JP5031673B2 - Polishing apparatus and polishing method - Google Patents
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Description
本発明は、研磨装置及び研磨方法に係り、詳しくは、可撓性を有する板状ワークを搬送する複数の搬送ローラと、これらの搬送ローラによる搬送途中で板状ワークを研磨するバフ研磨ローラとを備えた研磨装置及び研磨方法に関する。 The present invention relates to a polishing apparatus and a polishing method. More specifically, the present invention relates to a plurality of conveying rollers that convey a flexible plate-like workpiece, and a buffing roller that polishes the plate-like workpiece in the middle of conveyance by these conveying rollers. The present invention relates to a polishing apparatus and a polishing method.
周知のように、板状ワークの一種であるプリント基板は、絶縁基板の片面または両面に形成した銅箔等からなる金属層の表面にフォトレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング等を行うフォトリソ工程を経て製作される。この場合、絶縁基板の金属層の表面にフォトレジスト膜を形成する前段階においては、その金属層をバフ研磨するのが通例であって、プリント基板として極めて薄肉の可撓性を有する基板であっても、上記のバフ研磨を行う必要がある。 As is well known, a printed circuit board, which is a kind of plate-shaped workpiece, forms a photoresist film on the surface of a metal layer made of copper foil or the like formed on one or both sides of an insulating substrate, and performs exposure, development, etching, and the like. It is manufactured through a photolithographic process. In this case, it is customary to buff the metal layer before the formation of the photoresist film on the surface of the metal layer of the insulating substrate, which is a very thin flexible substrate as a printed circuit board. However, it is necessary to perform the above buffing.
この種のバフ研磨を行う研磨装置として、例えば特許文献1(同文献の図10)及び特許文献2(同文献の図8)によれば、バフ研磨ローラと、このバフ研磨ローラに対向配置されたバックアップローラとを備え、この両ローラの相互間に送り込まれた板状ワークとしてのプリント基板に対してバフ研磨ローラが研磨処理を施しつつ、該プリント基板を前方に搬送する構成が開示されている。 As a polishing apparatus for performing this type of buffing, for example, according to Patent Document 1 (FIG. 10 of the same document) and Patent Document 2 (FIG. 8 of the same document), a buffing roller and a buffing roller are arranged to face each other. And a back-up roller, and a configuration is disclosed in which a buffing roller carries out a polishing process on a printed circuit board as a plate-like work fed between the two rollers and conveys the printed circuit board forward. Yes.
そして、これらの文献に開示されたプリント基板は、可撓性を有する薄肉基板であるため、上下一対のガイド部材により直進性を維持できるように案内されながら上記の両ローラの相互間に送り込まれて研磨処理を受けると共に、研磨処理後においても同様にガイド部材により案内されながら搬送ローラによってさらに前方に搬送されていくことになる。 Since the printed circuit boards disclosed in these documents are thin flexible boards, they are fed between the above two rollers while being guided by a pair of upper and lower guide members so as to maintain straightness. Then, after the polishing process, it is further conveyed forward by the conveying roller while being guided by the guide member in the same manner.
ところで、上記の特許文献1、2に開示された研磨装置によれば、プリント基板が水平方向に搬送され且つその水平姿勢を維持してバフ研磨ローラとバックアップローラとの相互間に送り込まれる構成であるが、プリント基板が極めて薄い可撓性を有する基板であると、その反りの発生が品位低下を招くという問題が生じる。
By the way, according to the polishing apparatus disclosed in
詳述すると、この種のプリント基板が研磨されるに際して、例えばそのプリント基板の上面側が研磨された場合には、プリント基板は研磨領域の搬送方向前端が下側に変位するように、また例えばそのプリント基板の下面側が研磨された場合には、プリント基板は研磨領域の搬送方向前端が上側に変位するように、換言すれば、バフ研磨ローラ側に凸となるように湾曲する。そして、この湾曲に伴う反りが除去されることなく研磨装置からプリント基板が搬出されることになるため、研磨後のプリント基板にフォトリソ工程などの後工程を適正に実行することができず、最終製品の品位低下を招くことになる。 More specifically, when this type of printed circuit board is polished, for example, when the upper surface side of the printed circuit board is polished, the printed circuit board is arranged so that the front end in the conveyance direction of the polishing region is displaced downward, and for example When the lower surface side of the printed circuit board is polished, the printed circuit board is curved so that the front end in the conveyance direction of the polishing area is displaced upward, in other words, convex toward the buffing roller side. And since the printed circuit board is carried out from the polishing apparatus without removing the warp associated with this curvature, the post-process such as the photolithography process cannot be properly performed on the polished printed circuit board, and the final The product quality will be reduced.
更に、この種のプリント基板をバフ研磨ローラとバックアップローラとの相互間に送り込む直前には、プリント基板が水平姿勢であるために、その前端が自重により折曲して垂れ下がり、両ローラ間にプリント基板が適切に挟み込まれないという事態を招くばかりでなく、その上流側或いは下流側の搬送ローラの配列ピッチを極めて小さくしなければ、プリント基板の前端が自重により搬送ローラ相互間の隙間に挟まるという不具合をも招く。 Further, immediately before this type of printed circuit board is sent between the buffing roller and the backup roller, the printed circuit board is in a horizontal position, so its front end is bent and droops due to its own weight, and printing is performed between both rollers. Not only will the board not be properly sandwiched, but the upstream or downstream transport roller arrangement pitch will not be made very small, and the front end of the printed circuit board will be sandwiched between the transport rollers by its own weight. It also causes problems.
しかも、上記の特許文献1、2に開示された研磨装置は何れも、バフ研磨ローラとバックアップローラとの相互間で、プリント基板をバフ研磨ローラにより研磨する構成であるため、この両ローラ間に異物が介入した場合には、バックアップローラの周面の剛性が高いこと等に起因して、プリント基板に打痕が付き、これによってもプリント基板の品位低下を招くことになる。
In addition, since each of the polishing apparatuses disclosed in
本発明は、上記事情に鑑み、可撓性を有する板状ワークをバフ研磨ローラの配設位置に適切に送り込むことを可能にすると共に、バックアップローラの存在により板状ワークに打痕が付き品位低下を招くという事態を抑止することを技術的課題とする。 In view of the above circumstances, the present invention makes it possible to appropriately feed a flexible plate-shaped workpiece to the position where the buffing roller is disposed, and the plate-shaped workpiece is marked with a dent due to the presence of the backup roller. The technical challenge is to deter the situation that causes a decline.
上記技術的課題を解決するためになされた本発明に係る装置は、可撓性を有する板状ワークが搬送手段により搬送されると共に、この搬送手段による搬送途中で前記板状ワークがバフ研磨ローラにより研磨されるように構成した研磨装置において、前記搬送手段が前記板状ワークを水平方向に沿って搬送するように形成された搬送径路の途中に、前記板状ワークを挟持する一対のグリップローラを対向して配置し、これらのグリップローラにより前記板状ワークを上下方向に沿って送ると共に、その送られた板状ワークの両面を、前記一対のグリップローラの下方に対向して配置された一対の前記バフ研磨ローラの相互間でこれらのバフ研磨ローラにより同時に研磨するように構成したことに特徴づけられる。ここで、上記の「搬送手段」は、複数の搬送ローラまたは搬送コンベヤもしくはこれらの組み合わせで構成することができる。 The apparatus according to the present invention made to solve the above technical problem is such that a flexible plate-like workpiece is conveyed by a conveying means, and the plate-like workpiece is buffed in the middle of conveyance by the conveying means. A pair of grip rollers that sandwich the plate-like workpiece in the middle of a conveyance path formed so that the conveyance means conveys the plate-like workpiece along a horizontal direction. The plate-like workpiece is fed along the vertical direction by these grip rollers, and both sides of the fed plate-like workpiece are arranged opposite to the lower side of the pair of grip rollers . The pair of buffing rollers is characterized in that the buffing rollers are simultaneously polished by the buffing rollers. Here, the above-mentioned “conveying means” can be constituted by a plurality of conveying rollers, a conveying conveyor, or a combination thereof.
このような構成によれば、可撓性を有する板状ワークは、一対のグリップローラにより挟持されて上下方向に沿ってバフ研磨ローラの配設位置に送られることから、板状ワークの前端がその自重により折曲することはなく、板状ワークはバフ研磨ローラの配設位置に適切に直進していくことになる。しかも、このように上下方向に沿って送られる板状ワークは、その両面が、対向配置された一対のバフ研磨ローラによって同時に研磨されるため、反りの発生が回避され、板状ワークの品位低下が抑止される。更に、板状ワークを研磨するに際して、従来のバックアップローラが使用されていないため、異物の介入によって板状ワークに打痕が付く等の不具合が回避され、上記の反りの発生抑止と相俟って板状ワークの品位低下がより一層確実に抑止される。 According to such a configuration, the flexible plate-like workpiece is sandwiched between the pair of grip rollers and sent to the position where the buffing roller is disposed along the vertical direction. The plate-shaped workpiece does not bend due to its own weight, and goes straight to the position where the buffing roller is disposed appropriately. In addition, since the plate-like workpiece fed in the vertical direction in this manner is simultaneously polished by a pair of buffing rollers arranged opposite to each other, the occurrence of warpage is avoided and the quality of the plate-like workpiece is reduced. Is suppressed. Further, when a plate-like workpiece is polished, a conventional backup roller is not used, so that troubles such as dents on the plate-like workpiece due to foreign matter are avoided, and this is combined with the suppression of the occurrence of warping. Thus, the deterioration of the quality of the plate-like workpiece is more reliably prevented.
更に、上述の本発明に係る装置によれば、前記搬送経路は、前記搬送手段が前記板状ワークを水平方向に沿って搬送するように形成されると共に、該搬送径路の途中における前記一対のグリップローラの下方に前記一対のバフ研磨ローラが配設されている。 Further, according to the above-described apparatus according to the present invention, the transport path is formed such that the transport means transports the plate-shaped workpiece along the horizontal direction, and the pair of pairs in the middle of the transport path. the pair of buffing roller below the grip roller is arranged.
このようにすれば、搬送径路自体は板状ワークを水平方向に沿って搬送するものであるが、研磨を行う際には板状ワークが上下方向に沿って送られることになるため、上述の利点を享受した上で、当該研磨装置への板状ワークの搬入及び搬出が水平方向に沿って行われることになる。これにより、当該研磨装置の全高を低く維持してコンパクト化を図りつつ、当該研磨装置の上流側及び下流側に設置される他の工程を実行するための装置との間で、板状ワークの受け渡しを円滑に行うことが可能となる。 In this way, the conveyance path itself conveys the plate-like workpiece along the horizontal direction, but when performing polishing, the plate-like workpiece is sent along the vertical direction. After enjoying the advantages, loading and unloading of the plate-like workpiece into and from the polishing apparatus are performed along the horizontal direction. Accordingly, while maintaining the overall height of the polishing apparatus low and reducing the size, the plate-like workpiece can be moved between the polishing apparatus and the apparatus for performing other processes installed on the upstream side and the downstream side of the polishing apparatus. Delivery can be performed smoothly.
また、上記の構成において、前記板状ワークは、前記一対のグリップローラにより挟持された状態で下方への送りの後に上方への送りが行われることにより前記一対のバフ研磨ローラにより両面が同時に研磨されるように構成することができる。 In the above configuration, both sides of the plate-like workpiece are simultaneously polished by the pair of buffing rollers by being fed downward and then being fed by the pair of grip rollers. Can be configured.
このようにすれば、一対のグリップローラが板状ワークを挟持した状態で正転することにより、該板状ワークが下方に送られつつ一対のバフ研磨ローラによりその両面が同時に研磨され、その後に、一対のグリップローラが逆転することにより、該板状ワークが上方に送られつつ一対のバフ研磨ローラによりその両面が同時に研磨される。これにより、板状ワークの両面は、該板状ワークの下方及び上方の双方向への送りを付与されつつ同一領域が二度に亘って研磨されることになるので、研磨効率が向上する。 In this way, the pair of grip rollers rolls forward while sandwiching the plate-like workpiece, so that the plate-like workpiece is simultaneously sent to the lower side and both surfaces thereof are polished simultaneously by the pair of buffing rollers. By rotating the pair of grip rollers in reverse, both the surfaces thereof are simultaneously polished by the pair of buffing rollers while the plate-like workpiece is fed upward. As a result, both surfaces of the plate-like workpiece are polished twice in the same area while being fed in both the lower and upper directions of the plate-like workpiece, so that the polishing efficiency is improved.
更に、上記の構成において、前記搬送経路の途中における上流側と下流側との少なくとも二箇所にそれぞれ、前記一対のグリップローラと前記一対のバフ研磨ローラとが配設される構成とすることができる。 Furthermore, in the above configuration, the pair of grip rollers and the pair of buffing rollers may be disposed in at least two locations on the upstream side and the downstream side of the conveyance path. .
このようにすれば、板状ワークに対する一対のバフ研磨ローラによる両面の同時研磨が少なくとも二箇所で行われるため、従来のようにバフ研磨ローラとバックアップローラとにより各一箇所でそれぞれ板状ワークの片面のみを研磨していた場合と比較して、バフ研磨ローラの配設箇所を半分にして当該研磨装置のコンパクト化を図ることが可能となる。 In this way, since the plate-like workpiece is simultaneously polished on both sides by the pair of buffing rollers at at least two locations, the buffing roller and the backup roller each of the plate-like workpieces at one location as in the prior art. Compared with the case where only one side is polished, the location where the buffing roller is disposed can be halved to make the polishing apparatus compact.
このような構成においては、前記搬送経路の途中における上流側に配設された一対のグリップローラと一対のバフ研磨ローラとによって、前記板状ワークの搬送方向一端を含む一部領域を研磨し、下流側に配設された一対のグリップローラと一対のバフ研磨ローラとによって、搬送方向が逆向きの状態にある前記板状ワークの未研磨部を含む領域を研磨するように構成されていることが好ましい。 In such a configuration, a pair of grip rollers and a pair of buffing rollers disposed on the upstream side in the middle of the transport path are used to polish a partial region including one end in the transport direction of the plate-like workpiece, A pair of grip rollers and a pair of buffing rollers disposed on the downstream side are configured to polish a region including an unpolished portion of the plate-like workpiece in the conveying direction opposite to the conveying direction. Is preferred.
このようにすれば、上述のように研磨装置のコンパクト化を図った上で、板状ワークの全領域に対して適切な研磨を施すことが可能となると共に、下流側では上流側と搬送方向が逆向きの状態で研磨が施されるため、板状ワークの両面または片面にバリ等が形成されていても、このバリ等は適切に除去されることになる。 In this way, the polishing apparatus can be made compact as described above, and appropriate polishing can be performed on the entire area of the plate-like workpiece. Therefore, even if burrs or the like are formed on both sides or one side of the plate-like workpiece, the burrs and the like are appropriately removed.
また、上記の構成において、前記板状ワークは、前記搬送手段による水平方向に沿う搬送と、前記一対のバフ研磨ローラに対する送りとの方向変換時に、前記一対のグリップローラの周辺で流体の噴射供給を受けるように構成することができる。 Further, in the above configuration, the plate-like workpiece is jetted and supplied with a fluid around the pair of grip rollers when the direction of the conveyance along the horizontal direction by the conveying unit and the feeding to the pair of buffing rollers is changed. Can be configured to receive.
このようにすれば、可撓性を有する板状ワーク(板状ワークの前端)がグリップローラの配設位置に到達した時点で、流体の噴射供給を受けて一対のグリップローラの相互間に侵入して一対のバフ研磨ローラに向かう方向に方向変換すると共に、一対のバフ研磨ローラによる研磨を終えた板状ワーク(板状ワークの後端)が一対のグリップローラの相互間から抜け出る時点においても、流体の噴射供給を受けて搬送手段による水平搬送方向に方向変換する。これにより、可撓性を有する板状ワークのグリップローラでの方向変換が円滑且つ確実に行われることになる。 In this way, when the flexible plate-like workpiece (the front end of the plate-like workpiece) reaches the position where the grip roller is disposed, the fluid jet is supplied and enters between the pair of grip rollers. Then, the direction is changed in the direction toward the pair of buffing rollers, and the plate-like workpiece (the rear end of the plate-like workpiece) that has been polished by the pair of buffing rollers comes out from between the pair of grip rollers. When the fluid is supplied, the direction is changed in the horizontal conveyance direction by the conveyance means. Thereby, the direction change with the grip roller of the plate-shaped workpiece | work which has flexibility is performed smoothly and reliably.
以上の構成において、前記板状ワークは、フレキシブルプリント基板とすることができる。 In the above configuration, the plate-like workpiece can be a flexible printed board.
このようにすれば、既に述べた種々の利点を的確に享受することができ、また両面に銅箔等の金属層が形成されたフレキシブルプリント基板であれば、より一層的確に既述の利点を享受することが可能となる。なお、研磨対象は、フレキシブルプリント基板に限られず、可撓性を有する薄肉基板その他の可撓性を有する板状ワークであってもよいことは言うまでもない。 In this way, the various advantages already described can be enjoyed accurately, and if the flexible printed board has a metal layer such as copper foil formed on both sides, the advantages already described can be obtained more accurately. It can be enjoyed. Needless to say, the object to be polished is not limited to the flexible printed circuit board, but may be a flexible thin plate or other flexible plate-like workpiece.
一方、上記技術的課題を解決するためになされた本発明に係る方法は、可撓性を有する板状ワークが搬送手段により搬送されると共に、この搬送手段による搬送途中で前記板状ワークがバフ研磨ローラにより研磨される研磨方法において、前記搬送手段が前記板状ワークを水平方向に沿って搬送するように形成された搬送径路の途中に、前記板状ワークを挟持する一対のグリップローラを対向して配置し、これらのグリップローラにより前記板状ワークを上下方向に沿って送ると共に、その送られた板状ワークの両面を、前記一対のグリップローラの下方に対向して配置された一対の前記バフ研磨ローラの相互間でこれらのバフ研磨ローラにより同時に研磨することに特徴づけられる。 On the other hand, according to the method of the present invention made to solve the above technical problem, a flexible plate-shaped workpiece is conveyed by a conveying means, and the plate-shaped workpiece is buffed during conveyance by the conveying means. In a polishing method in which polishing is performed by a polishing roller, a pair of grip rollers that sandwich the plate-shaped workpiece are opposed to each other in the middle of a conveyance path formed so that the conveyance means conveys the plate-shaped workpiece along a horizontal direction. These grip rollers are used to feed the plate-like workpiece along the vertical direction, and both sides of the fed plate-like workpiece are placed opposite to each other below the pair of grip rollers . It is characterized in that the buffing rollers are simultaneously polished between the buffing rollers.
このような方法によっても、上記装置の基本的構成から得られる作用効果と実質的に同一の作用効果を得ることができる。 Also by such a method, substantially the same operation effect as the operation effect obtained from the basic configuration of the apparatus can be obtained.
以上のように本発明によれば、可撓性を有する板状ワークが一対のグリップローラにより挟持されて上下方向に沿ってバフ研磨ローラの配設位置に送られるため、板状ワークの前端がその自重により折曲することなくバフ研磨ローラの配設位置に適切に直進していくと共に、その板状ワークの両面が一対のバフ研磨ローラによって同時に研磨されるため、反りの発生が回避され、板状ワークの品位低下が抑止される。しかも、従来のバックアップローラが不要であるため、異物の介入によって板状ワークに打痕が付く等の不具合が回避され、上記の反りの発生抑止と相俟って板状ワークの品位低下がより一層確実に抑止される。 As described above, according to the present invention, since the flexible plate-like workpiece is sandwiched between the pair of grip rollers and sent to the position where the buffing roller is disposed along the vertical direction, the front end of the plate-like workpiece is As it goes straight to the position where the buffing roller is disposed without bending due to its own weight, and both surfaces of the plate-like workpiece are simultaneously polished by the pair of buffing rollers, the occurrence of warpage is avoided, Degradation of the quality of the plate workpiece is suppressed. In addition, since the conventional backup roller is not necessary, problems such as dents on the plate-like workpiece due to the intervention of foreign matter are avoided, and combined with the above-described suppression of warpage, the quality of the plate-like workpiece is further reduced. Deterred more reliably.
以下、本発明の実施形態を添付図面を参照して説明する。図1は、本発明の第一の実施形態に係る研磨装置の全体構成を示す概略正面図であり、図2は、当該研磨装置の全体構成を示す概略平面図である。また、図3は、図1のA−A線拡大断面図である。更に、図4は、当該研磨装置の要部を示す拡大概略斜視図であり、図5は、当該研磨装置の要部を示す拡大概略正面図である。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic front view showing the overall configuration of the polishing apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view showing the overall configuration of the polishing apparatus. FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along line AA of FIG. Further, FIG. 4 is an enlarged schematic perspective view showing the main part of the polishing apparatus, and FIG. 5 is an enlarged schematic front view showing the main part of the polishing apparatus.
図1に示すように、本実施形態に係る研磨装置1は、筐体2の内部に、板厚が0.1mm以下(例えば0.084mm)の可撓性を有する板状ワークとしてのフレキシブルプリント基板を含む薄肉基板(以下、単にプリント基板という)Pを、水平方向に沿って搬送する搬送経路3を有している。この搬送経路3は、プリント基板Pを搬入させる搬入口4に通じる搬入用搬送経路3Aと、プリント基板Pを研磨しつつ搬送する研磨用搬送経路3Bと、プリント基板Pを搬出させる搬出口5に通じる搬出用搬送経路3Cとに大略区分される。
As shown in FIG. 1, the polishing
搬入用搬送経路3Aには、プリント基板Pを載せた状態で上流側(同図の左側)から下流側(同図の右側)に搬送する複数個の下部搬送ローラ6が水平方向に沿って配列されている。そして、この搬入用搬送経路3Aの下流側端部には、下部搬送ローラ6によって搬送されるプリント基板Pの前端(同図の右端)が初期位置に到達したことを検出する入口センサ7と、この入口センサ7からの信号に基づいて下降することによりプリント基板Pを停止させる基板用ストッパ8とが配設されている。
A plurality of
研磨用搬送経路3Bには、プリント基板Pを小さな力で挟持して搬送する複数個の下部搬送ローラ6及び複数個の上部搬送ローラ9が水平方向に沿って配列されると共に、その上流端及び下流端にはそれぞれ、プリント基板Pの全領域を挟持してそのプリント基板Pの液切りを行う上下一対の挟持ローラ10、11が配設されている。なお、上部搬送ローラ9の配列ピッチは、下部搬送ローラ6の配列ピッチの二倍であると共に、上部搬送ローラ9は、一つおきの下部搬送ローラ6の上方に対向して配置されている。この場合、上部搬送ローラ9の配列ピッチと、下部搬送ローラ6の配列ピッチとは、同一であっても差し支えない。更に、この研磨用搬送経路3Bの中間部における上流側と下流側との二箇所にはそれぞれ、プリント基板Pを大きな力で挟持する左右一対のグリップローラ12、13が対向して配置されると共に、この二箇所のグリップローラ12、13の直下方にはそれぞれ、左右一対のバフ研磨ローラ14、15が対向して配置されている。また、この研磨用搬送経路3Bにおける二箇所のグリップローラ12、13の上流側にはそれぞれ、プリント基板Pの前端が研磨用初期位置に到達したことを検出する初期位置検出センサ18、19が配設されている。更に、二箇所に配設された一対のグリップローラ12、13のそれぞれのうち、上流側に存するグリップローラ12、13の斜め右上には方向変換用ガイドローラ16、17がそれぞれ対向して配置されると共に、同じく上流側に存するグリップローラ12、13の斜め左上方には、水やエア等の流体(本実施形態では水)を斜め右下方に向けて噴射する流体噴射手段20、21がそれぞれ配設されている。また、この研磨用搬送経路3Bの下方における各一対のバフ研磨ローラ14、15の配設位置のそれぞれの左右両側には、対応するグリップローラ12、13及びバフ研磨ローラ14、15並びにプリント基板Pに向けて研磨液を噴射供給する研磨液供給手段22が配設されている。
In the polishing
搬出用搬送経路3Cには、プリント基板Pを小さな力で挟持する複数個の下部搬送ローラ6及び上部搬送ローラ9が水平方向に沿って配列されると共に、その下流端には、プリント基板Pの前端が搬出口5近傍に到達したことを検出する出口センサ23が配設されている。
A plurality of
この場合、図2及び図3に示すように、下部搬送ローラ6は、上下流方向(搬送方向)と直交するローラ軸6a上に複数枚のローラ体6bが並列に固定されてなるものである。詳述すると、厚みが直径の1/2以下とされた10枚以上のローラ体6bがローラ軸6a上に固定され、隣り合うローラ軸6aのうち、一方のローラ軸6a上の各ローラ体6b間の隙間に、他方のローラ軸6a上の各ローラ体6bが入り込んだ状態とされている。また、上部搬送ローラ9も、図3に示すように、上下流方向と直交するローラ軸9a上に同様の複数枚のローラ体9bが並列に固定されてなるものである。
In this case, as shown in FIGS. 2 and 3, the
一方、図2に示すように、上流端及び下流端の挟持ローラ10、11は何れも、外周面が上下流方向と直交する軸方向に連続して延びる円筒面をなし、この円筒面の軸方向長さは、プリント基板Pの全領域を挟持できる長さとされている。更に、図4にも示すように、各グリップローラ12(13)の外周面及び各バフ研磨ローラ14(15)の外周面も、上下流方向と直交する軸方向に連続して延びる円筒面をなし、これらの円筒面の軸方向長さは、プリント基板Pの全領域を挟持できる長さとされている。また、方向変換用ガイドローラ16(17)も、上記と同様の軸方向長さを有する円筒面とされている。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the upstream end roller and the downstream
図5は、上流側の一対のグリップローラ12及び一対のバフ研磨ローラ14の周辺構造を示すものである。なお、下流側の一対のグリップローラ13及び一対のバフ研磨ローラ15の周辺構造についても実質的に同一であるので、その構成要素については図5に括弧付きの符号を付してその説明を省略する。同図に示すように、研磨用搬送経路3Bの上流側から下部搬送ローラ6及び上部搬送ローラ9の矢印a方向への回転に伴って水平方向下流側に搬送されるプリント基板Pは、その前端が一対のグリップローラ12のうち上流側のグリップローラ12に到達した時点で、流体噴射手段20から噴射供給される流体(水)の流れW1によって上流側のグリップローラ12の外周面に接触しつつ一対のグリップローラ12の相互間に挟持される。そして、この両グリップローラ12が矢印b方向に正転することによって、両グリップローラ12間に挟持されたプリント基板Pは、下方に向かって送られ、一対のバフ研磨ローラ14の相互間に送り込まれる。この送り込まれたプリント基板Pは、その表裏両面が一対のバフ研磨ローラ14により同時に研磨され、この研磨は、プリント基板Pの後端が一対のグリップローラ12から離反する直前まで実行されるようになっている。
FIG. 5 shows the peripheral structure of the pair of
この後においては、一対のグリップローラ12が矢印c方向に逆転することによって、プリント基板Pは上方に向かって送られ、一対のバフ研磨ローラ14により上記とは逆方向の両面の同時研磨がプリント基板Pの同一領域に対して行われる。この場合、プリント基板Pの上方への送りが開始された直後においては、プリント基板Pの後端は、流体噴射手段20から噴射供給される流体(水)の流れW2によって下流側のグリップローラ12の外周面に接触しつつその下流側の下部搬送ローラ6及び上部搬送ローラ9の相互間に挟持され、その後、プリント基板Pは水平方向下流側に搬送されるようになっている。なお、一対のバフ研磨ローラ14は、矢印d方向への回転を維持する。
Thereafter, when the pair of
次に、本実施形態に係る研磨装置1によりプリント基板Pを研磨する動作を時系列的に説明する。
Next, the operation of polishing the printed circuit board P by the polishing
図6(a)に示すように、搬入口4を通じて搬入されたプリント基板Pは、搬入用搬送経路3Aの下部搬送ローラ6により下流側に向かって搬送され、入口センサ7によってプリント基板Pの前端が初期位置に到達したことが検出された時点で、基板用ストッパ8が図示の状態に下降する。
As shown in FIG. 6A, the printed circuit board P carried in through the carry-in
その結果、図6(b)に示すように、プリント基板Pは、その前端が基板用ストッパ8に当接して挟持ローラ10の直前で停止するが、この時点では、基板用ストッパ8の動作によって、プリント基板Pの前端が上下流方向と直交する方向に揃えられて、プリント基板Pが正確な姿勢に維持される。
As a result, as shown in FIG. 6B, the printed board P stops at the front end of the printed board P just before the clamping
この後、図6(c)に示すように、プリント基板Pは、上下一対の挟持ローラ10に挟持された状態で下部搬送ローラ6及び上部搬送ローラ9によって下流側に搬送され、上流側の初期位置検出センサ18により、プリント基板Pの前端が研磨用初期位置に到達したことが検知される。この場合、初期位置検出センサ18からの信号に基づいて、プリント基板Pの長さ及び搬送速度に応じたグリップローラ12の正転及び逆転の時期や流体噴射手段20からの水の噴射供給の時期等が、図外の制御手段により制御される。
Thereafter, as shown in FIG. 6C, the printed circuit board P is conveyed downstream by the
そして、プリント基板Pが更に下流側に搬送されていくことにより、プリント基板Pは、方向変換用ガイドローラ16及び流体噴射手段20からの水の流れW1によって方向変換して、図7(a)に示すように、正転する一対のグリップローラ12により挟持された状態でその前方部が下方に向かって送られ、その前端が一対のバフ研磨ローラ14間に円滑に侵入する。
Then, as the printed board P is further conveyed to the downstream side, the printed board P is changed in direction by the flow W1 of water from the direction changing
このように、プリント基板Pの前端が一対のバフ研磨ローラ14間に侵入した後は、その一対のバフ研磨ローラ14によってプリント基板Pの両面が同時に研磨されながらプリント基板Pは下方に送られる。そして、このようなプリント基板Pの研磨を伴う下方への送りは、図7(b)に示すように、プリント基板Pの後端が一対のグリップローラ12間から離脱する直前で停止する。この時点では、後続のプリント基板P1が、入口センサ7を通過して基板用ストッパ8により停止されて待機した状態にある。
As described above, after the front end of the printed circuit board P enters between the pair of buffing
この後は、一対のグリップローラ12が逆転して先行するプリント基板Pは上方に向かって送られるが、この際には、同方向に回転している一対のバフ研磨ローラ14によりプリント基板Pの両面が上記と実質的に同方向の研磨を同時に受ける。そして、プリント基板Pの上方への送り開始直後においては、プリント基板Pの後端が前端となって、その前端が、方向変換用ガイドローラ16と流体噴射手段20からの水の流れW2とによって水平方向下流側に向かうように方向変換し、プリント基板Pの当初前端であった後端が上方への送りによって一対のバフ研磨ローラ14間から離脱した時点で、図7(c)に示すように、プリント基板Pは下部搬送ローラ6及び上部搬送ローラ9によって更に下流側に向かって搬送される。なお、このプリント基板Pの前側領域(当初後側領域)は、未研磨領域となっている。この時点で、後続のプリント基板P1は、基板用ストッパ8の上昇により下流側に向かって搬送可能となる。
After this, the pair of
更に、先行するプリント基板Pが下流側に搬送され、その前端(当初後端)が、図8(a)に示すように、下流側の初期位置検出センサ19により検知されて、下流側の一対のグリップローラ13の正転及び逆転の時期や流体噴射手段21の動作が特定されると共に、この時点では、後続のプリント基板P1は上流側の一対の挟持ローラ10により挟持されて下流側に搬送される。
Further, the preceding printed circuit board P is transported to the downstream side, and its front end (initial rear end) is detected by the downstream initial
そして、図8(b)に示すように、先行するプリント基板P及び後続のプリント基板P1が下流側に搬送されることにより、図8(c)に示すように、先行するプリント基板Pの前端が、下流側のグリップローラ13の直前に到達した時点で、後続のプリント基板P1は、その前端が上流側の初期位置検出センサ18により検知されて、上流側の一対のグリップローラ12の正転及び逆転の時期や流体噴射手段20の動作が特定される。
Then, as shown in FIG. 8B, the preceding printed board P and the succeeding printed board P1 are transported to the downstream side, so that the front end of the preceding printed board P is shown in FIG. 8C. However, when it reaches immediately before the
この後、図9(a)に示すように、先行するプリント基板Pの前端が方向変換して下方に向かって送られ、下流側の一対のバフ研磨ローラ15間に侵入した時点で、後続のプリント基板P1は、その前端が上流側のグリップローラ12の近傍で方向変換しつつある。なお、上流側のグリップローラ12及びバフ研磨ローラ14と、下流側のグリップローラ13及びバフ研磨ローラ15とは、回転方向等の動作が同一である。
Thereafter, as shown in FIG. 9 (a), when the front end of the preceding printed circuit board P is changed in direction and sent downward and enters between the pair of buffing
そして、図9(b)に示すように、先行するプリント基板Pが更に下方に送られることにより、そのプリント基板Pの未研磨領域である前側領域が、下流側の一対のバフ研磨ローラ15により研磨されると共に、この時点では、後続のプリント基板P1が、上流側の一対のバフ研磨ローラ14間に侵入を開始する。更に、図9(c)に示すように、先行するプリント基板Pの後端が一対のグリップローラ13間から離脱する直前で停止した時点では、後続のプリント基板P1は下方への送りを伴う研磨途中にある。したがって、この研磨装置1では、複数枚(図例では2枚)のプリント基板P、P1が、同時に研磨処理を受けることになる。
Then, as shown in FIG. 9B, when the preceding printed board P is further sent downward, the front area, which is an unpolished area of the printed board P, is caused by a pair of
そして、図10(a)に示すように、先行するプリント基板Pが上方への送りを伴う研磨途中にある時に、後続のプリント基板P1の後端は一対のグリップローラ13間から離脱する直前で停止した状態にあるが、この時点では、更に後続(三枚目)のプリント基板P2が入口センサ7を通過して基板用ストッパ8により停止された状態にある。したがって、この研磨装置1では、複数枚(図例では三枚)のプリント基板P、P1、P2が、搬送や研磨等の処理を同時に受けることになる。なお、先行するプリント基板Pは、この下流側のバフ研磨ローラ15によって、上流側のバフ研磨ローラ14による場合とは逆方向の研磨を受ける。
Then, as shown in FIG. 10A, when the preceding printed circuit board P is in the middle of polishing with upward feeding, the rear end of the subsequent printed circuit board P1 is immediately before the separation between the pair of
この後、図10(b)に示すように、先行するプリント基板Pが下流側の上下一対の挟持ローラ11により挟持された状態で、その前端が出口センサ23を通過して搬出口5から僅かに外部に突出した時点では、後続のプリント基板P1と、更に後続のプリント基板P2とは、上述の図7(c)に示す状態と同一になる。なお、図10(c)に示す状態を経て、先行するプリント基板Pの前端が、図11(a)、(b)、(c)に示す変化態様に則して、搬出口5から徐々に突出していくことにより、後続のプリント基板P1と、更に後続のプリント基板P2とは、上述の図8(a)、(b)、(c)に示す変化態様と同一になる。そして、先行するプリント基板Pの後端が出口センサを通過した時点で、このプリント基板Pに対する研磨装置1内での処理が終了する。
Thereafter, as shown in FIG. 10B, the front end of the printed circuit board P passes through the
なお、上記の実施形態では、搬入用搬送経路3A、研磨用搬送経路3B及び搬出用搬送経路3Cの全てが水平方向に沿うように構成したが、これらの径路3A、3B、3Cのうちの少なくとも一つが水平方向に対して所定角度だけ傾斜していてもよい。
In the above-described embodiment, all of the carry-in
図12は、本発明の第二の実施形態に係る研磨装置1を例示するものであるが、便宜上、搬送ローラ等を省略すると共に、プリント基板Pの移動軌跡を一点鎖線で図示したものである。同図に示すように、この研磨装置1は、搬入口から上流側のグリップローラ12に至るまでの搬送径路の全部または一部の径路3A1が上下方向に沿うと共に、下流側のグリップローラ13から搬出口に至るまでの搬送経路の全部または一部の径路3C1が上下方向に沿うように構成されている。その他の構成は、上述の第一の実施形態に係る研磨装置1と実質的に同一であるので、共通する構成要素に同一符号を付して動作等の説明を省略する。
FIG. 12 exemplifies the polishing
図13は、本発明の第三の実施形態に係る研磨装置1を例示するものであり、この場合にも便宜上、搬送ローラ等を省略すると共に、プリント基板Pの移動軌跡を一点鎖線で図示したものである。同図に示すように、この研磨装置1は、搬入口から水平方向(上下方向でもよい)に沿って搬送されて上流側のグリップローラ12に到達したプリント基板Pが、下方のみに送られながら上流側のバフ研磨ローラ14により両面が同時研磨された後、方向変換して搬送されることにより下流側のバフ研磨ローラ15の直下方に至り、更に方向変換して上方のみに送られながら下流側のバフ研磨ローラ15により両面が同時研磨され、然る後、下流側のグリップローラ13を経て水平方向(上下方向でもよい)に沿って搬出口に至るように構成されている。この場合、プリント基板Pを挟持する上流側のグリップローラ12及び下流側のグリップローラ13は、上流側のバフ研磨ローラ14の上方及び下方と、下流側のバフ研磨ローラ15の上方及び下方とに配設され、これらのグリップローラ12、13と各バフ研磨ローラ14、15とは、該当するローラに矢印を付した方向に回転する。その他の構成は、上述の第一の実施形態に係る研磨装置1と実質的に同一であるので、共通する構成要件については同一符号を付してその説明を省略する。
FIG. 13 illustrates the polishing
なお、以上の実施形態では、プリント基板Pを搬送する搬送手段として搬送ローラを使用したが、この搬送手段は、搬送コンベヤであってもよく、或いは搬送ローラと搬送コンベヤとの組み合わせであってもよい。 In the above embodiment, the transport roller is used as the transport means for transporting the printed circuit board P. However, the transport means may be a transport conveyor or a combination of the transport roller and the transport conveyor. Good.
1 研磨装置
3A 搬送経路(搬入用搬送経路)
3B 搬送経路(研磨用搬送経路)
3C 搬送経路(搬出用搬送経路)
6 搬送手段(下部搬送ローラ)
9 搬送手段(上部搬送ローラ)
12 グリップローラ(上流側のグリップローラ)
13 グリップローラ(下流側のグリップローラ)
14 バフ研磨ローラ(上流側のバフ研磨ローラ)
15 バフ研磨ローラ(下流側のバフ研磨ローラ)
16 方向変換用ガイドローラ(上流側の方向変換用ガイドローラ)
17 方向変換用ガイドローラ(下流側の方向変換用ガイドローラ)
20 流体噴射手段(上流側の流体噴射手段)
21 流体噴射手段(下流側の流体噴射手段)
P プリント基板(薄肉基板)
P1 プリント基板(薄肉基板)
P2 プリント基板(薄肉基板)
W1 流体(水)の流れ
W2 流体(水)の流れ
1
3B transfer path (polishing transfer path)
3C transport route (transport route for unloading)
6 Transport means (lower transport roller)
9 Transport means (upper transport roller)
12 Grip roller (upstream grip roller)
13 Grip roller (downstream grip roller)
14 Buffing roller (upstream buffing roller)
15 Buffing roller (downstream buffing roller)
16 Direction changing guide roller (Upstream direction changing guide roller)
17 Direction changing guide roller (downstream direction changing guide roller)
20 Fluid ejecting means (upstream fluid ejecting means)
21 Fluid ejecting means (downstream fluid ejecting means)
P Printed circuit board (thin substrate)
P1 Printed circuit board (thin substrate)
P2 Printed circuit board (thin substrate)
W1 Fluid (water) flow W2 Fluid (water) flow
Claims (7)
前記搬送手段が前記板状ワークを水平方向に沿って搬送するように形成された搬送径路の途中に、前記板状ワークを挟持する一対のグリップローラを対向して配置し、これらのグリップローラにより前記板状ワークを上下方向に沿って送ると共に、その送られた板状ワークの両面を、前記一対のグリップローラの下方に対向して配置された一対の前記バフ研磨ローラの相互間でこれらのバフ研磨ローラにより同時に研磨するように構成したことを特徴とする研磨装置。 In the polishing apparatus configured so that the plate-shaped workpiece having flexibility is conveyed by the conveying means, and the plate-shaped workpiece is polished by the buffing roller in the middle of the conveyance by the conveying means,
A pair of grip rollers that sandwich the plate-like workpiece are disposed opposite to each other in the middle of the conveyance path formed so that the conveyance means conveys the plate-like workpiece along the horizontal direction. The plate-like workpiece is fed along the vertical direction, and both sides of the fed plate-like workpiece are placed between the pair of buffing rollers disposed opposite to the lower side of the pair of grip rollers . A polishing apparatus configured to perform polishing simultaneously with a buffing roller.
前記搬送手段が前記板状ワークを水平方向に沿って搬送するように形成された搬送径路の途中に、前記板状ワークを挟持する一対のグリップローラを対向して配置し、これらのグリップローラにより前記板状ワークを上下方向に沿って送ると共に、その送られた板状ワークの両面を、前記一対のグリップローラの下方に対向して配置された一対の前記バフ研磨ローラの相互間でこれらのバフ研磨ローラにより同時に研磨することを特徴とする研磨方法。 In a polishing method in which a plate-shaped workpiece having flexibility is conveyed by a conveying means, and the plate-shaped workpiece is polished by a buffing roller in the middle of conveyance by the conveying means,
A pair of grip rollers that sandwich the plate-like workpiece are disposed opposite to each other in the middle of the conveyance path formed so that the conveyance means conveys the plate-like workpiece along the horizontal direction. The plate-like workpiece is fed along the vertical direction, and both sides of the fed plate-like workpiece are placed between the pair of buffing rollers disposed opposite to the lower side of the pair of grip rollers . A polishing method comprising polishing simultaneously with a buffing roller.
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