JP4911043B2 - Cleaning method for compounding equipment for optical materials - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター、接着剤等の光学製品、中でも、眼鏡用プラスチックレンズ製造装置の洗浄方法に関するものである。 The present invention relates to a cleaning method for an optical product such as a plastic lens, a prism, an optical fiber, an information recording base, a filter, and an adhesive, and in particular, a plastic lens manufacturing apparatus for spectacles.
プラスチック材料は軽量かつ靭性に富み、また染色が容易であることから、近年では各種光学材料、特に眼鏡レンズに多く用いられている。光学材料、中でも眼鏡レンズに最も要求される、主たる性能は高屈折率であり、高屈折率化によりレンズの薄肉化が実現される。近年、高屈折率化を目的として硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料が報告されている(特許文献1〜3)が、光学材料用調合装置の洗浄方法に関する記載および開示はない。 In recent years, plastic materials are widely used for various optical materials, particularly eyeglass lenses, because they are light and tough and easy to dye. The main performance that is most required for optical materials, especially spectacle lenses, is a high refractive index, and the lens can be thinned by increasing the refractive index. In recent years, optical materials using inorganic compounds having sulfur atoms and / or selenium atoms for the purpose of increasing the refractive index have been reported (Patent Documents 1 to 3). There is no disclosure.
これらの光学材料用組成物は、熱硬化性である場合が多く、この調合に供した装置類を洗浄する際に先に調合した組成物が残留していると、これら組成物が徐々に硬化して装置に固着し、その除去が困難になる場合がある。接液面にライニングまたはコーティングが施されていない場合、接液面に光学材料組成物が付着しやすく、周知の洗浄方法では残留した組成物を十分に除去できない。 These optical material compositions are often thermosetting, and if the previously prepared composition remains when cleaning the equipment used for this preparation, the composition gradually cures. In some cases, it may be fixed to the apparatus and difficult to remove. When the liquid contact surface is not lined or coated, the optical material composition tends to adhere to the liquid contact surface, and the remaining composition cannot be sufficiently removed by a known cleaning method.
一般的に熱硬化性の光学材料用組成物の調合に供した装置類を洗浄する際には、市販の洗浄剤あるいは通常の有機溶媒が使用されており、物理的な拭き取りを併用する場合もあるが、すべての接液面を洗浄するためには、多くの場合、多量の洗浄剤あるいは有機溶剤が必要であり、物理的拭き取りを実施する場合は、作業環境と時間的な側面で多くの問題がみられる。また、これら従来手法で洗浄した場合には、度々、洗浄残さが装置に残留し、次回の光学材料用組成物の調合において、組成物に異常および異物の存在が見られる場合があった。 In general, when cleaning equipment used to prepare thermosetting optical material compositions, commercially available cleaning agents or ordinary organic solvents are used, and physical wiping may be used in combination. However, in order to clean all wetted surfaces, a large amount of cleaning agent or organic solvent is often required, and when physical wiping is performed, there are many aspects in terms of work environment and time. There is a problem. In addition, when these conventional methods are used for cleaning, the cleaning residue often remains in the apparatus, and in the next preparation of the composition for optical materials, abnormalities and the presence of foreign substances may be observed in the composition.
本発明者はこの発明の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、
(a)下記(1)式で表される化合物と、
(c)メルカプト基を1分子当り1個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することにより、少量の洗浄液で簡便に洗浄できるという新たな事実を見出し、解決に至った。
The inventor conducted intensive research to solve the problems of the present invention,
(A) a compound represented by the following formula (1):
(C) In an apparatus for preparing a composition for an optical material comprising a compound having one or more mercapto groups per molecule, a lining or a coating is applied to the liquid contact surface of the preparation apparatus, and from a rotary nozzle installed in the preparation apparatus By spraying the cleaning liquid and the rinsing liquid, a new fact that it can be easily cleaned with a small amount of cleaning liquid has been found and has been solved.
すなわち、本発明は、以下のようである。
1.(a)(1)式で表される化合物と、(b)硫黄原子と、(c)メルカプト基を1分子当り1個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから洗浄液およびリンス液を噴霧することを特徴とする光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
2.調合装置接液面のライニングあるいはコーティングが、フッ素樹脂により施されていることを特徴とする、第1項記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
3.洗浄液が、メルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物を1種類以上含み、その濃度の合計が1重量%〜100重量%であることを特徴とする、第1項記載の光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。
4.リンス液が、沸点30℃〜80℃の有機溶剤であることを特徴とする、請求項1記載の光学材料用調合装置の接液面の洗浄方法。
That is, the present invention is as follows.
1. In an apparatus for preparing an optical material composition comprising (a) a compound represented by formula (1), (b) a sulfur atom, and (c) a compound having at least one mercapto group per molecule. A cleaning method for a composition preparation device for optical materials, wherein the liquid contact surface of the device is lined or coated, and the cleaning liquid and the rinse liquid are sprayed from a rotary nozzle installed in the preparation device.
2. 2. The method for cleaning an optical material composition preparing apparatus according to claim 1, wherein the liquid contacting surface of the compounding apparatus is coated or coated with a fluororesin.
3. 2. The composition for optical materials according to claim 1, wherein the cleaning liquid contains one or more compounds having one or more mercapto groups per molecule, and the total concentration is 1 wt% to 100 wt%. Method of cleaning the compounding device.
4). The rinsing liquid is an organic solvent having a boiling point of 30 ° C to 80 ° C, and the method for cleaning the wetted surface of the optical material blending device according to claim 1.
接液面にライニングまたはコーティングを施した調合装置を使用して、
(a)(1)式で表される化合物と、
(b)硫黄原子と、
(c)メルカプト基を1分子当り1個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合した後、回転式ノズルを調合装置に接続し、メルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物を1種類以上含み、その濃度の合計が1重量%〜100重量%である洗浄液を接液面に対して噴霧することで、少量の洗浄液によって、接液面に残留した光学材料用組成物を容易に除去できる。その後、リンス液を同様に噴霧することにより、少量のリンス液によって、洗浄液を容易に除去できる。
Using a blending device with a lining or coating on the wetted surface,
(A) a compound represented by the formula (1);
(B) a sulfur atom;
(C) After preparing a composition for an optical material comprising a compound having one or more mercapto groups per molecule, a rotary nozzle is connected to the compounding device, and one compound having one or more mercapto groups per molecule is prepared. The composition for optical materials remaining on the wetted surface can be easily obtained with a small amount of cleaning liquid by spraying the wetted liquid on the wetted surface with a cleaning solution containing at least one kind and having a total concentration of 1 to 100% by weight. Can be removed. Thereafter, the cleaning liquid can be easily removed with a small amount of the rinsing liquid by spraying the rinsing liquid in the same manner.
本発明で使用される調合装置の母質は、特に制約を受けないが、耐久性などの理由により、ステンレス鋼(SUS)などの金属製であることが好ましい。 The matrix of the blending device used in the present invention is not particularly limited, but is preferably made of a metal such as stainless steel (SUS) for reasons such as durability.
本発明で使用される調合装置の接液面のライニングあるいはコーティングに用いる材質は、フッ素樹脂であることが好ましい。具体的には、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリフッ化ビニル(PVF)、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、エチレン・四フッ化エチレン共重合体(ETFE)、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)などが挙げられる。これらは単独でも、あるいは2種類以上を複合して使用しても良い。より好ましくは、PFA、PTFE、FEP、およびETFEであり、更に好ましくは、PFA、PTFEである。 The material used for the lining or coating of the wetted surface of the preparation device used in the present invention is preferably a fluororesin. Specifically, polytetrafluoroethylene (PTFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl fluoride (PVF), perfluoroalkoxy fluororesin (PFA), tetrafluoroethylene-6 Examples thereof include a fluorinated propylene copolymer (FEP), an ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), and an ethylene / chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE). These may be used alone or in combination of two or more. More preferred are PFA, PTFE, FEP, and ETFE, and still more preferred are PFA and PTFE.
本発明で使用される洗浄液としては、メルカプト基を1分子あたり1個以上含む化合物が好ましい。具体的には、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、n−プロピルメルカプタン、n−ブチルメルカプタン、アリルメルカプタン、n−ヘキシルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−デシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、n−ヘキサデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、i−プロピルメルカプタン、t−ブチルメルカプタン、t−ノニルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタン、フェニルメルカプタン、ベンジルメルカプタン、3−メチルフェニルメルカプタン、4−メチルフェニルメルカプタン、4−クロロベンジルメルカプタン、4−ビニルベンジルメルカプタン、3−ビニルベンジルメルカプタン、メチルメルカプトプロピオネート、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、2−メルカプト−1,3−プロパンジオール、メルカプト酢酸、メルカプトグリコール酸、メルカプトプロピオン酸、メタンジチオール、1,2−ジメルカプトエタン、1,2−ジメルカプトプロパン、2,2−ジメルカプトプロパン、1,4−ジメルカプトブタン、1,6−ジメルカプトヘキサン、ビス(メルカプトメチル)エーテル、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、ビス(メルカプトメチル)スルフィド、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(1,2−ジメルカプトエチル)スルフィド、ビス(2,3−ジメルカプトプロピル)スルフィド、1,2−ビス(2−メルカプトエチルオキシ)エタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−1,3−ジメルカプトプロパン、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール、1,2,3−トリメルカプトプロパン、2−メルカプトメチル−1,3−ジメルカプトプロパン、2−メルカプトメチル−1,4−ジメルカプトブタン、2−(2−メルカプトエチルチオ)−1,3−ジメルカプトプロパン、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン、2,4−ジメルカプトメチル−1,5−ジメルカプト−3−チアペンタン、4,8−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、4,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、1,2,7−トリメルカプト−4,6−ジチアヘプタン、1,2,9−トリメルカプト−4,6,8−トリチアノナン、1,2,10,11−テトラメルカプト−4,6,8−トリチアウンデカン、1,2,12,13−テトラメルカプト−4,6,8,10−テトラチアトリデカン、1,1,1−トリス(メルカプトメチル)プロパン、テトラキス(メルカプトメチル)メタン、エチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジエチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、1,4−ブタンジオールビス(2−メルカプトアセテート)、1,4−ブタンジオールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、1,2−ジメルカプトシクロヘキサン、1,3−ジメルカプトシクロヘキサン、1,4−ジメルカプトシクロヘキサン、1,3−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1−チアン、2,5−ビス(メルカプトエチル)−1−チアン、2,5−ビス(メルカプトメチル)−チオフェン、1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、2,2′−ジメルカプトビフェニル、4,4′−ジメルカプトビフェニル、ビス(4−メルカプトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−メルカプトフェニル)プロパン、ビス(4−メルカプトフェニル)エーテル、ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィド、ビス(4−メルカプトフェニル)スルホン、ビス(4−メルカプトメチルフェニル)メタン、ビス(4−メルカプトメチルフェニル)プロパン、ビス(4−メルカプトメチルフェニル)エーテル、ビス(4−メルカプトメチルフェニル)スルフィド、4−ヒドロキシチオフェノール、メルカプト安息香酸などが挙げられる。これらメルカプタン類は、単独でも、あるいは2種類以上を混合して使用しても良い。メルカプタン類のうち好ましいものは、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,2−エタンジチオール、3−メルカプトプロピオン酸、およびビス(2−メルカプトエチル)スルフィドであり、更に好ましくは、メルカプト基を1分子あたり2個以上有するメルカプト化合物であり、具体的には、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,2−エタンジチオール、およびビス(2−メルカプトエチル)スルフィドである。 The cleaning liquid used in the present invention is preferably a compound containing one or more mercapto groups per molecule. Specifically, methyl mercaptan, ethyl mercaptan, n-propyl mercaptan, n-butyl mercaptan, allyl mercaptan, n-hexyl mercaptan, n-octyl mercaptan, n-decyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, n-tetradecyl mercaptan, n-hexadecyl mercaptan, n-octadecyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, i-propyl mercaptan, t-butyl mercaptan, t-nonyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan, phenyl mercaptan, benzyl mercaptan, 3-methylphenyl mercaptan, 4-methylphenyl Mercaptan, 4-chlorobenzyl mercaptan, 4-vinylbenzyl mercaptan, 3-vinylbenzyl mercaptan, methyl mercaptopro Onate, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 2-mercapto-1,3-propanediol, mercaptoacetic acid, mercaptoglycolic acid, mercaptopropionic acid, methanedithiol, 1,2-dimercaptoethane 1,2-dimercaptopropane, 2,2-dimercaptopropane, 1,4-dimercaptobutane, 1,6-dimercaptohexane, bis (mercaptomethyl) ether, bis (2-mercaptoethyl) ether, bis (Mercaptomethyl) sulfide, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, bis (1,2-dimercaptoethyl) sulfide, bis (2,3-dimercaptopropyl) sulfide, 1,2-bis (2-mercaptoethyloxy) Ethane, 1,2-bis (2-merca) Toethylthio) -1,3-dimercaptopropane, 2,3-dimercapto-1-propanol, 1,2,3-trimercaptopropane, 2-mercaptomethyl-1,3-dimercaptopropane, 2-mercaptomethyl-1 , 4-dimercaptobutane, 2- (2-mercaptoethylthio) -1,3-dimercaptopropane, 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 2,4-dimercaptomethyl- 1,5-dimercapto-3-thiapentane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3, 6,9-trithiaundecane, 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiau Ndecane, 1,2,7-trimercapto-4,6-dithiaheptane, 1,2,9-trimercapto-4,6,8-trithianonane, 1,2,10,11-tetramercapto-4,6,8 -Trithiaundecane, 1,2,12,13-tetramercapto-4,6,8,10-tetrathiatridecane, 1,1,1-tris (mercaptomethyl) propane, tetrakis (mercaptomethyl) methane, ethylene Glycol bis (2-mercaptoacetate), ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), diethylene glycol bis (2-mercaptoacetate), diethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), 1,4-butanediol bis (2 -Mercaptoacetate), 1,4-butanediol bis (3-merca Topropionate), trimethylolpropane tris (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), 1 , 2-dimercaptocyclohexane, 1,3-dimercaptocyclohexane, 1,4-dimercaptocyclohexane, 1,3-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, 2,5-bis (Mercaptomethyl) -1,4-dithian, 2,5-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) -1,4-dithiane, 2,5-bis (mercaptomethyl) -1-thiane, 2,5-bis (Mercaptoethyl) 1-thiane, 2,5-bis (mercaptomethyl) -thiophene, 1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene 1,4-bis (mercaptomethyl) benzene, 2,2'-dimercaptobiphenyl, 4,4'-dimercaptobiphenyl, bis (4-mercaptophenyl) methane, 2,2-bis (4-mercaptophenyl) Propane, bis (4-mercaptophenyl) ether, bis (4-mercaptophenyl) sulfide, bis (4-mercaptophenyl) sulfone, bis (4-mercaptomethylphenyl) methane, bis (4-mercaptomethylphenyl) propane, bis (4-mercaptomethylphenyl) ether, bis (4-mercaptome Tilphenyl) sulfide, 4-hydroxythiophenol, mercaptobenzoic acid and the like. These mercaptans may be used alone or in admixture of two or more. Among the mercaptans, preferred are bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 1,2-ethanedithiol, 3-mercaptopropionic acid, and bis (2-mercaptoethyl) sulfide, and more preferably a mercapto group of 1 Mercapto compounds having two or more molecules per molecule, specifically, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 1,2-ethanedithiol, and bis (2-mercaptoethyl) sulfide.
本発明で使用される洗浄液に含まれる、メルカプト基を1分子あたり1個以上含む化合物の好ましい濃度は1重量%〜100重量%、さらに好ましくは10重量%〜100重量%である。希釈剤としては、公知の有機溶剤を使用することができる。 The preferred concentration of the compound containing one or more mercapto groups per molecule contained in the cleaning solution used in the present invention is 1% by weight to 100% by weight, more preferably 10% by weight to 100% by weight. A known organic solvent can be used as the diluent.
本発明で使用されるリンス液は、前記洗浄液を除去でき、かつ次バッチの運転までの間に容易に除去できることを目的として使用できる有機溶剤なら全て含まれるが、沸点30℃〜80℃の有機溶剤が好適に使用できる。具体的には、エーテル類、ケトン類、アルコール類、エステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などであり、更に好ましくは非極性有機溶剤であるテトラヒドロフラン(沸点66.0℃)、ジクロロメタン(沸点40.0℃)、クロロホルム(沸点61.8℃)である。これらは単独でも、2種類以上を混合して使用してもかまわない。 The rinsing liquid used in the present invention includes any organic solvent that can be used for the purpose of removing the cleaning liquid and easily removing it until the next batch operation. A solvent can be preferably used. Specifically, ethers, ketones, alcohols, esters, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, and the like, more preferably tetrahydrofuran (boiling point 66.0 ° C.), dichloromethane ( Boiling point 40.0 ° C.) and chloroform (boiling point 61.8 ° C.). These may be used alone or in combination of two or more.
また、本発明の目的を損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの公知の添加剤を混合して使用してもかまわない。 In addition, a known additive such as a surfactant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a rust inhibitor may be mixed and used as long as the object of the present invention is not impaired.
本発明で用いる回転式ノズルは、反応槽内壁の接液面ならびに攪拌翼が効果的に洗浄でき、かつ攪拌翼の回転に支障のない箇所に取り付けられる。本発明で用いる回転式ノズルの駆動方式は特に制約を受けず、具体的には固定式、昇降式、液圧二次元回転式、液圧三次元回転式、モータードライブ二次元回転式、およびモータードライブ三次元回転式などが挙げられる。 The rotary nozzle used in the present invention is attached to a location where the liquid contact surface of the inner wall of the reaction tank and the stirring blade can be effectively cleaned and the rotation of the stirring blade is not hindered. The driving method of the rotary nozzle used in the present invention is not particularly limited, and specifically, a fixed type, a lifting type, a hydraulic two-dimensional rotary type, a hydraulic three-dimensional rotary type, a motor drive two-dimensional rotary type, and a motor A drive three-dimensional rotation type etc. are mentioned.
本発明で洗浄の対象となる光学材料組成物は、
(a)(1)式で表される化合物と、
(b)硫黄原子と、
(c)メルカプト基を1分子当り1個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物である。
The optical material composition to be cleaned in the present invention is
(A) a compound represented by the formula (1);
(B) a sulfur atom;
(C) A composition for optical materials comprising a compound having at least one mercapto group per molecule.
(a)化合物の具体例としては、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド、ビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィド、ビス(β−エピチオプロピル)トリスルフィド、ビス(β−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)エタン、1,3−(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,4−(β−エピチオプロピルチオ)ブタン、ビス(β−エピチオプロピルチオエチル)スルフィド、などのエピスルフィド類が挙げられる。(a)化合物は単独でも、2種類以上を混合して使用してもかまわない。より好ましくは、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィドである。 Specific examples of the compound (a) include bis (β-epithiopropyl) sulfide, bis (β-epithiopropyl) disulfide, bis (β-epithiopropyl) trisulfide, and bis (β-epithiopropylthio). Methane, 1,2-bis (β-epithiopropylthio) ethane, 1,3- (β-epithiopropylthio) propane, 1,4- (β-epithiopropylthio) butane, bis (β-epi And episulfides such as (thiopropylthioethyl) sulfide. (A) The compounds may be used alone or in combination of two or more. More preferably, it is bis (β-epithiopropyl) sulfide.
接液面にライニングまたはコーティングを施した調合装置を用いて、光学材料用組成物を調合した後の接液面の洗浄方法は、調合装置に回転式ノズルを接続し、回転ノズルへメルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物を1種類以上含み、その濃度の合計が1重量%〜100重量%である洗浄液を供給し、洗浄液を接液面に対して噴霧することによって実施される。必要に応じて同時に攪拌、振動、超音波照射、エアバブリングなどを併用してもかまわない。洗浄時の温度は、室温、加温下、冷却下のいずれでもかまわないが、通常−10℃〜80℃の範囲で行なわれ、より好ましくは10℃〜40℃の範囲である。 The method for cleaning the wetted surface after preparing the composition for optical materials using a blending device with a lining or coating on the wetted surface is to connect a rotary nozzle to the blending device and place a mercapto group on the rotary nozzle. It is carried out by supplying a cleaning liquid containing one or more compounds having one or more per molecule, the total concentration of which is 1% by weight to 100% by weight, and spraying the cleaning liquid onto the wetted surface. If necessary, simultaneous stirring, vibration, ultrasonic irradiation, air bubbling, etc. may be used. The temperature at the time of washing may be room temperature, under heating, or under cooling, but is usually in the range of −10 ° C. to 80 ° C., more preferably in the range of 10 ° C. to 40 ° C.
洗浄終了後の調合装置の接液面のリンスは、回転ノズルへ前記記載の有機溶剤をリンス液として供給し、接液面に対して噴霧することによって実施される。必要に応じて同時に攪拌、振動、超音波照射、エアバブリングなどを併用してもかまわない。洗浄時の温度は、室温、加温下、冷却下のいずれでもかまわないが、通常−10℃〜80℃の範囲で行なわれ、より好ましくは10℃〜40℃の範囲である。 Rinsing of the liquid contact surface of the blending apparatus after completion of the cleaning is performed by supplying the organic solvent described above as a rinse liquid to the rotating nozzle and spraying the liquid contact surface. If necessary, simultaneous stirring, vibration, ultrasonic irradiation, air bubbling, etc. may be used. The temperature at the time of washing may be room temperature, under heating, or under cooling, but is usually in the range of −10 ° C. to 80 ° C., more preferably in the range of 10 ° C. to 40 ° C.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
洗浄後の調合装置の接液面の外観は、全く付着物がないものをA、極わずか付着物があるがべたつきがないものをB、明らかに付着物がありべたつきもあるものをC、洗浄前と同様の外観で全く洗浄がなされていないものをD、と評価した。 The appearance of the wetted surface of the blending device after cleaning is A when there is no deposit, B when there is very little deposit but there is no stickiness, and C when there is apparent deposit and stickiness. The same appearance as before and not washed at all was evaluated as D.
光学材料用組成物の調合例
各種のフッ素樹脂によりライニングあるいはコーティングを施した容積40リットル調合装置に、ビス(β―エピチオプロピル)スルフィド27kg、硫黄3kgを入れ混合し、60℃で均一とした。続いて、2−メチル−N−メチルイミダゾール0.150kg加え反応させた後、20℃まで冷却し、この反応液に、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド1.6kg、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.007kg、ジブチルスズジクロライド0.1kgを20℃でよく混合し、均一とした。得られた組成物は、30torrで1時間反応させた後、調合装置より全量を抜き出した。
Example of composition of optical material composition A 40-liter compounding device lined or coated with various fluororesins was mixed with 27 kg of bis (β-epithiopropyl) sulfide and 3 kg of sulfur, and homogenized at 60 ° C. . Subsequently, 0.150 kg of 2-methyl-N-methylimidazole was added and reacted, and then cooled to 20 ° C., and 1.6 kg of bis (2-mercaptoethyl) sulfide and 0.007 kg of triethylbenzylammonium chloride were added to this reaction solution. Then, 0.1 kg of dibutyltin dichloride was mixed well at 20 ° C. to make it uniform. The obtained composition was reacted at 30 torr for 1 hour, and then the entire amount was extracted from the blender.
実施例1
ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)により接液面をライニングしたSUS304製調合槽を用いて、光学材料用組成物の調合例に記したように光学材料用組成物の調合を実施した。調合装置より組成物を取り出したのち、回転式洗浄ノズルを取り付け、洗浄液としてビス(2−メルカプトエチル)スルフィド1.5リットルを20℃の雰囲気下で接液面に噴霧した。噴霧前は接液面に組成物の残さが見られたが、本操作により残さは洗浄剤に対して溶解した。その後、リンス液としてテトラヒドロフラン1.5リットルを20℃の雰囲気下で接液面に噴霧し、接液面の外観を確認したが、残さおよびべたつきは全く認められなかった。得られた結果を表1に示した。
Example 1
Using a SUS304 preparation tank whose liquid contact surface was lined with a perfluoroalkoxy fluororesin (PFA), the composition for optical material was prepared as described in the preparation example of the composition for optical material. After taking out the composition from the blending device, a rotary cleaning nozzle was attached, and 1.5 liters of bis (2-mercaptoethyl) sulfide was sprayed on the wetted surface as a cleaning liquid in an atmosphere of 20 ° C. Before spraying, a residue of the composition was found on the wetted surface, but the residue was dissolved in the detergent by this operation. Thereafter, 1.5 liters of tetrahydrofuran as a rinsing liquid was sprayed on the wetted surface in an atmosphere at 20 ° C. to confirm the appearance of the wetted surface, but no residue or stickiness was observed. The obtained results are shown in Table 1.
実施例2
洗浄液として1,2−エタンジチオール1.5リットルを用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Example 2
The same operation as in Example 1 was performed except that 1.5 liters of 1,2-ethanedithiol was used as the cleaning liquid. The obtained results are shown in Table 1.
実施例3
洗浄液として3−メルカプトプロピオン酸1.5リットルを用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Example 3
The same operation as in Example 1 was performed except that 1.5 liter of 3-mercaptopropionic acid was used as the cleaning liquid. The obtained results are shown in Table 1.
実施例4
調合装置としてポリテトラフルオロエチレン(PTFE)により接液面をコーティングしたSUS304製調合槽を用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Example 4
The same operation as in Example 1 was carried out, except that a SUS304 preparation tank having a wetted surface coated with polytetrafluoroethylene (PTFE) was used as the preparation apparatus. The obtained results are shown in Table 1.
実施例5
洗浄液としてビス(2−メルカプトエチル)スルフィド10重量%、テトラヒドロフラン90重量%の混合液1.5リットルを用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Example 5
The same operation as in Example 1 was carried out except that 1.5 liters of a mixed solution of 10% by weight of bis (2-mercaptoethyl) sulfide and 90% by weight of tetrahydrofuran was used as the cleaning liquid. The obtained results are shown in Table 1.
実施例6
リンス液としてジクロロメタン1.5リットルを用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Example 6
The same operation as in Example 1 was performed except that 1.5 liter of dichloromethane was used as the rinse liquid. The obtained results are shown in Table 1.
実施例7
リンス液としてクロロホルム1.5リットルを用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Example 7
The same operation as in Example 1 was performed except that 1.5 liter of chloroform was used as the rinse liquid. The obtained results are shown in Table 1.
比較例1
調合装置として接液面がライニングされていない無垢のSUS304製調合槽を用いること以外は、実施例1と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Comparative Example 1
The same operation as in Example 1 was performed except that a solid SUS304 preparation tank whose liquid contact surface was not lined was used as the preparation apparatus. The obtained results are shown in Table 1.
比較例2
ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)により接液面をライニングしたSUS304製調合槽を用いて、光学材料用組成物の調合例に記したように光学材料用組成物の調合を実施した。調合装置より組成物を取り出したのち、洗浄液としてビス(2−メルカプトエチル)スルフィド1.5リットルを入れ、回転式洗浄ノズルを装着せず、攪拌翼により攪拌した。大部分の組成物は洗浄剤と接触せず、接液面には残さがみられた。その後、リンス液としてテトラヒドロフラン1.5リットルを、回転式洗浄ノズルを装着して接液面に噴霧したが、接液面には、残さが大量に認められた。得られた結果を表1に示した。
Comparative Example 2
Using a SUS304 preparation tank whose liquid contact surface was lined with a perfluoroalkoxy fluororesin (PFA), the composition for optical material was prepared as described in the preparation example of the composition for optical material. After taking out the composition from the blender, 1.5 liters of bis (2-mercaptoethyl) sulfide was added as a cleaning solution, and the mixture was stirred with a stirring blade without a rotary cleaning nozzle. Most of the composition did not come into contact with the cleaning agent, and a residue was observed on the wetted surface. Thereafter, 1.5 liters of tetrahydrofuran as a rinsing liquid was sprayed on the wetted surface with a rotary cleaning nozzle attached, and a large amount of residue was observed on the wetted surface. The obtained results are shown in Table 1.
比較例3
洗浄液としてビス(2−メルカプトエチル)スルフィド30リットルを用いること以外は、比較例2と同様の操作を実施した。得られた結果を表1に示した。
Comparative Example 3
The same operation as in Comparative Example 2 was performed except that 30 liters of bis (2-mercaptoethyl) sulfide was used as the cleaning liquid. The obtained results are shown in Table 1.
比較例4〜9
表1に示す溶剤を洗浄剤ならびにリンス液として用いた以外、実施例1と同様の操作を繰り返した。総じて組成物はこれら溶剤には溶解せず、接液面の外観に多量の残留物が認められた。結果を表1にまとめた。
Comparative Examples 4-9
The same operation as in Example 1 was repeated except that the solvent shown in Table 1 was used as a cleaning agent and a rinse solution. In general, the composition did not dissolve in these solvents, and a large amount of residue was observed on the appearance of the wetted surface. The results are summarized in Table 1.
Claims (1)
(b)硫黄原子と、
(c)メルカプト基を1分子当り1個以上有する化合物とからなる光学材料用組成物を調合させる装置において、調合装置接液面にフッ素樹脂によるライニングあるいはコーティングを施し、かつ調合装置に設置した回転式ノズルから、メルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物を1種類以上含み、その濃度の合計が1重量%〜100重量%である洗浄液およびテトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルムのいずれか1種類以上からなるリンス液を噴霧することを特徴とする光学材料用組成物調合装置の洗浄方法。 (a) a compound represented by the following formula (1):
(B) a sulfur atom;
(C) In an apparatus for preparing a composition for an optical material comprising a compound having one or more mercapto groups per molecule, a rotator provided with a fluorine resin lining or coating on the liquid contact surface of the preparation apparatus and installed in the preparation apparatus A cleaning liquid containing one or more compounds having one or more mercapto groups per molecule from a nozzle and a total concentration of 1 wt% to 100 wt%, and one or more of tetrahydrofuran, dichloromethane and chloroform A cleaning method for an optical material composition preparing apparatus, characterized by spraying a rinse liquid.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008010200A JP4911043B2 (en) | 2008-01-21 | 2008-01-21 | Cleaning method for compounding equipment for optical materials |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008010200A JP4911043B2 (en) | 2008-01-21 | 2008-01-21 | Cleaning method for compounding equipment for optical materials |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009167366A JP2009167366A (en) | 2009-07-30 |
| JP4911043B2 true JP4911043B2 (en) | 2012-04-04 |
Family
ID=40968921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008010200A Active JP4911043B2 (en) | 2008-01-21 | 2008-01-21 | Cleaning method for compounding equipment for optical materials |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4911043B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6890115B2 (en) * | 2018-12-12 | 2021-06-18 | 日東電工株式会社 | Processing tank for polarizing film manufacturing and polarizing film manufacturing equipment |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4844172A (en) * | 1971-10-11 | 1973-06-25 | ||
| JPH01168367A (en) * | 1987-12-25 | 1989-07-03 | Tosoh Corp | Rotary type washing nozzle |
| JPH10298274A (en) * | 1997-04-25 | 1998-11-10 | Toray Ind Inc | Polyester production method and polycondensation reactor |
| JPH11310632A (en) * | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Daicel Chem Ind Ltd | Method for producing polycarbonate |
| JP4127169B2 (en) * | 2002-09-27 | 2008-07-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Manufacturing method of optical material |
| JP4483370B2 (en) * | 2004-03-30 | 2010-06-16 | Dic株式会社 | Centrifuge filter base layer removal method |
-
2008
- 2008-01-21 JP JP2008010200A patent/JP4911043B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009167366A (en) | 2009-07-30 |
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