield 30%).
Thus, in the reaction without using Lewis acid, the yield was low.

本発明の製造方法により得られる3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体は、半導体素子や、液晶素子の製造における微細加工の分野で使用されるレジスト材料のモノマー原料として有用である。例えば、レジスト用樹脂モノマーである9−メタクリロイルオキシ−4,10−ジオキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3−オンまたは10−メタクリロイルオキシ−4,10−ジオキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3−オンの合成原料として特に有用である。 The 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative obtained by the production method of the present invention is a resist material used in the field of microfabrication in the production of semiconductor devices and liquid crystal devices. Useful as a monomer raw material. For example, 9-methacryloyloxy-4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-3-one or 10-methacryloyloxy-4,10-dioxa which is a resin monomer for resist It is particularly useful as a raw material for the synthesis of tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-3-one.

Claims (3)

有機溶媒中、下記式(1)で示されるフラン誘導体と、
(式(1)中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、有機スルフィニル基、有機スルホニル基を表す。)
下記式(2)で示される無水マレイン酸とを、
ホウ素原子を有するルイス酸の存在下で反応させて、下記式(3)で表される3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体を製造する方法。
(式(3)において、R1、R2、R3およびR4は、式(1)と同義である。)
In an organic solvent, a furan derivative represented by the following formula (1);
(In formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a formyl group, a cyano group, a carboxyl group, or an alkyl optionally having a substituent. A group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an organic sulfinyl group, or an organic sulfonyl group.)
Maleic anhydride represented by the following formula (2):
A method for producing a 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative represented by the following formula (3) by reacting in the presence of a Lewis acid having a boron atom .
(In formula (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as in formula (1).)
有機溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエン、ジイソプロピルエーテル、ヘキサンである請求項1記載の3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体の製造方法。   The method for producing a 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride derivative according to claim 1, wherein the organic solvent is tetrahydrofuran, toluene, diisopropyl ether or hexane. ルイス酸の使用量が、フラン誘導体100モル部に対して、0.5〜20モル部である、請求項1または2記載の3,6−エポキシ−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物誘導体の製造方法。The 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid according to claim 1 or 2, wherein the Lewis acid is used in an amount of 0.5 to 20 mol parts per 100 mol parts of the furan derivative. A method for producing an anhydride derivative.
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