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JP4943766B2 - Workpiece holding material and method for manufacturing the same - Google Patents
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Description

本発明は、研磨加工などの加工が施される被加工物を保持する被加工物保持材およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a workpiece holding material that holds a workpiece to be processed such as polishing and a method for manufacturing the same.

半導体ウェハやLCD用ガラス等の被加工物の研磨加工は、例えば、次のようにして行なわれる。すなわち、図9に示すように、研磨装置の上下に対向する定盤の上側定盤9に、研磨加工が施される被加工物10を保持し、下側定盤11に、研磨パッド12を貼り付け、被加工物10の表面を研磨パッド12に圧接させつつ両定盤間に砥粒を含む研磨液を供給しながら両定盤9,11を矢符で示すように相対回転させることにより行なわれる。   Polishing of a workpiece such as a semiconductor wafer or LCD glass is performed as follows, for example. That is, as shown in FIG. 9, the workpiece 10 to be polished is held on the upper surface plate 9 of the surface plate facing the upper and lower sides of the polishing apparatus, and the polishing pad 12 is held on the lower surface plate 11. By pasting the surface of the workpiece 10 against the polishing pad 12 and supplying a polishing liquid containing abrasive grains between the two surface plates, the surface plates 9 and 11 are relatively rotated as indicated by arrows. Done.

従来、被加工物10は、上側定盤9に固定されて被加工物10の裏面を吸着保持する被加工物保持材としてのバッキング材13と、被加工物10の外周を取り囲んで被加工物10がバッキング材表面で位置ずれするのを防止する枠状のテンプレート14とを用いて上側定盤9に保持される(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, the workpiece 10 is fixed to the upper surface plate 9 and surrounds the backing material 13 as a workpiece holding material that sucks and holds the back surface of the workpiece 10 and the outer periphery of the workpiece 10. 10 is held on the upper surface plate 9 by using a frame-shaped template 14 that prevents displacement of the backing material on the surface of the backing material (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、このようなテンプレート14を用いる保持方法では、テンプレート14および被加工物10の寸法公差などに起因して、被加工物10とテンプレート14との間は、隙間が生じ、研磨加工中に、被加工物10の位置がずれてテンプレート14に繰り返して当接してテンプレート14にクラックや損傷が生じたり、被加工物10がテンプレート14から脱落して品質を劣化させるなどの難点があり、更に、テンプレート14を必要とするために、その分コストが高くなるという難点がある。   However, in such a holding method using the template 14, a gap is generated between the workpiece 10 and the template 14 due to a dimensional tolerance of the template 14 and the workpiece 10. There is a problem that the position of the workpiece 10 is shifted and repeatedly contacts the template 14 to cause cracks or damage to the template 14, or the workpiece 10 is dropped from the template 14 and deteriorates the quality. Since the template 14 is required, there is a problem that the cost is increased accordingly.

上記バッキング材13としては、例えば、基材に塗工したウレタン樹脂のDMF(ジメチルホルムアミド)溶液層を水中にて湿式凝固させ、温水中で洗浄、熱風で乾燥を行って発泡層を形成し、所要の厚みに揃えるなどの目的で、前記発泡層の表面をバフ加工したものが用いられる。前記発泡層の表面は、被加工物を吸着保持する保持面となるのであるが、バフ加工では、十分な平滑面が得られず、このため、被加工物の吸着保持力が不十分となっていた。
特開平09−321001号公報
As the backing material 13, for example, a DMF (dimethylformamide) solution layer of urethane resin applied to a base material is wet-solidified in water, washed in warm water, dried with hot air to form a foam layer, For the purpose of adjusting to a required thickness, the surface of the foam layer is buffed. The surface of the foamed layer serves as a holding surface for adsorbing and holding the workpiece. However, the buffing process does not provide a sufficiently smooth surface, so that the adsorption holding force of the workpiece is insufficient. It was.
JP 09-32001 A

このため、図10(a)の概略断面図に示すように、基材30上に形成された発泡層31の表面31aをバフ加工することなく、基材30から発泡層31を剥離し、同図(b)に示すように発泡層31の裏面31b側をバフ加工した後、同図(c)に示すように両面テープ32等に再び接着したバッキング材がある。かかるバッキング材では、バフ加工を施していない発泡層31の表面31aを、被加工物を吸着保持する保持面とするので、発泡層の表面を、バフ加工する従来例に比べて吸着保持力が向上するが、発泡の際のばらつきなどに起因して発泡層の表面の平滑度が必ずしも十分でないという難点がある。   For this reason, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 10A, the foam layer 31 is peeled off from the base material 30 without buffing the surface 31a of the foam layer 31 formed on the base material 30. After buffing the back surface 31b side of the foam layer 31 as shown in FIG. 2B, there is a backing material that is adhered again to the double-sided tape 32 or the like as shown in FIG. In such a backing material, the surface 31a of the foamed layer 31 that has not been buffed is used as a holding surface that sucks and holds the workpiece. Although improved, there is a drawback that the smoothness of the surface of the foam layer is not always sufficient due to variations in foaming.

更に、従来例の被加工物保持材では、研磨加工中に、被加工物のそりやうねり等を吸収するための圧縮率の調整が容易でないという難点がある。   Furthermore, the workpiece holding material of the conventional example has a drawback in that it is not easy to adjust the compression ratio for absorbing warpage or undulation of the workpiece during polishing.

本発明は、上述のような課題に鑑みて為されたものであって、被加工物を保持する被加工物保持材の保持力を高めるとともに、被加工物のうねり等を吸収できる被加工物保持材およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the problems as described above, and can increase the holding force of a workpiece holding material that holds the workpiece and can absorb the waviness of the workpiece. It is an object of the present invention to provide a holding material and a manufacturing method thereof.

本発明では、上記目的を達成するために、次のように構成している。   In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.

本発明の被加工物保持材は、基材上に樹脂溶液を塗工して湿式凝固する湿式凝固法によってそれぞれ形成された第1,第2の発泡層は、その厚み方向に対して、一方の面側が先細り状となる涙滴状の気泡をそれぞれ有し、前記第2の発泡層の前記涙滴状の気泡は、前記第1の発泡層の前記涙滴状の気泡よりも小さく、かつ、前記厚み方向に対して、前記一方の面側に偏って存在し、前記第1,第2の各発泡層が、前記一方の面である表面を互い対向させて接着層を介して積層され、前記基材が剥離された第2の発泡層の裏面が、被加工物を保持する保持面とされるものである。 In the workpiece holding material of the present invention, the first and second foamed layers respectively formed by the wet coagulation method in which a resin solution is applied on a base material and wet coagulated are provided in the thickness direction. Each of which has a teardrop-shaped bubble that is tapered, and the teardrop-shaped bubble of the second foam layer is smaller than the teardrop-shaped bubble of the first foam layer, and The first and second foam layers are laminated via an adhesive layer with the surfaces of the first and second surfaces facing each other. The back surface of the second foamed layer from which the substrate has been peeled is used as a holding surface for holding the workpiece.

接着層には、粘着層も含むものである。   The adhesive layer includes an adhesive layer.

本発明によると、湿式凝固法によって形成された第2の発泡層の裏面から基材を剥離して、基材と同様な平滑面である前記第2の発泡層の裏面を、被加工物を保持する保持面としているので、被加工物を保持する吸着力が向上し、被加工物の加工精度を高めることができる。   According to the present invention, the base material is peeled from the back surface of the second foam layer formed by the wet coagulation method, and the back surface of the second foam layer, which is the same smooth surface as the base material, is removed from the work piece. Since the holding surface for holding is used, the suction force for holding the workpiece is improved, and the processing accuracy of the workpiece can be increased.

しかも、第1の発泡層と第2の発泡層との2層構成としているので、被加工物のうねり等を吸収するのに必要な圧縮率の設定が、1層の場合に比べて容易となる。   Moreover, since it has a two-layer configuration of the first foam layer and the second foam layer, it is easier to set the compression ratio required to absorb the waviness of the workpiece as compared with the case of one layer. Become.

本発明の一つの実施形態では、前記第1の発泡層は、その発泡層の表面に、気泡が開口している。   In one embodiment of the present invention, the first foamed layer has air bubbles open on the surface of the foamed layer.

この実施形態によると、発泡層の表面の気泡を開口させて適度のクッション性を得ることができる。   According to this embodiment, bubbles on the surface of the foam layer can be opened to obtain an appropriate cushioning property.

本発明の他の実施形態では、圧縮率が、20%以上50%以下である。   In another embodiment of the present invention, the compression rate is 20% or more and 50% or less.

この実施形態によると、圧縮率が、20%以上50%以下であるので、被加工物のうねり等を吸収することができる。   According to this embodiment, since the compression rate is 20% or more and 50% or less, the swell of the workpiece can be absorbed.

本発明の他の実施形態では、前記第1の発泡層は、その圧縮率が、30%以上60%以下であって、前記第2の発泡層よりも高い圧縮率である。   In another embodiment of the present invention, the first foam layer has a compression rate of 30% or more and 60% or less, which is higher than that of the second foam layer.

この実施形態によると、第2の発泡層よりも圧縮率が高い第1の発泡層でクッション性を確保しながら第2の発泡層で被加工物を吸着保持することができる。   According to this embodiment, the workpiece can be adsorbed and held by the second foam layer while the cushioning property is ensured by the first foam layer having a higher compressibility than the second foam layer.

本発明の一つの実施形態では、前記第1の発泡層と前記第2の発泡層との厚さの比率が、1:1から20:1である。   In one embodiment of the present invention, the ratio of the thickness of the first foam layer and the second foam layer is 1: 1 to 20: 1.

この実施形態によると、第2の発泡層よりも圧縮率が高い第1の発泡層を、第2の発泡層以上の厚さにして十分なクッション性を確保することができる。   According to this embodiment, the first foam layer having a higher compression rate than the second foam layer can be made thicker than the second foam layer to ensure sufficient cushioning properties.

本発明の被加工物保持材の製造方法は、第1の基材に、樹脂溶液を塗工し、湿式凝固して、厚み方向に対して、一方の面側が先細り状となる涙滴状の気泡を有する第1の発泡層を形成する工程と、第2の基材に、樹脂溶液を塗工し、湿式凝固して、厚み方向に対して、一方の面側が先細り状となると共に、前記第1の発泡層の涙滴状の気泡よりも小さな涙滴状の気泡であって、かつ、前記厚み方向に対して、前記一方の面側に偏って存在する涙滴状の気泡を有する第2の発泡層を形成する工程と、前記第1,第2の各発泡層の前記一方の面である表面を互い対向させて接着層を介して積層する工程と、前記第2の発泡層の裏面の前記第2の基材を剥離して、前記第2の発泡層の裏面を、被加工物を保持する保持面とする工程とを含むものである。 In the method for manufacturing a workpiece holding material of the present invention, a resin solution is applied to a first substrate, wet-coagulated, and in the thickness direction, a teardrop-like shape in which one surface side is tapered. The step of forming the first foamed layer having air bubbles , the second base material is coated with a resin solution, wet-solidified , and one surface side is tapered with respect to the thickness direction. A teardrop-shaped bubble that is smaller than the teardrop-shaped bubble of the first foam layer and has a teardrop-shaped bubble that is biased to the one surface side with respect to the thickness direction . forming a second foam layer, said first, a surface that is the one surface of each of the second foam layer laminating through an adhesive layer by face each other, of the second foam layer Peeling the second base material on the back surface and using the back surface of the second foam layer as a holding surface for holding the workpiece. .

本発明によると、湿式凝固法によって第1,第2の発泡層をそれぞれ形成し、各発泡層の表面を互い対向させて接着層を介して積層し、第2の発泡層の裏面の基材を剥離して、前記基材と同様な平滑面である前記第2の発泡層の裏面を、被加工物を保持する保持面としているので、被加工物を保持する吸着力が向上し、被加工物の加工精度を高めることができる。   According to the present invention, the first and second foamed layers are formed by the wet coagulation method, the surfaces of the foamed layers are opposed to each other and laminated via the adhesive layer, and the base material on the back surface of the second foamed layer And the back surface of the second foam layer, which is a smooth surface similar to the base material, is used as a holding surface for holding the workpiece, so that the adsorption force for holding the workpiece is improved, The processing accuracy of the workpiece can be increased.

しかも、第1の発泡層と第2の発泡層との2層構成としているので、被加工物のうねり等を吸収するのに必要な圧縮率の設定が、1層の場合に比べて容易となる。   Moreover, since it has a two-layer configuration of the first foam layer and the second foam layer, it is easier to set the compression ratio required to absorb the waviness of the workpiece as compared with the case of one layer. Become.

本発明の好ましい実施形態では、前記樹脂溶液が、ウレタン樹脂溶液であり、前記第2の基材が、樹脂フィルムである。   In a preferred embodiment of the present invention, the resin solution is a urethane resin solution, and the second base material is a resin film.

本発明の他の実施形態では、前記積層する工程の前に、前記第1の発泡層の表面を研削加工する工程を備えるものである。   In another embodiment of the present invention, a step of grinding the surface of the first foam layer is provided before the step of laminating.

この実施形態によると、研削加工によって発泡層の表面の気泡を開口させて適度のクッション性を得ることができる。   According to this embodiment, it is possible to obtain appropriate cushioning properties by opening the bubbles on the surface of the foam layer by grinding.

本発明によれば、基材から引き剥がした平滑な第2の発泡層の裏面を、被加工物を保持する保持面としているので、吸着力を、向上させることができる。   According to the present invention, since the back surface of the smooth second foamed layer peeled off from the base material is used as the holding surface for holding the workpiece, the adsorption force can be improved.

しかも、第1の発泡層と第2の発泡層との二層構造としているので、圧縮率を選択することにより、被加工物のうねり等を吸収して研磨加工等を行なうことができる。   Moreover, since it has a two-layer structure of the first foam layer and the second foam layer, by selecting the compression rate, it is possible to perform polishing or the like by absorbing the swell of the workpiece.

以下、図面によって本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施形態に係る被加工物保持材の概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a workpiece holding material according to an embodiment of the present invention.

この実施形態の被加工物保持材1は、湿式凝固法によって第1の基材2上に形成された第1の発泡層3と、この第1の発泡層3の表面上に、粘着層4を介して積層された第2の発泡層5とを備えており、第1,第2の発泡層3,5は、各発泡層3,5の表面を互い対向させて粘着層4を介して積層されている。   The workpiece holding material 1 of this embodiment includes a first foam layer 3 formed on a first base 2 by a wet coagulation method, and an adhesive layer 4 on the surface of the first foam layer 3. The first and second foamed layers 3 and 5 are arranged via the adhesive layer 4 with the surfaces of the foamed layers 3 and 5 facing each other. Are stacked.

第2の発泡層5は、第1の発泡層3に比べて、厚みが薄く、または、圧縮率が低く形成されている。   The second foam layer 5 is formed to have a smaller thickness or a lower compression rate than the first foam layer 3.

第1の発泡層3は、圧縮率が、30%以上60%以下となっている。   The compression ratio of the first foam layer 3 is 30% or more and 60% or less.

また、第1の発泡層3と第2の発泡層5との厚さの比率は、1:1から20:1であるのが好ましく、より好ましくは、2:1から 15:1であり、更に好ましくは3:1から6:1である。また、全体の厚みは、例えば、0.8から1.5 mm 程度が好ましい。   The thickness ratio of the first foam layer 3 and the second foam layer 5 is preferably 1: 1 to 20: 1, more preferably 2: 1 to 15: 1. More preferably, it is 3: 1 to 6: 1. The total thickness is preferably about 0.8 to 1.5 mm, for example.

第1の発泡層3と第2の発泡層5との厚さの比率は、上記の範囲内で任意に設定することができるが、被加工物のうねりを吸収するには、圧縮率が、20%以上50%以下であるのが好ましい。   The ratio of the thickness of the first foam layer 3 and the second foam layer 5 can be arbitrarily set within the above range, but in order to absorb the waviness of the workpiece, the compression ratio is: It is preferably 20% or more and 50% or less.

図2は、この実施形態の被加工物保持材1の製造工程の一例を示す図である。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the workpiece holding material 1 of this embodiment.

第1の発泡層3を、例えば、ウレタン樹脂のDMF(ジメチルホルムアミド)溶液をPETフィルム等の第1の基材2上に塗工し、湿式凝固法により、図2(a)に示すように、基材2上に発泡成形する。   For example, a DMF (dimethylformamide) solution of urethane resin is applied on the first base material 2 such as a PET film, and the first foamed layer 3 is wet-solidified as shown in FIG. Then, foam molding is performed on the substrate 2.

次に、第1の発泡層3の表面を、バフ加工して図2(b)に示すように、厚み方向(図2の上下方向)に対して、一方の面である表面3a側が先細り状である涙滴状の気泡6を開口させる。 Next, as shown in FIG. 2B, the surface of the first foam layer 3 is buffed , and the surface 3a side, which is one surface, is tapered with respect to the thickness direction (vertical direction in FIG. 2). The teardrop-shaped bubble 6 is opened.

一方、第2の発泡層5を、ウレタン樹脂のDMF(ジメチルホルムアミド)溶液をPETフィルム等の第2の基材7上に塗工し、湿式凝固法により、図2(c)に示すように、基材7上に発泡成形する。この第2の発泡層5は、その厚み方向(図2の上下方向)に対して、一方の面である表面5a側が先細り状であって、第1の発泡層6の涙滴状の気泡6よりも小さな涙滴状の気泡を有する。 On the other hand, the second foamed layer 5 is coated with a DMF (dimethylformamide) solution of urethane resin on the second substrate 7 such as a PET film, and then wet-solidified as shown in FIG. Then, foam molding is performed on the base material 7. The second foamed layer 5 is tapered on the surface 5a side as one surface with respect to the thickness direction (vertical direction in FIG. 2), and the teardrop-shaped air bubbles 6 of the first foamed layer 6 are formed. Smaller teardrop-shaped bubbles.

次に、図2(d)に示すように、第1の発泡層3の表面3a上に、粘着層4を介して第2の発泡層5を、その発泡層の表面5aを下にして積層する。   Next, as shown in FIG. 2 (d), the second foam layer 5 is laminated on the surface 3a of the first foam layer 3 via the adhesive layer 4 with the surface 5a of the foam layer facing down. To do.

次に、第2の発泡層5の裏面側の第2の基材7を剥離することにより、図1の被加工物保持材1が得られることになる。   Next, the work piece holding material 1 of FIG. 1 is obtained by peeling off the second base material 7 on the back surface side of the second foam layer 5.

基材2,7は、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの樹脂フィルムであるのが好ましいが、不織布にウレタン樹脂溶液などの樹脂溶液を含浸させて湿式凝固したものであってもよい。   The substrates 2 and 7 are preferably resin films such as PET (polyethylene terephthalate), but may be those obtained by impregnating a nonwoven fabric with a resin solution such as a urethane resin solution and wet coagulating it.

発泡層2を形成するためのウレタン樹脂としては、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系などのウレタン樹脂を用いることができ、異なる種類のウレタン樹脂をブレンドしてもよい。   As the urethane resin for forming the foamed layer 2, a urethane resin such as polyester, polyether, or polycarbonate can be used, and different types of urethane resins may be blended.

ウレタン樹脂を溶解させる水溶性有機溶媒としては、上述のジメチルホルムアミドの他、例えば、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド等の溶媒を用いることができる。   As the water-soluble organic solvent for dissolving the urethane resin, for example, a solvent such as dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, dimethylacetamide or the like can be used in addition to the above-mentioned dimethylformamide.

この被加工物保持材1では、図2(d),(e)に示すようにPETフィルム等の基材7を剥離した第2の発泡層5の裏面5b、すなわち、PETフィルム等の基材7と同様な平滑な裏面を、被加工物を保持する保持面としている。   In this workpiece holding material 1, as shown in FIGS. 2D and 2E, the back surface 5b of the second foamed layer 5 from which the base material 7 such as a PET film is peeled off, that is, the base material such as a PET film. A smooth back surface similar to 7 is used as a holding surface for holding the workpiece.

このようにPETフィルムの表面のような平滑面を、被加工物の保持面としているので、被加工物を吸着する吸着力が向上することになる。   Thus, since the smooth surface like the surface of the PET film is used as the holding surface of the workpiece, the adsorption force for adsorbing the workpiece is improved.

図3および図4に、この実施形態に係る実施例の被加工物保持材と、発泡層の表面をバフ加工することなく、基材から剥離した発泡層の裏面側をバフ加工した後、両面テープ等に再び接着した従来例の被加工物保持材との吸着力の測定結果を示しており、図3は、垂直方向の吸着力を、図4は、水平方向の吸着力をそれぞれ示している。   3 and FIG. 4, after buffing the back side of the foam layer peeled from the base material without buffing the surface of the work piece holding material of the example according to this embodiment and the foam layer, both surfaces FIG. 3 shows the results of measuring the suction force with the workpiece holding material of the conventional example that is again bonded to the tape or the like. FIG. 3 shows the suction force in the vertical direction, and FIG. 4 shows the suction force in the horizontal direction. Yes.

各測定は、次のようにして行なった。   Each measurement was performed as follows.

すなわち、垂直方向の吸着力の測定は、図5に示すように、面精度の出た直径50mmの円柱状ガラス20を、定盤21に固定された直径75mmの実施例あるいは従来例の被加工物保持材22に、150g/cmの荷重を、10秒間かけて吸着させる。その後、200mm/minの一定速度で垂直方向に引っ張り、ガラス−被加工物保持材が、剥離する際の剥離強度をオートグラフで測定する。 That is, as shown in FIG. 5, the vertical attractive force is measured by using a cylindrical glass 20 having a surface accuracy of 50 mm in diameter and a 75 mm diameter embodiment or conventional example fixed to a surface plate 21. A load of 150 g / cm 2 is adsorbed to the object holding material 22 over 10 seconds. Thereafter, the film is pulled in the vertical direction at a constant speed of 200 mm / min, and the peel strength when the glass-workpiece holding material peels is measured by an autograph.

なお、ウェット状態では、被加工物保持材表面に、純水を、10ml滴下後、被加工物保持材表面をワイプして水を取り、その後、ガラスを上述のように吸着させる。   In the wet state, 10 ml of pure water is dropped on the surface of the workpiece holding material, the surface of the workpiece holding material is wiped to remove water, and then the glass is adsorbed as described above.

また、水平方向の吸着力の測定は、図6に示すように、円柱状ガラス20を、上述のように荷重をかけて被加工物保持材22に吸着させる。その後、ガラス20を、200mm/minの一定速度で滑車23を介して水平方向に引っ張り、ガラス20が水平向に動き始める時の剥離強度をオートグラフで測定する。なお、ウェット状態については、垂直方向の場合と同様に、純水を滴下後、被加工物保持材表面をワイプして水を取り、ガラスを吸着させる。   In addition, as shown in FIG. 6, in the measurement of the suction force in the horizontal direction, the columnar glass 20 is attracted to the workpiece holding material 22 under the load as described above. Thereafter, the glass 20 is pulled in the horizontal direction through the pulley 23 at a constant speed of 200 mm / min, and the peel strength when the glass 20 starts to move in the horizontal direction is measured by an autograph. In the wet state, as in the case of the vertical direction, after dropping pure water, the surface of the workpiece holding material is wiped to remove water and adsorb the glass.

図3に示すように、垂直方向の吸着力は、ドライ状態およびウェット状態のいずれの状態においても、実施例の方が、従来例に比べて大きいことが分かる。
特に、ドライ状態において、実施例の吸着力が、従来例に比べて大きく上回っていることが分かる。
As shown in FIG. 3, it can be seen that the adsorption force in the vertical direction is larger in the example than in the conventional example in both the dry state and the wet state.
In particular, it can be seen that in the dry state, the adsorption force of the example is significantly higher than that of the conventional example.

また、図4に示すように、水平方向の吸着力についても、ウェット状態の初期を除いて、実施例の方が、従来例に比べて大きいことが分かる。   Moreover, as shown in FIG. 4, it can be seen that the horizontal suction force is greater in the example than in the conventional example except for the initial wet state.

表1は、実施例の被加工物保持材と従来例の被加工物保持材の物性を示すものである。   Table 1 shows the physical properties of the workpiece holding material of the example and the workpiece holding material of the conventional example.

この表1では、厚み(Thickness)は、測定荷重100gf/cmで測定したものであり、圧縮率(Compressibility)、回復率(Recovery)は、初期荷重300gf/cm、第二荷重1800gf/cmで測定した。
ここで、圧縮率、回復率は、次のようにして測定し、算出した。
In Table 1, the thickness (Thickness) is measured at a measurement load of 100 gf / cm 2 , and the compression rate (Compressibility) and the recovery rate (Recovery) are 300 gf / cm 2 for the initial load and 1800 gf / cm for the second load. Measured in 2 .
Here, the compression rate and the recovery rate were measured and calculated as follows.

すなわち、サンプルに初期荷重を1分間かけたときの厚みT1を測定し、続けて第二荷重を1分間かけたときの厚みT2を測定する。次に、サンプルの荷重を一旦全て取り除いた状態で、1分間放置する。再び、初期荷重を1分間かけた時の厚みT3を測定する。   That is, the thickness T1 when the initial load is applied to the sample for 1 minute is measured, and then the thickness T2 when the second load is applied for 1 minute is measured. Next, the sample is left for one minute with all the load removed. Again, the thickness T3 when the initial load is applied for 1 minute is measured.

これら測定値T1,T2,T3から圧縮率および回復率を、次式で算出した。   From these measured values T1, T2, and T3, the compression rate and the recovery rate were calculated by the following equations.

圧縮率(%)={(T1−T2)/T1}×100
回復率(%)={(T3−T2)/(T1−T2)}×100
また、図7および図8には、実施例の被加工物保持材および従来例の被加工物保持材の各断面の電子顕微鏡(SEM)写真を示している。
Compression rate (%) = {(T1-T2) / T1} × 100
Recovery rate (%) = {(T3-T2) / (T1-T2)} × 100
7 and 8 show electron microscope (SEM) photographs of cross sections of the workpiece holding material of the example and the workpiece holding material of the conventional example.

本発明は、半導体ウェハや精密ガラス基板などの研磨に有用である。   The present invention is useful for polishing semiconductor wafers and precision glass substrates.

本発明の一つの実施の形態に係る被加工物保持材の断面図である。It is sectional drawing of the workpiece holding material which concerns on one embodiment of this invention. 図1の被加工物保持材の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the workpiece holding material of FIG. 実施例および従来例の垂直方向の吸着力の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the adsorption | suction force of the orthogonal | vertical direction of an Example and a prior art example. 実施例および従来例の水平方向の吸着力の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the adsorption | suction force of the horizontal direction of an Example and a prior art example. 垂直方向の吸着力の測定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the measuring method of the adsorption | suction force of a perpendicular direction. 水平方向の吸着力の測定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the measuring method of the adsorption | suction power of a horizontal direction. 実施例の断面電子顕微鏡写真である。It is a cross-sectional electron micrograph of an Example. 従来例の断面電子顕微鏡写真である。It is a cross-sectional electron micrograph of a conventional example. 研磨装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of a grinding | polishing apparatus. 従来例の製造手順を示す図である。It is a figure which shows the manufacture procedure of a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1 被加工物保持材 2 基材
3,5 第1,第2の発泡層 4 粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Workpiece holding material 2 Base material 3,5 1st, 2nd foam layer 4 Adhesive layer

Claims (9)

基材上に樹脂溶液を塗工して湿式凝固する湿式凝固法によってそれぞれ形成された第1,第2の発泡層は、その厚み方向に対して、一方の面側が先細り状となる涙滴状の気泡をそれぞれ有し、前記第2の発泡層の前記涙滴状の気泡は、前記第1の発泡層の前記涙滴状の気泡よりも小さく、かつ、前記厚み方向に対して、前記一方の面側に偏って存在し、前記第1,第2の各発泡層が、前記一方の面である表面を互い対向させて接着層を介して積層され、前記基材が剥離された第2の発泡層の裏面が、被加工物を保持する保持面とされることを特徴とする被加工物保持材。 Each of the first and second foamed layers formed by wet coagulation by applying a resin solution on a base material and wet coagulating is in the form of teardrops with one side tapered toward the thickness direction. The tear-drop-like bubbles of the second foam layer are smaller than the tear-drop-like bubbles of the first foam layer, and the one of the ones with respect to the thickness direction The first and second foamed layers are laminated via an adhesive layer with the surfaces of the first and second surfaces facing each other, and the substrate is peeled off. A workpiece holding material, wherein the back surface of the foam layer is a holding surface for holding the workpiece. 前記第1の発泡層は、その発泡層の表面に、気泡が開口している請求項1に記載の被加工物保持材。   The workpiece holding material according to claim 1, wherein the first foamed layer has air bubbles open on the surface of the foamed layer. 圧縮率が、20%以上50%以下である請求項1または2に記載の被加工物保持材。   The workpiece holding material according to claim 1 or 2, wherein the compression ratio is 20% or more and 50% or less. 前記第1の発泡層は、その圧縮率が、30%以上60%以下であって、前記第2の発泡層よりも高い圧縮率である請求項1〜3のいずれか1項に記載の被加工物保持材。   The first foamed layer has a compression rate of 30% or more and 60% or less, and a higher compression rate than the second foamed layer. Workpiece holding material. 前記第1の発泡層と前記第2の発泡層との厚さの比率が、1:1から20:1である請求項1〜4のいずれか1項に記載の被加工物保持材。   The workpiece holding material according to any one of claims 1 to 4, wherein a thickness ratio between the first foam layer and the second foam layer is 1: 1 to 20: 1. 第1の基材に、樹脂溶液を塗工し、湿式凝固して、厚み方向に対して、一方の面側が先細り状となる涙滴状の気泡を有する第1の発泡層を形成する工程と、
第2の基材に、樹脂溶液を塗工し、湿式凝固して、厚み方向に対して、一方の面側が先細り状となると共に、前記第1の発泡層の涙滴状の気泡よりも小さな涙滴状の気泡であって、かつ、前記厚み方向に対して、前記一方の面側に偏って存在する涙滴状の気泡を有する第2の発泡層を形成する工程と、
前記第1,第2の各発泡層の前記一方の面である表面を互い対向させて接着層を介して積層する工程と、
前記第2の発泡層の裏面の前記第2の基材を剥離して、前記第2の発泡層の裏面を、被加工物を保持する保持面とする工程と、
を含むことを特徴とする被加工物保持材の製造方法。
Applying a resin solution to the first substrate, wet coagulating , and forming a first foam layer having teardrop-shaped air bubbles whose one side is tapered in the thickness direction; ,
A resin solution is applied to the second base material, wet-coagulated , and one surface side is tapered in the thickness direction, and is smaller than the teardrop-shaped bubbles of the first foam layer. Forming a second foamed layer having teardrop-shaped bubbles that are teardrop-shaped bubbles and are present on the one surface side in a biased manner with respect to the thickness direction ;
A step of laminating the surfaces of the first and second foamed layers facing each other through an adhesive layer;
Peeling the second base material on the back surface of the second foam layer, and making the back surface of the second foam layer a holding surface for holding a workpiece;
A method for producing a workpiece holding material, comprising:
前記樹脂溶液が、ウレタン樹脂溶液である請求項6に記載の被加工物保持材の製造方法。   The method for producing a workpiece holding material according to claim 6, wherein the resin solution is a urethane resin solution. 前記第2の基材が、樹脂フィルムである請求項6または7に記載の被加工物保持材の製造方法。   The method for manufacturing a workpiece holding material according to claim 6 or 7, wherein the second base material is a resin film. 前記積層する工程の前に、前記第1の発泡層の表面を研削加工する工程を備える請求項6〜8のいずれか1項に記載の被加工物保持材の製造方法。   The manufacturing method of the workpiece holding material of any one of Claims 6-8 provided with the process of grinding the surface of a said 1st foam layer before the said process to laminate | stack.
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