JP4967975B2 - 光源装置及びこれを備えた光走査装置 - Google Patents
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Description
(光走査装置の構成について)
以下に、本発明の第1の実施形態に係る光源装置及びこれを備えた光走査装置の構成について図面を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る光走査装置10の上視図である。なお、図1において、y軸は、主走査方向を示し、z軸は副走査方向を示す。また、z軸は、鉛直方向とも一致する。
以下に、光源装置16の構成について図面を参照しながら説明する。図2は、光源装置16の斜視図である。図3は、光源装置16に含まれるレーザダイオード12a,12b、ビームスプリッタ13及びコリメータレンズ14の位置関係を示した斜視図である。なお、図3に示すレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13は、図2に示す光源装置16の状態から、コリメータレンズ14の光軸を中心に時計回りに90度回転させて記載されている。
以下に、レーザビームBa,Bbのビームピッチの調整について図面を参照しながら説明する。図4は、レーザダイオード12aの外観斜視図である。具体的には、図4(a)は、初期状態におけるレーザダイオード12aの外観斜視図であり、図4(b)は、初期状態からθ1だけ回転させた状態(以下、第1の回転状態と称す)のレーザダイオード12aの外観斜視図である。図5は、レーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を示した図である。具体的には、図5(a)は、初期状態におけるレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を示した図である。図5(b)は、初期状態からθ2だけ回転させた状態(以下、第2の回転状態と称す)のレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を示した図である。
以上のような光源装置16及びこれを備えた光走査装置10によれば、レーザダイオード12a,12b及びビームスプリッタ13は、共通の軸を中心として回転する。そのため、これらを保持するホルダ40,42のそれぞれの半径を等しくすれば、ホルダ40,42を一つの溝45にて回転可能に保持することができる。これにより、ホルダ40,42のそれぞれに対して別々に保持機構(例えば、溝)を作製する必要がなくなる。ホルダ40,42の保持機構は、レーザビームBa,Bbの副走査方向におけるビームピッチの調整に用いられるため精度よく作製される必要があるので、保持機構の数が減ることにより、簡単な構成でレーザビームBa,Bbの副走査方向におけるビームピッチの調整を行うことができるようになる。
図6は、光源装置16の変形例に係る光源装置16aの外観斜視図である。なお、光源装置16aでは、コリメータレンズ14は省略した。
以下に、本発明の第2の実施形態に係る光源装置及びこれを備えた光走査装置の構成について図面を参照しながら説明する。図7は、第2の実施形態に係る光走査装置10aの上視図である。なお、図7において、y軸は、主走査方向を示し、z軸は副走査方向を示す。また、z軸は、鉛直方向とも一致する。
なお、本発明に係る光源装置16,16a,16b及びこれを備えた光走査装置10,10aは、前記実施形態に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することができる。
12a,12b レーザダイオード
13 ビームスプリッタ
14,14a,14b コリメータレンズ
16,16a,16b 光源装置
18 シリンドリカルレンズ
20 ポリゴンミラー
22,24 走査レンズ
26 レンズ
28 センサ
32 感光体ドラム
40,40a,42,42a ホルダ
44,44a ベース
45 溝
46a,46b,48a,48b 発光点
Ba,Bb レーザビーム
Claims (7)
- 光走査装置に用いられる光源装置において、
それぞれが複数のビームを出射する第1の光源及び第2の光源と、
前記第1の光源が出射した第1のビームと前記第2の光源が出射した第2のビームとを合成する合成手段と、
前記第1の光源を保持する第1のホルダと、
前記第2の光源及び前記合成手段を保持する第2のホルダと、
前記第1のホルダ及び前記第2のホルダを、前記所定の軸を中心に回転可能に保持するベースと、
を備え、
前記第1の光源、前記第2の光源及び前記合成手段は、所定の軸を中心に回転でき、
前記第2の光源及び前記合成手段は、前記所定の軸を中心に一体となって回転でき、
前記第1のホルダ及び前記第2のホルダは、同じ半径を有する円柱形状の部材であること、
を特徴とする光源装置。 - 前記第1のビームを集光する第1の集光手段を、
更に備え、
前記所定の軸は、前記第1の集光手段の光軸であること、
を特徴とする請求項1に記載の光源装置。 - 前記合成手段に入射する前の前記第2のビームを集光する第2の集光手段を、
更に備え、
前記第2の集光手段は、前記所定の軸を中心に、前記第2の光源及び前記合成手段と共に一体となって回転できること、
を特徴とする請求項2に記載の光源装置。 - 前記第1の集光手段は、前記合成手段により合成された前記第1のビーム及び前記第2のビームを集光すること、
を特徴とする請求項2に記載の光源装置。 - 前記合成手段は、ビームスプリッタであること、
を特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の光源装置。 - 前記合成手段は、前記第1のビーム及び前記第2のビームを略同じ方向に進行するように合成すること、
を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の光源装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の光源装置を備えること、
を特徴とする光走査装置。
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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2007
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