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JP4967975B2 - 光源装置及びこれを備えた光走査装置 - Google Patents
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Description

本発明は、光源装置及びこれを備えた光走査装置、より特定的には、複数のレーザビームを出射するレーザダイオードが適用された光源装置及びこれを備えた光走査装置に関する。
光走査装置において、感光体への記録速度を向上させるために、一度に複数本のレーザビームを走査して複数の記録ラインを同時に記録させるマルチビーム走査装置が提案されている。このマルチビーム走査装置では、一つのレーザダイオードが複数のレーザビームを出射している。
ところで、前記マルチビーム走査装置では、各レーザビームの感光体上における照射位置の間隔(以下、ビームピッチ)の調整や維持が重要である。ビームピッチの調整としては、主走査方向のビームピッチの調整と副走査方向のビームピッチの調整とがある。この内、主走査方向のビームピッチの調整については、レーザダイオードの発光タイミングを調整することにより、比較的容易に調整できる。一方、副走査方向のビームピッチの調整については、レーザダイオードの発光タイミングでは調整できない。そのため、副走査方向のビームピッチの調整をいかに行うかが非常に重要な問題となっている。
そこで、副走査方向のビームピッチの調整を行うものとして、特許文献1や特許文献2に記載のマルチビーム光源装置が提案されている。該マルチビーム光源装置には、複数のレーザビームを出射できるレーザダイオードが複数設けられている。そして、それぞれのレーザダイオードを回転させることにより、副走査方向のビームピッチの調整を行っている。
しかしながら、特許文献1に記載のマルチビーム光源装置では、以下に説明するように、その構成が複雑になってしまうという問題があった。具体的には、該マルチビーム光源装置では、2つのレーザダイオードが、それぞれ別々のホルダに保持された状態で並べて配置されている。副走査方向のビームピッチの調整が行われる際には、2つのホルダが別々に回転される。そのため、2つのホルダを回転可能に保持するための機構が、マルチビーム光源装置に2箇所必要になる。該機構は、精度よく作製される必要があるため、複数の該機構が存在していると、マルチビーム光源装置の構成は、複雑化してしまう。
特開2000−75227号公報 特開2003−107380号公報
そこで、本発明の目的は、複雑な構成を用いることなく副走査方向のビームピッチの調整を行うことができる光源装置及びこれを備えた光走査装置を提供することである。
本発明は、光走査装置に用いられる光源装置において、それぞれが複数のビームを出射する第1の光源及び第2の光源と、前記第1の光源が出射した第1のビームと前記第2の光源が出射した第2のビームとを合成する合成手段と、前記第1の光源を保持する第1のホルダと、前記第2の光源及び前記合成手段を保持する第2のホルダと、前記第1のホルダ及び前記第2のホルダを、前記所定の軸を中心に回転可能に保持するベースと、を備え、前記第1の光源、前記第2の光源及び前記合成手段は、所定の軸を中心に回転でき、前記第2の光源及び前記合成手段は、前記所定の軸を中心に一体となって回転でき、前記第1のホルダ及び前記第2のホルダは、同じ半径を有する円柱形状の部材であること、を特徴とする。
本発明によれば、第1の光源、第2の光源及び合成手段は、共通の軸を中心として回転する。そのため、第1の光源、第2の光源及び合成手段を一つの保持機構にて回転可能に保持することができる。これにより、第1の光源、第2の光源及び合成手段のそれぞれに対して別々に保持機構を作製する必要がなくなる。保持機構は、レーザビームの副走査方向におけるビームピッチの調整に用いられるため精度よく作製される必要があるので、保持機構の数が減ることにより、簡単な構成でレーザビームの副走査方向におけるビームピッチの調整を行うことができるようになる。
本発明において、前記第1のビームを集光する第1の集光手段を、更に備え、前記所定の軸は、前記第1の集光手段の光軸であってもよい。
本発明において、前記合成手段に入射する前の前記第2のビームを集光する第2の集光手段を、更に備え、前記第2の集光手段は、前記所定の軸を中心に、前記第2の光源及び前記合成手段と共に一体となって回転できてもよい。
本発明において、前記第1の集光手段は、前記合成手段により合成された前記第1のビーム及び前記第2のビームを集光してもよい。
本発明において、前記合成手段は、ビームスプリッタであってもよい。
本発明において、前記合成手段は、前記第1のビーム及び前記第2のビームを略同じ方向に進行するように合成してもよい。
本発明は、光源装置のみならず、光源装置を備えた光走査装置に対しても適用可能である。
(第1の実施形態)
(光走査装置の構成について)
以下に、本発明の第1の実施形態に係る光源装置及びこれを備えた光走査装置の構成について図面を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る光走査装置10の上視図である。なお、図1において、y軸は、主走査方向を示し、z軸は副走査方向を示す。また、z軸は、鉛直方向とも一致する。
光走査装置10は、図1に示すように、光源装置16、シリンドリカルレンズ18、ポリゴンミラー20、走査レンズ22,24、レンズ26及びセンサ28を備える。光源装置16は、光走査装置10に用いられ、レーザダイオード12a,12b、ビームスプリッタ13及びコリメータレンズ14を含む。
レーザダイオード12aは、複数本(本実施形態では2本)のレーザビームBaを出射する光源としての役割を果たす。レーザダイオード12bは、複数本(本実施形態では2本)のレーザビームBbを出射する光源としての役割を果たす。レーザダイオード12aとレーザダイオード12bとは、互いの光軸が90度の角度をなすように配置されている。
ビームスプリッタ13は、レーザダイオード12aが出射したレーザビームBaとレーザダイオード12bが出射したレーザビームBbとを合成する合成手段として機能する。具体的には、ビームスプリッタ13は、その内部にミラーを含んでおり、レーザダイオード12bが出射したレーザビームBbを反射して、レーザビームBa及びレーザビームBbを略同じ方向に進行するように合成する。
レーザダイオード12a,12bから出射したレーザビームBa,Bbは、拡散光である。そこで、コリメータレンズ14は、レーザダイオード12a,12bから出射したレーザビームBa,Bbを集光する。なお、光源装置16の詳細については、後述する。
シリンドリカルレンズ18は、コリメータレンズ14を通過したレーザビームBa,Bbを、ポリゴンミラー20のミラー面近傍においてz軸方向に集光する。ポリゴンミラー20は、図示しないモーターにより矢印の方向に回転され、シリンドリカルレンズ18を通過してきたレーザビームBa,Bbをy軸方向に等角速度に偏向する偏向手段としての役割を果たす。走査レンズ22,24は、ポリゴンミラー20により偏向されたレーザビームBa,Bbをy軸方向に等速走査して、レーザビームBa,Bbを感光体ドラム32上に結像させる。感光体ドラム32は、所定速度で回転駆動される。これにより、レーザビームBa,Bbによる主走査と感光体ドラム32の回転による副走査によって2次元の静電潜像が形成される。
また、レンズ26は、ポリゴンミラー20により偏向されたレーザビームBa,Bbの内、走査レンズ22のみを通過したレーザビームBa,Bbをセンサ28に集光する。センサ28は、例えば、フォトダイオードにより構成され、レンズ26により集光されたレーザビームBa,Bbを受光する。更に、センサ28は、受光したレーザビームBa,Bbの強度に応じて変動する電圧からなるSOS(Start Of Scan)信号を生成する。SOS信号は、感光体ドラム32への光の走査開始位置を決定するために光走査装置10内で生成される同期信号である。
(光源装置の構成について)
以下に、光源装置16の構成について図面を参照しながら説明する。図2は、光源装置16の斜視図である。図3は、光源装置16に含まれるレーザダイオード12a,12b、ビームスプリッタ13及びコリメータレンズ14の位置関係を示した斜視図である。なお、図3に示すレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13は、図2に示す光源装置16の状態から、コリメータレンズ14の光軸を中心に時計回りに90度回転させて記載されている。
光源装置16は、図2に示すように、レーザダイオード12a,12b、ビームスプリッタ13、コリメータレンズ14、ホルダ40,42及びベース44を含む。レーザダイオード12a,12b、ビームスプリッタ13及びコリメータレンズ14については、既に説明を行ったので、説明を省略する。
ホルダ40は、円柱形状を有し、レーザダイオード12aを保持する部材である。より詳細には、レーザダイオード12aは、円柱形状のホルダ40の一方の底面に埋め込まれるように取り付けられる。円柱形状のホルダ40の他方の底面は、一部に開口を有しており、レーザダイオード12aが出射したレーザビームBaは、該開口から出射する。
ホルダ42は、ホルダ40と同じ半径の円柱形状を有し、レーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を保持する部材である。より詳細には、レーザダイオード12bは、レーザビームBbをホルダ42の中心に向かって出射するように、ホルダ42の側面に取り付けられる。ビームスプリッタ13は、ホルダ42内において、そのミラー面とレーザダイオード12bが出射したレーザビームBbとが45度をなすように配置される。これにより、レーザビームBbは、図3に示すように、ビームスプリッタ13により、コリメータレンズ14側に反射し、レーザビームBaと合成される。レーザビームBa,Bbの進行方向は、コリメータレンズ14の光軸と略一致している。
ベース44は、ホルダ40,42を、コリメータレンズ14の光軸を中心に回転可能に保持する部材である。より詳細には、ベース44には、V字状の断面を有する溝45が形成されている。この溝45には、ホルダ40,42及びコリメータレンズ14が、この順に並ぶように配置されている。より具体的には、ホルダ40,42は、これらの側面が溝45に当接するように配置されている。これにより、ホルダ40,42はそれぞれ、図2に示すように、コリメータレンズ14の光軸を中心に矢印E,Fの方向に回転することができる。換言すれば、図3に示すように、レーザダイオード12aは、コリメータレンズ14の光軸を中心に矢印Eの方向に回転することができると共に、レーザダイオード12b及びビームスプリッタ13は、コリメータレンズ14の光軸を中心に矢印Fの方向に一体となって回転することができる。これにより、レーザビームBa,Bbの副走査方向におけるビームピッチを調整している。
(ビームピッチの調整について)
以下に、レーザビームBa,Bbのビームピッチの調整について図面を参照しながら説明する。図4は、レーザダイオード12aの外観斜視図である。具体的には、図4(a)は、初期状態におけるレーザダイオード12aの外観斜視図であり、図4(b)は、初期状態からθ1だけ回転させた状態(以下、第1の回転状態と称す)のレーザダイオード12aの外観斜視図である。図5は、レーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を示した図である。具体的には、図5(a)は、初期状態におけるレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を示した図である。図5(b)は、初期状態からθ2だけ回転させた状態(以下、第2の回転状態と称す)のレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を示した図である。
まず、レーザビームBaの副走査方向におけるビームピッチの調整について説明する。レーザダイオード12aは、2本のレーザビームBaを出射する。そのため、レーザダイオード12aは、2つの発光点46a,46bを有する。これらの発光点46a,46bの距離は、L1である。初期状態では、副走査方向(z軸方向)における発光点46a,46bの距離は、図4(a)に示すように、発光点46a,46bが副走査方向に並んでいるので、L1である。レーザビームBaは、コリメータレンズ14、シリンドリカルレンズ18、ポリゴンミラー20及び走査レンズ22,24を通過する際に、主走査方向及び副走査方向のそれぞれに変倍されて感光体ドラム32に照射する。従って、初期状態でのレーザビームBaの副走査方向におけるビームピッチは、コリメータレンズ14、シリンドリカルレンズ18、ポリゴンミラー20及び走査レンズ22,24からなる光学系の副走査方向の倍率βとした場合に、βL1で表される。
ここで、レーザダイオード12aをコリメータレンズ14の光軸を中心としてθ1だけ回転させると、図4(b)に示すように、発光点46a,46bもこれらの中点を中心にθ1だけ回転する。これにより、副走査方向における発光点46a,46bの距離は、図4(b)に示すように、L2(=L1cosθ1<L1)となる。その結果、第1の回転状態では、レーザビームBaの副走査方向におけるビームピッチは、βL2(=βL1cosθ1)で表される。以上のように、レーザダイオード12aをコリメータレンズ14の光軸を中心として回転させることにより、レーザビームBaの副走査方向におけるビームピッチを調整することができる。
次に、レーザビームBbの副走査方向におけるビームピッチの調整について説明する。レーザダイオード12bは、2本のレーザビームBbを出射する。そのため、レーザダイオード12bは、2つの発光点48a,48bを有する。これらの発光点48a,48bの距離は、L3(=L1)である。初期状態では、レーザダイオード12bから出射した2本のレーザビームBbはそれぞれ、ビームスプリッタ13のミラー面上の点S1,S2において、コリメータレンズ14側(図5では紙面手前側)に反射する。初期状態では、図5(a)に示すように、点S1,S2が副走査方向に並んでいるので、副走査方向における点S1,S2の距離は、L3である。この後、レーザビームBbは、コリメータレンズ14、シリンドリカルレンズ18、ポリゴンミラー20及び走査レンズ22,24を通過する際に、主走査方向及び副走査方向のそれぞれに変倍されて感光体ドラム32に照射する。従って、初期状態でのレーザビームBbの副走査方向におけるビームピッチは、コリメータレンズ14、シリンドリカルレンズ18、ポリゴンミラー20及び走査レンズ22,24からなる光学系の副走査方向の倍率βとした場合に、βL3で表される。
ここで、レーザダイオード12b及びビームスプリッタ13をコリメータレンズ14の光軸を中心としてθ2だけ回転させると、図5(b)に示すように、発光点48a,48bもこれらの中点を中心にθ2だけ回転する。これにより、副走査方向における点S1,S2の距離は、図5(b)に示すように、L4(=L3cosθ2<L3)となる。その結果、第2の回転状態では、レーザビームBbの副走査方向におけるビームピッチは、βL4(=βL3cosθ2)で表される。すなわち、レーザダイオード12b及びビームスプリッタ13をコリメータレンズ14の光軸を中心として回転させることにより、レーザビームBbの副走査方向におけるビームピッチを調整することができる。
(効果について)
以上のような光源装置16及びこれを備えた光走査装置10によれば、レーザダイオード12a,12b及びビームスプリッタ13は、共通の軸を中心として回転する。そのため、これらを保持するホルダ40,42のそれぞれの半径を等しくすれば、ホルダ40,42を一つの溝45にて回転可能に保持することができる。これにより、ホルダ40,42のそれぞれに対して別々に保持機構(例えば、溝)を作製する必要がなくなる。ホルダ40,42の保持機構は、レーザビームBa,Bbの副走査方向におけるビームピッチの調整に用いられるため精度よく作製される必要があるので、保持機構の数が減ることにより、簡単な構成でレーザビームBa,Bbの副走査方向におけるビームピッチの調整を行うことができるようになる。
(変形例)
図6は、光源装置16の変形例に係る光源装置16aの外観斜視図である。なお、光源装置16aでは、コリメータレンズ14は省略した。
図6に示す光源装置16aのように、レーザダイオード12aを保持するホルダ40aとレーザダイオード12b及びビームスプリッタ13を保持するホルダ42aとは、同じ半径を有する円柱形状に形成され、円筒形状のベース44a内に回転可能に挿入される。これによっても、一つの保持機構によりレーザダイオード12a,12b及びビームスプリッタ13を回転可能に保持することが可能となる。また、円筒形状のベース44a内にホルダ40a,42aが挿入されているので、ホルダ40a,42aがより安定して保持されるようになる。
(第2の実施形態)
以下に、本発明の第2の実施形態に係る光源装置及びこれを備えた光走査装置の構成について図面を参照しながら説明する。図7は、第2の実施形態に係る光走査装置10aの上視図である。なお、図7において、y軸は、主走査方向を示し、z軸は副走査方向を示す。また、z軸は、鉛直方向とも一致する。
光走査装置10aは、光源装置16bの構成において光走査装置10と相違点を有する。以下に、相違点である光源装置16bについて説明する。図8は、光源装置16bに含まれるレーザダイオード12a,12b、ビームスプリッタ13及びコリメータレンズ14a,14bの位置関係を示した斜視図である。なお、光走査装置10aの他の構成要素については、光走査装置10の他の構成要素と同じであるので説明を省略する。
光源装置16bと光源装置16とは、レンズの枚数及び位置において相違点を有する。具体的には、光源装置16では、コリメータレンズ14は、図1に示すように、ビームスプリッタ13を通過したレーザビームBa,Bbを集光していた。一方、光源装置16bでは、図7及び図8に示すように、コリメータレンズ14a,14bが設けられている。コリメータレンズ14aは、ビームスプリッタ13に入射する前のレーザビームBaを集光する。コリメータレンズ14bは、ビームスプリッタ13に入射する前のレーザビームBbを集光する。そのため、コリメータレンズ14aは、レーザダイオード12aとビームスプリッタ13との間に配置され、コリメータレンズ14bは、レーザダイオード12bとビームスプリッタ13との間に配置されている。
更に、本実施形態に係る光源装置16bでは、レーザダイオード12aが、コリメータレンズ14aの光軸を中心として回転すると共に、レーザダイオード12b、コリメータレンズ14b及びビームスプリッタ13が、コリメータレンズ14aの光軸を中心として一体となって回転する。これによっても、光源装置16と同様に、レーザビームBa,Bbの副走査方向におけるビームピッチを調整することができる。
なお、本実施形態に係る光源装置16bにおいて用いられるホルダ及びベースは、光源装置16,16aと同様に、図2又は図6に示される。ただし、ホルダ40,40aは、レーザダイオード12a及びコリメータレンズ14aを保持し、ホルダ42,42aは、レーザダイオード12b、ビームスプリッタ13及びコリメータレンズ14bを保持する。
(その他の実施形態)
なお、本発明に係る光源装置16,16a,16b及びこれを備えた光走査装置10,10aは、前記実施形態に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することができる。
なお、光源装置16,16aは、コリメータレンズ14を含んでいるものとしたが、コリメータレンズ14は、必ずしも光源装置16,16aに含まれていなくてもよい。従って、例えば、コリメータレンズ14は、光源装置16,16a外であって、光走査装置10内に設けられていてもよい。
第1の実施形態に係る光走査装置の上視図である。 第1の実施形態に係る光源装置の斜視図である。 光源装置に含まれるレーザダイオード、ビームスプリッタ及びコリメータレンズの位置関係を示した斜視図である。 レーザダイオードの外観斜視図である。 レーザダイオード及びビームスプリッタを示した図である。 変形例に係る光源装置の外観斜視図である。 第2の実施形態に係る光走査装置の上視図である。 第2の実施形態に係る光源装置に含まれるレーザダイオード、ビームスプリッタ及びコリメータレンズの位置関係を示した斜視図である。
符号の説明
10,10a 光走査装置
12a,12b レーザダイオード
13 ビームスプリッタ
14,14a,14b コリメータレンズ
16,16a,16b 光源装置
18 シリンドリカルレンズ
20 ポリゴンミラー
22,24 走査レンズ
26 レンズ
28 センサ
32 感光体ドラム
40,40a,42,42a ホルダ
44,44a ベース
45 溝
46a,46b,48a,48b 発光点
Ba,Bb レーザビーム

Claims (7)

  1. 光走査装置に用いられる光源装置において、
    それぞれが複数のビームを出射する第1の光源及び第2の光源と、
    前記第1の光源が出射した第1のビームと前記第2の光源が出射した第2のビームとを合成する合成手段と、
    前記第1の光源を保持する第1のホルダと、
    前記第2の光源及び前記合成手段を保持する第2のホルダと、
    前記第1のホルダ及び前記第2のホルダを、前記所定の軸を中心に回転可能に保持するベースと、
    を備え、
    前記第1の光源、前記第2の光源及び前記合成手段は、所定の軸を中心に回転でき
    前記第2の光源及び前記合成手段は、前記所定の軸を中心に一体となって回転でき、
    前記第1のホルダ及び前記第2のホルダは、同じ半径を有する円柱形状の部材であること、
    を特徴とする光源装置。
  2. 前記第1のビームを集光する第1の集光手段を、
    更に備え、
    前記所定の軸は、前記第1の集光手段の光軸であること、
    を特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記合成手段に入射する前の前記第2のビームを集光する第2の集光手段を、
    更に備え、
    前記第2の集光手段は、前記所定の軸を中心に、前記第2の光源及び前記合成手段と共に一体となって回転できること、
    を特徴とする請求項に記載の光源装置。
  4. 前記第1の集光手段は、前記合成手段により合成された前記第1のビーム及び前記第2のビームを集光すること、
    を特徴とする請求項に記載の光源装置。
  5. 前記合成手段は、ビームスプリッタであること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項のいずれかに記載の光源装置。
  6. 前記合成手段は、前記第1のビーム及び前記第2のビームを略同じ方向に進行するように合成すること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項のいずれかに記載の光源装置。
  7. 請求項1ないし請求項のいずれかに記載の光源装置を備えること、
    を特徴とする光走査装置。
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