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JP5034638B2 - Varnish containing optical doping material and optical waveguide amplifier using the same - Google Patents
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JP5034638B2 - Varnish containing optical doping material and optical waveguide amplifier using the same - Google Patents

Varnish containing optical doping material and optical waveguide amplifier using the same Download PDF

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Description

本発明は、光導波路アンプの光導波路用材料として好適なワニス、およびこれを用いてなる光導波路アンプに関する。   The present invention relates to a varnish suitable as an optical waveguide material of an optical waveguide amplifier, and an optical waveguide amplifier using the varnish.

従来より、光信号の長距離伝送を可能にする技術として、伝送過程で減衰する光信号の強度を中継増幅する光導波路アンプ(光増幅器)が知られている。この光導波路アンプは、一般的に、希土類金属が添加(ドープ)された石英ガラスやポリマーからなる光導波路(コア部)を有するものであり、強度が減衰した信号光は、当該光導波路を通る際に、信号光よりも大きいエネルギーを有する励起光(ポンプ光)により励起された希土類金属から放出される信号光波長相当の光により増幅されることになる。上記希土類金属は、増幅させる光信号の波長に応じて、プラセオジム(Pr、1.3μm帯)、エルビウム(Er、1.55〜1.61μm帯)、ツリウム(Tm、1.45及び1.65μm帯)などが用いられている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an optical waveguide amplifier (optical amplifier) that relays and amplifies the intensity of an optical signal that is attenuated in the transmission process is known as a technique that enables long-distance transmission of an optical signal. This optical waveguide amplifier generally has an optical waveguide (core portion) made of silica glass or polymer doped with a rare earth metal (core part), and the signal light whose intensity is attenuated passes through the optical waveguide. In this case, the light is amplified by light corresponding to the wavelength of the signal light emitted from the rare earth metal excited by the excitation light (pump light) having energy larger than that of the signal light. The rare earth metal is composed of praseodymium (Pr, 1.3 μm band), erbium (Er, 1.55-1.61 μm band), thulium (Tm, 1.45 and 1.65 μm) depending on the wavelength of the optical signal to be amplified. Obi) etc. are used.

近年では、上記光導波路アンプを小型、軽量化するための開発が活発に行われており、例えば、有機化合物が希土類金属に配位した錯体(複合体)をポリマー中に高濃度で添加することで、信号光の増幅効果を向上させ、増幅に必要な光導波路長を短縮することなどが行われている(特許文献1〜5参照)。
特開2000−208851号公報 特開2003−258340号公報 特開2005−064025号公報 国際公開第06/004187号パンフレット 特開2006−222403号公報
In recent years, development for reducing the size and weight of the optical waveguide amplifier has been actively conducted. For example, a complex (complex) in which an organic compound is coordinated to a rare earth metal is added to a polymer at a high concentration. In order to improve the signal light amplification effect, the optical waveguide length necessary for amplification is shortened (see Patent Documents 1 to 5).
JP 2000-208551 A JP 2003-258340 A JP 2005-064025 A WO 06/004187 pamphlet JP 2006-222403 A

ところで、光導波路用材料として、耐熱性、耐湿性に優れ、かつ光通信波長帯(1.3〜1.6μm)において非常に高い透明性を有するフッ素化ポリイミドが知られている。   By the way, a fluorinated polyimide having excellent heat resistance and moisture resistance and having very high transparency in an optical communication wavelength band (1.3 to 1.6 μm) is known as an optical waveguide material.

しかし、フッ素化ポリイミドの前駆体中に、従来から知られている希土類金属の複合体を分散させると直ちにゲル化してしまい、薄膜形成が困難となるため、フッ素化ポリイミドを光導波路アンプの光導波路用材料として用いることはできなかった。   However, when a conventionally known rare earth metal complex is dispersed in a precursor of fluorinated polyimide, it immediately gels, making it difficult to form a thin film. It could not be used as a material.

上記を鑑みて、本発明は、希土類金属が高濃度で添加されたフッ素化ポリイミド前駆体のワニス、およびこれを用いた光導波路アンプを提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to provide a varnish of a fluorinated polyimide precursor to which a rare earth metal is added at a high concentration, and an optical waveguide amplifier using the varnish.

上記課題を解決するために、出願人は、希土類金属の複合体を予めカルボン酸化合物で処理し、これをフッ素化ポリイミド前駆体に添加することで、希土類金属が高濃度で添加され、かつ透明な薄膜が得られるワニスを作製することに成功し、本発明を為すに至った。   In order to solve the above problems, the applicant treated the complex of rare earth metal in advance with a carboxylic acid compound and added it to the fluorinated polyimide precursor, so that the rare earth metal was added at a high concentration and transparent. Succeeded in producing a varnish from which a thin film can be obtained, leading to the present invention.

すなわち、本発明は、以下(1)〜(13)に記載の事項をその特徴とするものである。   That is, the present invention is characterized by the following items (1) to (13).

(1)希土類金属の塩と金属アルコキシドを反応させて得られる複合体と、カルボン酸化合物と、を有機溶媒中にて混合してなる光ドーピング用材料、およびフッ素化ポリイミド前駆体、を含むワニス。   (1) A varnish comprising: a composite obtained by reacting a rare earth metal salt and a metal alkoxide; and a carboxylic acid compound mixed in an organic solvent; and a fluorinated polyimide precursor. .

(2)前記希土類金属が、ランタニド類である上記(1)に記載のワニス。   (2) The varnish according to (1), wherein the rare earth metal is a lanthanide.

(3)前記希土類金属が、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)からなる群から選択される1種以上である上記(1)に記載のワニス。   (3) The varnish according to (1), wherein the rare earth metal is at least one selected from the group consisting of praseodymium (Pr), neodymium (Nd), erbium (Er), and thulium (Tm).

(4)前記カルボン酸化合物のpKa値(水中、25℃)が1.5以下である上記(1)〜(3)のいずれかに記載のワニス。   (4) The varnish according to any one of (1) to (3), wherein the carboxylic acid compound has a pKa value (in water, 25 ° C) of 1.5 or less.

(5)前記カルボン酸化合物の沸点が300℃未満である上記(1)〜(4)のいずれかに記載のワニス。   (5) The varnish according to any one of (1) to (4), wherein the carboxylic acid compound has a boiling point of less than 300 ° C.

(6)前記カルボン酸化合物の沸点が前記有機溶媒の沸点以下である上記(1)〜(5)のいずれかに記載のワニス。   (6) The varnish according to any one of (1) to (5), wherein the carboxylic acid compound has a boiling point equal to or lower than the boiling point of the organic solvent.

(7)前記カルボン酸化合物が構造中に脂肪族C−H結合を含まないものである上記(1)〜(6)のいずれかに記載のワニス。   (7) The varnish according to any one of (1) to (6), wherein the carboxylic acid compound does not contain an aliphatic C—H bond in the structure.

(8)前記カルボン酸化合物がハロゲン化物である上記(1)〜(7)のいずれかに記載のワニス。   (8) The varnish according to any one of (1) to (7), wherein the carboxylic acid compound is a halide.

(9)前記カルボン酸化合物が、下記一般式(I)

Figure 0005034638
(式中、Xは0〜5の整数)
で表されるカルボン酸化合物である上記(1)〜(8)のいずれかに記載のワニス。 (9) The carboxylic acid compound is represented by the following general formula (I)
Figure 0005034638
(Where X is an integer from 0 to 5)
The varnish in any one of said (1)-(8) which is a carboxylic acid compound represented by these.

(10)前記光ドーピング用材料は、前記カルボン酸化合物を前記希土類金属1モルに対して50〜400モル配合してなる上記(1)〜(9)のいずれかに記載のワニス。   (10) The varnish according to any one of (1) to (9), wherein the light doping material is formed by blending 50 to 400 mol of the carboxylic acid compound with respect to 1 mol of the rare earth metal.

(11)上記(1)〜(10)のいずれかに記載のワニスを用いて形成された光導波路を少なくとも備える、光導波路アンプ。   (11) An optical waveguide amplifier including at least an optical waveguide formed using the varnish according to any one of (1) to (10).

(12)前記光導波路のコア部における希土類金属の濃度が0.01重量%から20重量%である上記(11)に記載の光導波路アンプ。   (12) The optical waveguide amplifier according to (11), wherein the concentration of the rare earth metal in the core portion of the optical waveguide is 0.01 wt% to 20 wt%.

(13)希土類金属の塩と金属アルコキシドを反応させて得られる複合体と、カルボン酸化合物と、を有機溶媒中にて混合してなる光導波路アンプ用光ドーピング用材料。   (13) An optical doping material for an optical waveguide amplifier obtained by mixing a complex obtained by reacting a rare earth metal salt with a metal alkoxide and a carboxylic acid compound in an organic solvent.

本発明によれば、希土類金属が高濃度で添加され、透明薄膜を作製することが可能なフッ素化ポリイミド前駆体のワニスを提供することが可能となり、その結果、従来よりも小型、軽量で、増幅効率に優れた光導波路アンプを提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a varnish of a fluorinated polyimide precursor in which a rare earth metal is added at a high concentration and capable of producing a transparent thin film. An optical waveguide amplifier having excellent amplification efficiency can be provided.

本発明のワニスは、希土類金属の塩と金属アルコキシドを反応させて得られる複合体と、カルボン酸化合物とを有機溶媒中にて混合してなる光ドーピング用材料、およびフッ素化ポリイミド前駆体を含むワニスをその特徴とするものであり、これによれば、希土類金属をフッ素化ポリイミド前駆体中に均一かつ高濃度で分散させることが可能となる。   The varnish of the present invention includes a photodoping material obtained by mixing a complex obtained by reacting a rare earth metal salt and a metal alkoxide, and a carboxylic acid compound in an organic solvent, and a fluorinated polyimide precursor. The varnish is characterized by this, and according to this, it becomes possible to disperse the rare earth metal uniformly and at a high concentration in the fluorinated polyimide precursor.

以下、各成分について詳細に説明する。   Hereinafter, each component will be described in detail.

<複合体>
上記複合体は、希土類金属に対して金属アルコキシドの酸素が配位した構造を有するものであり、例えば、溶媒中に上記希土類金属の塩と金属アルコキシドを配合し、還流させることで得ることができる。
<Composite>
The composite has a structure in which oxygen of a metal alkoxide is coordinated with a rare earth metal, and can be obtained, for example, by blending a salt of the rare earth metal and a metal alkoxide in a solvent and refluxing. .

また、上記希土類金属の塩としては、特に限定されないが、例えば、希土類金属の硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、塩化物、ギ酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩などを用いることができ、希土類金属の酢酸塩であることが好ましい。なお、希土類金属とは、ランタニド類(ランタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、プロメチウム(Pm)、サマリウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、ルテチウム(Lu))、スカンジウムおよびイットリウムを指し、本発明においては、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)が有用であり、好ましい。また、上記希土類金属の塩は、110〜120℃で1〜2時間程度脱水したものであることが好ましい。   Further, the rare earth metal salt is not particularly limited, and for example, rare earth metal nitrates, sulfates, carbonates, chlorides, formates, oxalates, acetates, and the like can be used. Acetate is preferred. The rare earth metals are lanthanides (lanthanum (La), cerium (Ce), praseodymium (Pr), neodymium (Nd), promethium (Pm), samarium (Sm), europium (Eu), gadolinium (Gd), Terbium (Tb), dysprosium (Dy), holmium (Ho), erbium (Er), thulium (Tm), ytterbium (Yb), lutetium (Lu)), scandium and yttrium. In the present invention, praseodymium (Pr ), Neodymium (Nd), erbium (Er) and thulium (Tm) are useful and preferred. The rare earth metal salt is preferably dehydrated at 110 to 120 ° C. for about 1 to 2 hours.

また、上記金属アルコキシドは、特に限定されないが、好ましくは、周期表上の3B族(バリウム、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム)、4A族(チタン、ジルコニウム、ハフニウム)または5A族(バナジウム、ニオブ、タンタル)の金属に、炭素数1〜5のアルコキシドが1以上結合したものであり、より好ましくは、アルミニウム、ガリウム、チタン、ジルコニウム、ニオブまたはタンタルに、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシド等のアルコキシド基が1以上結合したものである。また、上記金属アルコキシドは、単独でも2種以上併用してもよい。   Further, the metal alkoxide is not particularly limited, but is preferably a group 3B (barium, aluminum, gallium, indium, thallium), a group 4A (titanium, zirconium, hafnium) or a group 5A (vanadium, niobium) on the periodic table. Tantalum) and one or more alkoxides having 1 to 5 carbon atoms bonded to each other, more preferably aluminum, gallium, titanium, zirconium, niobium or tantalum, methoxide, ethoxide, propoxide, isopropoxide, A combination of one or more alkoxide groups such as butoxide. Moreover, the said metal alkoxide may be individual or may be used together 2 or more types.

また、上記希土類金属の塩と上記金属アルコキシドを反応させる際のそれぞれの配合比は、希土類金属の価数に応じて適宜決定すればよく、特に限定されないが、例えば、エルビウム塩とアルミニウムアルコキシドを用いる場合には、3価であるエルビウム1モルに対してアルミニウムが3モルとなるようにそれぞれを配合する。また、希土類金属の塩と金属アルコキシドを反応させる際に用いる溶媒や反応条件などは、両者の反応が完結するように適宜決定すればよく、特に限定されない。   Further, the compounding ratio when the rare earth metal salt and the metal alkoxide are reacted may be appropriately determined according to the valence of the rare earth metal, and is not particularly limited. For example, an erbium salt and an aluminum alkoxide are used. In such a case, each of them is blended so that aluminum is 3 mol per 1 mol of trivalent erbium. Further, the solvent and reaction conditions used when the rare earth metal salt and the metal alkoxide are reacted may be appropriately determined so that the reaction between the two is completed, and is not particularly limited.

<光ドーピング用材料>
上記光ドーピング用材料は、上記複合体と、カルボン酸化合物とを有機溶媒中にて混合することで作製することができ、もちろん有機溶媒中に上記複合体を含む溶液と有機溶媒中にカルボン酸化合物を含む溶液とを混合して作製してもよい。このようにして上記複合体をカルボン酸化合物により予め処理しておくことで、複合体を直接フッ素化ポリイミド前駆体に添加した場合に生じるゲル化を抑制することが可能となる。なお、複合体とカルボン酸化合物を混合する方法や条件は特に限定されない。
<Optical doping material>
The light doping material can be prepared by mixing the complex and a carboxylic acid compound in an organic solvent. Of course, a solution containing the complex in an organic solvent and a carboxylic acid in the organic solvent. You may mix and produce the solution containing a compound. By previously treating the composite with the carboxylic acid compound in this way, it is possible to suppress gelation that occurs when the composite is added directly to the fluorinated polyimide precursor. In addition, the method and conditions for mixing the complex and the carboxylic acid compound are not particularly limited.

上記カルボン酸化合物としては、特に限定されないが、そのpKa値(水中、25℃における酸解離定数)が1.5以下であるものが好ましく、1.0以下であるものがより好ましい。このpKa値が1.5を超えるカルボン酸化合物を用いた場合には、ワニスがゲル化してしまう傾向にある。   Although it does not specifically limit as said carboxylic acid compound, The thing whose pKa value (the acid dissociation constant in 25 degreeC in water) is 1.5 or less is preferable, and what is 1.0 or less is more preferable. When a carboxylic acid compound having a pKa value exceeding 1.5 is used, the varnish tends to gel.

また、上記カルボン酸化合物は、その沸点が300℃未満のものであることが好ましく、また、上記有機溶媒の沸点以下のものであることが好ましい。上記カルボン酸化合物の沸点が300℃を超えるもしくは有機溶媒の沸点を超えるものであると、本発明のワニスからなる膜中に余剰のカルボン酸化合物が残存し易くなる。   The carboxylic acid compound preferably has a boiling point of less than 300 ° C., and preferably has a boiling point lower than that of the organic solvent. If the boiling point of the carboxylic acid compound exceeds 300 ° C. or exceeds the boiling point of the organic solvent, the excess carboxylic acid compound tends to remain in the film made of the varnish of the present invention.

また、上記カルボン酸化合物は、その構造中に脂肪族C−H結合を含まないものであることが好ましい。光導波路用材料中に脂肪族C−H結合が含まれると、励起された希土類金属、特にエルビウムから放出される光を当該結合が振動エネルギーとして吸収してしまうため、所望の増幅効果を得ることができない(振動失活)。従って、脂肪族C−H結合を含むカルボン酸化合物は、ハロゲン等によりC−H結合の水素を置換しておくことが好ましい。具体的には、上記カルボン酸化合物として、下記一般式(I)

Figure 0005034638
(式中、Xは0〜5の整数)
で表されるカルボン酸化合物を用いることが好ましく、具体的には、トリフルオロ酢酸(TFA)、ペンタフルオロプロパン酸(FPA)、ヘプタフルオロブタン酸(FBA)、トリデカフルオロヘプタン酸(FHA)等が挙げられる。より好ましくは、一般式のXが0〜2のカルボン酸化合物である。 Moreover, it is preferable that the said carboxylic acid compound does not contain an aliphatic C-H bond in the structure. When an aliphatic C—H bond is included in the optical waveguide material, the light absorbed from the excited rare earth metal, particularly erbium, is absorbed as vibration energy, so that a desired amplification effect can be obtained. Cannot be performed (vibration is deactivated). Therefore, it is preferable that the carboxylic acid compound containing an aliphatic C—H bond replaces the hydrogen of the C—H bond with halogen or the like. Specifically, as the carboxylic acid compound, the following general formula (I)
Figure 0005034638
(Where X is an integer from 0 to 5)
And specifically, trifluoroacetic acid (TFA), pentafluoropropanoic acid (FPA), heptafluorobutanoic acid (FBA), tridecafluoroheptanoic acid (FHA), etc. Is mentioned. More preferably, it is a carboxylic acid compound in which X in the general formula is 0 to 2.

また、上記カルボン酸化合物は、複合体中の希土類金属1モルに対して50〜400モルの範囲となるように配合することが好ましく、100〜300モルの範囲となるように配合することがより好ましい。上記カルボン酸化合物の配合量を上記範囲とすることで、ワニスのゲル化を効果的に抑制することが可能となる。また、カルボン酸化合物として、トリフルオロ酢酸のように、pKa値が比較的小さいもの(2未満程度)を用いる場合には、その配合量を50〜100モルの範囲とすることで十分にゲル化を抑制することができる。一方、pKa値が少し大きめ(2〜4程度)のカルボン酸化合物を用いる場合には、その配合量を300〜400モルとすることが好ましく、これによりワニスのゲル化を効果的に抑制することが可能となる。   Moreover, it is preferable to mix | blend the said carboxylic acid compound so that it may become in the range of 50-400 mol with respect to 1 mol of rare earth metals in a composite, and it is more preferable to mix | blend so that it may become the range of 100-300 mol. preferable. By making the compounding quantity of the said carboxylic acid compound into the said range, it becomes possible to suppress the gelatinization of a varnish effectively. In addition, when a carboxylic acid compound having a relatively low pKa value (less than 2) such as trifluoroacetic acid is used, it is sufficiently gelled by setting its blending amount in the range of 50 to 100 mol. Can be suppressed. On the other hand, when a carboxylic acid compound having a slightly larger pKa value (about 2 to 4) is used, the blending amount is preferably 300 to 400 mol, thereby effectively suppressing gelation of the varnish. Is possible.

また、上記有機溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、γーブチロラクトン、プロピレングルコールモノメチルエーテル、プロピレングルコールモノエチルエーテル、プロピレングルコールモノプロピルエーテル、プロピレングルコールモノブチルエーテル、ブチレングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチルエーテル、ブチレングリコールモノプロピルエーテル、ブチレングリコールモノブチルエーテルなどを挙げることができる。   Further, the organic solvent is not particularly limited. For example, dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Examples include propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, butylene glycol monomethyl ether, butylene glycol monoethyl ether, butylene glycol monopropyl ether, and butylene glycol monobutyl ether.

<本発明のワニス>
本発明のワニスは、上記光ドーピング用材料とフッ素化ポリイミド前駆体を含むことをその特徴とするものであり、例えば、上記光ドーピング用材料とフッ素化ポリイミド前駆体を混合することによって得ることができ、また、上記光ドーピング用材料中で、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを重合させてフッ素化ポリイミド前駆体を合成することによって得ることもできる。なお、前者の場合、フッ素化ポリイミド前駆体の合成で使用した溶媒と上記光ドーピング用材料の溶媒が同一のものであることが好ましく、また、後者の場合、本発明の光ドーピング用材料の溶媒は、フッ素化ポリイミド前駆体の合成で使用される公知の溶媒であることが好ましい。このような本発明のワニスは、製膜性に優れ、なおかつ希土類金属を高濃度に含ませることも可能であるため、光導波路アンプの光導波路(コア部)用材料として好適であり、これを塗布、硬化させてなる膜は、フッ素化ポリイミドの膜と同様、優れた強度や透明性を示す。
<Varnish of the present invention>
The varnish of the present invention is characterized by containing the above-mentioned photo-doping material and a fluorinated polyimide precursor, and can be obtained, for example, by mixing the above-mentioned photo-doping material and a fluorinated polyimide precursor. It can also be obtained by synthesizing a fluorinated polyimide precursor by polymerizing a tetracarboxylic dianhydride and a diamine component in the light doping material. In the former case, it is preferable that the solvent used in the synthesis of the fluorinated polyimide precursor and the solvent of the above-described photo-doping material are the same, and in the latter case, the solvent of the photo-doping material of the present invention. Is preferably a known solvent used in the synthesis of fluorinated polyimide precursors. Such a varnish of the present invention is suitable as a material for an optical waveguide (core part) of an optical waveguide amplifier because it has excellent film forming properties and can contain a rare earth metal at a high concentration. The film formed by coating and curing exhibits excellent strength and transparency, like the fluorinated polyimide film.

また、上記光ドーピング用材料とフッ素化ポリイミド前駆体の配合比は、所望するフッ素化ポリイミド膜中の希土類金属濃度を考慮して適宜決定すればよく、特に限定されないが、ワニスのゲル化抑制や製膜性、光増幅効果等を考慮すると、上記光ドーピング用材料中の希土類金属1モルに対して、フッ素化ポリイミド前駆体を0.01重量%〜20重量%配合することが好ましく、0.1重量%〜10重量%配合することがより好ましい。   Further, the blending ratio of the above-mentioned light doping material and the fluorinated polyimide precursor may be appropriately determined in consideration of the desired rare earth metal concentration in the fluorinated polyimide film, and is not particularly limited. In consideration of film forming property, light amplification effect, etc., it is preferable to blend 0.01% to 20% by weight of the fluorinated polyimide precursor with respect to 1 mole of the rare earth metal in the light doping material. It is more preferable to blend 1% by weight to 10% by weight.

また、本発明のワニスは、特に、上記複合体を含有するフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを調整する際にゲル化等の不均化を生じさせること無く均一に上記複合体が分散した状態を実現することができることに特徴がある。したがって、本発明のワニスを成膜することによって、上記複合体を均一に分散させた樹脂膜を得ることができる。均一分散を実現するために、上記複合体の調整ならびに光ドーピング用材料に特段の特徴を有している。その意味で、本発明の光ドーピング用材料は、フッ素化ポリイミド前駆体をマトリックスとするワニスに好適に利用されるが、フッ素化ポリイミド系以外の樹脂をマトリックスとするワニスにも利用可能であることは言うまでも無い。すなわち、本発明のワニスは、本発明の光ドーピング用材料と、マトリックスとしてフッ素化ポリイミド系以外の樹脂もしくはその前駆体とを混合したものをも包含する。   In addition, the varnish of the present invention realizes a state in which the composite is uniformly dispersed without causing disproportionation such as gelation when preparing a fluorinated polyimide precursor varnish containing the composite. It is characterized by being able to. Therefore, by forming the varnish of the present invention into a film, a resin film in which the composite is uniformly dispersed can be obtained. In order to achieve uniform dispersion, the composite preparation and the light doping material have special characteristics. In that sense, the photo-doping material of the present invention is suitably used for varnishes containing a fluorinated polyimide precursor as a matrix, but can also be used for varnishes containing a resin other than a fluorinated polyimide. Needless to say. That is, the varnish of the present invention includes those obtained by mixing the photo-doping material of the present invention and a resin other than a fluorinated polyimide or a precursor thereof as a matrix.

上記フッ素化ポリイミド系以外の樹脂(以下、マトリックス用樹脂)としては、光学用途として一般的に用いられ、その成形物が透明性を有するものであれば特に制限はない。具体的には、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリスチレン、ポリカーボナート、ポリシクロオレフィン、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1、2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン、ポリ−2−t−ブチル−1、3−ブタジエン、ポリ−1、3−ブタジエン等の(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテル等のポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド等が好ましく挙げられ、これらは単独又は2種以上併用して用いることもできる。   The resin other than the fluorinated polyimide (hereinafter referred to as matrix resin) is not particularly limited as long as it is generally used for optical applications and the molded product has transparency. Specifically, acrylic resin, phenoxy resin, polystyrene, polycarbonate, polycycloolefin, natural rubber, polyisoprene, poly-1,2-butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, (Di) enes such as poly-2-t-butyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, polyvinyl butyl ether, and other poly Preferred examples include ethers, polyesters such as polyvinyl acetate and polyvinyl propionate, polyurethane, ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, polysulfide, and the like. It may be used in combination of two or more.

上記の他にも、ポリイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体変性物、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸塩共重合体、アクリル酸エステル系ゴム、ポリイソブチレン、アタクチックポリプロピレン、ポリビニルブチラール、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、エチレンセルロース、ポリアミド、シリコーン系ゴム、ポリクロロプレン等の合成ゴム類、シリコーン、ポリビニルエーテル等が適用可能であり、これらは単独又は2種以上併用して用いることもできる。   In addition to the above, polyimide resin, polybenzimidazole resin, polybenzoxazole resin, ethylene vinyl acetate copolymer, modified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer Polymer, ethylene-acrylate copolymer, ethylene-acrylate copolymer, acrylate rubber, polyisobutylene, atactic polypropylene, polyvinyl butyral, acrylonitrile-butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer Synthetic rubbers such as coalescence, styrene-isoprene block copolymer, ethylene cellulose, polyamide, silicone rubber, polychloroprene, silicone, polyvinyl ether, etc. are applicable, and these may be used alone or in combination of two or more. It is also possible to have.

また、シリコーン樹脂や、ポリシラン、ポリシラザン、ゾルゲル法による有機無機ハイブリッド樹脂などを用いることもできる。   In addition, silicone resin, polysilane, polysilazane, organic-inorganic hybrid resin by a sol-gel method, and the like can also be used.

上記マトリックス用樹脂は、用途に応じて適切に選択されることが必要である。本発明の光導波路アンプ用途にあっては、使用される波長域における透明性が考慮される必要がある。ここで、使用される波長域とは、励起光に使用する波長域と信号光として使用される波長域との両者について考慮されるべきである。   The matrix resin needs to be appropriately selected depending on the application. In the optical waveguide amplifier application of the present invention, it is necessary to consider the transparency in the wavelength range to be used. Here, the wavelength range used should be considered about both the wavelength range used for excitation light, and the wavelength range used as signal light.

光導波路アンプの製造工程や使用環境などで耐熱性を要求される用途では、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリキノリン系樹脂等が好ましい。ポリイミド系樹脂としては、ポリイミド樹脂、ポリ(イミド・イソインドロキナゾリンジオンイミド)樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂,ポリエステルイミド樹脂などが挙げられる。   In applications where heat resistance is required in the optical waveguide amplifier manufacturing process or usage environment, polyimide resins, epoxy resins, polyamide resins, polyquinoline resins, and the like are preferable. Examples of the polyimide resin include polyimide resin, poly (imide / isoindoloquinazolinedioneimide) resin, polyetherimide resin, polyamideimide resin, and polyesterimide resin.

光導波路アンプで用いられる励起光は、信号光に比べて光強度が大きい光源が使用されるため、励起光源に対する耐性、長期信頼性なども考慮して、マトリックス樹脂が選択されるべきである。この観点でも、励起光による温度上昇などを考慮して、上述のような耐熱性の高い樹脂を選定することが好ましい。   As the excitation light used in the optical waveguide amplifier, a light source having a light intensity higher than that of the signal light is used. Therefore, a matrix resin should be selected in consideration of resistance to the excitation light source and long-term reliability. Also from this viewpoint, it is preferable to select a resin having high heat resistance as described above in consideration of a temperature rise caused by excitation light.

光導波路アンプに用いられる光源の波長が近赤外線領域の場合には、透明性の観点からフッ素を含む樹脂を用いることが好ましい。フッ素を含む樹脂としては、非晶質のフッ素樹脂を好適に用いることができる、例えば、デュポン社製のテフロンAFや、旭硝子社製のサイトップなどが挙げられる。そして、透明性と耐熱性とを兼ね備えるという観点からは、やはりフッ素化ポリイミドが最も好ましい。なお、本発明において、「フッ素化ポリイミド」とは、フッ素を構造中に有するポリイミド系樹脂のことであり、例えば、フッ素を有するポリイミド樹脂、フッ素を有するポリ(イミド・イソインドロキナゾリンジオンイミド)樹脂、フッ素を有するポリエーテルイミド樹脂、フッ素を有するポリアミドイミド樹脂などが挙げられる。   When the wavelength of the light source used in the optical waveguide amplifier is in the near infrared region, it is preferable to use a resin containing fluorine from the viewpoint of transparency. As the resin containing fluorine, an amorphous fluororesin can be suitably used, and examples thereof include Teflon AF manufactured by DuPont and Cytop manufactured by Asahi Glass. From the viewpoint of having both transparency and heat resistance, fluorinated polyimide is most preferable. In the present invention, “fluorinated polyimide” means a polyimide resin having fluorine in the structure. For example, a polyimide resin having fluorine, poly (imide / isoindoloquinazolinedioneimide) having fluorine. Examples thereof include a resin, a polyetherimide resin having fluorine, and a polyamideimide resin having fluorine.

また、光導波路アンプを製造するにあたっては、光導波路としてのコア層とクラッド層を積層しなければならないことを考慮してマトリックス用樹脂を選択することが必要である。すなわち、コア層とクラッド層を成膜によって積層する場合にあっては、上層を成膜する際に下層が溶解するもしくは、下層とインターミキシングを起こすなどの問題を回避できる樹脂ならびに製造方法を選択する必要がある。この観点では、成膜時もしくは成膜後の適切な処理によって下層が架橋などして不溶化する樹脂や成膜時もしくは成膜後の反応によって溶剤に対する溶解性が変化して不溶化する樹脂を選定することが好ましい。前者の例としては、狭義での熱硬化性樹脂、すなわち、ネットワーク構造を構成する樹脂や分子間架橋を生じる樹脂が挙げられる。また、後者の例としては、ポリアミド酸などのポリイミド前駆体ワニスを挙げることができ、当該前駆体ワニスは、200〜400℃の熱処理でポリアミド酸骨格構造がポリイミド骨格構造に変化し、溶剤に対して不溶となる。このポリアミド酸としては、特に限定されないが、脂肪族C−H結合の水素がフッ素により置換されたフッ素化ポリアミド酸が好ましく、下記一般式(II)

Figure 0005034638
(式中、nは1である)
で表されるフッ素化ポリアミド酸であることがより好ましい。 In manufacturing an optical waveguide amplifier, it is necessary to select a matrix resin in consideration of the fact that a core layer and a cladding layer as an optical waveguide must be laminated. In other words, when laminating the core layer and the clad layer by film formation, select a resin and manufacturing method that can avoid problems such as dissolution of the lower layer or intermixing with the lower layer when forming the upper layer. There is a need to. From this point of view, select a resin that is insolubilized by crosslinking, etc., at the time of film formation or after film formation, or a resin that is insolubilized due to a change in solubility in a solvent due to a reaction during film formation or after film formation. It is preferable. Examples of the former include thermosetting resins in a narrow sense, that is, resins that form a network structure and resins that cause intermolecular crosslinking. Examples of the latter include polyimide precursor varnishes such as polyamic acid, and the precursor varnish is converted to a polyimide skeleton structure by heat treatment at 200 to 400 ° C. Become insoluble. The polyamic acid is not particularly limited, but is preferably a fluorinated polyamic acid in which an aliphatic C—H bond hydrogen is substituted with fluorine, and the following general formula (II)
Figure 0005034638
(Where n is 1)
The fluorinated polyamic acid represented by the formula is more preferable.

ポリイミド前駆体ワニスは、通常、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応により得られ、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの少なくとも一方がフッ素を有するものであれば、フッ素化ポリイミド前駆体となる。ジアミン成分とカルボン酸二無水物成分とはほぼ等モルとして反応させることが好ましく、反応温度は、通常0〜40℃とされ、反応時間は、通常30分〜50時間の範囲とされる。なお、本発明では、特に断らない限り、全フッ素化ポリイミドも部分フッ素化ポリイミドもフッ素化ポリイミドとして表現する。   The polyimide precursor varnish is usually obtained by the reaction of tetracarboxylic dianhydride and diamine in a polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, dimethyl sulfoxide, If at least one of tetracarboxylic dianhydride and diamine has fluorine, it becomes a fluorinated polyimide precursor. The diamine component and the carboxylic dianhydride component are preferably reacted as approximately equimolar amounts, the reaction temperature is usually 0 to 40 ° C., and the reaction time is usually in the range of 30 minutes to 50 hours. In the present invention, unless otherwise specified, both a fully fluorinated polyimide and a partially fluorinated polyimide are expressed as fluorinated polyimide.

フッ素を有するテトラカルボン酸二無水物の例としては、(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、ジ(ヘプタフルオロプロピル)ピロメリット酸二無水物、ペンタフルオロエチルピロメリット酸二無水物、ビス{3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェノキシ}ピロメリット酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシビフェニル二無水物、2,2′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシビフェニル二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフェノン二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}ベンゼン二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物、2,2−ビス{(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}ビフェニル二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}ジフェニルエーテル二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル二無水物、1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、などが挙げられ、2種類以上を混合して用いてもよい。   Examples of tetracarboxylic dianhydrides having fluorine include (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, di (heptafluoropropyl) pyromellitic dianhydride , Pentafluoroethylpyromellitic dianhydride, bis {3,5-di (trifluoromethyl) phenoxy} pyromellitic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane Dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,3 ', 4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, 2,2', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl)- 3,3 ', 4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,3', 4,4'-tetracarbo Sidiphenyl ether dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,3 ', 4,4'-tetracarboxybenzophenone dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} benzene dianhydride Bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} (trifluoromethyl) benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) (trifluoromethyl) benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) bis (trifluoromethyl) Benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) tetrakis (trifluoromethyl) benzene dianhydride, 2,2-bis {(4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} hexafluoropropane dianhydride, bis {(Trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} bi Phenyl dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} bis (trifluoromethyl) biphenyl dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} diphenyl ether dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) bis (Trifluoromethyl) biphenyl dianhydride, 1,4-bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzene bis (trimellitic anhydride), 1,3-bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzene bis (tri Merit acid anhydride), and the like.

フッ素を有しないテトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3′,4′−ジフエニルテトラカルボン酸二無水物、p−ターフェニル−3,4,3″,4″−テトラカルボン酸二無水物、m−ターフェニル−3,4,3″,4″−テトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,6−ジクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロルナフタレン−1,4,5,8,テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−テトラクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸 二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3′,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4′−スルホニルジフタル酸二無水物、3,3′,4,4′−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3′−4,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、1−(2,3−ジカルボキシフェニル)−3−(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)スルホン二無水物、フエナンスレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、チオフエン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ジメチルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)メチルフエニルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ジフエニルシラン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフエニルジメチルシリル)ベンゼン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシクロヘキサン二無水物、p−フエニルビス(トリメリツト酸モノエステル酸無水物)エチレングリコールビス(トリメリツト酸無水物)、プロパンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、ブタンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、ペンタンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、ヘキサンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、オクタンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、デカンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、エチレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ビス(エキソ−ビシクロ〔2,2,1〕ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物)スルホンビシクロ−(2,2,2)−オクト(7)−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフエノキシ)ジフエニルスルフイド二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、などが挙げられ、2種類以上を混合して用いてもよい。   Examples of tetracarboxylic dianhydrides having no fluorine include pyromellitic dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diph. Enyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl -3,4,3 ", 4" -tetracarboxylic dianhydride, m-terphenyl-3,4,3 ", 4" -tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetra Carboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic acid Dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1, , 5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8, tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4 , 5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-pyridinetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4 , 4'-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride 3,3 ', 4,4'-biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyldiphthalic dianhydride, 3,3', 4,4'-tetraphenylsilane tetracarboxylic acid Dianhydride, 3,3'-4,4'-diph Phenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride, 1- (2,3-dicarboxyphenyl) ) -3- (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4- Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) sulfone dianhydride, Nanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride Bis (3,4-dicarboxyphenyl) dimethylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methylphenylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diphenylsilane dianhydride Anhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenyldimethylsilyl) benzene dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetra Methyldicyclohexane dianhydride, p-phenylbis (trimellitic acid monoester acid anhydride) ethylene glycol bis (trimellitic acid anhydride), propanediol bis (trimellitic acid) Water), butanediol bis (trimellitic acid anhydride), pentanediol bis (trimellitic acid anhydride), hexanediol bis (trimellitic acid anhydride), octanediol bis (trimellitic acid anhydride), decanediol bis (trimellitic acid) Anhydride), ethylenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, decahydronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8 -Dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride Pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, bis (exo -Bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride) sulfonbicyclo- (2,2,2) -oct (7) -ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Anhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfide dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene- 1,2-dicarboxylic anhydride, tetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, and the like may be mentioned, and two or more kinds may be mixed and used.

フッ素を有するジアミンの例としては、4−(1H,1H,11H−エイコサフルオロウンデカノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H−パ−フルオロ−1−ブタノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H−パーフルオロ−1−ヘプタノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H−パーフルオロ−1−オクタノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−ペンタフルオロフェノキシ−1,3−ジアミノベンゼン、4−(2,3,5,6−テトラフルオロフェノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(4−フルオロフェノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H,2H,2H−パーフルオロ−1−ヘキサノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H,2H,2H−パーフルオロ−1−ドデカノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、(2,5−)ジアミノベンゾトリフルオライド、ビス(トリフルオロメチル)フェニレンジアミン、ジアミノテトラ(トリフルオロメチル)ベンゼン、ジアミノ(ペンタフルオロエチル)ベンゼン、2,5−ジアミノ(パーフルオロヘキシル)ベンゼン、2,5−ジアミノ(パーフルオロブチル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、ビス(アミノフェノキシ)ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、ビス(アミノフェノキシ)テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン、ビス{2−〔(アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロイソプロピル}ベンゼン2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノビフェニル、オクタフルオロベンジジン、ビス{(トリフルオロメチル)アミノフェノキシ}ビフェニル、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1,7−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4′−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラフロオロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4,4′−ジアミノ−p−テルフェニル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラフロオロ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(2−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジトリフルオロメチルフェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、ビス〔{(トリフルオロメチル)アミノフェノキシ}フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、1,3−ジアミノ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−メチル−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−2,4,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−クロロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−メチル−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−3,4,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−クロロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−3−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−メチル−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2,3,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−クロロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−メチル−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−2,4,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−メチル−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−3,4,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−3−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−メチル−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2,3,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−ブロモ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼンなどが挙げられ、2種類以上を混合して用いてもよい。   Examples of diamines having fluorine include 4- (1H, 1H, 11H-eicosafluoroundecanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H-perfluoro-1-butanoxy) -1 , 3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H-perfluoro-1-heptanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H-perfluoro-1-octanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4-pentafluorophenoxy-1,3-diaminobenzene, 4- (2,3,5,6-tetrafluorophenoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (4-fluorophenoxy) -1,3-diamino Benzene, 4- (1H, 1H, 2H, 2H-perfluoro-1-hexanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H, 2H, 2H-par Fluoro-1-dodecanoxy) -1,3-diaminobenzene, (2,5-) diaminobenzotrifluoride, bis (trifluoromethyl) phenylenediamine, diaminotetra (trifluoromethyl) benzene, diamino (pentafluoroethyl) benzene 2,5-diamino (perfluorohexyl) benzene, 2,5-diamino (perfluorobutyl) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) benzene, p-bis (4-amino-2-trifluoro) Methylphenoxy) benzene, bis (aminophenoxy) bis (trifluoromethyl) benzene, bis (aminophenoxy) tetrakis (trifluoromethyl) benzene, bis {2-[(aminophenoxy) phenyl] hexafluoroisopropyl} benzene 2,2 ′ -Bis (G Fluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, octafluorobenzidine, bis {(trifluoromethyl) aminophenoxy} biphenyl, 4, 4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 1,4-bis (anilino) octafluorobutane, 1,5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-bis (anilino) tetradecafluoroheptane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'- Tetofluoro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4, 4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4 , 4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3, 3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-bis (trifluoromethyl)- , 4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3', 5 5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 4,4'-bis (3-amino -5-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ', 5 5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoro Methyl) -4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 '-Bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diamino-p -Terphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diamino Diphenylhexafluoropropane, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dichloro-4, 4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane 3,3 ′, 5,5′-tetramethoxy-4,4′-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ′, 5,5′-tetraethoxy-4,4′-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3, , 3 ', 5,5'-Tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoro Lopan, 3,3 ′, 5,5′-tetrachloro-4,4′-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ′, 5,5′-tetrabromo-4,4′-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3 , 3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (anilino) hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2 -Bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (2-amino) Enoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3 , 5-ditrifluoromethylphenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) phenyl} hexafluoropropane, bis [{(trifluoromethyl) aminophenoxy} phenyl ] Hexafluoropropane, 1,3-diamino-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4 -Methoxy-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-2,4,6 -Trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-chloro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-bromo-5- (per Fluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino -4-methoxy-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-3,4,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4- Chloro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-bromo-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-di Mino-3- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methyl-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methoxy-5- (perfluoronone) Nyloxy) benzene, 1,4-diamino-2,3,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-chloro-5- (perfluorononenyloxy) Benzene, 1,4-diamino-2-bromo-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-methyl-5 -(Perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-di Mino-2,4,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-chloro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-bromo -5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-methyl-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2 -Diamino-4-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-3,4,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4- Chloro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-bromo-5- (perfluorohexyl) Senyloxy) benzene, 1,4-diamino-3- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methyl-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methoxy- 5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2,3,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-chloro-5- (perfluoro Hexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) benzene and the like may be used, and two or more kinds may be mixed and used.

フッ素を有しないジアミンの例としては、p−フエニレンジアミン、m−フエニレンジアミン、2,6−ジアミノピリジン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、3,3′−ジメチルベンジジン、3,3′−ジメトキシベンジジン、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフエニルエーテル、3,3′−ジアミノジフエニルエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジイソプロピル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラエチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジフエニルメタン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−ビス−(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス−(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス−(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、ビス−(4−アミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス−(4−アミノフェノキシフェニル)スルフィド、ビス−(4−アミノフェノキシフェニル)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル−4−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル−3′−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル−4−スルホンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルメタン−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルメタン−4−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルメタン−3′−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルメタン−4−スルホンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルスルホン−4−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルスルホン−3′−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン−4−スルホンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−4−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルサルファイド−4−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−3′−スルホンアミド、1,4−ジアミノベンゼン−2−スルホンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル−3−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル−3′−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル−4−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルメタン−3−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルメタン−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルメタン−3′−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルメタン−4−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン−3−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルスルホン−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルスルホン−3′−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン−4−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−3−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−4−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルサルファイド−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−3′−カルボンアミド、1,4−ジアミノベンゼン−2−カルボンアミド、4−アミノフエニル−3−アミノ安息香酸、2,2−ビス(4−アミノフエニル)プロパン、ビス−(4−アミノフエニル)ジエチルシラン、ビス−(4−アミノフエニル)ジフエニルシラン、ビス−(4−アミノフエニル)エチルホスフインオキサイド、ビス−(4−アミノフエニル)−N−ブチルアミン、ビス−(4−アミノフエニル)−N−メチルアミン、N−(3−アミノフエニル)−4−アミノベンズアミド、2,4−ビス−(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス−(p−β−アミノ−t−ブチル−フエニル)エーテル、ビス−(p−β−メチル−γ−アミノ−ペンチル)ベンゼン、ビス−p−(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル)ベンゼン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、プロピレンジアミン、3−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4′−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,2−ビス−(3−アミノプロポキシ)エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシ−ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、2,17−ジアミノアイコサデカン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1,12−ジアミノオクタデカン、などが挙げられ、2種類以上を混合して用いてもよい。   Examples of diamines having no fluorine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,6-diaminopyridine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, benzidine, 3,3′- Dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5 , 5'-tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-di Minobenzophenone, 3,3 ′, 5,5′-tetraethoxy-4,4′-diaminobenzophenone, 3,3 ′, 5,5′-tetrachloro-4,4′-diaminobenzophenone, 3,3 ′, 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl- 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diisopropyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diethoxy-4,4'- Diaminodiphenyl ether, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dibromo-4, '-Diaminodiphenyl ether, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetraethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3' , 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3', 5,5'-tetrachloro -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether 3,3′-diisopropyl-5,5′-diethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl Tan, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4 , 4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dibromo-4,4'-diamino Diphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3', 5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5 , 5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5 5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl- 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethoxy-4 , 4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dichloro-4,4 -Diaminodiphenylpropane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5 5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5,5'-tetrachloro- 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diamino Diphenylpropane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ' -Diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diethoxy-4,4'-diamino Diphenylsulfone, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4, 4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3 ', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfone 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diamidine Diphenylsulfone, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4 , 4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5 ' Tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetrachloro-4,4 '-Diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 1,4-bis- (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis- (4- Aminophenoxy) benzene, 2,2-bis- (4-aminophenoxyphenyl) propane, bis- (4-aminophenoxyphenyl) sulfone, bis- (4-aminophenoxyphenyl) sulfide, bis- (4-aminophenoxyphenyl) ) Biphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl Ether-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenyl ether-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-sulfonamide, 3,4 '-Diaminodiphenylmethane-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylmethane-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone-3-sulfonamide 3,4'-diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 4,4'-diamino Diphenyl sulfide-3-sulfonami 3,4'-diaminodiphenyl sulfide-4-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide-3'-sulfonamide, 1,4-diaminobenzene -2-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3'-carbonamide, 3,3 ' -Diaminodiphenyl ether-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-3'-carbonamide, 3, , 3'-Diaminodiphe Rumethane-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-3'-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide-4-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide -4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide-3'-carbonamide, 1,4-diaminobenzene-2-carbonamide, 4-aminophenyl-3-aminobenzoic acid, 2,2-bis (4 -Aminophenyl) propane, bis- (4-aminophenol) Nyl) diethylsilane, bis- (4-aminophenyl) diphenylsilane, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphine oxide, bis- (4-aminophenyl) -N-butylamine, bis- (4-aminophenyl) -N-methylamine N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 2,4-bis- (β-amino-t-butyl) toluene, bis- (p-β-amino-t-butyl-phenyl) ether, bis- (P-β-methyl-γ-amino-pentyl) benzene, bis-p- (1,1-dimethyl-5-aminopentyl) benzene, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, deca Methylenediamine, tetramethylenediamine, propylenediamine, 3-methylhept Methylenediamine, 4,4'-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,2-bis- (3-aminopropoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 2,17-diaminoeicosadecane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,10-diamino-1,10 -Dimethyldecane, 1,12-diaminooctadecane, etc. are mentioned, and two or more kinds may be mixed and used.

また、ジアミンの一部として、シリコンジアミンを使用してもよい。シリコンジアミンとしては、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,1−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,1−テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(4−アミノブチル)−1,1,1−テトラメチルジシロキサンなどがある。シリコンジアミンを使用するときは、これらは、ジアミンの総量に対して、0.1〜10モル%使用するのが好ましい。上記のテトラカルボン酸二無水物およびジアミンは二種以上を併用してもよい。ポリイミド系樹脂の前駆体溶液として、感光性を有するものを使用することもできる。   Silicon diamine may be used as part of the diamine. Silicon diamines include 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,1-tetraphenyldisiloxane, 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,1-tetramethyldisiloxane 1,3-bis (4-aminobutyl) -1,1,1-tetramethyldisiloxane. When using silicon diamine, it is preferable to use 0.1-10 mol% of these with respect to the total amount of diamine. Two or more of the above tetracarboxylic dianhydrides and diamines may be used in combination. As the polyimide resin precursor solution, one having photosensitivity can also be used.

また、ジアミン成分またはテトラカルボン酸二無水物成分を反応させる場合、極性溶媒中の水が多いと両者が反応しにくく、所定の粘度が得られなくなるが、光導波路アンプなど光導波路用材料、光増幅機能を利用する光学材料、電子部品材料への適用に適したフッ素化ポリイミド前駆体ワニスの粘度は、塗膜強度、塗膜厚などから、1ポイズ以上が好ましく、より好ましくは5ポイズ以上、特に10ポイズ以上であることが好ましい。粘度が1ポイズ以上のフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを得るには、反応時における極性溶媒中の水含有量を0.05重量%以下にすることが好ましく、より好ましくは水含有量を0.03重量%以下、特に好ましくは0.01重量%以下とされる。水含有量の少ない極性溶媒は、モレキュラーシーブなどの脱水剤を極性溶媒中に添加して保管することにより得られる。   In addition, when reacting a diamine component or a tetracarboxylic dianhydride component, if there is a large amount of water in the polar solvent, the two will not react easily and a predetermined viscosity cannot be obtained. The viscosity of the fluorinated polyimide precursor varnish suitable for application to an optical material or electronic component material utilizing an amplification function is preferably 1 poise or more, more preferably 5 poise or more, from the coating strength, coating thickness, etc. In particular, it is preferably 10 poise or more. In order to obtain a fluorinated polyimide precursor varnish having a viscosity of 1 poise or more, the water content in the polar solvent during the reaction is preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.03%. % By weight or less, particularly preferably 0.01% by weight or less. A polar solvent with a low water content can be obtained by adding a dehydrating agent such as molecular sieve to the polar solvent and storing it.

また、ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分を反応させて得られるフッ素化ポリイミド前駆体ワニスは、40℃〜80℃に加熱して所望の粘度に調整するが、この加熱調整前に水分を添加すると、低温で保存したときに粘度安定性の優れたフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを得ることができる。水の添加量は、粘度安定性の点から、フッ素化ポリイミド前駆体ワニス中の水含有量が0.13重量%以上1.0重量%以下になるよう添加することが好ましく、0.20重量%以上1.0重量%以下になるよう添加することがより好ましく、0.25重量%以上1.0重量%以下になるよう添加することが特に好ましい。なお、当該水含有量は、極性溶媒に含まれる水の量も考慮する。フッ素化ポリイミド前駆体ワニス中の水含有量が0.13重量%未満の場合、低温でフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを保存すると、増粘を生じる傾向にある。一方、フッ素化ポリイミド前駆体ワニス中の水含有量が1.0重量%を超えると、ポリイミド塗膜を形成した時に塗膜が白化しやすくなる。   Moreover, the fluorinated polyimide precursor varnish obtained by reacting the diamine component and the tetracarboxylic dianhydride component is heated to 40 ° C. to 80 ° C. to adjust the desired viscosity. When added, a fluorinated polyimide precursor varnish having excellent viscosity stability when stored at a low temperature can be obtained. From the viewpoint of viscosity stability, the amount of water added is preferably such that the water content in the fluorinated polyimide precursor varnish is 0.13 wt% or more and 1.0 wt% or less, 0.20 wt% It is more preferable to add it so that it may become% or more and 1.0 weight% or less, and it is especially preferable to add so that it may become 0.25 weight% or more and 1.0 weight% or less. Note that the water content also takes into account the amount of water contained in the polar solvent. When the water content in the fluorinated polyimide precursor varnish is less than 0.13% by weight, when the fluorinated polyimide precursor varnish is stored at a low temperature, the viscosity tends to increase. On the other hand, when the water content in the fluorinated polyimide precursor varnish exceeds 1.0% by weight, the coating film tends to be whitened when the polyimide coating film is formed.

上記複合体は、溶媒中に水が存在することでゲル化、析出など不均化が生じる虞があるが、本発明の上記光ドーピング用材料を用いることで、水を含有する溶液中においても上記複合体を均一に分散させることができる。すなわち、本発明の光ドーピング用材料は、水を含有するフッ素化ポリイミド前駆体ワニスに対しても好適に混合させることができるように、鋭意検討した結果、完成に至ったものである。したがって、本発明のワニスは、上記光ドーピング用材料とフッ素化ポリイミド前駆体と上記所定範囲の水とを含有するワニスであることが好ましい。また、フッ素化ポリイミド前駆体ワニスの保存温度は、粘度安定性の点から、0℃以下が好ましく、より好ましくは−10℃以下、特に−20℃以下にするのが好ましい。保存温度が0℃より高いと、フッ素化ポリイミド前駆体ワニスの粘度が低下する。 The above complex may cause disproportionation such as gelation and precipitation due to the presence of water in the solvent, but by using the above-mentioned material for photodoping of the present invention, even in a solution containing water. The complex can be uniformly dispersed. That is, the optical doping material of the present invention has been completed as a result of intensive studies so that it can be suitably mixed with a fluorinated polyimide precursor varnish containing water. Therefore, the varnish of the present invention is preferably a varnish containing the above-mentioned photo-doping material, a fluorinated polyimide precursor, and the above-mentioned predetermined range of water. In addition, the storage temperature of the fluorinated polyimide precursor varnish is preferably 0 ° C. or less, more preferably −10 ° C. or less, and particularly preferably −20 ° C. or less from the viewpoint of viscosity stability. When storage temperature is higher than 0 degreeC, the viscosity of a fluorinated polyimide precursor varnish will fall.

また、本発明のワニス中における上記複合体の含有量は、当該ワニスを用いて作製される硬化物(膜)の透明性、誘導放出による増幅率、屈折率等を使用形態に応じて適宜決定すればよく、特に制限はないが、0.01〜50重量%の範囲であることが好ましく、0.1〜40重量%の範囲であることがより好ましい。さらに好ましくは、0.1〜20重量%、より好ましくは、1〜10重量%である。光導波路アンプの光導波路を構成する場合には、光導波路の長さ、すなわち、光信号の増幅に寄与する長さが長ければ、本発明のワニス(コア層)中の複合体の含有量が少量でも光アンプとしての効果を得ることができる。この場合には、複合体を含有することによる透明性の低下、すなわち、光損失の増大を最小限にとどめることができる上、複合体含有による屈折率の増大をも少なくすることができるので、コアとクラッドの屈折率差を小さくとった光導波路アンプを実現することができ、その結果、通常の光ファイバとの接続における結合損失を低減することができる。従来の希土類添加光ファイバでは、コアとクラッドとの比屈折率差が大きくなるため、光ファイバとの接続での損失が大きくなる問題があった。これを回避するためには、接続部をTEC処理など特殊な処理を施すなど工程を追加する必要があり、製造コストの増大を招いていた。   In addition, the content of the composite in the varnish of the present invention is appropriately determined according to the use form, such as the transparency of the cured product (film) produced using the varnish, the amplification factor by stimulated emission, and the refractive index. Although there is no particular limitation, it is preferably in the range of 0.01 to 50% by weight, and more preferably in the range of 0.1 to 40% by weight. More preferably, it is 0.1-20 weight%, More preferably, it is 1-10 weight%. When the optical waveguide of the optical waveguide amplifier is configured, if the length of the optical waveguide, that is, the length contributing to the amplification of the optical signal is long, the content of the composite in the varnish (core layer) of the present invention is The effect as an optical amplifier can be obtained even with a small amount. In this case, since transparency can be reduced by containing the composite, that is, an increase in light loss can be minimized, and an increase in refractive index due to the composite can be reduced. An optical waveguide amplifier having a small refractive index difference between the core and the clad can be realized, and as a result, coupling loss in connection with a normal optical fiber can be reduced. In the conventional rare earth-doped optical fiber, there is a problem that the loss in connection with the optical fiber increases because the relative refractive index difference between the core and the cladding increases. In order to avoid this, it is necessary to add a process such as performing a special process such as a TEC process on the connection part, which increases the manufacturing cost.

一方、本発明のワニス(コア層)中の複合体の含有量を多くすると、従来は、濃度消光やマルチフォノン緩和によって、蛍光が失活してしまい、励起希土類イオンが発光過程以外の形でエネルギーを失ってしまい増幅効果が得られないという問題点があったが、本発明では、後述の実施例に示すとおり、ワニス(コア層)中に複合体が高濃度に含まれていても失活することなく、蛍光を観測することができる。このように、高濃度に複合体を含有することができるのは、本発明の効果のひとつであり、また、複合体が高濃度に含まれていると、単位長さあたりの増幅率を高めることができ、短尺でも所定の光増幅率を得ることができる。つまり、高濃度に複合体を含有する本発明のワニスを用いて光導波路アンプの光導波路を構成すれば、光導波路アンプを小型化でき、なおかつ製造コストを大幅に低減することが可能となる。なお、上記複合体の含有量は、本発明のワニスもしくはその硬化物を窒素雰囲気下、900℃まで昇温速度10〜50℃/分で加熱し、熱分解して得られる残渣より正確に測定できる。   On the other hand, when the content of the complex in the varnish (core layer) of the present invention is increased, conventionally, fluorescence is deactivated by concentration quenching or multiphonon relaxation, and excited rare earth ions are in a form other than the light emission process. Although there was a problem that the amplification effect could not be obtained due to loss of energy, in the present invention, as shown in the examples described later, even if the composite was contained in a high concentration in the varnish (core layer), the loss was lost. Fluorescence can be observed without being activated. Thus, it is one of the effects of the present invention that the complex can be contained at a high concentration, and if the complex is contained at a high concentration, the amplification factor per unit length is increased. Therefore, a predetermined optical gain can be obtained even with a short length. That is, if the optical waveguide of the optical waveguide amplifier is configured using the varnish of the present invention containing the composite at a high concentration, the optical waveguide amplifier can be reduced in size and the manufacturing cost can be greatly reduced. The content of the composite is more accurately measured from the residue obtained by heating the varnish of the present invention or a cured product thereof to 900 ° C. at a heating rate of 10 to 50 ° C./min and thermally decomposing it. it can.

また、本発明のワニスを熱や光などで硬化させて得られる硬化物の形状は、使用形態に応じて適宜決定すればよく、特に限定されないが、本発明における光導波路アンプとして用いる場合には、薄膜状であることが望ましい。また、空間結合タイプや微小光学素子として光アンプやレーザを構成する場合には、バルク状もしくはブロック状の形状に加工して用いることもできる。また、本発明の光ドーピング用材料もしくは本発明のワニスを液状のままで、励起レーザと組合わせて光アンプやレーザを構成することもできる。   In addition, the shape of the cured product obtained by curing the varnish of the present invention with heat or light may be appropriately determined according to the use form, and is not particularly limited, but when used as an optical waveguide amplifier in the present invention. A thin film is desirable. Further, when an optical amplifier or laser is configured as a spatial coupling type or a micro optical element, it can be processed into a bulk shape or a block shape. In addition, the optical doping material of the present invention or the varnish of the present invention can be used in a liquid state and combined with an excitation laser to form an optical amplifier or laser.

<光導波路アンプ>
本発明の光導波路アンプは、上記本発明のワニスを用いて形成された光導波路(コア部)を少なくとも備えることをその特徴とするものであり、希土類金属を高濃度に含む本発明のワニスを用いることで、前述のとおり、光導波路アンプの小型、軽量化を実現することが可能となる。また、信号光は、励起光と共に本発明の光導波路アンプのコア層内部を通過させることで増幅させることができ、この際に用いる励起光の波長は、コア層に含まれる希土類金属の種類や信号光の波長等を考慮して適宜決定すればよく、特に限定されない。具体的には、使用する信号光の波長域に蛍光が観測される、励起スペクトルのピーク波長近傍を励起波長として、選択することが好ましい。
<Optical waveguide amplifier>
The optical waveguide amplifier of the present invention is characterized by comprising at least an optical waveguide (core part) formed using the varnish of the present invention, and the varnish of the present invention containing a rare earth metal in a high concentration. By using the optical waveguide amplifier, as described above, it is possible to reduce the size and weight of the optical waveguide amplifier. The signal light can be amplified by passing through the core layer of the optical waveguide amplifier of the present invention together with the excitation light. The wavelength of the excitation light used at this time depends on the type of rare earth metal contained in the core layer, What is necessary is just to determine suitably in consideration of the wavelength etc. of signal light, and it does not specifically limit. Specifically, it is preferable to select an excitation wavelength near the peak wavelength of the excitation spectrum where fluorescence is observed in the wavelength range of the signal light to be used.

図1に、基板1、当該基板1上に形成された下部クラッド層2、当該下部クラッド層2上に本発明のワニスを用いて形成されたコア層3および当該コア層3上に形成された上部クラッド層4を備える本発明の光導波路アンプの一実施形態を示す。   FIG. 1 shows a substrate 1, a lower cladding layer 2 formed on the substrate 1, a core layer 3 formed on the lower cladding layer 2 using the varnish of the present invention, and the core layer 3. 1 shows an embodiment of an optical waveguide amplifier of the present invention having an upper clad layer 4.

本発明の光導波路アンプの構成を得るためには、少なくとも、本発明のワニスを、塗布法、成型法、ラミネート法など公知の方法により塗布し、200〜400℃で熱処理してこれを硬化させ、コア層を形成する。通常のシングルモード光ファイバを入出力として用いた光導波路アンプを構成する場合には、光導波路アンプ部の光モードフィールドと光ファイバ部の光モードフィールドを合致させるためにコア層の厚さ、幅を小さくすることが好ましいため、スピンコートなど薄膜の膜厚を正確に制御できる方法が好ましい。また、本発明のワニスからなる被膜を公知の方法により、エッチングあるいは光を含む電磁波や電子線を含む粒子線の照射によって光回路パターンを有する光導波路を形成することもできる。   In order to obtain the configuration of the optical waveguide amplifier of the present invention, at least the varnish of the present invention is applied by a known method such as a coating method, a molding method, a laminating method, and is cured by heat treatment at 200 to 400 ° C. Forming a core layer. When configuring an optical waveguide amplifier using a normal single mode optical fiber as input / output, the thickness and width of the core layer are used to match the optical mode field of the optical waveguide amplifier unit with the optical mode field of the optical fiber unit. Since it is preferable to reduce the thickness, a method such as spin coating that can accurately control the film thickness of the thin film is preferable. Moreover, the optical waveguide which has an optical circuit pattern can also be formed by the irradiation of the coating which consists of the varnish of this invention by a well-known method, or the irradiation of the electromagnetic wave containing light, or the particle beam containing an electron beam.

また、上記基板としては、石英、シリコン、ガリウムヒ素、インジウムリンなどからなるものを用いることができ、特に限定されない。なお、図1では、上記基板と下部クラッド層とを異なる層として記載してあるが、基板自身を下部クラッド層として機能させることも可能である。すなわち、図1の下部クラッド層を省略した構成とすることができる。この場合には、光導波路コア層の屈折率が基板の屈折率よりも大きく選択されるべきであることは、言うまでも無い。また、例えば、シリコン基板を用い、当該基板表面の酸化膜層をクラッド層として用いることもできる。このようにすると、安価に得られるシリコンウエハの平坦性を有効に活用することができ、好ましい。   Further, as the substrate, a substrate made of quartz, silicon, gallium arsenide, indium phosphide, or the like can be used, and is not particularly limited. In FIG. 1, the substrate and the lower cladding layer are described as different layers, but the substrate itself can also function as the lower cladding layer. That is, the lower clad layer in FIG. 1 can be omitted. In this case, it goes without saying that the refractive index of the optical waveguide core layer should be selected to be larger than the refractive index of the substrate. Further, for example, a silicon substrate can be used, and an oxide film layer on the surface of the substrate can be used as a cladding layer. This is preferable because the flatness of the silicon wafer obtained at low cost can be effectively utilized.

また、上記クラッド層は、本発明のワニスにより形成されたコア層よりも屈折率の小さな層であればよく、例えば、前述のマトリックス用樹脂や、硬化物の屈折率がコア層よりも小さくなる本発明のワニスを用いて形成することができる。   The clad layer may be a layer having a refractive index smaller than that of the core layer formed of the varnish of the present invention. For example, the refractive index of the matrix resin or the cured product is smaller than that of the core layer. It can be formed using the varnish of the present invention.

前者の場合、すなわち、コア層のみに本発明のワニスを採用した場合には、高Δ(比屈折率差)の光導波路を実現することが容易となるという利点がある。高Δとすることで、特に、励起光を同軸で入射する場合においては、コア領域への光の閉じ込めを強くすることができるため、増幅効率を大きくとることが可能となり、好ましい。また、後述するように、チャネル型光導波路を構成する場合などに、高Δな光導波路とすることで、曲げ損失の増加を低減することが可能となるため、曲率半径の小さな曲げ光導波路を採用することもでき、光導波路アンプのサイズを小型化することが可能である。一方、閉じ込めが強すぎる、すなわち、コアとクラッドとの比屈折率差が大きくなりすぎると、通常の光ファイバを信号光の入出力として使用した場合に、接続損失が大きくなってしまうので、コア層、クラッド層の構成は、光アンプ全体としての要求増幅率、寸法、コストなどを総合的に加味して決定すべきである。コアとクラッドとの比屈折率差が大きくなりすぎる場合には、例えば、クラッド層を構成する樹脂として、コア層を構成するマトリックス樹脂(フッ素化ポリイミド)よりも屈折率が大きいものを採用して調整することが好ましく、温度依存性、偏波依存性、波長依存性などを考慮すると、さらにコア層を構成するマトリックス樹脂と同種で構造が異なるものを採用して調整するのが好ましい。共重合組成を連続的に変化させられるポリイミド樹脂の場合には、好適にクラッドとコアを選択することが可能である。   In the former case, that is, when the varnish of the present invention is adopted only for the core layer, there is an advantage that it becomes easy to realize an optical waveguide having a high Δ (relative refractive index difference). A high Δ is preferable, particularly when excitation light is incident coaxially, since the confinement of light in the core region can be strengthened, and the amplification efficiency can be increased. As will be described later, when a channel-type optical waveguide is configured, an increase in bending loss can be reduced by using a high Δ optical waveguide. It can also be adopted, and the size of the optical waveguide amplifier can be reduced. On the other hand, if the confinement is too strong, that is, if the relative refractive index difference between the core and the clad is too large, the connection loss will increase when a normal optical fiber is used as the input / output of signal light. The configuration of the layers and cladding layers should be determined taking into account the required amplification factor, dimensions, cost, etc. of the optical amplifier as a whole. When the relative refractive index difference between the core and the clad becomes too large, for example, a resin having a larger refractive index than the matrix resin (fluorinated polyimide) constituting the core layer is adopted as the resin constituting the clad layer. It is preferable to adjust, and considering temperature dependency, polarization dependency, wavelength dependency, etc., it is preferable to adjust by adopting the same type and different structure as the matrix resin constituting the core layer. In the case of a polyimide resin whose copolymer composition can be continuously changed, it is possible to suitably select a clad and a core.

また、後者の場合、すなわち、コア層とクラッド層の双方を本発明のワニスを用いて形成する場合、両者を形成する本発明のワニスの複合体の含有量は、同一であっても異なっていてもよく、屈折率とコアサイズ、励起波長、信号波長の設計にあわせて適宜選択すればよい。また、この場合、コア層及びクラッド層の各マトリックス樹脂を複合体比添加の場合の屈折率差を基礎として、光導波路設計を実施することが可能なので容易に低Δ光導波路を構成することができる。したがって、通常の光ファイバを入出力手段として用いた場合に、接続損失を小さく抑えることができ、好都合である。また、コア層、クラッド層共に同濃度に複合体を添加した樹脂を採用することで、特に耐熱性が低いマトリックス樹脂を採用した場合などに、複合体の拡散による、光増幅性能の長期的劣化を免れることができる。   In the latter case, that is, when both the core layer and the clad layer are formed using the varnish of the present invention, the content of the composite of the varnish of the present invention forming both is the same or different. The refractive index, the core size, the excitation wavelength, and the signal wavelength may be selected as appropriate. In this case, the optical waveguide design can be implemented based on the difference in refractive index when the matrix resin of the core layer and the cladding layer is added in the composite ratio, so that a low Δ optical waveguide can be easily configured. it can. Therefore, when a normal optical fiber is used as the input / output means, the connection loss can be reduced, which is convenient. In addition, by using a resin with a composite added to the core layer and the clad layer at the same concentration, long-term degradation of optical amplification performance due to diffusion of the composite, especially when a matrix resin with low heat resistance is used. Can escape.

また、コア層やクラッド層には、公知の透明高分子組成物、各種ガラス、金属酸化物、半導体酸化物などの無機材料が含まれていてもよく、用途に応じた選択をすることができる。   The core layer and the clad layer may contain a known transparent polymer composition, various glasses, metal oxides, semiconductor oxides and other inorganic materials, and can be selected according to the application. .

また、本発明のワニス中の複合体含有量が十分大きい場合には、単位長さあたりの増幅率を大きくとることができるので、必ずしも、図1のような光導波路構成をとる必要はなく、例えば、入出力2本の光ファイバの間隙に本発明のワニス硬化物を配置する構成とすることも可能となる。この構成の場合、単位長さあたりの増幅率と光アンプとしての要求増幅率とによって2本の光ファイバ間のギャップが決まることとなるが、単位長さあたりの増幅率が大きい場合には、両光ファイバには、コリメータなどの集光手段を設ける必要がないため、部品点数が低減でき、製造コストが下がるので好ましい。集光手段を必要としないギャップ幅は、例えば、100μm以下であり、さらに好ましくは、50μm以下である。100μmを超える場合には、上記コリメータやレンズなどの集光手段を設けることが望ましい。また、スラブ光導波路型で光導波路アンプの光導波路部分を提供する場合には、上下方向は伝搬光が閉じ込められるが、横方向(基板面に水平で、信号光の伝搬方向に垂直な方向)には伝搬光が閉じ込められないので、長尺で設計する場合には、コリメータなどを併用することが望ましい。   Further, when the composite content in the varnish of the present invention is sufficiently large, the gain per unit length can be increased, so it is not always necessary to take the optical waveguide configuration as shown in FIG. For example, the cured varnish of the present invention can be arranged in the gap between the two input / output optical fibers. In the case of this configuration, the gap between the two optical fibers is determined by the amplification factor per unit length and the required amplification factor as an optical amplifier, but when the amplification factor per unit length is large, Since it is not necessary to provide light collecting means such as a collimator for both optical fibers, the number of parts can be reduced and the manufacturing cost is reduced, which is preferable. The gap width that does not require the light collecting means is, for example, 100 μm or less, and more preferably, 50 μm or less. When it exceeds 100 μm, it is desirable to provide a light collecting means such as the collimator or lens. In addition, when providing the optical waveguide part of the optical waveguide amplifier in the slab optical waveguide type, the propagation light is confined in the vertical direction, but the lateral direction (the direction horizontal to the substrate surface and perpendicular to the signal light propagation direction). In this case, it is desirable to use a collimator or the like together when designing a long length.

また、上記光ファイバ2本を入出力とする場合と同様の構成であるが、ギャップ部分に通常の光導波路(増幅作用を有しない)を採用し、その光導波路の光路を横切るように溝を形成して、その溝部に本発明のワニス硬化物を挿入する(例えば、図17)、もしくは、本発明のワニスを溝に流し込んで硬化させるなどの方法によって、溝部を充填した光導波路アンプを実現することもできる。この場合は、溝部の寸法を正確に製造することができ、好ましい。   In addition, the configuration is the same as that in the case where the two optical fibers are input / output, but a normal optical waveguide (not having an amplification function) is adopted in the gap portion, and a groove is formed so as to cross the optical path of the optical waveguide. An optical waveguide amplifier filled with the groove is realized by forming and inserting the cured product of the varnish of the present invention into the groove (for example, FIG. 17) or pouring the varnish of the present invention into the groove and curing. You can also In this case, the dimension of the groove can be accurately manufactured, which is preferable.

また、光導波路アンプの光導波路部分として、3次元光導波路を構成することもできる。この構成では、スラブ型光導波路の場合と異なり、横方向にも光の閉じ込めを実現することができるので、長尺にわたっても、伝搬光の漏れもしくは回折広がりを防ぐことができ、好ましい。また、この場合、励起光を同軸照射する構成の場合に必要となる、励起光と信号光との合分波機能を合分波光導波路として、上記光導波路アンプの3次元光導波路部分と集積化することが容易なため、光アンプ全体としての小型化にとって好ましい。   Also, a three-dimensional optical waveguide can be configured as the optical waveguide portion of the optical waveguide amplifier. In this configuration, unlike in the case of the slab type optical waveguide, light confinement can be realized in the lateral direction, so that leakage of propagation light or diffraction spread can be prevented even over a long length. Further, in this case, the multiplexing / demultiplexing function of the excitation light and the signal light, which is necessary in the case of the configuration in which the excitation light is coaxially irradiated, is integrated with the three-dimensional optical waveguide portion of the optical waveguide amplifier as an integrated / demultiplexed optical waveguide. Therefore, it is preferable for miniaturization of the entire optical amplifier.

また、本発明の光導波路アンプ、図15に示すように、コア層3上もしくは光導波路アンプ10上に、コア層3に光を入射するための光入射手段たる光入射用プリズム6と、コア層3から光を取り出すための光出射手段たる光出射用プリズム7を備えていてもよい。光の入射角度は、コア層3内で光が全反射し光が導波する範囲内の角度とする。なお、入射させる光は、励起光ならびに信号光の両者もしくは、いずれか一方である。励起光ならびに信号光の両者をプリズム介して入射する場合には、それぞれの波長に応じて、入射角度を設定する必要がある。励起光ならびに信号光の両者もしくは、いずれか一方の光をプリズムから入出力させる場合では、他方は、光導波路端部から入出力することができる。また、コアに光を入射するための光入射手段、光出射手段の両者もしくは、一方に光ファイバを備えていてもよい。コア層は、フォトリソグラフィ、成型など公知の方法によって、パターン形成された3次元光導波路を構成していてもよい。光ファイバを備えた光導波路アンプを構成する場合には、光導波路アンプを設ける部分と一体の基板上に光ファイバ実装用のガイド溝を配置することが、光ファイバの実装を容易にできる(パッシブ実装)ため、好ましい(例えば、図17)。   Further, as shown in FIG. 15, the optical waveguide amplifier of the present invention, a light incident prism 6 as a light incident means for making light incident on the core layer 3 on the core layer 3 or the optical waveguide amplifier 10, and the core You may provide the light emission prism 7 which is a light emission means for taking out light from the layer 3. FIG. The incident angle of light is an angle within a range where light is totally reflected in the core layer 3 and light is guided. The incident light is either or both of excitation light and signal light. When both the excitation light and the signal light are incident through the prism, it is necessary to set the incident angle according to the respective wavelengths. In the case where both or both of the excitation light and the signal light are input / output from the prism, the other can be input / output from the end of the optical waveguide. Moreover, you may provide the optical fiber in both or one of the light-incidence means for injecting light into a core, and a light-projection means. The core layer may constitute a patterned three-dimensional optical waveguide by a known method such as photolithography or molding. In the case of configuring an optical waveguide amplifier including an optical fiber, it is possible to easily mount the optical fiber by disposing a guide groove for mounting the optical fiber on a substrate integrated with a portion where the optical waveguide amplifier is provided (passive). (For example, FIG. 17).

本発明の光導波路アンプは、前述のとおり、光導波路の少なくともコア層が本発明のワニスからなり、励起光の照射により、中心希土類元素(イオン)の電子が励起され、増幅始準位に緩和したのち、信号光による誘導放出によって信号光強度を増幅するものである。したがって、光導波路アンプを構成するためには、本発明のワニスからなる光導波路部分と光導波路へ光信号を入出力するための光ファイバもしくは光導波路が接続されるとともに、光増幅機能部位に励起光を照射する手段をもって構成される。励起光照射手段は、光導波路に対して横から照射することもできるし(例えば、図16)、光導波路を共通の導波路として、同軸的に照射することもできる。従来の希土類添加光ファイバアンプでは、同軸励起が通例採られていたのは、希土類元素の添加濃度を高濃度化することが困難であったこともその一因である。本発明では、高濃度に希土類元素を添加することができるので、励起光照射方法は適宜決定することができる。   As described above, in the optical waveguide amplifier of the present invention, at least the core layer of the optical waveguide is made of the varnish of the present invention, and the electrons of the central rare earth element (ions) are excited by the irradiation of the excitation light and relaxed to the amplification start level. After that, the signal light intensity is amplified by stimulated emission by the signal light. Therefore, in order to construct an optical waveguide amplifier, an optical waveguide portion made of the varnish of the present invention and an optical fiber or an optical waveguide for inputting / outputting an optical signal to / from the optical waveguide are connected and pumped to an optical amplification functional part. It is comprised with the means to irradiate light. The excitation light irradiating means can irradiate the optical waveguide from the side (for example, FIG. 16), or can irradiate coaxially with the optical waveguide as a common waveguide. In conventional rare earth-doped optical fiber amplifiers, coaxial excitation is usually adopted because it is difficult to increase the concentration of rare earth elements. In the present invention, since the rare earth element can be added at a high concentration, the excitation light irradiation method can be appropriately determined.

また、本発明の光導波路アンプの光導波路コア層の厚みは、特に限定されないが、1〜50μmであることが好ましく、2〜20μmであることがより好ましく、2〜10μmであることがさらに好ましく、2〜7μmであることがさらに好ましい。コア層の厚みが50μmを超えると、光導波路アンプの厚みが大となり、また、基板との膨張係数の差に基づく応力によるそりが発生しやすくなる。また、コア層全体の厚みの均一性が達成されにくくなる。なお、コア層の厚さは、樹脂溶液の濃度、粘度、スピナの回転数などを変えることにより所定の厚さに制御する。   The thickness of the optical waveguide core layer of the optical waveguide amplifier of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 20 μm, and further preferably 2 to 10 μm. 2 to 7 μm is more preferable. When the thickness of the core layer exceeds 50 μm, the thickness of the optical waveguide amplifier increases, and warpage due to stress based on the difference in expansion coefficient from the substrate is likely to occur. Moreover, it becomes difficult to achieve uniformity in the thickness of the entire core layer. The thickness of the core layer is controlled to a predetermined thickness by changing the concentration of the resin solution, the viscosity, the rotation speed of the spinner, and the like.

また、コア層の厚みは、検出光の入射、出射手段をも考慮して決定すべきであり、例えば、シングルモード光ファイバを入射及び出射、入射もしくは出射手段のいずれかに用いる場合では、一般には伝送路である光ファイバとの整合性を考慮し、コア層の厚みを5μm前後とすることが多い。また、例えば、マルチモード光ファイバを入射及び出射、入射もしくは出射手段のいずれかに用いる場合では、一般には伝送路である光ファイバとの整合性を考慮し、コア層の厚みを50μm前後とすることが多い。   In addition, the thickness of the core layer should be determined in consideration of detection light incidence and emission means. For example, when a single-mode optical fiber is used for either incidence and emission, incidence or emission means, In many cases, the thickness of the core layer is around 5 μm in consideration of the consistency with the optical fiber as the transmission line. In addition, for example, when a multimode optical fiber is used for any of the incident and exit, entrance or exit means, the thickness of the core layer is generally set to about 50 μm in consideration of consistency with the optical fiber that is the transmission path. There are many cases.

また、光導波路コア層の厚さは、コア層とクラッド層との比屈折率差、使用波長などによっても適宜選択されるものであるが、信号光を入出力する光ファイバもしくは光導波路との結合損失を低減するように設計されることが好ましい。例えば、FTTHに用いられる波長域、すなわち、1.3μm帯、1.49μm帯、1.55μm帯などの信号光に対する光アンプを構成する場合、光導波路のコア層の厚さが4〜10μmの範囲にあるときの光導波路アンプ部の比屈折率差は、0.3%〜3%程度であることが好ましく、0.3%〜1%であることがより好ましく、さらに好ましくは、0.3%〜0.5%である。このように設計することによって、通常の光ファイバを信号入出力に好適に用いることができ、接続部での結合損失を小さく抑えることができる。なお、この屈折率は、複合体の会合状態や配合量などにより制御することができる。また、コア層の厚みが1〜50μmの範囲にあるときの、励起光照射前の光導波路部分の、波長1200〜1600nmにおける光伝搬損失は、5dB/cm以下であることが好ましく、3dB/cmであることがより好ましく、さらに好ましくは、1dB/cm以下である。なお、上記では、光導波路のコア層の厚みについて説明したが、3次元光導波路コアを採用する場合には、これらの記述は、コアの横方向の幅にも同様に適用できることは、言うまでも無い。   Further, the thickness of the optical waveguide core layer is appropriately selected depending on the relative refractive index difference between the core layer and the cladding layer, the wavelength used, etc. It is preferably designed to reduce coupling losses. For example, when configuring an optical amplifier for signal light in the wavelength range used for FTTH, that is, 1.3 μm band, 1.49 μm band, 1.55 μm band, etc., the thickness of the core layer of the optical waveguide is 4 to 10 μm. The relative refractive index difference of the optical waveguide amplifier when it is in the range is preferably about 0.3% to 3%, more preferably 0.3% to 1%, and still more preferably 0.3%. 3% to 0.5%. By designing in this way, a normal optical fiber can be suitably used for signal input / output, and the coupling loss at the connection portion can be kept small. In addition, this refractive index can be controlled by the association state and the amount of the composite. Further, when the thickness of the core layer is in the range of 1 to 50 μm, the light propagation loss at a wavelength of 1200 to 1600 nm of the optical waveguide portion before excitation light irradiation is preferably 5 dB / cm or less, preferably 3 dB / cm. More preferably, it is 1 dB / cm or less. In the above description, the thickness of the core layer of the optical waveguide has been described. However, when a three-dimensional optical waveguide core is employed, these descriptions can be applied to the width in the horizontal direction of the core as well. There is no.

また、光導波路アンプの光導波路部分は、透明性、すなわち、伝搬損失が小さいことを兼ね備えている必要がある。光導波路の伝搬損失は、通例dB/cmの単位で示される。すなわち、伝搬距離が長いほど光導波路としての伝搬損失は大きくなる。一方で、光導波路アンプの増幅率もまた、通例dB/cmの単位で示される。光導波路の伝搬損失と増幅率とは、符号が異なるため、打ち消しあう。増幅率の絶対値が伝搬損失の絶対値を上回ることが好ましい。このため、光導波路アンプの大きさと共に光増幅率とによって要求される光導波路としての透明性は異なるが、全長でのトータルの伝搬損失が10dB以下であることが好ましい。更に好ましくは、全長でのトータルの伝搬損失が3dB以下である。特に好ましくは、全長でのトータルの伝搬損失が1dB以下である。すなわち、光導波路アンプの光導波路部の全長が、1cmである場合には、コア層に用いる複合体含有樹脂の伝搬損失(励起光を照射していない状況の伝搬損失)は、10dB/cm以下であることが好ましく、3dB/cm以下であることがより好ましく、1dB/cm以下であることが特に好ましい。また、光導波路アンプの光導波路部の全長が、10cmである場合の伝搬損失は、1dB/cm以下であることが好ましい。   In addition, the optical waveguide portion of the optical waveguide amplifier needs to have transparency, that is, a small propagation loss. The propagation loss of an optical waveguide is usually indicated in units of dB / cm. That is, the longer the propagation distance, the greater the propagation loss as an optical waveguide. On the other hand, the amplification factor of the optical waveguide amplifier is also typically expressed in units of dB / cm. The propagation loss and the amplification factor of the optical waveguide cancel each other because they have different signs. It is preferable that the absolute value of the amplification factor exceeds the absolute value of the propagation loss. For this reason, although the required transparency as an optical waveguide differs depending on the size of the optical waveguide amplifier and the optical amplification factor, the total propagation loss over the entire length is preferably 10 dB or less. More preferably, the total propagation loss over the entire length is 3 dB or less. Particularly preferably, the total propagation loss over the entire length is 1 dB or less. That is, when the total length of the optical waveguide portion of the optical waveguide amplifier is 1 cm, the propagation loss of the composite-containing resin used for the core layer (propagation loss in a state where no excitation light is irradiated) is 10 dB / cm or less. It is preferable that it is 3 dB / cm or less, and it is especially preferable that it is 1 dB / cm or less. The propagation loss when the total length of the optical waveguide portion of the optical waveguide amplifier is 10 cm is preferably 1 dB / cm or less.

以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は、これら記載に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these description.

<複合体の合成>
(合成例1)
前述の特許文献4の明細書に記載された実施例1における<無機分散相の作製>に従い、エルビウム/アルミニウム複合体を合成した。すなわち、約1.9gの酢酸エルビウム水和物を120℃/8mmHgの条件下で約2時間乾燥、脱水して得られた酢酸エルビウムを乾燥アルゴンガス気流下で1.36g秤量し、これを乾燥プロピレングリコールモノメチルエーテル13.6g中に加え、分散させた。ついで、この混合物をアルゴン気流下で攪拌しながらオイルバスにて約119℃に昇温した後、別途に調製したアルミニウムトリ−s−ブトキシドのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液(濃度34.9重量%)を8.47g加えた。ついで、同温度を維持しながら2時間攪拌した後、室温まで冷却してエルビウム/アルミニウム複合体を得た(Er/Al=1/3モル)。さらに、当該複合体を含むプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液に、15gのジメチルアセトアミドを加え、密閉した後、40℃に昇温し、約10mmHgの減圧下でプロピレングリコールモノメチルエーテルを優先的に除去し、同条件下で溶媒の留去が認められなくなった時点で室温まで冷却し、アルゴンガスを吹き込みながら常圧に戻した。以上の方法によりエルビウム/アルミニウム複合体を含む桃色のジメチルアセトアミド溶液を得た(ErとAlの合計酸化物換算濃度約5重量%)。なお、酸化物換算濃度は、希土類金属化合物及び他の金属化合物から当該金属酸化物のモル量を算出し、そのモル量に相当する重量から酸化物換算濃度を算出した値である。
<Synthesis of complex>
(Synthesis Example 1)
An erbium / aluminum composite was synthesized according to <Preparation of Inorganic Dispersed Phase> in Example 1 described in the specification of Patent Document 4 described above. That is, about 1.9 g of erbium acetate hydrate was dried for about 2 hours at 120 ° C./8 mmHg and dehydrated, and 1.36 g of erbium acetate obtained under a dry argon gas stream was weighed and dried. It was added and dispersed in 13.6 g of propylene glycol monomethyl ether. Next, the mixture was heated to about 119 ° C. in an oil bath while stirring under an argon stream, and then a separately prepared propylene glycol monomethyl ether solution (concentration 34.9% by weight) of aluminum tri-s-butoxide. 8.47 g was added. Next, the mixture was stirred for 2 hours while maintaining the same temperature, and then cooled to room temperature to obtain an erbium / aluminum composite (Er / Al = 1/3 mol). Further, 15 g of dimethylacetamide was added to the propylene glycol monomethyl ether solution containing the complex, and after sealing, the temperature was raised to 40 ° C., and propylene glycol monomethyl ether was preferentially removed under a reduced pressure of about 10 mmHg. When evaporation of the solvent was not observed under the conditions, the mixture was cooled to room temperature and returned to normal pressure while blowing argon gas. By the above method, a pink dimethylacetamide solution containing an erbium / aluminum complex was obtained (total oxide equivalent concentration of Er and Al of about 5% by weight). The oxide equivalent concentration is a value obtained by calculating the molar amount of the metal oxide from the rare earth metal compound and other metal compounds and calculating the oxide equivalent concentration from the weight corresponding to the molar amount.

(合成例2)
酢酸エルビウムの代わりに酢酸プラセオジウムを用いた以外は、合成例1と同様にして、プラセオジウム/アルミニウム複合体を含む緑色のジメチルアセトアミド溶液を得た(Pr/Al=1/3モル、PrとAlの合計酸化物換算濃度約5重量%)。
(Synthesis Example 2)
A green dimethylacetamide solution containing a praseodymium / aluminum complex was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that praseodymium acetate was used instead of erbium acetate (Pr / Al = 1/3 mol, Pr and Al). The total oxide equivalent concentration is about 5% by weight).

<光ドーピング用材料の調製>
上記合成例で得た複合体のジメチルアセトアミド溶液約2gに、表1に示す各カルボン酸化合物を含むジメチルアセトアミド溶液を混合することで、光ドーピング用材料A〜Mを調製した。

Figure 0005034638
※1 複合体中の希土類金属1モルに対するカルボン酸化合物のモル数
※2 トリフルオロ酢酸(沸点:72.4℃/760mmHg)
※3 ペンタフルオロプロパン酸(沸点:96℃/760mmHg)
※4 ヘプタフルオロブタン酸(沸点:120℃/755mmHg)
※5 トリデカフルオロヘプタン酸(沸点:175℃/742mmHg) <Preparation of light doping material>
Light doping materials A to M were prepared by mixing about 2 g of the dimethylacetamide solution of the composite obtained in the above synthesis example with a dimethylacetamide solution containing each carboxylic acid compound shown in Table 1.
Figure 0005034638
* 1 Number of moles of carboxylic acid compound per mole of rare earth metal in the composite * 2 Trifluoroacetic acid (boiling point: 72.4 ° C / 760mmHg)
* 3 Pentafluoropropanoic acid (boiling point: 96 ° C / 760mmHg)
* 4 Heptafluorobutanoic acid (boiling point: 120 ° C / 755mmHg)
* 5 Tridecafluoroheptanoic acid (boiling point: 175 ° C / 742mmHg)

<フッ素化ポリイミド前駆体の合成>
(合成例1)
1リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30ml/分の流量で乾燥窒素を通しながら、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン89.23g、および、モレキュラーシーブ(和光純薬工業(株)製商品名モレキュラーシーブス4A1/8)を添加して保管した、水含有量が0.008重量%(平沼産業株式会社製自動水分測定装置AQV−5SPで測定)のN,N−ジメチルアセトアミド850gを仕込み、溶解した後に、ピロメリット酸二無水物60.77gを添加し、室温で10時間撹拌して粘度1000ポイズの含フッ素ポリイミド系前駆体溶液を得た。この溶液に水2.0gを添加した後、70℃で4時間撹拌し、粘度50ポイズのフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを得た。この溶液の水含有量は0.3重量%であった。
<Synthesis of fluorinated polyimide precursor>
(Synthesis Example 1)
Using a 1 liter glass four-necked flask, while passing dry nitrogen at a flow rate of 30 ml / min, 89.23 g of 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane and molecular sieve (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) N, N with a water content of 0.008% by weight (measured with Hiranuma Sangyo Co., Ltd. automatic moisture measuring device AQV-5SP), which was stored after the addition of Yaku Kogyo Co., Ltd. product name Molecular Sieves 4A1 / 8) -After adding and dissolving 850 g of dimethylacetamide, 60.77 g of pyromellitic dianhydride was added and stirred at room temperature for 10 hours to obtain a fluorine-containing polyimide precursor solution having a viscosity of 1000 poise. After adding 2.0 g of water to this solution, the mixture was stirred at 70 ° C. for 4 hours to obtain a fluorinated polyimide precursor varnish having a viscosity of 50 poise. The water content of this solution was 0.3% by weight.

(合成例2)
1リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30ml/分の流量で乾燥窒素を通しながら、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル46.6g、および水含有量が0.01重量%のN−メチル−2−ピロリドン850gを仕込み、溶解した後に、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物103.4gを添加し、室温で15時間撹拌して粘度800ポイズの含フッ素ポリイミド系前駆体溶液を得た。この溶液に水3.0gを添加した後、65℃で3時間撹拌し、粘度100ポイズのフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを得た。この溶液の水含有量は0.4重量%であった。
(Synthesis Example 2)
Using a 1 liter glass four-necked flask, while passing dry nitrogen at a flow rate of 30 ml / min, 46.6 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether and N-methyl having a water content of 0.01% by weight -2-pyrrolidone 850 g was charged and dissolved, and then 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride 103.4 g was added and stirred at room temperature for 15 hours to give a viscosity of 800 poise. A fluorine-containing polyimide precursor solution was obtained. After adding water 3.0g to this solution, it stirred at 65 degreeC for 3 hours, and obtained the fluorinated polyimide precursor varnish with a viscosity of 100 poise. The water content of this solution was 0.4% by weight.

(合成例3)
1リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30ml/分の流量で乾燥窒素を通しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル62.8g、および水含有量が0.008重量%のN,N−ジメチルアセトアミド850gを仕込み、溶解した後に、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物87.2gを添加し、室温で15時間撹拌して粘度800ポイズの含フッ素ポリイミド系前駆体溶液を得た。この溶液に水3.0gを添加した後、65℃で3時間撹拌し、粘度50ポイズのフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを得た。この溶液の水含有量は0.4重量%であった。
(Synthesis Example 3)
Using a 1 liter glass four-necked flask and passing dry nitrogen at a flow rate of 30 ml / min, 62.8 g of 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl and water After charging and dissolving 850 g of N, N-dimethylacetamide having a content of 0.008% by weight, 87.2 g of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride was added, The mixture was stirred at room temperature for 15 hours to obtain a fluorine-containing polyimide precursor solution having a viscosity of 800 poise. After adding water 3.0g to this solution, it stirred at 65 degreeC for 3 hours, and obtained the fluorinated polyimide precursor varnish with a viscosity of 50 poise. The water content of this solution was 0.4% by weight.

(合成例4)
1リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30ml/分の流量で乾燥窒素を通しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル57.4g、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル4.0g、および水含有量が0.008重量%のN,N−ジメチルアセトアミド850gを仕込み、溶解した後に、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物88.6gを添加し、室温で15時間撹拌して粘度800ポイズの含フッ素ポリイミド系前駆体溶液を得た。この溶液に水3.0gを添加した後、65℃で3時間撹拌し、粘度50ポイズのフッ素化ポリイミド前駆体ワニスを得た。この溶液の水含有量は0.4重量%であった。
(Synthesis Example 4)
Using a 1 liter glass four-necked flask, while passing dry nitrogen at a flow rate of 30 ml / min, 57.4 g of 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 4, After charging 4.0 g of 4'-diaminodiphenyl ether and 850 g of N, N-dimethylacetamide having a water content of 0.008% by weight, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoro was dissolved. 88.6 g of propane dianhydride was added and stirred at room temperature for 15 hours to obtain a fluorine-containing polyimide precursor solution having a viscosity of 800 poise. After adding water 3.0g to this solution, it stirred at 65 degreeC for 3 hours, and obtained the fluorinated polyimide precursor varnish with a viscosity of 50 poise. The water content of this solution was 0.4% by weight.

<本発明のワニスの作製と評価>
(実施例1〜9)
上記で得た光ドーピング用材料A〜I約1gをそれぞれ、上記合成例4で得たフッ素化ポリイミド前駆体ワニス約5gに添加し、室温で30分攪拌した後、約12時間静置することでワニスA〜I(実施例1〜9)を作製した。なお、各ワニスともゲル化が生じることはなかった。
<Production and Evaluation of Varnish of the Present Invention>
(Examples 1-9)
About 1 g of the light doping materials A to I obtained above are respectively added to about 5 g of the fluorinated polyimide precursor varnish obtained in Synthesis Example 4 above, stirred at room temperature for 30 minutes, and then allowed to stand for about 12 hours. Thus, varnishes A to I (Examples 1 to 9) were produced. In addition, gelation did not occur in each varnish.

次いで、各ワニスA〜Iを、スピンコータを用いて1μmの酸化膜付シリコン基板上に塗布し、100℃で1時間、200℃で1時間、350℃で2時間の条件で硬化させ、所定厚みの膜A〜Iを作製した。その後、得られた膜の外観、強度、波長1300nm及び1550nmにおける屈折率、波長1550nmにおける透過損失を評価した。結果を表2に示す。なお、強度はクロスカット法により測定し、膜厚、屈折率及び透過損失は、プリズムカプラ法(メトリコン社製プリズムカプラ2010)により測定した。

Figure 0005034638
Next, each varnish A to I is applied onto a 1 μm silicon substrate with an oxide film using a spin coater, and cured under conditions of 100 ° C. for 1 hour, 200 ° C. for 1 hour, and 350 ° C. for 2 hours to obtain a predetermined thickness. Films A to I were prepared. Thereafter, the appearance, strength, refractive index at wavelengths of 1300 nm and 1550 nm, and transmission loss at a wavelength of 1550 nm were evaluated. The results are shown in Table 2. The strength was measured by a cross-cut method, and the film thickness, refractive index, and transmission loss were measured by a prism coupler method (Price Coupler 2010 manufactured by Metricon).
Figure 0005034638

(参考例1〜4)
上記で得た光ドーピング用材料J〜M約1gをそれぞれ、上記合成例4で得たフッ素化ポリイミド前駆体ワニス約5gに添加し、室温で30分攪拌した後、約12時間静置することでワニスJ〜Mを作製したが、全てのワニスがゲル化し、その後の成膜や評価を行うことができなかった。
(Reference Examples 1-4)
About 1 g of the light doping materials J to M obtained above are respectively added to about 5 g of the fluorinated polyimide precursor varnish obtained in Synthesis Example 4, stirred for 30 minutes at room temperature, and then allowed to stand for about 12 hours. In this case, varnishes J to M were produced, but all the varnishes were gelled, and subsequent film formation and evaluation could not be performed.

(実施例10)
光ドーピング用材料B5gに対して、上記合成例4で得たフッ素化ポリイミド前駆体ワニス0.09gを添加し、室温で30分攪拌した後、約12時間静置することで実施例10のワニスを作製した。このワニスの、エルビウム/アルミニウム複合体の酸化物換算濃度は約0.074重量%であった。
(Example 10)
0.09 g of the fluorinated polyimide precursor varnish obtained in Synthesis Example 4 above was added to 5 g of the light doping material B, stirred at room temperature for 30 minutes, and then allowed to stand for about 12 hours, whereby the varnish of Example 10 was obtained. Was made. The oxide equivalent concentration of the erbium / aluminum composite of this varnish was about 0.074% by weight.

(実施例11〜16)
光ドーピング材料B5gに対して添加する上記合成例4で得たフッ素化ポリイミド前駆体ワニスの添加量を変えること以外は、実施例10と全く同様にして実施例11〜16のワニスを作製した。各ワニスの、エルビウム/アルミニウム複合体の酸化物換算濃度は、0.213重量%(実施例11)、0.226重量%(実施例12)、0.702重量%(実施例13)、0.748重量%(実施例14)、1.099重量%(実施例15)、2.319重量%(実施例16)であった。
(Examples 11 to 16)
Varnishes of Examples 11 to 16 were prepared in exactly the same manner as Example 10 except that the addition amount of the fluorinated polyimide precursor varnish obtained in Synthesis Example 4 added to 5 g of the light doping material B was changed. The oxide equivalent concentration of the erbium / aluminum composite in each varnish was 0.213 wt% (Example 11), 0.226 wt% (Example 12), 0.702 wt% (Example 13), 0 It was .748% by weight (Example 14), 1.099% by weight (Example 15) and 2.319% by weight (Example 16).

<光導波路アンプの作製と評価>
次に、本発明の光導波路アンプの作製例について説明する。まず、シリコン基板上に、下記式

Figure 0005034638
で表されるポリイミド(x=0.1)の前駆体であるポリアミド酸のN,N−ジメチルアセトアミド溶液(15wt%)をスピンコートにより塗布し、加熱によってイミド化を行い、下部クラッド層(厚さ10μm)を形成した(波長1550nmにおけるTE偏波の屈折率:1.521)。ついで、下部クラッド層上に、上記一般式で表されるポリイミド(x=0.1)の前駆体であるポリアミド酸のN,N−ジメチルアセトアミド溶液(15wt%)と上記光ドーピング用材料Bとを混合したワニスNを塗布・加熱してコア層(厚さ6.5μm)を設け(波長1550nmにおけるTE偏波の屈折率:1.532)、ホトリソグラフィとO2 ガス系のドライエッチングを用いてコア層の不要部分を除去した。エッチングに用いたマスクを除去した後、上記コア層上に、上記下部クラッド層と同様にして上部クラッド層(平坦部における厚さ15μm)を設けることで、シリコン基板上に光導波路アンプの光導波路を形成した。なお、上記一般式で表されるフッ素化ポリイミドは、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)と2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TFDB)又は4,4′−ジアミノジフェニルエーテル(DDE)とから合成されるフッ素化ポリイミドであり、DDEの比率、すなわち、一般式における(x)を大きくすることによりその屈折率を大きくできる。ここでは、一般式における(x)を上記の値に設定することにより、コア層とクラッド層との比屈折率差を0.7%に調整した。また、導波路幅は6.5μmとした。 <Production and evaluation of optical waveguide amplifier>
Next, an example of manufacturing the optical waveguide amplifier of the present invention will be described. First, on the silicon substrate, the following formula
Figure 0005034638
A N, N-dimethylacetamide solution (15 wt%) of polyamic acid, which is a precursor of polyimide represented by the formula (1), is applied by spin coating, imidized by heating, and a lower cladding layer (thickness) (The refractive index of TE polarized light at a wavelength of 1550 nm: 1.521). Next, an N, N-dimethylacetamide solution (15 wt%) of polyamic acid, which is a precursor of the polyimide represented by the above general formula (x = 0.1), and the above-mentioned light doping material B are formed on the lower cladding layer. The core layer (thickness 6.5 μm) is provided by applying and heating varnish N mixed with (refractive index of TE polarized light at a wavelength of 1550 nm: 1.532), using photolithography and O 2 gas based dry etching Then, unnecessary portions of the core layer were removed. After removing the mask used for etching, an upper clad layer (thickness of 15 μm in the flat portion) is provided on the core layer in the same manner as the lower clad layer, so that the optical waveguide of the optical waveguide amplifier is formed on the silicon substrate. Formed. In addition, the fluorinated polyimide represented by the above general formula includes 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and 2,2′-bis (trifluoromethyl)- Fluorinated polyimide synthesized from 4,4′-diaminobiphenyl (TFDB) or 4,4′-diaminodiphenyl ether (DDE), and by increasing the ratio of DDE, that is, (x) in the general formula The refractive index can be increased. Here, the relative refractive index difference between the core layer and the cladding layer was adjusted to 0.7% by setting (x) in the general formula to the above value. The waveguide width was 6.5 μm.

次に、シリコン基板をダイシングにより切断し、長さ6cmの光導波路の両端面をシングルモードファイバで光結合して光導波路アンプを作製し、その特性を評価した。その結果、測定波長1.55μmにおいてファイバ間の挿入損失は5.0dBと小さな値であった。   Next, the silicon substrate was cut by dicing, and both ends of the 6 cm-long optical waveguide were optically coupled with a single mode fiber to produce an optical waveguide amplifier, and its characteristics were evaluated. As a result, the insertion loss between the fibers was as small as 5.0 dB at the measurement wavelength of 1.55 μm.

<光導波の観察>
波長632.8nm(HeNeレーザ)のビームを、プリズムカプラ法でプリズムを介して、上記で作製した光導波路に結合させたところ、光波が良好なストリークを示し直線的に伝搬している様子が観察された。また、出射プリズムを通して、良好なm−lineが観測された。このことから、上記合成例1で得た複合体は、上記ワニスN中においてフッ素化ポリイミドをマトリックスとして均一に分散されていることが確認できた。
<Observation of optical waveguide>
When a beam with a wavelength of 632.8 nm (HeNe laser) is coupled to the optical waveguide prepared above via a prism by the prism coupler method, it is observed that the light wave shows a good streak and propagates linearly. It was done. Further, good m-line was observed through the output prism. From this, it was confirmed that the composite obtained in Synthesis Example 1 was uniformly dispersed in the varnish N using fluorinated polyimide as a matrix.

<蛍光強度測定>
上記で作製した膜Bについて、島津製作所製NIR−PLシステム装置を用いて、400nmおよび520nmの波長で励起した場合の室温での蛍光強度スペクトルを測定した。結果を図2および図3に示す。
<Fluorescence intensity measurement>
About the film | membrane B produced above, the fluorescence intensity spectrum in the room temperature at the time of exciting with the wavelength of 400 nm and 520 nm was measured using the NIR-PL system apparatus by Shimadzu Corporation. The results are shown in FIG. 2 and FIG.

また、同じ装置を用いて、合成例1で得た複合体の溶液および光ドーピング材料Bの蛍光強度スペクトルを測定した(励起波長520nm)。結果を図4および図5に示す。いずれのスペクトルでも同様の蛍光スペクトルが得られていることから、カルボン酸化合物の添加によって、複合体の中心希土類金属の状態に大きな差異が生じていないことが確認できた。また、図6、図7には、上記図3および図4で得られた蛍光強度スペクトルのピーク値(1550nm)における、蛍光励起スペクトルを示した。いずれのスペクトルでも同様の蛍光励起スペクトルが得られていることから、カルボン酸化合物の添加によって、複合体の中心希土類金属の状態に大きな差異が生じていないことが確認できた。   Further, using the same apparatus, the fluorescence intensity spectra of the composite solution obtained in Synthesis Example 1 and the light doping material B were measured (excitation wavelength: 520 nm). The results are shown in FIG. 4 and FIG. Since the same fluorescence spectrum was obtained in any spectrum, it was confirmed that there was no significant difference in the state of the central rare earth metal of the composite due to the addition of the carboxylic acid compound. 6 and 7 show the fluorescence excitation spectrum at the peak value (1550 nm) of the fluorescence intensity spectrum obtained in FIGS. Since the same fluorescence excitation spectrum was obtained in any spectrum, it was confirmed that there was no significant difference in the state of the central rare earth metal of the composite due to the addition of the carboxylic acid compound.

また、同じ装置を用いて、実施例10〜16の各ワニスについて、励起波長490,525,650,980nmのそれぞれにおける蛍光強度スペクトルを測定し、各励起波長における1550nmの蛍光ピークの発光強度を、各ワニスの複合体酸化物換算濃度に対してプロットした。結果を図14に示す。この結果から、Erが高濃度に分散された状態であっても濃度消光が生じないことが確認された。   Further, using the same apparatus, the fluorescence intensity spectrum at each of the excitation wavelengths 490, 525, 650, and 980 nm was measured for each of the varnishes of Examples 10 to 16, and the emission intensity of the fluorescence peak at 1550 nm at each excitation wavelength was determined. Plotted against the complex oxide equivalent concentration of each varnish. The results are shown in FIG. From this result, it was confirmed that concentration quenching did not occur even when Er was dispersed at a high concentration.

以上より、複合体溶液、光ドーピング材料、光ドーピング材料とフッ素化ポリイミド前駆体ワニスとを混合したワニス(本発明のワニス)、その成膜サンプルのいずれにおいても、光導波路アンプとして用いる場合の信号光波長となる1550nm付近に蛍光ピークが観測されたことが分かる。つまり、本発明の光ドーピング材料、本発明のワニス、本発明の複合体含有フッ素化ポリイミド光導波路は、光導波路アンプとして良好にかつ高性能に機能することが確認できた。   From the above, signals for use as an optical waveguide amplifier in any of the composite solution, the optical doping material, the varnish obtained by mixing the optical doping material and the fluorinated polyimide precursor varnish (varnish of the present invention), and the film formation sample thereof It can be seen that a fluorescence peak was observed in the vicinity of 1550 nm, which is the light wavelength. That is, it was confirmed that the light doping material of the present invention, the varnish of the present invention, and the composite-containing fluorinated polyimide optical waveguide of the present invention function well and with high performance as an optical waveguide amplifier.

また、図12、図13には、中心希土類金属をプラセオジムとしたワニスI(実施例9)の、励起波長450nmおよび590nmにおける蛍光強度スペクトル測定結果を示す。この場合においても蛍光の発光が観測されていることから、中心希土類金属をEr以外のランタニド系列金属に置換した場合にも、本発明の光ドーピング材料、本発明のワニス、本発明の複合体含有フッ素化ポリイミド光導波路は、光導波路アンプとして良好にかつ高性能に機能することが確認できた。   12 and 13 show the fluorescence intensity spectrum measurement results of varnish I (Example 9) having praseodymium as the central rare earth metal at excitation wavelengths of 450 nm and 590 nm. In this case, since fluorescence emission is observed, even when the central rare earth metal is replaced with a lanthanide series metal other than Er, the light doping material of the present invention, the varnish of the present invention, and the composite of the present invention are contained. It was confirmed that the fluorinated polyimide optical waveguide functions satisfactorily and with high performance as an optical waveguide amplifier.

<吸収スペクトル測定>
上記で作製した光ドーピング用材料A〜Iについて、島津製作所製UV−3600を用いて、400nmから2000nmの波長における吸収スペクトルを測定した結果、いずれの場合にも同様のスペクトルが得られた。図10には、光ドーピング用材料Bの測定結果を透過率表示で示した。図11には、近赤外領域における光ドーピング用材料Bの測定結果を吸光度表示で示した。いずれの図においてもエルビウムイオンに特徴的な吸収スペクトルが得られていることが分かる。
<Absorption spectrum measurement>
About the light doping materials A to I produced above, as a result of measuring absorption spectra at wavelengths of 400 nm to 2000 nm using UV-3600 manufactured by Shimadzu Corporation, similar spectra were obtained in any case. In FIG. 10, the measurement result of the material B for light doping was shown by the transmittance | permeability display. In FIG. 11, the measurement result of the light doping material B in the near infrared region is shown in absorbance display. In any of the figures, it can be seen that an absorption spectrum characteristic of erbium ions is obtained.

<小角X線散乱測定>
上記で作製した膜B、D、Eについて、株式会社リガク製の薄膜構造評価用X線回折装置(ATX−G)を用い、50kV、300mAのCuKα線を線源として、反射測定を行い、小角X線散乱測定を行った。0°≦2θ/ω≦10°の測定範囲に対して、1°/min(サンプリングステップ:0.02°)で走査した。アッテネータをオープンとし、オフセットを0.1°とした。また、スリット条件は、S1:10mm×0.2mm、S2:10mm×0.1mm、RS:10mm×0.2mm、GS:10mm×0.2mmとした。また、解析には、株式会社リガク製の粒径・空孔径解析ソフトウェア「NANO−Solver(Ver.3.1)」を用いて、形状因子として球形モデルを採用し、構造因子は1としてフィッティング解析を行った。
<Small angle X-ray scattering measurement>
Using the X-ray diffractometer for evaluation of thin film structure (ATX-G) manufactured by Rigaku Corporation, the films B, D, and E produced above were subjected to reflection measurement using a 50 kV, 300 mA CuKα ray as a radiation source. X-ray scattering measurement was performed. The measurement range of 0 ° ≦ 2θ / ω ≦ 10 ° was scanned at 1 ° / min (sampling step: 0.02 °). The attenuator was open and the offset was 0.1 °. The slit conditions were S1: 10 mm × 0.2 mm, S2: 10 mm × 0.1 mm, RS: 10 mm × 0.2 mm, and GS: 10 mm × 0.2 mm. In addition, for the analysis, a spherical model is adopted as a shape factor using a particle size / hole size analysis software “NANO-Solver (Ver. 3.1)” manufactured by Rigaku Corporation. Went.

図8には、膜Bの測定データと計算データ(フィッティング解析結果)をあわせて示す。また、この計算データから得られた粒径分布を図9に示す。良好なフィッティングが得られたこと、粒径分布の幅が狭いことから、合成例1で作製した複合体は、膜Bにおいてフッ素化ポリイミドをマトリックスとして均一に分散されていることが確認できた。同様にして得られた膜B、D、Eの平均粒子径と規格化分散を表3にまとめて示した。

Figure 0005034638
In FIG. 8, the measurement data and calculation data (fitting analysis result) of the film B are shown together. Moreover, the particle size distribution obtained from this calculation data is shown in FIG. Since a good fitting was obtained and the width of the particle size distribution was narrow, it was confirmed that the composite produced in Synthesis Example 1 was uniformly dispersed in the film B using fluorinated polyimide as a matrix. Table 3 summarizes the average particle diameters and normalized dispersions of membranes B, D, and E obtained in the same manner.
Figure 0005034638

本発明の光導波路アンプの一構造形態を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing one structural form of an optical waveguide amplifier of the present invention. 実施例で作製した膜Bの蛍光強度スペクトル(励起波長400nm)Fluorescence intensity spectrum of film B produced in the example (excitation wavelength: 400 nm) 実施例で作製した膜Bの蛍光強度スペクトル(励起波長520nm)Fluorescence intensity spectrum of film B produced in the example (excitation wavelength: 520 nm) 合成例1で得た複合体溶液の蛍光強度スペクトル(励起波長520nm)Fluorescence intensity spectrum of the complex solution obtained in Synthesis Example 1 (excitation wavelength: 520 nm) 光ドーピング用材料Bの蛍光強度スペクトル(励起波長520nm)Fluorescence intensity spectrum of light doping material B (excitation wavelength: 520 nm) 合成例1で得た複合体溶液の蛍光励起スペクトル(蛍光波長1550nm)Fluorescence excitation spectrum (fluorescence wavelength 1550 nm) of the complex solution obtained in Synthesis Example 1 光ドーピング用材料Bの蛍光励起スペクトル(蛍光波長1550nm)Fluorescence excitation spectrum of light doping material B (fluorescence wavelength 1550 nm) 実施例で作製した膜Bの小角X線散乱強度Small-angle X-ray scattering intensity of film B produced in the examples 実施例で作製した膜Bの粒径分布解析結果Results of particle size distribution analysis of membrane B produced in Example 光ドーピング用材料Bの吸収スペクトル(透過率表示)Absorption spectrum of light doping material B (transmissivity display) 光ドーピング用材料Bの吸収スペクトル(吸光度表示)Absorption spectrum of light doping material B (absorbance display) ワニスIの蛍光強度スペクトル(励起波長450nm)Fluorescence intensity spectrum of varnish I (excitation wavelength: 450 nm) ワニスIの蛍光強度スペクトル(励起波長590nm)Fluorescence intensity spectrum of varnish I (excitation wavelength 590 nm) 実施例10〜16の各ワニスの蛍光強度のEr濃度依存性を示すグラフ(励起波長490,525,650,980nm)The graph which shows the Er density | concentration dependence of the fluorescence intensity of each varnish of Examples 10-16 (excitation wavelength 490,525,650,980nm) 本発明の光導波路アンプの一構造形態を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing one structural form of an optical waveguide amplifier of the present invention. 本発明の光導波路アンプの一構造形態を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing one structural form of an optical waveguide amplifier of the present invention. 本発明の光導波路アンプの一構造形態を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing one structural form of an optical waveguide amplifier of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 下部クラッド層
3 コア層
4 上部クラッド層
5 光導波路
6 光入射用プリズム
7 光出射用プリズム
10 光導波路アンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Lower clad layer 3 Core layer 4 Upper clad layer 5 Optical waveguide 6 Light incident prism 7 Light emitting prism 10 Optical waveguide amplifier

Claims (13)

希土類金属の塩と金属アルコキシドを反応させて得られる複合体と、カルボン酸化合物と、を有機溶媒中にて混合してなる光ドーピング用材料、および
フッ素化ポリイミド前駆体、
を含み、
前記カルボン酸化合物は、pKa値が4以下であり、
前記カルボン酸化合物のpKa値が2未満であるとき、カルボン酸化合物の配合量は前記希土類金属1モルに対して50〜100モルであり、
前記カルボン酸化合物のpKa値が2〜4であるとき、カルボン酸化合物の配合量は前記希土類金属1モルに対して300〜400モルであることを特徴とするワニス。
A light doping material obtained by mixing a complex obtained by reacting a rare earth metal salt and a metal alkoxide, and a carboxylic acid compound in an organic solvent, and a fluorinated polyimide precursor,
Only including,
The carboxylic acid compound has a pKa value of 4 or less,
When the pKa value of the carboxylic acid compound is less than 2, the compounding amount of the carboxylic acid compound is 50 to 100 mol with respect to 1 mol of the rare earth metal,
When the pKa value of the carboxylic acid compound is 2 to 4, the amount of the carboxylic acid compound is 300 to 400 mol with respect to 1 mol of the rare earth metal .
前記希土類金属が、ランタニド類である請求項1に記載のワニス。   The varnish according to claim 1, wherein the rare earth metal is a lanthanide. 前記希土類金属が、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)からなる群から選択される1種以上である請求項1に記載のワニス。   The varnish according to claim 1, wherein the rare earth metal is at least one selected from the group consisting of praseodymium (Pr), neodymium (Nd), erbium (Er), and thulium (Tm). 前記カルボン酸化合物のpKa値(水中、25℃)が1.5以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載のワニス。   The varnish according to any one of claims 1 to 3, wherein the carboxylic acid compound has a pKa value (in water, 25 ° C) of 1.5 or less. 前記カルボン酸化合物の沸点が300℃未満である請求項1〜4のいずれか1項に記載のワニス。   The varnish according to any one of claims 1 to 4, wherein the carboxylic acid compound has a boiling point of less than 300 ° C. 前記カルボン酸化合物の沸点が前記有機溶媒の沸点以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載のワニス。   The varnish according to any one of claims 1 to 5, wherein a boiling point of the carboxylic acid compound is not more than a boiling point of the organic solvent. 前記カルボン酸化合物が構造中に脂肪族C−H結合を含まないものである請求項1〜6のいずれか1項に記載のワニス。   The varnish according to any one of claims 1 to 6, wherein the carboxylic acid compound does not contain an aliphatic CH bond in the structure. 前記カルボン酸化合物がハロゲン化物である請求項1〜7のいずれか1項に記載のワニス。   The varnish according to any one of claims 1 to 7, wherein the carboxylic acid compound is a halide. 前記カルボン酸化合物が、下記一般式(I)
Figure 0005034638

(式中、Xは0〜5の整数)
で表されるカルボン酸化合物である請求項1〜8のいずれか1項に記載のワニス。
The carboxylic acid compound is represented by the following general formula (I)
Figure 0005034638

(Where X is an integer from 0 to 5)
The varnish according to any one of claims 1 to 8, which is a carboxylic acid compound represented by the formula:
前記光ドーピング用材料は、前記カルボン酸化合物を前記希土類金属1モルに対して50〜400モル配合してなる請求項1〜9のいずれか1項に記載のワニス。   The varnish according to any one of claims 1 to 9, wherein the light doping material is formed by blending 50 to 400 moles of the carboxylic acid compound with respect to 1 mole of the rare earth metal. 請求項1〜10のいずれか1項に記載のワニスを用いて形成された光導波路を少なくとも備える、光導波路アンプ。   An optical waveguide amplifier comprising at least an optical waveguide formed using the varnish according to claim 1. 前記光導波路のコア部における希土類金属の濃度が0.01重量%から20重量%である請求項11に記載の光導波路アンプ。   The optical waveguide amplifier according to claim 11, wherein the concentration of the rare earth metal in the core portion of the optical waveguide is 0.01 wt% to 20 wt%. 希土類金属の塩と金属アルコキシドを反応させて得られる複合体と、カルボン酸化合物と、を有機溶媒中にて混合してなり、
前記カルボン酸化合物は、pKa値が4以下であり、
前記カルボン酸化合物のpKa値が2未満であるとき、カルボン酸化合物の配合量は前記希土類金属1モルに対して50〜100モルであり、
前記カルボン酸化合物のpKa値が2〜4であるとき、カルボン酸化合物の配合量は前記希土類金属1モルに対して300〜400モルであることを特徴とする光導波路アンプ用光ドーピング用材料。
And complexes obtained by reacting a rare earth metal salt and a metal alkoxide, Ri Na were mixed in a carboxylic acid compound and an organic solvent,
The carboxylic acid compound has a pKa value of 4 or less,
When the pKa value of the carboxylic acid compound is less than 2, the compounding amount of the carboxylic acid compound is 50 to 100 mol with respect to 1 mol of the rare earth metal,
Wherein when the pKa value of carboxylic acid compound is 2-4, the amount of the carboxylic acid compound, wherein the to Ruhikarishirube waveguide amplifier optical doping material that is 300 to 400 mol with respect to the rare earth metal 1 mole .
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