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JP4945474B2 - Organic EL panel repair device and repair method - Google Patents
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Description

本発明は、フレキシブルな有機ELパネルのリペア装置およびリペア方法に関するものである。   The present invention relates to a repair device and a repair method for a flexible organic EL panel.

近年、有機ELパネルが実用化されるなどして注目されている。有機ELパネルは、液晶パネルと異なり、フレキシブルに構成することもできる。   In recent years, attention has been paid to the practical use of organic EL panels. Unlike the liquid crystal panel, the organic EL panel can be configured flexibly.

図4に示すフレキシブルな有機ELパネル20は、光透過性の第1フィルム22と、第1フィルム22と対向する光透過性の第2フィルム24と、第1フィルム22と第2フィルム24の間に形成された有機EL素子26とを含む。有機EL素子26は、第1フィルム22の上に積層形成されている。有機EL素子26を封止するために、フィルム22,24の周縁同士を接着剤28によって接着している。必要に応じて第2フィルム24と有機EL素子26を接着剤で接着する。図4では有機EL素子26は1つであるが、実際は多数の有機EL素子26が縦横に配列されている。   A flexible organic EL panel 20 shown in FIG. 4 includes a light transmissive first film 22, a light transmissive second film 24 facing the first film 22, and between the first film 22 and the second film 24. And the organic EL element 26 formed in the above. The organic EL element 26 is laminated on the first film 22. In order to seal the organic EL element 26, the peripheral edges of the films 22 and 24 are bonded together with an adhesive 28. The 2nd film 24 and the organic EL element 26 are adhere | attached with an adhesive agent as needed. In FIG. 4, there is one organic EL element 26, but actually a large number of organic EL elements 26 are arranged vertically and horizontally.

有機EL素子26は、第1フィルム側から透明電極30、有機層32、金属電極34の順番に積層された構造である。透明電極30はITOなどであり、金属電極34はAlなどである。透明電極30がアノードになり、金属電極34がカソードになる。図4では有機層32は1層になっているが、アノード側から順番にホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が積層された構造であっても良い。発光層で電子と正孔が再結合し、電子が基底状態から励起状態になり、さらに電子が基底状態に戻るときに発光する。   The organic EL element 26 has a structure in which a transparent electrode 30, an organic layer 32, and a metal electrode 34 are laminated in this order from the first film side. The transparent electrode 30 is ITO or the like, and the metal electrode 34 is Al or the like. The transparent electrode 30 becomes an anode and the metal electrode 34 becomes a cathode. In FIG. 4, the organic layer 32 is a single layer, but a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are stacked in order from the anode side may be used. In the light-emitting layer, electrons and holes are recombined, so that light is emitted when the electrons change from the ground state to the excited state and further return to the ground state.

フィルム22,24や有機EL素子26がフレキシブルであるので、有機ELパネル20がフレキシブルになる。液晶パネルとは異なり、任意に湾曲させて使用することができる。   Since the films 22 and 24 and the organic EL element 26 are flexible, the organic EL panel 20 becomes flexible. Unlike a liquid crystal panel, it can be arbitrarily curved and used.

なお、フィルム22,24の代わりに硬質のガラス基板62とキャップ64を使用した有機ELパネル60がある(図5)。この有機ELパネル60は、液晶パネルと同様に任意に湾曲させることはできない。ガラス基板62の厚みは約700μmであり、フィルム22,24の厚みは約100μmである。フレキシブルな有機ELパネル20の方がかなり薄い。   There is an organic EL panel 60 using a hard glass substrate 62 and a cap 64 instead of the films 22 and 24 (FIG. 5). The organic EL panel 60 cannot be arbitrarily curved like the liquid crystal panel. The glass substrate 62 has a thickness of about 700 μm, and the films 22 and 24 have a thickness of about 100 μm. The flexible organic EL panel 20 is considerably thinner.

有機ELパネル20は多数の有機EL素子26が縦横に配列されており、全ての有機EL素子26を無欠陥で製造することはかなり難しい。例えば、クリーンルームで有機ELパネル20を製造するが、製造装置で発生する埃などによって電極間がショートまたは低抵抗化する場合がある。欠陥箇所36で電流がリークし、輝点となって表示品位を落とす。   The organic EL panel 20 has a large number of organic EL elements 26 arranged vertically and horizontally, and it is quite difficult to manufacture all the organic EL elements 26 without defects. For example, the organic EL panel 20 is manufactured in a clean room, but there are cases where the electrodes are short-circuited or reduced in resistance due to dust generated in the manufacturing apparatus. The current leaks at the defective portion 36 and becomes a bright spot, degrading the display quality.

そこで、有機ELパネル20の製造過程で欠陥を検出し、リペアをおこなうのが普通である。例えば、第1フィルム側から欠陥を検出し、欠陥箇所36にレーザーL3を照射する。レーザーL3によって欠陥箇所36の金属電極34を蒸発させ、欠陥箇所36を高抵抗化する。リペアによって欠陥箇所36が発光しなくなり、使用者が欠陥箇所36を認識しにくくなる。   Therefore, it is common to detect defects during the manufacturing process of the organic EL panel 20 and repair them. For example, a defect is detected from the first film side, and the laser beam L3 is irradiated to the defect portion 36. The metal electrode 34 at the defective portion 36 is evaporated by the laser L3, and the defective portion 36 is increased in resistance. Due to the repair, the defective portion 36 does not emit light, and it becomes difficult for the user to recognize the defective portion 36.

図6に示すように、金属電極34を蒸発させる熱量がQ1であるとする。リペア時、この熱量Q1よりも非常に高い熱量Q4が有機層32に与えられている。この理由は、(1)金属電極34に与える熱量以外に、有機層32に吸収などされる熱量を考慮すると、レーザーL3の出力を上げる必要があり、(2)レーザーL3が有機層32を通過するため、有機層32には金属電極34に与える熱量よりも大きくなるためである。   As shown in FIG. 6, it is assumed that the amount of heat for evaporating the metal electrode 34 is Q1. During repair, the organic layer 32 is given a heat quantity Q4 that is much higher than the heat quantity Q1. This is because (1) it is necessary to increase the output of the laser L3 in consideration of the amount of heat absorbed by the organic layer 32 in addition to the amount of heat given to the metal electrode 34, and (2) the laser L3 passes through the organic layer 32. This is because the amount of heat applied to the metal electrode 34 is larger in the organic layer 32.

また、フレキシブルな有機ELパネル20は、厚みが非常に薄く、ガラス基板62のような熱を逃がすための材料が少ないため、欠陥箇所36の周囲にも多量の熱が伝導される。具体的には、図5の有機ELパネル60であればガラス基板62に矢印のTdで示すような熱伝導が生じるが、フレキシブルな有機ELパネル20の熱伝導は矢印のTcの方向のみである(図4)。欠陥箇所36の周囲の有機EL素子26が熱によってダメージを受ける場合がある。リペアによって非発光領域が広くなり、表示品位を落とすこととなる。   In addition, since the flexible organic EL panel 20 is very thin, and there is little material for releasing heat like the glass substrate 62, a large amount of heat is also conducted around the defect portion 36. Specifically, in the case of the organic EL panel 60 of FIG. 5, heat conduction as indicated by an arrow Td occurs in the glass substrate 62, but the heat conduction of the flexible organic EL panel 20 is only in the direction of the arrow Tc. (FIG. 4). The organic EL element 26 around the defective portion 36 may be damaged by heat. The non-light emitting area is widened by repair, and the display quality is lowered.

欠陥箇所の周囲に熱が伝わらないようにレーザーL3の出力を小さくすると、リペアがおこなえない。   Repair cannot be performed if the output of the laser L3 is reduced so that heat is not transmitted to the periphery of the defective portion.

金属電極側からレーザーL3を照射すれば有機層32にレーザーL3が照射されることがない。有機層32へ与えられる熱量も小さく、有機層32のダメージを小さくできると考えられる。しかし、金属電極34は不透明であり、欠陥箇所36を認識することができない。したがって、金属電極側からのレーザー照射はおこなわれていない。   If the laser L3 is irradiated from the metal electrode side, the organic layer 32 is not irradiated with the laser L3. It is considered that the amount of heat given to the organic layer 32 is small, and damage to the organic layer 32 can be reduced. However, the metal electrode 34 is opaque and the defective portion 36 cannot be recognized. Therefore, laser irradiation from the metal electrode side is not performed.

なお、欠陥箇所36の座標がわかり、有機ELパネル20の角にアライメントマークを設ければ、コンピュータ制御によってレーザー照射装置52を欠陥箇所36まで自動的に移動させ、金属電極側からレーザーL3を照射できるように考えられる。しかし、有機EL素子26は非常に微細であり、最終的なレーザー照射位置を目視によって確認し、必要に応じてレーザー照射位置を微調整する。金属電極側からの自動でのレーザー照射は、微調整ができないために失敗するおそれが高い。   If the coordinates of the defective portion 36 are known and an alignment mark is provided at the corner of the organic EL panel 20, the laser irradiation device 52 is automatically moved to the defective portion 36 by computer control, and the laser L3 is irradiated from the metal electrode side. It can be thought of as possible. However, the organic EL element 26 is very fine, and the final laser irradiation position is visually confirmed, and the laser irradiation position is finely adjusted as necessary. Automatic laser irradiation from the metal electrode side is likely to fail because fine adjustment is not possible.

特許文献1にレーザーを利用したリペア方法が開示されている。しかし、引用文献1は、液晶パネル用のアレイ基板のリペアであって有機ELパネルについてではない。引用文献1は、透明電極側からレーザーを照射しており、有機ELパネルに単純に適用すれば欠陥の周囲にもダメージを与えてしまう。引用文献1はアレイ基板のリペアであり、封止はおこなっていない。有機EL素子は酸素や水分によって劣化するため、引用文献1の方法でリペアをおこなうためには不活性ガス雰囲気中でおこなわなければならず、非常に難しい。   Patent Document 1 discloses a repair method using a laser. However, the cited document 1 is a repair of an array substrate for a liquid crystal panel, not an organic EL panel. Cited Document 1 irradiates a laser from the transparent electrode side, and if it is simply applied to an organic EL panel, it also damages the periphery of the defect. Cited Document 1 is repairing an array substrate, and sealing is not performed. Since the organic EL element is deteriorated by oxygen or moisture, in order to perform repair by the method of the cited document 1, it must be performed in an inert gas atmosphere, which is very difficult.

特許文献2は、レーザーで欠陥部分を除去した後、再び有機層を形成する方法が開示されている。引用文献2は、有機層の分子鎖の切断に特化した波長のレーザーを照射している。しかし、発光効率を向上させるために有機層が複数層になることが一般的であり、特許文献2の方法によって材料の異なる複数の層を全て除去できるのかが問題となる。この点については、特許文献2には開示されていない。有機層の発光を確認するためには有機層を2枚の電極で挟み込む必要があるが、引用文献2の方法であれば上方の電極を形成できず、発光を確認することはできない。   Patent Document 2 discloses a method of forming an organic layer again after removing a defective portion with a laser. Cited Document 2 irradiates a laser having a wavelength specialized for cutting a molecular chain of an organic layer. However, in order to improve the light emission efficiency, the organic layer is generally a plurality of layers, and it is a problem whether all the plurality of layers made of different materials can be removed by the method of Patent Document 2. This point is not disclosed in Patent Document 2. In order to confirm the light emission of the organic layer, it is necessary to sandwich the organic layer between the two electrodes. However, according to the method of Cited Document 2, the upper electrode cannot be formed, and the light emission cannot be confirmed.

特許文献3に有機ELパネルのリペア装置が開示されている。しかし、ガラス基板を利用した有機ELパネルに対しての装置であり、フレキシブルな有機ELパネルに対するリペア装置ではない。なお、特許文献4は有機ELパネルにダメージを与えずに検査をおこなう装置であり、検査後のリペアに関するものではない。   Patent Document 3 discloses an organic EL panel repair device. However, it is an apparatus for an organic EL panel using a glass substrate, and is not a repair apparatus for a flexible organic EL panel. Note that Patent Document 4 is an apparatus that performs an inspection without damaging the organic EL panel, and does not relate to a repair after the inspection.

特開2000−347217号公報JP 2000-347217 A 特開2004−119243号公報JP 2004-119243 A 特開2007−42498号公報JP 2007-42498 A 特開2005−83951号公報JP 2005-83951 A

本発明の目的は、フレキシブルな有機ELパネルに対して、欠陥部分の周囲へのダメージを極力小さくしたリペア装置およびリペア方法を提供することにある。   The objective of this invention is providing the repair apparatus and repair method which made the damage to the circumference | surroundings of a defective part as small as possible with respect to a flexible organic electroluminescent panel.

上述したように有機ELパネルは、光透過性の第1フィルムと第2フィルムの間に有機EL素子を有する。有機EL素子は、第1フィルム側から透明電極、有機層、金属電極が順番に積層されている。有機EL素子を封止するために第1フィルムと第2フィルムの周縁部は接着剤で接着されている。   As described above, the organic EL panel has an organic EL element between the light transmissive first film and the second film. In the organic EL element, a transparent electrode, an organic layer, and a metal electrode are sequentially laminated from the first film side. In order to seal the organic EL element, the peripheral portions of the first film and the second film are bonded with an adhesive.

有機ELパネルのリペア装置は、有機ELパネルの欠陥箇所のリペアにレーザーを使用するものであり、そのレーザーを発するレーザー照射装置を含む。レーザー照射装置は、第1フィルム側から欠陥箇所に第1回目のレーザーを照射し、その後、第2フィルム側から欠陥箇所に第2回目のレーザーを照射する。第1回目のレーザーは金属電極に凹形状を形成する出力を有し、第2回目のレーザーは金属電極を蒸発させる出力を有する。   An organic EL panel repair device uses a laser for repairing a defective portion of an organic EL panel, and includes a laser irradiation device that emits the laser. The laser irradiation apparatus irradiates the defect portion with the first laser from the first film side, and then irradiates the defect portion with the second laser from the second film side. The first laser has an output for forming a concave shape on the metal electrode, and the second laser has an output for evaporating the metal electrode.

上記のリペア装置を使用したリペア方法は、(1)第1フィルム側から欠陥箇所に第1回目のレーザーを照射し、(2)第2フィルム側から欠陥箇所に第2回目のレーザーを照射する。上記(1)によって金属電極にマーキングをおこない、上記(2)によって金属電極を蒸発させる。上記(2)の前に、レーザーの照射位置をマーキングによって形成された凹形状に合わせる。   In the repair method using the above repair device, (1) the first laser is irradiated to the defective portion from the first film side, and (2) the second laser is irradiated to the defective portion from the second film side. . The metal electrode is marked by the above (1), and the metal electrode is evaporated by the above (2). Before (2) above, the laser irradiation position is adjusted to the concave shape formed by the marking.

本発明によると、2回に分けてレーザーを照射しており、1回目から2回目のレーザーを照射するまでに有機層の冷却が可能であり、有機層の温度上昇を抑えることができる。金属電極側からは欠陥箇所を認識することはできないが、1回目のレーザー照射によって欠陥箇所の金属電極を変型させるため、金属電極側から欠陥箇所を認識することができる。2回目のレーザー照射は金属電極側からおこなうので、有機層にはレーザーが照射されない。そのため有機層の温度上昇を抑えることができ、欠陥箇所の拡大を防ぐことができる。   According to the present invention, the laser is irradiated in two steps, the organic layer can be cooled before the first to the second laser irradiation, and the temperature rise of the organic layer can be suppressed. Although the defective part cannot be recognized from the metal electrode side, the defective part can be recognized from the metal electrode side because the metal electrode at the defective part is deformed by the first laser irradiation. Since the second laser irradiation is performed from the metal electrode side, the organic layer is not irradiated with the laser. Therefore, the temperature rise of the organic layer can be suppressed, and the expansion of the defective portion can be prevented.

本発明の実施形態について図面を用いて説明する。リペアされるフレキシブルな有機ELパネルは、従来技術で説明した有機ELパネルと同じであり、有機ELパネルについての説明は省略する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The flexible organic EL panel to be repaired is the same as the organic EL panel described in the related art, and the description of the organic EL panel is omitted.

図1に示すように、リペア装置10はレーザー照射装置12を備える。レーザー照射装置12は、YAG、エキシマ、半導体、ガスなど種々のレーザー照射装置が利用できる。レーザーL1,L2の波長は約200〜1100nmである。   As shown in FIG. 1, the repair device 10 includes a laser irradiation device 12. As the laser irradiation device 12, various laser irradiation devices such as YAG, excimer, semiconductor, and gas can be used. The wavelengths of the lasers L1 and L2 are about 200 to 1100 nm.

レーザー照射装置12は、第1フィルム側から欠陥箇所36に1回目のレーザーL1を照射し(図1(a))、その後、第2フィルム側から欠陥箇所36に第2回目のレーザーL2を照射する(図1(b))。本発明は、1回のレーザー照射でリペアを完了させず、2回のレーザー照射をおこなう。1回目のレーザー照射から2回目のレーザー照射までの間に有機層32を冷却することができ、熱によるダメージを防止できる。   The laser irradiation device 12 irradiates the defect portion 36 with the first laser L1 from the first film side (FIG. 1A), and then irradiates the defect portion 36 with the second laser L2 from the second film side. (FIG. 1B). In the present invention, the repair is not completed by one laser irradiation, but the laser irradiation is performed twice. The organic layer 32 can be cooled between the first laser irradiation and the second laser irradiation, and damage due to heat can be prevented.

1回目のレーザーL1は、金属電極34にマーキングをおこなう出力である。図2に示すように、マーキングによって形成されるマークは、凹形状38である。2回目のレーザーL2は金属電極34を蒸発させる出力を有する。1回目のレーザー照射では、金属電極34に凹形状38が形成されるだけであり、有機層32の温度上昇が小さい。2回目のレーザー照射は金属電極34を蒸発させるが、金属電極側からレーザーL2を照射するので、有機層32の温度上昇は小さい。具体的な出力の一例としては、レーザーL1の出力は約5×10−5〜4×10−5mJであり、レーザーL2の出力は約2×10−3〜4×10−2mJである。 The first laser L <b> 1 is an output for marking the metal electrode 34. As shown in FIG. 2, the mark formed by the marking has a concave shape 38. The second laser L2 has an output for evaporating the metal electrode. In the first laser irradiation, only the concave shape 38 is formed on the metal electrode 34, and the temperature rise of the organic layer 32 is small. The second laser irradiation evaporates the metal electrode 34, but the laser L2 is irradiated from the metal electrode side, so the temperature rise of the organic layer 32 is small. As an example of a specific output, the output of the laser L1 is about 5 × 10 −5 to 4 × 10 −5 mJ, and the output of the laser L2 is about 2 × 10 −3 to 4 × 10 −2 mJ. .

金属電極34に形成される凹形状38は、第1フィルム側から見て凹んだ形状である。第2フィルム側から見ると凸形状となっている。上述したように第2フィルム側から有機EL素子26を見た場合、金属電極34があり、欠陥箇所36を確認することはできない。本発明では1回目のレーザー照射によって金属電極34に凹形状38が形成され、凹形状38は2回目のレーザー照射時の照射位置を決める際のマークとなる。   The concave shape 38 formed in the metal electrode 34 is a concave shape when viewed from the first film side. When viewed from the second film side, it has a convex shape. As described above, when the organic EL element 26 is viewed from the second film side, the metal electrode 34 is present, and the defective portion 36 cannot be confirmed. In the present invention, the concave shape 38 is formed in the metal electrode 34 by the first laser irradiation, and the concave shape 38 becomes a mark for determining the irradiation position at the second laser irradiation.

その他、リペア装置10は有機ELパネル20の保持台、レーザー照射装置12を支持して欠陥箇所の上方にレーザー照射装置12を移動させる手段、欠陥箇所36を拡大表示する手段、リペア装置10の動作を制御するコンピュータなどを含む。コンピュータ制御によって、レーザー照射装置12を欠陥箇所36の付近まで移動させた後、欠陥箇所36を拡大表示させ、目視しながらレーザー照射位置を微調整する。保持台は、有機ELパネル20を自動的に反転させる手段を備えても良い。また、リペア装置10は有機ELパネル20を点灯させる手段を備える。レーザーL1,L2の照射位置を調節するために、有機ELパネル20を点灯させて欠陥箇所36がわかるようにする。   In addition, the repair device 10 is a holder for the organic EL panel 20, a means for supporting the laser irradiation device 12 and moving the laser irradiation device 12 above the defective portion, a means for enlarging and displaying the defective portion 36, and an operation of the repair device 10. Including a computer for controlling. After the laser irradiation apparatus 12 is moved to the vicinity of the defect portion 36 by computer control, the defect portion 36 is enlarged and displayed, and the laser irradiation position is finely adjusted while visually observing. The holding table may include means for automatically inverting the organic EL panel 20. In addition, the repair device 10 includes means for lighting the organic EL panel 20. In order to adjust the irradiation positions of the lasers L1 and L2, the organic EL panel 20 is turned on so that the defective portion 36 can be identified.

リペアをおこなう前に欠陥箇所36を検出する必要があるが、本発明では欠陥箇所36の検出方法は特に限定されない。例えば、従来技術で示した特許文献4などに開示された方法を使用しても良い。   Although it is necessary to detect the defective part 36 before repairing, the detection method of the defective part 36 is not particularly limited in the present invention. For example, you may use the method disclosed by patent document 4 etc. which were shown by the prior art.

リペア装置10を使用したリペア方法を説明する。リペア方法は、(1)第1フィルム側から欠陥箇所36に1回目のレーザーL1を照射し、(2)第2フィルム側から欠陥箇所36に2回目のレーザーL2を照射する。従来とは異なり、1回のレーザー照射でリペアを完了させない。   A repair method using the repair device 10 will be described. In the repair method, (1) the first laser L1 is irradiated to the defective portion 36 from the first film side, and (2) the second laser L2 is irradiated to the defective portion 36 from the second film side. Unlike the conventional case, repair is not completed with a single laser irradiation.

1回目のレーザー照射は金属電極34に対するマーキングであり、金属電極34に凹形状38が形成される。2回目のレーザー照射によって欠陥箇所36の金属電極34を蒸発させる。欠陥箇所36のリーク電流が無くなり、輝点が暗点となる。   The first laser irradiation is a marking for the metal electrode 34, and a concave shape 38 is formed in the metal electrode 34. The metal electrode 34 at the defect portion 36 is evaporated by the second laser irradiation. The leak current at the defective portion 36 is eliminated, and the bright spot becomes a dark spot.

1回目と2回目のレーザー照射による熱量の変化を図3(a),(b)に示す。1回目のレーザー照射では、金属電極34は熱量Q1よりも高い熱量が与えられるが、従来と比べて小さく、時間も短時間である。したがって、有機層32に与えられる最大の熱量Q2も従来の熱量Q4と比べて小さく、短時間である。欠陥箇所36の周囲への熱伝導を小さくすることができる。   3A and 3B show changes in the amount of heat by the first and second laser irradiations. In the first laser irradiation, the metal electrode 34 is given a heat quantity higher than the heat quantity Q1, but it is smaller than the conventional one and the time is also short. Therefore, the maximum amount of heat Q2 given to the organic layer 32 is also smaller than the conventional amount of heat Q4 and is a short time. Heat conduction to the periphery of the defect portion 36 can be reduced.

なお、図3(a)では、金属電極34に与えられる熱量がQ1よりも大きくなっているが、金属電極34を蒸発させることはない。図3(a)は、周囲への熱伝導を考慮したためであり、実際には金属電極34に凹形状38が形成されるだけである。   In FIG. 3A, the amount of heat applied to the metal electrode 34 is larger than Q1, but the metal electrode 34 is not evaporated. FIG. 3A is due to consideration of heat conduction to the surroundings, and actually only the concave shape 38 is formed in the metal electrode 34.

2回目のレーザー照射では、金属電極34には蒸発する熱量Q1または熱量Q1よりも高い熱量が与えられる。しかし、金属電極側からレーザーL2を照射しており、有機層32にはレーザーL2が照射されない。有機層32は金属電極34から間接的に熱が伝導されるだけであり、有機層32へ与えられる最大の熱量Q3は非常に小さい。したがって、図1の矢印Ta,Tbで示すように、欠陥箇所36の周囲へ伝導する熱は従来(図4の矢印Tc)と比べて小さくなる。なお、金属電極34を蒸発させた後もレーザーL2を照射し続けると有機層32に直接レーザーL2が照射されるため、金属電極34の蒸発直後にレーザーL2の照射を停止する。   In the second laser irradiation, the metal electrode 34 is given a heat quantity Q1 to be evaporated or a heat quantity higher than the heat quantity Q1. However, the laser L2 is irradiated from the metal electrode side, and the laser L2 is not irradiated to the organic layer 32. The organic layer 32 only conducts heat indirectly from the metal electrode 34, and the maximum amount of heat Q3 given to the organic layer 32 is very small. Therefore, as indicated by arrows Ta and Tb in FIG. 1, the heat conducted to the periphery of the defective portion 36 is smaller than that in the prior art (arrow Tc in FIG. 4). Note that if the laser L2 is continuously irradiated even after the metal electrode 34 is evaporated, the laser L2 is directly irradiated to the organic layer 32. Therefore, the irradiation of the laser L2 is stopped immediately after the evaporation of the metal electrode 34.

なお、図3(b)では、蒸発させるための熱量Q1よりも高い熱量を金属電極34に与えている。これは、レーザー照射中に熱伝導によって周囲に逃げる熱を考慮したものである。   In FIG. 3B, the metal electrode 34 is given a heat quantity higher than the heat quantity Q1 for evaporation. This takes into account the heat that escapes to the surroundings by heat conduction during laser irradiation.

2回目のレーザー照射の前に、レーザーL2の照射位置を凹形状38に合わせる。1回目のレーザー照射によって欠陥箇所36の金属電極34が凹み、第2フィルム側からでも欠陥箇所36を認識できる。凹形状38をマークとしてレーザーL2の照射位置を合わせることができる。   Before the second laser irradiation, the irradiation position of the laser L2 is adjusted to the concave shape 38. By the first laser irradiation, the metal electrode 34 at the defective portion 36 is recessed, and the defective portion 36 can be recognized even from the second film side. The irradiation position of the laser L2 can be adjusted using the concave shape 38 as a mark.

以上のように、本発明は、従来おこなわれていなかった金属電極側からのレーザー照射をおこなっている。金属電極側からレーザーL2を照射することによって、有機層32への熱によるダメージを極力小さくできる。金属電極34を蒸発させる前に有機層32にレーザーL1が照射されるが、レーザーL1の出力は小さく、有機層32への熱によるダメージが極力抑えられる。   As described above, the present invention performs laser irradiation from the metal electrode side, which has not been conventionally performed. By irradiating the laser L2 from the metal electrode side, damage to the organic layer 32 due to heat can be minimized. Although the organic layer 32 is irradiated with the laser L1 before the metal electrode 34 is evaporated, the output of the laser L1 is small and damage to the organic layer 32 due to heat is suppressed as much as possible.

本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、レーザーL1とL2の専用のレーザー照射装置12を備えていても良い。すなわち、レーザー照射装置12は2個になる。   Although the embodiment of the present invention has been described, the present invention is not limited to the above embodiment. For example, a dedicated laser irradiation device 12 for the lasers L1 and L2 may be provided. That is, there are two laser irradiation devices 12.

レーザー照射装置12を有機ELパネル20の両フィルム側に設けても良い。有機ELパネル20を反転させずに、両側からレーザーL1,L2を照射することができる。この場合、有機ELパネル20は水平に対して垂直方向に保持される。レーザーL1で温度上昇した有機層32の温度が下がってからレーザーL2を照射すれば、有機層32へのダメージが抑えられる。   The laser irradiation device 12 may be provided on both film sides of the organic EL panel 20. The lasers L1 and L2 can be irradiated from both sides without inverting the organic EL panel 20. In this case, the organic EL panel 20 is held in the vertical direction with respect to the horizontal. If the laser L2 is irradiated after the temperature of the organic layer 32 that has been raised by the laser L1 is lowered, damage to the organic layer 32 can be suppressed.

レーザー照射装置12は1つであっても、レーザー照射装置12を第1フィルム側から第2フィルム側に移動させる構成であっても良い。   The number of the laser irradiation devices 12 may be one, or the laser irradiation device 12 may be moved from the first film side to the second film side.

複数の欠陥をリペアする場合、レーザーL1が照射される欠陥の順番とレーザーL2が照射される欠陥の順番は同じであっても良いし異なっても良い。リペア装置10を制御するコンピュータにリペアする箇所の座標を順番を記憶し、その座標の順番にしたがってレーザー照射装置12が移動する。   When repairing a plurality of defects, the order of defects irradiated with the laser L1 and the order of defects irradiated with the laser L2 may be the same or different. The computer stores the order of the coordinates of the location to be repaired in the computer that controls the repair device 10, and the laser irradiation device 12 moves according to the order of the coordinates.

アノードが透明電極でカソードが金属電極であったが、アノードが金属電極でカソードが透明電極であっても本発明を適用できる。透明電極側からレーザーを照射した後、金属電極側からレーザーを照射し、金属電極を蒸発させる。   Although the anode is a transparent electrode and the cathode is a metal electrode, the present invention can be applied even when the anode is a metal electrode and the cathode is a transparent electrode. After irradiating the laser from the transparent electrode side, the laser is irradiated from the metal electrode side to evaporate the metal electrode.

説明の便宜上、透明電極側のフィルムを第1フィルム、金属電極側のフィルムを第2フィルムとしたが、第1フィルと第2フィルムの位置は入れ替わっても良い。   For convenience of explanation, the film on the transparent electrode side is the first film and the film on the metal electrode side is the second film, but the positions of the first fill and the second film may be interchanged.

保持台に有機ELパネル20を反転させる手段を設けたが、リペアをおこなうオペレーターによって有機ELパネル20を反転させても良い。   Although the means for inverting the organic EL panel 20 is provided on the holding table, the organic EL panel 20 may be inverted by an operator who performs repair.

その他、本発明は、その主旨を逸脱しない範囲で当業者の知識に基づき種々の改良、修正、変更を加えた態様で実施できるものである。   In addition, the present invention can be carried out in a mode in which various improvements, modifications, and changes are added based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention.

リペア装置を使用したリペア方法を示す図であり、(a)は第1フィルム側からのレーザー照射であり、(b)は第2フィルム側からのレーザー照射である。It is a figure which shows the repair method using a repair apparatus, (a) is laser irradiation from the 1st film side, (b) is laser irradiation from the 2nd film side. 凹部が形成された様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the recessed part was formed. リペア時の金属電極と有機層への熱量の変化を示す図であり、(a)は第1フィルム側からレーザー照射をおこなったときの温度変化であり、(b)は第2フィルム側からレーザー照射をおこなったときの温度変化である。It is a figure which shows the change of the calorie | heat amount to the metal electrode and organic layer at the time of repair, (a) is a temperature change when laser irradiation is performed from the 1st film side, (b) is a laser from the 2nd film side. It is a temperature change at the time of irradiation. 従来のフレキシブルな有機ELパネルに対するリペア方法を示す図である。It is a figure which shows the repair method with respect to the conventional flexible organic electroluminescent panel. 従来のガラス基板を用いた有機ELパネルに対するリペア方法を示す図である。It is a figure which shows the repair method with respect to the organic electroluminescent panel using the conventional glass substrate. 従来のリペア時の金属電極と有機層への熱量の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the calorie | heat amount to the metal electrode and organic layer at the time of the conventional repair.

符号の説明Explanation of symbols

10、50:リペア装置
12、52:レーザー照射装置
20:有機ELパネル
22、24:フィルム
26:有機EL素子
28:接着剤
30:透明電極
32:有機層
34:金属電極
36:欠陥箇所
38:凹状部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 50: Repair apparatus 12, 52: Laser irradiation apparatus 20: Organic EL panel 22, 24: Film 26: Organic EL element 28: Adhesive 30: Transparent electrode 32: Organic layer 34: Metal electrode 36: Defect location 38: Concave

Claims (5)

光透過性の第1フィルムと、
前記第1フィルムと対向する光透過性の第2フィルムと、
前記第1フィルムと第2フィルムの間に形成され、第1フィルム側から透明電極、有機層、金属電極が順番に積層された有機EL素子と、
を含む有機ELパネルの欠陥箇所をリペアする有機EL装置のリペア装置であって、
前記欠陥箇所にレーザーを照射するレーザー照射装置を含み、レーザー照射装置は、第1フィルム側から欠陥箇所に第1回目のレーザーを照射し、その後、第2フィルム側から欠陥箇所に第2回目のレーザーを照射するリペア装置。
A light transmissive first film;
A light transmissive second film facing the first film;
An organic EL element formed between the first film and the second film, in which a transparent electrode, an organic layer, and a metal electrode are sequentially laminated from the first film side;
A repair device for an organic EL device that repairs a defective portion of an organic EL panel including
A laser irradiation device for irradiating the defective portion with a laser, the laser irradiation device irradiating the defective portion with a first laser from the first film side, and then the second time from the second film side to the defective portion; Repair device that irradiates a laser.
前記第1回目のレーザーは金属電極に凹形状を形成する出力を有し、第2回目のレーザーは金属電極を蒸発させる出力を有する請求項1のリペア装置。 The repair device according to claim 1, wherein the first laser has an output for forming a concave shape on the metal electrode, and the second laser has an output for evaporating the metal electrode. 光透過性の第1フィルムと、
前記第1フィルムと対向する光透過性の第2フィルムと、
前記第1フィルムと第2フィルムの間に形成され、第1フィルム側から透明電極、有機層、金属電極が順番に積層された有機EL素子と、
を含む有機ELパネルの欠陥箇所を、レーザーでリペアする有機EL装置のリペア方法であって、
前記第1フィルム側から欠陥箇所に第1回目のレーザーを照射するステップと、
前記第2フィルム側から欠陥箇所に第2回目のレーザーを照射するステップと、
を含むリペア方法。
A light transmissive first film;
A light transmissive second film facing the first film;
An organic EL element formed between the first film and the second film, in which a transparent electrode, an organic layer, and a metal electrode are sequentially laminated from the first film side;
A repair method of an organic EL device that repairs a defective portion of an organic EL panel including a laser with a laser,
Irradiating a defect spot from the first film side to the first laser;
Irradiating a second portion of the laser on the defect from the second film side;
Including repair method.
前記第1回目のレーザーを照射するステップによって金属電極にマークを形成し、第2回目のレーザーを照射するステップによって金属電極を蒸発させる請求項3のリペア方法。 The repair method according to claim 3, wherein a mark is formed on the metal electrode by the first laser irradiation step, and the metal electrode is evaporated by the second laser irradiation step. 前記マークが凹形状であり、前記第2回目のレーザーを照射するステップの前に、レーザーの照射位置を凹形状に合わせるステップを含む請求項4のリペア方法。 The repair method according to claim 4, wherein the mark has a concave shape, and includes a step of adjusting a laser irradiation position to a concave shape before the second laser irradiation step.
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