JP5040690B2

JP5040690B2 - Reflective screen and manufacturing method thereof

Info

Publication number: JP5040690B2
Application number: JP2008022443A
Authority: JP
Inventors: 信雄清水
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2008-02-01
Filing date: 2008-02-01
Publication date: 2012-10-03
Anticipated expiration: 2028-02-01
Also published as: JP2009181096A

Description

本発明は、反射スクリーンとその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a reflective screen and a method for manufacturing the same.

従来から、投影画像を反射させて観察可能にする反射スクリーンが知られている。このような反射スクリーンとして、スクリーン基板の前面側に同一形状の多数の凸状の単位形状部が２次元的に規則的に配置され、凸状の単位形状部の投影光入射方向に向かう一部の表面部分にのみに反射面が形成されている反射スクリーンが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００６−２１５１６２号公報 2. Description of the Related Art Conventionally, a reflection screen that makes it possible to observe a projection image by reflecting the image is known. As such a reflective screen, a plurality of convex unit shape portions having the same shape are regularly arranged two-dimensionally on the front side of the screen substrate, and a part of the convex unit shape portions toward the projection light incident direction. A reflective screen is disclosed in which a reflective surface is formed only on the surface portion (see, for example, Patent Document 1).
JP 2006-215162 A

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
例えばプロジェクタをスクリーン前方の下方側に配置し、プロジェクタからスクリーンに向けて斜め上方に投影画像を照射した場合、スクリーンの表面が凸形状の球状面に形成されていることから、スクリーンの下側は上側と比較して入射角が小さくなる。その結果、球状面で反射した投影光は、スクリーン上側と比較すると、スクリーン下側の方が上側に抜ける割合が多くなるため、反射スクリーン前方の観察者側に十分に反射されず、投影画像のコントラストが低下するという問題がある。 However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
For example, when the projector is placed on the lower side in front of the screen and the projected image is irradiated obliquely upward from the projector toward the screen, the screen surface is formed in a convex spherical surface. The incident angle is smaller than the upper side. As a result, the projected light reflected by the spherical surface is more likely to pass upward on the lower side of the screen than on the upper side of the screen. There is a problem that the contrast is lowered.

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、斜め方向からの光を反射スクリーンの前方の観察側に均一に反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる反射スクリーンとその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above points, and a reflection screen that can uniformly reflect light from an oblique direction to the observation side in front of the reflection screen and improve the contrast of the projected image. It aims at providing the manufacturing method.

上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記反射部は、略同一径の凹または凸の球状面を有し、前記投影部からの距離に応じて疎となる分布で配置されることを特徴とするものである。
従って、本発明の反射スクリーンでは、投影部からの距離が大きい位置における反射部の数が減るため、投影光を観察側に反射する箇所も減ることになる。そのため、本発明では、投影部からの距離が大きい位置の反射部からの観察側への反射光が減り、投影部からの距離が小さい位置の反射部からの反射光と同等とすることができ、投影光を反射スクリーンの前方の観察側に均一に反射させることが可能になる。 In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
The reflective screen of the present invention has a plurality of reflective portions on the observation surface of the screen substrate, and is directed from the projection portion arranged at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface toward the observation surface. A reflection screen that reflects obliquely emitted projection light to an observation side, wherein the reflection part has a concave or convex spherical surface having substantially the same diameter, and is sparse according to the distance from the projection part. It is arranged by distribution which becomes.
Therefore, in the reflection screen of the present invention, the number of reflection parts at a position where the distance from the projection part is large is reduced, so that the number of places where the projection light is reflected to the observation side is also reduced. For this reason, in the present invention, the reflected light from the reflecting unit at a position where the distance from the projection unit is large to the observation side is reduced, and the reflected light from the reflecting unit at a position where the distance from the projection unit is small can be made equivalent. The projection light can be uniformly reflected to the observation side in front of the reflection screen.

前記反射部としては、前記投影部からの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなる構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部からの距離が大きい位置ほど反射部の配置密度が小さくなり、投影光を観察側に反射する箇所を減らすことが可能になる。 As the reflection part, a configuration in which the arrangement pitch increases as the distance from the projection part increases can be suitably employed.
Thereby, in this invention, the location density of a reflection part becomes so small that the distance from a projection part is large, and it becomes possible to reduce the location which reflects projection light to an observation side.

前記反射部の配置分布としては、前記観察面からの前記投影光の反射分布に応じて調整される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、例えば反射スクリーンの端縁部等、投影光の反射が少ない箇所には反射部の配置分布を密にして反射部の数を増やし、反射量を大きくするように調整することができる。 As the arrangement distribution of the reflection portions, a configuration adjusted according to the reflection distribution of the projection light from the observation surface can be suitably employed.
As a result, in the present invention, for example, at the edge of the reflection screen, where the reflection of the projection light is small, the distribution of the reflection portions is made dense so that the number of reflection portions is increased and the reflection amount is adjusted to be large. be able to.

前記反射部としては、前記投影部を臨む面に反射膜を有するとともに、前記反射膜の非形成領域に光吸収面を有する構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部から投影された投影光を反射膜によってスクリーン基板の観察側に反射させると共に、反射膜の非形成領域で外光を吸収し、投影画像のコントラストを向上させることができる。また、反射部が凹の球状面を有する場合には、反射膜が凹状に形成されているので、反射スクリーンの外縁部に照射された投影光を反射スクリーンの法線方向により近い方向に反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる。 As the reflection part, a structure having a reflection film on a surface facing the projection part and a light absorption surface in a non-formation region of the reflection film can be suitably employed.
Accordingly, in the present invention, the projection light projected from the projection unit is reflected by the reflection film to the observation side of the screen substrate, and outside light is absorbed by the non-formation area of the reflection film, thereby improving the contrast of the projection image. Can do. In addition, when the reflecting portion has a concave spherical surface, the reflecting film is formed in a concave shape, so that the projection light irradiated on the outer edge of the reflecting screen is reflected in a direction closer to the normal direction of the reflecting screen. The contrast of the projected image can be improved.

また、本発明の反射スクリーンは、前記スクリーン基板の前記観察面側に保護層が設けられていることを特徴とする。
このように構成することで、反射膜の損傷や劣化を防止することができる。 The reflective screen of the present invention is characterized in that a protective layer is provided on the observation surface side of the screen substrate.
By comprising in this way, damage and deterioration of a reflecting film can be prevented.

また、本発明では、前記スクリーン基板は光透過性を有する材料によって形成され、前記凹の球状面が、前記スクリーン基板の前記観察面と反対側の面に設けられた凹部に形成される構成も好適に採用できる。
このように構成することで、観察側から見て反射膜は凸状に形成される。投影光は、スクリーン基板を透過し、凸状の反射膜で反射して観察側に反射される。また、スクリーン基板自体を反射スクリーンの観察面側に対して反射膜の保護層として機能させることができる。 In the present invention, the screen substrate may be formed of a light-transmitting material, and the concave spherical surface may be formed in a recess provided on a surface opposite to the observation surface of the screen substrate. It can be suitably employed.
With this configuration, the reflective film is formed in a convex shape when viewed from the observation side. The projection light is transmitted through the screen substrate, reflected by the convex reflection film, and reflected to the observation side. Further, the screen substrate itself can function as a protective layer for the reflective film with respect to the viewing surface side of the reflective screen.

また、本発明では、前記スクリーン基板は光透過性を有する材料によって形成され、前記凸の球状面は、前記スクリーン基板の前記観察面と反対側の面に設けられた凸部に形成される構成も好適に採用できる。
このように構成することで、観察側から見て反射膜は凹状に形成される。投影光は、スクリーン基板を透過し、凹状の反射膜で反射して観察側に反射される。これにより、反射スクリーン外縁部に照射された投影光をより法線方向に近い方向に反射させ、反射スクリーンの投影画像のコントラストを向上させることができる。
また、光透過性を有するスクリーン基板を反射膜の保護層として機能させることができる。 In the present invention, the screen substrate is formed of a light-transmitting material, and the convex spherical surface is formed on a convex portion provided on a surface opposite to the observation surface of the screen substrate. Can also be suitably employed.
With this configuration, the reflective film is formed in a concave shape when viewed from the observation side. The projection light is transmitted through the screen substrate, reflected by the concave reflective film, and reflected to the observation side. Thereby, the projection light applied to the outer edge of the reflection screen can be reflected in a direction closer to the normal direction, and the contrast of the projection image on the reflection screen can be improved.
In addition, a light-transmissive screen substrate can function as a protective layer for the reflective film.

また、本発明の反射スクリーンは、前記スクリーン基板の前記観察面側に反射防止層が設けられていることを特徴とする。
このように構成することで、投影光および外光が反射膜以外で反射することを防止して、投影画像のコントラストを向上させることができる。 Moreover, the reflection screen of the present invention is characterized in that an antireflection layer is provided on the observation surface side of the screen substrate.
With such a configuration, it is possible to prevent the projection light and the external light from being reflected by other than the reflection film, and to improve the contrast of the projection image.

また、本発明の反射スクリーンは、前記スクリーン基板が、可撓性を有する材料によって形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、可撓性を有する反射スクリーンを形成することができ、反射スクリーンの巻き取り収納が可能となる。 Moreover, the reflective screen of the present invention is characterized in that the screen substrate is formed of a flexible material.
By comprising in this way, the reflective screen which has flexibility can be formed, and winding up accommodation of a reflective screen is attained.

一方、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、略同一径の凹または凸の球状面を有する前記反射部を、前記投影部からの距離に応じて疎となる分布で形成する工程を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の反射スクリーンの製造方法では、投影部からの距離が大きい位置における反射部の数が減るため、投影光を観察側に反射する箇所も減ることになる。そのため、本発明では、投影部からの距離が大きい位置の反射部からの観察側への反射光が減り、投影部からの距離が小さい位置の反射部からの反射光と同等とすることができ、投影光を反射スクリーンの前方の観察側に均一に反射させることが可能になる。 On the other hand, the manufacturing method of the reflection screen of the present invention includes a plurality of reflection portions on the observation surface of the screen substrate, and the projection portion arranged at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface, A method of manufacturing a reflective screen for reflecting projection light emitted obliquely toward an observation surface to an observation side, wherein the reflection unit having a concave or convex spherical surface with substantially the same diameter is provided from the projection unit. It has the process of forming with the distribution which becomes sparse according to distance.
Therefore, in the manufacturing method of the reflective screen of the present invention, the number of reflection parts at a position where the distance from the projection part is large is reduced, so that the number of places where the projection light is reflected to the observation side is also reduced. For this reason, in the present invention, the reflected light from the reflecting unit at a position where the distance from the projection unit is large to the observation side is reduced, and the reflected light from the reflecting unit at a position where the distance from the projection unit is small can be made equivalent. The projection light can be uniformly reflected to the observation side in front of the reflection screen.

前記反射スクリーンの製造方法における前記反射部としては、前記投影部からの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなる構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部からの距離が大きい位置ほど反射部の配置密度が小さくなり、投影光を観察側に反射する箇所を減らすことが可能になる。 As the reflection part in the manufacturing method of the reflection screen, a configuration in which the arrangement pitch increases as the distance from the projection part increases can be suitably employed.
Thereby, in this invention, the location density of a reflection part becomes so small that the distance from a projection part is large, and it becomes possible to reduce the location which reflects projection light to an observation side.

また、前記反射スクリーンの製造方法における前記反射部の配置分布としては、前記観察面からの前記投影光の反射分布に応じて調整される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、例えば反射スクリーンの端縁部等、投影光の反射が少ない箇所には反射部の配置分布を密にして反射部の数を増やし、反射量を大きくするように調整することができる。 In addition, as the arrangement distribution of the reflection portions in the method for manufacturing the reflection screen, a configuration that is adjusted according to the reflection distribution of the projection light from the observation surface can be suitably employed.
As a result, in the present invention, for example, at the edge of the reflection screen, where the reflection of the projection light is small, the distribution of the reflection portions is made dense so that the number of reflection portions is increased and the reflection amount is adjusted to be large. be able to.

また、本発明では、少なくとも前記スクリーン基板の前記観察面側に光吸収面を形成する工程と、前記反射部の前記投影部を臨む面に反射膜を形成する工程とを有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部から投影された投影光を反射膜によってスクリーン基板の観察側に反射させると共に、反射膜の非形成領域で外光を吸収し、投影画像のコントラストを向上させることができる。また、反射部が凹の球状面を有する場合には、反射膜が凹状に形成されているので、反射スクリーンの外縁部に照射された投影光を反射スクリーンの法線方向により近い方向に反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる。 Further, in the present invention, a procedure including a step of forming a light absorption surface on at least the observation surface side of the screen substrate and a step of forming a reflection film on the surface of the reflection portion facing the projection portion is preferably employed. it can.
Accordingly, in the present invention, the projection light projected from the projection unit is reflected by the reflection film to the observation side of the screen substrate, and outside light is absorbed by the non-formation area of the reflection film, thereby improving the contrast of the projection image. Can do. In addition, when the reflecting portion has a concave spherical surface, the reflecting film is formed in a concave shape, so that the projection light irradiated on the outer edge of the reflecting screen is reflected in a direction closer to the normal direction of the reflecting screen. The contrast of the projected image can be improved.

上記手順においては、ターゲットを有する蒸着源を前記投影部に配置し、前記ターゲットを前記反射部の前記投影部を臨む面に蒸着することが好ましい。
これにより、本発明では、反射部において投影光が投影される箇所にターゲットを蒸着して容易に反射面を形成することができる。 In the said procedure, it is preferable to arrange | position the vapor deposition source which has a target in the said projection part, and to vapor-deposit the said target on the surface which faces the said projection part of the said reflection part.
Thereby, in this invention, a reflective surface can be easily formed by vapor-depositing a target in the location where projection light is projected in a reflection part.

また、本発明では、前記スクリーン基板の前記観察面側に保護層を設ける工程を有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、反射膜の損傷や劣化を防止することができる。 Moreover, in this invention, the procedure which has the process of providing a protective layer in the said observation surface side of the said screen board | substrate can also be employ | adopted suitably.
Thereby, in this invention, damage and deterioration of a reflecting film can be prevented.

以下、本発明の反射スクリーンとその製造方法の実施の形態を、図１ないし図８を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。 Hereinafter, embodiments of a reflective screen and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the following drawings, the scale is appropriately changed for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. A predetermined direction in the vertical plane is defined as an X-axis direction, a direction orthogonal to the X-axis direction in the vertical plane is defined as a Y-axis direction, and a direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction is defined as a Z-axis direction.

（第１実施形態）
図１に示すように、反射スクリーン１００は、反射スクリーン１００の観察面１００ａの中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクタＰから、観察面１００ａに向けて斜めに射出された投影光Ｌｐを、反射スクリーン１００の観察側（Ｚ軸正方向側）に反射するものである。反射スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。 (First embodiment)
As shown in FIG. 1, the reflective screen 100 is from a projector P arranged at a position shifted in the vertical direction (Y-axis direction) with respect to the normal NL passing through the center point C of the observation surface 100 a of the reflective screen 100. The projection light Lp emitted obliquely toward the observation surface 100a is reflected to the observation side (Z-axis positive direction side) of the reflection screen 100. The reflective screen 100 is arranged so that the normal line NL is parallel to the Z axis.

プロジェクタＰは投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の観察面１００ａに向けて反射するミラーＭを備えている。ここで、投影光ＬｐがミラーＭを備えていないプロジェクタＰから射出されたと仮定した場合のプロジェクタＰの位置を仮想光源位置（投影部）ＰＶとする。仮想光源位置ＰＶもプロジェクタＰと同様に、反射スクリーン１００の観察面１００ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置となる。 The projector P includes a mirror M that reflects the projection light Lp toward the observation surface 100 a of the reflection screen 100. Here, the position of the projector P when it is assumed that the projection light Lp is emitted from the projector P that does not include the mirror M is defined as a virtual light source position (projection unit) PV. Similarly to the projector P, the virtual light source position PV is also shifted in a direction perpendicular to the normal line NL of the observation surface 100a of the reflection screen 100.

プロジェクタＰは、仮想光源位置ＰＶと観察面１００ａとの距離Ｄを約９００ｍｍとし、仮想光源位置ＰＶから反射スクリーン１００の中心点Ｃに向かう投影光Ｌｐと法線ＮＬのなす角度θを約３６°としたときに、反射スクリーン１００に垂直方向の寸法Ｈが約９９６ｍｍ、水平方向（図のＸ軸方向）の寸法Ｗが１７７１ｍｍの画像を投影可能に構成されている。すなわち、反射スクリーン１００は８０インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。 The projector P sets the distance D between the virtual light source position PV and the observation surface 100a to about 900 mm, and the angle θ formed between the projection light Lp and the normal NL from the virtual light source position PV toward the center point C of the reflective screen 100 is about 36 °. , An image having a vertical dimension H of about 996 mm and a horizontal dimension (X-axis direction in the figure) of W is 1771 mm can be projected onto the reflective screen 100. That is, the reflective screen 100 has a size capable of displaying an 80-inch projection image.

図２および図３に示すように、スクリーン基板１の観察面１ａには、略同一径の半球状に形成された凹の球状面６を有する凹部（反射部）２が複数配列されている。凹部２の直径としては、例えば約２００μｍ以下かつ２０μｍ以上に形成されている。スクリーン基板１は、例えば、樹脂等の可撓性を有する材料によって形成されている。また、スクリーン基板１は、例えば、染色等によって全体が黒色の光吸収材によって着色され、可視光を吸収可能に形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the observation surface 1 a of the screen substrate 1 has a plurality of concave portions (reflecting portions) 2 each having a concave spherical surface 6 formed in a semispherical shape having substantially the same diameter. The diameter of the recess 2 is, for example, about 200 μm or less and 20 μm or more. The screen substrate 1 is made of, for example, a flexible material such as resin. Further, the screen substrate 1 is formed so as to be able to absorb visible light, for example, by being colored with a black light absorbing material by staining or the like.

また、凹部２は、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。より詳細には、凹部２は、矩形のスクリーン基板１の長辺（Ｘ方向に延びる辺）に沿う方向、及び短辺（Ｙ方向に延びる方向）に沿う方向に複数配列されており、Ｘ方向のピッチＰＸ及びＹ方向のピッチＰＹが仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、順次大きくなるように形成されている。 In addition, the concave portions 2 are arranged so that the arrangement pitch increases as the distance from the virtual light source position PV increases so that the concave portions 2 are arranged in a sparse distribution according to the distance from the virtual light source position PV. More specifically, a plurality of the recesses 2 are arranged in a direction along the long side (side extending in the X direction) of the rectangular screen substrate 1 and in a direction along the short side (direction extending in the Y direction). The pitch PX and the pitch PY in the Y direction are formed so as to increase sequentially as the distance from the virtual light source position PV increases.

図３に示すように、凹部２の内壁面２ａ（球状面６）の、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、投影光Ｌｐを反射する反射膜３が形成されている。すなわち、凹部２の内壁面２ａの仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐが照射される部分にのみ、反射膜３が形成され、凹部２の内壁面２ａのその他の部分には反射膜３が形成されず、スクリーン基板１の光吸収材によって形成された光吸収面７が露出した状態となっている。 As shown in FIG. 3, a reflection film 3 that reflects the projection light Lp is formed along the portion of the inner wall surface 2 a (spherical surface 6) of the recess 2 that is irradiated with the projection light Lp from the projector P. . That is, the reflective film 3 is formed only on the portion of the inner wall surface 2a of the concave portion 2 that is irradiated with the projection light Lp from the virtual light source position PV, and the reflective film 3 is formed on the other portion of the inner wall surface 2a of the concave portion 2. Instead, the light absorbing surface 7 formed by the light absorbing material of the screen substrate 1 is exposed.

凹部２の内壁面２ａに形成された反射膜３は、観察側から見て凹状に形成されている。
反射膜３の面積は、スクリーン基板１の観察面１ａの垂直方向上方（Ｙ軸正方向）側に近づくにつれて徐々に小さくなるように形成されている。反射膜３は、例えば、アルミニウム等の反射性を有する材料によって、後述する蒸着により膜厚が１０ｎｍ以上かつ５μｍ以下となるように形成されている。 The reflective film 3 formed on the inner wall surface 2a of the recess 2 is formed in a concave shape when viewed from the observation side.
The area of the reflective film 3 is formed so as to gradually decrease as it approaches the upper side in the vertical direction (Y-axis positive direction) of the observation surface 1 a of the screen substrate 1. The reflective film 3 is formed of a reflective material such as aluminum so that the film thickness is 10 nm or more and 5 μm or less by vapor deposition described later.

スクリーン基板１の観察面１ａ上には、反射膜３およびスクリーン基板１の観察面１ａを覆う保護層４が形成されている。保護層４は、例えば樹脂等の、可撓性を有する透明な材料によって形成されている。保護層４の上層側でスクリーン基板１の観察面１ａ側の最表面には、反射防止層５が形成されている。反射防止層５は、保護層４と同様の材料によって形成され、保護層４の表面４ａでの投影光Ｌｐや外光等の反射を防止するように、保護層４との間で屈折率が調整されている。この反射防止層５の表面が反射スクリーン１００の観察面１００ａとなっている。 On the observation surface 1 a of the screen substrate 1, a protective layer 4 that covers the reflection film 3 and the observation surface 1 a of the screen substrate 1 is formed. The protective layer 4 is made of a transparent material having flexibility, such as a resin. An antireflection layer 5 is formed on the outermost surface of the screen substrate 1 on the observation surface 1a side above the protective layer 4. The antireflection layer 5 is formed of the same material as that of the protective layer 4, and has a refractive index between the protective layer 4 and the protective layer 4 so as to prevent reflection of projection light Lp, external light, and the like on the surface 4 a of the protective layer 4. It has been adjusted. The surface of the antireflection layer 5 is an observation surface 100 a of the reflection screen 100.

次に、上記構成のスクリーン基板１を製造する方法について、図４を参照して説明する。
まず、図４（ａ）に示すように、平板状のスクリーン基板１上にマスクＭを形成する。このマスクＭとしては、例えばクロム（Ｃｒ）を、スパッタ等により成膜して形成されたものである。
続いて、このようにスクリーン基板１上に形成されたマスクＭに対して、図４（ｂ）に示すように、凹部２を形成する位置に開口部Ｋを形成する。開口部Ｋは、フォトエッチングやレーザ加工等により形成することができる。 Next, a method for manufacturing the screen substrate 1 having the above configuration will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 4A, a mask M is formed on a flat screen substrate 1. As this mask M, for example, chromium (Cr) is formed by sputtering or the like.
Subsequently, with respect to the mask M formed on the screen substrate 1 as described above, an opening K is formed at a position where the concave portion 2 is formed as shown in FIG. The opening K can be formed by photoetching, laser processing, or the like.

次に、図４（ｃ）に示すように、開口部Ｋを有するマスクＭが形成されたスクリーン基板１に対して、所定時間エッチング処理を施すことにより、スクリーン基板１の表面に凹部２を形成する。エッチング処理としてはドライエッチング、ウェットエッチングのいずれの方法を採ってもよく、ウェットエッチング処理を行う場合には、例えば一水素二フッ化アンモニウム系のものを用いることができる。
この後、スクリーン基板１からマスクＭを除去することにより、図４（ｄ）に示すように、凹部２を有するスクリーン基板１を得ることができる。 Next, as shown in FIG. 4C, a recess 2 is formed on the surface of the screen substrate 1 by performing an etching process for a predetermined time on the screen substrate 1 on which the mask M having the opening K is formed. To do. As the etching process, either dry etching or wet etching may be employed. When wet etching is performed, for example, an ammonium monohydrogen difluoride-based one can be used.
Thereafter, by removing the mask M from the screen substrate 1, the screen substrate 1 having the recesses 2 can be obtained as shown in FIG.

次に、凹部２を形成したスクリーン基板１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。
続いて、凹部２に反射膜３を形成する。
図３に示すように、スクリーン基板１の観察側（Ｚ軸正方向側）で、スクリーン基板１の観察面１ａの法線ＮＬに対して垂直方向下方側（Ｙ軸負方向側）にずれた位置の仮想光源位置ＰＶに蒸着源Ｓを配置する。そして、蒸着法により反射膜材料を観察面１ａに対して斜めに蒸着させ、凹部２の内壁面２ａに反射膜３を形成する。反射膜材料としては、例えば、アルミニウム等の反射性に優れた金属材料を用いることができる。 Next, the entire screen substrate 1 on which the recesses 2 are formed is colored black, for example, by staining.
Subsequently, a reflective film 3 is formed in the recess 2.
As shown in FIG. 3, on the observation side (Z-axis positive direction side) of the screen substrate 1, it is shifted to the lower side in the vertical direction (Y-axis negative direction side) with respect to the normal line NL of the observation surface 1 a of the screen substrate 1. The vapor deposition source S is arranged at the virtual light source position PV of the position. Then, the reflective film material is vapor-deposited obliquely with respect to the observation surface 1 a by the vapor deposition method to form the reflective film 3 on the inner wall surface 2 a of the recess 2. As the reflective film material, for example, a metal material having excellent reflectivity such as aluminum can be used.

蒸着法により反射膜３を形成する際には、観察面１ａの各凹部２に対する反射膜材料の蒸着の角度θｓが、観察面１ａの各凹部２に対する仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しくなるようにターゲットとしてアルミニウム等を有する蒸着源Ｓを配置して、投影光Ｌｐの入射方向から各凹部２に反射膜材料を蒸着させる。
なお、観察面１ａについては、反射膜が成膜されないように、マスクを配しておくことが好ましい。 When the reflective film 3 is formed by the vapor deposition method, the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to each concave portion 2 on the observation surface 1a is set so that the projection light Lp from the virtual light source position PV is incident on each concave portion 2 on the observation surface 1a. A vapor deposition source S having aluminum or the like as a target is disposed so as to be equal to the angle θp, and a reflective film material is vapor deposited on each concave portion 2 from the incident direction of the projection light Lp.
Note that a mask is preferably disposed on the observation surface 1a so that a reflective film is not formed.

これにより、凹部２における仮想光源位置ＰＶを臨む位置の内壁面２ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状の反射膜３が、蒸着源Ｓを中心に、観察面１ａに放射状に形成される。このとき、反射膜３の膜厚は、例えば約１０ｎｍ以上かつ約５μｍ以下程度に形成される。
また、このように斜め方向から蒸着法により反射膜３を形成することで、反射膜３の膜厚が反射膜３の非形成領域側の外縁３ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜３を蒸着法により形成することで、スプレーコート方法、印刷方法等よりも薄く高品質な反射膜３を形成することができる。 Thereby, the concave reflective film 3 as viewed from the observation side (Z-axis positive direction side) is deposited along the portion irradiated with the projection light Lp of the inner wall surface 2a at the position facing the virtual light source position PV in the concave portion 2. The source S is formed radially on the observation surface 1a. At this time, the film thickness of the reflective film 3 is, for example, about 10 nm or more and about 5 μm or less.
Further, by forming the reflective film 3 from the oblique direction by the vapor deposition method in this way, the film thickness of the reflective film 3 is formed so as to gradually decrease as it approaches the outer edge 3e on the non-formation region side of the reflective film 3. .
Further, by forming the reflective film 3 by vapor deposition, it is possible to form the reflective film 3 that is thinner and higher quality than the spray coating method, the printing method, and the like.

また、蒸着源Ｓを上述のように配置して反射膜材料を投影光Ｌｐの入射方向から斜めに蒸着させることで、スクリーン基板１がマスクとして機能し、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に合わせて、部分的に反射膜３を形成することができる。また、蒸着源Ｓからの距離が遠くなるほど、凹部２の内壁面２ａの反射膜３が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３の非形成領域（光吸収面７）が拡大する。
また、観察面１ａに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しくなるようにすることで、蒸着源Ｓから各凹部２までの投影光Ｌｐの入射方向の距離の差による反射膜３の面積の差を小さくすることができる。
また、蒸着による反射膜３形成時の真空度は、例えば、約１×１０^−４Ｔｏｒｒ〜約１×１０^−５Ｔｏｒｒの範囲であることが望ましい。このようにすることで、形成された反射膜３の表面３ａの粗度を上昇させ、より明るい投影画像を得ることができる。 Further, by arranging the vapor deposition source S as described above and depositing the reflective film material obliquely from the incident direction of the projection light Lp, the screen substrate 1 functions as a mask and the projection light Lp of the recess 2 is irradiated. The reflective film 3 can be partially formed in accordance with the portion. Further, as the distance from the vapor deposition source S increases, the area of the inner wall surface 2a of the recess 2 where the reflective film 3 is formed is reduced, and the non-formation region (light absorption surface 7) of the reflective film 3 is enlarged.
Further, the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to the observation surface 1a is made equal to the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV, so that the projection light Lp from the vapor deposition source S to each recess 2 can be obtained. The difference in the area of the reflective film 3 due to the difference in the distance in the incident direction can be reduced.
Further, the degree of vacuum when forming the reflective film 3 by vapor deposition is preferably in the range of about 1 × 10 ⁻⁴ Torr to about 1 × 10 ⁻⁵ Torr, for example. By doing in this way, the roughness of the surface 3a of the formed reflecting film 3 can be raised, and a brighter projection image can be obtained.

次に、図３に示したように、凹部２の内壁面２ａ（球状面６）を含むスクリーン基板１の観察面１ａに保護層４を形成する。保護層４は、例えば、透明な樹脂等、光透過性を有する材料により形成する。さらに保護層４の表面に、反射防止層５を形成する。反射防止層５は、保護層４と同様の材料により形成され、反射防止層５に入射する投影光Ｌｐや外光が保護層４の表面で反射しないように、保護層４との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーン１００の製造方法によれば、図３に示すような反射スクリーン１００を製造することができる。 Next, as shown in FIG. 3, the protective layer 4 is formed on the observation surface 1 a of the screen substrate 1 including the inner wall surface 2 a (spherical surface 6) of the recess 2. The protective layer 4 is formed of a material having optical transparency such as a transparent resin. Further, an antireflection layer 5 is formed on the surface of the protective layer 4. The antireflection layer 5 is formed of the same material as that of the protective layer 4, and is refracted between the protective layer 4 so that projection light Lp and external light incident on the antireflection layer 5 are not reflected on the surface of the protective layer 4. The rate has been adjusted.
As described above, according to the manufacturing method of the reflective screen 100 of the present embodiment, the reflective screen 100 as shown in FIG. 3 can be manufactured.

次に、上記の反射スクリーン１００の作用について説明する。
図１に示すように、プロジェクタＰはミラーＭに向けて投影光Ｌｐを射出する。ミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、ミラーＭによって反射され、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に、スクリーン基板１の観察面１ａに対して斜めに入射する。このとき、反射スクリーン１００の中心点Ｃに入射する投影光Ｌｐと、反射スクリーン１００の観察面１００ａとのなす角度θは、約３６°となっている。 Next, the operation of the reflective screen 100 will be described.
As shown in FIG. 1, the projector P emits projection light Lp toward the mirror M. The projection light Lp emitted toward the mirror M is incident on the observation surface 1a of the screen substrate 1 at an angle in the same manner as the projection light Lp reflected by the mirror M and assumed to be emitted from the virtual light source position PV. . At this time, the angle θ formed between the projection light Lp incident on the center point C of the reflection screen 100 and the observation surface 100a of the reflection screen 100 is about 36 °.

反射スクリーン１００の観察面１００ａに到達した投影光Ｌｐは、図５に示すように、反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５は保護層４との間で屈折率が調整されているので、反射防止層５を透過した投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凹部２の内壁面２ａに形成された反射膜３に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、反射膜３によって反射スクリーン１００の観察側に反射される。 The projection light Lp that has reached the observation surface 100a of the reflection screen 100 enters the antireflection layer 5 as shown in FIG. The projection light Lp incident on the antireflection layer 5 passes through the antireflection layer 5 and enters the protective layer 4. At this time, since the refractive index of the antireflection layer 5 is adjusted with respect to the protective layer 4, the projection light Lp transmitted through the antireflection layer 5 is prevented from being reflected by the surface 4 a of the protective layer 4.
The projection light Lp incident on the protective layer 4 passes through the protective layer 4 and reaches the reflective film 3 formed on the inner wall surface 2 a of the recess 2. The projection light Lp that has reached the reflective film 3 is reflected by the reflective film 3 toward the observation side of the reflective screen 100.

ここで、図２に示すように、凹部２は、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２は距離が小さい位置の凹部２よりも分布が疎になって個数が少なくなっているため、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２については、観察側への反射に寄与する面積がトータルで仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凹部２に比べて減ることになる。その結果、仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凹部２で反射した投影光Ｌｐが、観察側ではなく＋Ｙ側へ抜ける割合が大きく輝度が低下しやすい状況であっても、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２についても輝度を抑えることができる。 Here, as shown in FIG. 2, the recesses 2 at positions where the distance from the virtual light source position PV is large are less distributed and the number of recesses 2 is smaller than the recesses 2 at positions where the distance is small. As for the concave portion 2 at a position where the distance from the virtual light source position PV is large, the total area contributing to reflection to the observation side is reduced compared to the concave portion 2 at a position where the distance from the virtual light source position PV is small. As a result, even in a situation where the projection light Lp reflected by the concave portion 2 at a position where the distance from the virtual light source position PV is small is likely to pass through to the + Y side instead of the observation side and the luminance tends to decrease, the virtual light source position PV The luminance can be suppressed also for the concave portion 2 at a position where the distance from is large.

一方、反射スクリーン１００の観察面１００ａには、投影光Ｌｐ以外に、図５に示すように、スクリーン基板１の垂直方向の上方（Ｙ軸正方向側）から外光Ｌｏが入射する。観察面１００ａに入射した外光Ｌｏは、反射防止層５に入射して、反射防止層５を透過し、保護層４の表面４ａに到達する。
ここで、反射スクリーン１００には、反射防止層５が形成されているので、観察面１００ａの上方から観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。 On the other hand, in addition to the projection light Lp, outside light Lo is incident on the observation surface 100a of the reflection screen 100 from above the screen substrate 1 in the vertical direction (Y-axis positive direction side) as shown in FIG. The external light Lo incident on the observation surface 100 a enters the antireflection layer 5, passes through the antireflection layer 5, and reaches the surface 4 a of the protective layer 4.
Here, since the antireflection layer 5 is formed on the reflection screen 100, the external light Lo incident on the observation surface 100a from above the observation surface 100a is reflected to the observation side by the surface 4a of the protective layer 4. Is prevented.

そして、保護層４の表面４ａに到達した外光Ｌｏは、保護層４を透過して凹部２に入射する。凹部２に入射した外光Ｌｏは、凹部２の図示下方側の反射膜３の非形成領域に位置する光吸収面７に到達する。
ここで、スクリーン基板１は、上述のように可視光を吸収可能な光吸収面７を有しているので、凹部２の内壁面２ａの反射膜３の非形成領域にある光吸収面７に到達した外光Ｌｏは、スクリーン基板１（光吸収面７）によって吸収される。また、スクリーン基板１の凹部２の非形成領域に到達した外光Ｌｏも、同様にスクリーン基板１によって吸収される。さらに、反射膜３は凹部２の上方側の、投影光Ｌｐが入射する部分のみに形成されているので、外光Ｌｏは反射膜３に入射しない。
したがって、反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。 Then, the external light Lo that has reached the surface 4 a of the protective layer 4 passes through the protective layer 4 and enters the recess 2. The external light Lo incident on the recess 2 reaches the light absorption surface 7 located in the non-formation region of the reflective film 3 on the lower side of the recess 2 in the drawing.
Here, since the screen substrate 1 has the light absorption surface 7 capable of absorbing visible light as described above, the screen substrate 1 has the light absorption surface 7 in the non-formation region of the reflection film 3 on the inner wall surface 2a of the recess 2. The reached external light Lo is absorbed by the screen substrate 1 (light absorption surface 7). Further, the external light Lo that has reached the non-formation region of the concave portion 2 of the screen substrate 1 is similarly absorbed by the screen substrate 1. Further, since the reflection film 3 is formed only on the upper side of the concave portion 2 where the projection light Lp is incident, the external light Lo is not incident on the reflection film 3.
Therefore, it is possible to prevent the external light Lo incident on the observation surface 100a of the reflective screen 100 from being reflected to the observation side.

このように、反射防止層５は、プロジェクタＰから反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射する投影光Ｌｐに対しては、投影光Ｌｐを反射膜３により確実に到達させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面１００ａに入射する外光Ｌｏに対しては、外光Ｌｏを保護層４によって観察側に反射させず、スクリーン基板１に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層５を形成することで、反射スクリーン１００のコントラストを向上させることができる。 As described above, the antireflection layer 5 reliably causes the projection light Lp to reach the projection light Lp incident on the observation surface 100a of the reflection screen 100 from the projector P by the reflection film 3, and the reflectance of the projection light Lp. There is an effect of improving. On the other hand, with respect to the external light Lo incident on the observation surface 100a, there is an effect that the external light Lo is absorbed by the screen substrate 1 without being reflected by the protective layer 4 to the observation side. Therefore, the contrast of the reflective screen 100 can be improved by forming the antireflection layer 5 as described above.

以上のように、本実施形態では、凹部２が仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されているため、仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凹部２で反射した投影光Ｌｐが、観察側ではなく＋Ｙ側へ抜ける割合が大きく輝度が低下しやすい状況であっても、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２についても輝度を抑えることができ、斜め方向からの投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の前方の観察側に均一に反射させて、投影画像のコントラストを向上させることが可能になる。特に、本実施形態では、凹部２が球状面６を有しており、投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の前方の観察側に反射させる面積がその一部であることから、配置分布の粗密を調整することにより、反射光の輝度分布を容易に調整することが可能になる。
しかも、本実施形態では、反射部が凹で形成されているため、凸のように投影光Ｌｐが遮られることなく、凹部２に到達することができ、全体的に輝度を向上させることができる。 As described above, in the present embodiment, since the recesses 2 are arranged in a sparse distribution according to the distance from the virtual light source position PV, the light is reflected by the recess 2 at a position where the distance from the virtual light source position PV is small. Even in a situation where the ratio of the projected light Lp that escapes from the observation side to the + Y side is large and the luminance tends to decrease, the luminance can be suppressed even for the concave portion 2 at a position where the distance from the virtual light source position PV is large. It is possible to improve the contrast of the projected image by uniformly reflecting the projection light Lp from the direction toward the observation side in front of the reflection screen 100. In particular, in the present embodiment, the concave portion 2 has the spherical surface 6, and the area for reflecting the projection light Lp to the observation side in front of the reflection screen 100 is a part thereof, so that the density of the arrangement distribution is adjusted. By doing so, it is possible to easily adjust the luminance distribution of the reflected light.
In addition, in the present embodiment, since the reflecting portion is formed in a concave shape, the projection light Lp can reach the concave portion 2 without being blocked like a convex shape, and the luminance can be improved as a whole. .

また、本実施形態では、仮想光源位置ＰＶに蒸着源Ｓを配置し、凹部２の仮想光源位置ＰＶに臨む位置に反射膜３を形成するため、投影光Ｌｐが照射される位置にのみ反射膜３を形成し、外光Ｌｏが入射するその他の凹部２については光吸収面７に設定できるため、外光Ｌｏが、観察側に反射されることを効果的に防止でき、投影品質を向上させることが可能になる。 In the present embodiment, the deposition source S is arranged at the virtual light source position PV, and the reflective film 3 is formed at the position facing the virtual light source position PV of the concave portion 2, so that the reflective film is only applied to the position irradiated with the projection light Lp. 3 and the other recesses 2 where the external light Lo is incident can be set on the light absorption surface 7, so that the external light Lo can be effectively prevented from being reflected to the observation side, and the projection quality is improved. It becomes possible.

加えて、本実施形態では、反射膜３を覆うように保護層４が形成されているので、反射膜３の損傷や劣化を防止することができる。
さらに、スクリーン基板１が可撓性を有する材料によって形成されているので、可撓性を有する反射スクリーン１００を形成することができ、反射スクリーン１００の巻き取りを可能とし、反射スクリーン１００をコンパクトに収納することができる。 In addition, in this embodiment, since the protective layer 4 is formed so as to cover the reflective film 3, damage and deterioration of the reflective film 3 can be prevented.
Furthermore, since the screen substrate 1 is formed of a flexible material, the flexible reflective screen 100 can be formed, the reflective screen 100 can be wound, and the reflective screen 100 can be made compact. Can be stored.

（第２実施形態）
続いて、反射スクリーン１００の第２実施形態について、図６を参照して説明する。
本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００と、スクリーン基板１１に凹部２ではなく凸部２１がされている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
図６に示す反射スクリーン２００は、プロジェクタＰに対して、図１に示す第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。反射スクリーン２００のスクリーン基板１１は、第一実施形態のスクリーン基板１と同様に、可視光を吸収可能に形成されている。 (Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the reflective screen 100 will be described with reference to FIG.
This embodiment is different from the reflective screen 100 described in the first embodiment described above in that the projection 21 is provided on the screen substrate 11 instead of the depression 2. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
A reflective screen 200 shown in FIG. 6 is arranged with respect to the projector P in the same manner as the reflective screen 100 of the first embodiment shown in FIG. The screen substrate 11 of the reflective screen 200 is formed so as to be able to absorb visible light, like the screen substrate 1 of the first embodiment.

スクリーン基板１１の観察面１１ａには、図６に示すように、複数の半球状の凸部（反射部）２１が形成されている。凸部２１は、図２に示す凹部２と同様に、半球状に形成された凸の球状面２６を有し、スクリーン基板１１の垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に複数配列されている。また、凹部２と同様に、凸部２１は、直径が約２００μｍ以下かつ２０μｍ以上の範囲の略同一径に形成され、且つ仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている（平面的な配置は、図２に示した凹部２と同様である）。 As shown in FIG. 6, a plurality of hemispherical convex portions (reflecting portions) 21 are formed on the observation surface 11 a of the screen substrate 11. The convex portion 21 has a convex spherical surface 26 formed in a hemispherical shape, similar to the concave portion 2 shown in FIG. 2, and extends in the vertical direction (Y-axis direction) and the horizontal direction (X-axis direction) of the screen substrate 11. Multiple sequences are arranged. Similarly to the concave portion 2, the convex portions 21 are formed to have substantially the same diameter in a range of about 200 μm or less and 20 μm or more, and are arranged in a sparse distribution according to the distance from the virtual light source position PV. Further, the arrangement pitch is increased as the distance from the virtual light source position PV increases (the planar arrangement is the same as that of the recess 2 shown in FIG. 2).

図６に示すように、凸部２１の表面２１ａの、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、第一実施形態の反射膜３と同様の反射膜３１が形成されている。反射膜３１は凸部２１の表面２１ａの、投影光Ｌｐが照射される部分のみに形成され、凸部２１の表面２１ａのその他の部分には反射膜３１が形成されず、スクリーン基板１１の一部である凸部２１の表面２１ａが露出した光吸収面２７となっている。また、凸部２１の表面２１ａに形成された反射膜３１は、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状に形成されている。 As shown in FIG. 6, a reflective film 31 similar to the reflective film 3 of the first embodiment is formed along the portion of the surface 21 a of the convex portion 21 that is irradiated with the projection light Lp from the projector P. . The reflective film 31 is formed only on the portion of the surface 21 a of the convex portion 21 that is irradiated with the projection light Lp, and the reflective film 31 is not formed on the other portion of the surface 21 a of the convex portion 21. The surface 21a of the convex portion 21 which is a portion is a light absorption surface 27 exposed. The reflective film 31 formed on the surface 21a of the convex portion 21 is formed in a convex shape when viewed from the observation side (Z-axis positive direction side).

スクリーン基板１１の観察面１１ａ側には、反射膜３１およびスクリーン基板１１の観察面１１ａを覆うように、第一実施形態と同様の保護層４が形成されている。また、保護層４の上層側で、スクリーン基板１１の観察面１１ａ側の最表面には、第一実施形態と同様に、反射防止層５が形成されている。 A protective layer 4 similar to that of the first embodiment is formed on the observation surface 11 a side of the screen substrate 11 so as to cover the reflection film 31 and the observation surface 11 a of the screen substrate 11. Further, an antireflection layer 5 is formed on the upper surface of the protective layer 4 on the outermost surface of the screen substrate 11 on the observation surface 11a side, as in the first embodiment.

上記のスクリーン基板１１に凸部２１を形成する方法としては、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００４−２８６９０６号公報に記載されているように、凸部２１を形成するための型に、凸部２１に対応する凹部をエッチング等により形成し、型の凹部が形成された面に熱可塑性の樹脂等を、熱を加えながら押し当てることにより、凸部２１を形成することができる。
これにより、略半球状の凸部２１が形成される。
また、上記第１実施形態における図４で説明したマスクＭを用いることにより型を形成してもよい。 As a method for forming the convex portion 21 on the screen substrate 11, a known method can be used. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-286906, a surface on which a concave portion corresponding to the convex portion 21 is formed by etching or the like on a mold for forming the convex portion 21 and the concave portion of the mold is formed. The convex portion 21 can be formed by pressing a thermoplastic resin or the like while applying heat thereto.
Thereby, the substantially hemispherical convex part 21 is formed.
Further, the mold may be formed by using the mask M described with reference to FIG. 4 in the first embodiment.

次に、上記第１実施形態と同様に、スクリーン基板１１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。
次いで、上記と同様に、仮想光源位置ＰＶに蒸着源Ｓを配置し、蒸着法により反射膜材料を観察面１１ａに対して斜めに蒸着させ、凸部２１の表面に反射膜３１を形成する。
この後の工程は、上記第１実施形態と同様である。 Next, as in the first embodiment, the entire screen substrate 11 is colored black by, for example, staining.
Next, similarly to the above, the vapor deposition source S is arranged at the virtual light source position PV, and the reflective film material is vapor-deposited obliquely with respect to the observation surface 11a by the vapor deposition method, thereby forming the reflective film 31 on the surface of the convex portion 21.
The subsequent steps are the same as those in the first embodiment.

次に、この実施の形態の作用について説明する。
図６に示す仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐは、反射スクリーン２００の観察面２００ａに対して斜めに入射する。
観察面２００ａに到達した投影光Ｌｐは、反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。
このとき、第１実施形態と同様に、反射防止層５によって投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凸部２１に形成された反射膜３１に到達する。反射膜３１に到達した投影光Ｌｐは、凸状の反射膜３１によって反射スクリーン２００の観察側に反射される。 Next, the operation of this embodiment will be described.
The projection light Lp assumed to be emitted from the virtual light source position PV shown in FIG. 6 is incident on the observation surface 200a of the reflection screen 200 obliquely.
The projection light Lp that has reached the observation surface 200 a enters the antireflection layer 5. The projection light Lp incident on the antireflection layer 5 passes through the antireflection layer 5 and enters the protective layer 4.
At this time, similarly to the first embodiment, the antireflection layer 5 prevents the projection light Lp from being reflected by the surface 4 a of the protective layer 4.
The projection light Lp incident on the protective layer 4 passes through the protective layer 4 and reaches the reflective film 31 formed on the convex portion 21. The projection light Lp that has reached the reflective film 31 is reflected by the convex reflective film 31 to the observation side of the reflective screen 200.

ここで、凸部２１は、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凸部２１が、距離が小さい位置の凸部２１よりも分布が疎になって個数が少なくなっているため、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凸部２１については、観察側への反射に寄与する面積がトータルで仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凸部２１に比べて減ることになる。その結果、仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凸部２１で反射した投影光Ｌｐが、観察側ではなく＋Ｙ側へ抜ける割合が大きく輝度が低下しやすい状況であっても、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凸部２１についても輝度を抑えることができ、上記第１実施形態と同様の作用・効果を得ることができる。 Here, since the convex part 21 of the position where the distance from the virtual light source position PV is large is sparse and the number of convex parts 21 is smaller than the convex part 21 where the distance is small, the number of the convex parts 21 is small. For the convex portion 21 at a position where the distance from the position PV is large, the area contributing to reflection on the observation side is reduced as compared with the convex portion 21 at a position where the distance from the virtual light source position PV is small. As a result, even if the projection light Lp reflected by the convex portion 21 at a position where the distance from the virtual light source position PV is small has a large ratio of passing to the + Y side instead of the observation side, the luminance is likely to decrease. Luminance can also be suppressed for the convex portion 21 at a position where the distance from the PV is large, and the same actions and effects as in the first embodiment can be obtained.

また、本実施形態では、反射膜３１が半球状の凸部２１の表面２１ａの、投影光Ｌｐが照射される部分に沿って形成されている。これにより、反射膜３１の形状は、反射スクリーン２００の観察面２００ａ側からみて凸面状に形成されるので、反射膜３１が凹面状に形成されている場合と比較して、投影光Ｌｐをより広い角度に反射させて投影画像の視野角を拡大することができる。 In the present embodiment, the reflective film 31 is formed along the portion of the surface 21a of the hemispherical convex portion 21 to which the projection light Lp is irradiated. Thereby, since the shape of the reflective film 31 is formed in a convex shape when viewed from the observation surface 200a side of the reflective screen 200, the projection light Lp is more generated than in the case where the reflective film 31 is formed in a concave shape. The viewing angle of the projected image can be enlarged by reflecting the light at a wide angle.

（第３実施形態）
続いて、反射スクリーンの第３実施形態について、図７を参照して説明する。
本実施形態では上述の第１実施形態で説明した反射スクリーン１００と、スクリーン基板１２が光透過性を有する材料によって形成され、スクリーン基板１２の観察面１２ａ側とは反対側の面１２ｂに凹部２２が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
図７に示す反射スクリーン３００は、プロジェクタＰに対して、図１に示す第１実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。 (Third embodiment)
Next, a third embodiment of the reflective screen will be described with reference to FIG.
In this embodiment, the reflective screen 100 described in the first embodiment and the screen substrate 12 are formed of a light-transmitting material, and the concave portion 22 is formed on the surface 12b of the screen substrate 12 opposite to the observation surface 12a side. Is different in that it is formed. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
A reflection screen 300 shown in FIG. 7 is arranged with respect to the projector P in the same manner as the reflection screen 100 of the first embodiment shown in FIG.

図７に示すように、反射スクリーン３００のスクリーン基板１２は、例えば、樹脂等の光透過性および可撓性を備えた材料によって形成されている。スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂには、半球状に形成された凹の球状面３６を有する凹部（反射部）２２が略同一径に複数形成されている。凹部２２は、図２に示す凹部２と同様に、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。 As shown in FIG. 7, the screen substrate 12 of the reflective screen 300 is formed of a material having light transmissivity and flexibility such as resin, for example. A plurality of concave portions (reflecting portions) 22 each having a concave spherical surface 36 formed in a hemispherical shape are formed on the surface 12 b opposite to the observation surface 12 a of the screen substrate 12. Similar to the recess 2 shown in FIG. 2, the recesses 22 are arranged in a sparse distribution according to the distance from the virtual light source position PV, and the arrangement pitch increases as the distance from the virtual light source position PV increases. It is arranged to be.

凹部２２の内壁面２２ａの、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、投影光Ｌｐを反射する反射膜３２が形成されている。凹部２２の内壁面２２ａの投影光Ｌｐが照射される部分のみに反射膜３２が形成され、凹部２２の内壁面２２ａのその他の部分には反射膜３２が形成されず、スクリーン基板１２の光吸収材によって形成された光吸収面３７が露出した状態となっている。凹部２２の内壁面２２ａに形成された反射膜３２は、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状に形成されている。また、反射膜３２は、第１実施計態の反射膜３と同様の材質および膜厚で形成されている。 A reflection film 32 that reflects the projection light Lp is formed along the portion of the inner wall surface 22a of the recess 22 where the projection light Lp from the projector P is irradiated. The reflection film 32 is formed only on the portion of the inner wall surface 22a of the recess 22 where the projection light Lp is irradiated, and the reflection film 32 is not formed on the other portion of the inner wall surface 22a of the recess 22, so that the light absorption of the screen substrate 12 is achieved. The light absorption surface 37 formed of the material is exposed. The reflection film 32 formed on the inner wall surface 22a of the recess 22 is formed in a convex shape when viewed from the observation side (Z-axis positive direction side). The reflective film 32 is formed of the same material and film thickness as the reflective film 3 of the first embodiment.

スクリーン基板１２の観察面１２ａ側には、スクリーン基板１２の観察面１２ａでの光の反射を防止するように屈折率が調整された反射防止層５１が形成されている。
一方、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂには、光を吸収する材料によって光吸収層１６が形成されている。光吸収層１６は、例えば、染色等によって黒色に着色された樹脂や、黒色の顔料を含有する樹脂等を用いて形成する。光吸収層１６は、凹部２２の内側を含むスクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに、反射膜３２を覆うように形成されている。 On the observation surface 12 a side of the screen substrate 12, an antireflection layer 51 whose refractive index is adjusted so as to prevent reflection of light on the observation surface 12 a of the screen substrate 12 is formed.
On the other hand, a light absorption layer 16 is formed of a material that absorbs light on the surface 12b of the screen substrate 12 opposite to the observation surface 12a. The light absorption layer 16 is formed using, for example, a resin colored black by dyeing or the like, or a resin containing a black pigment. The light absorption layer 16 is formed on the surface 12 b opposite to the observation surface 12 a of the screen substrate 12 including the inside of the recess 22 so as to cover the reflective film 32.

次に、この実施の形態の作用について説明する。
図１に示すようにプロジェクタＰからミラーＭに向けて投影光Ｌｐが射出され、図７に示す仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に、反射スクリーン３００の観察面３００ａに対して斜めに入射する。
観察面３００ａに到達した投影光Ｌｐは、図７に示すように、反射防止層５１に入射する。反射防止層５１に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５１を透過してスクリーン基板１２に入射する。このとき、反射防止層５１によって投影光Ｌｐがスクリーン基板１２の観察面１２ａで反射することが防止される。
スクリーン基板１２に入射した投影光Ｌｐは、スクリーン基板１２を透過して凹部２２に形成された反射膜３２に到達する。反射膜３２に到達した投影光Ｌｐは、観察側から見て凸状に形成された反射膜３２によって反射スクリーン３００の観察側に反射される。 Next, the operation of this embodiment will be described.
As shown in FIG. 1, the projection light Lp is emitted from the projector P toward the mirror M, and the projection light Lp assumed to be emitted from the virtual light source position PV shown in FIG. The incident light is oblique.
The projection light Lp that has reached the observation surface 300a enters the antireflection layer 51 as shown in FIG. The projection light Lp incident on the antireflection layer 51 passes through the antireflection layer 51 and enters the screen substrate 12. At this time, the antireflection layer 51 prevents the projection light Lp from being reflected by the observation surface 12 a of the screen substrate 12.
The projection light Lp incident on the screen substrate 12 passes through the screen substrate 12 and reaches the reflection film 32 formed in the recess 22. The projection light Lp that has reached the reflection film 32 is reflected to the observation side of the reflection screen 300 by the reflection film 32 formed in a convex shape when viewed from the observation side.

ここで、図２に示す凹部２と同様に、凹部２２は、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。また、凹部２２は、上述のように、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂの凹部２２の内壁面２２ａに反射膜３２および光吸収層６が形成されている。このため、反射膜３２は、反射スクリーン３００の観察面３００ａ側から見て凸状に形成され、上述の第２実施形態で説明した凸部２１および反射膜３１と略同様の構成となっている。
すなわち、凹部２２の反射膜３２の非形成領域に入射した外光Ｌｏを、凹部２２に充填された光吸収層１６によって吸収し、外光Ｌｏが反射スクリーン３００の観察側に反射することを防止することができる。また、反射スクリーン３００の水平方向に隣接する凹部２２，２２（観察面３００ａ側から見て凸部）の間に投影光Ｌｐを通過させて、垂直方向に隣接する凹部２２の反射膜３２に入射させることができる。 Here, like the recess 2 shown in FIG. 2, the recesses 22 are arranged so that the arrangement pitch increases as the distance from the virtual light source position PV increases. Further, as described above, in the recess 22, the reflective film 32 and the light absorption layer 6 are formed on the inner wall surface 22 a of the recess 22 on the surface 12 b opposite to the observation surface 12 a of the screen substrate 12. Therefore, the reflective film 32 is formed in a convex shape when viewed from the observation surface 300a side of the reflective screen 300, and has substantially the same configuration as the convex portion 21 and the reflective film 31 described in the second embodiment. .
That is, the external light Lo incident on the non-formation region of the reflective film 32 in the concave portion 22 is absorbed by the light absorption layer 16 filled in the concave portion 22, and the external light Lo is prevented from being reflected on the observation side of the reflective screen 300. can do. Further, the projection light Lp is allowed to pass between the recesses 22 and 22 adjacent to the reflection screen 300 in the horizontal direction (projections as viewed from the observation surface 300a side) and incident on the reflection film 32 of the recess 22 adjacent in the vertical direction. Can be made.

したがって、本実施形態によれば、上述の第２実施形態と同様の効果を得ることができる。加えて、スクリーン基板１２自体が第２実施形態における保護層４と同様に機能するので、保護層４を形成する必要がなく、反射スクリーン３００の製造工程を簡略化し、生産性を向上させることができる。 Therefore, according to the present embodiment, it is possible to obtain the same effect as that of the second embodiment described above. In addition, since the screen substrate 12 itself functions in the same manner as the protective layer 4 in the second embodiment, it is not necessary to form the protective layer 4, simplifying the manufacturing process of the reflective screen 300, and improving productivity. it can.

（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について、図８を用いて説明する。
本実施形態では上述の第１実施形態で説明した反射スクリーン１００と、スクリーン基板１３が光透過性を有する材料によって形成され、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂに凸部（反射部）２３が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。図８に示す反射スクリーン４００は、プロジェクタＰに対して、図１に示す第１実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている (Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In this embodiment, the reflective screen 100 described in the first embodiment and the screen substrate 13 are formed of a light-transmitting material, and a convex portion (on the surface 13b opposite to the observation surface 13a of the screen substrate 13 ( This is different in that a reflection portion 23 is formed. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. A reflection screen 400 shown in FIG. 8 is arranged in the same manner as the reflection screen 100 of the first embodiment shown in FIG.

反射スクリーン４００のスクリーン基板１３は、例えば、樹脂等の光透過性および可撓性を備えた材料によって形成されている。スクリーン基板１３の反射観察面１３ａとは反対側の面１３ｂには、略同一径の半球状に形成された凸の球状面４６を有する凸部２３が複数形成されている。凸部２３は、図２に示す凹部２と同様に、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。 The screen substrate 13 of the reflective screen 400 is made of a material having light transmissivity and flexibility such as resin, for example. On the surface 13b of the screen substrate 13 opposite to the reflection observation surface 13a, a plurality of convex portions 23 having convex spherical surfaces 46 formed in a hemispherical shape having substantially the same diameter are formed. As with the concave portion 2 shown in FIG. 2, the convex portions 23 are arranged in a distribution that becomes sparse according to the distance from the virtual light source position PV, and the arrangement pitch increases as the distance from the virtual light source position PV increases. It is arranged to be larger.

凸部２３の表面２３ａの、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、投影光Ｌｐを反射する反射膜３３が形成されている。すなわち、図８に示すように、凸部２３の表面２３ａの投影光Ｌｐが照射される部分のみに反射膜３３が形成され、凸部２３の表面２３ａのその他の部分には反射膜３３が形成されず、スクリーン基板１３の光吸収材によって形成された光吸収面４７が露出した状態となっている。 A reflection film 33 that reflects the projection light Lp is formed along the portion of the surface 23a of the convex portion 23 that is irradiated with the projection light Lp from the projector P. That is, as shown in FIG. 8, the reflective film 33 is formed only on the portion irradiated with the projection light Lp on the surface 23a of the convex portion 23, and the reflective film 33 is formed on the other portion of the surface 23a of the convex portion 23. Instead, the light absorbing surface 47 formed by the light absorbing material of the screen substrate 13 is exposed.

凸部２３の表面２３ａに形成された反射膜３３は、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状に形成されている。また、反射膜３３は、第１実施計態の反射膜３と同様の材質および膜厚に形成されている。
スクリーン基板１３の観察面１３ａには、第３実施形態と同様の反射防止層５１が形成されている。一方、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂには、第３実施形態と同様の光吸収層１６が凸部２３および反射膜３３を覆うように形成されている。 The reflective film 33 formed on the surface 23a of the convex portion 23 is formed in a concave shape when viewed from the observation side (Z-axis positive direction side). The reflective film 33 is formed of the same material and thickness as the reflective film 3 in the first embodiment.
An antireflection layer 51 similar to that of the third embodiment is formed on the observation surface 13 a of the screen substrate 13. On the other hand, on the surface 13b of the screen substrate 13 opposite to the observation surface 13a, a light absorption layer 16 similar to that of the third embodiment is formed so as to cover the convex portion 23 and the reflective film 33.

次に、この実施の形態の作用について説明する。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて投影光Ｌｐが射出され、図８に示す仮想光源位置ＰＶから射出された投影光Ｌｐと同様に、反射スクリーン４００の観察面４００ａに対して斜めに入射する。 Next, the operation of this embodiment will be described.
The projection light Lp is emitted from the projector P toward the mirror M, and is incident obliquely on the observation surface 400a of the reflection screen 400, similarly to the projection light Lp emitted from the virtual light source position PV shown in FIG.

観察面４００ａに到達した投影光Ｌｐは、反射防止層５１に入射する。反射防止層５１に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５１を透過してスクリーン基板１３に入射する。このとき、反射防止層５１によって投影光Ｌｐがスクリーン基板１３の観察面１３ａで反射することが防止される。
スクリーン基板１３に入射した投影光Ｌｐは、スクリーン基板１３を透過して凸部２３の表面２３ａに形成された反射膜３３に到達する。反射膜３３に到達した投影光Ｌｐは、反射スクリーン４００の観察側から見て凹状に形成された反射膜３３によって反射スクリーン４００の観察側に反射される。 The projection light Lp that has reached the observation surface 400 a enters the antireflection layer 51. The projection light Lp incident on the antireflection layer 51 passes through the antireflection layer 51 and enters the screen substrate 13. At this time, the antireflection layer 51 prevents the projection light Lp from being reflected by the observation surface 13 a of the screen substrate 13.
The projection light Lp incident on the screen substrate 13 passes through the screen substrate 13 and reaches the reflection film 33 formed on the surface 23 a of the convex portion 23. The projection light Lp reaching the reflection film 33 is reflected to the observation side of the reflection screen 400 by the reflection film 33 formed in a concave shape when viewed from the observation side of the reflection screen 400.

ここで、図２に示す凹部２と同様に、凸部２３は、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。また、凸部２３は、上述のように、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂに形成され、表面２３ａに反射膜３３および光吸収層１６が形成されている。このため、反射膜３３は、反射スクリーン４００の観察面４００ａ側から見て凸状に形成され、上述の第１実施形態で説明した凹部２と略同様の構成となっている。
すなわち、凸部２３の反射膜３３の非形成領域に入射した外光を、凸部２３の表面２３ａを覆う光吸収層１６によって吸収し、外光Ｌｏが反射スクリーン４００の観察側に反射することを防止することができる。 Here, like the concave portion 2 shown in FIG. 2, the convex portions 23 are arranged in a sparse distribution according to the distance from the virtual light source position PV, and as the distance from the virtual light source position PV increases, It arrange | positions so that an arrangement | positioning pitch may become large. Moreover, the convex part 23 is formed in the surface 13b on the opposite side to the observation surface 13a of the screen board | substrate 13 as mentioned above, and the reflecting film 33 and the light absorption layer 16 are formed in the surface 23a. For this reason, the reflective film 33 is formed in a convex shape when viewed from the observation surface 400a side of the reflective screen 400, and has substantially the same configuration as the concave portion 2 described in the first embodiment.
That is, external light incident on the non-formation region of the reflective film 33 of the convex portion 23 is absorbed by the light absorption layer 16 that covers the surface 23 a of the convex portion 23, and the external light Lo is reflected to the observation side of the reflective screen 400. Can be prevented.

したがって、本実施形態の反射スクリーン４００によれば、第１実施形態の反射スクリーン１００と同様の効果が得られるだけでなく、第３実施形態と同様に、保護層４を形成する必要がないので、反射スクリーン４００の製造工程を簡略化し、生産性を向上させることができる。 Therefore, according to the reflective screen 400 of the present embodiment, not only the same effect as the reflective screen 100 of the first embodiment is obtained, but it is not necessary to form the protective layer 4 as in the third embodiment. The manufacturing process of the reflective screen 400 can be simplified and the productivity can be improved.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

例えば、凹部または凸部の形状は、球状面を有するものであれば、上述した実施形態で説明したような半球状ではなく、半楕円球状、円錐状、扇型、またはこれらの組み合わせであってもよく、これらの形状も球状面に含まれる。 For example, as long as the shape of the concave portion or the convex portion has a spherical surface, it is not a hemispherical shape as described in the above-described embodiment, but a semi-elliptical spherical shape, a conical shape, a fan shape, or a combination thereof. These shapes are also included in the spherical surface.

また、凹部または凸部は、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されていれば、平面的な配置は、仮想光源位置ＰＶを中心として放射状に延びる直線上に配置される構成や、スクリーン基板の−Ｙ側の端縁から順次配列される構成、扁平千鳥状に配置したものであってもよい。
さらに、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されていれば、一様に配置する必要はなく、例えば観察面からの投影光Ｌｐの反射分布に偏りが生じている場合には、当該偏りを有する領域の配置分布を調整することにより、反射分布（輝度分布）を補正してもよい。 Further, the concave portions or the convex portions are arranged so that the arrangement pitch increases as the distance from the virtual light source position PV increases, so that the concave portions or the convex parts are arranged in a sparse distribution according to the distance from the virtual light source position PV. In this case, the planar arrangement is a configuration arranged on a straight line extending radially from the virtual light source position PV, a configuration arranged sequentially from an edge on the −Y side of the screen substrate, or a flat staggered arrangement. It may be a thing.
Furthermore, if the distribution is sparse according to the distance from the virtual light source position PV, it is not necessary to arrange the distribution uniformly. For example, the reflection distribution of the projection light Lp from the observation surface is biased. Alternatively, the reflection distribution (luminance distribution) may be corrected by adjusting the arrangement distribution of the regions having the bias.

また、上記実施形態で説明したように、スクリーン基板の全体を染色によって着色するのではなく、観察面側の一部だけを着色したり、観察面のみを黒色に塗装し光吸収用の膜を設けたりしてもよい。 In addition, as described in the above embodiment, the entire screen substrate is not colored by staining, but only a part of the observation surface side is colored, or only the observation surface is painted black to form a light absorption film. It may be provided.

また、上記実施形態では、反射膜を形成する際に蒸着源を仮想光源位置ＰＶに配置して放射状に蒸着する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば矩形の蒸着源をスクリーン基板の−Ｙ側の端縁に沿って平行に配置し、ライン状に蒸着する構成としてもよい。 In the above embodiment, when the reflective film is formed, the vapor deposition source is arranged at the virtual light source position PV and vapor deposition is performed in a radial manner. However, the present invention is not limited to this. For example, a rectangular vapor deposition source is used as the screen. It is good also as a structure arrange | positioned in parallel along the edge on the -Y side of a board | substrate, and vapor-depositing in a line form.

本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンとプロジェクタの位置関係を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the positional relationship of the reflective screen which concerns on 1st Embodiment of this invention, and a projector. 本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンの正面図である。It is a front view of the reflective screen which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。It is sectional drawing of the perpendicular direction of the reflective screen which concerns on 1st Embodiment of this invention. スクリーン基板１を製造する手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure which manufactures the screen board | substrate 1. FIG. 本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。It is sectional drawing of the perpendicular direction of the reflective screen which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。It is sectional drawing of the perpendicular direction of the reflective screen which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。It is sectional drawing of the perpendicular direction of the reflective screen which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第４実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。It is sectional drawing of the perpendicular direction of the reflective screen which concerns on 4th Embodiment of this invention.

Explanation of symbols

１、１１、１２、１３…スクリーン基板、２、２２…凹部（反射部）、３、３１、３２、３３…反射膜、４…保護層、５、５１…反射防止層、６、２６、３６、４６…球状面、７、２７、３７…光吸収面、２１、２３…凸部（反射部）、１００、２００、３００…反射スクリーン、１００ａ、２００ａ…観察面、Ｌｐ…投影光、ＮＬ…法線、ＰＶ…仮想光源位置（投影部） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11, 12, 13 ... Screen substrate, 2, 22 ... Recessed part (reflective part), 3, 31, 32, 33 ... Reflective film, 4 ... Protective layer, 5, 51 ... Antireflection layer, 6, 26, 36 46, spherical surface, 7, 27, 37 ... light absorbing surface, 21, 23 ... convex portion (reflective portion), 100, 200, 300 ... reflective screen, 100a, 200a ... observation surface, Lp ... projection light, NL ... Normal, PV ... Virtual light source position (projection unit)

Claims

The screen substrate has a plurality of reflection portions on the observation surface, and is emitted obliquely toward the observation surface from a projection portion arranged at a position shifted in a first direction perpendicular to the normal line of the observation surface. A reflection screen for reflecting the projected light to the observation side,
The reflecting portions have concave or convex spherical surfaces having substantially the same diameter, and are arranged in a plurality in each of the first direction and a second direction perpendicular to the first direction, The reflective screen is arranged in such a distribution that the pitch in the first direction and the pitch in the second direction are sequentially increased as the distance increases .

The reflective screen according to claim 1 .
The reflection unit has a reflection film on a surface facing the projection unit, and a light absorption surface in a non-formation region of the reflection film.

The reflective screen according to claim 1 or 2 ,
A reflective screen, wherein a protective layer is provided on the observation surface side of the screen substrate.

The reflective screen according to claim 1 or 2 ,
The screen substrate is formed of a light transmissive material,
The reflective spherical screen is characterized in that the concave spherical surface is formed in a concave portion provided on a surface of the screen substrate opposite to the observation surface.

The reflective screen according to claim 1 or 2 ,
The screen substrate is formed of a light transmissive material,
The reflective screen is characterized in that the convex spherical surface is formed on a convex portion provided on a surface of the screen substrate opposite to the observation surface.

In the reflective screen as described in any one of Claim 1 to 5 ,
A reflection screen, wherein an antireflection layer is provided on the observation surface side of the screen substrate.

The reflective screen according to any one of claims 1 to 6 ,
A reflective screen, wherein the screen substrate is made of a flexible material.

The screen substrate has a plurality of reflection portions on the observation surface, and is emitted obliquely toward the observation surface from a projection portion arranged at a position shifted in a first direction perpendicular to the normal line of the observation surface. A method of manufacturing a reflective screen that reflects the projected light reflected to the observation side,
A plurality of the reflection parts having concave or convex spherical surfaces having substantially the same diameter are arranged in the first direction and the second direction perpendicular to the first direction, respectively, and the distance from the projection part is increased. According to the manufacturing method of the reflecting screen, the method includes a step of forming the pitch in the first direction and the pitch in the second direction with a distribution that increases sequentially .

In the manufacturing method of the reflective screen of Claim 8 ,
The method for manufacturing a reflective screen, wherein the arrangement distribution of the reflection portions is adjusted according to the reflection distribution of the projection light from the observation surface.

In the manufacturing method of the reflective screen of Claim 8 or 9 ,
Forming a light absorption surface at least on the observation surface side of the screen substrate;
And a step of forming a reflective film on a surface of the reflecting portion facing the projection portion.

In the manufacturing method of the reflective screen of Claim 10 ,
A method for manufacturing a reflective screen, comprising: depositing a vapor deposition source having a target on the projection unit; and depositing the target on a surface of the reflection unit facing the projection unit.

The method of manufacturing a reflective screen according to any one of claims 8 to 11,
A method of manufacturing a reflective screen, comprising a step of providing a protective layer on the observation surface side of the screen substrate.