JP4993137B2 - Surface plate fixing structure - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、検査装置等において被検査物を保持する位置決めステージを支持する定盤をベースに固定する定盤固定構造に関するものである。 The present invention relates to a surface plate fixing structure that fixes a surface plate that supports a positioning stage that holds an object to be inspected in an inspection apparatus or the like to a base.
検査装置等において被検査物を保持する位置決めステージは定盤に固定されるが、この定盤はベースに固定される。
ところで、半導体検査装置における位置決めステージにおいては、被検査物である半導体ウェハを極めて高精度、例えばナノオーダの位置精度で位置決めする必要がある。そして、このようなステージが支持固定される定盤を固定するベースが、定盤とは線膨張率の異なる材質で形成される場合がある。
このようなステージ支持装置を模式的に示せば図5(a)の通りである。
この図において、51は被検査物を保持する位置決めステージであり、このステージ51は定盤52上に支持固定され、定盤面上を少なくともX軸,Y軸方向(図中左右方向及び図示面に対して垂直方向)に移動可能である。そしてこの定盤52はベース53に複数のボルト54を用いて固定されている。
ここで、上記のように定盤52及びベース53(各材質)の線膨張率が異なっていると、例えば定盤52の線膨張率がベース53の線膨張率より大きいと、温度上昇時に図5(b)に示すように歪みを発生する。図示例では、ミクロンオーダでの歪み(Z軸方向誤差α、ヨー/ピッチ方向誤差β)が発生する。このため高精度な、換言すれば維持費の高い温度調整が必要となった。
In an inspection apparatus or the like, a positioning stage that holds an object to be inspected is fixed to a surface plate, and this surface plate is fixed to a base.
By the way, in a positioning stage in a semiconductor inspection apparatus, it is necessary to position a semiconductor wafer as an object to be inspected with extremely high accuracy, for example, nano-order positional accuracy. And the base which fixes the surface plate by which such a stage is supported and fixed may be formed with the material from which a linear expansion coefficient differs from a surface plate.
Such a stage support device is schematically shown in FIG.
In this figure, 51 is a positioning stage for holding an object to be inspected, and this
Here, if the linear expansion coefficients of the
上記のような歪み発生の問題を解消し得る類似の技術としては、従来、特許文献1に記載するようなものがあった。これは精密機器の支持構造に係るものであるが、膨張係数の異なる材質のプレートを2以上積み重ねると共に、各プレートの膨張係数が段階的に順次異なるように積み重ねるというものである。 As a similar technique capable of solving the above-described problem of distortion generation, there has conventionally been one described in Patent Document 1. This is related to the support structure for precision instruments, in which two or more plates made of materials having different expansion coefficients are stacked, and the plates are stacked so that the expansion coefficients of the plates are sequentially different.
しかしながら特許文献1に記載の従来技術では、全体の重量が大きくなり、また、中間層のプレートについてはその表面の冷却ができず、効率のよい冷却ができなかった。 However, in the prior art described in Patent Document 1, the entire weight is increased, and the surface of the intermediate layer plate cannot be cooled, so that efficient cooling cannot be performed.
本発明は、上記のような実情に鑑みなされたもので、定盤及びベースの線膨張率が異なっていても歪みを生じさせず、したがって高精度な温度調整を必要とせず、かつ、重量を大きくすることがなく、また冷却作用を妨げずに効率よく冷却できる定盤固定構造を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and does not cause distortion even if the linear expansion coefficients of the surface plate and the base are different. Therefore, high-precision temperature adjustment is not required, and the weight is reduced. It is an object of the present invention to provide a surface plate fixing structure that can be efficiently cooled without increasing the size and without disturbing the cooling action.
上記課題は、定盤固定構造を下記各態様の構成とすることによって解決される。
各態様は、請求項と同様に、項に区分し、各項に番号を付し、必要に応じて他の項の番号を引用する形式で記載する。これは、あくまでも本発明の理解を容易にするためであり、本明細書に記載の技術的特徴及びそれらの組合わせが以下の各項に記載のものに限定されると解釈されるべきではない。また、1つの項に複数の事項が記載されている場合、それら複数の事項を常に一緒に採用しなければならないわけではなく、一部の事項のみを取り出して採用することも可能である。
The said subject is solved by making a surface plate fixing structure the structure of each following aspect.
As with the claims, each aspect is divided into sections, each section is numbered, and is described in a form that cites the numbers of other sections as necessary. This is merely for the purpose of facilitating the understanding of the present invention, and the technical features described in this specification and combinations thereof should not be construed as being limited to those described in the following sections. . In addition, when a plurality of items are described in one section, it is not always necessary to employ the plurality of items together, and it is also possible to take out only a part of the items and employ them.
以下の各項のうち、(1)項が請求項1に、(2)項が請求項2に、(4)項が請求項3に、(5)項が請求項4に、各々対応する。(3)項は請求項に係る発明ではない。 Of following sections (1) term in the claim 1, (2) term in claim 2, item (4) to the claim 3, (5) term in claim 4, each corresponding To do. Item ( 3 ) is not a claimed invention.
(1)位置決めステージを移動可能に支持する定盤をベースに固定する定盤固定構造であって、前記定盤は、この定盤の前記ベースへの固定面の中心から等距離にあって、かつその中心を回転中心として等角度間隔置いた複数箇所に各々位置決めされた複数のアタッチメントを介して前記べースに固定され、各アタッチメントは、その位置と前記定盤の固定面の中心とを結ぶ直線に沿う方向についての剛性が前記定盤の剛性よりも低い剛性を有して構成され、各アタッチメントの前記定盤及び前記ベースとの固定は締結具による締結であり、各アタッチメントには、その締結具の締結作業のための開放部が形成されていることを特徴とする定盤固定構造。
定盤のベースへの固定面の中心を回転中心として120°間隔置いた3箇所にアタッチメントを置けば、X軸及びY軸の2軸方向(回転方向を含む。)へ移動する位置決めステージについて、最小数のアタッチメントで大きな効果を上げることができる。
1軸方向のみ移動する位置決めステージにあっては、アタッチメントは定盤のベースへの固定面の中心を回転中心として180°間隔置いた少なくとも2箇所に置けばよい。
締結具としてはボルト、特に六角穴付きボルトが好適であり、この場合、開放部は、ボルトを締結する(又は緩める)際に、六角棒レンチの先端をボルトの六角穴まで通す空間として機能する。
(2)各アタッチメントは、定盤の固定面の中心を回転中心とする回転方向に沿う方向についての剛性が、アタッチメントの位置と定盤の固定面の中心とを結ぶ直線に沿う方向についての剛性よりも高い剛性を有して構成されることを特徴とする(1)項に記載の定盤固定構造。
アタッチメントの剛性は、アタッチメント全体の剛性を指す。
(3)各アタッチメントは、定盤のベッセル点に位置決めされていることを特徴とする(1)項又は(2)項に記載の定盤固定構造。
この(3)項に記載の定盤固定構造によれば、定盤の全長の誤差が最小になる支持が可能となる。
(4)前記定盤のベースへの固定面の中心位置でこれら定盤及びベースを連結し、前記定盤及びベース間における前記固定面のX軸,Y軸方向の相対的な揺れを吸収する支持体を具備することを特徴とする(1)項、(2)項又は(3)項に記載の定盤固定構造。
(5)前記支持体は、上連結部と下連結部に2分割され、両連結部が、可撓性を有する円板を介在させて一体化されてなることを特徴とする(4)項に記載の定盤固定構造。
円板の可撓性は、材質の選択の他、その面積に対する厚みの設定によっても調整できる。通常は、面積を大きくできないので、薄い円板が使用される。
(1) A surface plate fixing structure for fixing to a base a surface plate that movably supports the positioning stage, and the surface plate is equidistant from the center of the fixing surface of the surface plate to the base, And it is fixed to the base via a plurality of attachments each positioned at a plurality of positions at equal angular intervals with the center as the rotation center, and each attachment has its position and the center of the fixed surface of the surface plate. The rigidity in the direction along the straight line to be connected is lower than the rigidity of the surface plate, and the attachment of each attachment to the surface plate and the base is fastening by a fastener, plate fixing structure, wherein Rukoto opening portion is formed for the fastening operation of the fastener.
With respect to a positioning stage that moves in two axial directions (including the rotation direction) of the X axis and the Y axis if attachments are placed at three positions spaced 120 ° apart from the center of the fixed surface to the base of the surface plate, A minimum effect can be achieved with the minimum number of attachments.
In a positioning stage that moves only in one axial direction, the attachments may be placed in at least two places spaced by 180 ° with the center of the surface fixed to the base of the surface plate as the center of rotation.
As the fastener, a bolt, particularly a hexagon socket head bolt, is preferable. In this case, the opening functions as a space through which the tip of the hexagon stick wrench passes to the hexagon hole of the bolt when the bolt is fastened (or loosened). .
(2) Each attachment is rigid in the direction along the rotation direction with the center of the fixed surface of the surface plate as the center of rotation, and in the direction along the straight line connecting the position of the attachment and the center of the fixed surface of the surface plate. The platen fixing structure according to item (1), characterized in that the platen has a higher rigidity.
The rigidity of the attachment refers to the rigidity of the entire attachment.
( 3 ) The surface plate fixing structure according to (1) or (2) , wherein each attachment is positioned at a vessel point of the surface plate.
According to the surface plate fixing structure described in the item ( 3 ), it is possible to support the surface plate with the smallest total length error.
( 4 ) The surface plate and the base are connected to each other at the center position of the fixed surface to the base of the surface plate to absorb relative shaking in the X-axis and Y-axis directions of the fixed surface between the surface plate and the base. characterized by comprising a support (1) term, (2) or (3) plate fixing structure of the mounting serial to term.
( 5 ) The support is divided into two parts, that is, an upper connecting part and a lower connecting part, and both connecting parts are integrated with a flexible disk interposed therebetween ( 4 ). The platen fixed structure described in 1.
The flexibility of the disc can be adjusted by selecting the material and setting the thickness for the area. Usually, a thin disk is used because the area cannot be increased.
(1)項に記載の発明によれば、位置決めステージを移動可能に支持する定盤をベースに固定する定盤固定構造において、定盤及びベースの線膨張率が異なっていても歪みを生じさせず、したがって高精度な温度調整を必要とせず、かつ、重量を大きくすることがなく、また冷却作用を妨げずに効率よく冷却できる。
更に、アタッチメントを用いた定盤のベースへの固定作業が簡単になる。
(2)項に記載の発明によれば、ステージの移動時の加減速による定盤の振動を低減できる。
(4)項に記載の発明によれば、定盤のベースへの固定面のX軸,Y軸方向の揺れ、固定面中心の位置ずれをなくすことができる。
(5)項に記載の発明によれば、アタッチメントの高さ寸法に対する支持体の高さ寸法の設定や、支持体の定盤、ベースへのボルト止め時の高さ調整に余裕を持たせることができる。
なお、(3)項に記載の発明は、本発明(特許請求の範囲に記載した発明)ではないので、上記課題を解決するための手段の欄に、その効果を述べた。
According to the invention described in item (1), in the surface plate fixing structure in which the surface plate that movably supports the positioning stage is fixed to the base, distortion occurs even if the linear expansion coefficients of the surface plate and the base are different. Therefore, highly accurate temperature adjustment is not required, the weight is not increased, and cooling can be efficiently performed without impeding the cooling action.
Furthermore , the fixing work to the base of the surface plate using an attachment becomes easy.
According to the invention described in the item (2), the vibration of the surface plate due to acceleration / deceleration during the movement of the stage can be reduced.
According to the invention described in ( 4 ), it is possible to eliminate the shaking of the fixed surface to the base of the surface plate in the X-axis and Y-axis directions and the positional deviation of the fixed surface center.
According to the invention described in the item ( 5 ), there is a margin for setting the height of the support relative to the height of the attachment, and for adjusting the height of the support on the surface plate and bolting to the base. Can do.
Since the invention described in item ( 3 ) is not the present invention (the invention described in the claims), the effect is described in the column of means for solving the above problems.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。なお、各図間において、同一符号は同一又は相当部分を示す。
図1は本発明による定盤固定構造の第1実施形態が適用されたステージ支持装置を示す正面図、図2は図1におけるA−A線断面矢視図である。
図1に示すように、ステージ支持装置は、被検査物Wを少なくともX軸及びY軸方向(図中左右方向及び図示面に対して垂直方向)に移動可能に保持する位置決めステージ(以下、ステージと略記する。)11を支持する装置で、定盤12及びベース13を備えて構成される。
ここで、ステージ11は定盤12の上面に支持固定され、定盤12はベース13上に固定されている。定盤12のベース13への固定は、以下に述べる定盤固定構造によってなされている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol shows the same or an equivalent part between each figure.
FIG. 1 is a front view showing a stage support device to which a first embodiment of a surface plate fixing structure according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
As shown in FIG. 1, the stage support device is a positioning stage (hereinafter, stage) that holds the workpiece W so as to be movable in at least the X-axis and Y-axis directions (the left-right direction in the figure and the direction perpendicular to the illustrated surface). This is a device that supports 11 and includes a
Here, the
すなわち定盤固定構造は、第1実施形態では図3に取り出し、拡大して示すアタッチメント14がその主構成をなすもので、定盤12はこのアタッチメント14を介してベース13に固定される。この固定は、締結具、図示例ではボルト15を用いた締結により行われる。
図3及び図2から分かるように、アタッチメント14は、所定間隔を置いて対向する一対の円形の上面板14a及び下面板14bと、これら上面板14a及び下面板14bの上記間隔を保持する一対の間隔板14cとからなる。
That is, in the first embodiment, the surface plate fixing structure is an
As can be seen from FIGS. 3 and 2, the
一対の間隔板14cは、上面板14a及び下面板14bの各中心位置に穿設された貫通孔14dを挟んで対向する位置にある。この一対の間隔板14cの相互間隔は、上面板14a及び下面板14bの各貫通孔14dにボルト15を挿通させて、上面板14aを定盤12に、下面板14bをベース13に各々締結する作業用の開放部14eとして機能し、ボルト締結作業をし易くする。
図示例では、ボルト15は六角穴付きボルトであり、その締付けや緩めを行う六角棒レンチの先端は、上記開放部14eを通してボルト15の六角穴15aに容易に填め込める。
The pair of
In the illustrated example, the
アタッチメント14は、図2から分かるように、定盤12のベース13への固定面(図中、下面)12aの中心Oから等しい距離L1にあって、かつその中心Oを回転中心として等しい角度間隔θ1置いた複数箇所に各々位置決めされている。図示例では、上記中心Oを回転中心として各々120°(=θ1)の間隔を置いた3箇所に各々位置決めされている。また、各アタッチメント14は、その位置と上記定盤12の固定面12aの中心Oとを結ぶ直線L0に沿う方向についての剛性が定盤12の剛性よりも低い剛性を有して構成されている。
このように構成したのは、定盤12及びベース13(各材質)の線膨張率差に起因して定盤12が変形しても、中心Oからの位置を確保しながらヨー/ピッチ方向の誤差を0に、Z軸方向の変位を著しく小さくするためである。
図4(a)、(b)にこの様子を模式的に示す。図4(a)は定盤12及びベース13が線膨張率差の影響を受けていない状態を示す。図4(b)は、温度上昇して線膨張が生じ、この際、定盤12の線膨張率がベース13の線膨張率より大きくても、その差をアタッチメント14が吸収し、図5(b)に示すような歪み(Z軸方向誤差α、ヨー/ピッチ方向誤差β)が発生していないことを示す。
As can be seen from FIG. 2, the
The reason for this is that even if the
FIGS. 4A and 4B schematically show this state. FIG. 4A shows a state where the
また各アタッチメント14は、定盤12の固定面12aの中心Oを回転中心とする回転方向に沿う方向についての剛性が次のようになされている。すなわち同剛性は、アタッチメント14の位置と定盤12の固定面12aの中心Oとを結ぶ直線L0に沿う方向についての剛性よりも高い剛性を有して構成されている。これは、ステージ11の移動時の加減速による定盤12の振動を低減するためである。
Each
なお、上記アタッチメント14について、その数、定盤12のベース13への固定面12aの中心Oからの距離L1、同中心Oを回転中心とする角度間隔θ1は、図2に示す例のみに限定されないことは勿論である。定盤12のベース13への固定面12aの中心Oから等しい距離L1にあって、かつその中心Oを回転中心として等しい角度間隔θ1置いた複数箇所に位置決めされる構成であれば、そのいずれでもよい。
アタッチメント14の位置が定盤12のベッセル点に設定可能であれば、ベッセル点に位置決めする。ベッセル点に位置決めすれば、定盤12の全長の誤差が最小になる支持を可能とする。
The number of the
If the position of the
以上述べたように第1実施形態では、ステージ11を移動可能に支持する定盤12をベース13に固定する定盤固定構造としてアタッチメント14を用い、このアタッチメント14を次のように配置、構成した。すなわち、定盤12の固定面12aの中心Oから等しい距離L1にあって、かつその中心Oを回転中心として等しい角度間隔120°を置いた3箇所に位置決めされたアタッチメント14を介して定盤12をべース13に締結、固定した。そして、各アタッチメント14を、その位置と定盤12の固定面12aの中心Oとを結ぶ直線L0に沿う方向についての剛性が定盤12の剛性よりも低い剛性を有して構成した。
これによれば、定盤12及びベース13の線膨張率差に起因して定盤12が変形(熱膨張)しても、中心Oからの位置を確保しながらヨー/ピッチ方向の誤差を0に、Z軸方向の変位を著しく小さくできる。したがって高精度な、換言すれば維持費の高い温度調整が不要となる。更に、膨張係数の異なる材質のプレートを重ねる従来技術に比べて軽量で、かつ、定盤12及びべース13間の温度調整用の通風が可能となって効率よく冷却できる。
As described above, in the first embodiment, the
According to this, even if the
また第1実施形態によれば、各アタッチメント14を、定盤12の固定面12aの中心Oを回転中心とする回転方向に沿う方向についての剛性が、アタッチメント14の位置と上記中心Oとを結ぶ直線L0に沿う方向についての剛性よりも高く構成したので、ステージ11移動時の加減速による定盤12の振動を低減できる。
更に第1実施形態によれば、アタッチメント14にボルト締結作業のための開放部14eを設けたので、ボルト15によって上面板14aを定盤12に、下面板14bをベース13に各々締結させる作業、つまり、アタッチメント14を用いた定盤12のベース13への固定作業が容易になる。
Further, according to the first embodiment, the rigidity of each
Furthermore, according to the first embodiment, since the
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図6は本発明による定盤固定構造の第2実施形態が適用されたステージ支持装置を示す正面図、図7は図6におけるB−B線断面矢視図である。
これら図6及び図7に示すように、第2実施形態では、定盤12及びベース13を連結する支持体41を備える。この支持体41による上記連結は、図示例では締結具、例えばボルト15を用いた締結により行われる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 6 is a front view showing a stage support device to which the second embodiment of the surface plate fixing structure according to the present invention is applied, and FIG. 7 is a sectional view taken along the line BB in FIG.
As shown in FIGS. 6 and 7, the second embodiment includes a
図8に取り出し拡大して示すように、支持体41は、定盤12及びベース13に各別にボルト止めするための上下の取付基部41a,41bと、これら上下の取付基部41a,41b相互を連結する連結部41cとからなる。図示例では、連結部41cは円筒状をなし、上取付基部41aは円筒状の連結部41cの上端を塞ぐように円板状をなし、下取付基部41bは円筒状の連結部41cの下端から周囲に延出する鍔状をなし、一体に形成されている。
そして、上取付基部41aには1個の、下取付基部41bには2〜4個の貫通孔41dが穿設され、各貫通孔41dにボルト15を挿通させて、上取付基部41aを定盤12に、下取付基部41bをベース13に各々締結することにより、定盤12及びベース13を連結している。
図6から分かるように、支持体41の高さ寸法はアタッチメント14の高さ寸法と同一である。
As shown in FIG. 8 and enlarged, the
The
As can be seen from FIG. 6, the height of the
この支持体41は、図7から分かるように、定盤12のベース13への固定面12aの中心位置に位置決めされ、同位置において定盤12及びベース13を連結している。
またこの支持体41は、材質の選択や各部寸法の設定等によって、特に可撓性を有する材質を用いることにより、定盤12及びベース13間における固定面12aのX軸,Y軸方向の相対的な揺れ(横揺れ)を吸収可能になされている。
As can be seen from FIG. 7, the
Further, the
このように構成したのは、次の理由による。
前述第1実施形態では、定盤12上に高加減速荷重を伴うステージ11等を搭載する場合に、定盤12のベース13への固定面12a中心Oを回転中心とする回転方向(図9中の矢印アに示す方向)には剛性が高い。しかし、図9中の固定面12aのX軸,Y軸方向、つまり横方向の剛性は低く、したがって定盤12が横揺れし、また微小ではあるが中心Oがずれる虞がある。
The reason for this configuration is as follows.
In the first embodiment, when the
第2実施形態では、定盤12のベース13への固定面中心位置(定盤12の中心)でこれら定盤12及びベース13を連結し、前記固定面12aの横揺れを吸収可能に、例えば可撓性を有する材質で形成された支持体41を設けた。つまり、定盤12の熱膨張による変形を阻害することなしに、定盤12上のステージ11に加わる前記固定面12aのX軸,Y軸方向の加減速荷重(例えば図10中の矢印イに示す横荷重)G、特に急激な加減速荷重を支持体41が受け止め、定盤12の熱変形の起点が厳密に定盤12中心が起点となるように構成した。
これによれば、第1実施形態による効果に加えて、上述したような定盤12の横揺れ、中心Oの位置ずれをなくすことができる。
In the second embodiment, the
According to this, in addition to the effects of the first embodiment, it is possible to eliminate the rolling of the
なお上述第2実施形態では、支持体41を単体部品で構成したがこれのみに限定されることはない。例えば図11に示すように、支持体41を、上連結部41eと下連結部41fに2分割し、両連結部41e,41fを、可撓性を有する薄い円板41gを介在させて一体化した構成であってもよい。
このように支持体41を構成すれば、薄い円板41gの板面に交差する方向の撓みによって高さ寸法(図中、上下方向の寸法)に若干の自由度を持たせることができる。したがって図6において、アタッチメント14の高さ寸法に対する支持体41の高さ寸法の設定や、支持体41の定盤12、ベース13へのボルト止め時の高さ調整に余裕を持たせることができる。
固定面12aのX軸,Y軸方向の加減速荷重G(例えば図10中の矢印イ参照)は、薄い円板41gの板面に沿った方向の弾性(撓み)によって受け止められる。
なお図11において、図8中の構成部分と同一又は相当部分には同一符号を付してその説明を省略した。
In the second embodiment described above, the
If the
The acceleration / deceleration load G in the X-axis and Y-axis directions of the fixed
In FIG. 11, the same or corresponding parts as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
11:ステージ、12:定盤、13:ベース、14:アタッチメント、15:ボルト(締結具)、41:支持体、41a,41b:取付基部、41c:円筒状の連結部、41d:貫通孔、41e,41f:連結部。 11: Stage, 12: Surface plate, 13: Base, 14: Attachment, 15: Bolt (fastener), 41: Support, 41a, 41b: Mounting base, 41c: Cylindrical connecting part, 41d: Through hole, 41e, 41f: connecting portions.
Claims (4)
前記定盤は、この定盤の前記ベースへの固定面の中心から等距離にあって、かつその中心を回転中心として等角度間隔置いた複数箇所に各々位置決めされた複数のアタッチメントを介して前記べースに固定され、
各アタッチメントは、その位置と前記定盤の固定面の中心とを結ぶ直線に沿う方向についての剛性が前記定盤の剛性よりも低い剛性を有して構成され、
各アタッチメントの前記定盤及び前記ベースとの固定は締結具による締結であり、各アタッチメントには、その締結具の締結作業のための開放部が形成されていることを特徴とする定盤固定構造。 A surface plate fixing structure that fixes a surface plate that supports the positioning stage so as to be movable to the base,
The surface plate is equidistant from the center of the surface fixed to the base of the surface plate, and the plurality of attachments are positioned respectively at a plurality of positions spaced at equal angular intervals with the center as the rotation center. Fixed to the base,
Each attachment is configured to have a rigidity in a direction along a straight line connecting the position and the center of the fixed surface of the surface plate is lower than the rigidity of the surface plate ,
Fixation between the plate and the base of each attachment are fastened by fasteners, each attachment plate fixed structure, characterized in Rukoto opening portion is formed for the fastening operation of the fastener .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008223278A JP4993137B2 (en) | 2007-12-28 | 2008-09-01 | Surface plate fixing structure |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007339507 | 2007-12-28 | ||
| JP2007339507 | 2007-12-28 | ||
| JP2008223278A JP4993137B2 (en) | 2007-12-28 | 2008-09-01 | Surface plate fixing structure |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009174706A JP2009174706A (en) | 2009-08-06 |
| JP4993137B2 true JP4993137B2 (en) | 2012-08-08 |
Family
ID=41029995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008223278A Expired - Fee Related JP4993137B2 (en) | 2007-12-28 | 2008-09-01 | Surface plate fixing structure |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP4993137B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6159706B2 (en) * | 2014-12-16 | 2017-07-05 | 株式会社ポリシス | Vibration reduction device |
| CN104595657A (en) * | 2014-12-25 | 2015-05-06 | 贵州黔程天力智能科技有限公司 | Levelness-adjustable receiver supporting base based on tapered damping elements |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5229285Y2 (en) * | 1971-10-25 | 1977-07-05 | ||
| JPS5639798Y2 (en) * | 1977-03-26 | 1981-09-17 | ||
| JPH0735194A (en) * | 1993-07-20 | 1995-02-03 | Mitsubishi Electric Corp | Anti-vibration support structure |
| JP3590816B2 (en) * | 1994-10-17 | 2004-11-17 | 株式会社ニコン | Support mechanism |
| JPH11251409A (en) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Nikon Corp | Positioning device and exposure device |
| JP2003057419A (en) * | 2001-08-21 | 2003-02-26 | Canon Inc | Optical reflection mirror, method for manufacturing optical reflection mirror, positioning device, method for manufacturing semiconductor device |
| JP4136363B2 (en) * | 2001-11-29 | 2008-08-20 | キヤノン株式会社 | Positioning apparatus and exposure apparatus using the same |
| JP2003324053A (en) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Nikon Corp | Stage equipment and exposure equipment |
| JP2007188251A (en) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Stage apparatus |
-
2008
- 2008-09-01 JP JP2008223278A patent/JP4993137B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009174706A (en) | 2009-08-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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