JP5013373B2 - エックス線遮蔽装置 - Google Patents

Description

本発明は、エックス線遮蔽装置に関し、特に、エックス線透視装置のエックス線の一部が人体に照射されるのを遮るエックス線遮蔽装置に関する。

医療分野においては、従来からエックス線透視装置を用いた診断が行なわれている。
また、近年においては、エックス線透視装置は、診断行為に加えて治療行為にも利用されるようになっている。

例えば、頭部の脳動脈瘤を患っている患者に対しては、従来は、全身麻酔の下、開頭手術により治療するのが一般的であったけれども、近年では、血管内手術による治療が行なわれることも少なくない。血管内手術は、マイクロカテーテルを血管に通すことによって行なわれ、このマイクロカテーテルを血管に通す作業を行なうのに、エックス線透視装置(血管造影装置)が用いられる。このような血管内手術は、人体の切開を伴わず、人体に対する侵襲性がより少ないという利点がある。

ところで、エックス線透視装置を治療に利用する場合には、診断に用いる場合に比較して、人体にエックス線を照射する時間は相対的に長くならざるを得ず、しかも、透視が必要とされる人体部位のみではなく、これに近接して位置する、透視が必要のない部位にまでエックス線が照射されることがある。

このようなエックス線照射による所謂医療被曝、殊に、透視が必要のない部位にまでエックス線が照射されることは、可能な限り防止すべきであることはいうまでもない。この被曝低減措置は、放射線に対する耐性、すなわち、耐容線量が低い人体部位において特に重要であり、例えば、先に例示説明した、頭部に対する血管内手術を行なう場合においては、眼球、特にその水晶体に対する被曝低減措置は白内障予防の観点から極めて重要である。
このような医療被曝の低減を目的としたＸ線遮蔽装置が、特許文献１に開示されている。

特許文献１に開示されているＸ線遮蔽装置は、患者の頭部と、その下方に配置された血管造影装置のＸ線管球との間に設置された鉛遮蔽円板を有する。この遮蔽円板は、ＸＹ面上を移動されると共に、Ｘ軸回りに所望角度傾斜され、この状態で、更にＺ軸回りに回転されるようになっている。そして、Ｘ線管球からＸ線がＺ軸方向に照射されると、回転する遮蔽円板によって構成される或る円形領域が、常時、Ｘ線管球からのＸ線を遮蔽することになる。

特開２００４―４９８４９号公報

上述した従来のＸ線遮蔽装置では、遮蔽円板を、ＸＹ面上を移動させことに加えて、Ｘ軸回りに回動させ、Ｚ軸回りに連続回転させる必要があるので、これらを実行するための機構は複雑である。
また、鉛遮蔽円板はＺ軸方向に立てられ、これをＺ軸回りに連続回転させるための機構を設けなければならないところ、そのための空間を、患者の頭部とＸ線管球との間という限られた空間に提供することは設計上容易ではない。
更に、エックス線源を移動させる際には、作業を一旦中断して、遮蔽円板を所定位置に手作業で位置決めし直さなければならない。

本発明は、上述した課題を解決するために発明されたものであって、空間効率に優れ、エックス線源の移動に連動して遮蔽板を被検体の特定部位を遮蔽するように自動的に移動させることができるエックス線遮蔽装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明によるエックス線遮蔽装置は、前記エックス線源と前記支持部材との間に配置されるエックス線遮蔽板と、該エックス線遮蔽板を支持する支持部を有し、エックス線照射経路を横切る方向に前記支持部の前記遮蔽板を移動させる遮蔽板駆動機構と、前記遮蔽板駆動機構を制御するための制御装置とを有し、該制御装置は、前記支持部材に対して前記エックス線発生器、前記エックス線検出器が移動されたときに前記エックス線源からのエックス線から前記被検体の特定部位を遮蔽するように、前記遮蔽板を移動させるようになっている、ことを特徴とする。

本発明によるエックス線遮蔽装置では、前記遮蔽板駆動機構の前記支持部が、大きさの異なるエックス線遮蔽板を取り替え可能に支持することができるようになっている、のが好ましい。

また、前記制御装置は、前記エックス線遮蔽板を、前記エックス線遮蔽板の中心を位置決めすべき位置であって、前記遮蔽板の移動平面と交差する、前記エックス線源と該エックス線源からのエックス線の照射を遮るべき前記被検体の特定部位の中心とを通って延びる中心線上の遮蔽位置に、移動させるようになっている、のが好ましい。

更に、前記遮蔽位置を決定する遮蔽位置決定手段を有し、前記制御装置が前記遮蔽位置決定手段によって決定された前記遮蔽位置に前記エックス線遮蔽板を移動させるようになっている、のが好ましい。

更にまた、前記遮蔽位置決定手段が、共通基準点に対する前記エックス線源の位置を計測するエックス線源位置測定装置と、前記共通基準点に対する前記遮蔽板駆動機構の位置を計測する遮蔽板駆動機構位置測定装置と、前記共通基準点に対する前記特定部位の位置を計測する非照射部位位置測定装置と、前記エックス線源位置測定装置からのデータと、前記遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、前記非照射部位位置測定装置からのデータとに基づいて前記遮蔽位置を演算処理する演算処理装置とによって構成される、のが好ましい。

また、前記制御装置は、前記エックス線遮蔽板を、前記エックス線遮蔽板の中心を位置決めすべき位置であって、前記遮蔽板の移動平面と交差する、前記エックス線源と前記投影面における前記特定部位の投影像の位置とを通って延びる中心線上の遮蔽位置に、移動させるようになっている、のが好ましい。

更に、前記遮蔽位置を決定する遮蔽位置決定手段を有し、前記制御装置が前記遮蔽位置決定手段によって決定された前記遮蔽位置に前記エックス線遮蔽板を移動させるようになっている、のが好ましい。

更にまた、前記遮蔽位置決定手段が、共通基準点に対する前記エックス線源の位置を計測するエックス線源位置測定装置と、前記共通基準点に対する前記遮蔽板駆動機構の位置を計測する遮蔽板駆動機構位置測定装置と、前記共通基準点に対する、前記投影面における前記特定部位の投影像の位置を測定する非照射部位投影像位置測定装置と、前記エックス線源位置測定装置からのデータと、前記遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、前記非照射部位投影像位置測定装置からのデータとに基づいて前記遮蔽位置を演算処理する演算処理装置とによって構成される、のが好ましい。

また、前記遮蔽位置に位置決めされる前記エックス線遮蔽板の、前記エックス線源からのエックス線の照射を遮るべき前記被検体の前記特定部位に適した大きさを決定するための遮蔽板寸法決定手段を有する、のが好ましい。

更に、前記遮蔽板寸法決定手段が、前記遮蔽位置決定手段と、前記エックス線源と前記前記特定部位の中心とを通って延びる中心線に対して垂直な平面に投影される前記前記特定部位の大きさに関するデータを記憶する非照射部位大きさ記憶装置と、前記遮蔽位置決定手段によって得られたデータ及び眼球大きさ記憶装置からのデータに基づいて当該前記特定部位に適した前記エックス線遮蔽板の大きさを演算処理する演算処理装置とによって構成される、のが好ましい。

更にまた、前記支持部材の前記エックス線遮蔽板を、大きさの異なるエックス線遮蔽板に交換するためのエックス線遮蔽板交換手段を有する、のが好ましい。

また、前記エックス線遮蔽板交換手段が、大きさの異なる２つ以上のエックス線遮蔽板を解放自在に保持する遮蔽板ラックを有し、前記支持部が前記エックス線遮蔽板を解放自在に支持することができるように構成され、前記遮蔽板駆動機構が、前記支持部の前記エックス線遮蔽板を前記遮蔽板ラックに保持させ、前記遮蔽板ラックのエックス線遮蔽板を前記支持部に支持させるように前記支持部を移動させることができるようになっている、のが好ましい。

更に、前記制御装置が、前記エックス線遮蔽板交換手段を制御して、前記支持部の前記エックス線遮蔽板を前記遮蔽板ラックに保持させ、前記遮蔽板ラックに保持されている、前記遮蔽板寸法決定手段によって決定された大きさのエックス線遮蔽板を前記支持部に支持させる、のが好ましい。

更にまた、前記遮蔽板駆動機構が、前記エックス線遮蔽板を前記エックス線照射経路に沿って移動させることができるようになっている、のが好ましい。
この構成によれば、遮蔽板を、その大きさに応じて、被検体の特定部位へのエックス線の照射を遮蔽するのに最適な位置に位置決めすることができる。

また、前記制御装置に接続された指令入力装置を有するのが好ましい。

更に、前記エックス線源からのエックス線が前記被検体の複数の特定部位に照射されないようにするために前記エックス線遮蔽板を少なくとも２つ有し、これらのエックス線遮蔽板を移動させる各前記遮蔽板駆動機構が、これらのエックス線遮蔽板を前記エックス線照射経路上の異なる位置で前記エックス線照射経路を横切る方向に移動させるようになっているのが好ましい。

本発明によれば、空間効率に優れ、エックス線源の移動に連動して遮蔽板を被検体の特定部位を遮蔽するように自動的に移動させることができるエックス線遮蔽装置を提供することができる。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。本実施形態は、本発明のエックス線透視装置を血管造影装置に適用したものである。

図１及び図２を参照すると、既知の構造の血管造影装置が全体的に参照番号１で概略的に示されている。

この血管造影装置１はＣ字形の固定アーム２を有し、このアーム２の下部にはエックス線発生器３が取り付けられ、エックス線発生器３はエックス線源Ｓを備えている。アーム２の上部にはエックス線検出器４が取り付けられ、このエックス線検出器４は、エックス線源Ｓと対向して配置された投影面Ｐを備える。

図３に示すように、固定アーム２の上方の上方支持面(天井)にはアーム用レール５が取り付けられ、スライダ６がモータ６Ａを介してアーム用レール５に沿って摺動されるようになっている。スライダ６の下方には逆Ｌ字形の支持アーム７が配置され、支持アーム７の水平方向部分７Ａがモータ７Ｃを介して垂直軸線を中心に回動されるようにスライダ６の下部に取り付けられている。

支持アーム７の垂直方向部分７Ｂの内側部には、モータ８Ａを介して水平軸線を中心に回動されるように連結部材８が取り付けられ、Ｃ字形の固定アーム２は、この連結部材８を上下方向に移動自在に通って延び、モータ８Ｂを介して連結部材８内を駆動されるようになっている。また、エックス線検出器４は、モータ４Ａを介してエックス線発生器３に対して離間自在に移動されるようになっている。

血管造影装置１はまた、図１及び図２に示すように、エックス線源Ｓと投影面Ｐとの間に配置されるベッド９を有し、ベッド９には被検体、例えば、患者ＰＡ、或いは、その模擬物体（ファントム）が横たわる。ベッド９は、既知の構造の駆動機構、例えば、モータと歯車列との組合せによって、垂直方向及び又は水平方向に移動可能なものであっても良く、また、エックス線検出器から独立していても良い。

血管造影装置１は更に、投影面Ｐに投影された患者ＰＡの像を表示するための画像表示手段、例えば、モニター(図示せず)を有する。

血管造影装置１は更にまたエックス線遮蔽装置を有する。

（エックス線遮蔽板２０について）
エックス線遮蔽装置は、血管造影装置１のエックス線源Ｓとベッド９との間に配置されるエックス線遮蔽板２０を有する。エックス線遮蔽板２０は、エックス線に対して遮蔽効果のある物質、例えば、鉛、タングステンで作られる。遮蔽板２０は、この実施形態では、円形であるが、任意の形状で良い。また、エックス線遮蔽板２０は、上記遮蔽効果のある物質で作った板状体に、該物質(例えば、鉛)よりも剛性の高い別個の材料で作った板状体を積層することによって構成しても良い。

（遮蔽板駆動機構３０について）
エックス線遮蔽装置はまた、遮蔽板２０を投影面Ｐと平行な平面、すなわち、エックス線源Ｓから投影面Ｐに延びるエックス線照射経路に対して垂直な平面(以下、「遮蔽板移動平面」と呼ぶ)ＳＭＰにおいて移動させるための遮蔽板駆動機構３０を有する。

遮蔽板駆動機構３０は、図１乃至図４では、エックス線発生器３と一定の間隔で固定アーム２に固定されているけれども、特にこの構成に限定されるわけではなく、例えば、固定アーム２と独立した任意の支持手段によって、前述したエックス線照射経路においてベッド９とエックス線源Ｓとの間を移動できるように構成されていても良い。また、エックス線発生器３及びこれと対向するエックス線検出器４が固定式である場合には、遮蔽板駆動機構３０もまた固定でよく、この場合には、例えば、ベッドの下面に固定されていても良い。
いずれの場合にも、本発明のエックス線遮蔽装置の使用の際には、遮蔽板駆動機構３０は、その遮蔽板移動平面ＳＭＰがエックス線検出器４の投影面Ｐと平行になるように、位置決めされるようになっている。

遮蔽板駆動機構３０は、図５Ａに示すように、平坦なベースフレーム３１を有し、ベースフレーム３１には、互いに平行に延びる１対のＸ軸方向ガイド３２Ａ、３２Ｂが固定されている。Ｘ軸方向ガイド３２Ａには第１摺動体３３が摺動自在に取り付けられ、この第１摺動体３３は、第１ステッピングモータ３３Ａと直動ボールネジ軸（図示せず）を介して駆動されるようになっている。第１摺動体３３からはＸ軸方向ガイド３２Ａ、３２Ｂに対して直交してＹ軸方向ガイド３４が延び、Ｙ軸方向ガイド３４の自由端部は、下部に取り付けられたガイドローラ(図示せず)を介してＸ軸方向ガイド３２Ｂで摺動自在に支持されている。

Ｙ軸方向ガイド３４には第２摺動体３５が摺動自在に取り付けられ、この第２摺動体３５は、Ｙ軸方向ガイド３４に取り付けられた第２ステッピングモータ３５Ａと直動ボールネジ軸を介して駆動されるようになっている。

モータ３３Ａ、３５Ａは、サーボモータによって構成しても良く、また、ブレーキ付きであるのが好ましい。また、摺動体３３、３５を駆動するための機構は、既知の任意の機構を用いることができ、例えば、モータと、ラック／ピニオンギヤ機構や、タイミングベルト機構などとの組み合わせによって構成しても良い。

第２摺動体３５からはエックス線透過性アーム３６がベースフレーム３１と平行に延び、このアーム３６にエックス線遮蔽板２０を支持する支持部が設けられている。アーム３６の支持部は、エックス線遮蔽板２０を支持することができれば、その形状、構造は任意である。

図５Ｂからわかるように、本実施形態では、アーム３６の支持部は、異なる大きさのエックス線遮蔽板２０を着脱自在に支持することができるように、周縁部が上方に突出する皿状トレイ３６Ａに形作られ、トレイ３６Ａの中央部には案内保持孔３６aが形成されている。他方、エックス線遮蔽板２０の下面中央部には下方に延びる突出ピン部２０aが形成され、この突出ピン部２０aはアーム３６の支持部の案内保持孔３６aに挿入されて保持されることにより、エックス線遮蔽板２０はアーム３６の支持部で着脱自在に支持されることになる。突出ピン部２０aはまた、その上面中央部に上方に延びる突出ピン部２０bを有する。

第１ステッピングモータ３３Ａ、第２ステッピングモータ３５Ａは、夫々エンコーダを備え、第１摺動体３３、第２摺動体３５の位置情報を出力することができ、従って、遮蔽板駆動機構３０におけるエックス線遮蔽板２０の位置は常時特定することができるようになっている。
尚、ベースフレーム３１にはエックス線を通すための貫通孔３７が形成されている。

上述した遮蔽板駆動機構３０における、エックス線遮蔽板２０を遮蔽板移動平面ＳＭＰを移動させるための構造それ自体は、既知の任意の技術を用いて種々の仕方で構成することができ、図５に関連して説明した構造に限定されない。

例えば、遮蔽板駆動機構を図１７に示すように構成しても良い。図１７に全体的に参照番号２００で示される、この変形例の遮蔽板駆動機構は、エックス線を通すための貫通孔２３７が形成されたベースフレーム２３１を有し、ベースフレーム２３１にはＸ軸方向ガイド２３２Ａが固定されている。

Ｘ軸方向ガイド２３２Ａには、その長手方向に沿って間隔を隔てられた一対のローラ２４０Ａ、２４０Ｂが回転自在に設けられ、ローラ２４０Ａはモータ２４０aによって駆動されるようになっている。これらのローラ２４０Ａ、２４０Ｂには無端駆動ベルト２４１が掛けまわされ、無端駆動ベルト２４１の一部は各ローラ２４０Ａ、２４０Ｂに固定されている。

Ｙ軸方向ガイド２３４が、Ｘ軸方向ガイド２３２Ａの長手方向に沿って摺動自在にＸ軸方向ガイド２３２Ａの案内スロット２３２aで案内され、Ｘ軸方向ガイド２３２Ａ対して直交して延びる。Ｙ軸方向ガイド２３４の基端部は無端駆動ベルト２４１に固定され、従って、無端駆動ベルト２４１が駆動されると、Ｙ軸方向ガイド２３４はＸ軸方向ガイド２３２Ａの長手方向に沿って摺動される。

Ｙ軸方向ガイド２３４には、その長手方向に沿って間隔を隔てられた一対のローラ２５０Ａ、２５０Ｂが回転自在に設けられ、ローラ２５０Ａはモータ２５０aによって駆動されるようになっている。これらのローラ２５０Ａ、２５０Ｂには無端駆動ベルト２５１が掛けまわされ、無端駆動ベルト２５１の一部は各ローラ２５０Ａ、２５０Ｂに固定されている。

Ｙ軸方向ガイド２３４はまたその長手方向に沿って延びる摺動ガイド２３４Ａを有し、摺動ガイド２３４Ａには遮蔽板支持部材２６０が摺動自在に取り付けられている。そして、この遮蔽板支持部材２６０は無端駆動ベルト２５１に固定されている。従って、無端駆動ベルト２５１が駆動されると、遮蔽板支持部材２６０は摺動ガイド２３４Ａに沿って摺動される。この遮蔽板支持部材２６０は、大きさの異なるエックス線遮蔽板２２０をビスを介して着脱自在に取り付けることができるようになっている。尚、無端駆動ベルト２５１、摺動ガイド２３４Ａ及び遮蔽板支持部材２６０は、エックス線に対する遮蔽性の低い材料、例えば、プラスチックで作られている。

かくして、このような遮蔽板駆動機構２００によっても、エックス線遮蔽板２０(２６０)を前述した遮蔽板移動平面ＳＭＰを移動させることができる。

（制御装置１００について）
図６に示すように、エックス線遮蔽装置は更に、遮蔽板駆動機構３０を制御するための制御装置１００を有する。すなわち、遮蔽板駆動機構３０に用いられている各種ステッピングモータは、（いずれの実施形態においても）制御装置１００によって制御される。

制御装置１００には指令入力装置１１０が接続され、制御装置１００が行なうことができる制御の全部又は一部を入力装置１１０によって手動により行なうことができる。

（エックス線遮蔽板交換手段について）
エックス線遮蔽装置は更にまた、アーム３６の支持部で支持されているエックス線遮蔽板２０を、大きさの異なるエックス線遮蔽板２０に交換するためのエックス線遮蔽板交換手段とを有する。

エックス線遮蔽板交換手段は、図５Ａに示すように、ベースフレーム３１に取り付けられた遮蔽板ラック４０を有する。遮蔽板ラック４０は、図５Ｂに示すように、多数の電磁石部材４０Ｘを備え、これらの電磁石部材４０Ｘは、直径の異なる複数の、この実施形態では６個のエックス線遮蔽板２０を解放自在に保持する。各電磁石部材４０Ｘは、励磁されることによってエックス線遮蔽板２０を拘束し、消磁されることによってエックス線遮蔽板２０を解放するようになっている。各電磁石部材４０Ｘの下面には案内保持孔４０xが形成され、この案内保持孔４０xがエックス線遮蔽板２０の突出ピン部２０bを案内保持するようになっている。

この遮蔽板ラック４０の各保持部の電磁石部材４０Ｘは、制御装置１００からの指令に基づいて励磁又は消磁されるようになっている。

従って、所望の大きさのエックス線遮蔽板２０を保持する電磁石部材４０Ｘの下方に遮蔽板駆動機構３０のアーム３６の(遮蔽板２０を保持していない)トレイ３６Ａを移動させ、電磁石部材４０Ｘを消磁させると、電磁石部材４０Ｘから遮蔽板２０が解放され、遮蔽板２０はトレイ３６Ａによって受け取られ、遮蔽板２０の突出ピン部２０aがトレイ３６Ａの案内保持孔３６aによって案内保持される。他方、遮蔽板２０を保持しているアーム３６のトレイ３６Ａを移動させ、電磁石部材４０Ｘを励磁させると、トレイ３６Ａの遮蔽板２０は電磁石部材４０Ｘに吸い寄せられ、遮蔽板２０の突出ピン部２０bが電磁石部材４０Ｘの案内保持孔４０xによって案内保持される。

遮蔽板ラック４０におけるエックス線遮蔽板２０の保持、解放機構は、上記実施形態に限定されず、既知の任意の機構を用いることができる。

（遮蔽板駆動機構３０及びエックス線遮蔽板交換手段の変形実施形態）
図７は、図５に示す遮蔽板駆動機構３０及びエックス線遮蔽板交換手段の変形実施形態を示す。

図５に示す遮蔽板駆動機構３０及びエックス線遮蔽板交換手段と相違する構成を説明し、同様な構成の説明を省略する。図５に示す遮蔽板駆動機構３０及びエックス線遮蔽板交換手段の構成要素と同様な構成要素には、同様な参照番号を付した。

図７では、遮蔽板駆動機構３０Ａは、ベースフレーム３１に回動自在に取り付けられた第１軸２０１を有し、この第１軸２０１には第１アーム２０２が取り付けられている。第１軸２０１はまた、ベースフレーム３１に対して垂直な方向に昇降することができるようになっている。

更なる変形例として、第１アーム２０２を第１軸２０１に沿って移動(昇降)することができるように構成しても良いし、後述の第３軸２０５をベースフレーム３１に対して垂直方向に昇降させ、或いはまた、後述の第１支持ハウジング２０６を第３軸２０５に沿って移動(昇降)することができるように構成しても良く、要するに、後述するアーム２０６Ａ、２０８Ａをベースフレーム３１に対して垂直方向に昇降させることができるように構成されていれば良い。

再び図７を参照すると、第１アーム２０２の自由端部には第１軸２０１と平行に延びる第２軸２０３が回動自在に取り付けられ、第２軸２０３には第２アーム２０４が取り付けられている。そして、第２アーム２０４の自由端部には第１軸２０１と平行に延びる第３軸２０５が回動自在に取り付けられ、第３軸２０５には第１支持ハウジング２０６が回動自在に取り付けられている。

第１支持ハウジング２０６からエックス線透過性アーム２０６Ａがベースフレーム３１と平行に延び、このアーム２０６Ａの自由端部にはエックス線遮蔽板２０を支持する第１支持部が設けられている。

第１支持ハウジング２０６にはまたアーム２０６Ａと直交する方向であって、ベースフレーム３１と平行に延びる案内穴(図示せず)が形成され、この案内穴には直摺動アーム２０７が摺動自在に配置されている。直摺動アーム２０７は、第１支持ハウジング２０６に収容されたステッピングモータ(図示せず)によって駆動される。

直摺動アーム２０７の一方の端部には第２支持ハウジング２０８が取り付けられ、この第２支持ハウジング２０８からはエックス線透過性アーム２０８Ａがアーム２０６Ａと平行に延び、アーム２０８Ａの自由端部にはエックス線遮蔽板２０を支持する第２支持部が設けられている。

尚、第１軸２０１、第２軸２０３、第３軸２０５はいずれも、ステッピンクモータ(図示せず)などによって回動駆動されるようになっており、第１軸２０１はまた、ステッピンクモータ(図示せず)と直動ボールネジ軸機構などとの組み合わせによって昇降されるようになっている。これらのステッピンクモータはエンコーダを備え、各軸２０１、２０３、２０５の(角度)位置情報を出力することができ、また、ベースフレーム３１に対する垂直方向の第１軸２０１の位置情報を出力することができる。尚、上述した駆動モータは、サーボモータによって構成しても良く、また、ブレーキ付きであるのが好ましい。

また、上述したように摺動アーム２０７の位置情報もまた第１支持ハウジング２０６に収容されたステッピングモータ(図示せず)によって得ることができる。従って、この変形実施形態における遮蔽板駆動機構３０Ａでは、アーム２０６Ａ、２０８Ａで夫々支持される各エックス線遮蔽板２０の位置を常時特定することができるようになっている。アーム２０６Ａとアーム２０８Ａの二つのアームを設けたのは、両目を保護するためであり、直動アーム２０７により二つのエックス線遮蔽板を両眼球間の距離に応じて調整することができる。他方、図５Ａに示す遮蔽板駆動機構３０のようにエックス線遮蔽板２０が１つのみであるタイプのものでは、エックス線源Ｓから放射されるエックス線の放射領域を絞って、エックス線遮蔽板２０で遮蔽されない眼球にエックス線が照射されないようにする。

この変形実施形態におけるエックス線遮蔽板交換手段もまた、ベースフレーム３１に取り付けられた遮蔽板ラック４０Ａを有する。

図７乃至図９でよく分かるように、遮蔽板ラック４０Ａは、二組の、大きさの異なる複数の、この実施形態では、３個のエックス線遮蔽板２０を解放自在に保持する。

遮蔽板ラック４０Ａは、各エックス線遮蔽板２０を解放自在に保持するための保持バーからなり、この保持バー４０Ａには、夫々、ベースフレーム３１に対して垂直に延びる３つの保持凹部４１が形成されている。

この変形実施形態では、エックス線遮蔽板２０は、その下面中央部に下方に延びる第１縮径部２１と、この第１縮径部２１の下面中央部から下方に延びる、第１縮径部２１よりも縮径の第２縮径部２２を備える。第２縮径部２２の直径は、遮蔽板ラック４０Ａの保持凹部４１よりも僅かに小さく、第１縮径部２１の直径は、遮蔽板ラック４０Ａの保持凹部４１よりも大きい。

第１縮径部２１は、磁性部材で形成され、第２縮径部２２が保持バー４０Ａの保持凹部４１に挿入され、第１縮径部２１の下面が保持バー４０Ａに当接している状態において、保持バー４０Ａに磁着する。これにより、固定アーム２が図１乃至図３に示す状態から回動され、遮蔽板駆動機構３０、かくして、遮蔽板ラック４０Ａが傾斜され、倒立されたときに、遮蔽板ラック４０Ａからエックス線遮蔽板２０が落下するのを防ぐことができる。第１縮径部２１に代えて、第２縮径部２２を磁性部材で形成しても良い。

図８から良く分かるように、遮蔽板駆動機構３０Ａの各アーム２０６Ａ、２０８Ａの各自由端部、すなわち、第１支持部、第２支持部には、Ｕ字形又は半楕円形の切欠部２１０が形成され、また、切欠部２１０に隣接して磁石２１１が設けられている。Ｕ字形切欠部２１０の幅は、エックス線遮蔽板２０の第１縮径部２１よりも僅かに大きい。

磁石２１１と関連して、使用される各エックス線遮蔽板２０の下部側は磁石２１１と磁着する性質の材料で作られる。

遮蔽板駆動機構３０Ａのアーム２０６Ａ、２０８Ａがエックス線遮蔽板２０を保持していない場合に、アーム２０６Ａ、２０８Ａが保持バー４０Ａから所望の大きさのエックス線遮蔽板２０を受け取るためには、まず、２本のアーム２０６Ａ、２０８Ａの間隔を遮蔽板ラック４０Ａの二組のエックス線遮蔽板２０の間隔に合わせた後、図９(Ａ)に示すように、アーム２０６Ａ、２０８Ａの自由端部を遮蔽板ラック４０Ａで保持されている各エックス線遮蔽板２０に近づけるように移動させ、図９(Ｂ)に示すように、各Ｕ字形切欠部２１０内にエックス線遮蔽板２０の第１縮径部２１を位置させる。

この状態で、第１軸２０１を、その基準平面位置から、ベースフレーム３１の上方へ上昇させることによって、図９(Ｃ)に示すように、アーム２０６Ａ、２０８Ａをエックス線遮蔽板２０の下面に当接させる。これにより、アーム２０６Ａ、２０８Ａの磁石２１１がエックス線遮蔽板２０の下面に磁着する。次いで、保持バー４０Ａに対する第１縮径部２１の磁着に抗して、第１軸２０１をベースフレーム３１から更に上昇させることによって、図９(Ｄ)に示すように、エックス線遮蔽板２０の第２縮径部２２を遮蔽板ラック４０Ａの保持凹部４１から引き抜く。

そして、エックス線遮蔽板２０を支持するに至ったアーム２０６Ａ、２０８Ａを遮蔽板ラック４０Ａから遠ざけた後、第１軸２０１を基準平面位置まで下降させることによって、エックス線遮蔽板２０を後述する遮蔽板移動平面ＳＭＰ内に位置させる。

アーム２０６Ａ、２０８Ａが保持するエックス線遮蔽板２０を遮蔽板ラック４０Ａに保持させるのは、上記作動を逆の順序で行えばよい。

図９−１乃至図９−３は、図８、図９に示すエックス線遮蔽板交換手段の変形実施形態を示す。

本実施形態では、図８、図９の切欠部２１０に代えて、遮蔽板駆動機構３０Ａの各アーム２０６Ａ、２０８Ａの各自由端部には、案内保持孔２１２が形成されている。

他方、使用される各エックス線遮蔽板２０は、その中央下面から下方に突出する突出ピン部２１aを有し、突出ピン部２１aは案内保持孔２１２によって案内保持されるように寸法形状決めされている。各エックス線遮蔽板２０はまた、その中央上面から上方に突出する突出ピン部２１bを有し、突出ピン部２１bには周溝２１cが形成されている。
本実施形態では、図８、図９の遮蔽板ラック(保持バー)４０Ａに代えて、遮蔽板ラック４０Ｂを採用する。

遮蔽板ラック４０Ｂは、固定水平プレート４２と、固定水平プレート４２の一方端部から上方に突出する突出壁４３と、固定水平プレート４２の他方端部が切り欠かれて形成された二股部(図示せず)間に回動自在に取り付けられた回動プレート４４とを有する。突出壁４３と回動プレート４４の上方端部との間にはバネ４５が延び、バネ４５は、図９−１で見たときに回動プレート４４を反時計方向に回動させるように、初期設定されている。

固定水平プレート４２よりも下方に位置する回動プレート４４の下方部分には、遮蔽板可動保持部材４６が取り付けられている。遮蔽板可動保持部材４６は回動プレート４４から下方に延び、その下端自由端部４６aは、エックス線遮蔽板２０の突出ピン部２１bの周溝２１c内に延びるように曲げられている。遮蔽板可動保持部材４６と対向して遮蔽板固定保持部材４７が設けられ、遮蔽板２０は、その突出ピン部２１bの周溝２１cに延びる遮蔽板可動保持部材４６の下端自由端部４６aが突出ピン部２１bを遮蔽板固定保持部材４７に押し付けることによって、遮蔽板ラック４０Ｂに保持される。

遮蔽板固定保持部材４７にはネジ穴４７Ｂが形成され、ネジ穴４７Ｂにはネジストッパ４８が螺合されている。ネジストッパ４８は、回動プレート４４が所定位置を越えて回動するのを阻止するように機能する。

固定水平プレート４２の下方で、回動プレート４４の下方部分に隣接して、電磁石４９が設けられ、この電磁石４９は、励磁されることによって、バネ４５の付勢力に抗して、回動プレート４４の下方部分を磁着することができるようになっている。

この実施形態では、アーム２０６Ａ、２０８Ａが遮蔽板ラック４０Ｂから所望の大きさのエックス線遮蔽板２０を受け取るためには、図９−１に示すように、アーム２０６Ａ、２０８Ａの自由端部を、その案内保持孔２１２が遮蔽板ラック４０Ｂで保持されているエックス線遮蔽板２０の突出ピン部２１aの下方に位置するように、遮蔽板駆動機構３０Ａによって移動させる。

次いで、電磁石４９を励磁する。すると、図９−２に示すように、回動プレート４４は、バネ４５の付勢力に抗して、時計方向に回動され、その結果、遮蔽板可動保持部材４６の下端自由端部４６aはエックス線遮蔽板２０の突出ピン部２１bの周溝２１cから離れ、エックス線遮蔽板２０は自由落下し、エックス線遮蔽板２０の突出ピン部２１aはアーム２０６Ａ、２０８Ａの案内保持孔２１２によって案内保持されると共に、アーム２０６Ａ、２０８Ａの磁石２１１によってエックス線遮蔽板２０が磁着される。

次いで、第１軸２０１を基準平面位置から下降させることによって、図９−３に示すように、アーム２０６Ａ、２０８Ａを下降させ、遮蔽板ラック４０Ｂから遠ざけた後、第１軸２０１を基準平面位置まで上昇させることによって、エックス線遮蔽板２０を後述する遮蔽板移動平面ＳＭＰ内に位置させる。これに前後して電磁石４９を消磁する。これにより、遮蔽板可動保持部材４６の下端自由端部４６aは、図９−１に示すのと同じ位置に復帰する。

アーム２０６Ａ、２０８Ａが保持するエックス線遮蔽板２０を遮蔽板ラック４０Ｂに保持させるのは、上記作動を逆の順序で行えばよい。
（遮蔽位置決定手段について）
エックス線遮蔽装置はまた、遮蔽板２０の中心を位置決めすべき位置であって、遮蔽板駆動機構３０において遮蔽板２０が移動される遮蔽板移動平面と交差する、エックス線源Ｓとエックス線源Ｓからのエックス線の照射を遮るべき患者ＰＡの特定部位の中心とを通って延びる中心線Ｃ上の「遮蔽位置ＳＨ」を決定する遮蔽位置決定手段を有する。

以下の説明では、便宜上、エックス線源Ｓからのエックス線の照射を遮るべき患者ＰＡの特定部位を眼球ＥＢとして説明する。

この遮蔽位置決定手段は、図１０に示す共通基準点ＣＳＰに対するエックス線源Ｓの位置を計測するエックス線源位置測定装置と、共通基準点ＣＳＰに対する遮蔽板駆動機構３０の位置を計測する遮蔽板駆動機構位置測定装置と、共通基準点ＣＳＰに対する眼球ＥＢの位置を計測する眼球位置測定装置と、エックス線源位置測定装置からのデータと、遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、眼球位置測定装置からのデータとに基づいて遮蔽位置ＳＨを演算処理する演算処理装置６０とによって構成される。
本願において、「共通基準点ＣＳＰ」とは、例えば、血管造影装置１や、エックス線遮蔽装置が置かれた床上の点など、任意、特定の点(位置)を意味する。尚、図１０中の矢印Ａ、Ｂ、Ｃは、共通基準点ＣＳＰを基準とする位置ベクトルを示す。

（エックス線源位置測定装置について）
エックス線源位置測定装置は、以下に例示される手段によって構成することができる。
（１）血管造影装置１の位置出力手段
エックス線源位置測定装置は、血管造影装置１の前述した各モータ６Ａ、７Ｃ、８Ａ、８Ｂが、これらのモータによって移動される血管造影装置１の可動部分の位置データを出力することができるエンコーダ等の位置出力手段を備える場合、かかる位置出力手段と、該位置出力手段からの位置出力データに基づいて、共通基準点ＣＳＰに対するエックス線源Ｓの位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

（２）後付け位置測定装置
血管造影装置１のモータ６Ａ、７Ｃ、８Ａ、８Ｂが、これらのモータによって移動される血管造影装置１の可動部分の位置データを出力することができるエンコーダ等の位置出力手段を備えていない場合には、エックス線源位置測定装置は、血管造影装置１の可動部分の位置を測定するための、かかる可動部分に後付けされたリニアエンコーダ、傾斜センサなどからなる後付けの位置測定装置と、この後付け位置測定装置からの位置データに基づいて、共通基準点に対するエックス線源Ｓの位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。
尚、上記２つの例のいずれの場合においても、演算処理装置６０は図６に示すように制御装置１００内に設けても良いし、制御装置１００の外部に設け、これを制御装置１００と接続しても良い。

（遮蔽板駆動機構位置測定装置について）
遮蔽板駆動機構位置測定装置は、以下に例示される手段によって構成することができる。

（１）記憶装置
遮蔽板駆動機構位置測定装置は、遮蔽板駆動機構３０が或る位置に固定される場合、共通基準点ＣＳＰに対する、遮蔽板駆動機構３０の任意の位置、この実施形態では、遮蔽板移動平面ＳＭＰにおける任意、特定の基準位置(以下、「移動平面基準位置」と呼ぶ)ＭＳＰを予め測定しておいた位置データを記憶する記憶装置５０によって構成することができる。

（２）エックス線源位置データ
遮蔽板駆動機構位置測定装置はまた、遮蔽板駆動機構３０を、上述したように位置測定可能なエックス線源Ｓに対して所定の相対位置(予め測定した位置関係)にてエックス線発生器３に取り付けた場合、エックス線源Ｓと、遮蔽板駆動機構３０の任意の位置、この実施形態では、移動平面基準位置ＭＳＰとの相対位置データを記憶する記憶装置５０と、上述したエックス線源位置測定装置とによって構成することができる。

（３）ベッド位置データ
遮蔽板駆動機構位置測定装置は更に、遮蔽板駆動機構３０を、上述したように位置測定可能なベッド９に対して所定の相対位置(予め測定した位置関係)にてベッド９に取り付けた場合、ベッド９と、遮蔽板駆動機構３０の任意の位置、この実施形態では、移動平面基準位置ＭＳＰとの相対位置データを記憶させる記憶装置５０と、上述したベッド９の位置を測定するための手段とによって構成することができる。

（４）ビデオカメラによる３次元画像計測装置
遮蔽板駆動機構位置測定装置は更にまた、遮蔽板駆動機構３０の基準位置(姿勢)を予め測定するための、遮蔽板駆動機構３０に取付けられる計測用反射マーカー(図示せず)と、これらのマーカーを照らす照明装置(図示せず)と、前記マーカーを撮影するための、２台のビデオカメラ３００Ａ、３００Ｂ(図１８)を有する撮影装置と、撮影したマーカーの画像データから遮蔽板駆動機構３０の位置・姿勢を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。
このビデオカメラによる３次元画像計測装置は、一般的なモーションキャプチャ装置に組み込まれている周知の位置計測装置であり、その構成、作動について、ここでは詳述しない。

尚、上記４つの例のいずれの場合においても、記憶装置５０および演算処理装置６０は、図６に示すように、制御装置１００内に設けても良いし、制御装置１００の外部に設け、これを制御装置１００と接続しても良い。

（眼球位置測定装置について）
眼球位置測定装置は、以下に例示される手段によって構成することができる。
（１）レーザーポインタ装置
眼球位置測定装置は、眼球ＥＢを、予め測定しておいた、共通基準点ＣＳＰに対する所定位置に位置決めするためのレーザーポインタ装置と、この所定位置の位置データを記憶させる記憶装置５０とによって構成することができる。記憶装置５０は、図６に示すように、制御装置１００内に設けても良いし、制御装置１００の外部に設け、これを制御装置１００と接続しても良い。

かかるレーザーポインタ装置は、Ｘ線ＣＴ装置による診断に使用されている周知の撮影位置決めレーザーポインタ装置であり、その構成、作動について、ここでは詳述しない。 また、眼球位置測定装置を、Ｘ線ＣＴ装置による診断に使用されている周知の、計測機能つきの撮影位置決めレーザーポインタ装置によって構成しても良い。このレーザーポインタ装置もまた、Ｘ線ＣＴ装置による診断に使用されている周知の装置であり、この装置を用いることによって共通基準点ＣＳＰに対する眼球ＥＢの位置を測定することができる。

（２）ベッド位置データ
眼球位置測定装置はまた、ベッド９が、その位置データを出力することができるエンコーダ等を備えたモータ駆動式である場合、このエンコーダ等と、該エンコーダ等からのベッド位置データ及び予め測定された、ベット９で支持される患者ＰＡの頭部背面から眼球までの距離に基づいて、共通基準点ＣＳＰに対する眼球位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

また、ベッド９が移動可能であるにもかかわらず、その位置データを出力する手段をベッドが備えていない場合には、眼球位置測定装置は、ベッド９の位置を測定するための、ベッド９に後付けされたリニアエンコーダ、傾斜センサなどからなる後付けベッド位置測定装置と、この後付けベッド位置測定装置からのベッド位置データ及び予め測定された、ベッド９で支持される患者ＰＡの頭部背面から眼球までの距離に基づいて、共通基準点ＣＳＰに対する眼球位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

いずれの場合にも、演算処理装置６０は図６に示すように制御装置１００内に設けても良いし、制御装置１００の外部に設け、これを制御装置１００と接続しても良い。

（３）血管造影装置
眼球位置測定装置は更に、血管造影装置１であるエックス線透視装置それ自体と、かかるエックス線透視装置によって、図１１に示すように、エックス線発生器３とエックス線検出器４が取り付けられているアーム２の回転角度を変えて２方向から患者ＰＡの頭部を撮影し、夫々の透視画像上で眼球ＥＢが投影されている位置の画素位置を計測し、１画素あたりの実サイズとエックス線検出器４の中心位置の座標値から、エックス線検出器４上に眼球ＥＢが投影される位置である点Ｂ及び点Ｄの座標を計測したデータに基づいて、共通基準点ＣＳＰに対する眼球位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。この演算処理装置６０もまた制御装置１００内に設けても良いし、制御装置１００の外部に設け、これを制御装置１００と接続しても良い。

図１１に示されるように、演算処理装置６０は、血管造影装置１によって計測された座標、点Ｂ及び点Ｄのデータに基づいて、直線ＡＢ、直線ＣＤの式(１)、(２)から、眼球が位置する交点座標Ｅ（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を算出する。

Ｘ＝x１＋s(x３−x１)，Ｙ＝y1＋s(y３−y１)，Ｚ＝z１＋s(z３−z１) (１)

Ｘ＝x２＋t(x４−x２)，Ｙ＝y２＋t(y４−y２)，Ｚ＝z２＋t(z４−z２) (２)

すなわち、各定数を代入して「s」、「t」を解けば、交点Ｅの座標を求められる。
上記操作を両眼に対して行うことによって、各眼球が位置する交点座標Ｅ（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を計測することができる。

（４）ビデオカメラによる３次元画像計測装置
眼球位置測定装置は更にまた、眼球近傍に取付けられる計測用反射マーカー(図示せず)と、該マーカーを照らす照明装置と(図示せず)、前記マーカーを撮影するための、２台のビデオカメラ３００Ａ、３００Ｂ(図１８)を有する撮影装置と、撮影したマーカーの画像データから眼球位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。
このビデオカメラによる３次元画像計測装置は、一般的なモーションキャプチャ装置に組み込まれている周知の位置計測装置であり、その構成、作動について、ここでは詳述しない。

（演算処理装置について）
この実施形態では、演算処理装置６０は、夫々上述した、エックス線源位置測定装置からのデータと、眼球位置測定装置からのデータと、遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータとに基づいて、遮蔽板２０が移動される遮蔽板移動平面と、エックス線源Ｓと眼球ＥＢの中心ＥＢＣとを通って延びる中心線Ｃとの交点、すなわち、遮蔽位置ＳＨを計算する。

この実施形態では、演算処理装置６０は、エックス線源Ｓの位置を（x１,y１,z１）、眼球の位置ＥＢＣを（x２,y２,z２）として、エックス線源Ｓと眼球ＥＢの中心ＥＢＣとを通って延びる中心線を、式(３)で求める。

x＝x１＋s(x２−x１)、y＝y１＋s(y２−y１)、z＝z１＋s(z２−z１) (３)

一方、遮蔽板駆動機構の位置、この実施形態では、移動平面基準位置を（x３,y３,z３）とし、また、遮蔽板移動平面の法線ベクトル（a,b,c）は遮蔽板移動平面が投影面Ｐと平行であることから計算されるので、遮蔽板移動平面は式(４）で求められる。

a(x−x3)＋b(y−y3)＋c(z−z3)＝0 (４)

式（３）を式（４）に代入して「s」を解くことにより、交点、すなわち、遮蔽位置ＳＨの座標が求められる。

制御装置１００は、この演算処理装置６０によって求められた遮蔽位置ＳＨに遮蔽板２０（の中心）を移動させるように遮蔽板駆動機構３０を制御する。遮蔽板駆動機構３０における遮蔽板２０の（中心）位置は、上述したように、第１ステッピングモータ３３Ａ、第２ステッピングモータ３５Ａからの第１摺動体３３、第２摺動体３５の位置情報に基づいて演算処理装置６０によって求められ、制御装置１００はこの遮蔽板２０の（中心）位置データに従って遮蔽板駆動機構３０を制御する。

（遮蔽板寸法決定手段について）
エックス線遮蔽装置はまた、エックス線源Ｓからのエックス線の照射を遮るべき患者ＰＡの特定部位、例えば、頭部に対する血管内手術を行う場合においては眼球、に適した円形遮蔽板２０の大きさ、例えば、直径を決定するための遮蔽板寸法決定手段を有する。

本願では、エックス線源Ｓからのエックス線の照射を遮るべき患者ＰＡの特定部位に適した円形遮蔽板２０の大きさとは、エックス線発生器からのエックス線の照射が必要な人体部位ヘのエックス線の照射を許容しながら、エックス線の照射を回避したい人体の所望部位へのエックス線発生器からのエックス線を遮る大きさを意味する。

以下の説明においても、便宜上、エックス線源Ｓからのエックス線の照射を遮るべき患者ＰＡの特定部位を眼球ＥＢとして説明する。

遮蔽板寸法決定手段は、前述した遮蔽位置決定手段と、エックス線源Ｓと眼球ＥＢの中心とを通って延びる中心線Ｃに対して垂直な平面ＥＢＰに投影される眼球ＥＢの大きさに関するデータを記憶する眼球大きさ記憶装置と、遮蔽位置決定手段によって得られたデータ及び眼球大きさ記憶装置からのデータに基づいて当該眼球ＥＢに適した遮蔽板２０の直径を演算処理する演算処理装置６０とによって構成される。

（眼球大きさ記憶装置について）
眼球大きさ記憶装置は、解剖学的に一般的な眼球の直径とされる数値データ、或いは、眼球の平均直径である数値データなど、任意の数値データ、例えば、成人で２４mmを、エックス線源Ｓと眼球ＥＢの中心とを通って延びる中心線Ｃに対して垂直な平面ＥＢＰに投影される眼球ＥＢの大きさとして、記憶する記憶装置によって構成される。

（演算処理装置について）
演算処理装置６０は、前述した遮蔽位置決定手段によって得られたデータと、眼球大きさ記憶装置からのデータとに基づいて当該眼球に適した遮蔽板２０の直径（d）を演算処理する。

図１２は、理解を容易にするため、エックス線源位置Ｓと、眼球位置ＥＢＣと、遮蔽位置ＳＨとの関係を概略的に示している。

演算処理装置６０は、遮蔽板２０の直径（d）を、この実施形態では、式(５)によって求める。
d ＝ （エックス線源位置Ｓと、遮蔽位置ＳＨとの間の距離）／(エックス線源位置Ｓと眼球位置ＥＢＣとの間の距離）
× 眼球の直径 (５)

すなわち、夫々、エックス線源位置Ｓを（x１、y１、z１）、遮蔽位置ＳＨを（x２、y２、z２）、眼球位置ＥＢＣを（x３、y３、z３）とすれば、遮蔽板２０の直径（d）は式(６)によって求められる。

d ＝ √｛（x２−x１）²＋（y２−y１）²＋（z２−z１）²｝／
√｛（x３−x１）²＋（y３−y１）²＋（z３−z１）²｝
× 眼球の直径 (６）

（エックス線遮蔽装置の作動について）
次に、上述した構成のエックス線遮蔽装置の作動を説明する。
エックス線遮蔽装置を使用する際には、エックス線源位置測定装置によってエックス線源Ｓの位置を測定し、遮蔽板駆動機構位置測定装置によって遮蔽板駆動機構の位置を測定し、眼球位置測定装置によって眼球の位置を測定し、或いは、眼球を所定の位置に位置決めする。これらの測定順序は問わない。

演算処理装置６０が、これらの測定結果（データ）に基づいて、遮蔽板２０を配置すべき遮蔽位置ＳＨを計算する。

次いで、演算処理装置６０は、眼球大きさ記憶装置の眼球の大きさに関するデータと、エックス線源位置測定装置からのデータと、遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、眼球位置測定装置からのデータとに基づいて、演算処理装置６０によって眼球ＥＢに適した遮蔽板２０の直径を演算処理し、これを決定する。

この決定に基づいて、適当な直径の円形遮蔽板２０を遮蔽板駆動機構３０、３０Ａのアーム３６、２０６Ａ、２０８Ａの支持部に制御装置１００により遮蔽板駆動機構３０、３０Ａを制御することによってセットする。手作業でセットしても良い。

次いで、演算処理装置６０が、第１ステッピングモータ３３Ａ、第２ステッピングモータ３５Ａからの第１摺動体３３、第２摺動体３５の位置情報に基づいて遮蔽板駆動機構３０における遮蔽板２０の現在位置を求める。
制御装置１００は、遮蔽板駆動機構３０を制御して、遮蔽板２０（の中心）を現在位置から遮蔽位置ＳＨに移動させる。尚、エックス線透視装置１の使用中、エックス線源Ｓからエックス線が放射されたままの状態でエックス線発生器３が移動されることがあるが、このような場合でも、本発明によれば、制御装置１００は、エックス線発生器３の移動に応じて、当初の遮蔽位置ＳＨから新たな遮蔽位置ＳＨに遮蔽板２０を連続的に移動させるように遮蔽板駆動機構３０を制御することができる。

[第２実施形態について]
本発明のエックス線遮蔽装置の第２実施形態は、遮蔽位置決定手段及び遮蔽板寸法決定手段の構成においてのみ上述した第１実施形態と異なるに過ぎない。以下、異なる構成についてのみ説明し、第１実施形態におけるのと同一の構成、作動についての説明は省略する。

以下、第１実施形態のエックス線遮蔽装置と異なる点についてのみ説明する。

（遮蔽位置決定手段について）
本実施形態における遮蔽位置決定手段は、エックス線遮蔽板２０の中心を位置決めすべき位置であって、遮蔽板移動平面ＳＭＰと交差する、エックス線源Ｓと投影面Ｐにおける眼球ＥＢの投影像の位置ＰＰとを通って延びる中心線Ｃ上の遮蔽位置ＳＨを決定する。
この遮蔽位置決定手段は、遮蔽板駆動機構位置測定装置と、エックス線源位置測定装置と、共通基準点ＣＳＰに対する、エックス線検出器４の投影面Ｐに投影される眼球ＥＢの像の位置を測定する眼球投影像位置測定装置と、遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、エックス線源位置測定装置からのデータと、眼球投影像位置測定装置からのデータとに基づいて遮蔽位置ＳＨを演算処理する演算処理装置６０とによって構成される。

本実施形態のエックス線遮蔽装置の遮蔽位置決定手段における遮蔽板駆動機構位置測定装置、エックス線源位置測定装置は、上述した第１実施形態におけるのと同一であり、他方、眼球投影像位置測定装置を有する点、並びに、このデータに基づいて、演算処理装置６０が遮蔽板２０の遮蔽位置ＳＨを演算処理する点において本実施形態のエックス線遮蔽装置は第１実施形態のエックス線遮蔽装置と異なる。

（眼球投影像位置測定装置について）
眼球投影像位置測定装置は、共通基準点ＣＳＰに対する投影面Ｐにおける任意の点(以下、「投影基準点」と呼ぶ)ＰＳＰを測定する投影面位置測定装置と、投影平面Ｐの投影基準点ＰＳＰに対するＸＹ軸方向の位置を測定する眼球投影像横方向位置測定装置と、投影面位置測定装置からのデータ及び眼球投影像横方向位置測定装置からのデータに基づいて眼球(中心)の投影像の位置(以下、「眼球投影像位置」と呼ぶ)ＰＰを演算処理する演算処理装置６０とによって構成される。
図１３は、共通基準点ＣＳＰと、投影基準点ＰＳＰと、眼球投影像位置ＰＰとの関係を概略的に示し、図中の矢印Ａ、Ｃは、共通基準点ＣＳＰを基準とする位置ベクトルを示し、矢印Ｂは、投影基準点ＰＳＰを基準とする位置ベクトルを示す。

（投影面位置測定装置について）
投影面位置測定装置は、以下に例示される手段によって構成することができる。
（１）血管造影装置１の位置出力手段
投影面位置測定装置は、血管造影装置１の前述した各モータ４Ａ、６Ａ、７Ｃ、８Ａ、８Ｂが、これらのモータによって移動される血管造影装置１の可動部分の位置データを出力することができるエンコーダ等の位置出力手段を備える場合、かかる位置出力手段と、該位置出力手段からの位置出力データに基づいて投影面Ｐの位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

（２）後付け位置測定装置
血管造影装置１のモータ４Ａ、６Ａ、７Ｃ、８Ａ、８Ｂが、これらのモータによって移動される血管造影装置１の可動部分の位置データを出力することができるエンコーダ等の位置出力手段を備えていない場合には、投影面位置測定装置は、血管造影装置１の可動部分の位置を測定するための、かかる可動部分に後付けされたリニアエンコーダ、傾斜センサなどからなる後付けの位置測定装置と、この後付け位置測定装置からの位置データに基づいて投影面Ｐの位置を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

尚、上記２つの例のいずれの場合においても、演算処理装置６０は図６に示すように制御装置１００内に設けても良いし、制御装置１００の外部に設け、これを制御装置１００と接続しても良い。

（眼球投影像横方向位置測定装置について）
眼球投影像横方向位置測定装置は、以下に例示される手段によって構成することができる。

（１）コンタクトレンズマーカー
眼球投影像横方向位置測定装置は、図１４に示すように、眼球ＥＢに装着される、エックス線に対して遮蔽効果のある物質、例えば、鉛、タングステンで作られたマーカーＭを埋設したコンタクトレンズＣＬと、このコンタクトレンズＣＬを装着した患者ＰＡをエックス線透視する血管造影装置１の検出器４の投影面Ｐに投影されたマーカーＭの投影像の画素位置Ｍ１を、画像処理のパターンマッチングの手法を用いて、計測する手段と、かかる透視投影像の１画素当たりの実サイズに基づいて投影面Ｐにおけるマーカー、すなわち、眼球ＥＢの投影像の横方向位置Ｍ２を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

コンタクトレンズＣＬに代えて、マーカーＭをアイパッチに付け、このアイパッチ(粘着体を備えるのが好ましい)を患者の眼瞼に装着させても良い。また、マーカーの形状は、任意の幾何学形状、例えば、星形でも良い。

（２）マーカー
眼球投影像横方向位置測定装置は、図１５に示すように、目（眼球ＥＢ）以外の特徴的な複数の人体部位、例えば、鼻、耳、頭頂、顎に装着される、エックス線に対して遮蔽効果のある物質で作られたマーカーＭ（粘着体を備えるのが好ましい）と、エックス線透視画像Ｐ上に投影されたマーカーＭの画素位置Ｍ１を、画像処理のパターンマッチングの手法を用いて、計測する手段と、これらの鼻、耳、頭頂、顎のマッチング位置Ｍ２に関するデータ及び記憶装置５０に格納された（過去に蓄積された）鼻、耳、頭頂、顎に対する相対的眼球位置に関するデータから眼球ＥＢの推定眼球位置Ｍ３を演算処理（推定）すると共に、かかる透視投影像の１画素当たりの実サイズに基づいて投影面Ｐにおける眼球ＥＢの投影像の横方向位置Ｍ４を演算処理する演算処理装置６０とによって構成することができる。

（演算処理装置について）
演算処理装置６０は、この実施形態では、遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、エックス線源位置測定装置からのデータと、眼球投影像位置測定装置からのデータとに基づいて、遮蔽板２０が移動される遮蔽板移動平面ＳＭＰと、エックス線源Ｓと眼球投影像位置の中心ＰＰとを通って延びる中心線Ｃとの交点（遮蔽位置ＳＨ）を計算する。
この実施形態では、演算処理装置６０は先ず、図１６に概略的に示すように、エックス線源Ｓを（x１、y１、z１）、眼球投影像位置ＰＰを（x２、y２、z２）として、エックス線源Ｓと眼球投影像の中心ＰＰとを通って延びる中心線Ｃを式(７)で求める。尚、図１６中の矢印Ａ、Ｂ、Ｃは、共通基準点ＣＳＰを基準とする位置ベクトルを示す。

x＝x１＋s(x２−x１)、y＝y１＋s(y２−y１)、z＝z１＋s(z２−z１) (７)

この実施形態では、演算処理装置６０は次に、遮蔽板駆動機構の位置（遮蔽板移動平面ＳＭＰ上の原点）ＭＳＰを（x3、y3、z3）とし、また遮蔽板移動平面ＳＭＰの法線ベクトル（a、b、c）は遮蔽板移動平面ＳＭＰが前記投影面Ｐと平行であることから計算されるので、遮蔽板移動平面は式(８）で求められる。

a(x−x３)＋b(y−y３)＋c(z−z３)＝０ (８）

式（７）を式（８）に代入して「s」を解くことにより、交点、すなわち、遮蔽位置ＳＨの座標（位置）を求めることができる。

（遮蔽板寸法決定手段ついて）
本実施形態における遮蔽板寸法決定手段は、本実施形態で説明した遮蔽位置決定手段と、エックス線検出器４の投影面Ｐに投影される眼球の像ＥＢの大きさを測定する眼球投影像寸法測定装置と、遮蔽位置決定手段によって得られたデータ及び眼球投影像寸法測定装置からのデータに基づいて当該眼球ＥＢに適した遮蔽板２０の大きさを演算処理する演算処理装置６０とによって構成される。

（眼球投影像寸法測定装置について）
眼球投影像寸法測定装置は、以下に例示される手段によって構成することができる。
（１）血管造影装置１の画像計測手段
眼球投影像寸法測定装置は、エックス線透視する血管造影装置１の検出器４の投影面Ｐに投影された患者の眼球部の投影像の画素寸法を、血管造影装置が持つ画像処理の画像計測の手法を用いて計測し、透視投影像の１画素当たりの実サイズを眼球投影像の画素寸法に掛けることで眼球投影像寸法を計測する手段によって構成することができる。
（２）後付け画像処理装置
眼球投影像寸法測定装置は、血管造影装置１に投影像の画素寸法を計測することができる画像処理手段を備えていない場合には、眼球投影像の寸法を測定するための、画像処理の画像計測手法を持つ画像処理装置を後付けする。エックス透視装置のモニタ画像用信号を分配して画像処理装置に入力し、眼球部の投影像の画素寸法を、画像処理の画像計測の手法を用いて計測し、透視投影像の１画素当たりの実サイズを眼球投影像の画素寸法に掛けることで眼球投影像寸法を計測する手段によって構成することができる。
（３）コンタクトレンズマーカーまたはマーカーを用いた画像処理装置
眼球投影像寸法測定装置は、エックス線透視する血管造影装置１の検出器４の投影面Ｐに投影された患者の眼球部の投影像の画素寸法と、眼球に直接装着された既知の寸法のコンタクトレンズマーカー、或いは、眼球の近傍に装着された既知の寸法のマーカーの投影面Ｐに投影された投影像の画素寸法との比より、眼球投影像寸法を計測する手段によって構成することができる。

（演算処理装置について）
この実施形態では、演算処理装置６０は、上述した各データに基づいて、式(９)によって眼球ＥＢに適した遮蔽板２０の大きさ（直径）（d）を求める。

d ＝ （エックス線源位置Ｓと、遮蔽位置ＳＨとの間の距離）／
（エックス線源位置Ｓと眼球投影像位置ＰＰとの間の距離）
× 眼球投影像の直径 (９)

すなわち、夫々、エックス線源位置Ｓを（x１、y１、z１）、遮蔽位置ＳＨを（x２、y２、z２）、眼球投影像位置ＰＰ（x３、y３、z３）とすると、式(１０)によって遮蔽板２０の直径（d）が求められる。

d ＝ √｛（x２−x１）²＋（y２−y１）²＋（z２−z１）²｝／
√｛（x３−x１）²＋（y３−y１）²＋（z３−z１）²｝
× 眼球投影像の直径 (１０)

共通基準点ＣＳＰに対する眼球投影像位置ＰＰは、投影面位置測定装置から得られる投影面Ｐの投影基準点ＰＳＰと、投影像横方向位置測定装置から得られる投影面Ｐにおける眼球ＥＢの投影像の横方向位置データとから求められる。

上述した構成の本発明によるエックス線遮蔽装置の遮蔽板駆動機構３０のアーム３６に直径１．０cmの遮蔽板２０を取り付けて、東芝製の血管造影装置（商品名／循環器撮影装置、型式／ＫＸＯ−１００Ｇ）にて遮蔽性能試験を行った。

遮蔽板２０は、０．５mm厚の鉄と、３．０mm厚の鉛とからなる積層体（実施例１）と、０．５mm厚の鉄と、６．０mm厚の鉛とからなる積層体（実施例２）の２種類を用意し、これらと遮蔽板２０を使用しない場合とを比較試験した。

上述した血管造影装置の管球使用条件は、管電圧８０kV、管電流１２５mAである。熱ルミネセンス線量計（１７０Ａ）は、人体組織と放射線等価の物質で作られた所謂ランドファントムの右水晶体に３箇所配置した。

エックス線は、１分間に亘って、後頭部から右目に到達するように照射した。
実施例１、実施例２の遮蔽板２０は夫々、その中心を、管球中心と右水晶体中心とを通る中心線上で管球から４５cmの距離に配置し、右水晶体は、その中心を前記中心線上で管球から９２cmの距離に配置した。尚、管球とイメージ[映像]増倍管との距離は１２２cmとした。
試験結果を表１に示す。

上記実験結果から、遮蔽板２０を用いてエックス線を遮蔽した右水晶体に関して、実施例１において遮蔽板なしと比較して約３５％、実施例２において遮蔽板なしと比較して約３９％もの遮蔽効果を確認できた。

本発明は、上述した実施形態に限定されることなく以下のような種々の変更が可能である。

例えば、図５に関連して説明した実施形態では、エックス線透過性アーム３６は１つのみであったけれども、２以上のエックス線透過性アーム３６を設けても良く、この場合には、各アームを別個独立に制御することができるようにするのが良い。

また、エックス線透過性アーム３６は１つとし、これを例えば二股に形作ることによって例えば２つのエックス線遮蔽板２０を保持しても良い。このような固定式の二股アーム３６を眼球の遮蔽に使用する場合には、２つのエックス線遮蔽板２０間の距離を、例えば、平均的な眼球間距離に合わせるのが良い。

更に、図７に示す遮蔽板駆動機構３０Ａでは、２つのエックス線遮蔽板２０を独立して移動させて、患者の両目をエックス線から遮蔽することができる。ところで、エックス線発生器３、エックス線検出器４を水平に位置させた状態で、患者ＰＡの側頭部にエックス線が照射されることがある。この場合には、患者の眼球をエックス線から遮蔽するのに１つのエックス線遮蔽板２０があれば足り、他方のエックス線遮蔽板２０は、必要な部位へのエックス線の照射を遮ってしまう恐れがある。そこで、２つのエックス線遮蔽板２０を夫々別個の移動平面を移動させることができるように２つの遮蔽板駆動機構３０Ａを設け、２つのエックス線遮蔽板２０を同時にエックス線照射経路（同一のエックス線軸線）上に位置させても良い。３つ以上のエックス線遮蔽板２０を夫々異なる移動平面を駆動させるための複数の遮蔽板駆動機構３０Ａを設けても良い。

上述した実施形態では、本発明によるエックス線遮蔽装置を血管造影装置に適用して説明したけれども、本発明のエックス線遮蔽装置は、血管造影装置以外の任意のエックス線透視装置に用いることができる。また、エックス線以外の放射線遮蔽装置としても用いることができる。

血管造影装置の部分概略斜視図である。 血管造影装置の部分概略正面図である。 血管造影装置の概略正面図及び概略左側面図である。 本発明の第１実施形態のエックス線遮蔽装置と血管造影装置との位置関係を示す部分概略正面図である。 エックス線遮蔽装置の遮蔽板駆動機構を示す平面図である。 図５Ａの蔽板駆動機構のアーム及び遮蔽板ラックの部分拡大概略断面図である。 エックス線遮蔽装置の構成を示すブロック図である。 遮蔽板駆動機構及びエックス線遮蔽板交換手段の変形実施形態を示す概略平面図である。 図７の遮蔽板駆動機構の部分拡大概略図である。 遮蔽板ラックのエックス線遮蔽板を遮蔽板駆動機構のアームが支持する仕方を示す作動状態図である。 遮蔽板ラックのエックス線遮蔽板をアームに保持させる仕方を示す作動状態図である。 遮蔽板ラックのエックス線遮蔽板をアームに保持させる仕方を示す作動状態図である。 遮蔽板ラックのエックス線遮蔽板をアームに保持させる仕方を示す作動状態図である。 共通基準点、エックス線源Ｓ、遮蔽位置ＳＨ、眼球位置ＥＢＣの位置関係を示す概略図である。 血管造影装置を眼球位置測定装置に利用した例を示す概略図である。 血管造影装置のエックス線源と、エックス線遮蔽装置の遮蔽板と、エックス線を遮蔽すべき眼球との位置関係を示す概略図である。 共通基準点ＣＳＰ、投影基準点ＰＳＰ、眼球投影像位置ＰＰの位置関係を示す概略図である。 眼球投影像横方向位置測定装置の１例を示す概略図である。 眼球投影像横方向位置測定装置の１例を示す概略図である。 共通基準点ＣＳＰ、眼球投影像位置ＰＰ、遮蔽板移動平面ＳＭＰ上の原点ＭＳＰの位置関係を示す概略図である。 遮蔽板駆動機構の変形例を示す概略斜視図である。 変形例の血管造影装置を示す部分概略正面図である。

符号の説明

１ エックス線透視装置
Ｓ エックス線源
３ エックス線発生器
Ｐ 投影面
４ エックス線検出器
９ ベッド（支持部材）
２０ エックス線遮蔽板
３０ 遮蔽板駆動機構
３２Ａ Ｘ軸方向ガイド
３３ 第１摺動体
３３Ａ 第１ステッピングモータ（第１モータ手段）
３４ Ｙ軸方向ガイド
３５ 第２摺動体
３５Ａ 第２ステッピングモータ（第２モータ手段）
３６ エックス線透過性アーム
１００ 制御装置

Claims (16)

1. エックス線源を備えるエックス線発生器と、前記エックス線発生器と一体に構成され、前記エックス線源に対向して設けられた投影面を備えるエックス線検出器と、前記エックス線源と前記投影面との間に、前記エックス線検出器から独立して配置される、被検体を支持するための支持部材とを有する、被検体の部位を透視するためのエックス線透視装置に使用される、前記エックス線源からのエックス線が前記被検体の特定部位に照射されないようにするためのエックス線遮蔽装置であって、
   前記エックス線源と前記支持部材との間に配置される少なくとも１つのエックス線遮蔽板と、
   該エックス線遮蔽板を支持する支持部を有し、エックス線照射経路を横切る方向に前記支持部の前記遮蔽板を移動させる遮蔽板駆動機構と、
   前記遮蔽板駆動機構を制御するための制御装置とを有し、該制御装置は、前記支持部材に対して相対的に前記エックス線発生器、及び前記エックス線検出器が移動されたときに前記エックス線源からのエックス線から前記被検体の特定部位を遮蔽するように、移動後の前記特定部位と前記エックス線発生器との位置関係に基づいて前記遮蔽板を移動させるようになっている、
   エックス線遮蔽装置。
2. 前記遮蔽板駆動機構の前記支持部が、大きさの異なるエックス線遮蔽板を取り替え可能に支持することができるようになっている、請求項１記載のエックス線遮蔽装置。
3. 前記制御装置は、前記エックス線遮蔽板を、前記エックス線遮蔽板の中心を位置決めすべき位置であって、前記遮蔽板の移動平面と交差する、前記エックス線源と該エックス線源からのエックス線の照射を遮るべき前記被検体の特定部位とを通って延びる中心線上の遮蔽位置に、移動させるようになっている、請求項２記載のエックス線遮蔽装置。
4. 前記遮蔽位置を決定する遮蔽位置決定手段を有し、前記制御装置が前記遮蔽位置決定手段によって決定された前記遮蔽位置に前記エックス線遮蔽板を移動させるようになっている、請求項３記載のエックス線遮蔽装置。
5. 前記遮蔽位置決定手段が、
   共通基準点に対する前記エックス線源の位置を計測するエックス線源位置測定装置と、
   前記共通基準点に対する前記遮蔽板駆動機構の位置を計測する遮蔽板駆動機構位置測定装置と、
   前記共通基準点に対する前記特定部位の位置を計測する非照射部位位置測定装置と、
   前記エックス線源位置測定装置からのデータと、前記遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、前記非照射部位位置測定装置からのデータとに基づいて前記遮蔽位置を演算処理する演算処理装置とによって構成される、
   請求項４記載のエックス線遮蔽装置。
6. 前記制御装置は、前記エックス線遮蔽板を、前記エックス線遮蔽板の中心を位置決めすべき位置であって、前記遮蔽板の移動平面と交差する、前記エックス線源と前記投影面における前記特定部位の投影像の位置とを通って延びる中心線上の遮蔽位置に、移動させるようになっている、請求項２記載のエックス線遮蔽装置。
7. 前記遮蔽位置を決定する遮蔽位置決定手段を有し、前記制御装置が前記遮蔽位置決定手段によって決定された前記遮蔽位置に前記エックス線遮蔽板を移動させるようになっている、請求項６記載のエックス線遮蔽装置。
8. 前記遮蔽位置決定手段が、
   共通基準点に対する前記エックス線源の位置を計測するエックス線源位置測定装置と、
   前記共通基準点に対する前記遮蔽板駆動機構の位置を計測する遮蔽板駆動機構位置測定装置と、
   前記共通基準点に対する、前記投影面における前記特定部位の投影像の位置を測定する非照射部位投影像位置測定装置と、
   前記エックス線源位置測定装置からのデータと、前記遮蔽板駆動機構位置測定装置からのデータと、前記非照射部位投影像位置測定装置からのデータとに基づいて
   前記遮蔽位置を演算処理する演算処理装置とによって構成される、
   請求項７記載のエックス線遮蔽装置。
9. 前記遮蔽位置に位置決めされる前記エックス線遮蔽板の、前記エックス線源からのエックス線の照射を遮るべき前記被検体の前記特定部位に適した大きさを決定するための遮蔽板寸法決定手段を有する、請求項５又は請求項８記載のエックス線遮蔽装置。
10. 前記遮蔽板寸法決定手段が、
    前記遮蔽位置決定手段と、
    前記エックス線源と前記前記特定部位の中心とを通って延びる中心線に対して垂直な平面に投影される前記前記特定部位の大きさに関するデータを記憶する非照射部位大きさ記憶装置と、
    前記遮蔽位置決定手段によって得られたデータ及び眼球大きさ記憶装置からのデータに基づいて当該前記特定部位に適した前記エックス線遮蔽板の大きさを演算処理する演算処理装置とによって構成された、
    請求項９記載のエックス線遮蔽装置。
11. 前記支持部材の前記エックス線遮蔽板を、大きさの異なるエックス線遮蔽板に交換するためのエックス線遮蔽板交換手段を有する、請求項９記載のエックス線遮蔽装置。
12. 前記エックス線遮蔽板交換手段が、大きさの異なる２つ以上のエックス線遮蔽板を解放自在に保持する遮蔽板ラックを有し、
    前記支持部が前記エックス線遮蔽板を解放自在に支持することができるように構成され、
    前記遮蔽板駆動機構が、前記支持部の前記エックス線遮蔽板を前記遮蔽板ラックに保持させ、前記遮蔽板ラックのエックス線遮蔽板を前記支持部に支持させるように前記支持部を移動させることができるようになった、
    請求項９記載のエックス線遮蔽装置。
13. 前記制御装置が、前記エックス線遮蔽板交換手段を制御して、前記支持部の前記エックス線遮蔽板を前記遮蔽板ラックに保持させ、前記遮蔽板ラックに保持されている、前記遮蔽板寸法決定手段によって決定された大きさのエックス線遮蔽板を前記支持部に支持させる、請求項１２記載のエックス線遮蔽装置。
14. 前記遮蔽板駆動機構が、前記エックス線遮蔽板を前記エックス線照射経路に沿って移動させることができるようになっている、請求項１０記載のエックス線遮蔽装置。
15. 前記制御装置に接続された指令入力装置を有する、請求項１記載のエックス線遮蔽装置。
16. 前記エックス線源からのエックス線が前記被検体の複数の特定部位に照射されないようにするために前記エックス線遮蔽板を少なくとも２つ有し、これらのエックス線遮蔽板を移動させる各前記遮蔽板駆動機構が、これらのエックス線遮蔽板を前記エックス線照射経路上の異なる位置で前記エックス線照射経路を横切る方向に移動させる、請求項１記載のエックス線遮蔽装置。

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