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JP4939802B2 - Semiconductor circuit, display device, and electronic apparatus including the display device - Google Patents
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Semiconductor circuit, display device, and electronic apparatus including the display device Download PDF

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Description

本発明は、半導体回路に関する。特に、トランジスタを用いて構成される半導体回路に関する。また、半導体回路を具備する表示装置、及び当該表示装置を具備する電子機器に関する。   The present invention relates to a semiconductor circuit. In particular, the present invention relates to a semiconductor circuit configured using transistors. In addition, the present invention relates to a display device including a semiconductor circuit and an electronic device including the display device.

なお、ここでいう半導体回路とは、半導体特性を利用することで機能しうる回路全般を指すものとする。   Note that the semiconductor circuit here refers to all circuits that can function by utilizing semiconductor characteristics.

表示装置の駆動回路において、トランジスタの動作タイミングを制御する信号を入力する半導体回路は、様々な半導体装置に用いられている。   In a driver circuit of a display device, a semiconductor circuit that inputs a signal for controlling operation timing of a transistor is used in various semiconductor devices.

なお、本明細書中において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般を指し、電気光学装置、電子機器は全て半導体装置である。   Note that in this specification, a semiconductor device refers to all devices that can function by utilizing semiconductor characteristics, and electro-optical devices and electronic devices are all semiconductor devices.

図23にシフトレジスタ回路、ラッチ回路を構成する従来の半導体回路の構成例を示す(例えば特許文献1を参照)。この図23に示す半導体回路は、第1のクロックドインバータCKINV1と、第2のクロックドインバータCKINV2と、インバータ回路INVとによって構成されている。   FIG. 23 shows a configuration example of a conventional semiconductor circuit that constitutes a shift register circuit and a latch circuit (see, for example, Patent Document 1). The semiconductor circuit shown in FIG. 23 includes a first clocked inverter CKINV1, a second clocked inverter CKINV2, and an inverter circuit INV.

第1のクロックドインバータCKINV1の入力端子には、外部から入力信号INが入力されており、CKINV1の出力端子は、インバータINVの入力端子、及び第2のクロックドインバータCKINV2の出力端子に接続されている。第2のクロックドインバータCKINV2の入力端子は、インバータINVの出力端子に接続されている。   An input signal IN is input from the outside to the input terminal of the first clocked inverter CKINV1, and the output terminal of CKINV1 is connected to the input terminal of the inverter INV and the output terminal of the second clocked inverter CKINV2. ing. The input terminal of the second clocked inverter CKINV2 is connected to the output terminal of the inverter INV.

入力端子に入力信号INが入力されると、第1のクロックドインバータCKINV1及び第2のクロックドインバータCKINV2それぞれに入力される、タイミング制御信号TP及びその極性が反転した反転タイミング制御信号TPBに同期して、出力端子から出力信号OUT1が出力される。   When the input signal IN is input to the input terminal, it is synchronized with the timing control signal TP and the inverted timing control signal TPB whose polarity is inverted, which are input to the first clocked inverter CKINV1 and the second clocked inverter CKINV2, respectively. Then, the output signal OUT1 is output from the output terminal.

図24において、図23で示した構成の半導体回路を構成する第1のクロックドインバータCKINV1、第2のクロックドインバータCKINV2及びインバータ回路INVをそれぞれトランジスタで表記した回路図を示す。図24に示す半導体回路を構成するトランジスタは第1のクロックドインバータCKINV1で4つ、第2のクロックドインバータCKINV2で4つ、インバータINVで2つの計10個となる   FIG. 24 is a circuit diagram in which the first clocked inverter CKINV1, the second clocked inverter CKINV2, and the inverter circuit INV that constitute the semiconductor circuit having the configuration shown in FIG. The number of transistors constituting the semiconductor circuit shown in FIG. 24 is four in the first clocked inverter CKINV1, four in the second clocked inverter CKINV2, and two in the inverter INV.

駆動回路のシフトレジスタ回路、ラッチ回路においては、図24の半導体回路が複数段設けられ、入力信号の半周期分シフトした信号を出力したり、入力された信号の保持、取り込みを行う。
特開平8−161896号公報
In the shift register circuit and the latch circuit of the driver circuit, a plurality of semiconductor circuits shown in FIG. 24 are provided to output a signal shifted by a half cycle of the input signal, and to hold and capture the input signal.
JP-A-8-161896

従来のシフトレジスタ回路、ラッチ回路を構成する図23、図24の半導体回路の構成は、クロックドインバータ2つ及びインバータ1つを使用して形成され、トランジスタの総数は図24に示すように計10個となる。   The configuration of the semiconductor circuit of FIG. 23 and FIG. 24 constituting the conventional shift register circuit and latch circuit is formed by using two clocked inverters and one inverter, and the total number of transistors is calculated as shown in FIG. There will be ten.

上述の半導体回路は、複数段を用いてシフトレジスタ回路、ラッチ回路を構成するため、シフトレジスタ回路及びラッチ回路を作製するためのトランジスタの数は半導体回路のトランジスタの数に比例して増加する。そのため、アクティブマトリクス型の表示装置において、画素部の列及び行の増加に伴いトランジスタの数の増加により、駆動回路のレイアウト面積が大きくなる。また、構成するトランジスタ数の増加に伴いトランジスタのばらつきに起因する歩留りも悪くなるといった問題もある。   Since the above-described semiconductor circuit forms a shift register circuit and a latch circuit using a plurality of stages, the number of transistors for manufacturing the shift register circuit and the latch circuit increases in proportion to the number of transistors in the semiconductor circuit. Therefore, in the active matrix display device, the layout area of the driver circuit is increased due to an increase in the number of transistors as the number of columns and rows in the pixel portion is increased. In addition, there is a problem that the yield due to the variation of the transistors becomes worse as the number of transistors to be configured increases.

このように、現状のシフトレジスタ回路、ラッチ回路を構成する半導体回路は構成上、レイアウト面積の増大、歩留りの悪化等の問題が生じる。本発明は上述の諸問題を鑑みて案出されたものであり、上記問題を解決する半導体回路、並びに表示装置及び該表示装置を具備する電子機器を提供するものである。   As described above, the semiconductor circuits constituting the current shift register circuit and latch circuit have problems such as an increase in layout area and deterioration in yield due to the configuration. The present invention has been devised in view of the above-described problems, and provides a semiconductor circuit, a display device, and an electronic apparatus including the display device that can solve the above problems.

上述の諸問題を解決するため、本発明においては、図23、図24の半導体回路内でトランジスタ数が8つを占めている2つのクロックドインバータの代わりに、nチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタを用いてトランジスタ数を削減することができる半導体回路を提供するものである。   In order to solve the above problems, in the present invention, instead of two clocked inverters having eight transistors in the semiconductor circuit of FIGS. 23 and 24, an n-channel transistor and a p-channel transistor are used. A semiconductor circuit capable of reducing the number of transistors by using a transistor is provided.

より具体的には、本発明の半導体回路は、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成されており、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   More specifically, the semiconductor circuit of the present invention includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter. And a timing control signal is input to the gate terminal of the first n-channel transistor and the gate terminal of the first p-channel transistor to which the first input signal is input. A first terminal of the first n-channel transistor, a first terminal of the first p-channel transistor to which an inversion timing control signal is input, and the first n electrically connected to each other. A second terminal of the channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor, the first n-channel transistor The second terminal and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the inverter circuit, and the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input. A gate terminal of the second n-channel transistor and a gate terminal of the second p-channel transistor, and a first terminal of the second p-channel transistor to which the timing control signal is input, A first terminal of the second n-channel transistor to which the inversion timing control signal is input, a second terminal of the second n-channel transistor electrically connected to each other, and the second p A second terminal of the channel transistor, and a second terminal of the second n-channel transistor and the second p-channel transistor. The second terminal of the capacitor has a configuration that is electrically connected to an input terminal of the inverter circuit.

さらに別の本発明の半導体回路は、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成されており、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another semiconductor circuit of the present invention includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, an inverter circuit, And a gate terminal of the first n-channel transistor to which a first input signal is input and a gate terminal of the first p-channel transistor, and the first to which a timing control signal is input. A first terminal of the p-channel transistor, a first terminal of the first n-channel transistor to which an inversion timing control signal is input, and the first n-channel transistor electrically connected to each other And a second terminal of the first p-channel transistor, and a second terminal of the first n-channel transistor. The terminal and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the inverter circuit, and the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input thereto. A gate terminal of a second n-channel transistor, a gate terminal of the second p-channel transistor, a first terminal of the second n-channel transistor to which the timing control signal is input, and the inversion timing A first terminal of the second p-channel transistor to which a control signal is input, a second terminal of the second n-channel transistor and the second p-channel transistor that are electrically connected to each other The second terminal of the second n-channel transistor and the second p-channel transistor. Second terminal is a structure that is electrically connected to an input terminal of the inverter circuit.

また、本発明のタイミング制御信号はラッチ信号であり、反転タイミング制御信号は反転ラッチ信号である構成であってもよい。   The timing control signal of the present invention may be a latch signal, and the inverted timing control signal may be an inverted latch signal.

また、本発明のタイミング制御信号はクロック信号であり、反転タイミング制御信号は反転クロック信号である構成であってもよい。   The timing control signal of the present invention may be a clock signal, and the inverted timing control signal may be an inverted clock signal.

さらに別の本発明の半導体回路は、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成されており、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、前記第2の入力信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another semiconductor circuit according to the present invention includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and a first inverter. A circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, a fourth p-channel transistor, and a second inverter circuit. And a gate terminal of the first n-channel transistor and a gate terminal of the first p-channel transistor to which a first input signal is input, and the first n-channel transistor to which a clock signal is input And the first terminal of the first p-channel transistor to which the inverted clock signal is input are electrically connected to each other. A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor, and a second terminal of the first n-channel transistor, The second terminal of the first p-channel transistor is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the second terminal output from the output terminal of the first inverter circuit. A gate terminal of the second n-channel transistor and a gate terminal of the second p-channel transistor to which a signal is input, and a first terminal of the second p-channel transistor to which the clock signal is input And a first terminal of the second n-channel transistor to which the inverted clock signal is input, and the second n-channel transistor electrically connected to each other A second terminal and a second terminal of the second p-channel transistor, and a second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor. The terminal is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the gate terminal of the third n-channel transistor and the gate of the third p-channel transistor to which the second input signal is input. A terminal, a first terminal of the third p-channel transistor to which a clock signal is input, and a first terminal of the third n-channel transistor to which an inverted clock signal is input. A second terminal of the third n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor connected to each other, and the third n-channel transistor. The second terminal of the register and the second terminal of the third p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the second inverter circuit, and output from the output terminal of the second inverter circuit. A gate terminal of the fourth n-channel transistor and a gate terminal of the fourth p-channel transistor to which the third signal is input, and the fourth n-channel transistor to which the clock signal is input A first terminal of the fourth p-channel transistor to which the inverted clock signal is input, and a second terminal of the fourth n-channel transistor electrically connected to each other And a second terminal of the fourth p-channel transistor, and a second terminal of the fourth n-channel transistor and the fourth p-channel transistor. The second terminal of Njisuta was configured to be electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit.

さらに別の本発明の半導体回路は、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成されており、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、前記第2の入力信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another semiconductor circuit according to the present invention includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and a first inverter. A circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, a fourth p-channel transistor, and a second inverter circuit. The first n-channel transistor to which the first input signal is input, the gate terminal of the first p-channel transistor and the first p-channel transistor to which the clock signal is input. And the first terminal of the first n-channel transistor to which the inverted clock signal is input are electrically connected to each other. A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor, and a second terminal of the first n-channel transistor, The second terminal of the first p-channel transistor is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the second terminal output from the output terminal of the first inverter circuit. A gate terminal of the second n-channel transistor and a gate terminal of the second p-channel transistor to which a signal is input, and a first terminal of the second n-channel transistor to which the clock signal is input And the second n-channel transistor electrically connected to the first terminal of the second p-channel transistor to which the inverted clock signal is input A second terminal and a second terminal of the second p-channel transistor, and a second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor. The terminal is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the gate terminal of the third n-channel transistor and the gate of the third p-channel transistor to which the second input signal is input. A terminal, a first terminal of the third n-channel transistor to which a clock signal is input, and a first terminal of the third p-channel transistor to which an inverted clock signal is input. A second terminal of the third n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor connected to each other, and the third n-channel transistor. The second terminal of the register and the second terminal of the third p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the second inverter circuit, and output from the output terminal of the second inverter circuit. A gate terminal of the fourth n-channel transistor and a gate terminal of the fourth p-channel transistor to which the third signal is input, and the fourth p-channel transistor to which the clock signal is input A first terminal of the fourth n-channel transistor to which the inverted clock signal is input, and a second terminal of the fourth n-channel transistor that is electrically connected to each other. And a second terminal of the fourth p-channel transistor, and a second terminal of the fourth n-channel transistor and the fourth p-channel transistor. The second terminal of Njisuta was configured to be electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit.

また、本発明のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、ガラス基板上に形成される薄膜トランジスタで構成であってもよい。   Further, the n-channel transistor and the p-channel transistor of the present invention may be constituted by a thin film transistor formed over a glass substrate.

また、本発明のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、単結晶基板上に形成されていてもよい。   Further, the n-channel transistor and the p-channel transistor of the present invention may be formed over a single crystal substrate.

また本発明は、従来、図23、図24の半導体回路内でトランジスタ数が8つを占めている2つのクロックドインバータの代わりに、nチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタを用いてトランジスタ数を削減することができる表示装置を提供することができる。   Further, according to the present invention, an n-channel transistor and a p-channel transistor are used instead of the two clocked inverters in the semiconductor circuit of FIGS. A display device that can be reduced can be provided.

より具体的には、本発明の表示装置は、ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部を有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路及びラッチ回路、並びに前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成された半導体回路を有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   More specifically, the display device of the present invention includes a gate driver, a source driver, the gate driver, and a pixel portion connected to the source driver. The source driver includes a shift register circuit and a latch circuit. The gate driver includes a shift register circuit, the shift register circuit and the latch circuit of the source driver, and the shift register circuit of the gate driver are each a first n-channel transistor and a first p-channel transistor. A semiconductor circuit including a transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter circuit, wherein the semiconductor circuit receives a first input signal; A gate terminal of a first n-channel transistor and the first p-channel transistor A first terminal of the first n-channel transistor to which a timing control signal is input, and a first terminal of the first p-channel transistor to which an inverted timing control signal is input. A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor electrically connected to each other, and the first n-channel transistor The second terminal and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the inverter circuit, and the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input. The timing control signal is input to the gate terminal of the second n-channel transistor and the gate terminal of the second p-channel transistor. The first terminal of the second p-channel transistor and the first terminal of the second n-channel transistor to which the inversion timing control signal is input are electrically connected to the second terminal. a second terminal of the n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor, and a second terminal of the second n-channel transistor and the second p-channel transistor. The second terminal of the transistor is electrically connected to the input terminal of the inverter circuit.

さらに別の本発明の表示装置は、ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部を有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成された半導体回路を有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another display device of the present invention includes a gate driver, a source driver, and the gate driver, a pixel portion connected to the source driver, and the source driver includes a shift register circuit and a latch circuit, The gate driver includes a shift register circuit, and each of the source driver shift register circuit and the gate driver shift register circuit includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, and a second a semiconductor circuit including an n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter circuit, wherein the semiconductor circuit receives the first input signal; A gate terminal of the transistor and a gate terminal of the first p-channel transistor; The first terminal of the first p-channel transistor to which the timing control signal is input and the first terminal of the first n-channel transistor to which the inversion timing control signal is input are electrically connected to each other. A second terminal of the first n-channel transistor, and a second terminal of the first p-channel transistor, and a second terminal of the first n-channel transistor, The second terminal of the first p-channel transistor is electrically connected to the input terminal of the inverter circuit, and the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input to the second terminal. A gate terminal of an n-channel transistor and a gate terminal of the second p-channel transistor, and the second n-channel transistor to which the timing control signal is input A first terminal of a transistor, a first terminal of the second p-channel transistor to which the inversion timing control signal is input, and a second of the second n-channel transistor electrically connected to each other. And a second terminal of the second p-channel transistor, and a second terminal of the second p-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor, The inverter circuit is electrically connected to the input terminal.

さらに別の本発明の表示装置は、ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部を有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成された半導体回路を複数段に有し、前記半導体回路は、前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、前記第2の入力信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another display device of the present invention includes a gate driver, a source driver, and the gate driver, a pixel portion connected to the source driver, and the source driver includes a shift register circuit and a latch circuit, The gate driver includes a shift register circuit, and each of the source driver shift register circuit and the gate driver shift register circuit includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, and a second an n-channel transistor, a second p-channel transistor, a first inverter circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, 4 p-channel transistors and a second inverter circuit. The semiconductor circuit has a plurality of stages, and the semiconductor circuit includes a gate terminal of the second n-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the first inverter circuit is input, and the second A gate terminal of the p-channel transistor, a first terminal of the second p-channel transistor to which the clock signal is input, and a second terminal of the second n-channel transistor to which the inverted clock signal is input. A second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor, which are electrically connected to each other, and the second n A second terminal of the channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor are electrically connected to an input terminal of the first inverter circuit, and The third n-channel transistor gate terminal and the third p-channel transistor gate terminal to which the input signal is input and the first p-channel transistor first terminal to which the clock signal is input are input. A terminal, a first terminal of the third n-channel transistor to which an inverted clock signal is input, a second terminal of the third n-channel transistor electrically connected to each other, and the third terminal and a second terminal of the third n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor are connected to the second inverter circuit. The fourth n-channel transistor that is electrically connected to the input terminal and receives the third signal output from the output terminal of the second inverter circuit. And the fourth terminal of the fourth p-channel transistor, the first terminal of the fourth n-channel transistor to which the clock signal is input, and the first terminal to which the inverted clock signal is input. A first terminal of the four p-channel transistors, a second terminal of the fourth n-channel transistor and a second terminal of the fourth p-channel transistor electrically connected to each other. And a second terminal of the fourth n-channel transistor and a second terminal of the fourth p-channel transistor are electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit; did.

さらに別の本発明の表示装置は、ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部を有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成された半導体回路を複数段に有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、前記第2の入力信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。
Still another display device of the present invention includes a gate driver, a source driver, and the gate driver, a pixel portion connected to the source driver, and the source driver includes a shift register circuit and a latch circuit, The gate driver includes a shift register circuit, and each of the source driver shift register circuit and the gate driver shift register circuit includes a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, and a second an n-channel transistor, a second p-channel transistor, a first inverter circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, 4 p-channel transistors and a second inverter circuit. The semiconductor circuit has a plurality of stages, and the semiconductor circuit includes a gate terminal of the first n-channel transistor and a gate terminal of the first p-channel transistor to which a first input signal is input, and a clock signal. A first terminal of the first p-channel transistor to which is input, a first terminal of the first n-channel transistor to which an inverted clock signal is input,
A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor that are electrically connected to each other; And the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and output from the output terminal of the first inverter circuit. A gate terminal of the second n-channel transistor and a gate terminal of the second p-channel transistor to which the second signal is input, and the second n-channel transistor to which the clock signal is input A first terminal of the second p-channel transistor to which the inverted clock signal is input, and the second n-channel electrically connected to each other. A second terminal of the second n-channel transistor, and a second terminal of the second p-channel transistor, and a second terminal of the second p-channel transistor. The second terminal is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the gate terminal of the third n-channel transistor and the third p-channel to which the second input signal is input. A gate terminal of the n-type transistor, a first terminal of the third n-channel transistor to which a clock signal is input, a first terminal of the third p-channel transistor to which an inverted clock signal is input, A second terminal of the third n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor which are electrically connected to each other; The second terminal of the n-channel transistor and the second terminal of the third p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the second inverter circuit, and the output of the second inverter circuit A gate terminal of the fourth n-channel transistor and a gate terminal of the fourth p-channel transistor to which the third signal output from the terminal is input; and the fourth p to which the clock signal is input. A first terminal of the channel type transistor, a first terminal of the fourth n-channel type transistor to which the inverted clock signal is input, and a fourth terminal of the fourth n-channel type transistor electrically connected to each other. 2 terminal and the second terminal of the fourth p-channel transistor, and the second terminal of the fourth n-channel transistor and the second terminal The second terminal of the four p-channel transistors is electrically connected to the input terminal of the second inverter circuit.

また、本発明のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、ガラス基板上に形成される薄膜トランジスタで構成であってもよい。   Further, the n-channel transistor and the p-channel transistor of the present invention may be constituted by a thin film transistor formed over a glass substrate.

また、本発明のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、単結晶基板上に形成されていてもよい。   Further, the n-channel transistor and the p-channel transistor of the present invention may be formed over a single crystal substrate.

また、本発明の表示装置は、液晶またはEL素子を用いたものであってもよい。   Further, the display device of the present invention may use a liquid crystal or an EL element.

また本発明は、従来、図23、図24の半導体回路内でトランジスタ数が8つを占めている2つのクロックドインバータの代わりに、nチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタを用いてトランジスタ数を削減することができる電子機器を提供することができる。   Further, according to the present invention, an n-channel transistor and a p-channel transistor are used instead of the two clocked inverters in the semiconductor circuit of FIGS. An electronic device that can be reduced can be provided.

より具体的には、本発明の電子機器は、ゲートドライバと、ソースドライバと、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部とを備えた表示パネルを有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路及びラッチ回路、並びに前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成された半導体回路を有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。
More specifically, the electronic device of the present invention includes a display panel including a gate driver, a source driver, and the pixel driver connected to the gate driver and the source driver. A shift register circuit, and a latch circuit, wherein the gate driver includes a shift register circuit, and the shift register circuit and latch circuit of the source driver and the shift register circuit of the gate driver are each a first n-channel transistor. And a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter circuit, the semiconductor circuit comprising: And the first n-channel transistor to which the input signal is input and the first n-channel transistor and the first And the gate terminal of the p-channel type transistor, a first terminal of the first n-channel transistor timing control signal is input,
A first terminal of the first p-channel transistor to which an inversion timing control signal is input, a second terminal of the first n-channel transistor and the first p-channel that are electrically connected to each other A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to an input terminal of the inverter circuit. And the gate terminal of the second n-channel transistor and the gate terminal of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input, A first terminal of the second p-channel transistor to which a timing control signal is input, and the second n to which the inversion timing control signal is input A first terminal of a channel transistor, a second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor electrically connected to each other; The second terminal of the second n-channel transistor and the second terminal of the second p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the inverter circuit.

さらに別の本発明の電子機器は、ゲートドライバと、ソースドライバと、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部とを備えた表示パネルを有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成された半導体回路を有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。
Still another electronic device according to another aspect of the invention includes a display panel including a gate driver, a source driver, and the pixel driver connected to the gate driver and the source driver. The source driver includes a shift register circuit. , And a latch circuit, the gate driver includes a shift register circuit, the shift register circuit of the source driver, and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor and a first p-channel transistor. A semiconductor circuit includes a channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter circuit, and the semiconductor circuit receives a first input signal. And a gate terminal of the first n-channel transistor and the first p-channel transistor. A first terminal of the first p-channel transistor to which a timing control signal is input, and a first terminal of the first n-channel transistor to which an inversion timing control signal is input. A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor electrically connected to each other, and the first n-channel transistor The second terminal and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the inverter circuit, and the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input. The timing control signal is input to the gate terminal of the second n-channel transistor and the gate terminal of the second p-channel transistor. A first terminal of the second n-channel transistor,
The first terminal of the second p-channel transistor to which the inversion timing control signal is input, the second terminal of the second n-channel transistor electrically connected to each other, and the second p-channel transistor And a second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor are electrically connected to an input terminal of the inverter circuit. Connected to each other.

さらに別の本発明の電子機器は、ゲートドライバと、ソースドライバと、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部とを備えた表示パネルを有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成された半導体回路を複数段に有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、前記第2の入力信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another electronic device according to another aspect of the invention includes a display panel including a gate driver, a source driver, and the pixel driver connected to the gate driver and the source driver. The source driver includes a shift register circuit. , And a latch circuit, the gate driver includes a shift register circuit, the shift register circuit of the source driver, and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor and a first p-channel transistor. A channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, a first inverter circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, and a fourth transistor N-channel transistor, fourth p-channel transistor, and second in-channel transistor And a plurality of stages of semiconductor circuits, wherein the semiconductor circuit includes a gate terminal of the first n-channel transistor to which a first input signal is input and the first p-channel. A gate terminal of a type transistor, a first terminal of the first n-channel type transistor to which a clock signal is input, a first terminal of the first p-channel type transistor to which an inverted clock signal is input, A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor that are electrically connected to each other; 2 terminal and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the first inverter circuit. The second n-channel transistor to which the second signal output from the output terminal is input, the gate terminal of the second p-channel transistor and the second terminal to which the clock signal is input. A first terminal of the p-channel transistor, a first terminal of the second n-channel transistor to which the inverted clock signal is input, and the second n-channel transistor electrically connected to each other A second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor. Is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the gate terminal of the third n-channel transistor to which the second input signal is input. And a gate terminal of the third p-channel transistor, a first terminal of the third p-channel transistor to which a clock signal is input, and the third n-channel transistor to which an inverted clock signal is input A first terminal of the third n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor electrically connected to each other, and the third terminal A second terminal of the n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor are electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit, and A gate terminal of the fourth n-channel transistor to which a third signal output from the output terminal is input, and a gate terminal of the fourth p-channel transistor; The first terminal of the fourth n-channel transistor to which the clock signal is input and the first terminal of the fourth p-channel transistor to which the inverted clock signal is input are electrically connected to each other. A second terminal of the fourth n-channel transistor and a second terminal of the fourth p-channel transistor, and a second terminal of the fourth n-channel transistor, The second terminal of the fourth p-channel transistor is electrically connected to the input terminal of the second inverter circuit.

さらに別の本発明の電子機器は、ゲートドライバと、ソースドライバと、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに接続された画素部とを備えた表示パネルを有し、前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成された半導体回路を複数段に有し、前記半導体回路は、第1の入力信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、前記第2の入力信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、反転クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されており、前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲート端子と、前記クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、前記反転クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されている構成とした。   Still another electronic device according to another aspect of the invention includes a display panel including a gate driver, a source driver, and the pixel driver connected to the gate driver and the source driver. The source driver includes a shift register circuit. , And a latch circuit, the gate driver includes a shift register circuit, the shift register circuit of the source driver, and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor and a first p-channel transistor. A channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, a first inverter circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, and a fourth transistor N-channel transistor, fourth p-channel transistor, and second in-channel transistor And a plurality of stages of semiconductor circuits, wherein the semiconductor circuit includes a gate terminal of the first n-channel transistor to which a first input signal is input and the first p-channel. A gate terminal of the n-type transistor, a first terminal of the first p-channel transistor to which a clock signal is input, a first terminal of the first n-channel transistor to which an inverted clock signal is input, A second terminal of the first n-channel transistor and a second terminal of the first p-channel transistor that are electrically connected to each other; 2 terminal and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the first inverter circuit. The second n-channel transistor to which the second signal output from the output terminal is input, the gate terminal of the second p-channel transistor and the second terminal to which the clock signal is input. A first terminal of the n-channel transistor, a first terminal of the second p-channel transistor to which the inverted clock signal is input, and the second n-channel transistor electrically connected to each other A second terminal of the second n-channel transistor and a second terminal of the second p-channel transistor. Is electrically connected to the input terminal of the first inverter circuit, and the gate terminal of the third n-channel transistor to which the second input signal is input. And a gate terminal of the third p-channel transistor, a first terminal of the third n-channel transistor to which a clock signal is input, and the third p-channel transistor to which an inverted clock signal is input A first terminal of the third n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor electrically connected to each other, and the third terminal A second terminal of the n-channel transistor and a second terminal of the third p-channel transistor are electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit, and A gate terminal of the fourth n-channel transistor to which a third signal output from the output terminal is input, and a gate terminal of the fourth p-channel transistor; The first terminal of the fourth p-channel transistor to which the clock signal is input is electrically connected to the first terminal of the fourth n-channel transistor to which the inverted clock signal is input. A second terminal of the fourth n-channel transistor and a second terminal of the fourth p-channel transistor, and a second terminal of the fourth n-channel transistor, The second terminal of the fourth p-channel transistor is electrically connected to the input terminal of the second inverter circuit.

また本発明は、上述の表示パネルが液晶またはEL素子を用いたものである電子機器を提供するものである。   The present invention also provides an electronic device in which the above-described display panel uses a liquid crystal or an EL element.

また本発明の電子機器は、テレビ受像器、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置、コンピュータ、ゲーム機器、モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機、電子書籍、画像再生装置である。   The electronic device of the present invention includes a television receiver, a video camera, a digital camera, a goggle type display, a navigation system, a sound reproduction device, a computer, a game device, a mobile computer, a mobile phone, a portable game machine, an electronic book, and an image reproduction. Device.

本発明によって、半導体回路を構成するトランジスタ数を10から6に減らすことができ、レイアウト面積の縮小ができる。また、シフトレジスタ回路、ラッチ回路のような半導体回路を複数段用いる場合、本発明の半導体回路を適用することは、特に有効であり、トランジスタを作製する際に性能のばらつきを抑えられ、歩留まりの向上が見込める。   According to the present invention, the number of transistors constituting a semiconductor circuit can be reduced from 10 to 6, and the layout area can be reduced. In addition, when a plurality of semiconductor circuits such as a shift register circuit and a latch circuit are used, it is particularly effective to apply the semiconductor circuit of the present invention, which can suppress variation in performance when a transistor is manufactured, and can improve yield. Improvement can be expected.

また、本発明の半導体回路を用いた表示装置においては、半導体回路を構成するトランジスタ数を10から6に減らすことにより、画素部の大面積化に伴う周辺回路のレイアウト面積の縮小ができる。また、画素部のトランジスタと基板上に一体に形成する場合、周辺回路において本発明の半導体回路を適用した際、半導体回路を構成するトランジスタ数が10から6に減少することにより、トランジスタの性能のばらつきを抑えることができるため、歩留まりの向上が見込める。   Further, in the display device using the semiconductor circuit of the present invention, the layout area of the peripheral circuit can be reduced as the area of the pixel portion is increased by reducing the number of transistors constituting the semiconductor circuit from 10 to 6. In addition, when the transistor of the pixel portion and the substrate are formed integrally, when the semiconductor circuit of the present invention is applied to the peripheral circuit, the number of transistors constituting the semiconductor circuit is reduced from 10 to 6, thereby improving the performance of the transistor. Since the variation can be suppressed, the yield can be improved.

また、本発明の半導体回路を用いた電子機器においては、表示部のレイアウト面積の縮小が計れるため、電子機器の小型化、軽量化をすることができる。また、歩留まりが高い製品を製造することができ、より安価な商品を顧客に提供することができる。   Further, in the electronic device using the semiconductor circuit of the present invention, the layout area of the display portion can be reduced, so that the electronic device can be reduced in size and weight. Moreover, a product with a high yield can be manufactured, and a cheaper product can be provided to the customer.

(実施の形態1) (Embodiment 1)

図1(a)に本発明による半導体回路の一実施の形態を示す。図1(a)に示すように、従来の半導体回路の第1のクロックドインバータCKINV1及び第2のクロックドインバータCKINV2を、nチャネル型トランジスタとpチャネル型トランジスタからなる回路に置き換える。ここで、nチャネル型トランジスタ、pチャネル型トランジスタをそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタ201a、第1のpチャネル型トランジスタ201b及び第2のnチャネル型トランジスタ202a、第2のpチャネル型トランジスタ202bとする。また本明細書においては、タイミング制御信号TPが入力される第1のnチャネル型トランジスタ201aのソース電極またはドレイン電極となる端子、及び第2のpチャネル型トランジスタ202bのソース電極またはドレイン電極となる端子を第1の端子とする。また、反転タイミング制御信号TPBが入力される第1のpチャネル型トランジスタ201bのソース電極またはドレイン電極となる端子、及び第2のnチャネル型トランジスタ202aのソース電極またはドレイン電極となる端子を第1の端子とする。また、各トランジスタにおいて、タイミング制御信号または反転タイミング制御信号が入力されないもう一方のソース電極またはドレイン電極となる端子を第2の端子とする。   FIG. 1A shows an embodiment of a semiconductor circuit according to the present invention. As shown in FIG. 1A, the first clocked inverter CKINV1 and the second clocked inverter CKINV2 of the conventional semiconductor circuit are replaced with a circuit composed of an n-channel transistor and a p-channel transistor. Here, an n-channel transistor and a p-channel transistor are respectively referred to as a first n-channel transistor 201a, a first p-channel transistor 201b, a second n-channel transistor 202a, and a second p-channel transistor 202b. And In this specification, the source electrode or drain electrode of the first n-channel transistor 201a to which the timing control signal TP is input and the source electrode or drain electrode of the second p-channel transistor 202b are used. Let the terminal be the first terminal. In addition, a terminal serving as a source electrode or a drain electrode of the first p-channel transistor 201b to which the inversion timing control signal TPB is input and a terminal serving as a source electrode or a drain electrode of the second n-channel transistor 202a are used as the first electrode. Terminal. In each transistor, the other terminal that is not input with the timing control signal or the inverted timing control signal is a second terminal.

また、第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子は互いに電気的に接続されるものとする。また、第2のpチャネル型トランジスタ202bの第2の端子及び第2のnチャネル型トランジスタ202aの第2の端子は互いに電気的に接続されるものとする。   In addition, the second terminal of the first n-channel transistor and the second terminal of the first p-channel transistor are electrically connected to each other. In addition, the second terminal of the second p-channel transistor 202b and the second terminal of the second n-channel transistor 202a are electrically connected to each other.

第1のnチャネル型トランジスタ201aの第1の端子にタイミング制御信号TPが入力される場合、第1のpチャネル型トランジスタ201bの第1の端子には反転タイミング制御信号TPBが入力される。一方、nチャネル型トランジスタ201aの第1の端子に反転タイミング制御信号TPBが入力される場合、第1のpチャネル型トランジスタ201bの第1の端子にはタイミング制御信号TPが入力される。   When the timing control signal TP is input to the first terminal of the first n-channel transistor 201a, the inverted timing control signal TPB is input to the first terminal of the first p-channel transistor 201b. On the other hand, when the inversion timing control signal TPB is input to the first terminal of the n-channel transistor 201a, the timing control signal TP is input to the first terminal of the first p-channel transistor 201b.

第1のnチャネル型トランジスタ201aの第2の端子は第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子に接続されている。第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bのゲート電極が入力端子となり、第1のnチャネル型トランジスタ201aの第2の端子及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子がインバータINVの入力端子に接続されている。   The second terminal of the first n-channel transistor 201a is connected to the second terminal of the first p-channel transistor 201b. The gate electrodes of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b serve as input terminals, and the second terminal of the first n-channel transistor 201a and the second of the first p-channel transistor 201b. Are connected to the input terminal of the inverter INV.

ここで、第1のnチャネル型トランジスタ201aの第1の端子に、タイミング制御信号TPが入力される場合、第1のnチャネル型トランジスタ202aの第1の端子に反転タイミング制御信号TPBが入力され、第2のpチャネル型トランジスタ202bの第1の端子にタイミング制御信号TPが入力される。一方、第1のnチャネル型トランジスタ201aの第1の端子に、反転タイミング制御信号TPBが入力される場合、第2のnチャネル型トランジスタ202aの第1の端子に、タイミング制御信号TPが入力され、第2のpチャネル型トランジスタ202bの第1の端子に、反転タイミング制御信号TPBが入力される。   Here, when the timing control signal TP is input to the first terminal of the first n-channel transistor 201a, the inverted timing control signal TPB is input to the first terminal of the first n-channel transistor 202a. The timing control signal TP is input to the first terminal of the second p-channel transistor 202b. On the other hand, when the inverted timing control signal TPB is input to the first terminal of the first n-channel transistor 201a, the timing control signal TP is input to the first terminal of the second n-channel transistor 202a. The inversion timing control signal TPB is input to the first terminal of the second p-channel transistor 202b.

第2のクロックドインバータCKINV2の役割に当たる第2のnチャネル型トランジスタ202aの第2の端子は第2のpチャネル型トランジスタ202bの第2の端子に接続されている。第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bのゲート電極がインバータINVの出力端子と接続され、第2のnチャネル型トランジスタ202aの第2の端子及び第2のpチャネル型トランジスタ202bの第2の端子がインバータINVの入力端子に接続されている。   The second terminal of the second n-channel transistor 202a, which serves as the second clocked inverter CKINV2, is connected to the second terminal of the second p-channel transistor 202b. The gate electrodes of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b are connected to the output terminal of the inverter INV, and the second terminal and the second p-channel transistor of the second n-channel transistor 202a are connected. A second terminal of the transistor 202b is connected to an input terminal of the inverter INV.

インバータINVは、nチャネル型トランジスタ203aとpチャネル型トランジスタ203bとによって構成されている。nチャネル型トランジスタ203aのソース電極は、低電源電位Vssに保たれ、nチャネル型トランジスタ203aのドレイン電極は、pチャネル型トランジスタ203bのドレイン電極に接続されている。pチャネル型トランジスタ203bのソース電極は、高電源電位Vddに保たれている。nチャネル型トランジスタ203a及びpチャネル型トランジスタ203bのゲート電極が、インバータINVの入力端子となり、nチャネル型トランジスタ203a及びpチャネル型トランジスタ203bのドレイン電極が、インバータINVの出力端子となる。   The inverter INV includes an n-channel transistor 203a and a p-channel transistor 203b. The source electrode of the n-channel transistor 203a is kept at the low power supply potential Vss, and the drain electrode of the n-channel transistor 203a is connected to the drain electrode of the p-channel transistor 203b. The source electrode of the p-channel transistor 203b is kept at the high power supply potential Vdd. The gate electrodes of the n-channel transistor 203a and the p-channel transistor 203b are input terminals of the inverter INV, and the drain electrodes of the n-channel transistor 203a and the p-channel transistor 203b are output terminals of the inverter INV.

図1(b)に、図1(a)に示した構成の半導体回路の理想的な駆動方法を示すタイミングチャートを示し、その具体的な動作について以下に説明する。   FIG. 1B shows a timing chart showing an ideal driving method of the semiconductor circuit having the configuration shown in FIG. 1A, and its specific operation will be described below.

半導体回路には、タイミング制御信号TP及びタイミング制御信号の極性が反転した反転タイミング制御信号TPB、入力信号IN2が入力される。第1のnチャネル型トランジスタ201aの第1の端子には、タイミング制御信号TPが入力され、第1のpチャネル型トランジスタ201bの第1の端子には反転タイミング制御信号TPBが入力されている。第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bのゲート電極には入力信号IN2が入力される。   The semiconductor circuit receives the timing control signal TP, the inverted timing control signal TPB in which the polarity of the timing control signal is inverted, and the input signal IN2. The timing control signal TP is input to the first terminal of the first n-channel transistor 201a, and the inverted timing control signal TPB is input to the first terminal of the first p-channel transistor 201b. An input signal IN2 is input to gate electrodes of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b.

入力信号IN2とタイミング制御信号TP及び反転タイミング制御信号TPBの関係は、図1(b)のタイミングチャートに示した通りである。   The relationship between the input signal IN2, the timing control signal TP, and the inverted timing control signal TPB is as shown in the timing chart of FIG.

タイミング制御信号TPが入力された第1のnチャネル型トランジスタ201a及び反転タイミング制御信号TPBが入力された第1のpチャネル型トランジスタ201bにおいて、入力端子に入力信号IN2によって「Lo」の電位が入力され、第1のpチャネル型トランジスタ201bがオンの状態となる。そして、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの出力端子は反転タイミング制御信号TPBの電位となる。すなわち、出力OUT2Bは「Hi」の電位となる。このとき、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bは、その第1の端子に入力されたタイミング制御信号TP及び反転タイミング制御信号TPBによってオフの状態になる。   In the first n-channel transistor 201a to which the timing control signal TP is input and the first p-channel transistor 201b to which the inverted timing control signal TPB is input, the potential of “Lo” is input to the input terminal by the input signal IN2. Then, the first p-channel transistor 201b is turned on. The output terminals of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b become the potential of the inversion timing control signal TPB. That is, the output OUT2B has a “Hi” potential. At this time, the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b are turned off by the timing control signal TP and the inverted timing control signal TPB input to the first terminals.

次に、入力信号IN2が「Hi」の電位となる時、タイミング制御信号TP及び反転タイミング制御信号TPBによって、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bはオフの状態に変化する。   Next, when the input signal IN2 has a potential of “Hi”, the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b are turned off by the timing control signal TP and the inverted timing control signal TPB. Change.

また、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bのゲート電極は第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子の出力OUT2BがインバータINVを介して入力されている。すなわち、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bのゲート電極には、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子の出力OUT2Bの極性が反転した信号が入力されている。この信号とタイミング制御信号TPと反転タイミング制御信号TPBにより、第2のpチャネル型トランジスタ202bがオンの状態となる。こうして、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bの第2の端子の出力OUT2Bはタイミング制御信号TPの電位である「Hi」の電位となる。   The gate electrodes of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b are connected to the output OUT2B of the second terminal of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b as an inverter. It is input via INV. In other words, the gate electrode of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b is connected to the output OUT2B of the second terminal of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b. A signal with the polarity reversed is input. With this signal, the timing control signal TP, and the inverted timing control signal TPB, the second p-channel transistor 202b is turned on. Thus, the output OUT2B of the second terminals of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b becomes the potential “Hi” that is the potential of the timing control signal TP.

次に、タイミング制御信号TP及び反転タイミング制御信号TPBによって、第1のnチャネル型トランジスタ201aがオンの状態になる。こうして、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子の出力OUT2Bは、タイミング制御信号TPの電位となり、「Lo」の電位となる。このとき、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bは、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bの第1の端子に入力されたタイミング制御信号TP及び反転タイミング制御信号TPBによってオフの状態にある。   Next, the first n-channel transistor 201a is turned on by the timing control signal TP and the inverted timing control signal TPB. Thus, the output OUT2B of the second terminals of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b becomes the potential of the timing control signal TP and becomes the potential of “Lo”. At this time, the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b control the timing input to the first terminals of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b. The signal TP and the inversion timing control signal TPB are in an off state.

次に、スタートパルスSPが「Lo」となる時、タイミング制御信号TP及び反転タイミング制御信号TPBによって、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bはオフの状態に変化する。   Next, when the start pulse SP becomes “Lo”, the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b are turned off by the timing control signal TP and the inverted timing control signal TPB. .

また、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bのゲート電極は第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子の出力OUT2BがインバータINVを介して入力されている。すなわち、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bのゲート電極には、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第1のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子の出力OUT2Bの極性が反転した信号が入力されている。この信号とタイミング制御信号TPと反転タイミング制御信号TPBにより、第2のnチャネル型トランジスタ202aがオンの状態となる。こうして、第2のnチャネル型トランジスタ202a及び第2のpチャネル型トランジスタ202bの第2の端子の出力OUT2Bは反転タイミング制御信号TPBの電位である「Lo」の電位となる。   The gate electrodes of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b are connected to the output OUT2B of the second terminal of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b as an inverter. It is input via INV. In other words, the gate electrode of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b is connected to the output OUT2B of the second terminal of the first n-channel transistor 201a and the first p-channel transistor 201b. A signal with the polarity reversed is input. With this signal, the timing control signal TP, and the inverted timing control signal TPB, the second n-channel transistor 202a is turned on. Thus, the output OUT2B of the second terminals of the second n-channel transistor 202a and the second p-channel transistor 202b becomes the potential “Lo” that is the potential of the inversion timing control signal TPB.

上記のように、第1のnチャネル型トランジスタ201a及び第2のpチャネル型トランジスタ201bの第2の端子の出力とnチャネル型トランジスタ202a及びpチャネル型トランジスタ202bの第2の端子の出力が変化する。こうして出力OUT2は、タイミング制御信号TPが「Lo」の時に入力信号INを出力し、タイミング制御信号TPが「Hi」の時にそれまで出力していた信号を保持する。こうして、図1(a)で示した半導体回路はパルスを出力する。   As described above, the outputs of the second terminals of the first n-channel transistor 201a and the second p-channel transistor 201b and the outputs of the second terminals of the n-channel transistor 202a and the p-channel transistor 202b change. To do. In this way, the output OUT2 outputs the input signal IN when the timing control signal TP is “Lo”, and holds the signal output until then when the timing control signal TP is “Hi”. Thus, the semiconductor circuit shown in FIG. 1A outputs a pulse.

なお、本実施形態は、本明細書中の実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   Note that this embodiment mode can be freely combined with any description in the embodiment examples in this specification.

以下に、本発明の実施例について記載する。   Examples of the present invention will be described below.

図2(a)は本発明の半導体回路をシフトレジスタ回路として使用することを目的とした回路である。ここでは、入力信号INをスタートパルスSPに、タイミング制御信号TPをクロック信号CKに、反転タイミング制御信号TPBを反転クロック信号CKBにして用いる。また、出力をSRとする。   FIG. 2A is a circuit intended to use the semiconductor circuit of the present invention as a shift register circuit. Here, the input signal IN is used as the start pulse SP, the timing control signal TP is used as the clock signal CK, and the inverted timing control signal TPB is used as the inverted clock signal CKB. The output is SR.

また、図2(b)に図2(a)のタイミングチャートを示す。図2(b)のタイミングチャートの動作の説明は実施の形態1に示されているので省略する。   FIG. 2B shows a timing chart of FIG. The description of the operation of the timing chart of FIG. 2B is omitted because it is shown in the first embodiment.

図3(a)に図2(a)のシフトレジスタ回路の4段構成したものを示す。また、図3(b)にそのタイミングチャートを示す。尚、シフトレジスタ第1段出力SR1、シフトレジスタ第2段出力SR2、シフトレジスタ第3段出力SR3、シフトレジスタ第4段出力SR4とする。   FIG. 3A shows a 4-stage configuration of the shift register circuit of FIG. FIG. 3B shows a timing chart thereof. The shift register first stage output SR1, the shift register second stage output SR2, the shift register third stage output SR3, and the shift register fourth stage output SR4.

図3(a)において、シフトレジスタ回路を複数段構成する際に、第1のnチャネル型トランジスタ及び第1のpチャネル型トランジスタ、第2のnチャネル型トランジスタ及び第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子に入力されるクロック信号及び反転クロック信号が1段ごとに入れ替わる。これにより、前段の入力信号を取り込み、保持するタイミングが図3(b)のようにクロック信号CK及び反転クロック信号CKBの半パルスずつシフトして、順次パルスを出力する。   In FIG. 3A, when a plurality of stages of shift register circuits are formed, the first n-channel transistor, the first p-channel transistor, the second n-channel transistor, and the second p-channel transistor are arranged. The clock signal and the inverted clock signal input to the first terminal are switched for each stage. As a result, the timing at which the previous stage input signal is captured and held is shifted by half a pulse of the clock signal CK and the inverted clock signal CKB as shown in FIG.

図4(a)に実際にシフトレジスタとして設計した図を示す。また、その波形の算出結果を図4(b)に示す。トランジスタのチャネル長とチャネル幅はnチャネル型トランジスタ、pチャネル型トランジスタ共にチャネル長3.5μm、チャネル幅10μmとした。また、容量値はいずれも10fFとした。動作条件として、入力信号IN2、クロック信号CK及び反転クロック信号CKBの振幅は、Lレベル=0V、Hレベル=5Vとし、回路の電源電圧はVdd=5V、Vss=0Vとした。また、駆動周波数は、5MHzとした。図4(b)は、(1)がスタートパルスSPを示し、(2)がクロック信号CKを示し、(3)がシフトレジスタ第1段出力SR1を示し、(4)がシフトレジスタ第2段出力SR2を示し、(5)がシフトレジスタ第3段出力SR3を示し、(6)がシフトレジスタ第4段出力SR4を示す。尚、トランジスタサイズ及び容量値、動作条件は波形の算出に必要なために付随したもので、この値に限定するものではない。   FIG. 4A shows a diagram designed as a shift register. Moreover, the calculation result of the waveform is shown in FIG. The channel length and channel width of the transistors were set to 3.5 μm channel length and 10 μm channel width for both n-channel and p-channel transistors. The capacitance value was 10 fF. As operating conditions, the amplitudes of the input signal IN2, the clock signal CK, and the inverted clock signal CKB were L level = 0V, H level = 5V, and the power supply voltage of the circuit was Vdd = 5V and Vss = 0V. The driving frequency was 5 MHz. 4B, (1) shows the start pulse SP, (2) shows the clock signal CK, (3) shows the shift register first stage output SR1, and (4) shows the shift register second stage. The output SR2 is shown, (5) shows the shift register third stage output SR3, and (6) shows the shift register fourth stage output SR4. The transistor size, the capacitance value, and the operating conditions are attached because they are necessary for calculating the waveform, and are not limited to these values.

ここで、図4(b)の波形の算出結果は図3(b)を比較すると、同じスタートパルスSP及びクロック信号CK、反転クロック信号CKBを入力し、シフトレジスタ第1段出力SR1の出力である図4(b)の(3)と図3(b)のSR1が一致し、シフトレジスタ第2段出力SR2の出力である図4(b)の(4)と図3(b)のSR2が一致し、シフトレジスタ第3段出力SR3の出力である図4(b)の(5)と図3(b)のSR3が一致し、シフトレジスタ第4段出力SR4の出力である図4(b)の(6)と図3(b)のSR4が一致する。つまり、従来の半導体回路と同様の動作について、トランジスタを減らした本発明の回路で達成することができる。よって、トランジスタ数を減らすことによるレイアウト面積の縮小ができる。また、トランジスタを作製する際に性能のばらつきを抑えられ、歩留りの向上が見込める。   Here, the calculation result of the waveform of FIG. 4B is the same as the output of the shift register first stage output SR1 when the same start pulse SP, clock signal CK, and inverted clock signal CKB are input as compared with FIG. 4B of FIG. 4B and SR1 of FIG. 3B coincide, and SR2 of FIG. 4B and FIG. 3B, which is the output of the shift register second stage output SR2. (5) in FIG. 4B, which is the output of the shift register third stage output SR3, and SR3 in FIG. 3 (b) match, and FIG. 4 (4) which is the output of the shift register fourth stage output SR4. b) (6) and SR4 in FIG. That is, the same operation as that of the conventional semiconductor circuit can be achieved by the circuit of the present invention in which the number of transistors is reduced. Therefore, the layout area can be reduced by reducing the number of transistors. In addition, variation in performance can be suppressed when a transistor is manufactured, so that yield can be improved.

また本実施例は、上記実施の形態及び他の実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented freely combining with any description in the above embodiment mode and other embodiments.

図5(a)は本発明の半導体回路をラッチ回路として使用することを目的とした回路である。ここでは、入力信号INをデータ信号DATAに、タイミング制御信号TPをサンプリングパルスLSPに、反転タイミング制御信号TPBを反転サンプリングパルスLSPBにして用いる。また、出力はD_OUTとする。   FIG. 5A is a circuit intended to use the semiconductor circuit of the present invention as a latch circuit. Here, the input signal IN is used as the data signal DATA, the timing control signal TP is used as the sampling pulse LSP, and the inverted timing control signal TPB is used as the inverted sampling pulse LSPB. The output is D_OUT.

また、図5(b)、(c)、(d)、(e)に図5(a)のタイミングチャートを示す。尚、出力D_OUTの初期状態は「Lo」とした。図5(b)、(c)、(d)、(e)のタイミングチャートの動作の説明は実施の形態1に示されているように、サンプリングパルスLSPが「Lo」のときに、データ信号DATAを取り込み、サンプリングパルスLSPが「Hi」のときにそれまでの出力を保持している。いずれのタイミングチャートでも、サンプリングパルスLSPが「Lo」から「Hi」に切り替わる直前のデータ信号DATAを保持し続けることがわかる。   5B, 5C, 5D, and 5E show timing charts of FIG. The initial state of the output D_OUT is “Lo”. The operation of the timing charts of FIGS. 5B, 5C, 5D, and 5E is described when the sampling pulse LSP is “Lo” as shown in the first embodiment. DATA is taken in, and when the sampling pulse LSP is “Hi”, the output until then is held. In any timing chart, it can be seen that the data signal DATA immediately before the sampling pulse LSP switches from “Lo” to “Hi” is kept.

図6(a)に実際にラッチ回路として設計した図を示す。また、その波形の算出結果を図6(b)、(c)、(d)、(e)に示す。トランジスタのチャネル長とチャネル幅はnチャネル型トランジスタ、pチャネル型トランジスタ共にチャネル長3.5μm、チャネル幅10μmとした。また、容量値は10fFとした。動作条件として、データ信号DATA、サンプリングパルスLSP及び反転サンプリングパルスLSPBの振幅は、Lレベル=0V、Hレベル=5Vとし、回路の電源電圧はVdd=5V、Vss=0Vとした。図6(b)、(c)、(d)、(e)は、(1)がデータ信号DATAを示し、(2)がサンプリングパルスLSPを示し、(3)が出力D_OUTを示す。尚、トランジスタサイズ及び容量値、動作条件は波形の算出に必要なために付随したもので、この値に限定するものではない。   FIG. 6A shows a diagram actually designed as a latch circuit. The calculation results of the waveforms are shown in FIGS. 6B, 6C, 6D, and 6E. The channel length and channel width of the transistors were set to 3.5 μm channel length and 10 μm channel width for both n-channel and p-channel transistors. The capacitance value was 10 fF. As operating conditions, the amplitudes of the data signal DATA, the sampling pulse LSP, and the inverted sampling pulse LSPB were L level = 0V, H level = 5V, and the power supply voltage of the circuit was Vdd = 5V and Vss = 0V. 6B, 6C, 6D, and 6E, (1) indicates the data signal DATA, (2) indicates the sampling pulse LSP, and (3) indicates the output D_OUT. The transistor size, the capacitance value, and the operating conditions are attached because they are necessary for calculating the waveform, and are not limited to these values.

ここで、図6(b)、(c)、(d)、(e)の波形の算出結果は図5(b)、(c)、(d)、(e)と比較すると、同じデータ信号DATA及び、サンプリングパルスLSP、反転サンプリングパルスLSPBを入力し、ラッチ回路の出力である図6(b)の(3)と図5(b)のD_OUTと一致し、図6(c)の(3)と図5(c)のD_OUTと一致し、図6(d)の(3)と図5(d)のD_OUTと一致し、図6(e)の(3)と図5(e)のD_OUTと一致する。つまり、従来の半導体回路と同様の動作がトランジスタを減らした本発明の回路で達成することができる。よってトランジスタ数を減らすことで、レイアウト面積の縮小ができる。また、トランジスタを作製する際に性能のばらつきを抑えられ、歩留りの向上が見込める。   Here, the calculation results of the waveforms in FIGS. 6B, 6C, 6D, and 6E are the same data signals as compared with FIGS. 5B, 5C, 5D, and 5E. DATA, a sampling pulse LSP, and an inverted sampling pulse LSPB are input, and coincide with D_OUT of FIG. 6B and FIG. 5B, which are outputs of the latch circuit, and (3) of FIG. ) And D_OUT in FIG. 5C, and in FIG. 6D, (3) and D_OUT in FIG. 5D, and in FIG. 6E, (3) and FIG. 5E. Matches D_OUT. That is, the same operation as that of the conventional semiconductor circuit can be achieved by the circuit of the present invention in which the number of transistors is reduced. Therefore, the layout area can be reduced by reducing the number of transistors. In addition, variation in performance can be suppressed when a transistor is manufactured, so that yield can be improved.

また本実施例は、上記実施の形態及び実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented freely combining with any description in the above embodiment modes and embodiments.

図7は、アクティブマトリクス型表示装置の全体をブロック図で示した例である。画素部301の周辺には、ソースドライバ302、書込用ゲートドライバ303、消去用ゲートドライバ304、が配置されている。   FIG. 7 is an example in which the entire active matrix display device is shown in a block diagram. A source driver 302, a write gate driver 303, and an erase gate driver 304 are arranged around the pixel portion 301.

ソースドライバ302は、シフトレジスタ305、NAND回路306、第1ラッチ回路307、第2ラッチ回路308、レベルシフタ・バッファ309を有している。書込用ゲートドライバ303は、シフトレジスタ310、NAND回路311、レベルシフタ・バッファ312を有しており、消去用ゲートドライバ304も同じく、シフトレジスタ313、NAND回路314、レベルシフタ・バッファ315を有している。   The source driver 302 includes a shift register 305, a NAND circuit 306, a first latch circuit 307, a second latch circuit 308, and a level shifter buffer 309. The write gate driver 303 includes a shift register 310, a NAND circuit 311, and a level shifter buffer 312, and the erase gate driver 304 similarly includes a shift register 313, a NAND circuit 314, and a level shifter buffer 315. Yes.

ソースドライバ302において、シフトレジスタ305は、ソースクロック信号SCK、反転ソースクロック信号SCKB、ソーススタートパルスSSPに従って、1段目から順次、パルスを出力する。このシフトレジスタから出力されるパルスの隣接するものをNAND回路306によって、その重なり部分を取り出し、サンプリングパルスLSPとして出力する。このサンプリングパルスLSPによって、第1ラッチ回路307において、データ信号DATAのサンプリングを行う。取り込みが完了した段においては、最終段でのサンプリングが完了するまでの間、第1ラッチ回路307に設けられたメモリ部分において保持される。やがて、最終段のサンプリングパルス出力が終了し、第1のラッチ回路307の全ての段でサンプリングが完了した後、ラッチパルスLATと反転ラッチパルスLATBに従って、第1ラッチ回路307に保持されていた1行分のデータは、一斉に第2ラッチ回路308へと転送される。その後、必要に応じてレベルシフタ・バッファ309で振幅変換を受け、映像信号に従ってソース信号線の充放電を行う。   In the source driver 302, the shift register 305 sequentially outputs pulses from the first stage according to the source clock signal SCK, the inverted source clock signal SCKB, and the source start pulse SSP. An adjacent portion of pulses output from the shift register is extracted by the NAND circuit 306 and output as a sampling pulse LSP. In accordance with the sampling pulse LSP, the first latch circuit 307 samples the data signal DATA. In the stage where the capture is completed, the data is held in the memory portion provided in the first latch circuit 307 until the sampling in the final stage is completed. Eventually, after the sampling pulse output at the final stage is completed and sampling is completed at all stages of the first latch circuit 307, 1 held in the first latch circuit 307 according to the latch pulse LAT and the inverted latch pulse LATB. The data for the row is transferred to the second latch circuit 308 all at once. Thereafter, amplitude conversion is performed in the level shifter buffer 309 as necessary, and the source signal line is charged / discharged according to the video signal.

ここで、図7のソースドライバ302のシフトレジスタ305、NAND回路306、第1ラッチ回路307及び第2ラッチ回路308の詳細な接続の例を図8に示す。   Here, FIG. 8 illustrates a detailed connection example of the shift register 305, the NAND circuit 306, the first latch circuit 307, and the second latch circuit 308 of the source driver 302 in FIG.

図8には、シフトレジスタ回路、第1ラッチ回路、第2ラッチ回路に実施例1及び実施例2の本発明の半導体回路を用いた半導体回路について示す。   FIG. 8 shows a semiconductor circuit using the semiconductor circuit according to the first and second embodiments of the present invention for the shift register circuit, the first latch circuit, and the second latch circuit.

図9に図8の半導体回路のタイミングチャートを示す。ここで、シフトレジスタにはソーススタートパルスSSP、ソースクロック信号SCK及び反転ソースクロック信号SCKBが入力される。また、シフトレジスタ第1段出力SSR1、シフトレジスタ第2段出力SSR2、シフトレジスタ第3段出力SSR3、シフトレジスタ第4段出力SSR4、シフトレジスタ第最終段出力SSRE+1とする。   FIG. 9 shows a timing chart of the semiconductor circuit of FIG. Here, the source start pulse SSP, the source clock signal SCK, and the inverted source clock signal SCKB are input to the shift register. Further, a shift register first stage output SSR1, a shift register second stage output SSR2, a shift register third stage output SSR3, a shift register fourth stage output SSR4, and a shift register last stage output SSRE + 1 are used.

ここで、NAND回路は隣接する2段のシフトレジスタより順次出力される信号を入力とし、サンプリングパルスLSPを出力する。また、各NAND回路から出力されるサンプリングパルスLSPはそれぞれ別の信号なので、NAND回路の左から順にLSP1、LSP2と番号を付けていく。また、シフトレジスタ最終段の出力SSRE+1を入力の1つとして用いているNAND回路のみ出力をLSPEとする。   Here, the NAND circuit receives a signal sequentially output from two adjacent shift registers and outputs a sampling pulse LSP. Since the sampling pulse LSP output from each NAND circuit is a different signal, LSP1 and LSP2 are numbered sequentially from the left of the NAND circuit. Only the NAND circuit using the output SSRE + 1 of the final stage of the shift register as one of the inputs is set as LSPE.

次に、第1ラッチ回路では外部からデータ信号DATAが、NAND回路からサンプリングパルスLSP1からLSPEまでが各段に入力される。また、サンプリングパルスLSP1からLSPEまでの信号の極性が反転した信号が第1ラッチ回路の各段に入力される。また、第1ラッチ回路からそれぞれ出力される信号は、入力されたサンプリングパルスLSPがLSP1ならば、出力D_OUT1とし、入力されたサンプリングパルスLSPがLSP2ならば、出力D_OUT2としていく。また、LSPEが入力されたラッチ回路の出力はD_OUTEとする。   Next, in the first latch circuit, the data signal DATA is input from the outside, and the sampling pulses LSP1 to LSPE are input to each stage from the NAND circuit. In addition, signals obtained by inverting the polarities of the signals from the sampling pulses LSP1 to LSPE are input to each stage of the first latch circuit. The signal output from the first latch circuit is the output D_OUT1 if the input sampling pulse LSP is LSP1, and the output D_OUT2 if the input sampling pulse LSP is LSP2. The output of the latch circuit to which LSPE is input is D_OUTE.

最後に、第2ラッチ回路では全ての段にわたって、外部からラッチ信号LAT及び反転ラッチ信号LATBが入力される。また、第1ラッチ回路の出力D_OUT1からD_OUTEが各段に入力される。第2ラッチ回路の各段の出力は第1ラッチ回路から入力された信号がD_OUT1ならば、出力LOUT1とし、第1ラッチ回路から入力された信号がD_OUT2ならば、出力LOUT2としていく。また、D_OUTEが入力されたラッチ回路の出力はLOUTEとする。   Finally, in the second latch circuit, the latch signal LAT and the inverted latch signal LATB are input from the outside over all stages. Further, the outputs D_OUT1 to D_OUTE of the first latch circuit are input to each stage. The output of each stage of the second latch circuit is output LOUT1 if the signal input from the first latch circuit is D_OUT1, and is output LOUT2 if the signal input from the first latch circuit is D_OUT2. The output of the latch circuit to which D_OUTE is input is LOUTE.

ここで、外部から入力される信号のうち、データ信号DATAは任意の信号波形でよい。また、ラッチ信号LAT及び、反転ラッチ信号LATBは、第1ラッチ回路に入力されるLSPEよりも後に第2ラッチ回路が取り込みの動作を行うような信号が好ましい。尚、このラッチ信号LATは外部から取り込まずに、内部で作ることも可能である。この場合はシフトレジスタを余分にもう一段設けることで、そこから出力する信号をラッチ信号として用いるとよい。   Here, among the signals input from the outside, the data signal DATA may have an arbitrary signal waveform. The latch signal LAT and the inverted latch signal LATB are preferably signals such that the second latch circuit performs the capturing operation after the LSPE input to the first latch circuit. The latch signal LAT can be generated internally without being taken in from the outside. In this case, an extra shift register may be provided, and a signal output therefrom may be used as a latch signal.

また、次にソーススタートパルスSSPに信号が入力されるのは第2ラッチ回路の出力がでたあとでなければならないため、ラッチ信号LATの取り込み動作後にソーススタートパルスSPは入力される。   Further, the next time that the signal is input to the source start pulse SSP must be after the output of the second latch circuit is output, the source start pulse SP is input after the latch signal LAT is fetched.

図9のタイミングチャートの動作の説明は実施例1及び実施例2にて既に説明したのでここでは省略し、必要であれば実施例1、実施例2に記載の説明を参酌する。また、NAND回路の動作については、公知のNAND回路の動作と同様であるためここでは特に説明しない。   The description of the operation of the timing chart of FIG. 9 has already been described in the first and second embodiments, and is omitted here. If necessary, the description in the first and second embodiments is referred to. The operation of the NAND circuit is the same as that of a known NAND circuit, and thus will not be described here.

尚、本実施例で示したソースドライバ回路は一例として示したものであって、これに限定されるものではない。   The source driver circuit shown in this embodiment is shown as an example, and the present invention is not limited to this.

また本実施例は、上記実施の形態及び上記実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by being freely combined with any description of the above embodiment modes and embodiments.

以下に本発明の半導体回路を構成するNチャネル型トランジスタ及びPチャネル型トランジスタについて、絶縁表面を有する基板上に薄膜トランジスタで作製する例について、作製手順を簡略に図10〜15を用いて示す。図10〜15に示す構成のアクティブマトリクス型表示装置は液晶表示装置やEL(Electro Luminescence)素子を用いた表示装置を実現することを可能とするものである。   Hereinafter, an example in which an N-channel transistor and a P-channel transistor included in a semiconductor circuit of the present invention are formed using a thin film transistor over a substrate having an insulating surface will be briefly described with reference to FIGS. The active matrix display device having the configuration shown in FIGS. 10 to 15 can realize a display device using a liquid crystal display device or an EL (Electro Luminescence) element.

まず、図10(A)に示すように、コーニング社の#7059ガラスや#1737ガラスなどに代表されるバリウムホウケイ酸ガラス、またはアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板401上に酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜から成るブロッキング層402を形成する。例えば、プラズマCVD法でSiH、NH、NOから作製される酸化窒化シリコン膜を10〜200nm(好ましくは50〜100nm)形成し、同様にSiH、NOから作製される酸化窒化水素化シリコン膜を50〜200nm(好ましくは100〜150nm)の厚さに積層形成する。本実施例ではブロッキング層402を2層構造として示したが、前記絶縁膜の単層膜または2層以上積層させた構造として形成しても良い。 First, as shown in FIG. 10A, a silicon oxide film and silicon nitride are formed on a glass substrate 401 such as barium borosilicate glass or aluminoborosilicate glass represented by Corning # 7059 glass or # 1737 glass. A blocking layer 402 made of an insulating film such as a film or a silicon oxynitride film is formed. For example, a silicon oxynitride film formed from SiH 4 , NH 3 , and N 2 O by plasma CVD is formed to a thickness of 10 to 200 nm (preferably 50 to 100 nm), and similarly oxidized from SiH 4 and N 2 O. A silicon hydride film is stacked to a thickness of 50 to 200 nm (preferably 100 to 150 nm). Although the blocking layer 402 is shown as a two-layer structure in this embodiment, it may be formed as a single layer film of the insulating film or a structure in which two or more layers are stacked.

島状に分割された半導体層403〜406は、非晶質構造を有する半導体膜を、レーザーアニール法やファーネスアニール炉を用いた熱処理により結晶構造を有する半導体膜(以下、結晶質半導体膜という)で形成する。この島状の半導体層403〜406の厚さは25〜80nm(好ましくは30〜60nm)の厚さで形成する。結晶質半導体膜の材料に限定はないが、好ましくはシリコンまたはシリコンゲルマニウム(SiGe)合金などで形成すると良い。   The semiconductor layers 403 to 406 divided into islands are formed by converting a semiconductor film having an amorphous structure into a semiconductor film having a crystal structure by a heat treatment using a laser annealing method or a furnace annealing furnace (hereinafter referred to as a crystalline semiconductor film). Form with. The island-shaped semiconductor layers 403 to 406 are formed to have a thickness of 25 to 80 nm (preferably 30 to 60 nm). There is no limitation on the material of the crystalline semiconductor film, but the crystalline semiconductor film is preferably formed of silicon or a silicon germanium (SiGe) alloy.

レーザーアニール法で結晶質半導体膜を作製するには、パルス発振型または連続発光型のエキシマレーザーやYAGレーザー、YVOレーザーを用いる。レーザー発振器から出力されるレーザー光は、光学系で線状に集光し半導体膜に照射する方法を用いる。アニールの条件は実施者が適宣選択するものであるが、エキシマレーザーを用いる場合はパルス発振周波数30Hzとし、レーザーエネルギー密度を100〜400mJ/cm(代表的には200〜300mJ/cm)とする。また、YAGレーザーを用いる場合には、第2高調波を用いパルス発振周波数1〜10kHzとし、レーザーエネルギー密度を300〜600mJ/cm(代表的には350〜500mJ/cm)とすると良い。そして幅100〜1000μm、例えば400μmで線状に集光したレーザー光を基板全面に渡って照射し、この時の線状レーザー光の重ね合わせ率(オーバーラップ率)を80〜98%として行う。 In order to manufacture a crystalline semiconductor film by a laser annealing method, a pulse oscillation type or continuous emission type excimer laser, YAG laser, or YVO 4 laser is used. Laser light output from the laser oscillator is collected in a linear form by an optical system and irradiated onto the semiconductor film. The conditions for annealing are appropriately selected by the practitioner. When an excimer laser is used, the pulse oscillation frequency is 30 Hz and the laser energy density is 100 to 400 mJ / cm 2 (typically 200 to 300 mJ / cm 2 ). And In the case of using a YAG laser, the second harmonic is used, the pulse oscillation frequency is set to 1 to 10 kHz, and the laser energy density is set to 300 to 600 mJ / cm 2 (typically 350 to 500 mJ / cm 2 ). Then, laser light condensed linearly with a width of 100 to 1000 μm, for example, 400 μm, is irradiated over the entire surface of the substrate, and the superposition ratio (overlap ratio) of the linear laser light at this time is 80 to 98%.

次いで、島状の半導体層403〜406を覆うゲート絶縁膜407を形成する。ゲート絶縁膜407はプラズマCVD法またはスパッタ法を用い、厚さを40〜150nmとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。本実施例では、120nmの厚さとして酸化窒化シリコン膜を形成する。勿論、ゲート絶縁膜407はこのような酸化窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良い。   Next, a gate insulating film 407 is formed to cover the island-shaped semiconductor layers 403 to 406. The gate insulating film 407 is formed of an insulating film containing silicon with a thickness of 40 to 150 nm by using a plasma CVD method or a sputtering method. In this embodiment, a silicon oxynitride film is formed with a thickness of 120 nm. Needless to say, the gate insulating film 407 is not limited to such a silicon oxynitride film, and another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a stacked structure.

そして、ゲート絶縁膜407上にゲート電極を形成するための第1の導電膜408aと第2の導電膜408bとを形成する。本実施例では、第1の導電膜408aを窒化タンタルまたはチタンで50〜100nmの厚さに形成し、第2の導電膜408bをタングステンで100〜300nmの厚さに形成する。これらの材料は、窒素雰囲気中における400〜600℃の熱処理でも安定であり、抵抗率が著しく増大することがない。   Then, a first conductive film 408 a and a second conductive film 408 b for forming a gate electrode are formed over the gate insulating film 407. In this embodiment, the first conductive film 408a is formed with tantalum nitride or titanium to a thickness of 50 to 100 nm, and the second conductive film 408b is formed with tungsten to a thickness of 100 to 300 nm. These materials are stable even in heat treatment at 400 to 600 ° C. in a nitrogen atmosphere, and the resistivity does not increase remarkably.

次に図10(B)に示すように、レジストによるマスク409を形成し、ゲート電極を形成するための第1のエッチング処理を行う。エッチング方法に限定はないが、好適にはICP(Inductively Coupled Plasma:誘導結合型プラズマ)エッチング法を用いる。エッチング用ガスにCFとClを混合し、0.5〜2Pa、好ましくは1Paの圧力でコイル型の電極に500WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生成して行う。基板側(試料ステージ)にも100WのRF(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負の自己バイアス電圧を印加する。CFとClを混合した場合にはタングステン膜、窒化タンタル膜及びチタン膜の場合でも、それぞれ同程度の速度でエッチングすることができる。 Next, as shown in FIG. 10B, a resist mask 409 is formed, and a first etching process for forming a gate electrode is performed. There is no limitation on the etching method, but an ICP (Inductively Coupled Plasma) etching method is preferably used. CF 4 and Cl 2 are mixed in an etching gas, and 500 W of RF (13.56 MHz) power is supplied to the coil electrode at a pressure of 0.5 to 2 Pa, preferably 1 Pa, to generate plasma. 100 W RF (13.56 MHz) power is also applied to the substrate side (sample stage), and a substantially negative self-bias voltage is applied. When CF 4 and Cl 2 are mixed, etching can be performed at a similar rate even in the case of a tungsten film, a tantalum nitride film, and a titanium film.

上記エッチング条件では、レジストによるマスクの形状と、基板側に印加するバイアス電圧の効果により端部をテーパー形状とすることができる。テーパー部の角度は25〜45度となるようにする。また、ゲート絶縁膜上に残渣を残すことなくエッチングするためには、10〜20%程度の割合でエッチング時間を増加させると良い。タングステンに対する酸化窒化シリコン膜の選択比は2〜4(代表的には3)であるので、オーバーエッチング処理により、酸化窒化シリコン膜が露出した面は20〜50nm程度エッチングされる。こうして、第1のエッチング処理により第1の導電膜と第2の導電膜から成る第1の形状の導電層410〜415(第1の導電膜410a〜415aと第2の導電膜410b〜415b)を形成する。416はゲート絶縁膜であり、第1の形状の導電層で覆われない領域は20〜50nm程度エッチングされ薄くなる。   Under the above etching conditions, the end portion can be tapered by the shape of the resist mask and the effect of the bias voltage applied to the substrate side. The angle of the tapered portion is set to 25 to 45 degrees. In order to etch without leaving a residue on the gate insulating film, it is preferable to increase the etching time at a rate of about 10 to 20%. Since the selection ratio of the silicon oxynitride film to tungsten is 2 to 4 (typically 3), the surface where the silicon oxynitride film is exposed is etched by about 20 to 50 nm by the over-etching process. Thus, the first shape conductive layers 410 to 415 (the first conductive films 410a to 415a and the second conductive films 410b to 415b) formed of the first conductive film and the second conductive film by the first etching treatment. Form. Reference numeral 416 denotes a gate insulating film, and a region not covered with the first shape conductive layer is etched and thinned by about 20 to 50 nm.

そして図10(C)に示すように、第1のドーピング処理を行いn型の不純物(ドナー)をドーピングする。ドーピングの方法はイオンドープ法若しくはイオン注入法で行う。イオンドープ法の条件はドーズ量を1×1013〜5×1014/cmとして行う。n型を付与する不純物元素として15族に属する元素、典型的にはリン(P)または砒素(As)を用いる。この場合、加速電圧を制御(例えば、20〜60keV)して、第1の形状の導電層をマスクとして利用する。こうして、第1の不純物領域417〜420を形成する。例えば、第1の不純物領域417〜420おけるn型の不純物の濃度は1×1020〜1×1021/cmの範囲で形成する。 Then, as shown in FIG. 10C, a first doping process is performed to dope n-type impurities (donors). Doping is performed by ion doping or ion implantation. The ion doping method is performed at a dose of 1 × 10 13 to 5 × 10 14 / cm 2 . As the impurity element imparting n-type, an element belonging to Group 15, typically phosphorus (P) or arsenic (As) is used. In this case, the acceleration voltage is controlled (for example, 20 to 60 keV), and the first shape conductive layer is used as a mask. Thus, first impurity regions 417 to 420 are formed. For example, the n-type impurity concentration in the first impurity regions 417 to 420 is formed in the range of 1 × 10 20 to 1 × 10 21 / cm 3 .

図11(A)で示す第2のエッチング処理は、同様にICPエッチング装置を用い、エッチングガスにCFとClとOを混合して、1Paの圧力でコイル型の電極に500WのRF電力(13.56MHz)を供給してプラズマを生成する。基板側(試料ステージ)には50WのRF(13.56MHz)電力を投入し、第1のエッチング処理に比べ低い自己バイアス電圧を印加する。このような条件によりタングステン膜を異方性エッチングし、第1の導電層である窒化タンタル膜またはチタン膜を残存させるようにする。こうして、第2の形状の導電層421〜426(第1の導電膜421a〜426aと第2の導電膜421b〜426b)を形成する。ゲート絶縁膜は第2の形状の導電層421〜426で覆われない領域はさらに20〜50nm程度エッチングされて膜厚が薄くなる。 In the second etching process shown in FIG. 11A, similarly, an ICP etching apparatus is used, and CF 4 , Cl 2, and O 2 are mixed in an etching gas, and RF of 500 W is applied to a coil-type electrode at a pressure of 1 Pa. Electric power (13.56 MHz) is supplied to generate plasma. 50 W RF (13.56 MHz) power is applied to the substrate side (sample stage), and a lower self-bias voltage is applied than in the first etching process. Under such conditions, the tungsten film is anisotropically etched to leave the tantalum nitride film or titanium film as the first conductive layer. Thus, second shape conductive layers 421 to 426 (first conductive films 421a to 426a and second conductive films 421b to 426b) are formed. The region of the gate insulating film that is not covered with the second shape conductive layers 421 to 426 is further etched by about 20 to 50 nm to be thinned.

次いで、第2のドーピング処理を行う。第1のドーピング処理よりもドーズ量を下げ高加速電圧の条件でn型の不純物(ドナー)をドーピングする。例えば、加速電圧を70〜120keVとし、1×1013/cmのドーズ量で行い、図4(C)で島状の半導体層に形成された第1の不純物領域の内側に第2の不純物領域427〜430を形成する。このドーピングは、第2の導電膜423b〜426bを不純物元素に対するマスクとして用い、第1の導電膜423a〜426aの下側の領域に不純物元素が添加されるようにドーピングする。この不純物領域は、第1の導電層423a〜426aがほぼ同じ膜厚で残存していることから、第2の形状の導電層に沿った方向における濃度分布の差は小さく、1×1017〜1×1019/cmの濃度でn型の不純物(ドナー)が含まれるように形成する。 Next, a second doping process is performed. The n-type impurity (donor) is doped under a condition of a high acceleration voltage with a lower dose than in the first doping process. For example, the acceleration voltage is set to 70 to 120 keV and the dose is 1 × 10 13 / cm 2 , and the second impurity is formed inside the first impurity region formed in the island-shaped semiconductor layer in FIG. Regions 427 to 430 are formed. In this doping, the second conductive films 423b to 426b are used as masks against the impurity elements, and doping is performed so that the impurity elements are added to regions below the first conductive films 423a to 426a. In this impurity region, since the first conductive layers 423a to 426a remain with substantially the same film thickness, the difference in concentration distribution in the direction along the second shape conductive layer is small, and 1 × 10 17 to An n-type impurity (donor) is included at a concentration of 1 × 10 19 / cm 3 .

そして、図11(B)に示すように、第3のエッチング処理を行い、ゲート絶縁膜のエッチング処理を行う。その結果、第2の導電膜421a〜426aもエッチングされ、端部が後退して小さくなり、第3の形状の導電層431〜436(第1の導電膜431a〜436aと第2の導電膜431b〜436b)が形成される。437は残存するゲート絶縁膜であり、エッチングをさらに進めて半導体層の表面を露出させても良い。   Then, as shown in FIG. 11B, a third etching process is performed, and an etching process for the gate insulating film is performed. As a result, the second conductive films 421a to 426a are also etched, the end portions thereof are recessed and become smaller, and the third shape conductive layers 431 to 436 (the first conductive films 431a to 436a and the second conductive film 431b). ~ 436b) are formed. Reference numeral 437 denotes a remaining gate insulating film, which may be further etched to expose the surface of the semiconductor layer.

pチャネル型TFTに対しては、図11(C)に示すように、レジストマスク438、439を形成し、pチャネル型TFTを形成する島状の半導体層にp型の不純物(アクセプタ)をドーピングする。p型の不純物(アクセプタ)は13族に属する元素から選ばれ、典型的にはボロン(B)を用いる。第3の不純物領域440a〜440cの不純物濃度は2×1020〜2×1021/cmとなるようにする。第3の不純物領域にはリンが添加されているが、それ以上の濃度でボロンを添加して導電型を反転させておく。 For p-channel TFTs, resist masks 438 and 439 are formed as shown in FIG. 11C, and p-type impurities (acceptors) are doped in the island-shaped semiconductor layers forming the p-channel TFTs. To do. The p-type impurity (acceptor) is selected from elements belonging to Group 13, and typically boron (B) is used. The impurity concentration of the third impurity regions 440a to 440c is set to 2 × 10 20 to 2 × 10 21 / cm 3 . Although phosphorus is added to the third impurity region, boron is added at a concentration higher than that to reverse the conductivity type.

以上までの工程で半導体層に不純物領域が形成される。図11において、第3の形状の導電層433〜435はゲート電極となり、第3の形状の導電層436は容量配線となる。また、第3の形状の導電層431、432はソース線などの配線を形成する。   Through the above steps, impurity regions are formed in the semiconductor layer. In FIG. 11, the third shape conductive layers 433 to 435 serve as gate electrodes, and the third shape conductive layer 436 serves as a capacitor wiring. The third shape conductive layers 431 and 432 form wirings such as source lines.

次に、図12(A)では最初に、窒化シリコン膜(SiN:H)または酸化窒化シリコン膜(SiN:H)から成る第1の絶縁膜441をプラズマCVD法で形成する。そして導電型の制御を目的としてそれぞれの島状の半導体層に添加された不純物元素を活性化する工程を行う。活性化はファーネスアニール炉を用いる熱アニール法で行うことが好ましい。その他に、レーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール法(RTA法)を適用することもできる。熱アニール法では酸素濃度が1ppm以下、好ましくは0.1ppm以下の窒素雰囲気中で400〜700℃、代表的には500〜600℃で行うものであり、本実施例では550℃で4時間の熱処理を行う。 Next, in FIG. 12A, first, a first insulating film 441 made of a silicon nitride film (SiN: H) or a silicon oxynitride film (SiN x O y : H) is formed by a plasma CVD method. Then, a step of activating the impurity element added to each island-like semiconductor layer is performed for the purpose of controlling the conductivity type. Activation is preferably performed by a thermal annealing method using a furnace annealing furnace. In addition, a laser annealing method or a rapid thermal annealing method (RTA method) can also be applied. In the thermal annealing method, the oxygen concentration is 1 ppm or less, preferably 0.1 ppm or less in a nitrogen atmosphere at 400 to 700 ° C., typically 500 to 600 ° C. In this example, the temperature is 550 ° C. for 4 hours. Heat treatment is performed.

その後、第1の絶縁膜441上に窒化シリコン膜(SiN:H)または酸化窒化シリコン膜(SiN:H)から成る第2の絶縁膜442を形成する。そして、350〜500℃で熱処理を行う。第2の絶縁膜442から放出される水素により半導体膜の水素化を行う。 After that, a second insulating film 442 made of a silicon nitride film (SiN: H) or a silicon oxynitride film (SiN x O y : H) is formed over the first insulating film 441. And heat processing is performed at 350-500 degreeC. The semiconductor film is hydrogenated with hydrogen released from the second insulating film 442.

さらに、図12(B)で示すように有機樹脂からなる第3の絶縁膜443を約1000nmの厚さに形成する。有機樹脂膜としては、ポリイミド、アクリル、ポリイミドアミド等を使用することができる。有機樹脂膜を用いることの利点は、成膜方法が簡単である点や、比誘電率が低いので、寄生容量を低減できる点、平坦性に優れる点などが上げられる。なお上述した以外の有機樹脂膜を用いることもできる。ここでは、基板に塗布後、熱重合するタイプのポリイミドを用い、300℃で焼成して形成する。   Further, as shown in FIG. 12B, a third insulating film 443 made of an organic resin is formed to a thickness of about 1000 nm. As the organic resin film, polyimide, acrylic, polyimide amide, or the like can be used. Advantages of using the organic resin film are that the film forming method is simple, the relative dielectric constant is low, the parasitic capacitance can be reduced, and the flatness is excellent. Organic resin films other than those described above can also be used. Here, after applying to the substrate, a thermal polymerization type polyimide is used and baked at 300 ° C.

次に、第3の絶縁膜443、第2の絶縁膜442、第1の絶縁膜441に、コンタクトホールを形成し、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)などを用いて、接続電極451及びソースまたはドレイン配線444〜447を形成する。また、画素部においては、第1の画素電極450、ゲート配線449、接続電極448を形成する。   Next, contact holes are formed in the third insulating film 443, the second insulating film 442, and the first insulating film 441, and aluminum (Al), titanium (Ti), tantalum (Ta), or the like is used. Connection electrodes 451 and source or drain wirings 444 to 447 are formed. In the pixel portion, a first pixel electrode 450, a gate wiring 449, and a connection electrode 448 are formed.

こうして、同一の基板上にpチャネル型TFT453とnチャネル型TFT454が形成される。図12(B)ではpチャネル型TFT453とnチャネル型TFT454の断面図のみを示しているが、これらのTFTを用いて、本発明の半導体回路を具備するゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路を同一基板上に一体にを形成することができる。   Thus, a p-channel TFT 453 and an n-channel TFT 454 are formed on the same substrate. In FIG. 12B, only a cross-sectional view of the p-channel TFT 453 and the n-channel TFT 454 is shown; however, using these TFTs, a gate signal line driver circuit and a source signal line driver each including the semiconductor circuit of the present invention are used. The circuit can be formed integrally on the same substrate.

本実施例で説明した薄膜トランジスタの構造はあくまで一実施例であり、図10〜15に示した作製工程及び構造に限定される必要はない。公知の薄膜トランジスタ作製方法によって、本発明の半導体回路を同一基板上に一体に形成することができる。そしてこのような回路は、薄膜トランジスタで構成されることによりガラス基板などの面積の大きい基板上に安価に形成できるため、表示装置の大面積化、低コスト化が可能である。またさらに、本発明の半導体回路を具備するゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路は、トランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を作製することが可能となる。   The structure of the thin film transistor described in this embodiment is merely an embodiment, and is not necessarily limited to the manufacturing process and structure illustrated in FIGS. The semiconductor circuit of the present invention can be integrally formed over the same substrate by a known thin film transistor manufacturing method. Such a circuit can be formed at low cost over a substrate having a large area such as a glass substrate by being formed using a thin film transistor, so that the display device can have a large area and a low cost. Furthermore, the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit including the semiconductor circuit of the present invention can greatly reduce the number of transistors, so that the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced. In addition, a product with a high yield can be manufactured.

また本実施例は、上記実施の形態及び上記実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by being freely combined with any description of the above embodiment modes and embodiments.

本実施例では、アクティブマトリクス基板から、アクティブマトリクス型液晶表示装置を作製する工程を説明する。図13に示すように、図12(B)の状態の基板上に層間膜461、462を形成し、その上に第2の画素電極463を形成し、その上に配向膜551を形成する。本実施例では配向膜としてポリイミド膜を用いる。また、対向基板552には、透明導電膜553と、配向膜554とを形成する。なお、対向基板には必要に応じてカラーフィルターや遮蔽膜を形成しても良い。   In this embodiment, a process for manufacturing an active matrix liquid crystal display device from an active matrix substrate will be described. As shown in FIG. 13, interlayer films 461 and 462 are formed on the substrate in the state of FIG. 12B, a second pixel electrode 463 is formed thereon, and an alignment film 551 is formed thereon. In this embodiment, a polyimide film is used as the alignment film. A transparent conductive film 553 and an alignment film 554 are formed over the counter substrate 552. Note that a color filter or a shielding film may be formed on the counter substrate as necessary.

次に、配向膜を形成した後、ラビング処理を施して液晶分子がある一定のプレチルト角を持って配向するように調節する。そして、画素部と、駆動回路が形成されたアクティブマトリクス基板と対向基板とを、公知のセル組み工程によってシール材やスペーサ(共に図示せず)などを介して貼りあわせる。   Next, after forming an alignment film, a rubbing process is performed to adjust the liquid crystal molecules so that they are aligned with a certain pretilt angle. Then, the active matrix substrate on which the pixel portion, the drive circuit is formed, and the counter substrate are bonded to each other through a sealing material, a spacer (both not shown), and the like by a known cell assembling process.

その後、両基板の間に液晶555を注入し、封止材(図示せず)によって完全に封止する。液晶には公知の液晶材料を用いれば良い。このようにして図5に示すアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。   Thereafter, liquid crystal 555 is injected between both substrates and completely sealed with a sealing material (not shown). A known liquid crystal material may be used for the liquid crystal. Thus, the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. 5 is completed.

次に、このアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を、図14の斜視図を用いて説明する。アクティブマトリクス基板は、ガラス基板601上に形成された、画素部602と、ゲート側駆動回路603と、ソース側駆動回路604で構成される。画素部の画素TFT605はnチャネル型TFTであり、画素電極606及び保持容量607に接続される。   Next, the configuration of the active matrix liquid crystal display device will be described with reference to the perspective view of FIG. The active matrix substrate includes a pixel portion 602, a gate side driver circuit 603, and a source side driver circuit 604 that are formed over a glass substrate 601. A pixel TFT 605 in the pixel portion is an n-channel TFT and is connected to the pixel electrode 606 and the storage capacitor 607.

また、周辺に設けられる駆動回路は本発明の半導体回路を基本として構成されている。ゲート側駆動回路603と、ソース側駆動回路604はそれぞれゲート配線608とソース配線609で画素部602に接続されている。また、FPC610が接続された外部入出力端子611には駆動回路まで信号を伝達するための入出力配線(接続配線)612、613が設けられている。また、614は対向基板である。   The drive circuit provided in the periphery is configured based on the semiconductor circuit of the present invention. The gate side driver circuit 603 and the source side driver circuit 604 are connected to the pixel portion 602 through a gate wiring 608 and a source wiring 609, respectively. The external input / output terminal 611 to which the FPC 610 is connected is provided with input / output wirings (connection wirings) 612 and 613 for transmitting signals to the driving circuit. Reference numeral 614 denotes a counter substrate.

本実施例で説明したアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成はあくまで一実施例であり、図13、図14に示した構造に限定される必要はない。公知のアクティブマトリクス型液晶表示装置の作製方法によって、本発明の半導体回路をアクティブマトリクス型液晶表示装置の駆動回路部に実装することができる。そして本発明の半導体回路を具備するアクティブマトリクス型液晶表示装置は、薄膜トランジスタで構成されることによりガラス基板などの面積の大きい基板上に安価に形成できるため、表示装置の大面積化、低コスト化が可能である。またさらに、本発明の半導体回路を具備するゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路は、トランジスタ数を大幅に削減することができるため、低消費電力化、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することにより挟額縁化ができ、なおかつ歩留まり高い製品を作製することが可能となる。   The configuration of the active matrix liquid crystal display device described in this embodiment is merely an embodiment, and is not necessarily limited to the structure shown in FIGS. By a known method for manufacturing an active matrix liquid crystal display device, the semiconductor circuit of the present invention can be mounted on a driver circuit portion of the active matrix liquid crystal display device. The active matrix liquid crystal display device including the semiconductor circuit of the present invention can be formed at low cost on a substrate having a large area such as a glass substrate by being composed of thin film transistors, so that the display device has a large area and a low cost. Is possible. Further, the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit including the semiconductor circuit of the present invention can greatly reduce the number of transistors, so that power consumption is reduced and the layout of the driver circuit portion around the pixel portion is reduced. By reducing the area, a frame can be formed and a product with a high yield can be manufactured.

なお、本明細書中では図13に示した半導体装置をアクティブマトリクス型液晶表示装置と呼んでいるが、図14に示すようにFPCまで取り付けられた液晶パネルのことを一般的には液晶モジュールという。従って、本実施例でいうアクティブマトリクス型液晶表示装置を液晶モジュールと呼んでも差し支えない。   In this specification, the semiconductor device shown in FIG. 13 is called an active matrix liquid crystal display device, but a liquid crystal panel attached up to an FPC as shown in FIG. 14 is generally called a liquid crystal module. . Therefore, the active matrix liquid crystal display device in this embodiment may be called a liquid crystal module.

また本実施例は、上記実施の形態及び上記実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by being freely combined with any description of the above embodiment modes and embodiments.

本実施例では、本発明の半導体回路を具備する発光装置の一形態に相当するパネルの外観について、図15を用いて説明する。図15(A)は、第1の基板上に形成されたトランジスタ及び発光素子を、第2の基板との間にシール材によって封止した、パネルの上面図であり、図15(B)は、図15(A)のA−A’における断面図に相当する。   In this example, the appearance of a panel corresponding to one mode of a light-emitting device including a semiconductor circuit of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 15A is a top view of a panel in which a transistor and a light-emitting element formed over a first substrate are sealed with a sealant between the second substrate and FIG. 15B. FIG. 15A corresponds to a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.

第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、信号線駆動回路4003と、第1の走査線駆動回路4004と、第2の走査線駆動回路4005とを囲むようにして、シール材4020が設けられている。また画素部4002と、信号線駆動回路4003と、第1の走査線駆動回路4004と、第2の走査線駆動回路4005の上に、第2の基板4006が設けられている。よって画素部4002と、信号線駆動回路4003と、第1の走査線駆動回路4004と、第2の走査線駆動回路4005とは、第1の基板4001とシール材4020と第2の基板4006とによって、充填材4007と共に密封されている。   A sealant 4020 is provided so as to surround the pixel portion 4002, the signal line driver circuit 4003, the first scan line driver circuit 4004, and the second scan line driver circuit 4005 provided over the first substrate 4001. It has been. In addition, a second substrate 4006 is provided over the pixel portion 4002, the signal line driver circuit 4003, the first scan line driver circuit 4004, and the second scan line driver circuit 4005. Therefore, the pixel portion 4002, the signal line driver circuit 4003, the first scan line driver circuit 4004, and the second scan line driver circuit 4005 include the first substrate 4001, the sealant 4020, and the second substrate 4006. Is sealed together with the filler 4007.

また第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、信号線駆動回路4003と、第1の走査線駆動回路4004と、第2の走査線駆動回路4005とは、トランジスタを複数有しており、図15(B)では、信号線駆動回路4003に含まれるトランジスタ4008と、画素部4002に含まれる駆動用トランジスタ4009及びスイッチング用トランジスタ4010とを例示している。   Further, the pixel portion 4002, the signal line driver circuit 4003, the first scan line driver circuit 4004, and the second scan line driver circuit 4005 provided over the first substrate 4001 each include a plurality of transistors. FIG. 15B illustrates a transistor 4008 included in the signal line driver circuit 4003, and a driving transistor 4009 and a switching transistor 4010 included in the pixel portion 4002.

また4011は発光素子に相当し、駆動用トランジスタ4009のドレインと接続されている配線4017の一部が、発光素子4011の第1の電極として機能する。また透明導電膜が、発光素子4011の第2の電極4012として機能する。なお発光素子4011の構成は、本実施例に示した構成に限定されない。発光素子4011から取り出す光の方向や、駆動用トランジスタ4009の極性などに合わせて、発光素子4011の構成は適宜変えることができる。   Reference numeral 4011 corresponds to a light-emitting element, and a part of the wiring 4017 connected to the drain of the driving transistor 4009 functions as a first electrode of the light-emitting element 4011. The transparent conductive film functions as the second electrode 4012 of the light-emitting element 4011. Note that the structure of the light-emitting element 4011 is not limited to the structure shown in this embodiment. The structure of the light-emitting element 4011 can be changed as appropriate depending on the direction of light extracted from the light-emitting element 4011, the polarity of the driving transistor 4009, or the like.

また信号線駆動回路4003、第1の走査線駆動回路4004、第2の走査線駆動回路4005または画素部4002に与えられる各種信号及び電圧は、図15(B)に示す断面図では図示されていないが、引き出し配線4014及び4015を介して、接続端子4016から供給されている。   Further, various signals and voltages supplied to the signal line driver circuit 4003, the first scan line driver circuit 4004, the second scan line driver circuit 4005, or the pixel portion 4002 are not illustrated in the cross-sectional view in FIG. Although not provided, it is supplied from the connection terminal 4016 via the lead wirings 4014 and 4015.

本実施例では、接続端子4016が、発光素子4011が有する第2の電極4012と同じ導電膜から形成されている。また、引き出し配線4014は、配線4017と同じ導電膜から形成されている。また引き出し配線4015は、駆動用トランジスタ4009、スイッチング用トランジスタ4010、トランジスタ4008がそれぞれ有するゲートと、同じ導電膜から形成されている。   In this embodiment, the connection terminal 4016 is formed using the same conductive film as the second electrode 4012 included in the light-emitting element 4011. The lead wiring 4014 is formed from the same conductive film as the wiring 4017. The lead wiring 4015 is formed of the same conductive film as the gates of the driving transistor 4009, the switching transistor 4010, and the transistor 4008.

接続端子4016は、FPC4018が有する端子と、異方性導電膜4019を介して電気的に接続されている。   The connection terminal 4016 is electrically connected to a terminal included in the FPC 4018 through an anisotropic conductive film 4019.

なお、第1の基板4001、第2の基板4006としては、ガラス、金属(代表的にはステンレス)、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)板、PVF(ポリビニルフルオライド)フィルム、マイラーフィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをPVFフィルムやマイラーフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。   Note that as the first substrate 4001 and the second substrate 4006, glass, metal (typically stainless steel), ceramics, or plastic can be used. As the plastic, an FRP (Fiberglass-Reinforced Plastics) plate, a PVF (polyvinyl fluoride) film, a mylar film, a polyester film, or an acrylic resin film can be used. A sheet having a structure in which an aluminum foil is sandwiched between PVF films or mylar films can also be used.

但し、発光素子4011からの光の取り出し方向に位置する第2の基板4006は、透光性を有していなければならない。よって第2の基板4006は、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。   Note that the second substrate 4006 located in the direction in which light is extracted from the light-emitting element 4011 must have a light-transmitting property. Therefore, the second substrate 4006 is formed using a light-transmitting material such as a glass plate, a plastic plate, a polyester film, or an acrylic film.

また、充填材4007としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、PVC(ポリビニルクロライド)、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)またはEVA(エチレンビニルアセテート)を用いることができる。本実施例では充填材として窒素を用いた。   As the filler 4007, in addition to an inert gas such as nitrogen or argon, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used. PVC (polyvinyl chloride), acrylic, polyimide, epoxy resin, silicon resin, PVB (Polyvinyl butyral) or EVA (ethylene vinyl acetate) can be used. In this example, nitrogen was used as the filler.

また、周辺に設けられる駆動回路は本発明の半導体回路を基本として構成されている。第1の走査線駆動回路4004、第2の走査線駆動回路4005と、信号線駆動回路4003はそれぞれゲート配線とソース配線で画素部に接続されている。   The drive circuit provided in the periphery is configured based on the semiconductor circuit of the present invention. The first scan line driver circuit 4004, the second scan line driver circuit 4005, and the signal line driver circuit 4003 are connected to the pixel portion through gate lines and source lines, respectively.

本実施例は、上記実施の形態及び上記実施例と組み合わせて実施することができる。   This embodiment can be implemented in combination with the above embodiment mode and the above embodiments.

本実施例で説明した発光装置の構成はあくまで一実施例であり、図15に示した構造に限定される必要はない。公知の発光装置の作製方法によって、本発明の半導体回路を発光装置の駆動回路部に実装することができる。そして本発明の半導体回路を具備する発光装置は、薄膜トランジスタで構成されることによりガラス基板などの面積の大きい基板上に安価に形成できるため、表示装置の大面積化、低コスト化が可能である。またさらに、本発明の半導体回路を具備するゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路は、トランジスタ数を大幅に削減することができるため、低消費電力化、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することにより挟額縁化ができ、なおかつ歩留まり高い製品を作製することが可能となる。   The structure of the light-emitting device described in this embodiment is just an example, and is not necessarily limited to the structure illustrated in FIG. The semiconductor circuit of the present invention can be mounted on a driver circuit portion of a light emitting device by a known method for manufacturing a light emitting device. A light-emitting device including the semiconductor circuit of the present invention can be formed on a substrate having a large area such as a glass substrate by using a thin film transistor, so that the display device can have a large area and a low cost. . Further, the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit including the semiconductor circuit of the present invention can greatly reduce the number of transistors, so that power consumption is reduced and the layout of the driver circuit portion around the pixel portion is reduced. By reducing the area, a frame can be formed and a product with a high yield can be manufactured.

なお、本明細書中では図15に示した半導体装置をアクティブマトリクス型発光装置と呼んでいるが、図15に示すようにFPCまで取り付けられたEL素子を用いたパネルのことを本明細書ではELモジュールという。   Note that in this specification, the semiconductor device illustrated in FIG. 15 is referred to as an active matrix light-emitting device, but in this specification, a panel using an EL element attached to an FPC as illustrated in FIG. It is called EL module.

また本実施例は、上記実施の形態及び上記実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by being freely combined with any description of the above embodiment modes and embodiments.

以下に本発明の半導体回路を構成するNチャネル型トランジスタ及びPチャネル型トランジスタを単結晶基板上に作製する例について示す。作製手順について、簡略に図16を用いて説明する。   Hereinafter, an example in which an N-channel transistor and a P-channel transistor included in the semiconductor circuit of the present invention are formed over a single crystal substrate is described. A manufacturing procedure will be briefly described with reference to FIGS.

まず、単結晶シリコンからなるシリコン基板1901を用意する。そして、シリコン基板の主面(素子形成面または回路形成面)の第1の素子形成領域にn型ウェル1902を、第2の素子形成領域にp型ウェル1903をそれぞれ選択的に形成する。   First, a silicon substrate 1901 made of single crystal silicon is prepared. Then, an n-type well 1902 and a p-type well 1903 are selectively formed in the first element formation region of the main surface (element formation surface or circuit formation surface) of the silicon substrate, respectively.

次いで、第1の素子形成領域と第2の素子形成領域とを区画するための素子分離領域となるフィールド酸化膜1904を形成する。フィールド酸化膜1904は厚い熱酸化膜であり、公知のLOCOS法を用いて形成すればよい。なお、素子分離法は、LOCOS法に限定されず、例えば素子分離領域はトレンチ分離法を用いてトレンチ構造を有していてもよいし、LOCOS構造とトレンチ構造の組み合わせであってもよい。   Next, a field oxide film 1904 serving as an element isolation region for partitioning the first element formation region and the second element formation region is formed. The field oxide film 1904 is a thick thermal oxide film and may be formed using a known LOCOS method. The element isolation method is not limited to the LOCOS method. For example, the element isolation region may have a trench structure using the trench isolation method, or may be a combination of the LOCOS structure and the trench structure.

次いで、シリコン基板の表面を、例えば熱酸化させることによってゲート絶縁膜を形成する。ゲート絶縁膜は、CVD法を用いて形成してもよく、酸化窒化珪素膜や酸化珪素膜や窒化珪素膜やそれらの積層膜を用いることができる。例えば、熱酸化により得られる膜厚5nmの酸化珪素膜とCVD法で得られる膜厚10nm〜15nmの酸化窒化珪素膜の積層膜を形成する。   Next, a gate insulating film is formed by thermally oxidizing the surface of the silicon substrate, for example. The gate insulating film may be formed by a CVD method, and a silicon oxynitride film, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a stacked film thereof can be used. For example, a stacked film of a silicon oxide film having a thickness of 5 nm obtained by thermal oxidation and a silicon oxynitride film having a thickness of 10 nm to 15 nm obtained by a CVD method is formed.

次いで、ポリシリコン層1905b、1906bとシリサイド層1905a、1906aとの積層膜を全面に形成し、リソグラフィ技術およびドライエッチング技術に基づき積層膜を形成することによってゲート絶縁膜上にポリサイド構造を有するゲート電極1905、1906を形成する。ポリシリコン層1905b、1906bは低抵抗化するために予め、1021/cm程度の濃度でリン(P)をドープしておいても良いし、ポリシリコン膜を形成した後で濃いn型不純物を拡散させても良い。また、シリサイド層1905a、1906aを形成する材料はモリブデンシリサイド(MoSix)、タングステンシリサイド(WSix)、タンタルシリサイド(TaSix)、チタンシリサイド(TiSix)などを適用することが可能であり、公知の方法に従い形成すれば良い。 Next, a stacked film of polysilicon layers 1905b and 1906b and silicide layers 1905a and 1906a is formed on the entire surface, and a stacked film is formed based on a lithography technique and a dry etching technique, thereby forming a gate electrode having a polycide structure on the gate insulating film. 1905 and 1906 are formed. The polysilicon layers 1905b and 1906b may be doped in advance with phosphorus (P) at a concentration of about 10 21 / cm 3 in order to reduce the resistance, or after the formation of the polysilicon film, a deep n-type impurity May be diffused. The silicide layers 1905a and 1906a can be made of molybdenum silicide (MoSix), tungsten silicide (WSix), tantalum silicide (TaSix), titanium silicide (TiSix), or the like. Just do it.

次いで、エクステンション領域を形成するために、ゲート絶縁膜を介してシリコン半導体基板にイオン注入を行う。本実施例においては、各ソース領域およびドレイン領域とチャネル形成領域との間に形成された不純物領域をエクステンション領域と呼ぶ。エクステンション領域1907、1908の不純物濃度は、ソース領域およびドレイン領域の不純物濃度よりも低い場合もあるし、同等の場合もあるし、高い場合もある。即ち、エクステンション領域の不純物濃度は、半導体装置に要求される特性に基づいて決定すればよい。   Next, in order to form an extension region, ion implantation is performed on the silicon semiconductor substrate through the gate insulating film. In this embodiment, the impurity region formed between each source region and drain region and the channel formation region is called an extension region. The impurity concentration of the extension regions 1907 and 1908 may be lower than the impurity concentration of the source region and the drain region, may be equal, or may be higher. That is, the impurity concentration in the extension region may be determined based on characteristics required for the semiconductor device.

本実施例は、本発明に適用されるCMOS回路を製造する場合であるので、pチャネル型FETを形成すべき第1の素子形成領域をレジスト材料で被覆し、n型不純物であるヒ素(As)やリン(P)をシリコン基板に注入する。また、nチャネル型FETを形成すべき第2の素子形成領域をレジスト材料で被覆し、p型不純物であるボロン(B)をシリコン基板に注入する。   Since this embodiment is a case of manufacturing a CMOS circuit applied to the present invention, the first element formation region in which the p-channel FET is to be formed is covered with a resist material, and arsenic (As ) Or phosphorus (P) is implanted into the silicon substrate. Further, the second element formation region in which the n-channel FET is to be formed is covered with a resist material, and boron (B) that is a p-type impurity is implanted into the silicon substrate.

次いで、イオン注入された不純物の活性化および、イオン注入によって発生したシリコン基板における結晶欠陥を回復するために、第1回目の活性化処理を行う。Siの融点程度の温度まで半導体基板を加熱して活性化する。   Next, a first activation process is performed in order to activate the ion-implanted impurities and recover crystal defects in the silicon substrate generated by the ion implantation. The semiconductor substrate is heated to a temperature about the melting point of Si and activated.

次いで、ゲート電極の側壁にサイドウォール1909、1910を形成する。例えば酸化珪素からなる絶縁材料層を全面にCVD法にて体積させ、かかる絶縁材料層をエッチバックすることによってサイドウォールを形成すればよい。エッチバックの際に自己整合的にゲート絶縁膜を選択的に除去してもよい。また、エッチバック後にゲート絶縁膜のエッチングを行ってもよい。こうして、ゲート電極の幅と、そのゲート電極の側壁の両側に設けられたサイドウォールの幅とを合計した幅を有するゲート絶縁膜1911、1912が形成される。   Next, sidewalls 1909 and 1910 are formed on the sidewalls of the gate electrode. For example, an insulating material layer made of silicon oxide may be made to have a volume by a CVD method over the entire surface, and the insulating material layer may be etched back to form a sidewall. The gate insulating film may be selectively removed in a self-aligned manner during the etch back. Further, the gate insulating film may be etched after the etch back. Thus, gate insulating films 1911 and 1912 having a total width of the width of the gate electrode and the widths of the sidewalls provided on both sides of the side wall of the gate electrode are formed.

次いで、ソース領域およびドレイン領域を形成するために、露出したシリコン基板にイオン注入を行う。pチャネル型FETを形成すべき第1の素子形成領域をレジスト材料で被覆し、n型不純物であるヒ素(As)やリン(P)をシリコン基板に注入してソース領域1913及びドレイン領域1914を形成する。また、nチャネル型FETを形成すべき第2の素子形成領域をレジスト材料で被覆し、p型不純物であるボロン(B)をシリコン基板に注入してソース領域1915及びドレイン領域1916を形成する。   Next, ion implantation is performed on the exposed silicon substrate to form a source region and a drain region. A first element formation region in which a p-channel FET is to be formed is covered with a resist material, and n-type impurities such as arsenic (As) and phosphorus (P) are implanted into the silicon substrate to form a source region 1913 and a drain region 1914. Form. Further, a second element formation region in which an n-channel FET is to be formed is covered with a resist material, and boron (B) which is a p-type impurity is implanted into the silicon substrate to form a source region 1915 and a drain region 1916.

次いで、イオン注入された不純物の活性化および、イオン注入によって発生したシリコン基板における結晶欠陥を回復するために、第2回目の活性化処理を行う。   Next, a second activation process is performed in order to activate the ion-implanted impurities and recover crystal defects in the silicon substrate generated by the ion implantation.

そして、活性化後に層間絶縁膜やプラグ電極やメタル配線等を形成する。第1の層間絶縁膜1917は、プラズマCVD法や減圧CVD法を用いて酸化シリコン膜や酸化窒化シリコン膜などで100〜2000nmの厚さに形成する。さらにその上にリンガラス(PSG)、あるいはボロンガラス(BSG)、もしくはリンボロンガラス(PBSG)の第2の層間絶縁膜1918が形成する。第2の層間絶縁膜1918は、平坦性を上げるため、スピンコート法や常圧CVD法で作製する。   Then, after activation, an interlayer insulating film, a plug electrode, a metal wiring, and the like are formed. The first interlayer insulating film 1917 is formed to a thickness of 100 to 2000 nm using a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, or the like by using a plasma CVD method or a low pressure CVD method. Further, a second interlayer insulating film 1918 made of phosphorus glass (PSG), boron glass (BSG), or phosphorus boron glass (PBSG) is formed thereon. The second interlayer insulating film 1918 is manufactured by spin coating or atmospheric pressure CVD in order to improve flatness.

ソース電極1919、1921、及びドレイン電極1920、1922は、第1の層間絶縁膜1917および第2の層間絶縁膜1918にそれぞれのFETのソース領域及びドレイン領域に達するコンタクトホールを形成した後に形成するもので、低抵抗材料として通常良く用いられるアルミニウム(Al)を用いると良い。また、Alとチタン(Ti)の積層構造としても良い。   The source electrodes 1919 and 1921 and the drain electrodes 1920 and 1922 are formed after forming contact holes reaching the source and drain regions of the respective FETs in the first interlayer insulating film 1917 and the second interlayer insulating film 1918. Therefore, it is preferable to use aluminum (Al) which is usually used as a low resistance material. Alternatively, a stacked structure of Al and titanium (Ti) may be used.

また、ここでは図示していないが、第1の層間絶縁膜1917および第2の層間絶縁膜1918にゲート電極に達するコンタクトホールが設けられ、第1の層間絶縁膜上に設けられている配線と電気的に接続する電極が形成する。   Although not shown here, a contact hole reaching the gate electrode is provided in the first interlayer insulating film 1917 and the second interlayer insulating film 1918, and a wiring provided on the first interlayer insulating film and An electrically connected electrode is formed.

最後に、パッシベーション膜1923と第3の層間絶縁膜1924を形成する。図16において向かって左側がpチャネル型トランジスタ1925であり、右側がnチャネル型トランジスタ1926である。   Finally, a passivation film 1923 and a third interlayer insulating film 1924 are formed. In FIG. 16, the left side is a p-channel transistor 1925 and the right side is an n-channel transistor 1926.

パッシベーション膜1923は、プラズマCVD法で窒化シリコン膜、または酸化シリコン膜、あるいは窒化酸化シリコン膜で形成されている。さらに、第3の層間絶縁膜1924は有機樹脂材料で1μm〜2μmの厚さに形成する。有機樹脂材料として、ポリイミド、ポリアミド、アクリル、ベンゾシクロブテン(BCB)などを用いることができる。有機樹脂膜を用いることの利点は、膜の形成方法が簡単である点や、比誘電率が低いので寄生容量を低減できる点、平坦化するのに適している点などがある。勿論、上述した以外の有機樹脂膜を用いても良い。   The passivation film 1923 is formed of a silicon nitride film, a silicon oxide film, or a silicon nitride oxide film by a plasma CVD method. Further, the third interlayer insulating film 1924 is formed of an organic resin material with a thickness of 1 μm to 2 μm. As the organic resin material, polyimide, polyamide, acrylic, benzocyclobutene (BCB), or the like can be used. Advantages of using the organic resin film include that the film formation method is simple, that the parasitic capacitance can be reduced because the relative dielectric constant is low, and that it is suitable for planarization. Of course, organic resin films other than those described above may be used.

このようにして、pチャネル型トランジスタ1925とnチャネル型トランジスタ1926が完成する。本実施例で説明したトランジスタの構成はあくまで一実施例であり、図17に示した作製工程及び構造に限定される必要はない。公知の単結晶基板上へのトランジスタ作製方法によって、本発明の半導体回路を単結晶基板上に形成することができる。そしてこのような回路は、単結晶基板に構成されることにより高速動作が可能であり、また、駆動電圧を低くして低消費電力化をすることができる。またさらに、本発明の半導体回路を具備するゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路は、トランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を作製することが可能となる。   In this manner, a p-channel transistor 1925 and an n-channel transistor 1926 are completed. The structure of the transistor described in this embodiment is just an embodiment and need not be limited to the manufacturing process and structure illustrated in FIGS. The semiconductor circuit of the present invention can be formed over a single crystal substrate by a known method for manufacturing a transistor over a single crystal substrate. Such a circuit can operate at high speed by being configured on a single crystal substrate, and can reduce power consumption by lowering a driving voltage. Furthermore, the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit including the semiconductor circuit of the present invention can greatly reduce the number of transistors, so that the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced. In addition, a product with a high yield can be manufactured.

本発明の半導体回路を具備する電子機器として、テレビ受像器、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。それらの電子機器の具体例を図17、図18、図19(A)〜図19(B)、図20(A)〜図20(B)、図21、図22(A)〜図22(E)に示す。   As an electronic device including the semiconductor circuit of the present invention, a television receiver, a video camera, a digital camera, a goggle type display, a navigation system, a sound reproduction device (car audio component, etc.), a computer, a game device, a portable information terminal (mobile computer) A mobile phone, a portable game machine, an electronic book, etc.) and an image playback apparatus (specifically, a digital versatile disc (DVD)) provided with a recording medium, and a display capable of displaying the image. Device). Specific examples of those electronic devices are shown in FIGS. 17, 18, 19A to 19B, 20A to 20B, 21, 22A to 22 (). E).

図17は表示パネル5001と、回路基板5011を組み合わせた液晶モジュールを示している。回路基板5011には、コントロール回路5012や信号分割回路5013などが形成されており、接続配線5014によって表示パネル5001と電気的に接続されている。   FIG. 17 shows a liquid crystal module in which a display panel 5001 and a circuit board 5011 are combined. A circuit board 5011 is provided with a control circuit 5012, a signal dividing circuit 5013, and the like, and is electrically connected to the display panel 5001 through a connection wiring 5014.

この表示パネル5001には、複数の画素が設けられた画素部5002と、走査線駆動回路5003、選択された画素にビデオ信号を供給する信号線駆動回路5004を備えている。なお液晶モジュールを作製する場合は上記実施例を用いて表示パネル5001を作製すればよい。また、走査線駆動回路5003や信号線駆動回路5004等制御用駆動回路部を、上記実施例により形成された薄膜トランジスタ、または単結晶基板上トランジスタを用いて作製することが可能である。以上のように、図17に示す液晶モジュール液晶テレビを完成させることができる。   The display panel 5001 includes a pixel portion 5002 provided with a plurality of pixels, a scanning line driver circuit 5003, and a signal line driver circuit 5004 for supplying a video signal to the selected pixel. Note that in the case of manufacturing a liquid crystal module, the display panel 5001 may be manufactured using the above embodiment. In addition, a control driver circuit portion such as the scan line driver circuit 5003 or the signal line driver circuit 5004 can be manufactured using the thin film transistor formed in the above embodiment or the transistor over a single crystal substrate. As described above, the liquid crystal module liquid crystal television shown in FIG. 17 can be completed.

図18は、液晶テレビ受像機の主要な構成を示すブロック図である。チューナ5101は映像信号と音声信号を受信する。映像信号は、映像信号増幅回路5102と、そこから出力される信号を赤、緑、青の各色に対応した色信号に変換する映像信号処理回路5103と、その映像信号をドライバICの入力仕様に変換するためのコントロール回路5012により処理される。コントロール回路5012は、走査線側と信号線側にそれぞれ信号が出力する。デジタル駆動する場合には、信号線側に信号分割回路5013を設け、入力デジタル信号をm個に分割して供給する構成としても良い。   FIG. 18 is a block diagram showing the main configuration of a liquid crystal television receiver. A tuner 5101 receives a video signal and an audio signal. The video signal includes a video signal amplifying circuit 5102, a video signal processing circuit 5103 that converts a signal output from the video signal into a color signal corresponding to each color of red, green, and blue, and the video signal as input specifications of the driver IC. Processing is performed by a control circuit 5012 for conversion. The control circuit 5012 outputs a signal to each of the scanning line side and the signal line side. In the case of digital driving, a signal dividing circuit 5013 may be provided on the signal line side so that an input digital signal is divided into m pieces and supplied.

チューナ5101で受信した信号のうち、音声信号は音声信号増幅回路5105に送られ、その出力は音声信号処理回路5106を経てスピーカー5107に供給される。制御回路5108は受信局(受信周波数)や音量の制御情報を入力部5109から受け、チューナ5101や音声信号処理回路5106に信号を送出する。   Of the signals received by the tuner 5101, the audio signal is sent to the audio signal amplifier circuit 5105, and the output is supplied to the speaker 5107 through the audio signal processing circuit 5106. The control circuit 5108 receives control information on the receiving station (reception frequency) and volume from the input unit 5109 and sends a signal to the tuner 5101 and the audio signal processing circuit 5106.

図19(A)に示すように、液晶モジュールを筐体5201に組みこんで、テレビ受像機を完成させることができる。液晶モジュールにより、表示画面5202が形成される。また、スピーカー5203、操作スイッチ5204などが適宜備えられている。   As shown in FIG. 19A, a television receiver can be completed by incorporating a liquid crystal module into a housing 5201. A display screen 5202 is formed by the liquid crystal module. In addition, a speaker 5203, an operation switch 5204, and the like are provided as appropriate.

また図19(B)に、ワイヤレスでディスプレイのみを持ち運び可能なテレビ受像器を示す。筐体5212にはバッテリー及び信号受信器が内蔵されており、そのバッテリーで表示部5213やスピーカー部5217を駆動させる。バッテリーは充電器5210で繰り返し充電が可能となっている。また、充電器5210は映像信号を送受信することが可能で、その映像信号をディスプレイの信号受信器に送信することでができる。筐体5212は操作キー5216によって制御する。また、図19(B)に示す装置は、操作キー5216を操作することによって、筐体5212から充電器5210に信号を送ることも可能であるため映像音声双方向通信装置とも言える。また、操作キー5216を操作することによって、筐体5212から充電器5210に信号を送り、さらに充電器5210が送信できる信号を他の電子機器に受信させることによって、他の電子機器の通信制御も可能であり、汎用遠隔制御装置とも言える。本発明は走査線駆動回路5003及び信号線駆動回路5004に適用することができる。   FIG. 19B shows a television receiver that can carry only a display wirelessly. A housing and a signal receiver are incorporated in the housing 5212, and the display portion 5213 and the speaker portion 5217 are driven by the battery. The battery can be repeatedly charged by a charger 5210. The charger 5210 can transmit and receive a video signal, and can transmit the video signal to a signal receiver of the display. The housing 5212 is controlled by operation keys 5216. The device illustrated in FIG. 19B can also be called a video / audio two-way communication device because a signal can be sent from the housing 5212 to the charger 5210 by operating the operation key 5216. In addition, by operating the operation key 5216, a signal is transmitted from the housing 5212 to the charger 5210, and further, a signal that can be transmitted by the charger 5210 is received by another electronic device, thereby controlling communication of the other electronic device. It can be said to be a general-purpose remote control device. The present invention can be applied to the scan line driver circuit 5003 and the signal line driver circuit 5004.

本発明を図17、図18、図19(A)〜図19(B)に示すテレビ受像器使用することにより、ゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路におけるトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   The number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit can be greatly reduced by using the television receiver shown in FIGS. 17, 18, 19A to 19B. Therefore, the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced, and a product with a high yield can be provided to the customer.

勿論、本発明はテレビ受像機に限定されず、パーソナルコンピュータのモニタをはじめ、鉄道の駅や空港などにおける情報表示盤や、街頭における広告表示盤など特に大面積の表示媒体として様々な用途に適用することができる。   Of course, the present invention is not limited to a television receiver, and is applied to various uses as a display medium of a particularly large area such as a monitor of a personal computer, an information display board in a railway station or airport, an advertisement display board in a street, etc. can do.

図20(A)は表示パネル5301とプリント配線基板5302を組み合わせたモジュールを示している。表示パネル5301は、複数の画素が設けられた画素部5303と、第1の走査線駆動回路5304、第2の走査線駆動回路5305と、選択された画素にビデオ信号を供給する信号線駆動回路5306を備えている。   FIG. 20A shows a module in which a display panel 5301 and a printed wiring board 5302 are combined. The display panel 5301 includes a pixel portion 5303 provided with a plurality of pixels, a first scan line driver circuit 5304, a second scan line driver circuit 5305, and a signal line driver circuit that supplies a video signal to the selected pixel. 5306 is provided.

プリント配線基板5302には、コントローラ5307、中央処理装置(CPU)5308、メモリ5309、電源回路5310、音声処理回路5311及び送受信回路5312などが備えられている。プリント配線基板5302と表示パネル5301は、フレキシブル配線基板(FPC)5313により接続されている。プリント配線基板5313には、容量素子、バッファ回路などを設け、電源電圧や信号にノイズがのったり、信号の立ち上がりが鈍ったりすることを防ぐ構成としても良い。また、コントローラ5307、音声処理回路5311、メモリ5309、CPU5308、電源回路5310などは、COG(Chip On Glass)方式を用いて表示パネル5301に実装することもできる。COG方式により、プリント配線基板5302の規模を縮小することができる。   The printed wiring board 5302 is provided with a controller 5307, a central processing unit (CPU) 5308, a memory 5309, a power supply circuit 5310, an audio processing circuit 5311, a transmission / reception circuit 5312, and the like. The printed wiring board 5302 and the display panel 5301 are connected by a flexible wiring board (FPC) 5313. The printed wiring board 5313 may be provided with a capacitor, a buffer circuit, or the like so that noise is added to the power supply voltage or the signal or the rise of the signal is not slowed. The controller 5307, the audio processing circuit 5311, the memory 5309, the CPU 5308, the power supply circuit 5310, and the like can be mounted on the display panel 5301 using a COG (Chip On Glass) method. The scale of the printed wiring board 5302 can be reduced by the COG method.

プリント配線基板5302に備えられたインターフェース(I/F)部5314を介して、各種制御信号の入出力が行われる。また、アンテナとの間の信号の送受信を行うためのアンテナ用ポート5315が、プリント配線基板5302に設けられている。   Various control signals are input and output through an interface (I / F) unit 5314 provided in the printed wiring board 5302. An antenna port 5315 for transmitting and receiving signals to and from the antenna is provided on the printed wiring board 5302.

図20(B)は、図20(A)に示したモジュールのブロック図を示す。このモジュールは、メモリ5309としてVRAM5316、DRAM5317、フラッシュメモリ5318などが含まれている。VRAM5316にはパネルに表示する画像のデータが、DRAM5317には画像データまたは音声データが、フラッシュメモリには各種プログラムが記憶されている。   FIG. 20B is a block diagram of the module shown in FIG. This module includes a VRAM 5316, a DRAM 5317, a flash memory 5318, and the like as the memory 5309. The VRAM 5316 stores image data to be displayed on the panel, the DRAM 5317 stores image data or audio data, and the flash memory stores various programs.

電源回路5310は、表示パネル5301、コントローラ5307、CPU5308、音声処理回路5311、メモリ5309、送受信回路5312を動作させる電力を供給する。またパネルの仕様によっては、電源回路5310に電流源が備えられている場合もある。   The power supply circuit 5310 supplies power for operating the display panel 5301, the controller 5307, the CPU 5308, the sound processing circuit 5311, the memory 5309, and the transmission / reception circuit 5312. Depending on the specifications of the panel, the power supply circuit 5310 may be provided with a current source.

CPU5308は、制御信号生成回路5320、デコーダ5321、レジスタ5322、演算回路5323、RAM5324、CPU5308用のインターフェース5319などを有している。インターフェース5319を介してCPU5308に入力された各種信号は、一旦レジスタ5322に保持された後、演算回路5323、デコーダ5321などに入力される。演算回路5323では、入力された信号に基づき演算を行い、各種命令を送る場所を指定する。一方デコーダ5321に入力された信号はデコードされ、制御信号生成回路5320に入力される。制御信号生成回路5320は入力された信号に基づき、各種命令を含む信号を生成し、演算回路5323において指定された場所、具体的にはメモリ5309、送受信回路5312、音声処理回路5311、コントローラ5307などに送る。   The CPU 5308 includes a control signal generation circuit 5320, a decoder 5321, a register 5322, an arithmetic circuit 5323, a RAM 5324, an interface 5319 for the CPU 5308, and the like. Various signals input to the CPU 5308 through the interface 5319 are temporarily held in the register 5322 and then input to the arithmetic circuit 5323, the decoder 5321, and the like. The arithmetic circuit 5323 performs an operation based on the input signal and designates a place to send various commands. On the other hand, the signal input to the decoder 5321 is decoded and input to the control signal generation circuit 5320. The control signal generation circuit 5320 generates a signal including various instructions based on the input signal, and a location designated by the arithmetic circuit 5323, specifically, a memory 5309, a transmission / reception circuit 5312, an audio processing circuit 5311, a controller 5307, and the like. Send to.

メモリ5309、送受信回路5312、音声処理回路5311、コントローラ5307は、それぞれ受けた命令に従って動作する。以下その動作について簡単に説明する。   The memory 5309, the transmission / reception circuit 5312, the sound processing circuit 5311, and the controller 5307 operate according to the received commands. The operation will be briefly described below.

入力手段5325から入力された信号は、I/F部5314を介してプリント配線基板5302に実装されたCPU5308に送られる。制御信号生成回路5320は、ポインティングデバイスやキーボードなどの入力手段5325から送られてきた信号に従い、VRAM5316に格納してある画像データを所定のフォーマットに変換し、コントローラ5307に送付する。   A signal input from the input unit 5325 is sent to the CPU 5308 mounted on the printed wiring board 5302 via the I / F unit 5314. The control signal generation circuit 5320 converts the image data stored in the VRAM 5316 into a predetermined format according to a signal sent from the input unit 5325 such as a pointing device or a keyboard, and sends the image data to the controller 5307.

コントローラ5307は、パネルの仕様に合わせてCPU5308から送られてきた画像データを含む信号にデータ処理を施し、表示パネル5301に供給する。またコントローラ5307は、電源回路5310から入力された電源電圧やCPU5308から入力された各種信号をもとに、Hsync信号、Vsync信号、クロック信号CLK、交流電圧(AC Cont)、切り替え信号L/Rを生成し、表示パネル5301に供給する。   The controller 5307 performs data processing on a signal including image data sent from the CPU 5308 in accordance with the specifications of the panel, and supplies the processed signal to the display panel 5301. Further, the controller 5307 generates an Hsync signal, a Vsync signal, a clock signal CLK, an AC voltage (AC Cont), and a switching signal L / R based on the power supply voltage input from the power supply circuit 5310 and various signals input from the CPU 5308. Generated and supplied to the display panel 5301.

送受信回路5312では、アンテナ5328において電波として送受信される信号が処理されており、具体的にはアイソレータ、バンドパスフィルタ、VCO(Voltage Controlled Oscillator)、LPF(Low Pass Filter)、カプラ、バランなどの高周波回路を含んでいる。送受信回路5312において送受信される信号のうち音声情報を含む信号が、CPU5308からの命令に従って、音声処理回路5311に送られる。   In the transmission / reception circuit 5312, signals transmitted / received as radio waves in the antenna 5328 are processed. Specifically, high-frequency signals such as an isolator, a band-pass filter, a VCO (Voltage Controlled Oscillator), an LPF (Low Pass Filter), a coupler, and a balun are used. Includes circuitry. A signal including audio information among signals transmitted and received in the transmission / reception circuit 5312 is sent to the audio processing circuit 5311 in accordance with a command from the CPU 5308.

CPU5308の命令に従って送られてきた音声情報を含む信号は、音声処理回路5311において音声信号に復調され、スピーカー5327に送られる。またマイク5326から送られてきた音声信号は、音声処理回路5311において変調され、CPU5308からの命令に従って、送受信回路5312に送られる。   A signal including audio information sent in accordance with a command from the CPU 5308 is demodulated into an audio signal by the audio processing circuit 5311 and sent to the speaker 5327. An audio signal sent from the microphone 5326 is modulated in the audio processing circuit 5311 and sent to the transmission / reception circuit 5312 in accordance with a command from the CPU 5308.

コントローラ5307、CPU5308、電源回路5310、音声処理回路5311、メモリ5309を、本実施例のパッケージとして実装することができる。本実施例は、アイソレータ、バンドパスフィルタ、VCO(Voltage Controlled Oscillator)、LPF(Low Pass Filter)、カプラ、バランなどの高周波回路以外であれば、どのような回路にも応用することができる。   The controller 5307, the CPU 5308, the power supply circuit 5310, the sound processing circuit 5311, and the memory 5309 can be mounted as a package of this embodiment. This embodiment can be applied to any circuit other than a high-frequency circuit such as an isolator, a band pass filter, a VCO (Voltage Controlled Oscillator), an LPF (Low Pass Filter), a coupler, and a balun.

図21は、図20(A)〜図20(B)に示すモジュールを含む携帯電話機の一態様を示している。表示パネル5301はハウジング5330に脱着自在に組み込まれる。ハウジング5330は表示パネル5301のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。表示パネル5301を固定したハウジング5330はプリント基板5331に嵌着されモジュールとして組み立てられる。   FIG. 21 illustrates one mode of a mobile phone including the module illustrated in FIGS. 20 (A) to 20 (B). The display panel 5301 is incorporated in a housing 5330 so as to be detachable. The shape and size of the housing 5330 can be changed as appropriate in accordance with the size of the display panel 5301. The housing 5330 to which the display panel 5301 is fixed is fitted to the printed board 5331 and assembled as a module.

表示パネル5301はFPC5313を介してプリント基板5331に接続される。プリント基板5331には、スピーカー5332、マイクロフォン5333、送受信回路5334、CPU及びコントローラなどを含む信号処理回路5335が形成されている。このようなモジュールと、入力手段5336、バッテリー5337、アンテナ5340を組み合わせ、筐体5339に収納する。表示パネル5301の画素部は筐体5339に形成された開口窓から視認できように配置する。   The display panel 5301 is connected to the printed board 5331 through the FPC 5313. A signal processing circuit 5335 including a speaker 5332, a microphone 5333, a transmission / reception circuit 5334, a CPU, a controller, and the like is formed over the printed circuit board 5331. Such a module is combined with the input means 5336, the battery 5337, and the antenna 5340 and stored in the housing 5339. The pixel portion of the display panel 5301 is arranged so that it can be seen from an opening window formed in the housing 5339.

本実施例に係る携帯電話機は、その機能や用途に応じてさまざまな態様に変容し得る。例えば、表示パネルを複数備えたり、筐体を適宜複数に分割して蝶番により開閉式とした構成としても、その表示パネルにおいて、ゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路のトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能といった作用効果を奏することができる。   The mobile phone according to the present embodiment can be transformed into various modes according to the function and application. For example, even if the display panel is provided with a plurality of display panels or the case is divided into a plurality of cases and opened and closed by a hinge, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit in the display panel is greatly increased. Since it can be reduced, the layout area of the drive circuit portion around the pixel portion can be reduced, and a product with a high yield can be provided to the customer.

本発明を図20(A)〜図20(B)、図21に示す携帯電話に使用することにより、表示パネルにおけるゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路のトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   By using the present invention in the mobile phone shown in FIGS. 20A to 20B and FIG. 21, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit in the display panel can be greatly reduced. Therefore, the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced, and a product with a high yield can be provided to the customer.

図22(A)は液晶ディスプレイであり、筐体6001、支持台6002、表示部6003などによって構成されている。本発明は図13に示す液晶モジュール、図20(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6003の駆動回路に適用が可能である。   FIG. 22A illustrates a liquid crystal display which includes a housing 6001, a support base 6002, a display portion 6003, and the like. The invention can be applied to the driver circuit of the display portion 6003 by using the structure of the liquid crystal module shown in FIG. 13 and the display panel shown in FIG.

本発明を使用することにより、表示部6003のゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路におけるトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   By using the present invention, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit of the display portion 6003 can be significantly reduced, so that the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced. This makes it possible to provide customers with high yield products.

図22(B)はコンピュータであり、本体6101、筐体6102、表示部6103、キーボード6104、外部接続ポート6105、ポインティングマウス6106等を含む。本発明は図13に示す液晶モジュール、図20(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6103に適用することができる。   FIG. 22B illustrates a computer, which includes a main body 6101, a housing 6102, a display portion 6103, a keyboard 6104, an external connection port 6105, a pointing mouse 6106, and the like. The present invention can be applied to the display portion 6103 using the structure of the liquid crystal module shown in FIG. 13 and the display panel shown in FIG.

本発明を使用することにより、表示部6103のゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路におけるトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   By using the present invention, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit of the display portion 6103 can be significantly reduced, so that the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced. This makes it possible to provide customers with high yield products.

図22(C)は携帯可能なコンピュータであり、本体6201、表示部6202、スイッチ6203、操作キー6204、赤外線ポート6205等を含む。本発明は図13に示す液晶モジュール、図20(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6202に適用することができる。   FIG. 22C illustrates a portable computer, which includes a main body 6201, a display portion 6202, a switch 6203, operation keys 6204, an infrared port 6205, and the like. The present invention can be applied to the display portion 6202 by using the liquid crystal module shown in FIG. 13 and the structure of the display panel shown in FIG.

本発明を使用することにより、表示部6202のゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路におけるトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   By using the present invention, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit of the display portion 6202 can be significantly reduced, so that the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced. This makes it possible to provide customers with high yield products.

図22(D)は携帯型のゲーム機であり、筐体6301、表示部6302、スピーカー部6303、操作キー6304、記録媒体挿入部6305等を含む。本発明は図13に示す液晶モジュール、図20(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6302に適用することができる。   FIG. 22D illustrates a portable game machine including a housing 6301, a display portion 6302, speaker portions 6303, operation keys 6304, a recording medium insertion portion 6305, and the like. The present invention can be applied to the display portion 6302 using the structure of the liquid crystal module shown in FIG. 13 and the display panel shown in FIG.

本発明を使用することにより、表示部6302のゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路におけるトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   By using the present invention, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit of the display portion 6302 can be significantly reduced, so that the layout area of the driver circuit portion around the pixel portion can be reduced. This makes it possible to provide customers with high yield products.

図22(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体6401、筐体6402、表示部A6403、表示部B6404、記録媒体(DVD等)読込部6405、操作キー6406、スピーカー部6407等を含む。表示部A6403は主として画像情報を表示し、表示部B6404は主として文字情報を表示する。本発明は図13に示す液晶モジュール、図20(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部A6403、表示部B6404及び制御用回路部等に適用することができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置には家庭用ゲーム機器なども含まれる。   FIG. 22E shows a portable image playback device (specifically, a DVD playback device) provided with a recording medium, which includes a main body 6401, a housing 6402, a display portion A 6403, a display portion B 6404, and a recording medium (such as a DVD). A reading unit 6405, operation keys 6406, a speaker unit 6407, and the like are included. The display portion A 6403 mainly displays image information, and the display portion B 6404 mainly displays character information. The present invention can be applied to the display portion A 6403, the display portion B 6404, the control circuit portion, and the like using the structure of the liquid crystal module shown in FIG. 13 and the display panel shown in FIG. Note that an image reproducing device provided with a recording medium includes a home game machine and the like.

本発明を使用することにより、表示部A6403、表示部B6404のゲート信号線駆動回路、ソース信号線駆動回路におけるトランジスタ数を大幅に削減することができるため、画素部周辺の駆動回路部のレイアウト面積を低減することができ、なおかつ歩留まり高い製品を顧客に提供することが可能となる。   By using the present invention, the number of transistors in the gate signal line driver circuit and the source signal line driver circuit in the display portion A 6403 and the display portion B 6404 can be significantly reduced, so that the layout area of the driver circuit portion in the periphery of the pixel portion can be reduced. It is possible to provide a customer with a product with a high yield.

これらの電子機器に使われる表示装置は、大きさや強度、または使用目的に応じて、ガラス基板だけでなく耐熱性のプラスチック基板を用いることも可能である。それによってよりいっそうの軽量化を図ることができる。   Display devices used in these electronic devices can use not only a glass substrate but also a heat-resistant plastic substrate depending on the size, strength, or purpose of use. As a result, the weight can be further reduced.

なお、本実施例に示した例はごく一例であり、これらの用途に限定するものではないこを付記する。   It should be noted that the examples shown in this embodiment are just examples, and the present invention is not limited to these applications.

また本実施例は、上記実施の形態及び上記実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by being freely combined with any description of the above embodiment modes and embodiments.

実施形態1の構成を示す回路図、タイミングチャート図。FIG. 2 is a circuit diagram and a timing chart showing the configuration of the first embodiment. 実施例1の構成を示す回路図、タイミングチャート図。FIG. 2 is a circuit diagram and a timing chart illustrating the configuration of the first embodiment. 実施例1の構成を示す回路図、タイミングチャート図。FIG. 2 is a circuit diagram and a timing chart illustrating the configuration of the first embodiment. 実施例1のシフトレジスタの回路図、波形の出力図。FIG. 3 is a circuit diagram of a shift register according to the first embodiment and an output diagram of waveforms. 実施例2の構成を示す回路図、タイミングチャート図。FIG. 6 is a circuit diagram and a timing chart showing the configuration of Embodiment 2. 実施例2の構成を示す回路図、波形の出力図。The circuit diagram which shows the structure of Example 2, and the output diagram of a waveform. 実施例3のブロック図。FIG. 9 is a block diagram of a third embodiment. 実施例3の回路図。FIG. 6 is a circuit diagram of Example 3. 実施例3のタイミングチャート図Timing chart of Example 3 実施例4のトランジスタの作製工程の断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view of a manufacturing process of the transistor of Example 4; 実施例4のトランジスタの作製工程の断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view of a manufacturing process of the transistor of Example 4; 実施例4のトランジスタの作製工程の断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view of a manufacturing process of the transistor of Example 4; 実施例5の液晶モジュールの断面図。Sectional drawing of the liquid crystal module of Example 5. FIG. 実施例5の液晶モジュールの斜視図。FIG. 10 is a perspective view of a liquid crystal module according to a fifth embodiment. 実施例6のELモジュールの斜視図及び断面図。The perspective view and sectional drawing of EL module of Example 6. FIG. 実施例7のトランジスタの断面図。9 is a cross-sectional view of a transistor of Example 7. FIG. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 従来例の構成を示す回路図。The circuit diagram which shows the structure of a prior art example. 従来例の構成を示す回路図。The circuit diagram which shows the structure of a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

201a nチャネル型トランジスタ
201b pチャネル型トランジスタ
202a nチャネル型トランジスタ
202b pチャネル型トランジスタ
203a nチャネル型トランジスタ
203b pチャネル型トランジスタ
301 画素部
302 ソースドライバ
303 書込用ゲートドライバ
304 消去用ゲートドライバ
305 シフトレジスタ
306 NAND回路
307 ラッチ回路
308 ラッチ回路
309 レベルシフタ・バッファ
310 シフトレジスタ
311 NAND回路
312 レベルシフタ・バッファ
313 シフトレジスタ
314 NAND回路
315 レベルシフタ・バッファ
401 ガラス基板
402 ブロッキング層
403 半導体層
404 半導体層
405 半導体層
406 半導体層
407 ゲート絶縁膜
408a 第1の導電膜
408b 第2の導電膜
409 マスク
410 第1の形状の導電層
410a 第1の導電膜
410b 第2の導電膜
411 第1の形状の導電層
411a 第1の導電膜
411b 第2の導電膜
412 第1の形状の導電層
412a 第1の導電膜
412b 第2の導電膜
413 第1の形状の導電層
413a 第1の導電膜
413b 第2の導電膜
414 第1の形状の導電層
414a 第1の導電膜
414b 第2の導電膜
415 第1の形状の導電層
415a 第1の導電膜
415b 第2の導電膜
416 ゲート絶縁膜
417 第1の不純物領域
418 第1の不純物領域
419 第1の不純物領域
420 第1の不純物領域
421 第2の形状の導電層
421a 第1の導電膜
421b 第2の導電膜
422 第2の形状の導電層
422a 第1の導電膜
422b 第2の導電膜
423 第2の形状の導電層
423a 第1の導電層
423b 第2の導電層
424 第2の形状の導電層
424a 第1の導電膜
424b 第2の導電膜
425 第2の形状の導電層
425a 第1の導電膜
425b 第2の導電膜
426 第2の形状の導電層
426b 第1の導電膜
426a 第2の導電膜
427 第2の不純物領域
428 第2の不純物領域
428 第2の不純物領域
429 第2の不純物領域
430 第2の不純物領域
431 第3の形状の導電層
431a 第1の導電膜
431b 第2の導電膜
432 第3の形状の導電層
432a 第1の導電膜
432b 第2の導電膜
433 第3の形状の導電層
433a 第1の導電膜
433b 第2の導電膜
434 第3の形状の導電層
434a 第1の導電膜
434b 第2の導電膜
435 第3の形状の導電層
435a 第1の導電膜
435b 第2の導電膜
436 第3の形状の導電層
436a 第1の導電膜
436b 第2の導電膜
437 ゲート絶縁膜
438 レジストマスク
439 レジストマスク
440a 第3の不純物領域
440b 第3の不純物領域
440c 第3の不純物領域
441 絶縁膜
442 絶縁膜
443 絶縁膜
444 ドレイン配線
445 ドレイン配線
446 ドレイン配線
447 ドレイン配線
448 接続電極
449 ゲート配線
450 画素電極
451 接続電極
452 画素部
453 pチャネル型TFT
454 nチャネル型TFT
455 画素TFT
456 保持容量
461 層間膜
462 層間膜
463 画素電極
551 配向膜
552 対向基板
553 透明導電膜
554 配向膜
555 液晶
601 ガラス基板
602 画素部
603 ゲート側駆動回路
604 ソース側駆動回路
605 画素TFT
606 画素電極
607 保持容量
608 ゲート配線
609 ソース配線
610 FPC
611 外部入出力端子
612 入出力配線
613 入出力配線
614 対向基板
1901 シリコン基板
1902 n型ウェル
1903 p型ウェル
1904 フィールド酸化膜
1905 ゲート電極
1905a シリサイド層
1905b ポリシリコン層
1906 ゲート電極
1906a シリサイド層
1906b ポリシリコン層
1907 エクステンション領域
1908 エクステンション領域
1909 サイドウォール
1910 サイドウォール
1911 ゲート絶縁膜
1912 ゲート絶縁膜
1913 ソース領域
1914 ドレイン領域
1915 ソース領域
1916 ドレイン領域
1917 層間絶縁膜
1918 層間絶縁膜
1919 ソース電極
1920 ドレイン電極
1921 ソース電極
1922 ドレイン電極
1923 パッシベーション膜
1924 層間絶縁膜
1925 pチャネル型トランジスタ
1926 nチャネル型トランジスタ
4001 基板
4002 画素部
4003 信号線駆動回路
4004 第1の走査線駆動回路
4005 第2の走査線駆動回路
4006 基板
4007 充填材
4008 トランジスタ
4009 駆動用トランジスタ
4010 スイッチング用トランジスタ
4011 発光素子
4012 電極
4014 配線
4015 配線
4016 接続端子
4017 配線
4018 FPC
4019 異方性導電膜
4020 シール材
5001 表示パネル
5002 画素部
5003 走査線駆動回路
5004 信号線駆動回路
5011 回路基板
5012 コントロール回路
5013 信号分割回路
5014 接続配線
5101 チューナ
5102 映像信号増幅回路
5103 映像信号処理回路
5105 音声信号増幅回路
5106 音声信号処理回路
5107 スピーカー
5108 制御回路
5109 入力部
5201 筐体
5202 表示画面
5203 スピーカー
5204 操作スイッチ
5210 充電器
5212 筐体
5213 表示部
5216 操作キー
5217 スピーカー部
5301 表示パネル
5302 プリント配線基板
5303 画素部
5304 第1の走査線駆動回路
5305 第2の走査線駆動回路
5306 信号線駆動回路
5307 コントローラ
5308 CPU
5309 メモリ
5310 電源回路
5311 音声処理回路
5312 送受信回路
5313 フレキシブル配線基板(FPC)
5314 I/F部
5315 アンテナ用ポート
5316 VRAM
5317 DRAM
5318 フラッシュメモリ
5320 制御信号生成回路
5321 デコーダ
5322 レジスタ
5323 演算回路
5324 RAM
5325 入力手段
5326 マイク
5327 スピーカー
5328 アンテナ
5330 ハウジング
5331 プリント基板
5332 スピーカー
5333 マイクロフォン
5334 送受信回路
5335 信号処理回路
5336 入力手段
5337 バッテリー
5339 筐体
5340 アンテナ
6001 筐体
6002 支持台
6003 表示部
6101 本体
6102 筐体
6103 表示部
6104 キーボード
6105 外部接続ポート
6106 ポインティングマウス
6201 本体
6202 表示部
6203 スイッチ
6204 操作キー
6205 赤外線ポート
6301 筐体
6302 表示部
6303 スピーカー部
6304 操作キー
6305 記録媒体挿入部
6401 本体
6402 筐体
6403 表示部A
6404 表示部B
6405 記録媒体読込部
6406 操作キー
6407 スピーカー部
201a n-channel transistor 201b p-channel transistor 202a n-channel transistor 202b p-channel transistor 203a n-channel transistor 203b p-channel transistor 301 pixel portion 302 source driver 303 writing gate driver 304 erasing gate driver 305 shift register 306 NAND circuit 307 Latch circuit 308 Latch circuit 309 Level shifter buffer 310 Shift register 311 NAND circuit 312 Level shifter buffer 313 Shift register 314 NAND circuit 315 Level shifter buffer 401 Glass substrate 402 Blocking layer 403 Semiconductor layer 404 Semiconductor layer 405 Semiconductor layer 406 Semiconductor Layer 407 gate insulating film 408a first conductive film 408b first Conductive film 409 mask 410 first shape conductive layer 410a first conductive film 410b second conductive film 411 first shape conductive layer 411a first conductive film 411b second conductive film 412 first shape Conductive layer 412a first conductive film 412b second conductive film 413 first shape conductive layer 413a first conductive film 413b second conductive film 414 first shape conductive layer 414a first conductive film 414b Second conductive film 415 first shape conductive layer 415a first conductive film 415b second conductive film 416 gate insulating film 417 first impurity region 418 first impurity region 419 first impurity region 420 first Impurity region 421 second-shaped conductive layer 421a first conductive film 421b second conductive film 422 second-shaped conductive layer 422a first conductive film 422b second conductive film 423 Second shape conductive layer 423a first conductive layer 423b second conductive layer 424 second shape conductive layer 424a first conductive film 424b second conductive film 425 second shape conductive layer 425a first Conductive film 425b second conductive film 426 second shape conductive layer 426b first conductive film 426a second conductive film 427 second impurity region 428 second impurity region 428 second impurity region 429 second Impurity region 430 Second impurity region 431 Third shape conductive layer 431a First conductive layer 431b Second conductive layer 432 Third shape conductive layer 432a First conductive layer 432b Second conductive layer 433 3 shape conductive layer 433a first conductive film 433b second conductive film 434 third shape conductive layer 434a first conductive film 434b second conductive film 435 third shape conductive layer 435a First conductive film 435b Second conductive film 436 Third shape conductive layer 436a First conductive film 436b Second conductive film 437 Gate insulating film 438 Resist mask 439 Resist mask 440a Third impurity region 440b Third Impurity region 440c Third impurity region 441 Insulating film 442 Insulating film 443 Insulating film 444 Drain wiring 445 Drain wiring 446 Drain wiring 447 Drain wiring 448 Connection electrode 449 Gate wiring 450 Pixel electrode 451 Connection electrode 452 Pixel portion 453 p-channel TFT
454 n-channel TFT
455 pixel TFT
456 Storage capacitor 461 Interlayer film 462 Interlayer film 463 Pixel electrode 551 Alignment film 552 Counter substrate 553 Transparent conductive film 554 Alignment film 555 Liquid crystal 601 Glass substrate 602 Pixel portion 603 Gate side driver circuit 604 Source side driver circuit 605 Pixel TFT
606 Pixel electrode 607 Retention capacitor 608 Gate wiring 609 Source wiring 610 FPC
611 External input / output terminal 612 Input / output wiring 613 Input / output wiring 614 Counter substrate 1901 Silicon substrate 1902 n-type well 1903 p-type well 1904 field oxide film 1905 gate electrode 1905a silicide layer 1905b polysilicon layer 1906 gate electrode 1906a silicide layer 1906b polysilicon Layer 1907 Extension region 1908 Extension region 1909 Side wall 1910 Side wall 1911 Gate insulating film 1912 Gate insulating film 1913 Source region 1914 Drain region 1915 Source region 1916 Drain region 1917 Interlayer insulating film 1918 Interlayer insulating film 1919 Source electrode 1920 Drain electrode 1921 Source electrode 1922 Drain electrode 1923 Passivation film 1924 Interlayer insulation 1925 p-channel transistor 1926 n-channel transistor 4001 substrate 4002 pixel portion 4003 signal line driver circuit 4004 first scan line driver circuit 4005 second scan line driver circuit 4006 substrate 4007 filling material 4008 transistor 4009 driving transistor 4010 for switching Transistor 4011 Light emitting element 4012 Electrode 4014 Wiring 4015 Wiring 4016 Connection terminal 4017 Wiring 4018 FPC
4019 Anisotropic conductive film 4020 Sealing material 5001 Display panel 5002 Pixel portion 5003 Scan line driver circuit 5004 Signal line driver circuit 5011 Circuit board 5012 Control circuit 5013 Signal dividing circuit 5014 Connection wiring 5101 Tuner 5102 Video signal amplifier circuit 5103 Video signal processing circuit 5105 Audio signal amplifying circuit 5106 Audio signal processing circuit 5107 Speaker 5108 Control circuit 5109 Input unit 5201 Case 5202 Display screen 5203 Speaker 5204 Operation switch 5210 Battery charger 5212 Case 5213 Display unit 5216 Operation key 5217 Speaker unit 5301 Display panel 5302 Print wiring Substrate 5303 Pixel portion 5304 First scan line driver circuit 5305 Second scan line driver circuit 5306 Signal line driver circuit 5307 Controller 5308 CPU
5309 Memory 5310 Power supply circuit 5311 Audio processing circuit 5312 Transmission / reception circuit 5313 Flexible printed circuit board (FPC)
5314 I / F Unit 5315 Antenna Port 5316 VRAM
5317 DRAM
5318 Flash memory 5320 Control signal generation circuit 5321 Decoder 5322 Register 5323 Arithmetic circuit 5324 RAM
5325 Input means 5326 Microphone 5327 Speaker 5328 Antenna 5330 Housing 5331 Printed circuit board 5332 Speaker 5333 Microphone 5334 Transmission / reception circuit 5335 Signal processing circuit 5336 Input means 5337 Battery 5339 Case 5340 Antenna 6001 Case 6002 Support base 6003 Display portion 6101 Main body 6102 Case 6103 Display unit 6104 Keyboard 6105 External connection port 6106 Pointing mouse 6201 Main body 6202 Display unit 6203 Switch 6204 Operation key 6205 Infrared port 6301 Case 6302 Display unit 6303 Speaker unit 6304 Operation key 6305 Recording medium insertion unit 6401 Main unit 6402 Case 6403 Display unit A
6404 Display portion B
6405 Recording medium reading unit 6406 Operation key 6407 Speaker unit

Claims (21)

第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、を有し、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体回路。
A first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter circuit;
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first n-channel transistor to which a timing control signal is input;
A first terminal of the first p-channel transistor to which an inversion timing control signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal and said second terminal of said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the timing control signal is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the inversion timing control signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is a semiconductor, characterized in that is electrically connected to an input terminal of the inverter circuit circuit.
第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、を有し、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体回路。
A first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, a second p-channel transistor, and an inverter circuit;
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first p-channel transistor to which a timing control signal is input;
A first terminal of the first n-channel transistor to which an inversion timing control signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal and said second terminal of said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the timing control signal is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the inversion timing control signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is a semiconductor, characterized in that is electrically connected to an input terminal of the inverter circuit circuit.
請求項1又は2において、前記タイミング制御信号または前記反転タイミング制御信号は、前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第1の端子または前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第1の端子に、直接入力されることを特徴とする半導体回路。3. The timing control signal or the inverted timing control signal according to claim 1 or 2, wherein the timing control signal or the inverted timing control signal is supplied to the first terminal of the first n-channel transistor or the first terminal of the first p-channel transistor. A semiconductor circuit which is directly input. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、前記タイミング制御信号はラッチ信号であり、前記反転タイミング制御信号は反転ラッチ信号であることを特徴とする半導体回路。 In any one of claims 1 to 3, wherein the timing control signal is a latch signal, a semiconductor circuit wherein the inversion timing control signal is an inverted latch signal. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、前記タイミング制御信号はクロック信号であり、前記反転タイミング制御信号は反転クロック信号であることを特徴とする半導体回路。 In any one of claims 1 to 3, wherein the timing control signal is a clock signal, a semiconductor circuit wherein the inversion timing control signal is an inverted clock signal. 第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、を有し、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2の信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第3のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第4のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体回路。
First n-channel transistor, first p-channel transistor, second n-channel transistor, second p-channel transistor, first inverter circuit, and third n-channel transistor A third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, a fourth p-channel transistor, and a second inverter circuit,
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first n-channel transistor to which a clock signal is input;
A first terminal of the first p-channel transistor to which an inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of the first of the first inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the first inverter circuit is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said first inverter circuit,
A gate of the third n-channel transistor and a gate of the third p-channel transistor to which the second signal is input;
A first terminal of the third p-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the third n-channel transistor to which an inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the third p-channel transistor electrically connected to said third n-channel transistor, the other,
Wherein the second terminal of the third n-channel transistor and said second terminal of said third p-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said second inverter circuit,
A gate of the fourth n-channel transistor and a gate of the fourth p-channel transistor to which a third signal output from the output terminal of the second inverter circuit is input;
A first terminal of the fourth n-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the fourth p-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the fourth p-channel transistors of said fourth n-channel transistors, each other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said fourth p-channel transistor of the fourth n-channel transistor is characterized by being electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit A semiconductor circuit.
第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、を有し、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2の信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第3のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第4のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体回路。
First n-channel transistor, first p-channel transistor, second n-channel transistor, second p-channel transistor, first inverter circuit, and third n-channel transistor A third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, a fourth p-channel transistor, and a second inverter circuit,
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first p-channel transistor to which a clock signal is input;
A first terminal of the first n-channel transistor to which an inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of the first of the first inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the first inverter circuit is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said first inverter circuit,
A gate of the third n-channel transistor and a gate of the third p-channel transistor to which the second signal is input;
A first terminal of the third n-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the third p-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the third p-channel transistor electrically connected to said third n-channel transistor, the other,
Wherein the second terminal of the third n-channel transistor and said second terminal of said third p-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said second inverter circuit,
A gate of the fourth n-channel transistor and a gate of the fourth p-channel transistor to which a third signal output from the output terminal of the second inverter circuit is input;
A first terminal of the fourth p-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the fourth n-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the fourth p-channel transistors of said fourth n-channel transistors, each other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said fourth p-channel transistor of the fourth n-channel transistor is characterized by being electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit A semiconductor circuit.
請求項6又は7において、前記クロック信号または前記反転クロック信号は、前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第1の端子または前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第1の端子に、直接入力されることを特徴とする半導体回路。8. The clock signal or the inverted clock signal according to claim 6, wherein the clock signal or the inverted clock signal is directly input to the first terminal of the first n-channel transistor or the first terminal of the first p-channel transistor. A semiconductor circuit characterized by being made. 請求項1乃至請求項のいずれか一項に記載のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、それぞれガラス基板上に形成される薄膜トランジスタであることを特徴とする半導体回路。 N-channel transistor and the p-channel transistor according to any one of claims 1 to 8, a semiconductor circuit, characterized in that each is a thin film transistor formed on a glass substrate. 請求項1乃至請求項のいずれか一項に記載のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、単結晶基板上に形成されることを特徴とする半導体回路。 N-channel transistor and the p-channel transistor according to any one of claims 1 to 8, the semiconductor circuit being formed on a single crystal substrate. ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに電気的に接続された画素部を有し、
前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、
前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、
前記ソースドライバのシフトレジスタ回路及びラッチ回路、並びに前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成された半導体回路を有し、
前記半導体回路は、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
A gate driver, a source driver, and the pixel driver electrically connected to the gate driver and the source driver;
The source driver includes a shift register circuit and a latch circuit,
The gate driver includes a shift register circuit,
The shift register circuit and latch circuit of the source driver and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, A semiconductor circuit including two p-channel transistors and an inverter circuit;
The semiconductor circuit is:
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first n-channel transistor to which a timing control signal is input;
A first terminal of the first p-channel transistor to which an inversion timing control signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal and said second terminal of said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the timing control signal is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the inversion timing control signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Display the second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is characterized in that it is electrically connected to an input terminal of the inverter circuit apparatus.
ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに電気的に接続された画素部を有し、
前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、
前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、
前記ソースドライバのシフトレジスタ回路及びラッチ回路、並びに前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、インバータ回路と、で構成された半導体回路を有し、
前記半導体回路は、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
タイミング制御信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転タイミング制御信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記インバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記タイミング制御信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転タイミング制御信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記インバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
A gate driver, a source driver, and the pixel driver electrically connected to the gate driver and the source driver;
The source driver includes a shift register circuit and a latch circuit,
The gate driver includes a shift register circuit,
The shift register circuit and latch circuit of the source driver and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, A semiconductor circuit including two p-channel transistors and an inverter circuit;
The semiconductor circuit is:
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first p-channel transistor to which a timing control signal is input;
A first terminal of the first n-channel transistor to which an inversion timing control signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal and said second terminal of said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the inverter circuit is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the timing control signal is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the inversion timing control signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Display the second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is characterized in that it is electrically connected to an input terminal of the inverter circuit apparatus.
ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに電気的に接続された画素部を有し、
前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、
前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、
前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成された半導体回路を複数有し、
前記半導体回路は、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2の信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第3のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第4のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
A gate driver, a source driver, and the pixel driver electrically connected to the gate driver and the source driver;
The source driver includes a shift register circuit and a latch circuit,
The gate driver includes a shift register circuit,
The shift register circuit of the source driver and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, and a second p-channel transistor. A channel transistor, a first inverter circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, a fourth p-channel transistor, and a second A plurality of semiconductor circuits composed of the inverter circuit of
The semiconductor circuit is:
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first n-channel transistor to which a clock signal is input;
A first terminal of the first p-channel transistor to which an inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of the first of the first inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the first inverter circuit is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said first inverter circuit,
A gate of the third n-channel transistor and a gate of the third p-channel transistor to which the second signal is input;
A first terminal of the third p-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the third n-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the third p-channel transistor electrically connected to said third n-channel transistor, the other,
Wherein the second terminal of the third n-channel transistor and said second terminal of said third p-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said second inverter circuit,
A gate of the fourth n-channel transistor and a gate of the fourth p-channel transistor to which a third signal output from the output terminal of the second inverter circuit is input;
A first terminal of the fourth n-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the fourth p-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the fourth p-channel transistors of said fourth n-channel transistors, each other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said fourth p-channel transistor of the fourth n-channel transistor is characterized by being electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit Display device.
ゲートドライバ、ソースドライバ、及び前記ゲートドライバ、前記ソースドライバに電気的に接続された画素部を有し、
前記ソースドライバは、シフトレジスタ回路、及びラッチ回路を含み、
前記ゲートドライバは、シフトレジスタ回路を含み、
前記ソースドライバのシフトレジスタ回路、及び前記ゲートドライバのシフトレジスタ回路はそれぞれ、第1のnチャネル型トランジスタと、第1のpチャネル型トランジスタと、第2のnチャネル型トランジスタと、第2のpチャネル型トランジスタと、第1のインバータ回路と、第3のnチャネル型トランジスタと、第3のpチャネル型トランジスタと、第4のnチャネル型トランジスタと、第4のpチャネル型トランジスタと、第2のインバータ回路と、で構成された半導体回路を複数有し、
前記半導体回路は、
第1の信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第1のpチャネル型トランジスタのゲートと、
クロック信号が入力される前記第1のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
反転クロック信号が入力される前記第1のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第1のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1の第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第1のインバータ回路の出力端子から出力された第2の信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第2のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第2のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第2のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第2のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第2のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第2のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第1のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2の信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第3のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第3のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第3のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第3のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第3のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第3のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続され、
前記第2のインバータ回路の出力端子から出力された第3の信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタのゲート及び前記第4のpチャネル型トランジスタのゲートと、
前記クロック信号が入力される前記第4のpチャネル型トランジスタの第1の端子と、
前記反転クロック信号が入力される前記第4のnチャネル型トランジスタの第1の端子と、
互いに電気的に接続された前記第4のnチャネル型トランジスタの第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの第2の端子と、を有し、
前記第4のnチャネル型トランジスタの前記第2の端子及び前記第4のpチャネル型トランジスタの前記第2の端子は前記第2のインバータ回路の入力端子に電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
A gate driver, a source driver, and the pixel driver electrically connected to the gate driver and the source driver;
The source driver includes a shift register circuit and a latch circuit,
The gate driver includes a shift register circuit,
The shift register circuit of the source driver and the shift register circuit of the gate driver are respectively a first n-channel transistor, a first p-channel transistor, a second n-channel transistor, and a second p-channel transistor. A channel transistor, a first inverter circuit, a third n-channel transistor, a third p-channel transistor, a fourth n-channel transistor, a fourth p-channel transistor, and a second A plurality of semiconductor circuits composed of the inverter circuit of
The semiconductor circuit is:
A gate of the first n-channel transistor to which a first signal is input and a gate of the first p-channel transistor;
A first terminal of the first p-channel transistor to which a clock signal is input;
A first terminal of the first n-channel transistor to which an inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the first p-channel transistor of the first n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said first p-channel transistor of the first n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of the first of the first inverter circuit,
A gate of the second n-channel transistor and a gate of the second p-channel transistor to which the second signal output from the output terminal of the first inverter circuit is input;
A first terminal of the second n-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the second p-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the second p-channel transistor of the electrically connected the second n-channel transistor, the other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said second p-channel transistor of the second n-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said first inverter circuit,
A gate of the third n-channel transistor and a gate of the third p-channel transistor to which the second signal is input;
A first terminal of the third n-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the third p-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal of the second terminal and the third p-channel transistor electrically connected to said third n-channel transistor, the other,
Wherein the second terminal of the third n-channel transistor and said second terminal of said third p-channel transistor is electrically connected to an input terminal of said second inverter circuit,
A gate of the fourth n-channel transistor and a gate of the fourth p-channel transistor to which a third signal output from the output terminal of the second inverter circuit is input;
A first terminal of the fourth p-channel transistor to which the clock signal is input;
A first terminal of the fourth n-channel transistor to which the inverted clock signal is input;
And a second terminal electrically connected to the second terminal and the fourth p-channel transistors of said fourth n-channel transistors, each other,
Wherein said second terminal of said second terminal and said fourth p-channel transistor of the fourth n-channel transistor is characterized by being electrically connected to an input terminal of the second inverter circuit Display device.
請求項11又は12において、前記タイミング制御信号または前記反転タイミング制御信号は、前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第1の端子または前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第1の端子に、直接入力されることを特徴とする表示装置。13. The timing control signal or the inverted timing control signal according to claim 11 or 12, wherein the timing control signal or the inverted timing control signal is supplied to the first terminal of the first n-channel transistor or the first terminal of the first p-channel transistor. A display device that is directly input. 請求項13又は14において、前記クロック信号または前記反転クロック信号は、前記第1のnチャネル型トランジスタの前記第1の端子または前記第1のpチャネル型トランジスタの前記第1の端子に、直接入力されることを特徴とする表示装置。15. The clock signal or the inverted clock signal according to claim 13, wherein the clock signal or the inverted clock signal is directly input to the first terminal of the first n-channel transistor or the first terminal of the first p-channel transistor. A display device. 請求項11乃至請求項16のいずれか一項に記載のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、それぞれガラス基板上に形成される薄膜トランジスタであることを特徴とする表示装置。 N-channel transistor and the p-channel transistor according to any one of claims 11 to 16, a display device, characterized in that each is a thin film transistor formed on a glass substrate. 請求項11乃至請求項16のいずれか一項に記載のnチャネル型トランジスタ及びpチャネル型トランジスタは、単結晶基板上に形成されることを特徴とする表示装置。 N-channel transistor and the p-channel transistor according to any one of claims 11 to 16, the display device characterized by being formed on a single crystal substrate. 請求項11乃至請求項18のいずれか一項に記載の表示装置は、液晶又はEL素子を用いたものであることを特徴とする表示装置。 Display device according to any one of claims 11 to 18, a display device, characterized in that in which a liquid crystal or EL element. 請求項11乃至請求項19のいずれか一項に記載の表示装置を用いることを特徴とする電子機器。 An electronic device characterized by using the display device according to any one of claims 11 to 19. 請求項20に記載の電子機器は、テレビ受像器、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置、コンピュータ、ゲーム機器、モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機、電子書籍、画像再生装置であることを特徴とする電子機器。 The electronic device according to claim 20 is a television receiver, a video camera, a digital camera, a goggle type display, a navigation system, a sound reproduction device, a computer, a game device, a mobile computer, a mobile phone, a portable game machine, an electronic book, An electronic device characterized by being an image reproducing device.
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